JP6719629B2 - プラズマ処理システム及び搬送方法 - Google Patents
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Description
まず、本発明の一実施形態のプラズマ処理システムについて説明する。図1は、一実施形態のプラズマ処理システムを示す概略構成図である。
次に、本発明の一実施形態のプラズマ処理装置について、図2に基づき説明する。図2は、一実施形態のプラズマ処理装置を示す概略断面図である。図2に示すプラズマ処理装置は、前述のプラズマ処理システムにおけるプロセスモジュールPM1〜PM6として用いることができる装置である。
次に、本発明の一実施形態のフォーカスリング交換方法について、図3に基づき説明する。図3は、一実施形態のフォーカスリング交換方法を説明するためのフローチャートである。
次に、処理ユニット側搬送装置TR1の一例について、図4に基づき説明する。図4は、図1の処理ユニット側搬送装置を説明するための図である。
次に、位置検出センサの一例について、図7に基づき説明する。図7は図1の位置検出センサを説明するための図であり、図1における一点鎖線1A−1Bにおいて切断した断面の一部を示している。
10 処理室
112 ピック
113 突起部
FR フォーカスリング
PM プロセスモジュール
TM トランスファモジュール
TR1 処理ユニット側搬送装置
TR2 搬送ユニット側搬送装置
W ウエハ
Claims (16)
- プロセスモジュールと、
前記プロセスモジュールが接続されるトランスファモジュールと、
前記トランスファモジュールの内部に設けられ、前記トランスファモジュールから前記プロセスモジュールへの基板の搬送及びフォーカスリングの搬送に用いられる搬送装置と、
前記搬送装置により搬送される前記基板及び前記フォーカスリングの搬送経路上であって、前記基板の外周縁部及び前記フォーカスリングの内周縁部を検出できる位置に設けられる位置検出センサと、
を備える、プラズマ処理システム。 - プロセスモジュールと、
前記プロセスモジュールが接続されるトランスファモジュールと、
前記トランスファモジュールに接続されるロードロックモジュールと、
前記ロードロックモジュールと接続される搬送モジュールと、
前記トランスファモジュールの内部に設けられ、前記プロセスモジュール及び前記ロードロックモジュールの間で基板の搬送及びフォーカスリングの搬送に用いられる搬送装置と、
前記搬送装置により前記トランスファモジュールから前記プロセスモジュールへ搬送される前記基板及び前記フォーカスリングの搬送経路上であって、前記基板の外周縁部及び前記フォーカスリングの内周縁部を検出できる位置に設けられる位置検出センサと、
を備える、プラズマ処理システム。 - 前記位置検出センサは、投光部と受光部とを有し、
前記投光部は、前記受光部に向けて光を照射し、
前記受光部は、前記投光部から照射された前記光の受光の有無を検出する、
請求項1又は2に記載のプラズマ処理システム。 - 前記位置検出センサは、前記搬送装置による前記フォーカスリングの搬送中に前記フォーカスリングの位置を検出する、
請求項1乃至3のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。 - 前記投光部及び前記受光部は、それぞれ前記トランスファモジュールに設けられている、
請求項3に記載のプラズマ処理システム。 - 制御部を更に備え、
前記制御部は、前記位置検出センサにより検出される前記フォーカスリングの位置と予め定められた基準位置とに基づいて、前記フォーカスリングの基準位置からのずれ量を算出するように構成される、
請求項1乃至5のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。 - 前記制御部は、算出した前記ずれ量を補正するように前記プロセスモジュールへ前記フォーカスリングを搬送するよう前記搬送装置を制御するように構成される、
請求項6に記載のプラズマ処理システム。 - 制御部を更に備え、
前記制御部は、前記フォーカスリングの位置を、前記フォーカスリングの内周縁部を検出する第1の位置から前記フォーカスリングの内周縁部を再度検出する第2の位置まで前記フォーカスリングが移動する時間に基づいて算出する、
請求項1乃至7のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。 - プロセスモジュールと、前記プロセスモジュールが接続されるトランスファモジュールと、前記トランスファモジュールの内部に設けられ、前記トランスファモジュールから前記プロセスモジュールへの基板の搬送及びフォーカスリングの搬送に用いられる搬送装置と、を備えるプラズマ処理システムにおいて基板及びフォーカスリングを搬送する搬送方法であって、
前記搬送装置により前記トランスファモジュールから前記プロセスモジュールへ基板を搬送するステップと、
前記搬送装置により前記トランスファモジュールから前記プロセスモジュールへフォーカスリングを搬送するステップと、
を有し、
前記基板を搬送するステップでは、前記基板の外周縁部の位置を位置検出センサにより検出し、
前記フォーカスリングを搬送するステップでは、前記フォーカスリングの内周縁部の位置を前記位置検出センサにより検出する、搬送方法。 - プロセスモジュールと、前記プロセスモジュールが接続されるトランスファモジュールと、前記トランスファモジュールに接続されるロードロックモジュールと、前記ロードロックモジュールと接続される搬送モジュールと、前記トランスファモジュールの内部に設けられ、前記プロセスモジュール及び前記ロードロックモジュールの間で基板の搬送及びフォーカスリングの搬送に用いられる搬送装置と、を備えるプラズマ処理システムにおいて基板及びフォーカスリングを搬送する搬送方法であって、
前記搬送装置により前記トランスファモジュールから前記プロセスモジュールへ基板を搬送するステップと、
前記搬送装置により前記トランスファモジュールから前記プロセスモジュールへフォーカスリングを搬送するステップと、
を有し、
前記基板を搬送するステップでは、前記基板の外周縁部の位置を位置検出センサにより検出し、
前記フォーカスリングを搬送するステップでは、前記フォーカスリングの内周縁部の位置を前記位置検出センサにより検出する、搬送方法。 - 前記位置検出センサは、投光部と受光部とを有し、
前記投光部は、前記受光部に向けて光を照射し、
前記受光部は、前記投光部から照射された前記光の受光の有無を検出する、
請求項9又は10に記載の搬送方法。 - 前記位置検出センサは、前記搬送装置による前記フォーカスリングの搬送中に前記フォーカスリングの位置を検出する、
請求項9乃至11のいずれか一項に記載の搬送方法。 - 前記投光部及び前記受光部は、それぞれ前記トランスファモジュールに設けられている、
請求項11に記載の搬送方法。 - 前記フォーカスリングを搬送するステップでは、前記位置検出センサにより検出される前記フォーカスリングの位置と予め定められた基準位置とに基づいて、前記フォーカスリングの基準位置からのずれ量を算出する、
請求項9乃至13のいずれか一項に記載の搬送方法。 - 前記フォーカスリングを搬送するステップでは、算出した前記ずれ量を補正するように前記プロセスモジュールへ前記フォーカスリングを搬送する、
請求項14に記載の搬送方法。 - 前記フォーカスリングを搬送するステップでは、前記フォーカスリングの位置を、前記フォーカスリングの内周縁部を検出する第1の位置から前記フォーカスリングの内周縁部を再度検出する第2の位置まで前記フォーカスリングが移動する時間に基づいて算出する、
請求項9乃至15のいずれか一項に記載の搬送方法。
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