DE4309364C2 - Halbleiterspeichervorrichtung und Betriebsverfahren dafür - Google Patents

Halbleiterspeichervorrichtung und Betriebsverfahren dafür

Info

Publication number
DE4309364C2
DE4309364C2 DE4309364A DE4309364A DE4309364C2 DE 4309364 C2 DE4309364 C2 DE 4309364C2 DE 4309364 A DE4309364 A DE 4309364A DE 4309364 A DE4309364 A DE 4309364A DE 4309364 C2 DE4309364 C2 DE 4309364C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
substrate bias
supply voltage
bias generator
memory device
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE4309364A
Other languages
English (en)
Other versions
DE4309364A1 (de
Inventor
Tsukasa Hagura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Publication of DE4309364A1 publication Critical patent/DE4309364A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4309364C2 publication Critical patent/DE4309364C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/145Applications of charge pumps; Boosted voltage circuits; Clamp circuits therefor
    • G11C5/146Substrate bias generators

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Halbleiterspeichervor­ richtung und ein Betriebsverfahren dafür. Insbesondere betrifft die Erfindung Substratvorspannungsgeneratorschaltungen von Halbleiterspeichervorrichtungen.
Fig. 12 ist ein Blockschaltbild mit einer herkömmlichen Halb­ leiterspeichervorrichtung vom dynamischen Typ mit einer internen Spannungsabsenkungskonverterschaltung (Spannungsabsenkungs­ konverter).
Die Halbleiterspeichervorrichtung umfaßt einen dynamischen Speicher mit wahlfreiem Zugriff (nachfolgend als DRAM bezeich­ net) 100, eine interne Spannungsabsenkungskonverterschaltung 200 sowie eine Substratvorspannungsgeneratorschaltung 300. Der DRAM 100, die interne Spannungsabsenkungskonverterschaltung 200 und die Substratvorspannungsgeneratorschaltung 300 sind auf einem Halbleitersubstrat CH gebildet.
An die Halbleiterspeichervorrichtung wird eine externe Versor­ gungsspannung Vcc und Masse Vss angelegt. Die interne Span­ nungsabsenkungskonverterschaltung 200 konvertiert die externe Versorgungsspannung Vcc herab zu einer vorbestimmten internen Versorgungsspannung IVcc, um diese an den DRAM 100 anzulegen. Die interne Spannungsabsenkungskonverterschaltung 200 ist vor­ gesehen, um die Zuverlässigkeit zu erhöhen, durch Vermindern von elektrischen Feldern, die an die Gateoxidfilme von Transistoren angelegt werden, und zum Vermindern des Stromverbrauches.
Um immer das Halbleitersubstrat CH auf einem vorbestimmten Po­ tential zu halten, erzeugt die Substratvorspannungsgenerator­ schaltung 300 eine Substratvorspannung VBB des vorbestimmten Potentiales. Die Substratvorspannungsgeneratorschaltung 300 ist zu den folgenden Zwecken vorgesehen.
Innerhalb einer integrierten CMOS-Schaltung ist ein parasitärer bipolarer Transistor gebildet. Wenn Elektronen von einem Einga­ beanschluß in beispielsweise ein P-Typ Halbleitersubstrat durch einen Unterschwung eines Eingabeimpulses injiziert werden, arbeitet der parasitäre bipolare Transistor, und ein Latch-up findet statt. Als Ergebnis werden in Speicherzellen gespeicherte Daten zerstört. Es ist daher notwendig, eine derartige Daten­ zerstörung zu verhindern.
Zusätzlich wird eine pn-Übergangskapazität zwischen dem Halb­ leitersubstrat und jedem Knoten der internen Schaltung gebildet. Wenn die pn-Übergangskapazität groß ist, wird eine Hochge­ schwindigkeitsoperation der Schaltung verhindert. Daher ist es notwendig, eine derartige pn-Übergangskapazität zu verringern.
Ferner hängt eine Schwellspannung eines MOS-Transistors von einem Potential des Halbleitersubstrates ab. Dies ist der soge­ nannte Body-Effekt der Schwellspannung des Transistors. Wenn das Potential des P-Typ Halbleitersubstrates relativ niedrig ist, ändert sich die Schwellspannung der N-Kanal-MOS-Transistoren kaum, obwohl das Potential des Halbleitersubstrates sich ändert. Wenn allerdings das Potential des P-Typ Halbleitersubstrates relativ hoch ist, ändert sich die Schwellspannung des N-Kanal-MOS-Transistors beträchtlich, entsprechend der Änderung des Potentials des Halbleitersubstrates. Es ist daher notwendig, stets das Potential des P-Typ Halbleitersubstrates niedrig zu halten.
Die Substratvorspannungsgeneratorschaltung 300 ist zum Verhin­ dern einer Zerstörung von Speicherzellendaten, zum Ermöglichen einer Hochgeschwindigkeitsschaltungsoperation durch Vermindern einer pn-Übergangskapazität und zum Ermöglichen einer Hochge­ schwindigkeits- und stabilisierten Schaltungsoperation durch Vermindern des Body-Effektes der Schwellspannung vorgesehen.
Fig. 13 ist ein Schaltbild mit dem Aufbau einer herkömmlichen Substratvorspannungsgeneratorschaltung. Beispielsweise ist eine Substratvorspannungsgeneratorschaltung in den japanischen Patentoffenlegungsschriften Nr. 1-223 693, 1-255 095 sowie 2-61 890 offenbart.
Die Substratvorspannungsgeneratorschaltung 300 umfaßt zwei VBB-Ge­ neratorschaltungen 31, 32. Die VBB-Generatorschaltung 31 umfaßt Inverter G11 bis G14 sowie ein NOR-Gatter G15, einen Kondensator C1 sowie N-Kanal-MOS-Transistoren N11, N12.
Die Inverter G11 bis G14 sind in Reihe verbunden, und der Aus­ gabeanschluß des Inverters G14 ist mit einem Eingabeanschluß des NOR-Gatters G15 verbunden. Der Ausgang des NOR-Gatters G15 ist mit dem Eingabeanschluß des Inverters G11 verbunden. Die In­ verter G11 bis G14 sowie das NOR-Gatter G15 bilden einen Ring­ oszillator.
Der andere Eingabeanschluß des NOR-Gatters G15 ist mit einem Aktivierungsanschluß BBE verbunden. Der Ausgabeanschluß des NOR-Gatters G15 (Knoten NA) ist mit einer Elektrode des Kondensators C1 verbunden, und die andere Elektrode des Kondensators C1 ist mit einem Knoten NB verbunden. Der Transistor N11 ist zwischen dem Knoten NB und einem Ausgabeanschluß TO verbunden, der die Substratvorspannung VBB bereitstellt, und der Transi­ stor N12 ist zwischen dem Knoten NB und einem Erdanschluß ver­ bunden. Der Aktivierungsanschluß BBE ist mit dem Erdanschluß verbunden.
Der Aufbau der VBB-Generatorschaltung 32 entspricht dem der VBB-Ge­ neratorschaltung 31, mit der Ausnahme, daß ein Kondensator C2 in der VBB-Generatorschaltung 32 einen größeren Kapazitätswert aufweist, als der Kondensator C1 in der VBB-Generatorschaltung 31, und daß eine Substratspannung VBB, die vom Ausgabeanschluß TO der VBB-Generatorschaltung 32 bereitgestellt wird, an einen Pegeldetektor 33 angelegt wird und ein Aktivierungsanschluß BBE mit einem Ausgabesignal des Pegeldetektors 33 versorgt wird.
Fig. 14 zeigt den Aufbau des Inverters G11, der in den VBB-Ge­ neratorschaltungen 31, 32 enthalten ist. Der Inverter G11 umfaßt einen P-Kanal-MOS-Transistor P21 sowie einen N-Kanal-MOS-Tran­ sistor N21. Der Transistor P21 ist zwischen einem Span­ nungsversorgungsanschluß, der die externe Versorgungsspannung Vcc empfängt, sowie einem Ausgabeanschluß b verbunden, und der Transistor N21 ist zwischen dem Ausgabeanschluß b und einem Erdanschluß verbunden. Die Gates der Transistoren P21, N21 sind mit einem Eingabeanschluß a verbunden. Der Aufbau der Inverter G12 bis G14 entspricht dem des Inverters G11.
Fig. 15 zeigt den Aufbau des NOR-Gatters G15 in den VBB-Genera­ torschaltungen 31, 32. Das NOR-Gatter G15 umfaßt P-Kanal-MOS-Tran­ sistoren P31, P32 sowie N-Kanal-MOS-Transistoren N31, N32. Die Transistoren P31, P32 sind in Reihe zwischen einem Span­ nungsversorgungsanschluß, der die externe Versorgungsspannung Vcc empfängt, sowie einem Ausgabeanschluß C verbunden. Die Transistoren N31, N32 sind parallel zwischen dem Ausgabeanschluß C und einem Erdanschluß verbunden. Die Gates der Transistoren P32, N31 sind mit einem Eingabeanschluß A verbunden, und die Gates der Transistoren P31, N32 sind mit einem Eingabeanschluß B verbunden.
Die Inverter G11 bis G14 sowie das NOR-Gatter G15 der VBB-Gene­ ratorschaltungen 31, 32 werden daher durch die externe Versor­ gungsspannung Vcc betrieben.
Unter Bezug auf das Signalpulsdiagramm in Fig. 16 wird nachfol­ gend der Betrieb der in Fig. 13 gezeigten VBB-Generatorschaltung 31 beschrieben. In dieser Figur beträgt die Schwellspannung der Transistoren N11, N12 - Vth.
Da der Aktivierungsanschluß BBE der VBB-Generatorschaltung 31 mit dem Erdanschluß verbunden ist, arbeitet das NOR-Gatter G15 als Inverter. Folglich bilden die Inverter G11 bis G14 und das NOR-Gatter G15 einen Ringoszillator, und ein Potential des Knotens NA ist eine Rechteckwelle, die wiederholt zwischen der externen Versorgungsspannung Vcc und 0 Volt wechselt. Durch den Betrieb des Kondensators C1 und des Transistors N12 wird das Potential des Knotens NB eine Rechteckwelle, die zwischen der Spannung Vth und der Spannung Vth - Vcc schwankt. Als Ergebnis wird die Substratvorspannung VBB auf dem Pegel 2Vth - Vcc am Ausgabeanschluß TO erzeugt.
Wenn beispielsweise die externe Versorgungsspannung Vcc 5 Volt beträgt und die Schwellspannung Vth der Transistoren N11, N12 1 Volt beträgt, beträgt die Substratvorspannung VBB -3 Volt.
Die in Fig. 13 gezeigte VBB-Generatorschaltung 32 wird als Reaktion auf ein Ausgabesignal des Pegeldetektors 33 aktiviert.
Der Pegeldetektor 33 legt ein Ausgabesignal mit "L" an den Ak­ tivierungsanschluß BBE an, wenn die Substratvorspannung VBB höher als beispielsweise -2 Volt ist, wodurch die VBB-Gene­ ratorschaltung 32 aktiviert wird. Wenn die Substratvorspannung VBB unterhalb von -2 Volt fällt, legt der Pegeldetektor 33 ein Ausgabesignal mit "H" an den Aktivierungsanschluß BBE an, wodurch die VBB-Generatorschaltung 32 deaktiviert wird.
Kurz gesagt, sowohl die VBB-Generatorschaltung 31 mit dem kleinen Kondensator C1 als auch die VBB-Generatorschaltung 32 mit der großen Kapazität C2 arbeiten, bis die Substratvorspan­ nung VBB auf -2 Volt fällt, und wenn die Substratvorspannung VBB niedriger als -2 Volt wird, arbeitet nur die VBB-Genera­ torschaltung 31 mit dem kleinen Kondensator C1. Auf die oben beschriebene Weise wird die Substratvorspannung VBB, beispiels­ weise -3 Volt, an das in Fig. 12 gezeigte Halbleitersubstrat CH angelegt.
Wie oben beschrieben wird bei der in Fig. 12 gezeigten herkömm­ lichen Halbleiterspeichervorrichtung das Halbleitersubstrat CH stets mit der Substratvorspannung VBB beaufschlagt, über die Substratvorspannungsgeneratorschaltung 300, die von der externen Versorgungsspannung Vcc betrieben wird.
Folglich entsteht ein Problem großen Stromverbrauches.
Aus der DE 40 39 524 A1 ist eine Halbleiterspeichervorrichtung bekannt, die die Merkmale des Oberbegriffes des Anspruchs 1 aufweist.
Die Umschreibung der Treiberspannung für die Substratvorspan­ nungsgeneratorvorrichtung von der höheren zu der niedrigeren Spannung wird von dem momentanen Betriebszustand (aktiv/in­ aktiv) gesteuert.
Aus JP 2-312095 A ist eine Halbleiterspeichervorrichtung be­ kannt, bei der die Treiberspannung für die Substratvorspan­ nungsgeneratorvorrichtung zur Reduzierung des Stromverbrauches (um die Schwellspannung einer zugehörigen MOS-Diode) herabge­ setzt wird, wenn sich der Speicher in einem inaktiven Zustand (self-refresh) befindet.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, den Stromverbrauch einer Substratvorspannungsgeneratorvorrichtung einer Halbleiterspei­ chereinrichtung zu vermindern, wobei diese Halbleiterspeicher­ einrichtung eine interne Konvertervorrichtung zum Konvertieren einer externen Versorgungsspannung auf eine niedrigere interne Versorgungsspannung aufweist. Ferner ist der Stromverbrauch in einem Stand by-Zustand eines dynamischen Direktzugriffspei­ chers, der eine interne Konvertervorrichtung zum Absenken der Spannung aufweist, zu vermindern.
Diese Aufgabe wird durch eine Halbleiterspeichervorrichtung mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst. Sie wird auch durch ein Betriebsverfahren für eine Halbleiterspeichervor­ richtung mit den Merkmalen des Patentanspruchs 13 gelöst.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den jeweiligen Unteransprüchen.
Bei der Halbleiterspeichervorrichtung wird die Treiberspannung der Substratvorspannungsgeneratorschaltung umgeschaltet, abhän­ gig davon, ob die Speicherschaltung im aktiven Zustand oder im Stand by-Zustand ist. Folglich kann unnötig verbrauchter Strom der Substratvorspannungsgeneratorschaltung im Stand by-Zustand und damit der Stromverbrauch der Halbleiterspeichervorrichtung vermindert werden.
Es folgt die Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Figuren.
Von den Figuren zeigen:
Fig. 1 ein Blockschaltbild mit dem Gesamtaufbau einer Halb­ leiterspeichervorrichtung gemäß einer ersten Ausfüh­ rungsform;
Fig. 2 ein Schaltbild mit dem Aufbau einer Substratvorspan­ nungsgeneratorschaltung in der Halbleiterspeichervor­ richtung entsprechend der ersten Ausführungsform;
Fig. 3 ein Signalpulsdiagramm mit dem Betrieb der in Fig. 2 gezeigten Substratvorspannungsgeneratorschaltung;
Fig. 4 ein Blockdiagramm mit dem Aufbau einer Substratvor­ spannungsgeneratorschaltung in einer Halbleiterspei­ chervorrichtung gemäß einer zweiten Ausführungsform;
Fig. 5 ein Signalpulsdiagramm mit dem Betrieb der in Fig. 4 gezeigten Substratvorspannungsgeneratorschaltung;
Fig. 6 ein Blockschaltbild mit dem Aufbau einer Substratvor­ spannungsgeneratorschaltung in einer Halbleiterspei­ chervorrichtung gemäß einer dritten Ausführungsform;
Fig. 7 ein Signalpulsdiagramm mit dem Betrieb der Substrat­ vorspannungsgeneratorschaltung aus Fig. 6;
Fig. 8 ein Blockschaltbild mit einem Beispiel des Aufbaues eines DRAM in der Halbleiterspeichervorrichtung aus Fig. 1;
Fig. 9 ein Schaltbild mit einem Beispiel eines Aufbaues einer internen Spannungsabsenkungskonverterschaltung in der Halbleiterspeichervorrichtung aus Fig. 1;
Fig. 10 ein Schaltbild mit einem Beispiel des Aufbaues einer Differenzverstärkerschaltung in der internen Spannungs­ absenkungskonverterschaltung aus Fig. 9;
Fig. 11 ein Diagramm mit den Charakteristiken der internen Spannungsabsenkungskonverterschaltung aus Fig. 9;
Fig. 12 ein Blockschaltbild mit dem Aufbau einer herkömmlichen Halbleiterspeichervorrichtung;
Fig. 13 ein Schaltbild mit dem Aufbau einer Substratvorspan­ nungsgeneratorschaltung in der Halbleiterspeichervor­ richtung aus Fig. 12;
Fig. 14 ein Schaltbild mit dem Aufbau eines Inverters in der Substratvorspannungsgeneratorschaltung aus Fig. 13;
Fig. 15 ein Schaltbild mit dem Aufbau eines NOR-Gatters in der Substratvorspannungsgeneratorschaltung aus Fig. 13; und
Fig. 16 ein Signalpulsdiagramm mit dem Betrieb der Substrat­ vorspannungsgeneratorschaltung aus Fig. 13.
Fig. 1 ist ein Blockschaltbild mit dem Gesamtaufbau einer Halb­ leiterspeichervorrichtung gemäß einer ersten Ausführungsform. In Fig. 1 sind ein DRAM 1, eine interne Spannungsabsenkungskon­ verterschaltung 2 sowie eine Substratvorspannungsgenerator­ schaltung 3 auf dem Halbleitersubstrat CH gebildet. Die externe Versorgungsspannung Vcc und die Masse Vss werden an die Halb­ leiterspeichervorrichtung angelegt.
Der DRAM 1 umfaßt ein Speicherzellenfeld 11, eine Peripherie­ schaltung 12 sowie eine Ausgabeschaltung 13. An die Peripherie­ schaltung 12 wird ein Adreßsignal Add, ein externes Zeilen­ adreßpulssignal /RAS, ein externes Spaltenadreßpulssignal /CAS sowie ein externes Schreibaktivierungssignal /WE angelegt. An die Peripherieschaltung 12 wird ebenfalls das Eingabedatum Din extern angelegt. Die Ausgabeschaltung 13 stellt Ausgabedaten Dout nach außen bereit.
Die interne Spannungsabsenkungskonverterschaltung 2 umfaßt eine Referenzspannungsgeneratorschaltung 21, eine Differenzverstär­ kerschaltung 22 sowie eine Hybridumschaltschaltung 23. Die interne Spannungsabsenkungskonverterschaltung 2 konvertiert die externe Versorgungsspannung Vcc herab auf die vorbestimmte in­ terne Versorgungsspannung IVcc. Die externe Versorgungsspannung Vcc beträgt beispielsweise 5 Volt, und die interne Versorgungs­ spannung IVcc beträgt beispielsweise 4 Volt. Die Hybridum­ schaltschaltung 23 wird durch ein Steuersignal DS aktiviert oder deaktiviert.
Das Speicherzellenfeld 11 und die Peripherieschaltung 12 im DRAM 1 werden mit der internen Versorgungsspannung IVcc beaufschlagt, und die Ausgabeschaltung 13 wird mit der externen Versorgungs­ spannung Vcc beaufschlagt.
Die Substratvorspannungsgeneratorschaltung 3 wird von der ex­ ternen Versorgungsspannung Vcc oder der internen Versorgungs­ spannung IVcc betrieben, zum Erzeugen der Substratvorspannung VBB. Die Substratvorspannung VBB beträgt beispielsweise -3 Volt.
Fig. 2 zeigt einen Detailaufbau der Substratvorspannungsgene­ ratorschaltung 3. Die Substratvorspannungsgeneratorschaltung 3 umfaßt die VBB-Generatorschaltungen 31, 32, den Pegeldetektor 33 sowie eine Umschaltschaltung 34. Die VBB-Generatorschaltung 31 mit einem kleinen Kondensator weist denselben Aufbau wie die VBB-Generatorschaltung 31 aus Fig. 13 auf. Ein Aktivierungs­ anschluß BBE der VBB-Generatorschaltung 31 ist mit einem Erd­ anschluß verbunden. Daher befindet sich die VBB-Generatorschal­ tung 31 stets im aktiven Zustand.
Die VBB-Generatorschaltung 32 mit einem großen Kondensator weist denselben Aufbau wie die in Fig. 13 gezeigte VBB-Generator­ schaltung 32 auf. Der Pegeldetektor 33 empfängt die Substrat­ vorspannung VBB, die von der VBB-Generatorschaltung 32 erzeugt wurde, und legt ein Ausgabesignal an einen Aktivierungsanschluß BBE der VBB-Generatorschaltung 32 an, wodurch sich die VBB-Ge­ neratorschaltung 32 im aktiven Zustand befindet, wenn die Substratvorspannung VBB höher als beispielsweise -2 Volt ist, und sich im inaktiven Zustand befindet, wenn die Substratvor­ spannung VBB unterhalb von -2 Volt fällt.
Die Umschaltschaltung 34 umfaßt P-Kanal-MOS-Transistoren P1, P2, N-Kanal-MOS-Transistoren N1, N2 sowie einen Inverter G1. Die Umschaltschaltung 34 reagiert auf das externe Zeilenadreßpuls­ signal /RAS und legt selektiv an eine Spannungsversorgungs­ schaltung L3 die externe Versorgungsspannung Vcc, die an eine Spannungsversorgungsleitung L1 angelegt ist, an, oder die in­ terne Versorgungsspannung IVcc, die über die interne Spannungs­ absenkungskonverterschaltung 2 auf einer Versorgungsspannungs­ leitung L2 liegt. Die VBB-Generatorschaltungen 31, 32 sind mit der Versorgungsspannungsleitung L3 verbunden.
Der in Fig. 1 gezeigte DRAM 1 befindet sich in einem Stand by-Zustand, wenn das externe Zeilenadreßpulssignal /RAS auf "H" steht, und er befindet sich in einem aktiven Zustand, wenn das externe Zeilenadreßpulssignal /RAS auf "L" steht.
Unter Bezug auf ein Signalpulsdiagramm in Fig. 3 wird nach­ folgend der Betrieb der Substratvorspannungsgeneratorschaltung 3 aus Fig. 2 beschrieben.
Wenn das externe Zeilenadreßpulssignal /RAS auf "L" steht (im aktiven Zustand), sind die Transistoren P1, N1 eingeschaltet und die Transistoren P2, N2 ausgeschaltet, so daß die an die Span­ nungsversorgungsschaltung L1 angelegte externe Versorgungsspan­ nung Vcc zur Spannungsversorgungsleitung L3 bereitgestellt wird. Als Ergebnis werden die VBB-Generatorschaltungen 31, 32 durch die externe Versorgungsspannung Vcc betrieben.
Zu diesem Zeitpunkt ist das Potential des Knotens NA (siehe Fig. 13) in den VBB-Generatorschaltungen 31, 32 eine Rechteckwelle, die wiederholt zwischen der externen Versorgungsspannung Vcc und 0 Volt wechselt. Das Potential des Knotens NB (siehe Fig. 13) ist eine Rechteckwelle, die wiederholt zwischen der Spannung Vth und der Spannung Vth - Vcc schwankt. Als Ergebnis beträgt die Substratvorspannung VBB 2 Vth - Vcc.
Wenn beispielsweise die externe Versorgungsspannung Vcc 5 Volt beträgt und die Schwellspannung Vth der Transistoren N1, N2 (siehe Fig. 13) 1 Volt beträgt, ist die Substratvorspannung VBB -3 V.
Wenn das externe Zeilenadreßpulssignal /RAS auf "H" steht (Stand by-Zustand), sind die Transistoren P1, N1 ausgeschaltet, die Transistoren P2, N2 sind eingeschaltet, so daß die interne Ver­ sorgungsspannung IVcc, die an die Spannungsversorgungsleitung L2 angelegt ist, an die Versorgungsspannungsleitung L3 angelegt wird. Als Ergebnis werden die VBB-Generatorschaltungen 31, 32 durch die interne Versorgungsspannung IVcc betrieben.
Zu diesem Zeitpunkt ist das Potential des Knotens NA in den VBB-Ge­ neratorschaltungen 31, 32 eine Rechteckwelle, die wiederholt zwischen der internen Versorgungsspannung IVcc und 0 Volt schwankt. Das Potential des Knotens NB ist eine Rechteckwelle, die wiederholt zwischen der Spannung Vth und der Spannung Vth - IVcc schwankt. Folglich beträgt die Substratvorspannung VBB = 2 Vth - IVcc.
Wenn die interne Versorgungsspannung IVcc beispielsweise 4 Volt beträgt, ist die Substratvorspannung VBB = -2 V.
Kurz gesagt, wenn sich der DRAM 1 in dem aktiven Zustand befin­ det, werden die VBB-Generatorschaltungen 31, 32 durch die ex­ terne Versorgungsspannung Vcc betrieben, und wenn der DRAM 1 im Stand by-Zustand ist, werden die VBB-Generatorschaltungen 31, 32 durch die interne Versorgungsspannung IVcc betrieben.
Folglich kann der Stromverbrauch im Stand-by-Zustand vermindert werden. Kein Problem entsteht, selbst wenn das Potential am Halbleitersubstrat CH von -3 Volt auf -2 Volt im Stand- by-Zustand ansteigt.
Fig. 4 ist ein Schaltbild mit einem Detailaufbau einer Sub­ stratvorspannungsgeneratorschaltung einer Halbleiterspeicher­ vorrichtung gemäß einer zweiten Ausführungsform. Der Gesamtauf­ bau der Halbleiterspeichervorrichtung der vorliegenden Ausfüh­ rungsform entspricht dem aus Fig. 1.
Die Substratvorspannungsgeneratorschaltung 3 umfaßt eine erste VBB-Generatorschaltung 31a, eine zweite VBB-Generatorschaltung 31b, eine dritte VBB-Generatorschaltung 32, einen Pegeldetektor 33 sowie eine Umschaltschaltung 34.
Die erste VBB-Generatorschaltung 31a, die einen kleinen Kondensator aufweist, besitzt denselben Aufbau wie die in Fig. 13 gezeigte VBB-Generatorschaltung 31.
Entsprechend besitzt die zweite VBB-Generatorschaltung 31b, die einen kleinen Kondensator aufweist, denselben Aufbau wie die der in Fig. 13 gezeigten VBB-Generatorschaltung 31. Die erste VBB-Ge­ neratorschaltung 31a ist mit der Versorgungsspannungsleitung L1 verbunden, auf der die externe Versorgungsspannung Vcc liegt. Die zweite VBB-Generatorschaltung 31b ist mit der Versorgungs­ spannungsleitung L2 verbunden, auf der die interne Versorgungs­ spannung IVcc liegt, die von der internen Spannungsabsenkungs­ konverterschaltung 2 erzeugt wurde. Folglich wird die erste VBB-Generatorschaltung 31a durch die externe Versorgungsspannung Vcc betrieben, und die zweite VBB-Generatorschaltung 31b wird durch die interne Versorgungsspannung IVcc betrieben.
Die VBB-Generatorschaltung 32 mit einem großen Kondensator weist denselben Aufbau wie die in Fig. 13 gezeigte VBB-Generator­ schaltung 32 auf. Die VBB-Generatorschaltung 32 ist mit der Spannungsversorgungsleitung L1 verbunden. Der Pegeldetektor 33 empfängt die Substratvorspannung VBB, die von der VBB-Gene­ ratorschaltung 32 erzeugt worden ist, und legt ein Ausgabesignal an einen Aktivierungsanschluß BBE der VBB-Generatorschaltung 32 an. Der Betrieb der VBB-Generatorschaltung 32 und des Pegeldetektors 33 entsprechen der in Fig. 2 gezeigten VBB-Ge­ neratorschaltung 32 bzw. dem Pegeldetektor 33.
Die Umschaltschaltung 34 umfaßt einen Inverter G2. Ein Akti­ vierungsanschluß BBE der ersten VBB-Generatorschaltung 31a wird mit dem externen Zeilenadreßpuls /RAS beaufschlagt, und ein Ak­ tivierungsanschluß BBE der zweiten VBB-Generatorschaltung 31b wird mit dem externen Zeilenadreßpulssignal /RAS über den Inverter G2 beaufschlagt.
Wie im Signalpulsdiagramm aus Fig. 5 gezeigt, wird nachfolgend der Betrieb der in Fig. 4 gezeigten Substratvorspannungsgene­ ratorschaltung beschrieben. In Fig. 5 bezeichnen NA und NB die Potentiale auf den Knoten NA und NB in der ersten VBB-Genera­ torschaltung 31a (siehe Fig. 13), und NA′ sowie NB′ bezeichnen die Potentiale der Knoten NA und NB der zweiten VBB-Generator­ schaltung 31b (siehe Fig. 13).
Wenn sich das externe Zeilenadreßpulssignal /RAS auf "L" befindet (im aktiven Zustand), ist die erste VBB-Generator­ schaltung 31a in einem aktiven Zustand, und die zweite VBB-Ge­ neratorschaltung 31b ist in einem inaktiven Zustand.
Zu diesem Zeitpunkt ist das Potential des Knotens NA in der ersten VBB-Generatorschaltung 31a eine Rechteckwelle, die wie­ derholt zwischen der externen Versorgungsspannung Vcc und 0 Volt schwankt. Das Potential des Knotens NB in der ersten VBB-Gene­ ratorschaltung 31a ist eine Rechteckwelle, die wiederholt zwi­ schen der Spannung Vth und der Spannung Vth - Vcc schwankt.
Da zu diesem Zeitpunkt die zweite VBB-Generatorschaltung 31b im inaktiven Zustand ist, beträgt das Potential des Knotens NA (NA′) in der zweiten VBB-Generatorschaltung 31b 0 Volt, und das Potential des Knotens NB (NB′) ist die Spannung Vth - IVcc.
Als Ergebnis ist die Substratvorspannung VBB 2 Vth - Vcc. Wenn die externe Versorgungsspannung Vcc beispielsweise 5 Volt be­ trägt, und die Schwellspannung Vth der Transistoren N11, N12 (siehe Fig. 13) in der ersten VBB-Generatorschaltung 31a bei­ spielsweise 1 Volt beträgt, ist die Substratvorspannung VBB gleich -3 Volt.
Wenn das externe Zeilenadreßpulssignal /RAS auf "H" steht (Stand by-Zustand), tritt die erste VBB-Generatorschaltung 31a in einen inaktiven Zustand ein, und die zweite VBB-Generatorschaltung 31b tritt in einen aktiven Zustand ein.
Folglich ist das Potential des Knotens NA (NA′) in der zweiten VBB-Generatorschaltung 31b eine Rechteckwelle, die wiederholt zwischen der internen Versorgungsspannung IVcc und 0 Volt schwankt. Das Potential des Knotens NB (NB′) der zweiten VBB- Generatorschaltung 31b ist eine Rechteckwelle, die wiederholt zwischen der Spannung Vth und der Spannung Vth - IVcc schwankt.
Da zu diesem Zeitpunkt die erste VBB-Generatorschaltung 31a im inaktiven Zustand ist, beträgt das Potential des Knotens NA in der ersten VBB-Generatorschaltung 31a 0 Volt, und das Potential des Knotens NB beträgt Vth - Vcc. Folglich beträgt die Sub­ stratvorspannung VBB gleich 2 Vth - IVcc. Wenn die interne Ver­ sorgungsspannung IVcc beispielsweise 4 Volt beträgt, ist die Substratvorspannung VBB gleich -2 V.
Kurz gesagt, wenn der DRAM 1 im aktiven Zustand ist, wird die erste VBB-Generatorschaltung 31a, die durch die externe Versor­ gungsspannung Vcc betrieben wird, in Betrieb, und wenn der DRAM 1 im Stand by-Zustand ist, ist die zweite VBB-Generatorschaltung 31b, die durch die interne Versorgungsspannung IVcc betrieben, in Betrieb. Folglich kann der Stromverbrauch im Stand by-Zustand vermindert werden.
Fig. 6 ist ein Schaltbild mit einem detaillierten Aufbau einer Substratvorspannungsgeneratorschaltung einer Halbleiterspei­ chervorrichtung gemäß einer dritten Ausführungsform. Der Ge­ samtaufbau der Halbleiterspeichervorrichtung dieser Ausfüh­ rungsform entspricht dem in Fig. 1.
Die Substratvorspannungsgeneratorschaltung 3 umfaßt eine erste VBB-Generatorschaltung 31a, eine zweite VBB-Generatorschaltung 31b, eine dritte VBB-Generatorschaltung 32a, eine vierte VBB-Ge­ neratorschaltung 32b, Pegeldetektoren 33a, 33b sowie eine Umschaltschaltung 34.
Die erste VBB-Generatorschaltung 31a mit einem kleinen Konden­ sator weist denselben Aufbau wie die in Fig. 13 gezeigte VBB-Ge­ neratorschaltung auf. Entsprechend weist die zweite VBB-Ge­ neratorschaltung 31b mit einem kleinen Kondensator denselben Aufbau wie die in Fig. 13 gezeigte VBB-Generatorschaltung 31 auf.
Die erste VBB-Generatorschaltung 31a ist mit der Versorgungs­ spannungsleitung L1 verbunden, die mit der externen Versor­ gungsspannung Vcc beaufschlagt ist. Die zweite VBB-Generator­ schaltung 31b ist mit der Versorgungsspannungsleitung L2 verbunden, die mit der internen Versorgungsspannung IVcc durch die interne Spannungsabsenkungskonverterschaltung beaufschlagt ist.
Ein Aktivierungsanschluß BBE der ersten VBB-Generatorschaltung 31a wird mit dem externen Zeilenadreßpulssignal /RAS beauf­ schlagt. Ein Aktivierungsanschluß BBE der zweiten VBB-Generator­ schaltung 31b ist mit einem Erdanschluß verbunden. Daher wird die erste VBB-Generatorschaltung 31a als Reaktion auf das externe Zeilenadreßpulssignal /RAS aktiviert oder deaktiviert, während sich die zweite VBB-Generatorschaltung 31b stets im aktiven Zustand befindet.
Die dritte VBB-Generatorschaltung 32a mit einem großen Konden­ sator weist denselben Aufbau wie die in Fig. 13 gezeigte VBB-Ge­ neratorschaltung 32 auf. Entsprechend weist die vierte VBB-Ge­ neratorschaltung 32b mit einem großen Kondensator denselben Aufbau wie die in Fig. 13 gezeigte VBB-Generatorschaltung 32 auf.
Die dritte VBB-Generatorschaltung 32a ist mit der Versorgungs­ spannungsleitung L1 verbunden, die mit der externen Versor­ gungsspannung Vcc beaufschlagt ist. Die vierte VBB-Generator­ schaltung 32b ist mit der Spannungsversorgungsleitung L2 ver­ bunden, die mit der internen Versorgungsspannung IVcc beauf­ schlagt ist.
Die Umschaltschaltung 34 umfaßt OR-Gatter G3. Der Pegeldetektor 33a empfängt die Substratvorspannung VBB, die von der dritten VBB-Generatorschaltung 32a bereitgestellt wurde, und legt ein Ausgabesignal an einen Ausgabeanschluß des OR-Gatters G3 an. Der andere Eingabeanschluß des OR-Gatters G3 wird mit dem externen Zeilenadreßpulssignal /RAS beaufschlagt. Das Ausgabesignal des OR-Gatters G3 wird an einen Aktivierungsanschluß BBE der dritten VBB-Generatorschaltung 32a angelegt.
Wenn das externe Zeilenadreßpulssignal /RAS auf "L" steht (ak­ tiver Zustand), arbeiten die dritte VBB-Generatorschaltung 32a und der Pegeldetektor 33a entsprechend der VBB-Generatorschal­ tung 32 und dem Pegeldetektor 33 aus Fig. 2. Wenn das externe Zeilenadreßpulssignal /RAS auf "H" steht (Stand by-Zustand), ist das Ausgabesignal des OR-Gatters G3 "H", so daß die dritte VBB-Ge­ neratorschaltung 32a in einen inaktiven Zustand eintritt.
Der Pegeldetektor 33b empfängt die Substratvorspannung VBB, die von der vierten VBB-Generatorschaltung 32b erzeugt wird, und legt ein Ausgabesignal an einen Aktivierungsanschluß BBE der vierten VBB-Generatorschaltung 32b an. Der Betrieb der vierten VBB-Generatorschaltung 32b und des Pegeldetektors 33b ist derselbe wie bei der in Fig. 2 gezeigten VBB-Generatorschaltung 32 und dem Pegeldetektor 33.
Unter Bezug auf ein Signalpulsdiagramm in Fig. 7 wird der Betrieb der Substratvorspannungserzeugungsschaltung 3 aus Fig. 6 beschrieben. In Fig. 7 bezeichnen NA und NB die Potentiale auf den Knoten NA und NB in der ersten VBB-Generatorschaltung 31a (siehe Fig. 13), und NA′ sowie NB′ bezeichnen die Potentiale auf den Knoten NA und NB in der zweiten VBB-Generatorschaltung 31b (siehe Fig. 13).
Die zweite VBB-Generatorschaltung 31b befindet sich stets im aktiven Zustand. Daher ist das Potential des Knotens NA (NA′) in der zweiten VBB-Generatorschaltung 31b eine Rechteckwelle, die wiederholt zwischen der internen Versorgungsspannung IVcc und 0 Volt schwankt. Das Potential des Knotens NB (NB′) in der zweiten VBB-Generatorschaltung 31b ist eine Rechteckwelle, die wieder­ holt zwischen der Spannung Vth und der Spannung Vth - IVcc schwankt.
Wenn das externe Zeilenadreßpulssignal /RAS auf "L" steht (Aktivzustand) befindet sich die erste VBB-Generatorschaltung 31a im aktiven Zustand. Daher ist das Potential des Knotens NA und der ersten VBB-Generatorschaltung 31a eine Rechteckwelle, die wiederholt zwischen der externen Versorgungsspannung Vcc und 0 Volt schwankt. Das Potential des Knotens NB in der ersten VBB-Ge­ neratorschaltung 31a ist eine Rechteckwelle, die wiederholt zwischen der Spannung Vth und der Spannung Vth - Vcc schwankt.
Als Ergebnis beträgt die Substratvorspannung VBB 2 Vth - Vcc. Wenn die externe Versorgungsspannung Vcc beispielsweise 5 Volt beträgt und die Schwellspannung Vcc der Transistoren N11, N12 (siehe Fig. 13) in der ersten VBB-Generatorschaltung 31a bei­ spielsweise 1 Volt beträgt, ist die Substratvorspannung Vbb gleich -3 Volt.
Wenn das externe Zeilenadreßpulssignal /RAS auf "H" steht (Stand by-Zustand), tritt die erste VBB-Generatorschaltung 31a in einen inaktiven Zustand ein. Daher beträgt das Potential des Knotens NA in der ersten VBB-Generatorschaltung 31a 0 Volt, und das Potential des Knotens NB beträgt Vth - Vcc. In diesem Fall wird die durch die zweite VBB-Generatorschaltung 31b erzeugte Sub­ stratvorspannung VBB zu 2 Vth - IVcc. Wenn die interne Versor­ gungsspannung IVcc 4 Volt beträgt, beträgt die Substratvorspan­ nung VBB gleich -2 Volt.
Kurz gesagt, wenn der DRAM 1 im aktiven Zustand ist, arbeiten die erste und die zweite VBB-Generatorschaltung 31a, 31b zusammen, und wenn der DRAM 1 im Stand by-Zustand ist, stoppt die erste VBB-Generatorschaltung 31a, und die zweite VBB-Ge­ neratorschaltung 31b ist im Betrieb. Folglich kann der Stromverbrauch im Stand by-Zustand vermindert werden.
Die Stromanlegefähigkeit (Stromtreiberfähigkeit) der ersten VBB-Ge­ neratorschaltung 31a ist verglichen mit der zweiten VBB-Ge­ neratorschaltung 31b kleiner gewählt. Eine längere Oszilla­ tionsperiode eines in einer VBB-Generatorschaltung enthaltenen Ringoszillators führt zu geringerem durch jeden Inverter ge­ führten Strom, und eine geringere Stromversorgungsfähigkeit. Die Oszillationsperiode wird länger, wenn die Anzahl von Invertern, die den Ringoszillator bilden, ansteigt.
Fig. 8 ist ein Beispiel des Aufbaues des DRAM 1.
Wie in Fig. 8 gezeigt, umfaßt ein Speicherzellenfeld 110 eine Mehrzahl von Wortleitungen, eine Mehrzahl von Bitleitungspaaren BL, die die Mehrzahl von Wortleitungen schneiden, sowie eine Mehrzahl von Speicherzellen, die an Kreuzungspunkten der Wort­ leitungen mit den Bitleitungen vorgesehen sind. Fig. 8 zeigt nur eine Wortleitung WL, ein Bitleitungspaar BL und darin eine Speicherzelle MC.
Ein RAS-Puffer 120 empfängt das externe Zeilenadreßpulssignal /RAS und erzeugt ein internes Zeilenadreßpulssignal. Ein CAS-Puffer 130 empfängt das externe Spaltenadreßpulssignal /CAS und erzeugt ein internes Spaltenadreßpulssignal. Ein WE-Puffer 140 empfängt das externe Schreibaktivierungssignal /WE und erzeugt ein internes Schreibaktivierungssignal.
Ein Zeilenadreßpuffer 150 empfängt ein extern angelegtes Adreß­ signal Add und erzeugt ein Zeilenadreßsignal. Ein Zeilendekoder 160 wählt eine Mehrzahl von Wortleitungen WL im Speicherzellen­ feld 110 aus, als Reaktion auf das Zeilenadreßsignal. Daher werden Daten aus der Mehrzahl von Speicherzellen MC, die mit der Wortleitung WL verbunden sind, auf die entsprechenden Bitlei­ tungspaare BL ausgelesen. Die auf jedes Bitleitungspaar BL ausgelesenen Daten werden durch einen Leseverstärker verstärkt, der in einem Leseverstärker /IO-Gatter 170 enthalten ist.
Ein Spaltenadreßpuffer 180 empfängt das extern angelegte Adreß­ signal Add und erzeugt ein Spaltenadreßsignal. Ein Spaltende­ koder 190 wählt ein beliebiges der Mehrzahl von Bitleitungs­ paaren BL im Speicherzellenfeld 110 als Reaktion auf das Spaltenadreßsignal aus. Daher wird das ausgewählte Bitlei­ tungspaar BL mit einem Eingabe/Ausgabeleitungspaar IOB über ein I/O-Gatter verbunden, das in der Leseverstärker/IO-Gatter­ schaltung 170 enthalten ist.
Beim Schreiben von Daten werden extern angelegte Eingabedaten Din über einen Din-Puffer 200 und einen Schreibpuffer 210 an das Eingabe/Ausgabeleitungspaar IOB angelegt.
Beim Lesen von Daten werden Daten auf dem Eingabe/Ausgabelei­ tungspaar IOB durch einen Vorverstärker 220 und einen Haupt­ verstärker 230 verstärkt, und die verstärkten Daten werden als Ausgabedatensignale Dout über einen Ausgabepuffer 240 bereit­ gestellt.
Eine RX-Generatorschaltung 250 erzeugt ein Treibersignal zum Treiben des Zeilendekoders 160 als Reaktion auf das interne Zeilenadreßpulssignal. Eine SA-Treiberschaltung 260 erzeugt ein Treibersignal zum Treiben des Leseverstärkers in der Lesever­ stärker/IO-Gatterschaltung 170 als Reaktion auf das Ausgabe­ signal der RX-Generatorschaltung 250. Eine Generatorschaltung 270 für ein Interlock-Release-Signal erzeugt ein Inter­ lock-Release-Signal (Verriegelungs-Lösesignal) als Reaktion auf das Ausgabesignal der SA-Treiberschaltung 260. Eine ATD-Erzeugungs­ schaltung 280 steuert den Schreibpuffer 210, den Vorverstärker 220, den Hauptverstärker 230 sowie eine Ausgabesteuerschaltung 290 als Reaktion auf das Spaltenadreßsignal und das Inter­ lock-Release-Signal. Die Ausgabesteuerschaltung 290 steuert den Hauptverstärker 230.
Das Speicherzellenfeld 110, der Zeilendekoder 160, die Lese­ verstärker/IO-Gatterschaltung 170, der Spaltendekoder 190 und das Eingabe/Ausgabeleitungspaar IOB sind in dem in Fig. 1 ge­ zeigten Speicherzellenfeld 11 enthalten. Der Ausgabepuffer 240 ist in der in Fig. 1 gezeigten Ausgabeschaltung 13 enthalten.
Die anderen Schaltungen sind in der in Fig. 1 gezeigten Peri­ pherieschaltung 12 enthalten.
Der Aufbau des in Fig. 1 gezeigten DRAM 1 ist nicht auf den in Fig. 8 gezeigten Aufbau beschränkt.
Fig. 9 zeigt ein Beispiel eines Aufbaues einer internen Span­ nungsabsenkungskonverterschaltung. In Fig. 9 erzeugt eine Referenzspannungserzeugungsschaltung 21 eine vorbestimmte Referenzspannung Vref. Die Referenzspannung Vref beträgt bei­ spielsweise 4 Volt.
Die Differenzverstärkerschaltung 22 besteht beispielsweise aus einem in Fig. 10 gezeigten Stromspiegelverstärker. Der Strom­ spiegelverstärker umfaßt P-Kanal-MOS-Transistoren P4, P5 sowie N-Kanal-MOS-Transistoren N4, N5 sowie N6. Der Stromspiegel­ verstärker wird aktiviert, wenn ein Steuersignal CS an das Gate des Transistors N6 mit "H" angelegt wird. Das Gate des Tran­ sistors N4 wird mit einer Eingabespannung D1 beaufschlagt, und das Gate des Transistors D5 wird mit einer Eingabespannung D2 beaufschlagt. Wenn die Eingabespannung D1 höher als die Ein­ gabespannung D2 ist, beträgt eine Ausgabespannung D3 "H". Wenn die Eingabespannung D1 niedriger als die Eingabespannung D2 ist, beträgt die Ausgabespannung D3 "L".
In Fig. 9 umfaßt die Hybridumschaltschaltung 23 einen P-Kanal- MOS-Transistor P3, einen N-Kanal-MOS-Transistor N3 sowie Wider­ stände R1, R2. Der Transistor P3 und der Transistor N3 sind parallel zwischen der Spannungsversorgungsleitung L1, auf der die externe Versorgungsspannung Vcc liegt, und der Spannungs­ versorgungsleitung L2, die mit der internen Versorgungsspannung IVcc beaufschlagt ist, verbunden. Die Widerstände R1, R2 sind in Reihe zwischen der Spannungsversorgungsleitung L2 und einem Erdanschluß verbunden.
Ein Eingangsanschluß der Differenzverstärkerschaltung 22 wird mit der Referenzspannung Vref beaufschlagt, die von der Refe­ renzspannungserzeugungsschaltung 21 erzeugt worden ist. Der andere Eingabeanschluß der Differenzverstärkerschaltung 22 wird mit dem Potential eines Knotens NC zwischen den Widerständen R1 und R2 beaufschlagt. Ein Ausgabesignal der Differenzverstärker­ schaltung 22 wird an das Gate des Transistors P3 angelegt. Das Gate des Transistors N3 ist mit der Spannungsversorgungsleitung L1 verbunden.
Fig. 11 ist ein Diagramm mit einer Charakteristik der in Fig. 9 gezeigten internen Spannungsabsenkungskonverterschaltung 2. Unter Bezug auf Fig. 11 wird der Betrieb der internen Span­ nungsabsenkungskonverterschaltung 2 aus Fig. 9 beschrieben. Beispielsweise beträgt die konstante Referenzspannung Vref etwa 2,3 Volt, die externe Versorgungsspannung Vcc beträgt 5 Volt, und die Schwellspannung Vth des Transistors N3 beträgt 2 Volt.
In einem Bereich A (einem Bereich, wo die externe Versorgungs­ spannung nicht weniger als 0 Volt beträgt und nicht mehr als 4 Volt beträgt) aus Fig. 11 wird die Spannung Vcc - Vth an die Versorgungsspannungsleitung L2 über den Transistor N3 im ein­ geschalteten Zustand angelegt. Die Spannung wird durch die Widerstände R1, R2 geteilt, und die geteilte Spannung erscheint am Knoten NC.
Da zu diesem Zeitpunkt das Potential des Knotens NC niedriger als die Referenzspannung Vref ist, steht ein Ausgabesignal der Differenzverstärkerschaltung 22 vollständig auf "L", und damit ist der Transistor P3 vollständig eingeschaltet. Als Ergebnis wird an die Spannungsversorgungsleitung L2 die externe Ver­ sorgungsspannung Vcc angelegt, was zu IVcc = Vcc führt.
In einem Bereich B (einem Bereich, wo die externe Versorgungs­ spannung Vcc nicht weniger als 4 Volt beträgt und nicht mehr als 6 Volt beträgt) wie der in Fig. 11, wird der EIN-Zustand des Transistors P3 mit dem Anstieg der externen Versorgungsspannung Vcc geschwächt. Als Ergebnis wird die interne Versorgungsspan­ nung IVcc auf einer konstanten Spannung (4 Volt) gehalten.
In einem Bereich C (einem Bereich, wo die externe Versorgungs­ spannung Vcc nicht weniger als 6 Volt beträgt), wie der aus Fig. 11, ist das Potential des Knotens NC höher als die Referenz­ spannung Vref. Folglich ist ein Ausgabesignal der Differenz­ verstärkerschaltung 22 "H", und der Transistor P3 wird voll­ ständig ausgeschaltet. Als Ergebnis wird die Versorgungsspan­ nungsleitung L2 mit einer Spannung über den Transistor N3 im EIN-Zustand beaufschlagt, was zu IVcc = Vcc - Vth führt.
Der Aufbau der internen Spannungsabsenkungsschaltung 2 aus Fig. 1 ist nicht auf den in Fig. 9 gezeigten Aufbau beschränkt. Eine Halbleiterspeichervorrichtung mit einer internen Spannungsab­ senkungsschaltung ist beispielsweise in der japanischen Patent­ offenlegungsschrift 2-198 096 beschrieben.

Claims (16)

1. Halbleiterspeichervorrichtung, die auf einem Halbleiter­ substrat (CH) gebildet ist, mit
einer Konvertervorrichtung (2) zum Konvertieren einer externen Versorgungsspannung (Vcc) auf eine interne Versorgungsspannung (IVcc), die niedriger als die externe Versorgungsspannung (Vcc) ist, einer Speichervorrichtung (1), die von der internen Versorgungsspannung (IVcc) betrieben wird, zum Speichern von Daten und einer Substratvorspannungsgeneratorvorrichtung (3), die von der externen Versorgungsspannung (Vcc) oder von der internen Versorgungsspannung (IVcc) betrieben wird, zum Erzeu­ gen einer Substratvorspannung (VBB) zum Halten des Halbleiter­ substrates (CH) auf einer konstanten Spannung, gekennzeichnet durch
eine Schaltvorrichtung (34) zum Umschalten einer Treiberspan­ nung für die Substratvorspannungsgeneratorvorrichtung (3) zwi­ schen der externen Versorgungsspannung (Vcc) und der internen Versorgungsspannung (IVcc) in Abhängigkeit davon, ob die Spei­ chervorrichtung (1) sich in einem aktiven Zustand oder einem inaktiven Zustand befindet, wobei die Speichervorrichtung (1) ein extern angelegtes Steuersignal (/RAS) empfängt, die Spei­ chervorrichtung (1) in dem aktiven Zustand ist, wenn das Steu­ ersignal (/RAS) in einem ersten Zustand ist, und in einem Stand by-Zustand ist, wenn das Steuersignal (/RAS) in einem zweiten Zustand ist, die Schaltvorrichtung (34) die Treiber­ spannung der Substratvorspannungsgeneratorschaltung (3) als Reaktion auf den Zustand des Steuersignales (/RAS) umschaltet, und
das Steuersignal ein Zeilenadreßpulssignal (/RAS) ist.
2. Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Substratvorspannungsgeneratorvorrichtung (3) eine erste Substratvorspannungsgeneratorschaltung (31, 31a, 31b) aufweist, die Schaltvorrichtung (34) die externe Versorgungsspannung (Vcc) als Treiberspannung an die erste Substratvorspannungsge­ neratorschaltung (31) anlegt, wenn die Speichervorrichtung (1) in dem aktiven Zustand ist, und die interne Versorgungsspan­ nung (IVcc) als Treiberspannung an die erste Substratvorspan­ nungsgeneratorschaltung (31) anlegt, wenn die Speichervorrich­ tung (1) in dem Stand by-Zustand ist.
3. Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, da­ durch gekennzeichnet, daß
die Substratvorspannungsgeneratorvorrichtung (3) einen ersten Substratvorspannungsgenerator (31a), der von der externen Ver­ sorgungsspannung (Vcc) betrieben wird, und einen zweiten Sub­ stratvorspannungsgenerator (31b), der von der internen Versor­ gungsspannung (IVcc) betrieben wird, aufweist und
die Schaltvorrichtung (34) den ersten Substratvorspannungsge­ nerator (31a) aktiviert und den zweiten Substratvorspannungs­ generator (31b) deaktiviert, wenn die Speichervorrichtung (1) in dem aktiven Zustand ist, und den ersten Substratvorspan­ nungsgenerator (31a) deaktiviert und den zweiten Substratvor­ spannungsgenerator (31b) aktiviert, wenn die Speichervorrich­ tung (1) in dem Standby-Zustand ist (Fig. 4).
4. Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, da­ durch gekennzeichnet, daß
die Substratvorspannungsgeneratorvorrichtung (3) einen ersten Substratvorspannungsgenerator (31a), der von der externen Versorgungsspannung (Vcc) betrieben wird, und einen zweiten Substratvorspannungsgenerator (31b), der von der internen Versorgungsspannung (IVcc) betrieben wird, aufweist, wobei der zweite Substratvorspannungsgenerator (31b) immer in dem aktiven Zustand ist und
die Schaltvorrichtung (34) den ersten Substratvorspannungsge­ nerator (31a) aktiviert, wenn die Speichervorrichtung (1) in dem aktiven Zustand ist, und den ersten Substratvorspannungs­ generator (31a) deaktiviert, wenn die Speichervorrichtung (1) in dem Stand by-Zustand ist.
5. Halbleiterspeichervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Speichervorrichtung (1) einen dynamischen Speicher mit wahlfreiem Zugriff aufweist.
6. Halbleiterspeichervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Substratvorspannungsge­ neratorvorrichtung (3) eine zweite Substratvorspannungsgeneratorschaltung (32; 32a, 32b), die von der externen Versorgungsspannung (Vcc) oder der internen Versorgungsspannung (IVcc) betrieben wird, zum Erzeugen der Substratvorspannung (VBB), und eine Pegelerkennungsvorrichtung (33; 33a, 33b) zum Erkennen eines Pegels der Substratvorspannung (VBB), die durch die zweite Substratvorspannungsgeneratorschaltung (32; 32a, 32b) erzeugt wird, und die die zweite Substratvorspannungsgeneratorschaltung (32; 32a, 32b) aktiviert, bis die Substratvorspannung (VBB) einen vorbestimmten Pegel erreicht, und danach die zweite Substratvorspannungsgeneratorschaltung (32; 32a, 32b) deaktiviert, aufweist (Fig. 2, 6).
7. Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Schaltvorrichtung (33) die externe Versorgungsspannung (Vcc) als Treiberspannung an die zweite Substratvorspannungsgeneratorschaltung (32) anlegt, wenn die Speichervorrichtung (1) im aktiven Zustand ist, und die interne Versorgungsspannung (IVcc) als Treiberspannung an die zweite Substratvorspannungsgeneratorschaltung (32) anlegt, wenn die Speichervorrichtung (1) in einem Stand by-Zustand ist.
8. Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Substratvorspannungsgeneratorschaltung (31) eine erste Kapazitätsvorrichtung (C1) mit einem ersten Kapazitätswert aufweist, und
die zweite Substratvorspannungsgeneratorschaltung (32) eine Kapazitätsvorrichtung (C2) mit einem zweiten Kapazitätswert größer als der erste Kapazitätswert aufweist.
9. Halbleiterspeichervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Substratvorspannungsgeneratorvorrichtung (3) eine zweite Substratvorspannungsgeneratorschaltung (32), die von der externen Versorgungsspannung (Vcc) betrieben wird, zum Erzeugen der Substratvorspannung (VBB), und eine Pegelerkennungsvorrichtung (33) zum Erkennen eines Pegels der Substratvorspannung (VBB), die von der zweiten Substratvorspannungsgeneratorschaltung (32) erzeugt wird, zum Aktivieren der zweiten Substratvorspannungsgeneratorschaltung (32), bis die Substratvorspannung (VBB) einen vorbestimmten Pegel erreicht, und danach zum Deaktivieren der weiteren Substratvorspannungserzeugungsvorrichtung (32), aufweist.
10. Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 6 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß
jeder des ersten und zweiten Substratvorspannungsgenerators (31a, 31b) einen ersten Kondensator (C1) mit einem ersten Kapazitätswert aufweist, und
die zweite Substratvorspannungserzeugungsschaltung (32) eine Kapazitätsvorrichtung (C2) mit einem zweiten Kapazitätswert größer als der erste Kapazitätswert aufweist.
11. Halbleiterspeichervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Substratvorspannungsgeneratorvorrichtung (3) einen dritten Substratvorspannungsgenerator (32a), der durch die externe Versorgungsspannung (Vcc) betrieben wird, zum Erzeugen der Substratvorspannung (VBB), eine erste Pegelerkennungsschaltung (33a) zum Erkennen eines Pegels der Substratvorspannung (VBB), die durch den dritten Substratvorspannungsgenerator (32a) erzeugt wird und zum Aktivieren des dritten Substratvorspannungsgenerators (32a), bis die Substratvorspannung (VBB) einen vorbestimmten Pegel erreicht, wenn die Speichervorrichtung (1) in einem aktiven Zustand ist,
einen vierten Substratvorspannungsgenerator (32b), der durch die interne Versorgungsspannung (IVcc) zum Erzeugen der Substratvorspannung (VBB) betrieben wird, und eine zweite Pegelerkennungsschaltung (33b) zum Erkennen eines Pegels der Substratvorspannung (VBB), die von dem vierten Substratvorspannungsgenerator (32b) erzeugt wird und zum Aktivieren des vierten Substratvorspannungsgenerators (32b), bis die Substratvorspannung (VBB) einen vorbestimmten Pegel erreicht, und danach zum Deaktivieren des vierten Substratvorspannungsgenerators (32b).
12. Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß
jeder des ersten und zweiten Substratvorspannungsgenerators (31a, 31b) je einen Kondensator (C1) mit einem ersten Kapazitätswert aufweist, und
jeder des dritten und vierten Substratvorspannungsgenerators (32a, 32b) je einen Kondensator (C2) mit einem zweiten Kapazitätswert größer als der erste Kapazitätswert aufweist.
13. Betriebsverfahren für eine Halbleiterspeichervorrichtung mit einer Speichervorrichtung (1) und einer Substratvorspannungserzeugungsvorrichtung (3), die auf einem Halbleitersubstrat (CH) gebildet sind, mit den Schritten:
Konvertieren einer externen Versorgungsspannung (Vcc) auf eine interne Versorgungsspannung (IVcc) niedriger als die externe Versorgungsspannung,
Empfangen eines extern angelegten Zeilenadreßpulssignales (/RAS) und
Umschalten einer Treiberspannung der Substratvorspannungserzeugungsvorrichtung (3) zwischen der externen Versorgungsspannung (Vcc) und der internen Versorgungsspannung (IVcc) in Abhängigkeit davon, ob die Speichervorrichtung (1) durch das Zeilenadreßpulssignal (/RAS) in einen aktiven Zustand oder in einen Stand by-Zustand geschaltet ist.
14. Betriebsverfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Umschaltschritt das Anlegen der externen Versorgungsspannung (Vcc) als Treiberspannung an eine Substratvorspannungserzeugungsschaltung (31) umfaßt, wenn die Speichervorrichtung (1) in dem aktiven Zustand ist, und das Anlegen der internen Versorgungsspannung (IVcc) als Treiberspannung an eine Substratvorspannungserzeugungsschaltung (31) umfaßt, wenn die Speichervorrichtung (1) in dem Stand by-Zustand ist.
15. Betriebsverfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Substratvorspannungserzeugungsvorrichtung (3) einen ersten Substratvorspannungsgenerator (31a), der von der externen Versorgungsspannung (Vcc) betrieben wird, und einen zweiten Substratvorspannungsgenerator (31b), der von der internen Versorgungsspannung (IVcc) betrieben wird, aufweist und der Umschaltschritt das Aktivieren des ersten Substratvorspannungsgenerators (31a) und das Deaktivieren des zweiten Substratvorspannungsgenerators (31b), wenn die Speichervorrichtung (1) in dem aktiven Zustand ist, und das Deaktivieren des ersten Substratvorspannungsgenerators (31a) und das Aktivieren des zweiten Substratvorspannungsgenerators (31b), wenn die Speichervorrichtung (1) in dem Stand by-Zustand ist, aufweist.
16. Betriebsverfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß
die Substratvorspannungserzeugungsvorrichtung (3) einen ersten Substratvorspannungsgenerator (31a), der von der externen Versorgungsspannung (Vcc) betrieben wird, und einen zweiten Substratvorspannungsgenerator (31b), der von der internen Versorgungsspannung (IVcc) betrieben wird, aufweist, wobei der zweite Substratvorspannungsgenerator (31b) stets in einem aktiven Zustand ist, und
der Umschaltschritt das Aktivieren des ersten Substratvorspannungsgenerators (31a), wenn die Speichervorrichtung (1) in dem aktiven Zustand ist, und das Deaktivieren des ersten Substratvorspannungsgenerators (31a), wenn die Speichervorrichtung (1) in dem Stand by-Zustand ist, aufweist.
DE4309364A 1992-03-30 1993-03-23 Halbleiterspeichervorrichtung und Betriebsverfahren dafür Expired - Fee Related DE4309364C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4074304A JPH05274876A (ja) 1992-03-30 1992-03-30 半導体記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4309364A1 DE4309364A1 (de) 1993-10-14
DE4309364C2 true DE4309364C2 (de) 1997-10-02

Family

ID=13543259

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4309364A Expired - Fee Related DE4309364C2 (de) 1992-03-30 1993-03-23 Halbleiterspeichervorrichtung und Betriebsverfahren dafür

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5341340A (de)
JP (1) JPH05274876A (de)
DE (1) DE4309364C2 (de)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2527835B2 (ja) * 1990-07-31 1996-08-28 三菱電機株式会社 半導体装置
JP2783138B2 (ja) * 1993-12-03 1998-08-06 株式会社日立製作所 半導体装置
JP3626521B2 (ja) 1994-02-28 2005-03-09 三菱電機株式会社 基準電位発生回路、電位検出回路および半導体集積回路装置
JPH0869693A (ja) * 1994-08-30 1996-03-12 Mitsubishi Electric Corp スタティック型半導体記憶装置
US5612644A (en) * 1995-08-31 1997-03-18 Cirrus Logic Inc. Circuits, systems and methods for controlling substrate bias in integrated circuits
JPH09219092A (ja) * 1996-02-15 1997-08-19 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
US5966038A (en) * 1997-12-15 1999-10-12 Motorola, Inc. Circuit with overvoltage protection
JPH11288588A (ja) 1998-04-02 1999-10-19 Mitsubishi Electric Corp 半導体回路装置
US6628564B1 (en) 1998-06-29 2003-09-30 Fujitsu Limited Semiconductor memory device capable of driving non-selected word lines to first and second potentials
US6563746B2 (en) * 1999-11-09 2003-05-13 Fujitsu Limited Circuit for entering/exiting semiconductor memory device into/from low power consumption mode and method of controlling internal circuit at low power consumption mode
US6661279B2 (en) * 2001-04-11 2003-12-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit which outputs first internal power supply voltage and second internal power supply voltage lower than first internal supply power voltage
JP4549711B2 (ja) * 2004-03-29 2010-09-22 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体回路装置
JP5779162B2 (ja) * 2012-09-28 2015-09-16 株式会社東芝 整流回路とこれを用いた無線通信装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58105563A (ja) * 1981-12-17 1983-06-23 Mitsubishi Electric Corp 基板バイアス発生回路
US4585954A (en) * 1983-07-08 1986-04-29 Texas Instruments Incorporated Substrate bias generator for dynamic RAM having variable pump current level
JPS6240697A (ja) * 1985-08-16 1987-02-21 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPH01223693A (ja) * 1988-03-01 1989-09-06 Mitsubishi Electric Corp ダイナミック型半導体記憶装置
JPH01276486A (ja) * 1988-04-27 1989-11-07 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JPH0261890A (ja) * 1988-08-26 1990-03-01 Mitsubishi Electric Corp ダイナミック型半導体記憶装置
JP2634241B2 (ja) * 1989-05-26 1997-07-23 三菱電機株式会社 半導体記憶装置
JP2557271B2 (ja) * 1990-04-06 1996-11-27 三菱電機株式会社 内部降圧電源電圧を有する半導体装置における基板電圧発生回路
US5220534A (en) * 1990-07-31 1993-06-15 Texas Instruments, Incorporated Substrate bias generator system
US5146110A (en) * 1991-05-22 1992-09-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor memory with substrate voltage generating circuit for removing unwanted substrate current during precharge cycle memory mode of operation

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05274876A (ja) 1993-10-22
DE4309364A1 (de) 1993-10-14
US5341340A (en) 1994-08-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4332452C2 (de) Halbleitervorrichtung mit einem Boostmittel und Verfahren zum Festklemmen einer Spannung
DE10239515B4 (de) Halbleiterspeicher-Steuerverfahren und Halbleiterspeichervorrichtung
DE69623832T2 (de) Halbleiterspeicheranordnung
DE69117784T2 (de) On-Chip-Spannungsregler und Halbleiterspeichervorrichtung mit Verwendung desgleichen
DE4205040C2 (de) Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Überwachen eines Potentials auf einer internen Versorgungsspannungsleitung derselben
DE4435787C2 (de) Halbleitervorrichtung mit der Möglichkeit reduzierten Stromverbrauchs
DE4117846C2 (de) Integrierter Halbleiterspeicher mit internem Spannungsverstärker mit geringerer Abhängigkeit von der Speisespannung
DE4439661C2 (de) Wortleitungstreiberschaltkreis für eine Halbleiterspeichereinrichtung
DE4115082C2 (de) Halbleitereinrichtung mit einer Spannungswandlerschaltung zum Umwandeln einer extern angelegten Betriebsspannung in eine vorbestimmte Spannung, insb. einer Speichereinrichtung sowie entsprechendes Betriebsverfahren für diese Halbleitereinrichtung
DE69331519T2 (de) Nichtfluechtige halbleiterspeicheranordnung mit isolierter gate-elektrode
DE19815887C2 (de) Halbleiterspeichereinrichtung mit einem Normalbetriebsmodus und einem Eigenauffrischungsmodus und einem reduzierten Stromverbrauch und stabilen Betrieb in einem Datenhaltezustand
DE4314321A1 (de) Impulserzeugungsschaltung und Halbleiterspeichereinrichtung mit dieser Impulserzeugungsschaltung
DE4309364C2 (de) Halbleiterspeichervorrichtung und Betriebsverfahren dafür
DE4305864C2 (de) Ausgabepufferschaltung
DE3685871T2 (de) Komplementaere halbleitereinrichtung mit einem substratspannungsgenerator.
DE69934853T2 (de) Halbleiterspeicheranordnung
DE69624297T2 (de) Halbleiterspeicheranordnung
DE2901233A1 (de) Dynamischer lese-auffrischdetektor
DE3826745C2 (de)
DE10255102B3 (de) SRAM-Speicherzelle mit Mitteln zur Erzielung eines vom Speicherzustand unabhängigen Leckstroms
DE69217748T2 (de) Energiesparschaltung für Abfühlschaltungen für DRAM
DE19501535C2 (de) Interne Stromversorgungsschaltung
DE102004055216A1 (de) Halbleiterspeichervorrichtung
DE10256959A1 (de) Halbleiterspeichervorrichtung mit Speicherzellen, die keine Auffrischvorgänge erfordern
DE4324649A1 (de) Verstärkerschaltung und Halbleiterspeichervorrichtung, die diesen benutzt

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee