JP2008285760A - スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 - Google Patents
スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008285760A JP2008285760A JP2008161207A JP2008161207A JP2008285760A JP 2008285760 A JP2008285760 A JP 2008285760A JP 2008161207 A JP2008161207 A JP 2008161207A JP 2008161207 A JP2008161207 A JP 2008161207A JP 2008285760 A JP2008285760 A JP 2008285760A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide
- mass
- sputtering target
- transparent conductive
- conductive film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 title claims abstract description 297
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 92
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 223
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 223
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 103
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 103
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 72
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 72
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 72
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical group [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical group [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 175
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 87
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 87
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 87
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 82
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 66
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 50
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 36
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical group [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 17
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 claims description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 5
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 256
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 68
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 57
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 47
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 36
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 11
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 10
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 8
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 5
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229910002059 quaternary alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N aqua regia Chemical compound Cl.O[N+]([O-])=O QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N scandium oxide Chemical compound O=[Sc]O[Sc]=O HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004402 ultra-violet photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1884—Manufacture of transparent electrodes, e.g. TCO, ITO
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/453—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zinc, tin, or bismuth oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. zincates, stannates or bismuthates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/453—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zinc, tin, or bismuth oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. zincates, stannates or bismuthates
- C04B35/457—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zinc, tin, or bismuth oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. zincates, stannates or bismuthates based on tin oxides or stannates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/6261—Milling
- C04B35/6262—Milling of calcined, sintered clinker or ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62685—Treating the starting powders individually or as mixtures characterised by the order of addition of constituents or additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62695—Granulation or pelletising
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/02631—Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/20—Deposition of semiconductor materials on a substrate, e.g. epitaxial growth solid phase epitaxy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3224—Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
- C04B2235/3229—Cerium oxides or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3284—Zinc oxides, zincates, cadmium oxides, cadmiates, mercury oxides, mercurates or oxide forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3286—Gallium oxides, gallates, indium oxides, indates, thallium oxides, thallates or oxide forming salts thereof, e.g. zinc gallate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3287—Germanium oxides, germanates or oxide forming salts thereof, e.g. copper germanate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3293—Tin oxides, stannates or oxide forming salts thereof, e.g. indium tin oxide [ITO]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5436—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof micrometer sized, i.e. from 1 to 100 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5445—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof submicron sized, i.e. from 0,1 to 1 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
- C04B2235/6562—Heating rate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
- C04B2235/6567—Treatment time
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/658—Atmosphere during thermal treatment
- C04B2235/6583—Oxygen containing atmosphere, e.g. with changing oxygen pressures
- C04B2235/6585—Oxygen containing atmosphere, e.g. with changing oxygen pressures at an oxygen percentage above that of air
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
- C04B2235/767—Hexagonal symmetry, e.g. beta-Si3N4, beta-Sialon, alpha-SiC or hexa-ferrites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/77—Density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/78—Grain sizes and shapes, product microstructures, e.g. acicular grains, equiaxed grains, platelet-structures
- C04B2235/786—Micrometer sized grains, i.e. from 1 to 100 micron
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】〔A1〕(a1)酸化インジウム85〜99質量%と、〔B〕酸化ガリウムと〔C〕酸化ゲルマニウムとの合計1〜15質量%からなる金属酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、該焼結体中の酸化インジウム成分に、ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムおよびゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムを含むスパッタリングターゲット。
【選択図】なし
Description
また、本発明は、さらに、エッチング加工性に優れた透明導電膜およびその製造法を提供することを目的とする。
[1]酸化インジウムと酸化スズからなるスパッタリングターゲットであって、スズ原子の含有率がインジウム原子とスズ原子の合計に対して3〜20原子%であり、かつ、スパッタリングターゲット中の酸化イジウム結晶の最大粒径が5μm以下であるスパッタリングターゲット。
[2]上記のスパッタリングターゲット[1]において、さらに、原子価が3価以上の金属の酸化物を含有し、この酸化物の含有率が全金属原子に対して0.1〜10原子%であるスパッタリングターゲット。
[3]〔A1〕(a1)酸化インジウム85〜99質量%と、〔B〕酸化ガリウムと〔C〕酸化ゲルマニウムとの合計1〜15質量%からなる金属酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、該焼結体中の酸化インジウム成分に、ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムおよびゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムを含むスパッタリングターゲット。
[4]〔A2〕(a2)酸化インジウムと(a3)酸化スズとの合計90〜99質量%と、〔B〕酸化ガリウムと〔C〕酸化ゲルマニウムとの合計1〜10質量%からなる金属酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、該焼結体中の酸化インジウム成分に、スズ原子が置換固溶した酸化インジウム、ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムおよびゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムを含むスパッタリングターゲット。
[5]酸化インジウムと酸化ガリウムおよび酸化亜鉛からなる金属酸化物の焼結体であって、該金属酸化物がIn2O3(ZnO)m〔ただし、mは2〜10の整数である。〕、In2Ga2ZnO7、InGaZnO4、InGaZn2O5、InGaZn3O6、InGaZn4O7、InGaZn5O8、InGaZn6O9およびInGaZn7O10の群から選択される1種または2種以上の六方晶層状化合物を含有し、かつ、酸化インジウム90〜99質量%、酸化ガリウムと酸化亜鉛の合計1〜10質量%の組成を有する焼結体からなるスパッタリングターゲット。
[6]酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウムおよび酸化亜鉛からなる金属酸化物の焼結体であって、該金属酸化物がIn2O3(ZnO)m〔ただし、mは2〜10の整数である。〕、In2Ga2ZnO7、InGaZnO4、InGaZn2O5、InGaZn3O6、InGaZn4O7、InGaZn5O8、InGaZn6O9およびInGaZn7O10の群から選択される1種または2種以上の六方晶層状化合物を含有し、かつ、酸化インジウム70〜94質量%、酸化スズ5〜20質量%、酸化ガリウムと酸化亜鉛の合計1〜10質量%の組成を有する焼結体からなるスパッタリングターゲット。
これらのスパッタリングターゲットは、結晶の粒径が小さいので、透明導電膜の成膜時にターゲット表面に発生するノジュールの生成を抑止して、安定性よくスパッタリングを行うことができる。
また、本発明によれば、上記のスパッタリングターゲットを用いて、スパッタリング法により透明導電膜を製膜して、以下の透明導電膜が得られる。
[1]〔A1〕(a1)酸化インジウム85〜99質量%と、〔B〕酸化ガリウムと〔C〕酸化ゲルマニウムとの合計1〜15質量%からなる金属酸化物の焼結体からなる透明導電膜であって、該焼結体中の酸化インジウム成分に、ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムおよびゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムを含む透明導電膜。
[2]〔A2〕(a2)酸化インジウムと(a3)酸化スズとの合計90〜99質量%と、〔B〕酸化ガリウムと〔C〕酸化ゲルマニウムとの合計1〜10質量%からなる金属酸化物の焼結体からなる透明導電膜であって、該焼結体中の酸化インジウム成分に、スズ原子が置換固溶した酸化インジウム、ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムおよびゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムを含む透明導電膜。
[3]酸化インジウムと酸化ガリウムおよび酸化亜鉛からなる金属酸化物であって、酸化インジウム90〜99質量%、酸化ガリウムと酸化亜鉛の合計1〜10質量%の組成を有する金属酸化物からなる透明導電膜。
[4]酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウムおよび酸化亜鉛からなる金属酸化物であって、酸化インジウム70〜94質量%、酸化スズ5〜20質量%、酸化ガリウムと酸化亜鉛の合計1〜10質量%の組成を有する金属酸化物からなる透明導電膜。
[実施形態1]
本実施形態のスパッタリングターゲットは、酸化インジウムと酸化スズからなるスパッタリングターゲットであって、スズ原子の含有率がインジウム原子とスズ原子の合計に対して3〜20原子%であり、かつ、スパッタリングターゲット中の結晶の最大粒径が5μm以下のスパッタリングターゲットである。
あたり0.3〜4Wの範囲とし、また製膜時間を5〜120分間とすることにより、所望の膜厚を有する透明導電膜を得ることができる。この透明導電膜の膜厚は、表示装置の種類によって異なるが、通常、200〜6,000オングストローム、好ましくは300〜2,000オングストロームである。
このようにして得られる透明導電膜は、その透明性が波長550nmの光についての光線透過率において80%以上である。したがって、この透明導電膜は、高い透明性と導電性の要求される液晶表示素子や有機エレクトロルミネッセンス表示素子などの各種表示装置の透明電極に好適に用いられる。
本実施形態のスパッタリングターゲットは、〔A1〕(a1)酸化インジウム85〜99質量%と、〔B〕酸化ガリウムと〔C〕酸化ゲルマニウムとの合計1〜15質量%からなる金属酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、該焼結体中の酸化インジウム成分に、ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムおよびゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムを含む、スパッタリングターゲットである。
そして、このスパッタリングターゲットにおける〔A1〕成分は、主として酸化インジウムにより構成されているが、そのうちの一部はガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムおよびゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムにより構成されている。これらガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムやゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムについては、例えば、EPMA(Electron Prove Micro Analysis)法による分析によって確認することができる。
本実施形態のスパッタリングターゲットは、酸化インジウムと酸化ガリウムおよび酸化亜鉛からなる金属酸化物の焼結体であって、該金属酸化物が、In2O3(ZnO)m〔ただし、mは2〜10の整数である。〕、In2Ga2ZnO7、InGaZnO4、InGaZn2O5、InGaZn3O6、InGaZn4O7、InGaZn5O8、InGaZn6O9およびInGaZn7O10の群から選択される1種または2種以上の六方晶層状化合物を含有し、かつ、酸化インジウム90〜99質量%、酸化ガリウムと酸化亜鉛の合計1〜10質量%の組成を有する焼結体からなるものである。
ここで、酸化インジウムと酸化ガリウムおよび酸化亜鉛からなる金属酸化物が含有する六方晶層状化合物のうち、一般式In2O3(ZnO)mで表される金属酸化物については、この式中のmの値が2〜10の化合物のいずれであってもよいのであるが、これらの中でも、このmの値が2〜7であるものが、体積抵抗率が低いことからより好ましい。
上記の構成を有するスパッタリングターゲットを用いて、スパッタリング法により、基板上に透明導電膜を形成できる。ここで用いる基板およびスパッタリング装置については、実施形態1と同じである。
(1)スパッタリングターゲットの製造
原料の酸化インジウム粉末を90質量部、酸化スズ粉末を10質量部の比率において、両金属酸化物を湿式ボールミルに供給し、10時間混合粉砕して、平均粒径2μmの原料粉末を得た。
ついで、得られた原料粉末をスプレードライヤーにより乾燥して造粒し、焼成炉に入れて、1400℃、4時間の条件下に焼結した。そして、得られた焼結体を、クラッシャーにより粉砕した後、ハンマーミルおよびジェットミルにより粉砕して、平均粒径6μmの焼結体粉末を得た。
つぎに、ここで得られた焼結体粉末に、新たに酸化インジウム粉末30質量部と酸化スズ粉末3.3質量部を添加して、全量を湿式ボールミルに供給し、24時間混合粉砕して平均粒径2μmの混合粉末を得た。
ついで、この混合粉末をスプレードライヤーにより乾燥して造粒した後、プレス成型機により直径10cm、厚さ5mmの円盤に成型し、この円盤を焼成炉に入れて、酸素ガス加圧雰囲気下に、焼結温度1500℃、焼結時間8時間の条件下に焼結した。
このようにして得られた焼結体は、スズ原子の含有率が、インジウム原子とスズ原子との合計に対して9.3原子%であった。また、この焼結体表面を研磨した後、円盤の中心点(1箇所)と、その中心点で直交する2本の中心線上の中心点と周縁部との中間点(4箇所)の合計5箇所において、走査型電子顕微鏡により2,500倍の拡大写真を撮影して、その50μm四方の枠内で観察される最大の結晶粒子についてその最大径を測定し、これら5個所の枠内に存在する最大結晶粒子の最大径の平均値を算出した結果、2.8μmであった。また、この焼結体は、その密度が7.0g/cm3であり、これは理論密度比で98%に相当するものであった。さらに、この焼結体の4探針法により測定したバルク抵抗値は、0.61×10−3Ω・cmであった。
このようにして得られた焼結体を切削加工して、直径約10cm、厚さ約5mmのスパッタリングターゲットを作製した。このスパッタリングターゲットの組成と物性の測定結果を、第1表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを、銅製のプレートに貼合せて、DCマグネトロンスパッタリング装置に装着し、雰囲気としては、アルゴンガスに3%の水素ガスを添加した混合ガスを用いて、30時間連続してスパッタリングを行った。この場合のスパッタ条件は、圧力3×10−1Pa、到達圧力5×10−4Pa、基板温度25℃、投入電力100Wとした。なお、雰囲気ガスに添加した水素ガスは、ノジュールの発生を促進するためである。
そして、スパッタリング後のターゲット表面の変化を実体顕微鏡により50倍に拡大して観察し、視野3mm2中に発生した20μm以上のノジュールについて数平均を計測する方法を採用した。その結果、ここで用いたスパッタリングターゲットの表面には、ノジュール発生は観察されなかった。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを、DCマグネトロンスパッタリング装置に装着し、室温において、ガラス基板上に透明導電膜を製膜した。ここでのスパッタ条件は、雰囲気としてアルゴンガスに少量の酸素ガスを混入した混合ガスを用い、スパッタ圧力3×10−1Pa、到達圧力5×10−4Pa、基板温度25℃、投入電力100W、製膜時間20分間とした。
この結果、ガラス基板上に、膜厚約2,000オングストロームの透明導電膜が形成された透明導電ガラスが得られた。
上記(3)で得られた透明導電ガラス上の透明導電膜の導電性については、4探針法により透明導電膜の比抵抗を測定したところ、240×10−6Ω・cmであった。また、この透明導電膜の透明性については、分光光度計により波長550nmの光線についての光線透過率が90%であり、透明性においても優れたものであった。
(1)スパッタリングターゲットの製造
原料の使用比率を、酸化インジウム85質量部、酸化スズ10質量部、および第三元素の酸化物として酸化ガリウムを5質量部として、原料粉末の調製をし、実施例1の(1)と同様にして焼結した後、粉砕した。
ついで、得られた焼結体粉末に、新たに酸化インジウム25.5質量部、酸化スズ3質量部および酸化ガリウム1.5質量部を添加し、粉砕して混合粉末を得た後、実施例1の(1)と同様にして焼結体を得た。この焼結体を切削加工したスパッタリングターゲットの組成と物性の測定結果を、第1表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例1の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
実施例1の(2),(4)と同様に行い、結果を第1表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造
原料の使用比率を、酸化インジウム85質量部、酸化スズ10質量部、および第三元素の酸化物として酸化セリウムを5質量部として、原料粉末の調製をし、実施例1の(1)と同様にして焼結した後、粉砕した。
ついで、得られた焼結体粉末に、新たに酸化インジウム25.5質量部、酸化スズ3質量部、および酸化セリウム1.5質量部を添加し、粉砕して混合粉末を得た後、実施例1の(1)と同様にして焼結体を得た。この焼結体を切削加工したスパッタリングターゲットの組成と物性の測定結果を、第1表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例1の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
実施例1の(2),(4)と同様に行い、結果を第1表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造
原料の酸化インジウム粉末を90質量部、酸化スズ粉末を10質量部の比率において、両金属酸化物を湿式ボールミルに供給し、10時間混合粉砕して、平均粒径2μmの原料粉末を得た。
ついで、この原料粉末をスプレードライヤーにより乾燥して造粒した後、プレス成型機により直径10cm、厚さ5mmの円盤に成型し、この円盤を焼成炉に入れて、酸素ガス加圧雰囲気下に、焼結温度1500℃、焼結時間8時間の条件下に焼結し、その焼結体を切削加工してスパッタリングターゲットを得た。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例1の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
実施例1の(2),(4)と同様に行い、結果を第1表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造
原料の酸化インジウム粉末を86質量部、酸化ガリウム粉末を10質量部、酸化ゲルマニウム粉末を4質量部の比率において、これら金属酸化物を湿式ボールミルに供給し、10時間混合粉砕することにより、平均粒径1.8〜2μmの原料粉末を得た。ついで、得られた原料粉末をスプレードライヤーにより乾燥して造粒し、得られた粒子を金型に充填し、プレス機により加圧成形して、直径10cm、厚さ5mmの円盤状の成形体を得た。
つぎに、この成形体を焼結炉に入れて、酸素ガス加圧雰囲気下に、焼結温度を1420〜1480℃の範囲内に制御しながら、6時間焼結した。
このようにして得られた焼結体について、その組成分析をした結果、〔A1〕成分の含有割合が86質量%、〔B〕成分の含有割合が10質量%、〔C〕成分の含有割合が4質量%であった。また、この焼結体について、EPMA法による分析を行った結果、ガリウム原子を置換固溶した酸化インジウム結晶およびゲルマニウム原子を置換固溶した酸化インジウム結晶が存在することが確認された。この他、インジウム原子を置換固溶した酸化ガリウムおよびインジウム原子を置換固溶した酸化ゲルマニウムが存在することも確認された。また、この円盤状の焼結体の中心点(1箇所)と、その中心点で直交する2本の中心線上の中心点と周縁部との中間点(4箇所)の合計5箇所において、走査型電子顕微鏡により2,500倍の拡大写真を撮影して、その50μm四方の枠内で観察される最大の結晶粒子についてその最大径を測定し、これら5個所の枠内に存在する最大結晶粒子の最大径の平均値を算出した結果、2.3μmであった。また、この焼結体は、その密度が6.65g/cm3であり、これは理論密度比で96%に相当するものであった。さらに、この焼結体の4探針法により測定したバルク抵抗値は、3.8×10−3Ω・cmであった。
このようにして得られた焼結体を切削加工して、直径約10cm、厚さ約5mmのスパッタリングターゲットを製造した。
実施例1の(2)と同様に観察した。
その結果、ここで用いたスパッタリングターゲットの表面には、ノジュール発生は観察されなかった。
ここで製造したスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第2表に示す。
実施例1の(3)と同様に製造した。
この結果、ガラス基板上に、膜厚約2,000オングストロームの透明導電膜が形成された透明導電ガラスが得られた。
上記(3)で得られた透明導電ガラス上の透明導電膜について、下記の項目につき評価した。これら結果を第3表に示す。
1)導電性
導電性については、4探針法により透明導電膜の比抵抗を測定した。その結果、比抵抗の値は、480×10−6Ω・cmであった。
2)透明性
透明性については、分光光度計により光線透過率を測定した。その結果、波長400nmの光線についての光線透過率が78%であり、また、波長550nmの光線についての光線透過率が91%であった。
3)結晶性
結晶性については、X線回折法により測定した。その結果、この透明導電膜は非晶質であった。
4)エッチング特性
エッチング特性については、エッチング液として、濃度3.5質量%のシュウ酸水溶液を用い、30℃において実施した。そして、エッチング後の透明導電膜のエッチング面の状態を、実体顕微鏡により観察した。その結果、透明導電膜のエッチング面に膜の残渣が存在しないことが確認された。
また、エッチング液として、硝酸:燐酸:酢酸:水=2:17:1800:1000の混酸を用いた他は、上記と同様の操作をして、エッチング特性の評価をした。その結果、透明導電膜のエッチング面に膜の残渣が存在しないことが確認された。
5)仕事関数
仕事関数については、大気紫外光電子分光法により測定した。その結果、この透明導電膜の仕事関数は、4.4エレクトロンボルトであった。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム91質量部、酸化ガリウム6質量部、酸化ゲルマニウム3質量部に変更した他は、実施例4の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第2表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
つぎに、この透明導電膜につき、実施例4の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第3表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム93質量部、酸化ガリウム4質量部、酸化ゲルマニウム3質量部に変更した他は、実施例4の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第2表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例4の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第3表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム95質量部、酸化ガリウム3質量部、酸化ゲルマニウム2質量部に変更した他は、実施例4の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第2表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例4の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第3表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料として、酸化インジウムの粉末のみを用いた他は、実施例4の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。このスパッタリングターゲット表面には、30時間の連続スパッタリング後に、50倍に拡大した視野3mm2中に、45個のノジュールが観察された。
ここで製造したスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第2表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
つぎに、ここで得られた透明導電膜につき、実施例4の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第3表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム94質量部、および酸化ガリウム6質量部とした他は、実施例4の(1)と同様にして、スパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。このスパッタリングターゲット表面には、30時間の連続スパッタリング後に、50倍に拡大した視野3mm2中に、24個のノジュールが観察された。
ここで製造したスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第2表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
つぎに、ここで得られた透明導電膜につき、実施例4の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第3表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム94質量部、および酸化ゲルマニウム6質量部とした他は、実施例4の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。このスパッタリングターゲット表面には、30時間の連続スパッタリング後に、50倍に拡大した視野3mm2中に、21個のノジュールが観察された。
ここで製造したスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第2表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
つぎに、ここで得られた透明導電膜につき、実施例4の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第3表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム86質量部、酸化スズ6質量部、酸化ガリウム6質量部、酸化ゲルマニウム2質量部とした他は、実施例4の(1)と同様にして焼結体を得た。この焼結体について、EPMA法による分析を行った結果、スズ原子を置換固溶した酸化インジウム結晶、ガリウム原子を置換固溶した酸化インジウム結晶およびゲルマニウム原子を置換固溶した酸化インジウム結晶が存在することが確認された。この他、インジウム原子を置換固溶した酸化スズ、インジウム原子を置換固溶した酸化ガリウムおよびインジウム原子を置換固溶した酸化ゲルマニウムが存在することも確認された。ついで、この焼結体を、実施例4の(1)と同様に加工してスパッタリングターゲットを製造した。
つぎに、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第4表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例4の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。また、この透明導電膜を、250℃で熱処理し、その比抵抗を4探針法により測定した。ここでの評価結果を第5表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム88質量部、酸化スズ6質量部、酸化ガリウム4質量部、酸化ゲルマニウム2質量部とした他は、実施例4の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第4表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例8の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第5表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム83質量部、酸化スズ8質量部、酸化ガリウム6質量部、酸化ゲルマニウム3質量部とした他は、実施例4の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。
つぎに、ここで得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第4表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例8の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第5表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム85質量部、酸化スズ8質量部、酸化ガリウム4質量部、酸化ゲルマニウム3質量部とした他は、実施例4の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第4表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例8の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第5表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム82質量部、酸化スズ8質量部、酸化ガリウム6質量部、酸化ゲルマニウム4質量部とした他は、実施例4の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第4表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例8の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第5表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム84質量部、酸化スズ8質量部、酸化ガリウム4質量部、酸化ゲルマニウム4質量部とした他は、実施例4の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第4表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例8の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第5表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム90質量部、および酸化スズ10質量部とした他は、実施例4の(1)と同様にして、スパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第6表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例8の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第7表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム90質量部と、酸化スズ5質量部および酸化ガリウム5質量部とした他は、実施例4の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第6表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例8の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第7表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム90質量部と、酸化スズ5質量部および酸化ゲルマニウム5質量部とした他は、実施例4の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第6表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例8の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第7表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム70質量部と、酸化スズ10質量部、酸化ガリウム10質量部および酸化ゲルマニウム10質量部とした他は、実施例4の(1)と同様にして、スパッタリングターゲットを製造した。
ついで、得られたスパッタリングターゲットについてのスパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例4の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第6表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例4の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例8の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第7表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造
原料として、酸化インジウム粉末を93質量%、酸化ガリウム粉末を4質量%、酸化亜鉛粉末を3質量%の比率となるように混合し、これら金属酸化物の混合粉末を湿式ボールミルに供給し、10時間混合粉砕することにより、平均粒径1.8〜2μmの原料粉末を得た。ついで、得られた原料粉末をスプレードライヤーにより乾燥して造粒し、得られた粒状物を金型に充填し、プレス機により加圧成形して、直径10cm、厚さ5mmの円盤状の成形体を得た。
つぎに、この成形体を焼結炉に入れて、酸素ガス加圧雰囲気下に、焼結温度を1420〜1480℃の範囲内に制御しながら、6時間焼結した。
ここで得られた焼結体について、X線回折法およびEPMA法により分析した結果、In2O3(ZnO)4およびInGaZnO4で表される六方晶層状化合物が生成していることが確認された。また、この円盤状の焼結体の中心点(1箇所)と、その中心点で直交する2本の中心線上の中心点と周縁部との中間点(4箇所)の合計5箇所において、走査型電子顕微鏡により2,500倍の拡大写真を撮影して、その50μm四方の枠内で観察される最大の結晶粒子についてその最大径を測定し、これら5個所の枠内に存在する最大結晶粒子の最大径の平均値を算出した結果、2.8μmであった。また、この焼結体は、その密度が6.6g/cm3であり、これは理論密度比で94%に相当するものであった。さらに、この焼結体の4探針法により測定したバルク抵抗値は、2.4×10−3Ω・cmであった。
このようにして得られた焼結体を切削加工して、直径約10cm、厚さ約5mmのスパッタリングターゲットを製造した。
実施例1の(2)と同様に確認した。
その結果、ここで用いたスパッタリングターゲットの表面には、ノジュールの発生は観察されなかった。
ここで製造したスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第8表に示す。
実施例1の(3)と同様に製造した。
その結果、ガラス基板上に、膜厚約2,000オングストロームの透明導電膜が形成された透明導電ガラスが得られた。
上記(3)で得られた透明導電ガラス上の透明導電膜について、実施例4の(4)と同様に評価した。これら結果を第9表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム91質量部、酸化ガリウム6質量部、酸化亜鉛3質量部に変更した他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、In2Ga2ZnO7で表される六方晶層状化合物が生成していることが確認された。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第8表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
つぎに、この透明導電膜につき、実施例14の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第9表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム94質量部、酸化ガリウム4質量部、酸化亜鉛2質量部に変更した他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、InGaZnO4で表される六方晶層状化合物が生成していることが確認された。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第8表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例14の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第9表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム92質量部、酸化ガリウム6質量部、酸化亜鉛2質量部に変更した他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、In2Ga2ZnO7で表される六方晶層状化合物が生成していることが確認された。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第8表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例14の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第9表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料として、酸化インジウム90質量部と、酸化ガリウム10質量部を用いた他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、六方晶層状化合物が生成していることは確認されなかった。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュール発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。このスパッタリングターゲット表面には、30時間の連続スパッタリング後に、50倍に拡大した視野3mm2中に、21個のノジュールが観察された。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュールの発生有無の観察結果を第8表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
つぎに、ここで得られた透明導電膜につき、実施例14の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第9表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム90質量部と、酸化亜鉛10質量部とした他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、In2O3(ZnO)7で表される六方晶層状化合物が生成していることが確認された。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。このスパッタリングターゲット表面には、30時間の連続スパッタリング後に、50倍に拡大した視野3mm2中にノジュールは観察されなかった。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュールの発生有無の観察結果を第8表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
つぎに、ここで得られた透明導電膜につき、実施例14の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第9表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム95質量部と、酸化ガリウム5質量部とした他は、実施例14の(1)と同様にして、スパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、六方晶層状化合物が生成していることは確認されなかった。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。このスパッタリングターゲット表面には、30時間の連続スパッタリング後に、50倍に拡大した視野3mm2中に、32個のノジュールが観察された。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第8表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
つぎに、ここで得られた透明導電膜につき、実施例14の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第9表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム97質量部と、酸化亜鉛3質量部とした他は、実施例14の(1)と同様にして、スパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、In2O3(ZnO)4で表される六方晶層状化合物が生成していることが確認された。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。このスパッタリングターゲット表面には、30時間の連続スパッタリング後に、50倍に拡大した視野3mm2中に、12個のノジュールが観察された。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第8表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
つぎに、ここで得られた透明導電膜につき、実施例14の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第9表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム86質量部、酸化スズ6質量部、酸化ガリウム6質量部、酸化亜鉛2質量部とした他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、In2Ga2ZnO7で表される六方晶層状化合物が生成していることが確認された。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第10表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、得られた透明導電膜につき、実施例14の(4)と同様にして、透明導電膜の評価をした。また、この透明導電膜を、250℃で熱処理し、その比抵抗を4探針法により測定した。ここでの評価結果を第11表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム86質量部、酸化スズ6質量部、酸化ガリウム4質量部、酸化亜鉛2質量部とした他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、In2Ga2ZnO7で表される六方晶層状化合物が生成していることが確認された。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第10表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例18の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第11表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム84質量部、酸化スズ8質量部、酸化ガリウム5質量部、酸化亜鉛3質量部とした他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、InGaZnO4で表される六方晶層状化合物が生成していることが確認された。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第10表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例18の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第11表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム85質量部、酸化スズ8質量部、酸化ガリウム4質量部、酸化亜鉛3質量部とした他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、InGaZnO4で表される六方晶層状化合物が生成していることが確認された。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第10表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例18の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第11表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム85質量部、酸化スズ8質量部、酸化ガリウム3質量部、酸化亜鉛4質量部とした他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、InGaZn2O5で表される六方晶層状化合物が生成していることが確認された。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第10表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例18の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第11表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム86質量部、酸化スズ8質量部、酸化ガリウム2質量部、酸化亜鉛4質量部とした他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、In2O3(ZnO)4およびInGaZnO4で表される六方晶層状化合物が生成していることが確認された。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第10表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例18の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第11表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム90質量部と、酸化スズ10質量部とした他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、六方晶層状化合物が生成していることは確認されなかった。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14の(2)と同様に行った。このスパッタリングターゲット表面には、30時間の連続スパッタリング後に、50倍に拡大した視野3mm2中に、43個のノジュールが観察された。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュール発生有無の観察結果を第12表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
つぎに、ここで得られた透明導電膜につき、実施例18の(2)と同様にして、透明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第13表に示す。
(1)スパッタリングターゲットの製造及びノジュール発生有無の観察
原料の使用比率を、酸化インジウム88質量部と、酸化スズ9質量部および酸化亜鉛3質量部とした他は、実施例14の(1)と同様にしてスパッタリングターゲットを製造した。得られたスパッタリングターゲット中には、六方晶層状化合物が生成していることは確認されなかった。
つぎに、このスパッタリングターゲットにつき、スパッタリング時のノジュールの発生有無の観察を、実施例14(2)と同様に行った。
このスパッタリングターゲットの組成と物性およびノジュールの発生有無の観察結果を第12表に示す。
上記(1)で得られたスパッタリングターゲットを用いた他は、実施例14の(3)と同様にして、透明導電膜を製造した。
ついで、ここで得られた透明導電膜につき、実施例18の(2)と同様にして、明導電膜の評価をした。ここでの評価結果を第13表に示す。
Claims (19)
- 〔A1〕(a1)酸化インジウム85〜99質量%と、〔B〕酸化ガリウムと〔C〕酸化ゲルマニウムとの合計1〜15質量%からなる金属酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、該焼結体中の酸化インジウム成分に、ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムおよびゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムを含むスパッタリングターゲット。
- ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムまたはゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムの結晶のそれぞれの最大粒径が5μm以下である、請求の範囲第1項に記載のスパッタリングターゲット。
- 〔A2〕(a2)酸化インジウムと(a3)酸化スズとの合計90〜99質量%と、〔B〕酸化ガリウムと〔C〕酸化ゲルマニウムとの合計1〜10質量%からなる金属酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、該焼結体中の酸化インジウム成分に、スズ原子が置換固溶した酸化インジウム、ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムおよびゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムを含むスパッタリングターゲット。
- スズ原子が置換固溶した酸化インジウム、ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムまたはゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムの結晶のそれぞれの最大粒径が5μm以下である、請求の範囲第3項に記載のスパッタリングターゲット。
- 〔A1〕(a1)酸化インジウム85〜99質量%と、〔B〕酸化ガリウムと〔C〕酸化ゲルマニウムとの合計1〜15質量%からなる金属酸化物の焼結体からなる透明導電膜であって、該焼結体中の酸化インジウム成分に、ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムおよびゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムを含む透明導電膜。
- 〔A2〕(a2)酸化インジウムと(a3)酸化スズとの合計90〜99質量%と、〔B〕酸化ガリウムと〔C〕酸化ゲルマニウムとの合計1〜10質量%からなる金属酸化物の焼結体からなる透明導電膜であって、該焼結体中の酸化インジウム成分に、スズ原子が置換固溶した酸化インジウム、ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムおよびゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムを含む透明導電膜。
- 請求の範囲第6項に記載の透明導電膜が、230℃以上の温度で熱処理されたものである透明導電膜。
- 請求の範囲第1項に記載のスパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法により製膜する、透明導電膜の製造法。
- 請求の範囲第3項に記載のスパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法により製膜する、透明導電膜の製造法。
- 酸化インジウムと酸化ガリウムおよび酸化亜鉛からなる金属酸化物の焼結体であって、該金属酸化物がIn2O3(ZnO)m〔ただし、mは2〜10の整数である。〕、In2Ga2ZnO7、InGaZnO4、InGaZn2O5、InGaZn3O6、InGaZn4O7、InGaZn5O8、InGaZn6O9およびInGaZn7O10の群から選択される1種または2種以上の六方晶層状化合物を含有し、かつ、酸化インジウム90〜99質量%、酸化ガリウムと酸化亜鉛の合計1〜10質量%の組成を有する焼結体からなるスパッタリングターゲット。
- 六方晶層状化合物の結晶の最大粒径が5μm以下である、請求の範囲第10項に記載のスパッタリングターゲット。
- 酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウムおよび酸化亜鉛からなる金属酸化物の焼結体であって、該金属酸化物がIn2O3(ZnO)m〔ただし、mは2〜10の整数である。〕、In2Ga2ZnO7、InGaZnO4、InGaZn2O5、InGaZn3O6、InGaZn4O7、InGaZn5O8、InGaZn6O9およびInGaZn7O10の群から選択される1種または2種以上の六方晶層状化合物を含有し、かつ、酸化インジウム70〜94質量%、酸化スズ5〜20質量%、酸化ガリウムと酸化亜鉛の合計1〜10質量%の組成を有する焼結体からなるスパッタリングターゲット。
- 六方晶層状化合物の結晶の最大粒径が5μm以下である、請求の範囲第12項に記載のスパッタリングターゲット。
- 酸化インジウムと酸化ガリウムおよび酸化亜鉛からなる金属酸化物であって、酸化インジウム90〜99質量%、酸化ガリウムと酸化亜鉛の合計1〜10質量%の組成を有する金属酸化物からなる透明導電膜。
- 酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウムおよび酸化亜鉛からなる金属酸化物であって、酸化インジウム70〜94質量%、酸化スズ5〜20質量%、酸化ガリウムと酸化亜鉛の合計1〜10質量%の組成を有する金属酸化物からなる透明導電膜。
- 請求の範囲第15項に記載の透明導電膜が、230℃以上の温度で熱処理されたものである透明導電膜。
- 請求の範囲第15項に記載の透明導電膜が、パターニング処理した後、230℃以上の温度で熱処理されたものである透明導電膜。
- 請求の範囲第10項に記載のスパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法により製膜する、透明導電膜の製造法。
- 請求の範囲第12項に記載のスパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法により製膜する、透明導電膜の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008161207A JP4934110B2 (ja) | 2001-08-02 | 2008-06-20 | スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 |
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001235022 | 2001-08-02 | ||
JP2001235022 | 2001-08-02 | ||
JP2001296089 | 2001-09-27 | ||
JP2001297159 | 2001-09-27 | ||
JP2001296089 | 2001-09-27 | ||
JP2001297159 | 2001-09-27 | ||
JP2008161207A JP4934110B2 (ja) | 2001-08-02 | 2008-06-20 | スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003519536A Division JP4324470B2 (ja) | 2001-08-02 | 2002-07-08 | スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011155678A Division JP5431424B2 (ja) | 2001-08-02 | 2011-07-14 | スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008285760A true JP2008285760A (ja) | 2008-11-27 |
JP4934110B2 JP4934110B2 (ja) | 2012-05-16 |
Family
ID=27347266
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003519536A Expired - Fee Related JP4324470B2 (ja) | 2001-08-02 | 2002-07-08 | スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 |
JP2008161207A Expired - Fee Related JP4934110B2 (ja) | 2001-08-02 | 2008-06-20 | スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 |
JP2011155678A Expired - Fee Related JP5431424B2 (ja) | 2001-08-02 | 2011-07-14 | スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003519536A Expired - Fee Related JP4324470B2 (ja) | 2001-08-02 | 2002-07-08 | スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011155678A Expired - Fee Related JP5431424B2 (ja) | 2001-08-02 | 2011-07-14 | スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US20040180217A1 (ja) |
EP (4) | EP2264211B1 (ja) |
JP (3) | JP4324470B2 (ja) |
KR (6) | KR100995196B1 (ja) |
CN (1) | CN1545567B (ja) |
TW (1) | TWI238199B (ja) |
WO (1) | WO2003014409A1 (ja) |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010070832A1 (ja) * | 2008-12-15 | 2010-06-24 | 出光興産株式会社 | 複合酸化物焼結体及びそれからなるスパッタリングターゲット |
JP2010198934A (ja) * | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Nitto Denko Corp | 透明導電積層体の製造方法、透明導電積層体およびタッチパネル |
WO2011061938A1 (ja) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | 出光興産株式会社 | 長期成膜時の安定性に優れたIn-Ga-Zn-O系酸化物焼結体スパッタリングターゲット |
WO2011061936A1 (ja) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | 出光興産株式会社 | In-Ga-Zn系酸化物スパッタリングターゲット |
WO2011061916A1 (ja) * | 2009-11-18 | 2011-05-26 | 株式会社アルバック | Ito焼結体の製造方法及びitoスパッタリングターゲットの製造方法 |
WO2011061923A1 (ja) * | 2009-11-18 | 2011-05-26 | 出光興産株式会社 | In-Ga-Zn-O系スパッタリングターゲット |
JP2011146571A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-07-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | In−Ga−O系酸化物焼結体、ターゲット、酸化物半導体薄膜及びこれらの製造方法 |
JP2011195405A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 導電性酸化物とその製造方法 |
JP2011199108A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 導電性酸化物とその製造方法 |
JP2011238968A (ja) * | 2011-08-18 | 2011-11-24 | Idemitsu Kosan Co Ltd | In−Ga−Zn−O系スパッタリングターゲット |
WO2012017659A1 (ja) * | 2010-08-05 | 2012-02-09 | 三菱マテリアル株式会社 | スパッタリングターゲットの製造方法およびスパッタリングターゲット |
US8222667B2 (en) | 2008-03-06 | 2012-07-17 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd | Semiconductor light-emitting element, method for manufacturing the semiconductor light-emitting element and lamp that uses the semiconductor light-emitting element |
JP2013151390A (ja) * | 2012-01-25 | 2013-08-08 | Ulvac Japan Ltd | 酸化物粉末およびスパッタリングターゲットの製造方法 |
JP2013175240A (ja) * | 2008-12-26 | 2013-09-05 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 静電容量式タッチパネル及び該タッチパネルを備えた液晶表示装置 |
JP2014025147A (ja) * | 2012-06-22 | 2014-02-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | スパッタリング用ターゲットおよびその使用方法 |
US9885108B2 (en) | 2012-08-07 | 2018-02-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for forming sputtering target |
US10557192B2 (en) | 2012-08-07 | 2020-02-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for using sputtering target and method for forming oxide film |
US11081326B2 (en) | 2016-07-11 | 2021-08-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Sputtering target and method for manufacturing the same |
Families Citing this family (90)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2400881C (en) * | 2001-08-31 | 2006-12-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head and image-forming apparatus using the same |
JP4917725B2 (ja) * | 2001-09-26 | 2012-04-18 | 東ソー株式会社 | 透明導電膜およびその製造方法並びにその用途 |
KR101002492B1 (ko) | 2002-08-02 | 2010-12-17 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 스퍼터링 타겟, 소결체, 이들을 사용하여 제조한 도전막,유기 el 소자, 및 이것에 사용하는 기판 |
US7635440B2 (en) * | 2003-03-04 | 2009-12-22 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Sputtering target, thin film for optical information recording medium and process for producing the same |
US7601661B2 (en) * | 2003-12-25 | 2009-10-13 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Indium oxide-tin oxide powder and sputtering target using the same |
WO2005086180A1 (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-15 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタ基板及びこれらの製造方法及びこれらを用いた液晶表示装置及び関連する装置及び方法、並びに、スパッタリングターゲット及びこれを用いて成膜した透明導電膜及び透明電極及び関連する装置及び方法 |
JP4428698B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-03-10 | 出光興産株式会社 | 酸化インジウム−酸化セリウム系スパッタリングターゲット及び透明導電膜及び透明導電膜の製造方法 |
US7300617B2 (en) * | 2004-05-13 | 2007-11-27 | David Gerling | Method of making fusion cast articles |
US8681077B2 (en) | 2005-03-18 | 2014-03-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, and display device, driving method and electronic apparatus thereof |
JP5058469B2 (ja) * | 2005-09-06 | 2012-10-24 | キヤノン株式会社 | スパッタリングターゲットおよび該ターゲットを用いた薄膜の形成方法 |
TWI417604B (zh) * | 2005-12-28 | 2013-12-01 | Semiconductor Energy Lab | 顯示裝置 |
JP4816137B2 (ja) * | 2006-02-24 | 2011-11-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明導電膜及び透明導電性基材 |
JP2007250369A (ja) | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 透明導電性膜およびその製造方法 |
KR100785038B1 (ko) * | 2006-04-17 | 2007-12-12 | 삼성전자주식회사 | 비정질 ZnO계 TFT |
JP4162094B2 (ja) * | 2006-05-30 | 2008-10-08 | 三菱重工業株式会社 | 常温接合によるデバイス、デバイス製造方法ならびに常温接合装置 |
JP5007792B2 (ja) * | 2006-08-24 | 2012-08-22 | 株式会社ブリヂストン | p型In−Ga−Zn−O膜の成膜方法 |
JP5244327B2 (ja) * | 2007-03-05 | 2013-07-24 | 出光興産株式会社 | スパッタリングターゲット |
EP2096188B1 (en) * | 2006-12-13 | 2014-01-29 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Sputtering target |
JP5143410B2 (ja) * | 2006-12-13 | 2013-02-13 | 出光興産株式会社 | スパッタリングターゲットの製造方法 |
KR101509663B1 (ko) * | 2007-02-16 | 2015-04-06 | 삼성전자주식회사 | 산화물 반도체층 형성 방법 및 이를 이용한 반도체 소자제조방법 |
KR101334181B1 (ko) * | 2007-04-20 | 2013-11-28 | 삼성전자주식회사 | 선택적으로 결정화된 채널층을 갖는 박막 트랜지스터 및 그제조 방법 |
JP5522889B2 (ja) * | 2007-05-11 | 2014-06-18 | 出光興産株式会社 | In−Ga−Zn−Sn系酸化物焼結体、及び物理成膜用ターゲット |
US7935964B2 (en) * | 2007-06-19 | 2011-05-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Oxide semiconductors and thin film transistors comprising the same |
WO2008156312A2 (en) * | 2007-06-19 | 2008-12-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Oxide semiconductors and thin film transistors comprising the same |
US8440115B2 (en) * | 2007-07-06 | 2013-05-14 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Oxide sintered body and production method therefor, target, and transparent conductive film and transparent conductive substrate obtained by using the same |
JP5464319B2 (ja) * | 2007-10-03 | 2014-04-09 | 三井金属鉱業株式会社 | 酸化インジウム系ターゲット |
CN101188149B (zh) * | 2007-11-15 | 2010-06-02 | 北京航空航天大学 | 一种Ge掺杂的AZO透明导电膜及其制备方法 |
EP2062857A1 (en) * | 2007-11-21 | 2009-05-27 | Corning SAS | Thermoelectric materials comprising a matrix of In2O3 with regions of In2Ge2O7 dispersed therein, thermoelectric elements and methods of making the same |
CN103258857B (zh) * | 2007-12-13 | 2016-05-11 | 出光兴产株式会社 | 使用了氧化物半导体的场效应晶体管及其制造方法 |
KR101240167B1 (ko) * | 2008-02-13 | 2013-03-07 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 산화인듐주석 소결체 및 타겟 |
KR101496148B1 (ko) * | 2008-05-15 | 2015-02-27 | 삼성전자주식회사 | 반도체소자 및 그 제조방법 |
TWI532862B (zh) * | 2008-05-22 | 2016-05-11 | Idemitsu Kosan Co | A sputtering target, a method for forming an amorphous oxide film using the same, and a method for manufacturing a thin film transistor |
JP5288142B2 (ja) * | 2008-06-06 | 2013-09-11 | 出光興産株式会社 | 酸化物薄膜用スパッタリングターゲットおよびその製造法 |
JP5202630B2 (ja) * | 2008-06-10 | 2013-06-05 | Jx日鉱日石金属株式会社 | スパッタリング用酸化物焼結体ターゲット及びその製造方法 |
TWI473896B (zh) * | 2008-06-27 | 2015-02-21 | Idemitsu Kosan Co | From InGaO 3 (ZnO) crystal phase, and a method for producing the same |
CN102089256A (zh) * | 2008-07-07 | 2011-06-08 | Jx日矿日石金属株式会社 | 氧化物烧结体、包含该烧结体的溅射靶、该烧结体的制造方法及该烧结体溅射靶的制造方法 |
CN102132414B (zh) * | 2008-08-27 | 2013-05-22 | 出光兴产株式会社 | 场效应型晶体管、其制造方法和溅射靶 |
WO2010032422A1 (ja) | 2008-09-19 | 2010-03-25 | 出光興産株式会社 | 酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット |
US9096921B2 (en) * | 2008-09-26 | 2015-08-04 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Transparent conductive film and touch panel |
JP5375536B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2013-12-25 | 住友金属鉱山株式会社 | 静電容量式タッチパネルとその製造方法及び該タッチパネルを備えた液晶表示装置 |
KR101040946B1 (ko) * | 2009-02-13 | 2011-06-16 | 주식회사 제이엔에스 | Lcd패널과 tn필름의 합체 장치 |
KR100975319B1 (ko) * | 2009-03-11 | 2010-08-12 | 주식회사 제이엔에스 | Lcd패널과 tn필름의 자동정렬방법 |
CN102348827B (zh) * | 2009-03-13 | 2015-04-29 | 住友金属矿山株式会社 | 透明导电膜和透明导电膜层叠体及其制造方法、以及硅系薄膜太阳能电池 |
JP5822198B2 (ja) | 2009-06-05 | 2015-11-24 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 酸化物焼結体、その製造方法及び酸化物焼結体製造用原料粉末 |
KR101274279B1 (ko) | 2009-10-06 | 2013-06-13 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 산화인듐 소결체, 산화인듐 투명 도전막 및 그 투명 도전막의 제조 방법 |
US9214253B2 (en) | 2009-10-26 | 2015-12-15 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Sintered compact of indium oxide system, and transparent conductive film of indium oxide system |
KR20110047308A (ko) * | 2009-10-30 | 2011-05-09 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 산화인듐주석 스퍼터링 타겟 및 이를 이용하여 제조되는 투명전도막 |
JP4891381B2 (ja) * | 2009-11-19 | 2012-03-07 | 出光興産株式会社 | In−Ga−Zn系焼結体、及びスパッタリングターゲット |
JP5726752B2 (ja) * | 2009-11-19 | 2015-06-03 | 株式会社アルバック | 透明導電膜の製造方法、透明導電膜の製造装置、スパッタリングターゲット及び透明導電膜 |
CN101921986A (zh) * | 2010-07-16 | 2010-12-22 | 北京工业大学 | 一种氧化锌掺杂同质pn结及其制备方法 |
DE102010047756B3 (de) * | 2010-10-08 | 2012-03-01 | Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg | Sputtertarget mit amorphen und mikrokristallinen Anteilen sowie Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets |
CN102534498A (zh) * | 2010-12-23 | 2012-07-04 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 一种掺镓氧化锌透明导电膜及其制备方法和应用 |
KR20120114133A (ko) * | 2011-04-06 | 2012-10-16 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 산화인듐주석 스퍼터링 타겟 및 이를 이용한 상전이형 투명전도막 제조방법 |
JP5705642B2 (ja) | 2011-05-10 | 2015-04-22 | 出光興産株式会社 | In−Ga−Zn系酸化物スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
KR20190095563A (ko) * | 2011-06-08 | 2019-08-14 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 스퍼터링 타겟, 스퍼터링 타겟의 제조 방법 및 박막의 형성 방법 |
KR102161077B1 (ko) | 2012-06-29 | 2020-09-29 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
WO2014002916A1 (en) * | 2012-06-29 | 2014-01-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for using sputtering target and method for manufacturing oxide film |
KR20140011945A (ko) * | 2012-07-19 | 2014-01-29 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 스퍼터링용 타깃, 스퍼터링용 타깃의 사용 방법 및 산화물막의 제작 방법 |
EP2881379A4 (en) * | 2012-07-31 | 2016-03-02 | Sumitomo Metal Mining Co | OXIDE SINTERED BODY AND TABLET OBTAINED BY THE TREATMENT OF SAID BODY |
JP6229366B2 (ja) * | 2012-08-08 | 2017-11-15 | 東ソー株式会社 | 複合酸化物焼結体及び酸化物透明導電膜 |
US20140045299A1 (en) * | 2012-08-10 | 2014-02-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Formation method of oxide semiconductor film |
JP5654648B2 (ja) * | 2012-08-10 | 2015-01-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 金属酸化物膜 |
KR101900820B1 (ko) * | 2012-09-18 | 2018-09-20 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 투명도전성 박막 조성물, 이를 이용한 투명도전성 박막 형성방법 및 투명도전성 박막 |
JP6325229B2 (ja) * | 2012-10-17 | 2018-05-16 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 酸化物膜の作製方法 |
KR101410943B1 (ko) | 2012-12-20 | 2014-07-04 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 고 아연 분율의 산화인듐-산화갈륨-산화아연 혼합 화합물의 소결체 및 그 제조방법 |
US20150034475A1 (en) * | 2013-08-02 | 2015-02-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for forming oxide semiconductor film |
WO2015059842A1 (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-30 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 酸化物半導体膜の作製方法 |
KR102317297B1 (ko) | 2014-02-19 | 2021-10-26 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 산화물, 반도체 장치, 모듈, 및 전자 장치 |
JP6387823B2 (ja) * | 2014-02-27 | 2018-09-12 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化物焼結体、スパッタリング用ターゲット、及びそれを用いて得られる酸化物半導体薄膜 |
JP6358083B2 (ja) | 2014-02-27 | 2018-07-18 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化物焼結体、スパッタリング用ターゲット、及びそれを用いて得られる酸化物半導体薄膜 |
JP6158129B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2017-07-05 | 出光興産株式会社 | 酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット |
JP6166207B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2017-07-19 | 出光興産株式会社 | 酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット |
US9732004B2 (en) | 2014-04-17 | 2017-08-15 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using sputtering target |
KR20170008724A (ko) | 2014-05-23 | 2017-01-24 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 산화물 소결체, 스퍼터링용 타겟 및 그것을 이용하여 얻어지는 산화물 반도체 박막 |
KR20170024579A (ko) | 2014-06-26 | 2017-03-07 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 산화물 소결체, 스퍼터링용 타겟 및 그것을 이용하여 얻어지는 산화물 반도체 박막 |
JP5688179B1 (ja) * | 2014-09-10 | 2015-03-25 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及び薄膜並びに酸化物焼結体の製造方法 |
TWI652362B (zh) * | 2014-10-28 | 2019-03-01 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 氧化物及其製造方法 |
JP6291593B2 (ja) * | 2014-11-07 | 2018-03-14 | Jx金属株式会社 | Itoスパッタリングターゲット及びその製造方法並びにito透明導電膜の製造方法 |
JP6809157B2 (ja) | 2016-02-22 | 2021-01-06 | 東ソー株式会社 | 酸化物焼結体及び酸化物透明導電膜 |
WO2017145964A1 (ja) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | 東ソー株式会社 | 酸化物焼結体及び酸化物透明導電膜 |
JP6254308B2 (ja) | 2016-04-19 | 2017-12-27 | 株式会社コベルコ科研 | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット、並びにそれらの製造方法 |
US10985285B2 (en) * | 2016-08-17 | 2021-04-20 | The Regents Of The University Of California | Methods for fabricating III-nitride tunnel junction devices |
KR102382130B1 (ko) | 2017-02-01 | 2022-04-01 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 산화물 반도체막, 박막 트랜지스터, 산화물 소결체, 및 스퍼터링 타깃 |
KR102380806B1 (ko) * | 2017-02-22 | 2022-03-30 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 산화물 반도체막, 박막 트랜지스터, 산화물 소결체 및 스퍼터링 타깃 |
CN107266041B (zh) * | 2017-06-16 | 2019-06-28 | 福建阿石创新材料股份有限公司 | 一种导电材料及其制备方法 |
JP2020064118A (ja) | 2018-10-15 | 2020-04-23 | 株式会社ブイ・テクノロジー | キャリアフィルム、led表示パネルのリペア方法及びled表示パネルのリペア装置 |
JP7158102B2 (ja) * | 2019-03-29 | 2022-10-21 | Jx金属株式会社 | Itoスパッタリングターゲット及びその製造方法並びにito透明導電膜及びito透明導電膜の製造方法 |
KR102285454B1 (ko) * | 2019-06-11 | 2021-08-02 | 인천대학교 산학협력단 | 광전소자를 제조하는 방법 및 광전소자 |
CN112110721B (zh) * | 2020-09-21 | 2022-07-01 | 先导薄膜材料(广东)有限公司 | 氧化铟锡钽靶材的制备方法 |
KR20220170469A (ko) * | 2021-06-23 | 2022-12-30 | 케이브이머티리얼즈 주식회사 | 산화물 반도체 스퍼터링용 타겟 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 제조방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07182924A (ja) * | 1993-10-27 | 1995-07-21 | At & T Corp | ガリウム−インジウム酸化物を含む透明導電体 |
WO2001038599A1 (fr) * | 1999-11-25 | 2001-05-31 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Cible de pulverisation cathodique, oxyde electro-conducteur transparent, et procede d'elaboration d'une cible de pulverisation cathodique |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3300525A1 (de) * | 1983-01-10 | 1984-07-12 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Targets fuer die kathodenzerstaeubung |
DE3716852C1 (de) * | 1987-05-20 | 1988-07-14 | Demetron | Sputtertarget zur Erzeugung optisch transparenter Schichten und Verfahren zur Herstellung dieser Targets |
JPH04272612A (ja) * | 1991-02-26 | 1992-09-29 | Kojundo Chem Lab Co Ltd | 透明電極 |
JPH04277408A (ja) * | 1991-03-01 | 1992-10-02 | Kojundo Chem Lab Co Ltd | 透明電極 |
US5401701A (en) * | 1992-08-19 | 1995-03-28 | Tosoh Corporation | Ito sintered body and method of manufacturing the same |
DE69328197T2 (de) * | 1992-12-15 | 2000-08-17 | Idemitsu Kosan Co | Transparente, leitende schicht, transparentes, leitendes basismaterial und leitendes material |
US5433901A (en) * | 1993-02-11 | 1995-07-18 | Vesuvius Crucible Company | Method of manufacturing an ITO sintered body |
DE4407774C1 (de) * | 1994-03-09 | 1995-04-20 | Leybold Materials Gmbh | Target für die Kathodenzerstäubung zur Herstellung transparenter, leitfähiger Schichten und Verfahren zu seiner Herstellung |
JPH07335046A (ja) * | 1994-06-14 | 1995-12-22 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 導電性透明基材の製造方法 |
JP3583163B2 (ja) * | 1994-06-14 | 2004-10-27 | 出光興産株式会社 | 導電性積層体 |
JPH08199343A (ja) * | 1995-01-23 | 1996-08-06 | Hitachi Ltd | 透明導電膜 |
JP3746094B2 (ja) * | 1995-06-28 | 2006-02-15 | 出光興産株式会社 | ターゲットおよびその製造方法 |
CZ289688B6 (cs) * | 1995-08-31 | 2002-03-13 | Innovative Sputtering Technology | Způsob výroby produktů na bázi ITO-slitin |
KR100434646B1 (ko) * | 1995-11-08 | 2004-09-01 | 도소 가부시키가이샤 | 소결된ito콤팩트의제조공정 |
US5862975A (en) * | 1996-03-20 | 1999-01-26 | The Boeing Company | Composite/metal structural joint with welded Z-pins |
JP3870446B2 (ja) * | 1996-07-16 | 2007-01-17 | 東ソー株式会社 | Ito焼結体の製造方法およびスパッタリングターゲット |
JPH10147861A (ja) * | 1996-11-15 | 1998-06-02 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化インジウム・酸化錫焼結体の製造方法 |
US6042752A (en) * | 1997-02-21 | 2000-03-28 | Asahi Glass Company Ltd. | Transparent conductive film, sputtering target and transparent conductive film-bonded substrate |
JP2000067657A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-03-03 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 赤外線透過に優れた透明導電膜及びその製造方法 |
JP3806521B2 (ja) * | 1998-08-27 | 2006-08-09 | 旭硝子セラミックス株式会社 | 透明導電膜、スパッタリングターゲットおよび透明導電膜付き基体 |
WO2000040769A1 (fr) * | 1998-12-28 | 2000-07-13 | Japan Energy Corporation | Cible de pulverisation cathodique |
JP3676961B2 (ja) * | 1999-04-02 | 2005-07-27 | 株式会社日鉱マテリアルズ | Ito膜形成用酸化錫−酸化インジウム粉末及びito膜形成用スパッタリングターゲット |
KR101902048B1 (ko) * | 2001-07-17 | 2018-09-27 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 스퍼터링 타겟 및 투명 도전막 |
-
2002
- 2002-07-08 CN CN028164245A patent/CN1545567B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-07-08 JP JP2003519536A patent/JP4324470B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-07-08 KR KR1020107003350A patent/KR100995196B1/ko active IP Right Grant
- 2002-07-08 KR KR1020107016108A patent/KR101024177B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-07-08 US US10/485,343 patent/US20040180217A1/en not_active Abandoned
- 2002-07-08 EP EP10182013A patent/EP2264211B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-07-08 KR KR1020047001480A patent/KR100909315B1/ko active IP Right Grant
- 2002-07-08 EP EP02741432A patent/EP1422312B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-07-08 EP EP10181999A patent/EP2280092A1/en not_active Withdrawn
- 2002-07-08 KR KR1020097006278A patent/KR100941241B1/ko active IP Right Grant
- 2002-07-08 KR KR1020107016107A patent/KR101024160B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-07-08 WO PCT/JP2002/006888 patent/WO2003014409A1/ja active Application Filing
- 2002-07-08 KR KR1020097017451A patent/KR101002504B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-07-08 EP EP10181976A patent/EP2278041B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-07-19 TW TW091116087A patent/TWI238199B/zh not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-06-20 JP JP2008161207A patent/JP4934110B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-08-04 US US12/185,705 patent/US20080308774A1/en not_active Abandoned
-
2011
- 2011-07-14 JP JP2011155678A patent/JP5431424B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-11-23 US US13/303,473 patent/US20120068130A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07182924A (ja) * | 1993-10-27 | 1995-07-21 | At & T Corp | ガリウム−インジウム酸化物を含む透明導電体 |
WO2001038599A1 (fr) * | 1999-11-25 | 2001-05-31 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Cible de pulverisation cathodique, oxyde electro-conducteur transparent, et procede d'elaboration d'une cible de pulverisation cathodique |
Cited By (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8222667B2 (en) | 2008-03-06 | 2012-07-17 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd | Semiconductor light-emitting element, method for manufacturing the semiconductor light-emitting element and lamp that uses the semiconductor light-emitting element |
US8633046B2 (en) | 2008-03-06 | 2014-01-21 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Manufacturing method for semiconductor light-emitting element |
US8641932B2 (en) | 2008-12-15 | 2014-02-04 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Sintered complex oxide and sputtering target comprising same |
JP2017095346A (ja) * | 2008-12-15 | 2017-06-01 | 出光興産株式会社 | 複合酸化物焼結体及びそれからなるスパッタリングターゲット |
JP2015157755A (ja) * | 2008-12-15 | 2015-09-03 | 出光興産株式会社 | 複合酸化物焼結体及びそれからなるスパッタリングターゲット |
JPWO2010070832A1 (ja) * | 2008-12-15 | 2012-05-24 | 出光興産株式会社 | 複合酸化物焼結体及びそれからなるスパッタリングターゲット |
WO2010070832A1 (ja) * | 2008-12-15 | 2010-06-24 | 出光興産株式会社 | 複合酸化物焼結体及びそれからなるスパッタリングターゲット |
JP2013175240A (ja) * | 2008-12-26 | 2013-09-05 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 静電容量式タッチパネル及び該タッチパネルを備えた液晶表示装置 |
JP2010198934A (ja) * | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Nitto Denko Corp | 透明導電積層体の製造方法、透明導電積層体およびタッチパネル |
JP2011105550A (ja) * | 2009-11-18 | 2011-06-02 | Ulvac Japan Ltd | Ito焼結体の製造方法及びitoスパッタリングターゲットの製造方法 |
US8858844B2 (en) | 2009-11-18 | 2014-10-14 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | In—Ga—Zn—O type sputtering target |
JP2011105995A (ja) * | 2009-11-18 | 2011-06-02 | Idemitsu Kosan Co Ltd | In−Ga−Zn−O系スパッタリングターゲット |
KR101164762B1 (ko) * | 2009-11-18 | 2012-07-12 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | In-Ga-Zn-O계 스퍼터링 타겟 |
WO2011061923A1 (ja) * | 2009-11-18 | 2011-05-26 | 出光興産株式会社 | In-Ga-Zn-O系スパッタリングターゲット |
WO2011061916A1 (ja) * | 2009-11-18 | 2011-05-26 | 株式会社アルバック | Ito焼結体の製造方法及びitoスパッタリングターゲットの製造方法 |
JP2011106003A (ja) * | 2009-11-19 | 2011-06-02 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 長期成膜時の安定性に優れたIn−Ga−Zn−O系酸化物焼結体スパッタリングターゲット |
US8641930B2 (en) | 2009-11-19 | 2014-02-04 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | In—Ga—Zn type oxide sputtering target |
WO2011061936A1 (ja) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | 出光興産株式会社 | In-Ga-Zn系酸化物スパッタリングターゲット |
WO2011061938A1 (ja) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | 出光興産株式会社 | 長期成膜時の安定性に優れたIn-Ga-Zn-O系酸化物焼結体スパッタリングターゲット |
KR20170087977A (ko) | 2010-01-15 | 2017-07-31 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | In-Ga-O계 산화물 소결체, 타겟, 산화물 반도체 박막 및 이들의 제조방법 |
KR102001747B1 (ko) * | 2010-01-15 | 2019-07-18 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | In-Ga-O계 산화물 소결체, 타겟, 산화물 반도체 박막 및 이들의 제조방법 |
JP2011146571A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-07-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | In−Ga−O系酸化物焼結体、ターゲット、酸化物半導体薄膜及びこれらの製造方法 |
JP2011199108A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 導電性酸化物とその製造方法 |
JP2011195405A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 導電性酸化物とその製造方法 |
WO2012017659A1 (ja) * | 2010-08-05 | 2012-02-09 | 三菱マテリアル株式会社 | スパッタリングターゲットの製造方法およびスパッタリングターゲット |
JP2011238968A (ja) * | 2011-08-18 | 2011-11-24 | Idemitsu Kosan Co Ltd | In−Ga−Zn−O系スパッタリングターゲット |
JP2013151390A (ja) * | 2012-01-25 | 2013-08-08 | Ulvac Japan Ltd | 酸化物粉末およびスパッタリングターゲットの製造方法 |
JP2015078445A (ja) * | 2012-06-22 | 2015-04-23 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | スパッタリング用ターゲット |
JP2014025147A (ja) * | 2012-06-22 | 2014-02-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | スパッタリング用ターゲットおよびその使用方法 |
US9885108B2 (en) | 2012-08-07 | 2018-02-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for forming sputtering target |
US10557192B2 (en) | 2012-08-07 | 2020-02-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for using sputtering target and method for forming oxide film |
US11081326B2 (en) | 2016-07-11 | 2021-08-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Sputtering target and method for manufacturing the same |
US11735403B2 (en) | 2016-07-11 | 2023-08-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Sputtering target and method for manufacturing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20040030889A (ko) | 2004-04-09 |
JP2011252231A (ja) | 2011-12-15 |
KR20090038941A (ko) | 2009-04-21 |
KR20100087052A (ko) | 2010-08-02 |
US20080308774A1 (en) | 2008-12-18 |
JP5431424B2 (ja) | 2014-03-05 |
KR100941241B1 (ko) | 2010-02-10 |
EP2278041A1 (en) | 2011-01-26 |
WO2003014409A1 (fr) | 2003-02-20 |
TWI238199B (en) | 2005-08-21 |
KR100909315B1 (ko) | 2009-07-24 |
KR100995196B1 (ko) | 2010-11-17 |
EP1422312B1 (en) | 2011-05-11 |
JP4934110B2 (ja) | 2012-05-16 |
KR20100087051A (ko) | 2010-08-02 |
KR20100027247A (ko) | 2010-03-10 |
EP1422312A1 (en) | 2004-05-26 |
EP2264211B1 (en) | 2012-02-15 |
JPWO2003014409A1 (ja) | 2004-11-25 |
US20040180217A1 (en) | 2004-09-16 |
JP4324470B2 (ja) | 2009-09-02 |
US20120068130A1 (en) | 2012-03-22 |
EP2278041B1 (en) | 2012-05-23 |
KR101024160B1 (ko) | 2011-03-22 |
KR101002504B1 (ko) | 2010-12-17 |
EP2280092A1 (en) | 2011-02-02 |
KR101024177B1 (ko) | 2011-03-22 |
EP1422312A4 (en) | 2007-06-13 |
KR20090094181A (ko) | 2009-09-03 |
CN1545567A (zh) | 2004-11-10 |
EP2264211A1 (en) | 2010-12-22 |
CN1545567B (zh) | 2012-03-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5431424B2 (ja) | スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 | |
JP5237558B2 (ja) | スパッタリングターゲット及び酸化物半導体膜 | |
JP4960244B2 (ja) | 酸化物材料、及びスパッタリングターゲット | |
KR20040045013A (ko) | 스퍼터링 타겟 및 투명 도전막 | |
JP4560149B2 (ja) | 透明導電材料、透明導電ガラス及び透明導電フィルム | |
KR101274279B1 (ko) | 산화인듐 소결체, 산화인듐 투명 도전막 및 그 투명 도전막의 제조 방법 | |
KR20110093949A (ko) | 스퍼터링 타겟, 투명 도전막 및 투명 전극 | |
JP5437825B2 (ja) | In−Ga−O系酸化物焼結体、ターゲット、酸化物半導体薄膜及びこれらの製造方法 | |
WO2010070944A1 (ja) | 酸化インジウム系焼結体及びスパッタリングターゲット | |
JP2007084842A (ja) | スパッタリングターゲット及び透明導電膜 | |
JP6229366B2 (ja) | 複合酸化物焼結体及び酸化物透明導電膜 | |
JP4823386B2 (ja) | 透明導電膜製造用の酸化物焼結体 | |
EP1422316A1 (en) | Method for cleaning reaction container and film deposition system | |
JP6155919B2 (ja) | 複合酸化物焼結体及び酸化物透明導電膜 | |
JP2011181722A (ja) | スパッタリングターゲット | |
JP2007008781A (ja) | Izoスパッタリングターゲットの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110428 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110517 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111025 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120131 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120217 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4934110 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150224 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |