DE4205040C2 - Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Überwachen eines Potentials auf einer internen Versorgungsspannungsleitung derselben - Google Patents
Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Überwachen eines Potentials auf einer internen Versorgungsspannungsleitung derselbenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Halbleitervor
richtung nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 und
ein Verfahren zum Überwachen
eines Potentials auf einer internen Spannungsversorgungs
leitung in dieser Halbleitervorrichtung.
Um ein an den Gate-Oxidfilm von Transistoren angelegtes elek
trisches Feld zu vermindern,
um die Zuverlässigkeit
zu erhöhen, wurden interne Spannungsabsenkungskonverterschal
tungen entwickelt, die eine externe Versorgungsspannung auf
eine vorbestimmte interne Versorgungsspannung absenken und
diese abgesenkte Spannung an die interne Schaltung anlegen.
Die Fig. 35 zeigt ein Blockschaltbild mit einem herkömmlichen
MOS-DRAM (Dynamic Random Access Memory) mit einer internen
Spannungsabsenkungskonverterschaltung. Diese Anordnung ist in "On-
Chip Supply Voltage Conversion System and Its Application to a
4Mb DRAM", SSDM 86, Lecture Nr. B-6-4, S. 307-309 offenbart.
Eine Halbleitervorrichtung CH in Fig. 35 umfaßt interne
Spannungsabsenkungsschaltungen 1a und 1b, einen DRAM 3, eine
Peripherieschaltung 4 und einen Ausgabepuffer 5. Diese Halb
leitervorrichtung CH weist einen Spannungsversorgungsanschluß
P1 zum Empfangen einer externen Versorgungsspannung Vcc sowie
einen Erdanschluß P2 zum Empfangen des Erdpotentials Vss
auf. Die interne Spannungskonvertierungsschaltung 1a senkt die
externe Versorgungsspannung Vcc auf eine interne Versorgungs
spannung IVcc 1 ab und legt die abgesenkte Spannung an die Pe
ripherieschaltung 4 an. Die Peripherieschaltung 4 umfaßt einen
Adreßpuffer, einen Dateneingabepuffer, eine Steuerschaltung
und dergleichen. Die interne Spannungsabsenkungsschaltung 1b
senkt die externe Versorgungsspannung Vcc auf eine interne
Versorgungsspannung IVcc 2 ab und legt die abgesenkte Spannung
an den DRAM 3 an. Der DRAM 3 umfaßt ein Speicherfeld MA und
einen CMOS-Leseverstärker SA. Der Ausgabepuffer 5 wird durch
die externe Versorgungsspannung Vcc betrieben.
Das Speicherfeld MA umfaßt eine Mehrzahl von Wortleitungen,
eine Mehrzahl von die Wortleitungen kreuzenden Bitleitungen,
eine Mehrzahl von an den Kreuzungspunkten zwischen den Bitlei
tungen und den Wortleitungen angeordneten Speicherzellen,
einen Zeilendecoder zum Auswählen von beliebigen der Mehrzahl
von Wortleitungen und einen Spaltendecoder zum Auswählen von
beliebigen der Mehrzahl von Bitleitungen. Der CMOS-Lesever
stärker umfaßt eine Mehrzahl von Leseverstärkern zum Verstär
ken von auf die Mehrzahl von Bitleitungen ausgelesenen Daten.
Die interne Spannungsabsenkungsschaltung 1a wird durch ein
Steuersignal Φ1 gesteuert, und die interne Spannungsabsen
kungsschaltung 1b wird durch ein Steuersignal Φ2 gesteuert.
Die Fig. 36 zeigt den Aufbau der internen Spannungsabsenkungs
schaltung 1a oder 1b. Die interne Spannungsabsenkungsschaltung
umfaßt eine Referenzspannungsgeneratorschaltung 10, eine Dif
ferenzverstärkerschaltung 20 und eine Treiberschaltung 30. Die
Referenzspannungsgeneratorschaltung 10 empfängt eine externe
Versorgungsspannung Vcc zum Erzeugen einer Referenzspannung
VR1, die kaum von der externen Versorgungsspannung Vcc ab
hängt. Die Referenzspannung VR1 wird als Eingangssignal an die
Differenzverstärkerschaltung 20 angelegt. Eine interne Versor
gungsspannung IVcc, die nicht von Schwankungen der Versor
gungsspannung Vcc und von Änderungen des Laststroms abhängig
ist, wird von der Differenzverstärkerschaltung 20 und der
Treiberschaltung 30 erzeugt und dann an die Peripherieschal
tung 4 oder den DRAM 3 angelegt. Die externe Versorgungsspan
nung Vcc beträgt zum Beispiel 5 V und die interne Versorgungs
spannung IVcc beträgt beispielsweise 4 V.
Die Fig. 37 zeigt einen detaillierten Schaltungsaufbau der in
ternen Spannungsabsenkungsschaltung. Die Referenzspannungsge
neratorschaltung 10 umfaßt P-Kanal-MOS-Transistoren Q11-Q15.
Die externe Versorgungsspannung Vcc wird durch die Transisto
ren Q11-Q13 geteilt, so daß die geteilte Spannung auf einem
Knoten N1 erscheint. Wenn die externe Versorgungsspannung Vcc
ansteigt, steigt die Spannung am Knoten N1 ebenfalls an, so
daß ein Transistor Q24 abgeschaltet wird. Hierdurch wird ein
Anstieg der Spannung an einem Knoten N2 verhindert. Wenn umge
kehrt die externe Versorgungsspannung Vcc absinkt, sinkt die
Spannung am Knoten N1 ebenfalls ab, so daß der Transistor Q24
eingeschaltet wird. Hierdurch wird ein Anstieg der Spannung am
Knoten N2 verhindert. Daher hängt die Referenzspannung VR1,
die am Knoten N2 erzeugt wird, kaum von Schwankungen der ex
ternen Versorgungsspannung Vcc ab.
Der Differenzverstärker 20 umfaßt eine Stromspiegelschaltung
mit P-Kanal-MOS-Transistoren Q21 und Q22 sowie N-Kanal-MOS-
Transistoren Q23 und Q24. Ein P-Kanal-MOS-Transistor Q25 mit
großen Abmessungen und ein P-Kanal-MOS-Transistor Q26 mit
kleinen Abmessungen sind zwischen einem Knoten N3 und einem
Spannungsversorgungsanschluß P1 verbunden. Diese Transistoren
Q25 und Q26 sind zum Vermindern des Stromverbrauchs der Strom
spiegelschaltung vorgesehen.
Während einer aktiven Periode, in der der DRAM 3 und die Peri
pherieschaltung 4 arbeiten, erreicht ein Steuersignal Φi (i=1,
2) einen niedrigen logischen Pegel, so daß der Transistor Q25
eingeschaltet wird. Hierdurch wird die Empfindlichkeit der Strom
spiegelschaltung verbessert. Während einer Standby-Periode, in
der nur ein geringer Strom vom DRAM 3 und der Peripherieschal
tung 4 verbraucht wird, erreicht das Steuersignal Φi logisch
hohen Pegel, so daß der Transistor Q25 ausgeschaltet ist. In
diesem Fall ist nur der Transistor Q26 mit kleinen Abmessun
gen, durch den nur ein minimaler Strom fließt, eingeschaltet.
Folglich wird, wobei die Empfindlichkeit der Stromspiegel
schaltung abnimmt, der Stromverbrauch herabgesetzt.
Die Treiberschaltung 30 umfaßt einen P-Kanal-MOS-Transistor
Q35. Der Transistor Q22 der Stromspiegelschaltung ist mit sei
nem Gate mit einem Knoten N4 verbunden. Der Transistor Q35 ist
zwischen dem Spannungsversorgungsanschluß P1 und dem Knoten N4
verbunden. Das Gate des Transistors Q35 ist mit einem Knoten
N5 des Stromspiegelkreises verbunden.
Wenn eine interne Versorgungsspannung IVcc, die am Knoten N4
abgegeben wird, höher als die Referenzspannung VR1 wird, dann
wird der Wert des durch den Transistor Q21 fließenden Stroms
höher als der des durch den Transistor Q22 fließenden Stroms.
Hierdurch wird ein Anstieg des Potentials am Knoten N5 be
wirkt. Daher wird der Transistor Q35 leicht leitend oder
nichtleitend. Folglich wird der Stromfluß vom Spannungsversor
gungsanschluß P1 zum Knoten N4 angehalten oder vermindert, wo
durch die interne Versorgungsspannung IVcc abgesenkt wird.
Wenn umgekehrt die interne Versorgungsspannung IVcc niedriger
als die Referenzspannung VR1 wird, dann wird der Wert des
durch den Transistor Q21 fließenden Stroms geringer als der
des durch den Transistor Q22 fließenden Stroms. Hierdurch wird
ein Absinken des Potentials am Knoten N5 bewirkt. Der Transi
stor Q35 wird daher leitend gemacht, so daß ein hinreichender
Strom vom Spannungsversorgungsanschluß P1 zum Knoten N4 bereit
gestellt wird. Dies führt zu einem Anstieg der internen Ver
sorgungsspannung IVcc.
Auf diese Weise ist eine konstante interne Versorgungsspannung
IVcc unabhängig von Schwankungen der externen Versorgungsspan
nung Vcc oder Änderungen der Last erreichbar.
Die Fig. 38 zeigt die Charakteristik der internen Spannungs
absenkungsschaltung. Die interne Versorgungsspannung IVcc ist
auf 4 V gesetzt. Wenn die externe Versorgungsspannung Vcc
gleich oder niedriger als 4 V beträgt, ist die interne Versor
gungsspannung IVcc gleich der externen Versorgungsspannung
Vcc. Wenn andererseits die externe Versorgungsspannung Vcc
gleich oder höher als 4 V ist, dann bleibt die interne Versor
gungsspannung IVcc konstant auf 4 V, unabhängig vom Wert der
externen Versorgungsspannung Vcc.
Die Fig. 39 zeigt Signalverläufe der internen Absenkungsschaltung
1a oder 1b nach Fig. 35. Eine Periode, die dem Zeitraum ent
spricht, während dem sich ein extern angelegtes Zeilenadreß
pulssignal/RAS auf logisch hohem Pegel befindet, wird Standby-
Periode genannt. Eine Periode, die dem Zeitraum entspricht,
während dem sich das Zahlenadreßpulssignal/RAS auf logisch
niedrigem Pegel befindet, wird aktive Periode genannt. Während
der aktiven Periode sind der DRAM 3 und die Peripherieschal
tung in Betrieb, so daß Strom verbraucht wird.
Ein Steuersignal Φ1 erreicht logisch niedrigen Pegel als Reak
tion auf das niedrige Zahlenadreßpulssignal/RAS. Dies bewirkt
das Einschalten des Transistors Q25 in der internen Spannungs
absenkungsschaltung 1a (siehe Fig. 37), wodurch die Strom
treiberwirkung der internen Spannungsabsenkungsschaltung 1a
verbessert wird. Folglich wird die interne Versorgungsspannung
IVcc 1 konstant gehalten.
Dann steigt das Leseverstärkeraktivierungssignal SE auf lo
gisch hohen Pegel. Hierdurch wird der Leseverstärker SA im
DRAM 3 aktiviert. Ein Steuersignal Φ2 erreicht logisch niedri
gen Pegel als Reaktion auf den Anstieg des Leseverstärkerakti
vierungssignals SE. Hierdurch wird der Transistor Q25 in der
internen Spannungsabsenkungsschaltung 1b (siehe Fig. 37) ein
geschaltet, so daß die Stromtreiberwirkung der internen Span
nungsabsenkungsschaltung 1b erhöht und die interne Versor
gungsspannung IVcc 2 konstant gehalten wird.
Wie in Fig. 39 gezeigt, ist ein Zeilensetz-Systemstrom ein
Strom, der durch die Aktivierung jeder Schaltung während des
Zeitraums zwischen der Eingabe eines Adreßsignals und dem
Zeitpunkt des Potentialanstiegs auf der Wortleitung erzeugt
wird. Ein Leseverstärkersystemstrom ist ein Strom, der durch
die Aktivierung des CMOS-Leseverstärkers SA erzeugt wird. Ein
Spaltensystemstrom ist ein Strom, der durch die Aktivierung
jeder Schaltung während des Zeitraums zwischen dem Aktivie
rungszeitpunkt des CMOS-Leseverstärkers SA und dem Zeitpunkt
der Datenausgabe erzeugt wird. Ein Zeilensystem Reset-Strom
ist ein Strom, der bei Ansteigen des Zeilenadreßpulssi
gnals/RAS erzeugt wird.
Das Steuersignal Φ1 für die interne Spannungsabsenkungsschal
tung 1a ist auf logisch niedrigem Pegel während der aktiven
Periode. Das Steuersignal Φ2 für die interne Spannungsabsen
kungsschaltung 1b befindet sich auf logisch niedrigem Pegel
nur für eine bestimmte Periode nach der Aktivierung des CMOS-
Leseverstärkers SA. Dies liegt daran, daß der Leseverstärker
systemstrom nur beim Laden/Entladen von Bitleitungen fließt,
das heißt beim Aktivieren des Leseverstärkers.
Die Fig. 40 zeigt ein Blockdiagramm mit einer herkömmlichen
internen Spannungsabsenkungsschaltung mit Hilfe einer Pegel
schiebeschaltung (level shift circuit). Eine Pegelschiebes
chaltung 90 verschiebt den Pegel einer internen Versorgungs
spannung IVcc, die aus der Treiberschaltung 30 ausgegeben
wird, von 4 V auf 2,4 V und legt die im Pegel verschobene Span
nung an eine Differenzverstärkerschaltung 20 an, um die Emp
findlichkeit der Schaltung 20 zu erhöhen. In dem Fall wird
eine Referenzspannung VR1, die von der Referenzspannungsgene
ratorschaltung 10 erzeugt wird, ebenfalls auf 2,4 V gesetzt.
Die Fig. 41 zeigt den Detailaufbau der Differenzverstärker
schaltung 20, der Treiberschaltung 30 und der Pegelschiebes
chaltung 90. Die Differenzverstärkerschaltung 20 wird aus ei
ner Stromspiegelschaltung mit P-Kanal-MOS-Transistoren Q27 und
Q28 sowie N-Kanal-MOS-Transistoren Q29 und Q30 gebildet. Ein
Steuersignal Φi oder eine Versorgungsspannung Vcc wird an das
Gate des N-Kanal-MOS-Transistors Q31 angelegt. Die Differenz
verstärkerschaltung 20 vergleicht eine Spannung auf einem Kno
ten N6 mit der Referenzspannung VR1, um den Transistor Q35 der
Treiberschaltung 30 ein- bzw. auszuschalten. Durch die Charak
teristiken der Transistoren Q29 und Q30 wird die Empfindlich
keit der Differenzverstärkerschaltung 20 höher, wenn ein an
die Transistoren Q29 und Q30 anzulegender Spannungspegel nied
riger wird. Folglich wird eine interne Versorgungsspannung
IVcc, die am Knoten N4 bereitsteht, auf 2,4 V durch die Pegel
schiebeschaltung 90 verschoben und dann an den Knoten N6 ange
legt.
Die Pegelverschiebeschaltung 90 ist eine Widerstandsteiler
schaltung mit P-Kanal-MOS-Transistoren Q90 und Q91, wie in
Fig. 41 gezeigt, oder eine Widerstandsteilerschaltung mit den
Widerständen R1 und R2, wie in Fig. 42 gezeigt.
Der Betrieb der Schaltung nach Fig. 41 wird nachfolgend be
schrieben. Wenn die interne Versorgungsspannung IVcc gleich
oder niedriger als 4 V wird, dann wird ein Ausgabesignal der
Pegelschiebeschaltung 90 gleich oder niedriger als 2,4 V. Da zu
diesem Zeitpunkt eine Spannung am Knoten N6 niedriger als die
Referenzspannung VR1 ist, erreicht ein Ausgabesignal eines
Knotens N5 in der Differenzverstärkerschaltung 20 logisch
niedrigen Pegel. Folglich wird der Transistor Q35 der Treiber
schaltung 30 eingeschaltet, so daß die externe Versorgungs
spannung Vcc an den Knoten N4 angelegt wird.
Wenn die interne Versorgungsspannung IVcc gleich oder höher
als 4 V wird, wird der Ausgang der Pegelschiebeschaltung 90
gleich oder höher als 2,4 V. Da die Spannung am Knoten N6 höher
als die Referenzspannung VR1 wird, erreicht daher der Ausgang
des Knotens N5 in der Differenzverstärkerschaltung 20 logisch
hohen Pegel. Folglich wird der Transistor Q35 der Treiber
schaltung 30 ausgeschaltet, so daß keine externe Versorgungs
spannung Vcc an den Knoten N4 angelegt wird.
Dadurch wird, wenn
die externe Versorgungsspannung Vcc gleich oder niedriger als
4 V ist, die interne Versorgungsspannung IVcc gleich
der externen Versorgungsspannung Vcc. Wenn die externe Versor
gungsspannung Vcc gleich oder höher als 4 V wird, dann wird die
interne Versorgungsspannung IVcc konstant auf 4 V gehalten. Da die Pegel
schiebeschaltung 90 eine Widerstandsteilerschaltung ist, be
wirkt das Einschalten des Transistors Q35 der Treiberschaltung
30 das Fließen eines Durchgangsstroms von einem Spannungsver
sorgungsanschluß P1 zu einem Erdanschluß.
Die Fig. 43 zeigt ein Schaltbild mit einem weiteren Beispiel
einer herkömmlichen internen Spannungsabsenkungsschaltung. Ein
MOS-DRAM mit dieser internen Spannungsabsenkungsschaltung wird
in IEEE JSSCC, Vol. 23, Nr. 5, Seiten 1128-1132, Oktober 1988,
beschrieben.
Eine Spannungserzeugerschaltung 10a erzeugt eine Referenzspan
nung V1, und eine Spannungserzeugerschaltung 10b erzeugt eine
Referenzspannung V2. Eine Referenzspannungserzeugerschaltung
10c empfängt die Referenzspannungen V1 und V2 zum Erzeugen ei
ner Referenzspannung VL. Die Referenzspannungen V1, V2 und VL
haben die in Fig. 45 gezeigten Charakteristika.
Entsprechend der in Fig. 41 gezeigten Differenzverstärkerschaltung 20
und Treiberschaltung 30 vergleichen eine Differenzverstär
kerschaltung 20 und eine Treiberschaltung 30 eine interne Ver
sorgungsspannung IVcc mit der Referenzspannung VL, um eine
konstante interne Versorgungsspannung IVcc über eine Rückkopp
lungsschleife bereitzustellen. Wie in Fig. 43 gezeigt, geben
die Bezugszeichen J1 und J2 Stromquellen an.
Die Fig. 44 zeigt ein Beispiel des Aufbaus der Referenzspan
nungserzeugerschaltung 10c. Die Referenzspannungserzeuger
schaltung 10c umfaßt zwei Stromspiegelverstärker 11 und 12 so
wie eine Ausgabestufe 13. Der Stromspiegelverstärker 11 umfaßt
P-Kanal-MOS-Transistoren Q61 und Q62, N-Kanal-MOS-Transistoren
Q63 und Q64 sowie eine Stromquelle J3. Der Stromspiegelver
stärker 12 umfaßt P-Kanal-MOS-Transistoren Q65 und Q66, N-Ka
nal-MOS-Transistoren Q67 und Q68 sowie eine Stromquelle J4.
Die Ausgabestufe 13 umfaßt P-Kanal-MOS-Transistoren Q69 und
Q70 sowie Widerstände R3 und R4.
Der Stromspiegelverstärker 11 vergleicht die Spannung auf ei
nem Knoten N7 in der Ausgabestufe 13 mit einer Referenzspan
nung V1, zum Steuern des Transistors Q69. Der Stromspiegel
verstärker 12 vergleicht die Spannung am Knoten N7 in der Aus
gabestufe 13 mit der Referenzspannung V1, zum Steuern des
Transistors Q70. Eine Referenzspannung VL wird an einem Knoten
N8 in der Ausgabestufe 13 erzeugt.
Die Fig. 46 zeigt die Abhängigkeit der Referenzspannung VL
und der internen Versorgungsspannung IVcc von einer externen
Versorgungsspannung. Die interne Versorgungsspannung IVcc
steigt linear an, bis die externe Versorgungsspannung Vcc 4 V
erreicht. Die interne Versorgungsspannung IVcc wird konstant
zu 4 V im Bereich der externen Versorgungsspannung Vcc von 4 V
bis 7 V. Die interne Versorgungsspannung IVcc steigt linear an,
wenn die externe Versorgungsspannung Vcc gleich oder höher als
7V wird.
Für einen Einbrenntest ("burn-in test") (ein beschleunigter
Spannungsanlegetest) einer Halbleitervorrichtung mit interner
Spannungsabsenkungsschaltung mit den obigen Eigenschaften
sollte eine externe Versorgungsspannung in den Bereichen ange
legt werden, wo die interne Versorgungsspannung IVcc auf li
neare Weise in Abhängigkeit von der externen Versorgungsspan
nung Vcc schwankt, um eine hohe Spannung an Schaltelemente der
internen Schaltung anzulegen.
Diese beschriebene herkömmliche Schaltung hat folgende Nachteile:
- (1) Der verbrauchte Dauerstrom (ein aufgenommener Gleichstrom) existiert in internen Schaltungen wie dem DRAM 3 und der Peri pherieschaltung, wie in Fig. 35 gezeigt. Wenn die interne Ver sorgungsspannung durch solch einen Strom herabgesetzt wird, wird der Transistor Q35 in der Treiberschaltung 30 eingeschal tet (siehe in Fig. 35). Folglich kehrt die interne Versor gungsspannung auf 4 V zurück, wie in Fig. 47 gezeigt. Zu diesem Zeitpunkt fließt ein Durchgangsstrom vom Spannungsversorgungs anschluß P1 zum Erdanschluß P2 in der Differenzverstärker schaltung 20, so daß eine Spitze im Stromverbrauch erscheint. Dies führt zu einem Anstieg des Stromverbrauchs. Außerdem ist bei der internen Spannungsabsenkungsschaltung nach Fig. 37 der Transistor Q25 während der Standby-Periode abgeschaltet, wie in Fig. 39 gezeigt, so daß ein Strom nur vom Transistor Q26 bereitgestellt wird. Auf diese Weise wird die Stromtreiberfä higkeit der Differenzverstärkerschaltung 20 herabgesetzt, wo durch der Stromverbrauch vermindert wird. Es existiert aller dings der Nachteil, daß der Stromverbrauch nicht in hohem Maße vermindert werden kann.
- (2) Da Strom während der aktiven Periode verbraucht wird, muß bei der in Fig. 35 gezeigten Peripherieschaltung 4 die Strom treiberfähigkeit des Differenzverstärkers 20 in der internen Spannungsabsenkungsschaltung 1a durch Setzen des Steuersignals Φ1 auf logisch hohen Pegel während der aktiven Periode erhöht werden, wie in Fig. 39 gezeigt. Daher steigt der Stromver brauch im Differenzverstärker 20 mit dem Anstieg der Dauer der aktiven Periode.
Bei der in Fig. 35 gezeigten internen Spannungsabsenkungs
schaltung 1b befindet sich das Steuersignal Φ2 auf logisch
niedrigem Pegel nur während einer festgelegten Periode nach
der Aktivierung des Leseverstärkers in der aktiven Periode,
wodurch die Stromtreiberwirkung der Schaltung 1b erhöht wird,
wie in Fig. 39 gezeigt. Danach wird Strom nur von dem in Fig. 37
gezeigten Transistor Q26 bereitgestellt. Beim geschilderten
Fall besteht der Nachteil, daß der Stromverbrauch nicht in ho
hem Maße reduziert werden kann, wie oben beschrieben.
- (3) Da der Stromverbrauch zwischen dem DRAM 3 und der Periphe rieschaltung 4 während der gleichen aktiven Periode unter schiedlich ist, muß der Stromverbrauch für jede interne Schal tung vermindert werden.
- (4) Die Stromversorgungsfähigkeit der internen Spannungsabsen kungsschaltung 1b nach Fig. 35 wird nur für eine festgelegte Periode nach der Aktivierung des Leseverstärkers während der aktiven Periode erhöht, wie in Fig. 39 gezeigt. Der Stromver brauch während eines Refresh-Zyklus ist allerdings unter schiedlich von dem eines Normalzyklus. Insbesondere wenn die Zeitdauer des Refresh-Zyklus ansteigt, steigt der Betriebs strom in der internen Spannungsabsenkungsschaltung 1b an, was zu einem Anstieg des Stromflusses während des Refresh führt.
- (5) Für den Burn-in-Test bei einer Halbleitervorrichtung mit interner Spannungsabsenkungsschaltung nach Fig. 43 ist es nö tig, eine deutlich höhere externe Versorgungsspannung als 7 V an den externen Spannungsversorgungsanschluß anzu legen, um eine genügend hohe Spannung an die interne Schaltung zu be kommen. In diesem Fall wird die hohe externe Versorgungsspan nung auch an diejenigen internen Schaltungen, wie den Ausgabepuffer 5, angelegt, die von sich aus direkt durch die externe Versorgungsspannung Vcc betrieben werden. Dies führt zu der Gefahr, daß Schaltungselemente der internen Schaltung zerstört werden können.
- (6) Bei der in den Fig. 40-42 gezeigten internen Spannungsab senkungsschaltung fließt ein Durchgangsstrom durch die Pegel schiebeschaltung 90, wie oben beschrieben. Um einen Anstieg des Stromverbrauchs zu vermeiden, ist es nötig, den durch die Pegelschiebeschaltung 90 fließenden Strom zu vermindern. Dies führt zu einer langsameren Reaktion des Ausgangs der Pegel schiebeschaltung 90 auf die Schwankung der internen Versor gungsspannung IVcc.
Da außerdem die Schwankungsbreite der internen Versorgungs
spannung IVcc durch Widerstände geteilt wurde, wird eine Ein
gabeamplitude der Differenzverstärkerschaltung 20 kleiner.
Dies führt zu dem Problem, daß die interne Spannungsabsen
kungsschaltung keine sehr hohe Empfindlichkeit erreicht, trotz
des Umstandes, daß die Schaltung die Pegelschiebeschaltung 90
aufweist.
- (7) Eine Halbleitervorrichtung ohne interne Spannungsabsen kungsschaltung weist demgegenüber nur eine einzelne Versorgungsspannungs leitung L1 auf einem Chip ch auf, wie in Fig. 48 gezeigt. Diese Versorgungsspannungsleitung L1 ist mit einem Versor gungsspannungsanschluß pVcc verbunden, der die externe Versor gungsspannung Vcc empfängt. Hierdurch wird es möglich, das Po tential auf der Spannungsversorgungsleitung L1 von dem Span nungsversorgungsanschluß pVcc zu überwachen. Ein Bezugszeichen CIR beschreibt eine Schaltungsfläche.
Eine Halbleitervorrichtung mit einer internen Spannungsabsen
kungsschaltung weist allerdings eine externe Versorgungslei
tung und eine interne Versorgungsleitung auf einem Chip auf.
Die externe Versorgungsleitung ist mit einem Spannungsversor
gungsanschluß verbunden, während die interne Spannungsversor
gungsleitung nicht mit dem Anschluß verbunden ist. Daher muß
ein direktes Ankoppeln an die interne Spannungsversorgungslei
tung erfolgen, um das Potential auf der internen Spannungsver
sorgungsleitung überwachen zu können. Es besteht daher der
Nachteil, daß das Potential auf der internen Spannungsversor
gungsleitung bei einer vergossenen Halbleitervorrichtung nicht
überwacht werden kann.
Aus der EP 0 063 483 A2 ist eine Halbleitervorrichtung nach dem
Oberbegriff des Patentanspruchs 1 bekannt. Eine interne
Spannungsversorgungserzeugungsschaltung empfängt dabei eine extern an
gelegte Versorgungsspannung und erzeugt die interne abgesenkte
Versorgungsspannung sowie eine weitere abgesenkte Spannung.
Aus der GB 2 232 829 ist ein interner Spannungskonverter für eine
integrierte Halbleiterschaltung bekannt, der zwei Spannungsanlege
einheiten aufweist, wobei in Abhängigkeit von einer anliegenden
Last die Einheiten aktiviert werden.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, den Stromverbrauch ei
ner internen Spannungsabsenkungsschaltung zu vermindern, wobei
gleichzeitig die interne Versorgungsspannung stabil an interne Schal
tungen angelegt wird.
Dabei soll ein effizienter Beschleunigungstest (Alterungstest, burn-in) für eine
Halbleitervorrichtung mit interner Spannungsabsenkungsschal
tung durchgeführt werden können, ohne daß Schaltungselemente
zerstört werden, und
das Potential auf einer internen Versorgungs
spannungsleitung soll überwacht werden können, ohne daß direkt auf
die interne Versorgungsspannungsleitung zugegriffen wird.
Die Aufgabe wird durch die Halbleitervorrichtung nach
dem Patentanspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen
sind in den Unteransprüchen beschrieben.
Die interne Versorgungsspannung wird dabei durch die zweite Span
nungsanlegeschaltung an die interne Schaltung während der
Standby-Periode angelegt. Hierdurch wird es möglich, einen
ständig durch die interne Schaltung fließenden Strom zu kom
pensieren. Während der aktiven Periode wird die interne Ver
sorgungsspannung durch die erste und die zweite Spannungsanle
geschaltung an die interne Schaltung angelegt. Hierdurch wird
es möglich, einen durch die interne Schaltung fließenden Be
triebsstrom zu kompensieren. Wenn ferner der Betrieb der in
ternen Schaltung während der aktiven Periode stabil wird, wird
die erste Spannungsanlegeschaltung deaktiviert. Daher kann
selbst während einer längeren aktiven Periode der Stromver
brauch hinreichend vermindert werden.
Dies führt zu einer Halbleitervorrichtung mit höherer Leistung
und niedrigerem Stromverbrauch.
Eine Halbleitervorrichtung entsprechend einer weiteren
Ausführungsform kann eine Mehrzahl von internen Spannungsab
senkungsschaltungen zum Absenken einer externen Versorgungs
spannung auf vorbestimmte interne Versorgungsspannungen, eine
Mehrzahl von internen Schaltungen, die jeweils der Mehrzahl
von internen Spannungsabsenkungsschaltungen entsprechen, sowie
eine Steuerschaltung zum Steuern der Mehrzahl von internen
Spannungsabsenkungsschaltungen umfassen. Jede der internen Schaltungen
wird mit ihrer entsprechenden internen Versorgungsspannung be
trieben, um einen Betrieb mit einer aktiven Periode und einer
Standby-Periode durchzuführen.
Jede der internen Spannungsabsenkungsschaltungen umfaßt wiederum eine
erste Spannungsanlegeschaltung und eine zweite Spannungsanle
geschaltung. Die erste Spannungsanlegeschaltung umfaßt eine
Feldeffektvorrichtung eines ersten Leitungstyps und reagiert
auf eine erste Referenzspannung, um in einer Rückkopplung die
Feldeffektvorrichtung vom ersten Leitungstyp zu steuern, um so
eine interne Versorgungsspannung an die interne Schaltung an
zulegen. Die zweite Spannungsanlegeschaltung umfaßt eine Feld
effektvorrichtung eines zweiten Leitungstyps, die auf eine
zweite Referenzspannung reagiert, zum Ausgeben einer internen
Versorgungsspannung an die interne Schaltung. Die Mehrzahl von
internen Schaltungen führen verschiedene Operationen durch.
Die Steuerschaltung aktiviert die erste Spannungsanlegeschal
tung jeder internen Spannungsabsenkungsschaltung während der
aktiven Periode, und deaktiviert die erste Spannungsanlege
schaltung jeder internen Spannungsabsenkungsschaltung während
der Standby-Periode. Ferner deaktiviert die Steuerschaltung
die entsprechende erste Spannungsanlegeschaltung, wenn der Be
trieb während der aktiven Periode in einem stabilen Zustand
ist.
Wenn der Betrieb jeder internen Schaltung während der aktiven
Periode in einem stabilen Zustand ist, wird deren entspre
chende erste Spannungsanlegeschaltung deaktiviert. Daher wird
der Stromverbrauch minimiert, wenn entsprechende interne Ver
sorgungsspannungen an die Mehrzahl von internen Schaltungen,
die verschiedene Operationen durchführen, angelegt werden.
Dies führt zu einer Halbleitervorrichtung mit größerer Lei
stungsfähigkeit und niedrigerem Stromverbrauch.
Eine Halbleitervorrichtung entsprechend einer weiteren
Ausführungsform umfaßt eine interne Spannungsabsenkungsschal
tung zum Absenken einer externen Versorgungsspannung auf eine
vorbestimmte interne Versorgungsspannung, eine von einer in
ternen Versorgungsspannung betriebene dynamische Speichervor
richtung sowie eine Steuerschaltung zum Aktivieren der inter
nen Spannungsabsenkungsschaltung nur für einen Mindestzeit
raum, der für den Refresh der Speichervorrichtung während des
Refresh-Betriebs benötigt wird.
Die Speichervorrichtung umfaßt einen Speicher mit einer Mehr
zahl von Speicherzellen zum Speichern von Daten darin, eine
Auswahlschaltung zum Auswählen einer Speicherzelle für das
Wiederauffrischen (refresh) sowie einen Leseverstärker zum
Verstärken der aus der ausgewählten Speicherzelle gelesenen
Daten. Die interne Spannungsabsenkungsschaltung legt eine in
terne Versorgungsspannung an den Leseverstärker an. Vorzugs
weise aktiviert die Steuerschaltung die interne Spannungsab
senkungsschaltung nur für einen kurzen Zeitraum, der benötigt
wird, um die ausgewählte Speicherzelle in der Refresh-Opera
tion wieder aufzufrischen.
Dabei umfaßt die Steuerschaltung eine erste Signalgene
ratorschaltung, die auf den Anfang des Refresh der ausgewähl
ten Speicherzelle zum Erzeugen eines ersten Signals reagiert,
eine zweite Signalgeneratorschaltung, die auf die Vollendung
des Refresh der ausgewählten Speicherzelle zum Erzeugen eines
zweiten Signals reagiert, sowie eine Steuersignalgenerator
schaltung zum Erzeugen eines Steuersignals, das als Reaktion
auf das erste Signal aktiviert und als Reaktion auf das zweite
Signal deaktiviert wird.
In der Refresh-Periode der dynamischen Speichervorrichtung
wird die interne Spannungsabsenkungsschaltung nur für einen
geringen Zeitraum, der für den Refresh benötigt wird, akti
viert, während sie nach Beendigung der Wiederauffrischungsope
ration deaktiviert wird. Folglich fließt kein unnötiger Strom
während des Refresh, unabhängig von der Länge eines Refresh-
Zyklus. Hierdurch wird eine Verminderung im Stromfluß während
der Refresh-Zeit ermöglicht. Eine Halbleitervorrichtung mit
höherer Leistung und niedrigerem Stromverbrauch wird daher er
halten.
Eine Halbleitervorrichtung entsprechend einer weiteren
Ausführungsform umfaßt einen Spannungsversorgungsanschluß zum
Empfangen einer externen Versorgungsspannung, eine interne
Spannungsabsenkungsschaltung zum Absenken der externen Versor
gungsspannung auf eine vorbestimmte interne Versorgungsspan
nung, eine von einer internen Versorgungsspannung betriebene
interne Schaltung, einen zwischen dem Versorgungsspannungsan
schluß und der internen Schaltung vorgesehenen Schalter sowie
eine Steuerschaltung.
Die Steuerschaltung aktiviert die interne Spannungsabsenkungs
schaltung und schaltet den Schalter in einem Normalbetrieb ab,
während es für einen Test die interne Spannungsabsenkungs
schaltung deaktiviert und den Schalter einschaltet.
Die Halbleitervorrichtung empfängt externe Steuersignale zum
Steuern der internen Schaltung. Vorzugsweise führt die Steuer
schaltung eine Steuerung für einen Test durch, wenn der Takt
des Steuersignals ein vorbestimmter Takt unterschiedlich vom
Normalbetrieb ist.
Die Halbleitervorrichtung umfaßt ferner eine Schaltung zum
Empfangen eines externen Steuersignals zum Steuern der inter
nen Schaltung sowie einen externen Anschluß zum Empfangen ei
nes vorbestimmten Signals oder eines vorbestimmten Potentials.
Die Steuerschaltung führt vorzugsweise die Steuerung für einen
Test durch, wenn der Zeitpunkt des Steuersignals ein vorbe
stimmter Zeitpunkt verschieden von dem im Normalbetrieb ist,
und ein Spannungspegel auf dem externen Anschluß einen vorbe
stimmten Spannungspegel aufweist, der unterschiedlich von dem
des Normalbetriebs ist.
Während eines Tests wird die externe Versorgungsspannung direkt
an die interne Schaltung angelegt. Hierdurch wird es möglich,
eine für den Test notwendige hohe Spannung an die interne
Schaltung anzulegen, ohne extern eine Überspannung anzulegen.
Daher kann ein effizienter Beschleunigungstest (Acceleration-
Test) durchgeführt werden, ohne daß Schaltungselemente zer
stört werden.
Durch das Verfahren zum Überwachen eines Potentials auf einer inter
nen Spannungsversorgungsleitung einer vorstehend beschriebenen Halbleiter
vorrichtung wird es möglich, das Potential auf der internen
Spannungsversorgungsleitung ohne direkten Zugriff auf die in
terne Spannungsversorgungsleitung zu überwachen. Insbesondere
erlaubt dies die Überwachung des Potentials auf der internen
Spannungsversorgungsleitung bei einer vergossenen Halbleiter
vorrichtung.
Es folgt die Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der
Fig. (1-34), in Hinblick auf herkömmliche Halbleitervor
richtungen (35-48).
Von den Figuren zeigt
Fig. 1 ein Blockdiagramm mit dem Aufbau einer Halbleitervor
richtung entsprechend einer ersten Ausführungsform der
Erfindung;
Fig. 2 ein Schaltbild mit dem Aufbau eines Teils einer zugehörigen in
ternen Spannungsabsenkungsschaltung;
Fig. 3 ein Schaltbild mit einem weiteren Beispiel der internen
Spannungsabsenkungsschaltung;
Fig. 4 ein Schaltbild mit einem weiteren Beispiel der inter
nen Spannungsabsenkungsschaltung;
Fig. 5 ein Blockdiagramm zum Verdeutlichen des Betriebs ei
ner Steuersignalgeneratorschaltung;
Fig. 6 ein Signalpulsdiagramm zum Verdeutlichen eines Steu
erbetriebs in einem Normalzyklus in einem normalen
Modus;
Fig. 7 ein Signalpulsdiagramm zum Verdeutlichen eines Steu
erbetriebs in einem CAS- vor RAS-Refresh-Zyklus in
einem Normalmodus;
Fig. 8 ein Signalpulsdiagramm zum Verdeutlichen eines weite
ren Beispiels der Steueroperation im CAS- vor RAS-Re
fresh-Zyklus im Normalmodus;
Fig. 9 ein Blockdiagramm zum Verdeutlichen einer weiteren
Steuerungsoperation der Steuersignalgeneratorschal
tung;
Fig. 10 ein Signalpulsdiagramm zum Verdeutlichen des Zeitverlaufes
eines Steuersignals;
Fig. 11 ein Blockdiagramm zum Verdeutlichen einer weiteren
Steueroperation der Steuersignalgeneratorschaltung;
Fig. 12 ein Signalpulsdiagramm zum Verdeutlichen der Zeitge
bung eines Steuersignals;
Fig. 13 ein Schaltbild mit dem Aufbau einer Burn-in-Modus-
Setzschaltung;
Fig. 14 ein Schaltbild mit einem weiteren Beispiel der Burn-
in-Modus-Setzschaltung;
Fig. 15 ein Diagramm mit dem Verlauf einer internen
Versorgungsspannung;
Fig. 16 ein Blockdiagramm mit einem Beispiel des Aufbaus ei
ner Burn-in-Modus-Setzsignalgeneratorschaltung;
Fig. 17 ein Signalpulsdiagramm zum Verdeutlichen eines Burn-
in-Modus-Setzzyklus;
Fig. 18 ein Signalpulsdiagramm zum Verdeutlichen eines Burn-
in-Modus-Reset-Zyklus;
Fig. 19 ein Blockdiagramm mit einem weiteren Beispiel des
Aufbaus der Burn-in-Modus-Signalgeneratorschaltung;
Fig. 20 ein Signalpulsdiagramm zum Verdeutlichen eines Burn-
in-Modus-Setzzyklus;
Fig. 21 ein Signalpulsdiagramm zum Verdeutlichen eines Burn-
in-Modus-Reset-Zyklus;
Fig. 22 ein Blockdiagramm mit dem Aufbau einer Halbleitervor
richtung entsprechend einer zweiten Ausführungsform der
Erfindung;
Fig. 23 ein Blockdiagramm zum Verdeutlichen des Betriebs ei
ner Aktivierungssignalgeneratorschaltung;
Fig. 24 ein Signalpulsdiagramm zum Verdeutlichen der Zeitge
bung eines Aktivierungssignals in einem Normalzyklus
in einem Normalmodus;
Fig. 25 ein Signalpulsdiagramm zum Verdeutlichen der Zeitge
bung eines Aktivierungssignals in einem CAS- vor RAS-
Refresh-Zyklus in einem Normalmodus;
Fig. 26 ein Blockdiagramm mit einem anderen Beispiel einer
internen Spannungsabsenkungsschaltung;
Fig. 27 ein Schaltbild mit einer detaillierten Konfiguration
eines Teils der internen Spannungsabsenkungsschaltung
nach Fig. 26;
Fig. 28 ein Schemadiagramm mit dem Aufbau auf einem Chip ei
ner Halbleitervorrichtung mit einer internen Versor
gungsspannungsleitung;
Fig. 29 ein Schaltbild mit einem ersten Beispiel einer Über
wachungsschaltung;
Fig. 30 ein Schaltbild mit einem zweiten Beispiel der Überwa
chungsschaltung;
Fig. 31 ein Schaltbild mit einem dritten Beispiel der Überwa
chungsschaltung;
Fig. 32 ein Schaltbild mit einem vierten Beispiel der Überwa
chungsschaltung;
Fig. 33 ein Schaltbild mit einem fünften Beispiel der Überwa
chungsschaltung;
Fig. 34 ein Schaltbild mit einem sechsten Beispiel der Über
wachungsschaltung;
Fig. 35 ein Blockschaltbild mit dem Aufbau eines herkömmli
chen MOS-DRAM mit interner Spannungsabsenkungsschal
tung;
Fig. 36 ein Blockschaltbild mit einem Beispiel des Aufbaus
der zugehörigen internen Spannungsabsenkungsschaltung;
Fig. 37 ein Schaltbild mit einem detaillierten Aufbau der in
ternen Spannungsabsenkungsschaltung;
Fig. 38 ein Schaltbild mit Spannungscharakteristika der in
ternen Spannungsabsenkungsschaltung;
Fig. 39 ein Signalpulsdiagramm zum Verdeutlichen des Betriebs
der internen Spannungsabsenkungsschaltung nach Fig. 35;
Fig. 40 ein Blockdiagramm mit einem weiteren Beispiel der in
ternen Spannungsabsenkungsschaltung;
Fig. 41 ein Schaltbild mit einem detaillierten Aufbau eines
Teils der internen Spannungsabsenkungsschaltung nach
Fig. 40;
Fig. 42 ein Schaltbild mit einem weiteren Beispiel des Auf
baus der internen Spannungsabsenkungsschaltung;
Fig. 43 ein Schaltbild mit dem Aufbau einer herkömmlichen in
ternen Spannungsabsenkungsschaltung für einen Burn-
in-Test;
Fig. 44 ein Schaltbild mit einem detaillierten Aufbau einer
Referenzspannungsgeneratorschaltung;
Fig. 45 ein Diagramm zum Verdeutlichen der Abhängigkeit einer
Referenzspannung einer externen Versorgungsspannung
bei der internen Spannungsabsenkungsschaltung in Fig. 43;
Fig. 46 ein Diagramm mit den Charakteristika einer internen
Versorgungsspannung der internen Spannungsabsenkungs
schaltung nach Fig. 43;
Fig. 47 ein Diagramm zum Verdeutlichen der Nachteile der her
kömmlichen Spannungsabsenkungsschaltung; und
Fig. 48 ein Schemadiagramm mit der Struktur auf einem Chip
einer Halbleitervorrichtung ohne interne Spannungs
versorgungsleitung.
Die Fig. 1 zeigt ein Blockdiagramm mit dem Aufbau einer Halb
leitervorrichtung entsprechend einer ersten Ausführungsform.
Eine Halbleitervorrichtung CH umfaßt eine interne Spannungsab
senkungsschaltung 1, einen DRAM 3, eine Peripherieschaltung 4
und einen Ausgabepuffer 5, wobei der DRAM 3 und die Peripherieschaltung
4 die interne Schaltung bilden. Die interne Spannungsabsenkungs
schaltung 1 senkt eine externe Versorgungsspannung Vcc auf
eine interne Versorgungsspannung IVcc und legt die abgesenkte
(konvertierte) Spannung sowohl an den DRAM 3 als auch die Pe
ripherieschaltung 4 an. Der Ausgabepuffer 5 wird durch die ex
terne Versorgungsspannung Vcc betrieben.
Wie die herkömmliche interne Spannungsabsenkungsschaltung um
faßt die interne Spannungsabsenkungsschaltung 1 einen Refe
renzspannungsgeneratorkreis bzw. Referenzspannungsgeneratorschaltung 10 zum Erzeugen einer
Referenzspannung VR1, eine Differenzverstärkerschaltung 20 sowie eine
Treiberschaltung 30, die gemeinsam die erste Spannungsanlegeschaltung bilden, und umfaßt ferner einen n-Kanaltreiber
kreis 40 sowie eine Referenzspannungsgeneratorschaltung 45, die
gemeinsam die zweite Spannungsanlegeschaltung bilden.
Die Referenzspannungsgeneratorschaltung 45 erzeugt eine Refe
renzspannung VR2 und legt diese an die n-Kanaltreiberschaltung
40 an. Die n-Kanaltreiberschaltung 40 empfängt die Referenz
spannung VR2, um, wie nachfolgend beschrieben, die interne
Versorgerspannung IVcc zu erzeugen.
Eine Burn-in-Modus-Setzschaltung (Schalter) 50 ist zwischen einer exter
nen Spannungsversorgungsleitung L1, die mit einer externen
Versorgungsspannung Vcc beaufschlagt ist, und einer internen
Spannungsversorgungsleitung L2, die mit einer internen Versor
gungsspannung IVcc beaufschlagt ist, verbunden. Die Burn-in-
Modus-Setzschaltung 50 wird durch ein Burn-in-Modus-Setzsignal
BVD gesteuert, das von einer als Burn-in-Modus-Setzsignalerzeuger
kreis 70 ausgebildeten Steuerschaltung erzeugt wurde.
Die Differenzverstärkerschaltung 20 wird durch ein Aktivie
rungssignal ACT gesteuert, das von einem Aktivierungssignalge
neratorkreis 80 erzeugt wurde. Die Aktivierungssignalgenera
torschaltung 80 erzeugt das Aktivierungssignal ACT als Reak
tion auf ein Steuersignal ΦX, das von einer als Steuersignalgenerator
kreis 60 ausgebildeten Steuerschaltung erzeugt wurde, und auf das Burn-in-Modus-Setzsignal
BVD, das von der Burn-in-Modus-Setzsignalgeneratorschaltung 70
erzeugt wurde.
Während eines Normalmodus (normaler Betrieb) wird die Burn-in-
Modus-Setzschaltung 50 durch das Burn-in-Modus-Setzsignal BVD
deaktiviert. Zu dem Zeitpunkt liegt das Steuersignal ΦX der
Steuersignalgeneratorschaltung 60 als Aktivierungssignal ACT
am Differenzverstärkerkreis 20 an. Daher wird die Differenz
verstärkerschaltung 20 vom Steuersignal ΦX gesteuert. Norma
lerweise stellt die n-Kanaltreiberschaltung 40 die interne
Versorgungsspannung IVcc bereit. Während des Betriebs des DRAM
3 und der Peripherieschaltung 4 ist die Differenzverstärker
schaltung 20 aktiviert, so daß eine unzureichende Stromliefer
fähigkeit der n-Kanaltreiberschaltung 40 durch die Treiber
schaltung 30 kompensiert wird.
Während eines Burn-in-Modus (Burn-in-Test) wird die Burn-in-
Modus-Setzschaltung 50 aktiviert und die Differenzverstärker
schaltung 20 deaktiviert. Dies bewirkt, daß die externe Span
nung Vcc der externen Spannungsversorgungsleitung L1 direkt an
die interne Spannungsversorgungsleitung L2 angelegt wird.
Der Aufbau der Referenzspannungsgeneratorschaltung 10 und der
Treiberschaltung 30 ist vergleichbar mit dem in Fig. 37 gezeig
ten. Der Aufbau der Differenzverstärkerschaltung 20 ist vergleich
bar mit dem in Fig. 41 gezeigten. In diesem Fall wird ein
Aktivierungssignal ACT an ein Gate eines Transistors Q31 ange
legt.
Der in Fig. 37 gezeigte Aufbau kann als Schaltungskon
figuration der Differenzverstärkerschaltung 20 benutzt werden.
Der Transistor Q26 ist allerdings nicht vorgesehen, und der
Logikpegel des Steuersignals ΦX ist umgekehrt.
Die Fig. 2 zeigt im Detail den Aufbau eines Teils der internen
Spannungsabsenkungsschaltung 1. Ein n-Kanaltreiberkreis 40 umfaßt
einen als N-Kanal-MOS-Transistor Q40 ausgebildeten zweiten Feldeffekttransistor. Der Transistor Q40 ist
ein Source-Folger und ist parallel zu einem Transistor
Q35 (dem ersten Feldeffekttransistor) der Treiberschaltung 30 verbunden. An das Gate des
Transistors Q40 ist die Referenzspannung VR2 angelegt. Die Re
ferenzspannung VR2 wird wie in der folgenden Gleichung be
stimmt:
VR2 = IVcc + Vth,
wobei Vth die Schwellenspannung des Transistors Q40 ist. Da die
Beziehung VR1 = IVcc erfüllt ist, wird die Referenzspannung
VR2 auf (4 + Vth)V gesetzt, wenn die Referenzspannung VR1 4 V
beträgt.
Da der Transistor Q40 im Sättigungsbereich arbeitet, kann er
stets eine konstante interne Versorgungsspannung IVcc bereit
stellen, obwohl seine Stromlieferfähigkeit geringer ist. Hier
durch wird es möglich, den Strom zu kompensieren, der perma
nent im DRAM 3 und in der Peripherieschaltung 4 verbraucht
wird. Während des Betriebs des DRAM 3 und der Peripherieschal
tung 4 wird der Differenzverstärker 20 aktiviert, so daß die
interne Versorgungsspannung IVcc durch sowohl die Treiberschal
tung 30 als auch die n-Kanaltreiberschaltung 40 bereitgestellt
wird.
Wie in Fig. 3 gezeigt, kann eine Pegelschiebeschaltung 90 vor
gesehen sein, um den Pegel der Ausgabespannung der Treiber
schaltung 30 zu verschieben und die im Pegel verschobene Aus
gabespannung an die Differenzverstärkerschaltung 20 anzulegen.
Außerdem kann, wie in Fig. 4 gezeigt, das Aktivierungssignal
ACT über einen Inverter 91 an die Pegelschiebeschaltung 90 an
gelegt sein. Wenn in diesem Fall das Aktivierungssignal ACP
logisch hohen Pegel erreicht, erreicht der Ausgang des Inver
ters 91 logisch niedrigen Pegel. Folglich wird die Pegelschie
beschaltung 90 aktiviert. Wenn andererseits das Aktivierungs
signal ACT logisch niedrigen Pegel erreicht, ist der Ausgang
des Inverters 91 auf logisch hohem Pegel. Daher wird die Pe
gelschiebeschaltung 90 deaktiviert.
Wie oben beschrieben wird die Pegelschiebeschaltung 90 eben
falls bei der Aktivierung des Differenzverstärkers 20 akti
viert, während die Pegelschiebeschaltung 90 bei der Deaktivie
rung des Differenzverstärkers 20 ebenfalls deaktiviert ist.
Daher kann der Stromverbrauch weiter vermindert werden, wenn
die Differenzverstärkerschaltung 20 und die Pegelschiebeschal
tung 90 in einem Standby-Zustand inaktiv werden.
Wie in Fig. 5 gezeigt, reagiert ein Refresh-Steuerkreis 61 auf
ein extern angelegtes Zeilenadreßpulssignal/RAS und ein extern
angelegtes Spaltenadreßpulssignal/CAS mit dem Anlegen eines
Steuersignals an eine Leseverstärkersteuerschaltung 62. Die
Leseverstärkersteuerschaltung 62 reagiert auf das angelegte
Steuersignal und erzeugt ein Leseverstärkeraktivierungssignal
SE. Die Steuersignalgeneratorschaltung 60 reagiert auf das
Zeilenadreßpulssignal/RAS, das Spaltenadreßpulssignal/CAS und
das Leseverstärkeraktivierungssignal SE und erzeugt ein Steu
ersignal ΦX.
Nachfolgend wird eine Beschreibung der Steuerungsoperation der
Steuersignalgeneratorschaltung 60 unter Bezug auf die Signal
pulsdiagramme in den Fig. 6-8 vorgenommen.
Der Betrieb in einem normalen Zyklus im Normalmodus
(Normalbetrieb) wird zuerst unter Bezug auf Fig. 6 beschrie
ben. Wenn das Zeilenadreßpulssignal/RAS logisch niedrigen Pe
gel erreicht und eine aktive Periode gestartet wird, steigt
das Steuersignal ΦX auf einen logisch hohen Pegel. Folglich
wird die Differenzverstärkerschaltung 20 aktiviert, so daß die
Treiberschaltung 30 die interne Versorgungsspannung IVcc an
den DRAM 3 und die Peripherieschaltung 4 anlegt. Hierdurch
wird es möglich, den Zeilensetzsystemstrom, den Lesever
stärkersystemstrom, den Spaltensystemstrom und den Zeilen-
Reset-Systemstrom zu kompensieren.
Wenn das Zeilenadreßpulssignal/RAS logisch hohen Pegel er
reicht und die aktive Periode beendet ist, fällt das Steuersi
gnal ΦX auf einen logisch niedrigen Pegel. Folglich wird die
Differenzverstärkerschaltung 20 deaktiviert, so daß die in
terne Versorgungsspannung IVcc nur durch die n-Kanal-Treiber
schaltung 40 angelegt wird. Während einer Standby-Periode ist
der Stromverbrauch des DRAM 3 und der Peripherieschaltung 4
klein, und daher kann die interne Versorgungsspannung IVcc
konstant gehalten werden.
Ein Betrieb in einem CAS- vor RAS-Refresh-Zyklus im Nor
malmodus wird nachfolgend unter Bezug auf Fig. 7 beschrieben.
Das Spaltensystem arbeitet nicht zum Zeitpunkt eines CAS- vor
RAS-Refresh. Daher kann, selbst wenn das Zeilenadreßpulssi
gnal/RAS logisch niedrigen Pegel erreicht, der Betrieb des
DRAM 3 und der Peripherieschaltung 4 zu dem Zeitpunkt beendet
werden, als der Refresh der Speicherzellen vollständig ist.
Wenn zu diesem Zeitpunkt DRAM 3 und Peripherieschaltung 4 zu
rückgesetzt werden, wird keine Stromspitze im DRAM 3 und in
der Peripherieschaltung 4 erzeugt, selbst wenn das Zei
lenadreßpulssignal/RAS danach auf logisch niedrigem Pegel
steht.
Folglich wird das Innere der Halbleitervorrichtung in einen
Standby-Zustand, wie in der Standby-Periode, versetzt. Das
Steuersignal ΦX erreicht daher logisch hohen Pegel nur während
des Zeitraums, in dem der Betrieb des DRAM 3 und der Periphe
rieschaltung 4 beendet wird, so daß der Differenzverstärker 20
aktiviert wird. In allen anderen Perioden außer dieser Peri
ode, selbst wenn das Zeilenadreßpulssignal/RAS auf logisch
niedrigem Pegel steht, wird die interne Versorgungsspannung
IVcc nur durch die n-Kanaltreiberschaltung 40 bereitgestellt.
Selbst wenn die Periode für das Zeilenadreßpulssignal/RAS auf
niedrigem Pegel im CAS- vor RAS-Refresh-Zyklus länger wird,
kann daher die im Differenzverstärkerkreis 20 verbrauchte Lei
stung deutlich reduziert werden, wenn nur der Betrieb von DRAM
3 und Peripherieschaltung 4 beendet ist.
Ein weiteres Beispiel des Betriebs im CAS- vor RAS-Refresh-Zy
klus im Normalmodus wird nachfolgend unter Bezug auf die Fig. 8
beschrieben. In dem Fall, daß DRAM 3 und Peripherieschaltung
4 nicht zum Zeitpunkt der Beendigung des Refresh sondern zum
Zeitpunkt des Ansteigens des Zahlenadreßpulssignals/RAS auf
hohen logischen Pegel zurückgesetzt werden, gilt das Zeitdia
gramm des Steuersignals ΦX, wie in Fig. 8 gezeigt. Das Steuer
signal ΦX erreicht logisch hohen Pegel nur zum Zeitpunkt einer
Refresh-Operation und zum Zeitpunkt einer Rücksetzoperation,
wobei es die Differenzverstärkerschaltung 20 aktiviert. In je
der anderen Periode wird die interne Versorgungsspannung IVcc
nur durch die n-Kanaltreiberschaltung 40 bereitgestellt. Folg
lich kann der Stromverbrauch deutlich reduziert werden, selbst
wenn die Periode, in der sich das Zeilenadreßpulssignal/RAS
auf logisch niedrigem Pegel befindet, lang ist.
Ein Betrieb der Steuersignalgeneratorschaltung 60 in einem au
tomatischen Refresh-Zyklus wird nachfolgend unter Bezug auf
die Fig. 9 und 10 beschrieben. In diesem Fall wird die Steuer
signalgeneratorschaltung 60 durch eine Refresh-Steuerschaltung
61, eine Zeitgeber- bzw. Timerschaltung 64 und eine Verzögerungsschaltung 66
gesteuert.
Wenn der Auto-Refresh-Zyklus als Reaktion auf das Zeilenadreß
pulssignal/RAS und das Spaltenadreßpulssignal/CAS gestartet
wird, wird ein Aktivierungssignal vom Refresh-Steuerkreis 61
an eine Refresh-Adreßzählerschaltung 63 angelegt, und es wird
auch ein Aktivierungssignal TE an die Zeitgeberschaltung
(Timer) 64 angelegt. Folglich werden Refresh-Adreßzählerschal
tung 63 und Timerschaltung 64 aktiviert. Folglich wird ein Re
fresh-Adreßsignal RA von der Refresh-Adreßzählerschaltung 63
an einen Adreßpuffer 65 angelegt. Der Adreßpuffer 65 wird
durch ein Steuersignal CN gesteuert, das vom Zeitgeber 64 aus
gegeben wird. Der Adreßpuffer 65 reagiert auf das Adreßsignal
RA und legt ein Adreßsignal AD an ein Speicherfeld MA (siehe
Fig. 1) an. Dieses Adreßsignal AD bestimmt die Adresse, für
die ein Wiederauffrischen (refresh) vorzunehmen ist.
Die Timerschaltung 64 legt ein Triggersignal A an die Verzöge
rungsschaltung 66 und die Steuersignalgeneratorschaltung 60
an. Die Steuersignalgeneratorschaltung 60 reagiert auf den An
stieg des Triggersignals A und bewirkt, daß das Steuersignal
ΦX logisch hohen Pegel erreicht. Die Verzögerungsschaltung 66
verzögert das Triggersignal A um eine vorbestimmte Zeitperiode
und gibt ein Verzögerungssignal DA aus. Die Steuersignalgene
ratorschaltung 60 reagiert auf den Anstieg des Verzögerungssi
gnals DA und bewirkt das Abfallen des Steuersignals ΦX auf
einen logisch niedrigen Pegel.
Die Verzögerungszeit der Verzögerungsschaltung 66 ist vorab
auf einen Zeitraum gesetzt, der hinreichend groß für die Voll
endung einer Restore-Operation in einer wiederaufzufrischenden
Speicherzelle ist. Der in Fig. 1 gezeigte Differenzverstärker
20 wird durch dieses Steuersignal ΦX aktiviert und deakti
viert. Folglich ist der Differenzverstärker 20 nur während der
Periode aktiviert, in der die Speicherzelle wiederaufgefrischt
wird, und daher fließt kein unnötiger Strom während des Re
fresh, so daß der Refresh-Strom vermindert werden kann.
Im normalen Zyklus wird ein extern angelegtes Adreßsignal ADD
als Adreßsignal AD über den Adreßpuffer 65 an das Speicherfeld
MA (siehe Fig. 1) angelegt.
Der Betrieb im CAS- vor RAS-Refresh-Zyklus wird nachfolgend
unter Bezug auf die Fig. 11 und 12 beschrieben. In dem Fall
wird die Steuersignalgeneratorschaltung 60 durch eine Refresh-
Steuerschaltung 61, eine Refresh-Adreßzählerschaltung 63,
einen Adreßpuffer 65, eine Wortleitungssteuerschaltung 69,
eine Leseverstärkerschaltung 67 und einen Verzögerungskreis 68
gesteuert.
Wenn der CAS- vor RAS-Refresh-Zyklus als Reaktion auf das Zei
lenadreßpulssignal/RAS und Spaltenadreßpulssignal/CAS gestar
tet wird, wird ein Aktivierungssignal der Refresh-Steuerschal
tung 61 an die Refresh-Adreßzählerschaltung 63 angelegt. Folg
lich wird die Refresh-Adreßzählerschaltung 63 aktiviert, so
daß ein Refresh-Adreßsignal RA an den Adreßpuffer 65 angelegt
wird.
Der Adreßpuffer 65 reagiert auf dieses Refresh-Adreßsignal RA
und legt ein Adreßsignal AD an das Speicherfeld MA (siehe Fig. 1)
an, und das Refresh-Adreßsignal RA wird auch an die Wort
leitungssteuerschaltung 69 und die Leseverstärkersteuerschal
tung 67 angelegt. Folglich gibt die Wortleitungssteuerschal
tung 69 ein Wortleitungssteuersignal RX aus, und die Lesever
stärkersteuerschaltung 67 gibt ein Leseverstärkeraktivierungs
signal SE aus. Die Verzögerungsschaltung 68 verzögert das Le
severstärkeraktivierungssignal SE für eine vorbestimmte Zeit
periode und gibt ein Verzögerungssignal SED aus.
Die Steuersignalgeneratorschaltung 60 reagiert auf den Anstieg
des Wortleitungssteuersignals RX und bewirkt, daß das Steuer
signal ΦX logisch hohen Pegel erreicht, während es auf den An
stieg des Verzögerungssignals SED reagiert, durch das das
Steuersignal ΦX auf logisch niedrigen Pegel abfällt. Die Ver
zögerungsszeit durch die Verzögerungsschaltung 68 wird auf
eine hinreichend lange Zeit für die Beendigung eines Restore-
Betriebs der wiederaufzufrischenden Speicherzelle gesetzt. Die
Differenzverstärkerschaltung 20 wird durch dieses Steuersignal
ΦX aktiviert und deaktiviert.
Da, wie oben beschrieben, die Differenzverstärkerschaltung 20
nur während der Periode des Refresh der Speicherzelle akti
viert ist, fließt kein unnötiger Strom während der Refresh-
Zeit, so daß der Strom beim Refresh vermindert werden kann.
Die Steuerungsoperation der Fig. 9-12 ist ebenfalls auf die
interne Spannungsabsenkungsschaltung 1b nach Fig. 35 anwend
bar. In diesem Fall kann ebenfalls der Strom während des Re
fresh vermindert werden.
Die Fig. 13 zeigt einen Detailaufbau der Burn-in-Modus-Setz
schaltung 50. Die Burn-in-Modus-Setzschaltung 50 umfaßt einen
P-Kanal-MOS-Transistor Q50. Der Transistor Q50 ist parallel
mit dem Transistor Q35 der Treiberschaltung 30 verbunden. An
das Gate des Transistors Q50 wird das Burn-in-Modus-Setzsignal
BVD angelegt.
Im Normalmodus erreicht das Burn-in-Modus-Setzsignal logisch
hohen Pegel. Hierdurch wird der Transistor Q50 ausgeschaltet.
Zu dem Zeitpunkt wird das Steuersignal ΦX als Aktivierungssi
gnal ACT an die Differenzverstärkerschaltung 20 angelegt.
Folglich wird die interne Versorgungsspannung IVcc durch die
Treiberschaltung 30 angelegt.
Im Burn-in-Modus-Test erreicht das Burn-in-Modus-Setzsignal
BVD logisch niedrigen Pegel. Hierdurch wird der Transistor Q50
eingeschaltet. Folglich wird die externe Versorgungsspannung
Vcc direkt an die interne Versorgungsspannungsleitung L2 ange
legt. Daher ist Vcc = IVcc erfüllt. Zu diesem Zeitpunkt er
reicht das Aktivierungssignal ACT logisch niedrigen Pegel.
Folglich wird die Differenzverstärkerschaltung 20 deaktiviert,
so daß der Ausgang der Differenzverstärkerschaltung 20 logisch
hohen Pegel erreicht. Hierdurch wird der Transistor Q35 ausge
schaltet.
Die Fig. 14 zeigt ein anderes Beispiel der Burn-in-Modus-Setz
schaltung 50. Die Burn-in-Modus-Setzschaltung 50 umfaßt einen
N-Kanal-MOS-Transistor Q51 und einen Inverter 51. Der Transi
stor Q51 ist zwischen einem Gate des Transistors Q35 der Trei
berschaltung 30 und einem Erdanschluß verbunden. An das Gate
des Transistors Q51 ist über den Inverter 51 das Burn-in-Mo
dus-Setzsignal BVD angelegt.
Im Normalmodus erreicht das Burn-in-Modus-Setzsignal BVD lo
gisch hohen Pegel, so daß der Transistor Q51 ausgeschaltet
ist. Folglich bildet die Differenzverstärkerschaltung 20 und
die Treiberschaltung 30 eine Rückkopplungsschleife, und die
interne Versorgungsspannung IVcc wird angelegt.
Im Burn-in-Modus erreicht das Burn-in-Modus-Setzsignal BVD
logisch niedrigen Pegel, so daß der Transistor Q51 eingeschal
tet ist. Folglich wird der Transistor Q35 der Treiberschaltung
30 eingeschaltet, so daß die externe Versorgungsspannung Vcc
direkt an die interne Spannungsversorgungsleitung L2 angelegt
wird.
Fig. 15 zeigt die Charakteristik der internen Versorgungs
spannung IVcc. Im Burn-in-Modus entspricht die externe Versor
gungsspannung Vcc der internen Versorgungsspannung IVcc, und
daher wird keine unnötige Überspannung an eines der Schal
tungselemente angelegt. Da eine präzise Spannung an jedes
Schaltungselement unabhängig von Änderungen der Verfahrenspa
rameter angelegt werden kann, kann ein hochgradig genauer und
reproduzierbarer Burn-in-Test durchgeführt werden.
Die Burn-in-Modus-Setzschaltung 50 ist ebenfalls auf die in
Fig. 35 gezeigte Halbleitervorrichtung anwendbar. Auch in dem
Fall ist ein hochgradig genauer und reproduzierbarer Burn-in-
Test durchführbar.
Die Fig. 16 zeigt ein Beispiel der Burn-in-Modus-Setzsignalge
neratorschaltung 70, und die Fig. 17 und 18 zeigen Signalpuls
diagramme eines Burn-in-Modus-Setzzyklus bzw. eines Burn-in-
Modus-Reset-Zyklus.
Der Burn-in-Modus-Setzzyklus wird zuerst beschrieben. Ein
Zeitsignalgenerator 71 erzeugt einen Zähler-Reset-Impuls ΦA,
wenn ein Spaltenadreßpulssignal/CAS und ein Schreibaktivie
rungssignal/WE sich auf niedrigem Pegel zu dem Zeitpunkt be
finden, daß ein Zeilenadreßpulssignal/RAS abfällt. Hierdurch
beginnt ein n-Bitzähler 72 zu zählen.
Das Spaltenadreßpulssignal/CAS wird als ein Eingang des n-Bit
zählers 72 angelegt. Wenn eine Operation zum Ändern des Logik
pegels des Spaltenadreßpulssignals/CAS auf logisch hohen Pegel
und logisch niedrigen Pegel 2n-male wiederholt worden ist,
steigt das Zählersignal ΦC aus dem n-Bitzähler 72 auf logisch
hohen Pegel. Ein Burn-in-Modus-Setzsignal BVD aus einem Puffer
73 fällt auf logisch niedrigen Pegel als Reaktion auf den An
stieg des Zählersignals ΦC.
Nachfolgend wird der Burn-in-Modus-Reset-Zyklus beschrieben.
Der Zeitsignalgenerator 71 erzeugt einen Zähler-Reset-Impuls
ΦB, wenn das Spaltenadreßpulssignal/CAS und das Schreibakti
vierungssignal/WE auf logisch niedrigem Pegel bzw. logisch ho
hem Pegel stehen, zum Zeitpunkt des Abfallens des Zeilenadreß
pulssignals/RAS. Folglich wird ein n-Bitzähler 72 zurückge
setzt, so daß das Zählersignal ΦC auf logisch niedrigen Pegel
abfällt. Das aus dem Puffer 73 ausgegebene Burn-in-Modus-Setz
signal BVD steigt auf logisch hohen Pegel als Reaktion auf den
Abfall des Zählersignals ΦC.
Wie in dem obigen Beispiel beschrieben, wird der Burn-in-Modus
gesetzt, indem das externe Spaltenadreßpulssignal/CAS umge
schaltet wird, auf der Basis eines WCBR (WE-CAS vor RAS) Test
modussetzzyklus, der von der JEDEC für einen 4M-Bit-DRAM stan
dardisiert ist. Der Burn-in-Modus wird durch einen CBR- (CAS
vor RAS) Zyklus oder ROR- (nur RAS-Refresh) Zyklus zurückge
setzt.
Da das Setzen des Burn-in-Modus durch ein entsprechendes Zeit
geberverfahren im obigen Beispiel zugänglich ist, braucht eine
Burn-in-Vorrichtung keine Mehrzahl von Spannungsversorgungen
im Burn-in-Test. Folglich kann das Setzen des Burn-in-Modus
mit niedrigeren Kosten durchgeführt werden. Die Zeitgebung für
den Burn-in-Modus ist nicht auf die oben beschriebene Abfolge
beschränkt, es ist allerdings notwendig, eine zeitliche Ab
folge von Signalen (Timing) zu wählen, die sich von einem Ti
ming, das normalerweise nicht in Produktspezifikationen be
schrieben ist, also dem Timing eines Normalzyklus, unterschei
det.
Die Fig. 19 zeigt ein weiteres Beispiel des Burn-in-Modus-
Setzsignalgeneratorkreises 70, und die Fig. 20 und 21 zeigen
Signalpulsdiagramme eines Burn-in-Modus-Setzzyklus bzw. eines
Burn-in-Modus-Reset-Zyklus.
Zuerst wird der Burn-in-Modus-Setzzyklus beschrieben. Eine De
tektorschaltung für hohe Spannung 76 umfaßt N-Kanal-MOS-Tran
sistoren Q71-Q7n in n-Stufen, die in Kaskade mit einem belie
bigen Adreßanschluß verbunden sind. Ein Zeitgeber 74 erzeugt
einen Taktimpuls ΦD, wenn ein Spaltenadreßpulssignal/CAS und
ein Schreibaktivierungssignal/WE auf logisch niedrigem Pegel
zu dem Zeitpunkt stehen, daß ein Zeilenadreßpulssignal/RAS ab
fällt. Wenn zu dem Zeitpunkt eine hohe Spannung (Vcc+n·Vth)
an den Adreßanschluß angelegt ist, befindet sich ein Si
gnal ΦE auf logisch hohem Pegel. Wenn sich das Signal ΦE auf
logisch hohem Pegel zu dem Zeitpunkt des Anstiegs des Taktim
pulses ΦD befindet, bewirkt ein Puffer 75, daß ein Burn-in-Mo
dus-Setzsignal BVD auf logisch niedrigen Pegel abfällt.
Nachfolgend wird der Burn-in-Modus-Reset-Zyklus beschrieben.
Wenn das Spaltenadreßpulssignal/CAS und das Schreibaktivie
rungssignal/WE auf logisch niedrigem bzw. logisch hohem Pegel
zu dem Zeitpunkt stehen, da das Zeilenadreßpulssignal/RAS ab
fällt, erzeugt der Timing-Generator 74 einen Taktimpuls ΦF.
Der Puffer 75 reagiert auf den Anstieg des Taktimpulses ΦF und
hebt das Burn-in-Modus-Setzsignal BVD auf logisch hohen Pegel
an.
Beim obigen Beispiel wird das Burn-in-Modus-Setzsignal durch
eine Kombination des WCBR-Testmodus-Setzzyklus und dem Anlegen
einer hohen Spannung erzeugt, die höher als eine externe Ver
sorgungsspannung Vcc in Produktbeschreibungen gewählt wird, an
eine oder mehrere der Adreßanschlüsse.
In anderen Zyklen als dem Burn-in-Modus-Setzzyklus werden die
entsprechenden Adreßanschlüsse mit einer Normalspannung eines
hohen Pegels oder eines niedrigen Pegels als logisch hohem
oder logisch niedrigem Pegel, aber keiner Hochspannung belegt.
Eine Hochspannung kann als logisch hoher Pegel anstelle der
normalen Spannung hohen Pegels angelegt werden.
Außerdem kann eine hohe Spannung, die zum Beispiel an einen
Dateneingabeanschluß anstelle des Adreßanschlusses angelegt
wird, auf die oben beschriebene hohe Spannung im Burn-in-Modus-
Setz-Zyklus gesetzt werden.
Die Fig. 22 zeigt ein Blockdiagramm mit dem Aufbau einer Halb
leitervorrichtung entsprechend der zweiten Ausführungsform.
Diese Halbleitervorrichtung CH umfaßt zwei interne Spannungs
absenkungsschaltungen 1A und 1B. Die interne Spannungsabsen
kungsschaltung 1A konvertiert eine extern angelegte Versor
gungsspannung Vcc zu einer internen Versorgungsspannung IVcc 1
und legt die abgesenkte Spannung an eine Peripherieschaltung 4
an. Die interne Spannungsabsenkungsschaltung 1B senkt die ex
terne Versorgungsspannung Vcc auf eine interne Versorgungs
spannung IVcc 2 ab und legt die abgesenkte Spannung an einen
DRAM 3 an. Eine Aktivierungssignalgeneratorschaltung 60a er
zeugt zwei Aktivierungssignale ACT 1 und ACT 2. Eine Diffe
renzverstärkerschaltung 20 in der internen Spannungsabsen
kungsschaltung 1A wird durch das Aktivierungssignal ACT 1 ge
steuert und ein Differenzverstärker 20 in der internen Span
nungsabsenkungsschaltung 1B wird durch das Aktivierungssignal
ACT 2 gesteuert.
Wie in Fig. 23 gezeigt, erzeugt die Aktivierungssignalgenera
torschaltung 60a die Aktivierungssignale ACT 1 und ACT 2 als
Reaktion auf ein Zeilenadreßpulssignal/RAS, ein Spaltenadreß
pulssignal/CAS und ein Leseverstärkeraktivierungssignal SE.
Nachfolgend wird eine Beschreibung des Betriebs in einem Nor
malzyklus im Normalmodus unter Bezug auf die Fig. 24 vorgenom
men. Das Aktivierungssignal ACT 1 steigt auf einen logisch ho
hen Pegel als Reaktion auf das Abfallen des Zeilenadreßpulssi
gnals/RAS. Folglich wird die Differenzverstärkerschaltung 20
in der internen Spannungsabsenkungsschaltung 1A aktiviert. Da
nach steigt das Leseverstärkeraktivierungssignal SE auf lo
gisch hohen Pegel. Als Reaktion auf den Anstieg des Lesever
stärkeraktivierungssignals SE steigt das Aktivierungssignal
ACT 2 auf einen logisch hohen Pegel. Folglich wird die Diffe
renzverstärkerschaltung 20 in der internen Spannungsabsen
kungskonvertierungsschaltung 1B aktiviert.
Das Aktivierungssignal ACT 2 fällt auf logisch niedrigen Pegel
nach dem Ablauf einer vorbestimmten Zeitperiode. Folglich wird
die Differenzverstärkerschaltung 20 in der internen Spannungs
absenkungsschaltung 1B deaktiviert. Die Zeitperiode, für die
sich das Aktivierungssignal ACT 2 auf logisch hohem Pegel be
findet, wird auf einen Zeitraum festgelegt, der für das Kom
pensieren des Leseverstärkersystemstroms benötigt wird.
Wenn das Zeilenadreßpulssignal/RAS auf logisch hohen Pegel an
steigt, fällt das Aktivierungssignal ACT 1 auf logisch niedri
gen Pegel. Folglich wird die Differenzverstärkerschaltung 20
in der internen Spannungsabsenkungsschaltung 1A deaktiviert.
Nachfolgend wird eine Beschreibung eines Betriebs in einem
CAS- vor RAS-Refresh-Zyklus in einem Normalmodus unter Bezug
auf die Fig. 25 vorgenommen. Das Aktivierungssignal ACT 1
steigt auf logisch hohen Pegel als Reaktion auf das Abfallen
des Zeilenadreßpulssignals/RAS. Folglich wird die Differenz
verstärkerschaltung 20 in der internen Spannungsabsenkungs
schaltung 1A aktiviert. Das Leseverstärkeraktivierungssignal
SE steigt dann auf logisch hohen Pegel. Als Reaktion auf den
Anstieg des Leseverstärkeraktivierungssignals SE steigt das
Aktivierungssignal ACT 2 auf logisch hohen Pegel. Folglich
wird die Differenzverstärkerschaltung 20 in der internen Span
nungsabsenkungsschaltung 1B deaktiviert.
Das Leseverstärkeraktivierungssignal SE fällt dann auf logisch
niedrigen Pegel. Als Reaktion auf das Abfallen des Signals SE
fällt das Aktivierungssignal ACT 1 auf logisch niedrigen Pe
gel, und das Aktivierungssignal ACT 2 fällt auf logisch nied
rigen Pegel. Folglich wird die Differenzverstärkerschaltung 20
in der internen Spannungskonverterschaltung 1A deaktiviert, so
daß die interne Spannungsabsenkungsschaltung 1B deaktiviert
wird. Folglich kann der Stromverbrauch während des CAS- vor
RAS-Refresh-Zyklus vermindert werden.
Die Fig. 26 zeigt ein Blockdiagramm mit einem weiteren Bei
spiel der internen Spannungsabsenkungsschaltung 1. Eine Ver
stärkungsschaltung 100 zum Verstärken einer Ausgangsamplitude
einer Pegelschiebeschaltung 90 ist zusätzlich in einer inter
nen Spannungsabsenkungsschaltung vorgesehen. Ein Ausgang der
Verstärkerschaltung 100 wird an die Differenzverstärkerschal
tung 20 angelegt. Die Verstärkerschaltung 100 wird durch eine
Referenzspannung VR1 gesteuert.
Die Fig. 27 zeigt einen detaillierten Aufbau eines Teils der
internen Spannungsabsenkungsschaltung 1 nach Fig. 26. Der Auf
bau der Differenzverstärkerschaltung 20, eine Treiberschaltung
30 sowie die Pegelschiebeschaltung 90 sind mit den in Fig. 40
gezeigten identisch. Allerdings wird das Aktivierungssignal
ACT an das Gate eines Transistors Q31 in der Differenzverstär
kerschaltung 20 angelegt. Die Verstärkerschaltung 100 ist eine
Stromspiegelschaltung mit P-Kanal-MOS-Transistoren Q101 und
Q102 sowie N-Kanal-MOS-Transistoren Q103 und Q104. An das Gate
des Transistors Q103 wird die Referenzspannung VR1 angelegt,
und das Gate des Transistors Q104 ist mit einem Knoten N6 der
Pegelschiebeschaltung 90 verbunden. An das Gate eines N-Kanal-
MOS-Transistors Q105 wird das Aktivierungssignal ACT angelegt.
Der Betrieb der Schaltung nach Fig. 27 wird nachfolgend be
schrieben. Wenn die interne Versorgungsspannung IVcc niedri
ger oder gleich 4 V ist, wird der Ausgang der Pegelschiebes
chaltung 90 niedriger oder gleich 2,4 V, welches niedriger als
die Referenzspannung VR1 ist. Folglich erreicht der Ausgang
eines Knotens N7 der Verstärkerschaltung 100 einen logisch
niedrigen Pegel von etwa 1 bis 2 V.
Wenn die interne Versorgungsspannung IVcc höher oder gleich 4 V
beträgt, ist der Ausgang der Pegelschiebeschaltung 90 höher
oder gleich 2,4 V, also höher als die Referenzspannung VR1. Folglich
erreicht der Ausgang des Knotens N7 der Verstärkerschaltung
100 einen logisch hohen Pegel von etwa 4 bis 5 V. Da die Ampli
tude der Ausgangsspannung der Pegelschiebeschaltung 90 durch
die Verstärkerschaltung 100 verstärkt wird, wird die Empfind
lichkeit der internen Spannungsabsenkungsschaltung verbessert.
Diese interne Spannungsabsenkungsschaltung ist sowohl auf eine
Halbleitervorrichtung nach Fig. 35 als auch auf die in Fig. 1
gezeigte anwendbar.
Die Fig. 28 ist ein Schemadiagramm mit dem Aufbau auf einem
Chip ch einer Halbleitervorrichtung mit einer externen Span
nungsversorgungsleitung L1 zum Empfangen einer externen Ver
sorgungsspannung Vcc sowie einer internen Versorgungsspannungs
leitung L2 zum Empfangen einer internen Versorgungsspannung
IVcc. Wie in Fig. 28 gezeigt, ist die externe Versorgungsspan
nungsleitung L1 mit einem Spannungsversorgungsanschluß (pad)
pVcc verbunden. Eine Überwachungsschaltung (Monitor) 110 ist
zwischen einem beliebigem Anschluß pa zum Empfangen eines Si
gnals oder eines vorbestimmten Potentials und der internen
Spannungsversorgungsleitung L2 verbunden. Der Anschluß pa ist
mit einem externen Anschlußbein verbunden.
Die Überwachungsschaltung 110 umfaßt N-Kanal-MOS-Transistoren
QN1-QN3. Die Transistoren QQN1-QN3 sind in Reihe zwischen ei
nem externen Bein EP und der internen Spannungsversorgungslei
tung L2 verbunden. Es wird eine Schwellenspannung der Transisto
ren QN1-QN3 von Vth angenommen.
Zuerst wird der Standby-Strom gemessen, der zwischen einem
Stromversorgungsanschluß zum Empfangen der externen Versor
gungsspannung Vcc und einem Erdanschluß für ein Erdpotential
fließt. Dann wird das Potential am externen Anschluß EP
schrittweise erhöht, während der durch Stromversorgungsan
schluß und Erdanschluß fließende Strom überwacht wird. Das Po
tential VINT der internen Versorgungsspannungsleitung L2 wird
aus der folgenden Gleichung ausgerechnet, in der das Potential
am externen Anschluß EP beim Ansteigen des zwischen Versor
gungsspannungsanschluß und Erdanschluß fließenden Stroms VEXT
ist.
VINT = VEXT - 3 · Vth
Hierdurch wird es möglich, das Potential auf der internen
Spannungsversorgungsleitung L2 zu überwachen, ohne direkt auf
die interne Versorgungsspannungsleitung L2 zuzugreifen.
Die Überwachungsschaltung 110 umfaßt N-Kanal-MOS-Transistoren
QN4 und QN5. Die Transistoren QN4 und QN5 sind in Reihe zwi
schen einer Konstantspannungsquelle V und einem beliebigen ex
ternen Anschlußbein EP verbunden. Die Konstantspannungsquelle
V ist beispielsweise ein Spannungsversorgungsanschluß zum Emp
fangen einer externen Versorgungsspannung Vcc. Der Transistor
QN4 ist mit seinem Gate mit der internen Spannungsversorgungs
leitung L2 verbunden. An das Gate des Transistors Q5 wird ein sog.
Spezialmodussignal Φ aus einem Spezialmodussignalgenerator
kreis 111 angelegt.
Die Spezialmodussignalgeneratorschaltung 111 erzeugt das Spe
zialmodussignal Φ als Reaktion auf ein Zeilenadreßpulssi
gnal/RAS, ein Spaltenadreßpulssignal/CAS und ein Schreibakti
vierungssignal/WE. Es wird angenommen, daß die Schwellenspannung
der Transistoren QN4 und QN5 Vth beträgt.
Zuerst werden die betreffenden Potentiale der Konstantspan
nungsquelle V und des externen Anschlußbeins EP auf 5 V ge
setzt, und das Potential des Spezialmodussignals Φ wird auf 7 V
gesetzt. Dann wird das Potential des externen Anschlußbeins EP
schrittweise abgesenkt, während der zwischen dem externen An
schlußbein EP und der Konstantspannungsquelle V fließende
Strom überwacht wird. Das Potential VINT der internen Span
nungsversorgungsleitung L2 wird durch die folgende Gleichung
ausgerechnet, in der das Potential des externen Anschlusses EP
VEXT ist, wenn der Strom zwischen dem externen Anschlußbein EP
und der Konstantspannungsquelle V zu fließen beginnt.
VINT = VEXT + Vth
Hierdurch wird es möglich, das Potential der internen Span
nungsversorgungsleitung L2 zu überwachen, ohne direkt auf die
interne Spannungsversorgungsleitung L2 zuzugreifen.
Eine Überwachungsschaltung 110 umfaßt einen P-Kanal-MOS-Tran
sistor QP1. Der Transistor QP1 ist zwischen einer internen
Spannungsversorgungsleitung L2 und einem beliebigen externen
Anschlußbein EP verbunden. An das Gate des Transistors QP1
wird ein spezielles Modussignal Φ angelegt. Ein N-Kanal-MOS-
Transistor QN6 ist einer der Transistoren der internen Schal
tung.
Wenn das Potential des Spezialmodussignals Φ auf 0 V gesetzt
wird, wird der Transistor QP1 eingeschaltet, so daß das ex
terne Anschlußbein EP und die interne Spannungsversorgungslei
tung L2 miteinander elektrisch verbunden sind. Folglich kann
das Potential VINT der internen Spannungsversorgungsleitung L2
durch die folgende Gleichung berechnet werden, wodurch das Po
tential VEXT des externen Anschlusses EP überwacht wird.
VINT = VEXT
Hierdurch wird es möglich, das Potential der internen Span
nungsversorgungsleitung L2 zu überwachen, ohne direkt auf die
interne Spannungsversorgungsleitung L2 zuzugreifen.
Eine Überwachungsschaltung 110 umfaßt einen N-Kanal-MOS-Tran
sistor QN7 sowie einen P-Kanal-MOS-Transistor QP2. Der Transi
stor QN7 ist zwischen einem beliebigen externen Anschluß EP1
und einem beliebigen externen Anschluß EP2 verbunden. Der
Transistor QP2 ist zwischen der internen Spannungsversorgungs
leitung L2 und einem Gate des Transistors QN7 verbunden. Ein
Spezialmodussignal Φ wird an ein Gate des Transistors P2 ange
legt.
Es wird angenommen, daß eine Schwellenspannung des Transistors
QN7 Vth beträgt. Wenn das Potential des Spezialmodussignals Φ
auf 0 V gesetzt wird, wird der Transistor QP2 eing 03744 00070 552 001000280000000200012000285910363300040 0002004205040 00004 03625eschaltet, so
daß das Potential der internen Spannungsversorgungsleitung L2
an das Gate des Transistors QN7 angelegt wird. Das Potential
des externen Anschlusses EP1 wird auf 5 V gesetzt. Das Poten
tial des externen Anschlusses EP2 wird schrittweise abgesenkt,
während der zwischen den externen Anschlüssen EP1 und EP2
fließende Strom überwacht wird. Dann wird das Potential VINT
der internen Spannungsversorgungsleitung L2 durch den folgen
den Ausdruck berechnet, indem das Potential des externen An
schlusses EP2 als VEXT bezeichnet wird, wenn der Stromfluß
zwischen den externen Anschlüssen EP1 und EP2 beginnt.
VINT = VEXT + Vth
Hierdurch wird es möglich, das Potential der internen Span
nungsversorgungsleitung L2 zu überwachen, ohne direkt auf die
interne Spannungsversorgungsleitung L2 zuzugreifen.
Eine Überwachungsschaltung 110 umfaßt einen N-Kanal-MOS-Tran
sistor QN8. Der Transistor QN8 ist zwischen der internen Span
nungsversorgungsleitung L2 und einem beliebigen externen An
schlußbein EP verbunden. Am Gate des Transistors QN8 liegt ein
Spezialmodussignal Φ an. Ein N-Kanal-MOS-Transistor QN9 ist
einer der Transistoren der internen Schaltung.
Wenn das Potential des Spezialmodussignals Φ auf 7 V gesetzt
wird, wird der Transistor QN8 eingeschaltet, so daß der ex
terne Anschluß EP und die interne Spannungsversorgungsleitung
L2 miteinander elektrisch verbunden sind. Das Potential VINT
der internen Spannungsversorgungsleitung L2 wird durch die
folgende Gleichung berechnet, wobei VEXT das Potential des ex
ternen Anschlußbeins EP mißt.
VINT = VEXT
Hierdurch wird es möglich, das Potential der internen Span
nungsversorgungsleitung L2 zu überwachen, ohne direkt auf die
Spannungsversorgungsleitung L2 zuzugreifen.
Eine Überwachungsschaltung 110 umfaßt einen N-Kanal-MOS-Tran
sistor QN10 sowie einen P-Kanal-MOS-Transistor QP3. Der Tran
sistor QN10 und der Transistor QP3 sind miteinander in Reihe
zwischen einer internen Spannungsversorgungsleitung L2 und ei
nem beliebigen externen Anschlußbein EP verbunden. Der Transi
stor QN10 ist als Diode geschaltet. Ein Spezialmodussignal Φ
wird an das Gate des Transistors QP3 angelegt. Ein N-Kanal-
MOS-Transistor QN11 ist einer der Transistoren der internen
Schaltung. Es wird angenommen, daß die Schwellenspannung des
Transistors QN10 Vth beträgt.
Wenn zuerst das Potential des Spezialmodussignals Φ auf 0 V ge
setzt wird, wird daraufhin der Transistor QP3 eingeschaltet,
so daß die interne Spannungsversorgungsleitung L2 und der ex
terne Anschluß EP miteinander über den Transistor QN10 verbun
den sind. Daher wird ein Potential VINT der internen Span
nungsversorgungsleitung L2 durch die folgende Gleichung ausge
drückt, wobei das Potential VEXT am externen Anschluß EP an
liegt.
VINT = VEXT + Vth
Hierdurch wird es möglich, das Potential der internen Span
nungsversorgungsleitung L2 zu überwachen, ohne direkt auf die
Spannungsversorgungsleitung L2 zuzugreifen.
Die oben beschriebenen ersten bis sechsten Überwachungsmetho
den sind nicht nur auf die Halbleitervorrichtung nach Fig. 1
anwendbar, sondern auf verschiedene Halbleitervorrichtun
gen mit internen Spannungsversorgungsleitungen. Ein Auf
bau wie der in den Fig. 16 oder 19 gezeigte kann als Aufbau
der Spezialmodussignalgeneratorschaltung 111 benutzt werden.
Claims (31)
1. Halbleitervorrichtung mit
einer internen Spannungsabsenkungsvorrichtung (1) zum Absenken einer externen Versorgungsspannung auf eine vorbestimmte interne Versorgungsspannung und
einer von der internen Versorgungsspannung betriebenen internen Schaltung (3, 4),
dadurch gekennzeichnet, daß die interne Spannungsabsenkungs schaltung (1) eine erste Spannungsanlegeschaltung (10, 20, 30) aufweist, mit einem ersten Feldeffekttransistor (Q35) mit einem Kanal eines ersten Leitungstyps, der auf eine erste Referenzspannung zum Steuern des ersten Feldeffekttransistors über eine Rückkopp lungsschleife reagiert, womit die interne Versorgungsspannung an die interne Schaltung (3, 4) angelegt wird,
eine zweite Spannungsanlegeschaltung (40, 45) umfaßt,
mit einem zweiten Feldeffekttransistor (Q40) mit einem Kanal eines zweiten Leitungstyps, der auf eine zweite Referenzspannung reagiert, zum Ausgeben der internen Versorgungsspannung und zum Anlegen der ausgegebenen internen Versorgungsspannung an die interne Schaltung (3, 4),
und eine Steuerschaltung (60) umfaßt, zum Steuern einer Ak tivierung und einer Deaktivierung der ersten Spannungsanlege schaltung (10, 20, 30).
einer internen Spannungsabsenkungsvorrichtung (1) zum Absenken einer externen Versorgungsspannung auf eine vorbestimmte interne Versorgungsspannung und
einer von der internen Versorgungsspannung betriebenen internen Schaltung (3, 4),
dadurch gekennzeichnet, daß die interne Spannungsabsenkungs schaltung (1) eine erste Spannungsanlegeschaltung (10, 20, 30) aufweist, mit einem ersten Feldeffekttransistor (Q35) mit einem Kanal eines ersten Leitungstyps, der auf eine erste Referenzspannung zum Steuern des ersten Feldeffekttransistors über eine Rückkopp lungsschleife reagiert, womit die interne Versorgungsspannung an die interne Schaltung (3, 4) angelegt wird,
eine zweite Spannungsanlegeschaltung (40, 45) umfaßt,
mit einem zweiten Feldeffekttransistor (Q40) mit einem Kanal eines zweiten Leitungstyps, der auf eine zweite Referenzspannung reagiert, zum Ausgeben der internen Versorgungsspannung und zum Anlegen der ausgegebenen internen Versorgungsspannung an die interne Schaltung (3, 4),
und eine Steuerschaltung (60) umfaßt, zum Steuern einer Ak tivierung und einer Deaktivierung der ersten Spannungsanlege schaltung (10, 20, 30).
2. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß der erste Feldeffekttransistor ein
P-Kanal-MOS-Transistor (Q35) ist und der zweite Feldeffekttransi
stor ein N-Kanal-MOS-Transistor (Q40) ist.
3. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste Spannungsanlegeschaltung
ferner umfaßt:
eine erste Referenzspannungsgeneratorschaltung (10), die auf die externe Versorgungsspannung zum Erzeugen der ersten Referenz spannung reagiert, und
einen Differenzverstärker (20) zum differentiellen Verstärken der ersten Referenzspannung und eines Ausgangssignals des P-Kanal- MOS-Transistors (Q35),
wobei der P-Kanal-MOS-Transistor (Q35) und der Differenzverstär ker (20) eine Rückkopplungsschleife bilden und die zweite Span nungsanlegevorrichtung ferner umfaßt:
eine zweite Referenzspannungsgeneratorschaltung (45), die auf die externe Versorgungsspannung zum Erzeugen der zweiten Referenz spannung reagiert.
eine erste Referenzspannungsgeneratorschaltung (10), die auf die externe Versorgungsspannung zum Erzeugen der ersten Referenz spannung reagiert, und
einen Differenzverstärker (20) zum differentiellen Verstärken der ersten Referenzspannung und eines Ausgangssignals des P-Kanal- MOS-Transistors (Q35),
wobei der P-Kanal-MOS-Transistor (Q35) und der Differenzverstär ker (20) eine Rückkopplungsschleife bilden und die zweite Span nungsanlegevorrichtung ferner umfaßt:
eine zweite Referenzspannungsgeneratorschaltung (45), die auf die externe Versorgungsspannung zum Erzeugen der zweiten Referenz spannung reagiert.
4. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 3,
gekennzeichnet durch eine externe Spannungsversorgungsleitung
(L1) zum Empfangen der externen Versorgungsspannung und eine
interne Spannungsversorgungsleitung (L2) zum Empfangen der
internen Versorgungsspannung, wobei
der P-Kanal-MOS-Transistor (Q35) zwischen der externen Span nungsversorgungsleitung (L1) und der internen Spannungsversorgung (L2) verbunden ist und an seinem Gate ein Ausgangssignal des Differenzverstärkers (20) empfängt und
der N-Kanal-MOS-Transistor (Q40) zwischen der externen Spannungs versorgungsleitung (L1) und der internen Spannungsversorgungs leitung (L2) verbunden ist und an seinem Gate die zweite Refe renzspannung empfängt.
der P-Kanal-MOS-Transistor (Q35) zwischen der externen Span nungsversorgungsleitung (L1) und der internen Spannungsversorgung (L2) verbunden ist und an seinem Gate ein Ausgangssignal des Differenzverstärkers (20) empfängt und
der N-Kanal-MOS-Transistor (Q40) zwischen der externen Spannungs versorgungsleitung (L1) und der internen Spannungsversorgungs leitung (L2) verbunden ist und an seinem Gate die zweite Refe renzspannung empfängt.
5. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 3 oder 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste Spannungsanlegeschaltung
eine Pegelschiebeschaltung (90) zum Verschieben des Pegels eines
Ausgangssignals des P-Kanal-MOS-Transistors (Q35) umfaßt, um das
im Pegel verschobene Ausgangssignal an den Differenzverstärker
(20) anzulegen.
6. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß die Steuerschaltung (60) eine
Schaltung (91) umfaßt, die auf ein Steuersignal der ersten
Spannungsanlegeschaltung (10, 20, 30) reagiert, zum Aktivieren
oder Deaktivieren der Pegelschiebeschaltung (90).
7. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 5 oder 6,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste Spannungsanlegeschaltung
(10, 20, 30) einen Verstärker (100) umfaßt, zum Verstärken der
Amplitude des Ausgangssignals der Pegelschiebeschaltung (90).
8. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Steuerschaltung (60) die Akti
vierung und Deaktivierung der ersten Spannungsanlegeschaltung
(10, 20, 30) auf der Basis des Stromverbrauchs der internen
Schaltung (3, 4) steuert.
9. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die interne Schaltung (3, 4) einen
Betrieb mit einer aktiven Periode und einer Standby-Periode
durchführt und die Steuerschaltung (60) die erste Spannungsan
legeschaltung (10, 20, 30) in der aktiven Periode aktiviert und
die erste Spannungsanlegeschaltung (10, 20, 30) in der Standby-
Periode deaktiviert.
10. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die interne Schaltung (3, 4) einen
Betrieb mit einer aktiven Periode und einer Standby-Periode
durchführt, und die Steuerschaltung (60) die erste Spannungsan
legeschaltung (10, 20, 30) in der aktiven Periode aktiviert, die
erste Spannungsanlegeschaltung (10, 20, 30) in der Standby-
Periode deaktiviert und die erste Spannungsanlegeschaltung (10,
20, 30) deaktiviert, wenn der Betrieb der internen Schaltung (3,
4) sich in einem stabilen Zustand in der aktiven Periode befin
det.
11. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10,
dadurch gekennzeichnet, daß die interne Schaltung einen dynami
schen Speicher (3) umfaßt, der für einen Refresh-Betrieb geeignet
ist, und
die Steuerschaltung (60) die erste Spannungsanlegevorrichtung (10, 20, 30) deaktiviert, wenn der Betrieb der Speichers (3) in einem stabilen Zustand in der aktiven Periode des Refresh-Betriebs ist.
die Steuerschaltung (60) die erste Spannungsanlegevorrichtung (10, 20, 30) deaktiviert, wenn der Betrieb der Speichers (3) in einem stabilen Zustand in der aktiven Periode des Refresh-Betriebs ist.
12. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Mehrzahl von internen Span
nungsabsenkungsschaltungen (1A, 1B) zum Absenken einer externen
Versorgungsspannung auf eine vorbestimmte interne Versorgungs
spannung und
eine Mehrzahl von internen Schaltungen (3, 4) vorgesehen sind, die jeweils der Mehrzahl von internen Spannungsabsenkungsschal tungen (1A, 1B) entsprechen und jeweils durch interne Versor gungsspannungen betrieben werden.
eine Mehrzahl von internen Schaltungen (3, 4) vorgesehen sind, die jeweils der Mehrzahl von internen Spannungsabsenkungsschal tungen (1A, 1B) entsprechen und jeweils durch interne Versor gungsspannungen betrieben werden.
13. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet, daß der dynamische Speicher (3) von der
internen Versorgungsspannung betrieben wird, und die Steuer
schaltung (60) zum Aktivieren der internen Spannungsabsenkungs
schaltung (1) für nur einen minimalen Zeitraum, der für den
Refresh der Speichervorrichtung (3) während einer Refresh-Periode
benötigt wird, ausgebildet ist.
14. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet, daß der Speicher (3) ein Speicherfeld
(MA) umfaßt, mit einer Mehrzahl von Speicherzellen zum Speichern
von Daten darin,
eine Auswahlschaltung (63, 65) umfaßt, zum Auswählen einer wiederaufzufrischenden Speicherzelle, und
eine Leseverstärkervorrichtung (SA) umfaßt, zum Verstärken von Daten, die aus der durch die Auswahlschaltung (63, 65) ausge wählten Speicherzelle ausgelesen wurde,
wobei die interne Spannungsabsenkungsschaltung (1) die interne Versorgungsspannung an die Leseverstärkerschaltung (SA) anlegt und die Steuerschaltung (60) die interne Spannungsabsenkungs schaltung (1) nur für einen minimalen Zeitraum aktiviert, der für das Wiederauffrischen der durch die Auswahlvorrichtung (63, 65) ausgewählten Speicherzelle während der Refresh-Operation benötigt wird.
eine Auswahlschaltung (63, 65) umfaßt, zum Auswählen einer wiederaufzufrischenden Speicherzelle, und
eine Leseverstärkervorrichtung (SA) umfaßt, zum Verstärken von Daten, die aus der durch die Auswahlschaltung (63, 65) ausge wählten Speicherzelle ausgelesen wurde,
wobei die interne Spannungsabsenkungsschaltung (1) die interne Versorgungsspannung an die Leseverstärkerschaltung (SA) anlegt und die Steuerschaltung (60) die interne Spannungsabsenkungs schaltung (1) nur für einen minimalen Zeitraum aktiviert, der für das Wiederauffrischen der durch die Auswahlvorrichtung (63, 65) ausgewählten Speicherzelle während der Refresh-Operation benötigt wird.
15. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 14,
dadurch gekennzeichnet, daß die Steuerschaltung eine erste
Signalgeneratorschaltung (64; 69) umfaßt, die auf den Beginn des
Wiederauffrischens der ausgewählten Speicherzelle reagiert, zum
Erzeugen eines ersten Signals,
eine zweite Signalgeneratorschaltung (66; 68) umfaßt, die auf die Beendigung des Wiederauffrischens der ausgewählten Speicherzelle reagiert, zum Erzeugen eines zweiten Signals, und
eine Steuersignalgeneratorschaltung (60) umfaßt, zum Erzeugen eines Steuersignals, das als Reaktion auf das erste Signal akti viert und als Reaktion auf das zweite Signal deaktiviert wird.
eine zweite Signalgeneratorschaltung (66; 68) umfaßt, die auf die Beendigung des Wiederauffrischens der ausgewählten Speicherzelle reagiert, zum Erzeugen eines zweiten Signals, und
eine Steuersignalgeneratorschaltung (60) umfaßt, zum Erzeugen eines Steuersignals, das als Reaktion auf das erste Signal akti viert und als Reaktion auf das zweite Signal deaktiviert wird.
16. Speichervorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 15,
dadurch gekennzeichnet, daß der Refresh-Betrieb ein Auto-Refresh-
Betrieb ist.
17. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 15,
dadurch gekennzeichnet, daß der Refresh-Betrieb ein CAS- vor RAS-
Refresh-Betrieb ist.
18. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 16,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste Signalgeneratorschaltung
eine Zeitgeber- bzw. Timerschaltung (64) umfaßt, die in der Auto-Refresh-
Betriebsperiode aktiviert wird und das erste Signal für jede
bestimmte Periode erzeugt, und
die zweite Signalgeneratorschaltung eine Schaltung zum Verzögern des ersten Signals um einen vorbestimmten Zeitraum umfaßt, zum Erzeugen des zweiten Signals.
die zweite Signalgeneratorschaltung eine Schaltung zum Verzögern des ersten Signals um einen vorbestimmten Zeitraum umfaßt, zum Erzeugen des zweiten Signals.
19. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 17,
dadurch gekennzeichnet, daß die Auswahlschaltung einen Adreßpuffer
(65) umfaßt, zum Erzeugen eines Adreßsignals zum Auswählen
einer Speicherzelle in der Refresh-Operation,
der Speicher (3) eine Aktivierungssignalgeneratorschaltung (67)
umfaßt, die auf das Adreßsignal reagiert, zum Erzeugen eines
Aktivierungssignals zum Aktivieren der Leseverstärkerschaltung
(SA),
die erste Signalgeneratorschaltung eine Signalgeneratorschaltung (69) ist, die auf das Adreßsignal reagiert, zum Erzeugen des er sten Signals, und
die zweite Signalgeneratorschaltung eine Verzögerungsschaltung (68) umfaßt, zum Verzögern des Aktivierungssignals um eine vor bestimmte Zeitperiode, um so das zweite Signal zu erzeugen.
die erste Signalgeneratorschaltung eine Signalgeneratorschaltung (69) ist, die auf das Adreßsignal reagiert, zum Erzeugen des er sten Signals, und
die zweite Signalgeneratorschaltung eine Verzögerungsschaltung (68) umfaßt, zum Verzögern des Aktivierungssignals um eine vor bestimmte Zeitperiode, um so das zweite Signal zu erzeugen.
20. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 19,
gekennzeichnet durch einen Spannungsversorgungsanschluß (P1) zum
Empfangen der externen Versorgungsspannung und
einen Schalter (50), der zwischen dem Versorgungsspannungsan schluß (P1) und der internen Schaltung (3, 4) vorgesehen ist, wobei die Steuerschaltung (70) zum Aktivieren der internen Span nungsabsenkungsschaltung (1) und zum Abschalten des Schalters (50) in einem Normalbetrieb, und zum Deaktivieren der internen Spannungsabsenkungsschaltung (1) sowie zum Einschalten des Schalters (50) während eines Tests ausgebildet ist.
einen Schalter (50), der zwischen dem Versorgungsspannungsan schluß (P1) und der internen Schaltung (3, 4) vorgesehen ist, wobei die Steuerschaltung (70) zum Aktivieren der internen Span nungsabsenkungsschaltung (1) und zum Abschalten des Schalters (50) in einem Normalbetrieb, und zum Deaktivieren der internen Spannungsabsenkungsschaltung (1) sowie zum Einschalten des Schalters (50) während eines Tests ausgebildet ist.
21. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 20,
gekennzeichnet durch eine Schaltung (71) zum externen Empfangen
eines Steuersignals zum Steuern der internen Schaltung (3, 4),
wobei die Steuerschaltung (70) die Steuerung während des Tests
durchführt, wenn der Zeitpunkt des Steuersignals ein vorbestimm
ter Zeitpunkt verschieden vom Zeitpunkt der Normaloperation ist.
22. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 20 oder 21,
gekennzeichnet durch eine Schaltung (74) zum externen Empfangen
eines Steuersignals zum Steuern der internen Schaltung (3, 4) und
einen externen Anschluß (Ai) zum Empfangen eines vorbestimmten
Signals oder Potentials,
wobei die Steuerschaltung (70) die Steuerung während des Tests vornimmt, wenn das Steuersignal einen vorbestimmten Zeitpunkt aufweist, der vom Zeitpunkt des Normalbetriebs verschieden ist und ein Spannungspegel des externen Anschlusses einen vorbe stimmten Spannungspegel aufweist, der vom Spannungspegel während des Normalbetriebs verschieden ist.
wobei die Steuerschaltung (70) die Steuerung während des Tests vornimmt, wenn das Steuersignal einen vorbestimmten Zeitpunkt aufweist, der vom Zeitpunkt des Normalbetriebs verschieden ist und ein Spannungspegel des externen Anschlusses einen vorbe stimmten Spannungspegel aufweist, der vom Spannungspegel während des Normalbetriebs verschieden ist.
23. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 20 bis 22,
dadurch gekennzeichnet, daß der Schalter (50) ein MOS-Transistor
(Q50; Q35) ist.
24. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß der Verstärker (100) eine Stromspie
gelschaltung umfaßt.
25. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 24,
gekennzeichnet durch eine interne Spannungsversorgungsleitung
(L2), die mit der internen Versorgungsspannung versorgt wird,
einem externen Anschluß (pa) zum Empfangen eines vorbestimmten Signals oder Potentials, und
eine Überwachungsschaltung (110) mit einem zwischen dem externen Anschluß (pa) und der internen Versorgungsspannungsleitung (L2) verbundenen Transistor mit einem bekannten Schwellenspannungswert.
einem externen Anschluß (pa) zum Empfangen eines vorbestimmten Signals oder Potentials, und
eine Überwachungsschaltung (110) mit einem zwischen dem externen Anschluß (pa) und der internen Versorgungsspannungsleitung (L2) verbundenen Transistor mit einem bekannten Schwellenspannungswert.
26. Verfahren zum Überwachen eines Potentials auf einer internen
Versorgungsspannungsleitung in einer Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 25 mit
einer internen Spannungsversorgungsleitung (L2), an die eine
interne Versorgungsspannung angelegt wird,
einem externen Anschluß (pa) zum Empfangen eines vorbestimmten Signals oder Potentials, und
einem zwischen dem externen Anschluß (pa) und der internen Spannungsversorgungsleitung (L2) verbundenen Transistor, gekennzeichnet durch den Schritt:
Berechnen des Potentials der internen Spannungsversorgungsleitung (L2) auf der Basis einer Spannung des externen Anschlusses (pa) und einer Schwellenspannung des Transistors.
einem externen Anschluß (pa) zum Empfangen eines vorbestimmten Signals oder Potentials, und
einem zwischen dem externen Anschluß (pa) und der internen Spannungsversorgungsleitung (L2) verbundenen Transistor, gekennzeichnet durch den Schritt:
Berechnen des Potentials der internen Spannungsversorgungsleitung (L2) auf der Basis einer Spannung des externen Anschlusses (pa) und einer Schwellenspannung des Transistors.
27. Verfahren nach Anspruch 26,
dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleitervorrichtung einen
ersten Anschluß (P1) umfaßt, zum Empfangen eines
Versorgungspotentials, und einen zweiten Anschluß (P2) umfaßt,
zum Empfangen eines Erdpotentials,
wobei eine Überwachungsvorrichtung (110) eine Mehrzahl von
Transistoren (QN1, QN2, QN3) umfaßt, die zwischen dem externen
Anschluß (pa; EP) und der internen Spannungsversorgungsleitung
(L2) verbunden sind, und der Berechnungsschritt die folgenden
Schritte umfaßt:
Überwachen eines zwischen dem ersten Anschluß (O1) und dem zweiten Anschluß (O2) fließenden Stroms,
Anlegen eines schrittweise ansteigenden Potentials an den ex ternen Anschluß (pa; EP),
Erkennen eines Anstiegs im Strom, der zwischen dem ersten An schluß (P1) und dem zweiten Anschluß (P2) fließt, und
Berechnen des Potentials der internen Spannungsversorgungsleitung (L2) auf der Basis eines Potentials des externen Anschlusses (pa; EP) bei dem Erkennen sowie einer Schwellenspannung der Mehrzahl von Transistoren (QN1, QN2, QN3).
Überwachen eines zwischen dem ersten Anschluß (O1) und dem zweiten Anschluß (O2) fließenden Stroms,
Anlegen eines schrittweise ansteigenden Potentials an den ex ternen Anschluß (pa; EP),
Erkennen eines Anstiegs im Strom, der zwischen dem ersten An schluß (P1) und dem zweiten Anschluß (P2) fließt, und
Berechnen des Potentials der internen Spannungsversorgungsleitung (L2) auf der Basis eines Potentials des externen Anschlusses (pa; EP) bei dem Erkennen sowie einer Schwellenspannung der Mehrzahl von Transistoren (QN1, QN2, QN3).
28. Verfahren nach Anspruch 26,
dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleitervorrichtung eine Kon
stantspannungsquelle (V) zum Bereitstellen einer Konstantspannung
umfaßt,
eine Überwachungsvorrichtung (110) erste und zweite Transistoren (QN4, QN5) umfaßt, die in Reihe zwischen dem externen Anschluß (pa; EP) und der Konstantspannungsquelle (V) verbunden sind, und eine Signalgeneratorvorrichtung (111) umfaßt, zum Erzeugen eines Spezialmodussignals, wobei der erste Transistor (QN4) mit seinem Steueranschluß mit der internen Spannungsversorgungsleitung (L2) verbunden ist,
und der Berechnungsschritt die folgenden Schritte umfaßt:
Einschalten des zweiten Transistors (QN5) als Reaktion auf das Spezialmodussignal,
Überwachen eines Stroms, der zwischen dem externen Anschluß (pa; EP) und der Konstantspannungsquelle (V) fließt,
Anlegen eines schrittweise ansteigenden Potentials an den exter nen Anschluß (pa; EP),
Erkennen, daß ein Strom zwischen dem externen Anschluß (pa; EP) und der Konstantspannungsquelle (V) zu fließen beginnt, und Berechnen eines Potentials der internen Spannungsversorgungslei tung (L2) auf der Basis des Potentials des externen Anschlusses (pa; EP) bei dem Erkennen sowie auf der Basis einer Schwellenspan nung des ersten Transistors (QN4).
eine Überwachungsvorrichtung (110) erste und zweite Transistoren (QN4, QN5) umfaßt, die in Reihe zwischen dem externen Anschluß (pa; EP) und der Konstantspannungsquelle (V) verbunden sind, und eine Signalgeneratorvorrichtung (111) umfaßt, zum Erzeugen eines Spezialmodussignals, wobei der erste Transistor (QN4) mit seinem Steueranschluß mit der internen Spannungsversorgungsleitung (L2) verbunden ist,
und der Berechnungsschritt die folgenden Schritte umfaßt:
Einschalten des zweiten Transistors (QN5) als Reaktion auf das Spezialmodussignal,
Überwachen eines Stroms, der zwischen dem externen Anschluß (pa; EP) und der Konstantspannungsquelle (V) fließt,
Anlegen eines schrittweise ansteigenden Potentials an den exter nen Anschluß (pa; EP),
Erkennen, daß ein Strom zwischen dem externen Anschluß (pa; EP) und der Konstantspannungsquelle (V) zu fließen beginnt, und Berechnen eines Potentials der internen Spannungsversorgungslei tung (L2) auf der Basis des Potentials des externen Anschlusses (pa; EP) bei dem Erkennen sowie auf der Basis einer Schwellenspan nung des ersten Transistors (QN4).
29. Verfahren nach Anspruch 26,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Überwachungsvorrichtung (110)
einen Transistor (QP1; QN8) umfaßt, der zwischen dem externen
Anschluß (pa; EP) und der internen Spannungsversorgungsleitung
(L2) verbunden ist und eine Signalgeneratorschaltung (111) um
faßt, zum Erzeugen eines Spezialmodussignals, und
der Berechnungsschritt die folgenden Schritte umfaßt:
Einschalten des Transistors (QP1, QN8) als Reaktion auf das Spe zialmodussignal und
Überwachen des Potentials der internen Spannungsversorgungslei tung (L2) durch Überwachen des Potentials des externen Anschlus ses (pa; EP).
Einschalten des Transistors (QP1, QN8) als Reaktion auf das Spe zialmodussignal und
Überwachen des Potentials der internen Spannungsversorgungslei tung (L2) durch Überwachen des Potentials des externen Anschlus ses (pa; EP).
30. Verfahren nach Anspruch 26,
dadurch gekennzeichnet, daß der externe Anschluß erste und zweite
Anschlüsse (EP1, EP2) umfaßt, zum Empfangen eines vorbestimmten
Signals oder Potentials,
eine Überwachungsschaltung (110) einen ersten Transistor (QN7) umfaßt, der zwischen den ersten und zweiten Anschlüssen (EP1, EP2) verbunden ist und einen Steueranschluß aufweist,
einen zweiten Transistor (QT2) umfaßt, der zwischen der internen Spannungsversorgungsleitung (L2) und dem Steueranschluß des er sten Transistors (QN7) verbunden ist und eine Signalgenerator vorrichtung (111) umfaßt, zum Erzeugen eines Spezialmodussignals, und
der Berechnungsschritt die folgenden Schritte umfaßt:
Einschalten des zweiten Transistors (QP2) als Reaktion auf das Spezialmodussignal,
Überwachen eines Stroms, der zwischen den ersten und zweiten Anschlüssen (EP1, EP2) fließt,
Anlegen eines vorbestimmten Potentials an den ersten Anschluß (EP1),
Anlegen einer schrittweise absinkenden Spannung an den zweiten Anschluß (EP2),
Erkennen, daß der Strom zwischen den ersten und zweiten An schlüssen (EP1, EP2) zu fließen beginnt, und
Berechnen eines Potentials der internen Spannungsversorgungslei tung (L2) auf der Basis des Potentials des zweiten Anschlusses (EP2) bei dem Erkennen sowie auf der Basis der Schwellenspannung des ersten Transistors (QN7).
eine Überwachungsschaltung (110) einen ersten Transistor (QN7) umfaßt, der zwischen den ersten und zweiten Anschlüssen (EP1, EP2) verbunden ist und einen Steueranschluß aufweist,
einen zweiten Transistor (QT2) umfaßt, der zwischen der internen Spannungsversorgungsleitung (L2) und dem Steueranschluß des er sten Transistors (QN7) verbunden ist und eine Signalgenerator vorrichtung (111) umfaßt, zum Erzeugen eines Spezialmodussignals, und
der Berechnungsschritt die folgenden Schritte umfaßt:
Einschalten des zweiten Transistors (QP2) als Reaktion auf das Spezialmodussignal,
Überwachen eines Stroms, der zwischen den ersten und zweiten Anschlüssen (EP1, EP2) fließt,
Anlegen eines vorbestimmten Potentials an den ersten Anschluß (EP1),
Anlegen einer schrittweise absinkenden Spannung an den zweiten Anschluß (EP2),
Erkennen, daß der Strom zwischen den ersten und zweiten An schlüssen (EP1, EP2) zu fließen beginnt, und
Berechnen eines Potentials der internen Spannungsversorgungslei tung (L2) auf der Basis des Potentials des zweiten Anschlusses (EP2) bei dem Erkennen sowie auf der Basis der Schwellenspannung des ersten Transistors (QN7).
31. Verfahren nach Anspruch 26,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Überwachungsschaltung (110)
einen ersten Transistor (QN10) umfaßt, der als Diode geschaltet mit der in
ternen Spannungsversorgungsleitung (L2) verbunden ist, einen
zweiten Transistor (QP3) umfaßt, der zwischen dem ersten Transi
stor (QN10) und dem externen Anschluß (pa; EP) verbunden ist,
sowie eine Signalgeneratorvorrichtung (111) umfaßt, zum Erzeugen
eines Spezialmodussignals, und
der Berechnungsschritt die folgenden Schritte umfaßt:
Einschalten des zweiten Transistors (QP3) als Reaktion auf das Spezialmodussignal,
Überwachen eines Potentials des externen Anschlusses (pa; EP) und Berechnen der internen Versorgungsspannung (L2) auf der Basis der Schwellenspannung des ersten Transistors (QN10) und des Potentials des externen Anschlusses (pa; EP).
der Berechnungsschritt die folgenden Schritte umfaßt:
Einschalten des zweiten Transistors (QP3) als Reaktion auf das Spezialmodussignal,
Überwachen eines Potentials des externen Anschlusses (pa; EP) und Berechnen der internen Versorgungsspannung (L2) auf der Basis der Schwellenspannung des ersten Transistors (QN10) und des Potentials des externen Anschlusses (pa; EP).
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|---|---|
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