JP4850811B2 - 載置台、処理装置および処理システム - Google Patents
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Description
複数枚の被処理体を載置する複数の載置面と、
前記載置面と平行な状態で互いに間隔を空けて同方向に配列され、昇降自在に構成された複数の可動部材を有しており、前記可動部材により被処理体を支持することによって搬送装置との間で複数枚の被処理体の受渡しを一括して行う受渡し機構と、
前記載置面の周囲を囲み、前記載置面を区画する絶縁部と、
を備え、
前記絶縁部は、第1の絶縁性部材と、該第1の絶縁性部材と組み合わされて前記載置面の周囲を囲む第2の絶縁性部材と、を有するとともに、
前記可動部材は、絶縁性材料から構成されており、前記絶縁部の一部分をなす第1の絶縁性部材を兼ねている。
複数枚の被処理体を一括処理する処理装置であって、
処理容器と、
前記処理容器内に配置された上記第1の観点の載置台と、
を備えている。
複数枚の被処理体を一括処理する処理装置と、複数枚の被処理体を同時に支持する櫛歯状の支持部材を有する搬送装置と、を備えた処理システムであって、
前記処理装置は、処理容器と、前記処理容器内で複数枚の被処理体を載置する載置台とを有しており、
前記載置台は、被処理体を載置する複数の載置面と、
前記載置面と平行な状態で互いに間隔を空けて同方向に配列され、昇降自在に構成された複数の可動部材により被処理体を支持することによって前記櫛歯状の支持部材との間で複数枚の被処理体の受渡しを一括して行う受渡し機構と、
前記載置面の周囲を囲み、前記載置面を区画する絶縁部と、
を備え、
前記絶縁部は、第1の絶縁性部材と、該第1の絶縁性部材と組み合わされて前記載置面の周囲を囲む第2の絶縁性部材と、を有するとともに、
前記可動部材は、絶縁性材料から構成されており、前記絶縁部の一部分をなす第1の絶縁性部材を兼ねている。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。ここでは、本発明の載置台を備えた第1の実施の形態のプラズマエッチング装置および該プラズマエッチング装置を備えた真空処理システムを例に挙げて説明を行なう。図1は真空処理システム100を概略的に示す斜視図であり、図2は、各チャンバの内部を概略的に示す平面図である。この真空処理システム100は、複数のプロセスチャンバ1a,1b,1cを有するマルチチャンバ構造をなしている。真空処理システム100は、例えばFPD用の小片ガラス基板(以下、単に「小片基板」と記す)Sに対してプラズマ処理を行なうための処理システムとして構成されている。なお、FPDとしては、液晶ディスプレイ(LCD)、エレクトロルミネセンス(Electro Luminescence;EL)ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル(PDP)等が例示される。
まず、搬送装置15の2枚のフォーク17a,17bを進退駆動させて、未処理基板を収容したカセット11aから複数枚の小片基板Sを受け取り、ロードロック室5の上下2段の基板収容部27にそれぞれ載置する。
次に、図16および図17を参照しながら、本発明の第2の実施の形態について説明する。図16は、本実施の形態のプラズマエッチング装置201の概略断面構造を示す図面である。本実施の形態においては、サセプタ205に、小片基板Sを吸着保持する静電吸着機構および各小片基板Sの裏面に冷却用の伝熱ガスを導入するバッククーリング機構を設けた点で、第1の実施の形態と異なる。以下の説明では、第1の実施の形態との相違点を中心に説明し、第1の実施の形態と同様の構成には同一の符号を付して説明を省略する。
Claims (9)
- 処理装置において被処理体を載置する載置台であって、
複数枚の被処理体を載置する複数の載置面と、
前記載置面と平行な状態で互いに間隔を空けて同方向に配列され、昇降自在に構成された複数の可動部材を有しており、前記可動部材により被処理体を支持することによって搬送装置との間で複数枚の被処理体の受渡しを一括して行う受渡し機構と、
前記載置面の周囲を囲み、前記載置面を区画する絶縁部と、
を備え、
前記絶縁部は、第1の絶縁性部材と、該第1の絶縁性部材と組み合わされて前記載置面の周囲を囲む第2の絶縁性部材と、を有するとともに、
前記可動部材は、絶縁性材料から構成されており、前記絶縁部の一部分をなす第1の絶縁性部材を兼ねていることを特徴とする載置台。 - 前記可動部材は、複数枚の被処理体を支持しつつ下降した位置で前記載置面に被処理体を載置し、複数枚の被処理体を支持しつつ上昇した位置で前記搬送装置との間で被処理体の受渡しを行うことを特徴とする請求項1に記載の載置台。
- 前記第1の絶縁性部材と前記第2の絶縁性部材とが直交して配置されることにより前記絶縁部が格子状に形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の載置台。
- 前記第1の絶縁性部材に、被処理体を位置決めする段部を設けたことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の載置台。
- 前記複数の載置面のそれぞれに対応して、被処理体を吸着保持する静電吸着機構が設けられていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の載置台。
- 前記載置面には、被処理体の裏面を冷却する冷却用気体の吐出口が設けられていることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の載置台。
- 複数枚の被処理体を一括処理する処理装置であって、
処理容器と、
前記処理容器内に配置された請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の載置台と、
を備えていることを特徴とする処理装置。 - プラズマにより被処理体を処理するプラズマ処理装置であることを特徴とする請求項7に記載の処理装置。
- 複数枚の被処理体を一括処理する処理装置と、複数枚の被処理体を同時に支持する櫛歯状の支持部材を有する搬送装置と、を備えた処理システムであって、
前記処理装置は、処理容器と、前記処理容器内で複数枚の被処理体を載置する載置台とを有しており、
前記載置台は、被処理体を載置する複数の載置面と、
前記載置面と平行な状態で互いに間隔を空けて同方向に配列され、昇降自在に構成された複数の可動部材により被処理体を支持することによって前記櫛歯状の支持部材との間で複数枚の被処理体の受渡しを一括して行う受渡し機構と、
前記載置面の周囲を囲み、前記載置面を区画する絶縁部と、
を備え、
前記絶縁部は、第1の絶縁性部材と、該第1の絶縁性部材と組み合わされて前記載置面の周囲を囲む第2の絶縁性部材と、を有するとともに、
前記可動部材は、絶縁性材料から構成されており、前記絶縁部の一部分をなす第1の絶縁性部材を兼ねていることを特徴とする処理システム。
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