JP6824461B2 - 処理システム - Google Patents
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Description
まず、本発明の一実施形態のプラズマ処理システムについて説明する。図1は、一実施形態のプラズマ処理システムを示す概略構成図である。
次に、本発明の一実施形態のプラズマ処理装置について、図2に基づき説明する。図2は、一実施形態のプラズマ処理装置を示す概略断面図である。図2に示すプラズマ処理装置は、前述のプラズマ処理システムにおけるプロセスモジュールPM1〜PM6として用いることができる装置である。
次に、本発明の一実施形態のフォーカスリング交換方法について、図3に基づき説明する。図3は、一実施形態のフォーカスリング交換方法を説明するためのフローチャートである。
次に、処理ユニット側搬送装置TR1の一例について、図4に基づき説明する。図4は、図1の処理ユニット側搬送装置を説明するための図である。
次に、位置検出センサの一例について、図7に基づき説明する。図7は図1の位置検出センサを説明するための図であり、図1における一点鎖線1A−1Bにおいて切断した断面の一部を示している。
10 処理室
112 ピック
113 突起部
FR フォーカスリング
PM プロセスモジュール
TM トランスファモジュール
TR1 処理ユニット側搬送装置
TR2 搬送ユニット側搬送装置
W ウエハ
Claims (13)
- 内部で基板をプラズマ処理するプロセスモジュールと、
前記プロセスモジュール内に設けられ、フォーカスリングを載置するフォーカスリング載置面を有する載置台と、
前記フォーカスリングを前記フォーカスリング載置面に対して昇降させる昇降ピンと、
前記基板及びフォーカスリングを搬送する搬送装置と、
前記プロセスモジュール外に設けられるセンサであり、前記基板及び前記フォーカスリングの搬送経路上であって、前記基板と前記フォーカスリングの両方の水平方向の位置を検出できる位置に設けられるセンサと、
制御部と、を有し、
前記制御部は、
(a)前記センサで前記フォーカスリングの内周縁部を検出することにより前記フォーカスリングの水平位置を検出する工程と、
(b)前記搬送装置を制御して前記工程(a)において検出された前記フォーカスリングの位置に基づき位置補正して前記フォーカスリングを前記プロセスモジュール内に搬入し、前記フォーカスリングを前記フォーカスリング載置面に載置する工程と、
(c)載置された前記フォーカスリングを静電吸着して保持する工程と、
(d)前記フォーカスリングの吸着を停止する工程と、
(e)前記停止する工程の後に前記昇降ピンが前記フォーカスリングを前記フォーカスリング載置面から離間させる工程と、
(f)前記プロセスモジュールを大気開放することなく、前記搬送装置が前記フォーカスリングを前記プロセスモジュール内から搬出する工程と、
を実行するように構成される処理システム。 - 前記フォーカスリング載置面に保持された前記フォーカスリングの裏面に伝熱ガスを供給する伝熱ガス供給部をさらに有する、
請求項1に記載の処理システム。 - 前記工程(f)の前に前記プロセスモジュールの第1のクリーニングが行われる、
請求項1または2に記載の処理システム。 - 前記第1のクリーニングは、前記載置台に前記フォーカスリングが載置された状態で行われる、
請求項3に記載の処理システム。 - 前記工程(f)の後に前記プロセスモジュールの第2のクリーニングが行われる、
請求項1〜4のいずれか一項に記載の処理システム。 - 前記プロセスモジュールに接続されるトランスファモジュールをさらに有し、
前記センサは、前記トランスファモジュールに設けられる、
請求項1〜5のいずれか一項に記載の処理システム。 - 前記工程(a)において、前記搬送装置が前記フォーカスリングを保持した状態で前記フォーカスリングの位置が検出される、
請求項1〜6のいずれか一項に記載の処理システム。 - 前記プロセスモジュールは、エッチング処理に用いられる処理ガスの供給源と、成膜処理に用いられる処理ガスの供給源と、クリーニング処理に用いられる処理ガスの供給源とを有する、
請求項1〜7のいずれか一項に記載の処理システム。 - 前記制御部は、前記工程(d)の前に、
前記載置台に載置されている前記フォーカスリングの交換が必要であるか否かを判定する工程と、
前記フォーカスリングの交換を行うことができる状態か否かを判定する交換可否判定工程と、
をさらに実行するように構成される、請求項1〜8のいずれか一項に記載の処理システム。 - 前記プロセスモジュールの側壁には開口が形成され、前記開口を開閉するゲートバルブを有し、
前記センサは、前記ゲートバルブの近傍に設けられる、
請求項6に記載の処理システム。 - 前記センサは、前記トランスファモジュールの上壁および下壁に設けられる、
請求項6に記載の処理システム。 - プロセスモジュールと、
前記プロセスモジュール内に設けられ、フォーカスリングを載置するフォーカスリング載置面を有する載置台と、
前記フォーカスリングを前記フォーカスリング載置面に対して昇降させる昇降ピンと、
前記フォーカスリングを搬送する搬送装置と、
制御部と、を有し、
前記制御部は、
前記プロセスモジュール内に搬入され、前記フォーカスリング載置面に位置補正されて載置された前記フォーカスリングを静電吸着して保持する工程と、
前記フォーカスリングの吸着を停止する工程と、
前記停止する工程の後に前記昇降ピンが前記フォーカスリングを前記フォーカスリング載置面から離間させる工程と、
前記プロセスモジュールを大気開放することなく、前記搬送装置が前記フォーカスリングを前記プロセスモジュール内から搬出する工程と、
前記搬出する工程の後に、前記載置台に前記フォーカスリングが載置されていない状態で前記プロセスモジュールをクリーニングする工程と、
を実行するように構成される処理システム。 - 前記制御部は、前記搬出する工程の前に、前記プロセスモジュールをクリーニングする工程をさらに実行するように構成される、
請求項12に記載の処理システム。
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