CN114460671A

CN114460671A - 耐用的减反射制品

Info

Publication number: CN114460671A
Application number: CN202210223653.0A
Authority: CN
Inventors: J·艾敏; S·D·哈特; K·W·科齐三世; E·L·诺尔; X·欧阳; C·A·保尔森; J·J·普莱斯
Original assignee: Corning Inc
Current assignee: Corning Inc
Priority date: 2014-05-12
Filing date: 2015-05-11
Publication date: 2022-05-10
Also published as: US11267973B2; US20150322270A1; EP3901111A1; EP3142979A1; TWI729973B; TW201546480A; TWI745212B; JP2017515780A; EP3142979B1; TW202131022A; CN107076875A; WO2015175390A1; US20220251396A1; KR102274553B1; KR20170007384A

Abstract

本申请涉及耐用的减反射制品。揭示了耐用的减反射制品的实施方式。在一个或多个实施方式中，制品包括基材和布置在主表面上的减反射涂层。制品在光波长区域展现出大于或等于约94％的平均透光率和/或在光波长区域展现出小于或等于约2％的平均反光率，这是在减反射表面测得的。在一些实施方式中，通过布氏压痕计硬度测试测量，制品沿着大于或等于约50nm的压痕深度展现出大于或等于约8GPa的最大硬度，以及在国际照明委员会的约为0‑60度的所有入射照射角，仅在减反射表面上测得的约为‑5至约1的反射中的b*值。

Description

耐用的减反射制品

本发明专利申请是国际申请号为PCT/US2015/030111，国际申请日为2015年5月11日，进入中国国家阶段的申请号为201580037781.4，发明名称为“耐用的减反射制品”的发明专利申请的分案申请。

相关申请的交叉参考

本申请根据35U.S.C.§119，要求2014年12月31日提交的美国临时申请序列第62/098,836号、2014年12月31日提交的美国临时申请序列第62/098,819号、2014年7月23日提交的美国临时申请序列第62/028,014号、2014年6月10日提交的美国临时申请序列第62/010,092号以及2014年5月12日提交的美国临时申请序列第61/991,656号的优先权，本文以它们为基础并且其全文通过引用结合入本文。

背景

本文涉及耐用减反射制品及其制造方法，更具体地涉及具有多层减反射涂层的制品，其展现出耐磨损性、低反射率和无色透射和/或反射。

覆盖制品通常用于保护电子产品内的关键器件，用于提供用户界面进行输入和/或显示，和/或提供许多其它功能。此类产品包括移动装置，例如智能手机、mp3播放器和平板电脑。覆盖制品还包括建筑制品，运输制品(例如，用于车辆应用、火车、飞行器、船舶等的制品)，电器制品或者需要部分透明度、耐划痕性、耐磨损性或其组合的任意制品。这些应用通常要求耐划痕性以及最大透光性和最小反射性方面的牢靠光学性能特性。此外，一些覆盖应用要求在反射和/或透射中所展现或察觉到的颜色没有随着观察角的变化发生可感知的变化。这是因为，在显示器应用中，如果随着观察角的改变，反射或透射的颜色具有可感知程度的变化的话，则产品的用户会察觉到显示器的颜色或亮度变化，这会降低显示器的察觉质量。在其他应用中，颜色的变化可能对美观要求或者其他功能要求造成负面影响。

可以通过使用各种减反射涂层来改善覆盖制品的光学性能；但是已知的减反射涂层易受磨损或者磨耗。此类磨损会危及通过减反射涂层实现的任何光学性能的改善。例如，光纤通常由具有不同折射率的多层涂层制造，并且是由透光电介质材料(例如，氧化物、氮化物和氟化物)制造的。用于此类光学过滤器的大多数的常用氧化物是宽带隙材料，其不具有用于移动装置、建筑制品、运输制品或电器制品所需的机械性质，例如硬度。氮化物和钻石状涂层可展现出高硬度值，但是此类材料不展现出此类应用所需的透射率。

磨损损坏可以包括来自对立面物体(例如手指)的来回滑动接触。此外，磨损损坏会产生热量，这会劣化膜材料中的化学键，并对于覆盖玻璃产生剥落和其他类型的损坏。由于通常在较长期情况下而非引起划痕的单次事件中产生磨损损坏，发生磨损损坏的布置的涂层材料还会发生氧化，这进一步劣化了涂层的耐用性。

因此，需要新的覆盖制品及其制造方法，其是耐划痕的并且具有改善的光学性能。

发明内容

揭示了耐用的减反射制品的实施方式。在一个或多个实施方式中，制品包括基材和减反射涂层，所述减反射涂层的厚度小于或等于约1um(例如，小于或等于约800nm)，其布置在主表面上形成减反射表面。在采用泰伯尔测试的500次循环磨损之后，在减反射表面上测得制品展现出耐磨损性，如本文所述。在一个或多个实施方式中，制品展现出耐磨损性(在减反射表面上测得)，其包括小于或等于约1％的雾度，这是采用具有孔隙的浊度测量仪测得的，其中，所述孔隙的直径约为8mm。在一个或多个实施方式中，制品展现出耐磨损性(在减反射表面上测得)，其包括小于或等于约12nm的平均粗糙度Ra，这是通过原子力显微镜测得的。在一个或多个实施方式中，制品展现出耐磨损性(在减反射表面上测得)，在小于或等于约40度的极性散射角，其包括小于或等于约0.05(单位为1/立体弧度)的散射光强度，这是采用用于散射测量的成像球体的透射正交入射测得的，具有600nm波长处的2mm孔隙。在一些情况下，制品展现出耐磨损性(在减反射表面上测得)，在小于或等于约20度的极性散射角，其包括小于或等于约0.1(单位为1/立体弧度)的散射光强度，这是采用用于散射测量的成像球体的透射正交入射测得的，具有600nm波长处的2mm孔隙。

一个或多个实施方式的制品展现出光透射和/或光散射方面优异的光学性能。在一个或多个实施方式中，制品在光波长区域(例如，约为400-800nm或者约为450-650nm)展现出大于或等于约94％(例如，大于或等于约98％)的平均透光率(减反射表面上测得)。在一些实施方式中，制品在所述光波长区域展现出小于或等于2％(例如，小于或等于1％)的平均反光率(减反射表面上测得)。在所述光波长区域，制品可展现出平均振幅小于或等于约1个百分点的平均透光率或平均反光率。在一些情况下，当采用光源在减反射表面观察时，制品展现出范围约为2度至约为60度的从参考照明角到入射照明角的小于约10(例如，小于或等于约5、小于或等于约4、小于或等于约3、小于或等于约2、小于或等于约1)的呈角度色偏移。示例性光源包括以下任意一种：CIE F2、CIE F10、CIE F11、CIE F12和CIE D65。在一个或多个实施方式中，在CIE L*、a*、b*色度体系中，在从约0-60度的所有入射照明角，制品可展现出约为-5至约1、约为-5至约0、或者约为-4至约0的b*值。作为补充或替代，一些实施方式的制品展现出在减反射表面测得的透射颜色(或透射颜色坐标)和/或反射颜色(或反射颜色坐标)，其相对于基准点的基准点色偏移小于约2，如本文所定义。在一个或多个实施方式中，基准点可以是L*a*b*色空间中的原点(0,0)(或者色坐标a*＝0、b*＝0)、坐标(a*＝-2、b*＝-2)或者基材的透射或反射色坐标。本文所述的呈角度的色偏移、基准色偏移和色坐标(a*和/或b*)是在D65和/或F2光源下观察的。

在一个或多个实施方式中，减反射涂层可包括多层。例如，在一些实施方式中，减反射涂层包括如下周期，其包括第一低RI层和第二高RI层。该周期可包括第一低RI层和布置在第一低RI层上的第二高RI，或者反之亦可。在一些实施方式中，周期可包括第三层。减反射涂层可包括多个周期，使得第一低RI层和第二高RI层是交替的。减反射涂层可包括高至约10个周期。

在一个或多个实施方式中，第一低RI层和第二高RI层中的至少一个包括约为2-200nm的光学厚度(n*d)。在一些实施方式中，减反射涂层包括多层，所述多层具有一层或多层第二高RI层，使得第二高RI层的总厚度小于约500nm或更低。

在一些实施方式中，制品可包括折射率大于约1.9的层。可用于该层的材料包括SiN_x、SiO_xN_y、Si_uAl_vO_xN_y、AlN_x、AlO_xN_y，或其组合。

在一些情况下，制品可包括额外层，例如易清洁涂层、钻石状碳(“DLC”涂层)、耐划痕涂层，或其组合。此类涂层可布置在减反射涂层上，或者布置在减反射涂层之间。当包括耐划痕涂层时，此类涂层可布置在减反射涂层上，并且可形成耐划痕表面。示例性耐划痕涂层可展现出约为8-50GPa的硬度，这是通过布氏(Berkovitch)压头硬度测试测得的，如本文所定义。

用于制品的一个或多个实施方式的基材可包括无定形基材或晶体基材。无定形基材包括可选自下组的玻璃：钠钙玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、含碱性硼硅酸盐玻璃和碱性铝硼硅酸盐玻璃。在一些实施方式中，玻璃可以经过强化，并且可展现出具有至少250MPa的表面CS的压缩应力(CS)层，其在经强化的玻璃内延伸，从化学强化玻璃的表面延伸到至少约10um的层深度(DOL)。

在以下的详细描述中提出了本文的其他特征和优点，其中的部分特征和优点对本领域的技术人员而言，根据所作描述就容易看出，或者通过实施包括以下详细描述、权利要求书以及附图在内的本文所述的各种实施方式而被认识。

应理解，上面的一般性描述和下面的详细描述都仅仅是示例性的，用来提供理解权利要求书的性质和特点的总体评述或框架。所附附图提供了进一步理解，附图被结合在本说明书中并构成说明书的一部分。附图说明了一个或多个实施方式，并与说明书一起用来解释各种实施方式的原理和操作。

附图说明

图1是根据一个或多个实施方式的制品的侧视图；

图2是根据一个或多个特定实施方式的制品的侧视图；

图3是根据一个或多个实施方式的制品的侧视图；

图4是根据一个或多个实施方式的制品的侧视图；

图5是根据一个或多个实施方式的制品的侧视图；

图6是根据一个或多个实施方式的制品的侧视图；

图7是根据实施例1的制品的侧视图；

图8显示根据实施例1的制品的反射率图；

图9显示根据实施例2的制品的模型反射率图；

图10显示根据实施例3的制品的模型反射率图；

图11显示根据实施例3的制品的模型反射率图，其具有额外的DLC涂层；

图12所示是根据实施例4的制品；

图13是实施例4的制品的单侧反射谱图，显示当入射照明角从0°变化到约为60°时的反射率；

图14是实施例4的制品的反射色谱，显示采用10°观察者，在不同视角的不同光源下的反射颜色；

图15所示是根据实施例5的制品；

图16是实施例5的制品的单侧反射谱图，显示当入射照明角从0°变化到约为45°时的反射率；

图17是实施例5的制品的反射色谱，显示采用10°观察者，在不同视角的D65光源下的反射颜色；

图18所示是根据实施例6的制品；

图19是实施例6的制品的单侧反射谱图，显示当入射照明角从0°变化到约为60°时的反射率；

图20是实施例6的制品的反射色谱，显示采用10°观察者，在不同视角的不同光源下的反射颜色；

图21所示是根据实施例7的制品；

图22是实施例7的制品的单侧反射谱图，显示当入射照明角从0°变化到约为60°时的反射率；

图23是实施例7的制品的反射色谱，显示采用10°观察者，在不同视角的不同光源下的反射颜色；

图24所示是根据实施例8的制品；

图25是实施例8的制品的单侧反射谱图，显示当入射照明角从0°变化到约为60°时的反射率；

图26是实施例8的制品的反射色谱，显示采用10°观察者，在不同视角的不同光源下的反射颜色；

图27是模型实施例9的制品的单侧反射谱图，显示当入射照明角从0°变化到约为60°时的反射率；

图28是实施例9的制品的反射色谱，显示采用10°观察者，在不同视角的不同光源下的反射颜色；

图29是模型实施例10A的制品的单侧反射谱图，显示当入射照明角从0°变化到约为60°时的反射率；

图30是模型实施例10B的制品的单侧反射谱图，显示当入射照明角从0°变化到约为60°时的反射率；

图31是实施例10A的制品的反射色谱，显示采用10°观察者，在不同视角的不同光源下的反射颜色；

图32是实施例10B的制品的反射色谱，显示采用10°观察者，在不同视角的不同光源下的反射颜色；

图33显示实施例12和13以及比较例15、16和17在经受泰伯尔测试之后和没有经受泰伯尔测试的情况下测得的散射光强度值；

图34显示实施例12和13以及比较例14、17和18在经受泰伯尔测试之后测得的AFM粗糙度统计；

图35是实施例19的制品的单侧反射谱图，显示当入射照明角从0°变化到约为60°时的反射率；

图36是实施例19的制品的反射和透射色谱，显示采用10°观察者，在不同视角的不同光源下的反射和透射颜色；

图37显示实施例21所测得的透射色坐标和反射色坐标图；

图38显示实施例21在不同照明角的反射谱图；

图39显示根据实施例21的两个表面的透射和反射谱图；

图40显示硬度测量与压痕深度和涂层厚度的关系图。

具体实施方式

下面详细参考各个实施方式，这些实施方式的例子在附图中示出。

参见图1，根据一个或多个实施方式的制品100可包括基材110以及布置在基材上的减反射涂层120。基材110包括相对主表面112、114以及相对次表面116、118。如图1所示，减反射涂层120布置在第一相对主表面112上；但是，减反射涂层120可以布置在第二相对主表面114上和/或布置在一个或两个相对主表面上，作为布置在第一相对主表面112上的补充或替代。减反射涂层120形成减反射表面122。

减反射涂层120包括至少一种材料的至少一层。术语“层”可包括单层或者可包括一层或多层子层。此类子层可以相互直接接触。子层可以由相同材料形成，或者可以由两种或更多种不同材料形成。在一个或多个替代实施方式中，此类子层可具有布置在其间的不同材料的插入层。在一个或多个实施方式中，层可包括一层或多层毗邻且不间断层和/或一层或多层不连续且间断层(即，由相互相邻的不同材料形成的层)。层或子层可由本领域的任意已知方法形成，包括离散沉积或连续沉积工艺。在一个或多个实施方式中，可仅使用连续沉积工艺形成层，或者可仅使用离散沉积工艺形成层。

本文所用术语“布置”包括采用任意本领域已知方法在表面上涂覆、沉积和/或形成材料。布置的材料可构成本文所定义的层。表述“布置在...上”包括在表面上形成材料从而使得材料与表面直接接触的情况，还包括在表面上形成材料，其中在布置的材料和表面之间具有一种或多种插入材料的情况。插入材料可构成本文所定义的层。

一个或多个实施方式的减反射涂层120可描述为在根据泰伯尔测试进行了至少约500次循环的磨损之后具有耐磨损性，这是通过各种方法测得的。各种形式的耐磨损性测试是本领域已知的，例如ASTM D1044-99规定的测试方法，采用泰伯尔工业公司(TaberIndustries)供给的磨料介质。可以采用不同类型的磨料介质、研磨料几何形貌和运动、压力等，来产生与ASTM D1044-99相关的改进磨损方法，从而提供可重复和可测量的磨损或损耗痕迹，从而以有意义地区分不同样品的耐磨性。例如，对于软塑料vs硬无机测试样品，不同测试条件通常会是合适的。本文所述的实施方式经受泰伯尔测试，如本文所定义，这是ASTM D1044-99的特定改进版本，其给出了不同样品(主要包括硬的无机材料，例如氧化物玻璃以及氧化物或氮化物涂层)之间的耐用性的清晰且可重复的差别。如本文所用表述“泰伯尔测试”指的是采用由泰伯尔工业公司提供的泰伯尔线性研磨机5740(TLA 5750)和附件的测试方法，其环境包括约为22℃±3℃的温度和高至约70％的相对湿度。TLA 5750包括具有6.7mm直径磨头的CS-17磨料。每种样品根据泰伯尔测试磨损，并且同时采用雾度和双向透射分布函数(CCBTDF)测量等其他方法评估磨损损耗。在泰伯尔测试中，对每种样品进行磨损的过程包括：将TLA 5750和平坦样品支撑放在刚性平坦表面上，并使得TLA 5750和样品支撑与表面固定。在对每个样品进行泰伯尔测试磨损之前，采用粘附到玻璃的新的S-14重磨带对磨料进行磨光。以25次循环/分钟的循环速度和1英寸的行程长度，在没有增加额外重量的情况下(即，在磨光过程中使用约350g的总重量，这是保持住磨料的轴和夹头的总重)，使得磨料经受10次磨光循环。然后，该过程包括操作TLA 5750来磨损样品，其中，将样品放在样品支撑中，与磨头接触并且支撑施加到模头的重量，采用25次循环/分钟的循环速度和1英寸的行程长度和一定的重量，该一定的重量使得施加到样品的总重量是850g(即，除了350g的轴和夹头的总重之外还施加了500g的辅助重量)。该过程包括出于可重复性在每个样品上形成两条磨耗痕迹，并且在每个样品上的两条磨耗痕迹中的每一个，对每个样品磨损500次循环计数。

在一个或多个实施方式中，制品100的减反射涂层120根据上文所述的泰伯尔测试进行磨损，并且样品展现出小于或等于约10％的雾度，这是采用BYK加德纳公司(BYKGardner)提供的商品名为

的浊度测量仪在磨损侧上测得的，采用源端口上的孔隙，孔隙的直径为8mm。

一个或多个实施方式的制品100在具有和不具有任意额外涂层(包括所述额外涂层140，如下文进一步详述)的情况下展现出此类耐磨损性。在一些实施方式中，雾度可小于或等于9％、小于或等于约8％、小于或等于约7％、小于或等于约6％、小于或等于约5％、小于或等于约4％、小于或等于约3％、小于或等于约2％、小于或等于约1％、小于或等于约0.5％或者小于或等于约0.3％。在一些具体实施方式中，制品100展现出如下雾度范围：约为0.1％-10％、约为0.1％-9％、约为0.1％-8％、约为0.1％-7％、约为0.1％-6％、约为0.1％-5％、约为0.1％-4％、约为0.1％-3％、约为0.1％-2％、约为0.1％-1％、0.3％-10％、约为0.5％-10％、约为1％-10％、约为2％-10％、约为3％-10％、约为4％-10％、约为5％-10％、约为6％-10％、约为7％-10％、约为1％-8％、约为2％-6％、约为3％-5％，以及其间的所有范围和子范围。

本文还考虑了用于对耐磨损性进行量化的替代方法。在一个或多个实施方式中，在减反射涂层120上通过泰伯尔测试进行磨损的制品100可展现出如下耐磨损性，其是通过原子力显微镜(AFM)表面轮廓测得的，其可以在例如减反射涂层120的80x 80微米区域上或者多个80x 80微米区域(对于样品而言更大比例的磨损区域)上进行。经由这些AFM表面扫描，可以评估表面粗糙度统计，例如RMS粗糙度、Ra粗糙度和峰谷表面高度。在一个或多个实施方式中，在上文所述的泰伯尔测试磨损之后，制品100(或者，具体来说，减反射涂层120)可展现出小于或等于约50nm、小于或等于约25nm、小于或等于约12nm、小于或等于约10nm、小于或等于约5nm的平均表面粗糙度(Ra)值。

在一个或多个实施方式中，在通过泰伯尔测试磨损之后，制品100可展现出耐磨损性，这是通过光散射测量测得的。在一个或多个实施方式中，光散射测量包括采用辐射Zemax IS-SA^TM仪器进行的双向反射分布函数(BRDF)或双向透射分布函数(BTDF)测量。该仪器具有采用任意输入角(对于反射，从法向到约85度入射，以及对于透射，从法向到约85度入射)来测量光散射的灵活性，同时还俘获了无论是反射或透射的所有散射光输出进入2*Pi立体弧度(反射或透射中的全半球)。在一个实施方式中，制品100展现出耐磨损性，这是采用法向入射的BTDF测得的，并且以选定的角度范围(例如，极性角度中约为10-80°度，以及其间的任意角度范围)对透射散射角进行分析。可以分析和积分全方位角范围，或者可以选择特定的方位角切线(slice)，例如约为0°至90°方位角。在线性磨损的情况下，可能希望选择与磨损方向基本成直角的方位角方向，从而增加光学散射测量的信噪比。在一个或多个实施方式中，当采用辐射Zemax IS-SA工具以CCBTDF模式，在透射的正交入射时(2mm孔隙和设定到600nm波长的单色仪)并且当以约为15-60°(具体来说，约为20或40°)范围的极性散射角评估时，制品100可展现出在减反射涂层120测得的小于约0.1、小于或等于约0.05、小于或等于约0.03、小于或等于约0.02、小于或等于约0.01、小于或等于约0.005或者小于或等于约0.003的散射光强度(单位，1/立体弧度)。透射的法向入射也已知是透射的零度，仪器软件可能表示为180°入射。在一个或多个实施方式中，可以沿着方位角方向测量散射光强度，所述方位角方向基本与泰伯尔测试磨损的样品的磨损方向成直角。在一个例子中，泰伯尔测试可以使用约10次循环至约1000次循环，以及其间的所有值。这些光学强度值还可对应于小于约1％、小于约0.5％、小于约0.2％或者小于约0.1％的输入光强度，其散射至大于约5度、大于约10度、大于约30度或者大于约45度的极性散射角。

一般来说，如本文所述，法向入射的BTDF测试与透射雾度测试紧密相关，它们都是测量在透射中散射通过样品(或者在该情况下，通过样品100，在减反射涂层120磨损之后)的光的量。相比于雾度测量，BTDF测量提供了更好的灵敏度以及更为详细的角度信息。BTDF能够对散射成不同的极性和方位角进行测量，例如允许选择性地评估散射成方位角，所述方位角与线性泰伯尔测试中的磨损方向基本呈直角(这些是来自线性磨损的光散射最高的角度)。透射雾度基本上是所有散射光的积分，其是通过进入大于约+/-2.5度的极性角的整个半球的法向入射BTDF测得的。

减反射涂层120和制品100可以通过经由布氏压痕计硬度测试测得的硬度进行描述。如本文所用，“布氏压痕计硬度测试”包括用钻石布氏压痕计对表面进行压痕，来测量材料表面的硬度。布氏压痕计硬度测试包括用钻石布氏压痕计对制品的减反射表面122或者减反射涂层120的表面(或者减反射涂层中的任意一层或多层的表面)进行压痕，以形成压痕，压痕深度约为50-1000nm(或者减反射涂层或层的整个厚度，取较小者)，并沿着整个压痕深度范围或者该压缩深度的区段测量最大硬度(例如，约为100-600nm)，通常采用如下方法：Oliver,W.C.；Pharr,G.M.“An improved technique for determining hardness andelastic modulus using load and displacement sensing indentation experiments(采用负荷和位移传感压痕实验来确定硬度额弹性模量的改进技术)”，J.Mater.Res.，第7卷，第6期，1992，第1564-1583页；以及Oliver,W.C.；Pharr,G.M.“Measurement ofHardness and Elastic Modulus by Instrument Indentation:Advances inUnderstanding and Refinements to Methodology(通过仪器压痕来测量硬度和弹性模量：方法理解与改进的进展)”，J.Mater.Res.，第19卷，第1期，2004，第3-20页。如本文所用，硬度指的是最大硬度，而非平均硬度。

通常来说，在比下方基材更硬的涂层的纳米压痕测量方法(例如，布氏压痕计)中，测得的硬度可能看上去是初始增加的，这是由于在浅的压痕深度的弹性区的建立，以及然后增加并在更深的压痕深度抵达最大值或高台。之后，在甚至更深的压痕深度，硬度开始降低，这是由于下方基材的影响所导致的。当采用相比于涂层具有增加的硬度的基材时，可以看到相同影响；但是，由于下方基材的影响，在更深的压痕深度，硬度增加。

可以选择压痕深度范围以及在某些压痕深度范围的硬度值来鉴定本文所述的光学膜结构及其层的特定硬度响应，而没有来自下方基材的影响。当用布氏压痕计测量(当布置在基材上的)光学膜结构的硬度时，材料发生永久变形的区域(塑性区)与材料的硬度相关。在压痕过程中，弹性应力场延伸远超过该永久变形区域。随着压痕深度增加，表观硬度和模量受到与下方基材相互作用的应力场的影响。基材对于硬度的影响发生于较深的压痕深度(即，通常深度大于光学膜结构或层厚度的约10％处)。此外，更复杂之处在于，硬度响应需要某一最小负荷来建立压痕过程期间的完全塑性。在该特定最小负荷之前，硬度显示大致增加的趋势。

在小的压痕深度(其也可表征为小的负荷)(例如，高至约50nm)处，材料的表观硬度看上去随着压痕深度急剧增加。该小的压痕深度区域不代表硬度的真实度量，相反地，反映的是前述塑性区的建立，这与压痕计的曲率的有限半径相关。在中间压痕深度，表观硬度接近最大水平。在更深的压痕深度，随着压痕深度的增加，基材的影响变得更为主要。一旦压痕深度超过光学膜结构厚度或者层厚度的约30％，硬度可能开始急剧跌落。

图40显示测得的硬度值的变化与压痕深度和涂层厚度的关系图。如图40所示，在中间压痕深度(在该处，硬度接近并维持在最大水平)以及在更深的压痕深度测得的硬度取决于材料或层的厚度。图40显示具有不同厚度的AlO_xN_y的四种不同层的硬度响应。采用布氏压痕计硬度测试来测量每种层的硬度。500nm厚的层在约为100-180nm的压痕深度展现出其最大硬度，之后在约为180-200nm的压痕深度硬度急剧下降，表明基材的硬度影响了硬度测量。1000nm厚的层在约为100-300nm的压痕深度展现出最大硬度，之后在大于约300nm的压痕深度硬度急剧下降。1500nm厚的层在约为100-550nm的压痕深度展现出最大硬度，以及2000nm厚的层在约为100-600nm的压痕深度展现出最大硬度。虽然图40显示的是厚的单层，但是对于薄的涂层和那些包括多层(例如本文所述实施方式的减反射涂层120)，观察到相同行为。

在一些实施方式中，减反射涂层120可展现出大于约5GPa的硬度，通过布氏压痕计硬度测试在减反射表面122上测得。减反射涂层120可展现出大于或等于约8GPa、大于或等于约10GPa、或者大于或等于约12GPa的硬度。如本文所述，包括减反射涂层120和任意额外涂层的制品100可展现出大于或等于约5GPa、或者大于或等于约8GPa、大于或等于约10GPa、或者大于或等于约12GPa的硬度，通过布氏压痕计硬度测试在减反射表面122上测得。减反射涂层120和/或制品100沿着大于或等于约50nm或者大于或等于约100nm的压痕深度(例如，约为100-300nm、约为100-400nm、约为100-500nm、约为100-600nm、约为200-300nm、约为200-400nm、约为200-500nm、或者约为200-600nm)可展现出此类测得的硬度值。

减反射涂层120可具有至少一层具有如下硬度的层(在该层的表面上测得，例如，图2的第二高RI层130B的表面)：大于或等于约12GPa、大于或等于约13GPa、大于或等于约14GPa、大于或等于约15GPa、大于或等于约16GPa、大于或等于约17GPa、大于或等于约18GPa、大于或等于约19GPa、大于或等于约20GPa、大于或等于约22GPa、大于或等于约23GPa、大于或等于约24GPa、大于或等于约25GPa、大于或等于约26GPa、或者大于或等于约27GPa(高至约50GPa)，通过布氏压痕计硬度测试测得。该层的硬度可以约为18-21GPa，通过布氏压痕计硬度测试测得。所述至少一层沿着大于或等于约50nm或者大于或等于约100nm的压痕深度(例如，约为100-300nm、约为100-400nm、约为100-500nm、约为100-600nm、约为200-300nm、约为200-400nm、约为200-500nm、或者约为200-600nm)可展现出此类测得的硬度值。在一个或多个实施方式中，制品展现出的硬度大于基材的硬度(该硬度可以是在于减反射表面相反的表面上测得)。

在一个或多个实施方式中，减反射涂层120或者减反射涂层内的单个层可展现出大于或等于约75GPa、大于或等于约80GPa、或者大于或等于约85GPa的弹性模量，在减反射表面122上通过用布氏压痕计压痕该表面测得。这些模量值可表示测得的非常接近减反射表面122的模量，例如0-50nm的压痕深度，或者其可以表示在更深压痕深度，例如约为50-1000nm处测得的模量。

来自减反射涂层120/空气界面的反射波与减反射涂层120/基材110界面的反射波之间的光学相互作用会导致光谱反射和/或透射振荡，这在制品100中产生表观颜色。本文所用术语“透射率”定义为给定波长范围内，透射过材料(例如，制品、基材或者光学膜或其部分)的入射光功率的百分比。本文所用术语“反射率”类似地定义为给定波长范围内，从材料(例如，制品、基材或者光学膜或其部分)反射的入射光功率的百分比。采用具体谱线宽度来测量透射率和反射率。在一个或多个实施方式中，透射率和反射率表征的光谱分辨率小于5nm或0.02eV。颜色可能在反射中更为明显。由于光谱反射振幅随着入射照射角发生偏移，反射的角度颜色随着观察角而发生偏移。由于光谱透射振幅随着入射照射角发生相同偏移，透射的角度颜色也随着观察角而发生偏移。观察到的颜色和随着入射照射角发生的角度色移通常对于装置使用者而言是分散注意力或令人讨厌的，特别是在诸如荧光发光和一些LED发光的锋利光谱特征的照射情况下。透射中的角度色移还对反射中的角度色移起到作用，反之亦然。透射和/或反射中的角度色移中的因素还可包括由于观察角或色移偏移某白点导致的角度色移，这可能是由于材料吸收引起的(稍微不依赖于角度)，其是由特定光源或测试系统所限定的。

振荡可以根据幅度来描述。本文所用术语“幅度”包括反射率或透射率的峰谷变化。术语平均“幅度”包括光波长区域内取平均值的反射率或透射率峰谷变化。如本文所用，“光波长区域”包括约为400-800nm(更具体来说约为450-650nm)的波长范围。

本文的实施方式包括减反射涂层来提供改善的光学性能，在不同光源下，以相对于法向入射的不同入射照射角观察时的无色和/或较小角度色移方面而言。

本文的一个方面属于一种制品，当在光源下，甚至以不同入射照射角观察时，该制品在反射率和/或透射率中展现出无色。在一个或多个实施方式中，在本文所提供的范围内，制品在参考照射角和任何入射照射角之间，展现出小于或等于约5或者小于或等于约2的反射率和/或透射率的角度色移。如本文所用术语“色移”(角度或基准点)指的是CIE L*、a*、b*色度体系下，在反射率和/或透射率中a*和b*的同时变化。应理解的是，除非另有说明，否则本文所述制品的L*坐标在任意角度或基准点都是相同的，并且不影响色移。例如，可以采用如下等式(1)来确定角度色移：

(1)√((a*₂-a*₁)²+(b*₂-b*₁)²)

其中，a*₁和b*₁表示当在参照照射角(可包括法向入射)观察时的制品的a*和b*坐标，以及a*₂和b*₂表示当在入射照射角观察时的制品的a*和b*坐标，前提是入射照射角不同于参照照射角，并且在一些情况下，与参照照射角相差至少约1度、2度或者约5度。在一些情况下，当在光源下，以相对于参照照射角的各种入射照射角观察时，制品展现出反射率和/或透射率中小于或等于约10(例如，小于或等于5、小于或等于4、小于或等于3、或者小于或等于2)的角度色移。在一些情况下，反射率和/或透射率中的角度色移小于或等于约1.9、小于或等于约1.8、小于或等于约1.7、小于或等于约1.6、小于或等于约1.5、小于或等于约1.4、小于或等于约1.3、小于或等于约1.2、小于或等于约1.1、小于或等于约1、小于或等于约0.9、小于或等于约0.8、小于或等于约0.7、小于或等于约0.6、小于或等于约0.5、小于或等于约0.4、小于或等于约0.3、小于或等于约0.2、或者小于或等于约0.1。在一些实施方式下，角度色移可以约为0。光源可以包括CIE确定的标准光源，包括A光源(表示钨丝发光体)、B光源(模拟日光光源)、C光源(模拟日光光源)、D系列光源(表示自然日光)以及F系列光源(表示各种类型的荧光发光体)。在具体例子中，在CIE F2、F10、F11、F12或D65光源下，或者更具体来说，在CIE F2光源下，当以偏离参照照射角的入射照射角观察时，制品展现出小于或等于约2的反射率和/或透射率的角度色移。

参照照射角可以包括法向入射(即0度)或者偏移法向入射5度、偏移法向入射10度、偏移法向入射15度、偏移法向入射20度、偏移法向入射25度、偏移法向入射30度、偏移法向入射35度、偏移法向入射40度、偏移法向入射50度、偏移法向入射55度、或者偏移法向入射60度，前提是参照照射角之间的差异以及入射照射角与参照照射角之间的差异至少约为1度、2度或者约为5度。相对于参照照射角，入射照射角可以是偏离法向入射约为5-80度、约为5-80度、约为5-70度、约为5-65度、约为5-60度、约为5-55度、约为5-50度、约为5-45度、约为5-40度、约为5-35度、约为5-30度、约为5-25度、约为5-20度、约为5-15度，以及其间的所有范围和子范围。当参照照射角是法向入射时，制品在约为2-80度的所有入射照射角以及沿着所有入射照射角可展现出本文所述的反射率和/或透射率中的角度色移。在一些实施方式中，当入射照射角与参照照射角之差至少约为1度、2度或者约为5度时，制品在约为2-80度的所有入射照射角以及沿着所有入射照射角可展现出本文所述的反射率和/或透射率中的角度色移。在一个例子中，在偏离等于法向入射的参照照射角约为2-60度、约为5-60度、或者约为10-60度的范围内的任意入射照射角时，制品可展现出小于或等于2的反射率和/或透射率的角度色移。在其他例子中，当参照照射角是10度以及入射照射角偏离参照照射角约为12-60度、约为15-60度、或者约为20-60度的任意角度时，制品可展现出小于或等于2的反射率和/或透射率的角度色移。

在一些实施方式中，可以在参照照射角(例如法向入射)和入射照射角之间的约为20-80度的所有角度测量角度色移。换言之，可以在约为0-20度、约为0-30度、约为0-40度、约为0-50度、约为0-60度、或者约为0-80度的所有角度，测量角度色移并且其可以小于约5或者小于约2。

在一个或多个实施方式中，在光源(其可以包括CIE确定的标准光源，包括A光源(表示钨丝发光体)、B光源(模拟日光光源)、C光源(模拟日光光源)、D系列光源(表示自然日光)以及F系列光源(表示各种类型的荧光发光体))下，制品在反射率和/或透射率的CIEL*、a*、b*色度体系中展现出如下颜色，使得透射率颜色或反射率坐标相对于基准点之间的距离或基准点色移小于约5或者小于约2。在具体例子中，在CIE F2、F10、F11、F12或D65光源下，或者更具体来说，在CIE F2光源下，当以偏离参照照射角的入射照射角观察时，制品展现出小于或等于约2的反射率和/或透射率的色移。换言之，制品可展现出在减反射表面122测得的透射颜色(或透射颜色坐标)和/或反射颜色(或反射颜色坐标)，其相对于基准点的基准点色偏移小于约2，如本文所定义。除非另有说明，否则是在制品的两个表面上测量透射率颜色或透射率颜色坐标，所述制品包括减反射表面122和制品的相反裸表面(即，114)。除非另有说明，否则仅在制品的减反射表面122上测量反射率颜色或反射率颜色坐标。

在一个或多个实施方式中，基准点可以是CIE L*、a*、b*色度体系中的原点(0,0)(或者色坐标a*＝0、b*＝0)、色坐标(a*＝-2、b*＝-2)或者基材的透射率或反射率色坐标。应理解的是，除非另有说明，否则本文所述制品的L*坐标与基准点相同的，并且不影响色移。当相对于基材定义制品的基准点色移时，制品的透射率色坐标与基材的透射率色坐标对比，以及制品的反射率色坐标与基材的反射率色坐标对比。

在一个或多个具体实施方式中，透射率颜色和/或反射率颜色的基准点色移可以小于1或者甚至小于0.5。在一个或多个具体实施方式中，透射率颜色和/或反射率颜色的基准点色移可以是1.8、1.6、1.4、1.2、0.8、0.6、0.4、0.2、0，以及其间的所有范围和子范围。当基准点是色坐标a*＝0、b*＝0时，通过如下等式(2)计算基准点色移：

(2)基准点色移＝√((a*_制品)²+(b*_制品)²)

当基准点是色坐标a*＝-2、b*＝-2时，通过如下等式(3)计算基准点色移：

(3)基准点色移＝√((a*_制品+2)²+(b*_制品+2)²)

当基准点是基材的色坐标时，通过如下等式(4)计算基准点色移：

(4)基准点色移＝√((a*_制品-a*_基材)²+(b*_制品-b*_基材)²)

在一些实施方式中，当基准点是基材的色坐标，色坐标a*＝0、b*＝0，以及坐标a*＝-2、b*＝-2，中的任意一种时，制品可展现出如下透射率颜色(或者透射率色坐标)以及反射率颜色(或者反射率色坐标)，使得基准点色移小于2。

在一个或多个实施方式中，在约为0-60度(或者约为0-40度或约为0-30度)的所有入射照射角，制品可展现出CIE L*、a*、b*色度体系中约为-5至约1、约为-5至约0、约为-4至约1、或者约为-4至约0的反射率中的b*值(仅在减反射表面测量)。

在一个或多个实施方式中，在约为0-60度(或者约为0-40度或约为0-30度)的所有入射照射角，制品可展现出CIE L*、a*、b*色度体系中约为-2至约2、约为-1至约2、约为-0.5至约2、约为0至约2、约为0至约1、约为-2至约0.5、约为-2至约1、约为-1至约1、或者约为0至约0.5的透射率中的b*值。

在一些实施方式中，在光源D65、A和F2下，在约为0-60度的入射照射角，制品可展现出约为-1.5至约1.5(例如，-1.5至-1.2、-1.5至-1、-1.2至1.2、-1至1、-1至0.5、或者-1至0)的透射率的a*值(在减反射表面和相反裸表面)。在一些实施方式中，在光源D65、A和F2下，在约为0-60度的入射照射角，制品可展现出约为-1.5至约1.5(例如，-1.5至-1.2、-1.5至-1、-1.2至1.2、-1至1、-1至0.5、或者-1至0)的透射率的b*值(在减反射表面和相反裸表面)。

在一些实施方式中，在光源D65、A和F2下，在约为0-60度的入射照射角，制品可展现出约为-5至约2(例如，-4.5至1.5、-3至0、-2.5至0.25)的反射率率的a*值(仅在减反射表面)。在一些实施方式中，在光源D65、A和F2下，在约为0-60度的入射照射角，制品可展现出约为-7至约-1.5的反射率率的b*值(仅在减反射表面)。

一个或多个实施方式的制品，或者一个或多个制品的减反射表面122，可在约为400-800nm的光波长区域展现出大于或等于约95％的平均透光率(例如，大于或等于约9.5％、大于或等于约96％、大于或等于约96.5％、大于或等于约97％、大于或等于约97.5％、大于或等于约98％、大于或等于约98.5％、或者大于或等于约99％)。在一些实施方式中，制品或者一个或多个制品的减反射表面122可在约为400-800nm的光波长区域展现出小于或等于约2％的平均反光率(例如，小于或等于约1.5％、小于或等于约1％、小于或等于约0.75％、小于或等于约0.5％、或者小于或等于约0.25％)。可以在整个光波长区域上或者在光波长区域的选定范围上(例如，光波长区域内的100nm波长范围、150nm波长范围、200nm波长范围、250nm波长范围、280nm波长范围、或者300nm波长范围)观察到这些光透射率和光反射率值。在一些实施方式中，这些光反射率值和透射率值可以是总反射率或者总透射率(同时考虑了减反射表面122和相反主表面114上的反射率或透射率)。除非另有说明，否则是在0度入射照射角测量平均反射率或透射率(但是，可以是在45度或60度的入射照射角提供此类测量)。

在一些实施方式中，一个或多个实施方式的制品或者一个或多个制品的减反射表面122，在光波长区域可展现出小于或等于约1％、小于或等于约0.7％、小于或等于约0.5％、或者小于或等于约0.45％的平均可见适光反射率。可以在约为0-20°、约为0-40°、或者约为0-60°的入射照射角展现出这些适光反射率值。如本文所用，适光反射模拟了人眼响应，根据人眼敏感度加权了反射率与波长谱。根据已知的规定，例如CIE色空间规定，适光反射率还可定义为反射光的亮度或三色Y值。如下等式(5)定义平均适光反射率：光谱反射率R(λ)乘以光源谱I(λ)和CIE的色匹配函数

与眼睛的光谱响应相关，

在具体实施方式中，一个或多个制品的减反射表面122(即，当仅通过单侧测量来对减反射表面122进行测量时)，可展现出小于或等于约2％、小于或等于约1.8％、小于或等于约1.5％、小于或等于约1.2％、小于或等于约1％、小于或等于约0.9％、小于或等于约0.7％、小于或等于约0.5％、小于或等于约0.45％、或者小于或等于约0.35％的平均可见适光反射率。在一些情况下，采用D65光源，在约为5-60度的整个入射照射角范围(参照照射角为法向入射)，展现出所述平均可见适光反射率范围并且同时展现出小于约5.0、小于约4.0、小于约3.0、小于约2.0、小于约1.5、或者小于约1.25的最大反射率色移。这些最大反射率色移值表示在距离法向入射约为5-60度的任意角度测得的最低色点值减去在相同范围内的任意角度测得的最高色点值。数值可表示a*值的最大变化(a*_最高-a*_最低)、b*值的最大变化(b*_最高-b*_最低)、a*和b*值同时最大变化、或者量值√((a*_最高-a*_最低)²+(b*_最高-b*_最低)²)的最大变化。

在一个或多个实施方式中，以法向入射或者接近法向入射(例如，约为0-10度或者约为0-6度)，制品可展现出仅在减反射表面测得的可表征为如下特征的反射率谱：在约为400-480nm波长范围的最大反射率和最小反射率(在该范围上的最大反射率称作R400-最大值以及在该范围上的最小反射率称作R400-最小值)，在约为500-600nm波长范围的最大反射率和最小反射率(在该范围上的最大反射率称作R500-最大值以及在该范围上的最小反射率称作R500-最小值)，以及在约为640-710nm波长范围的最大反射率和最小反射率(在约为640-710nm波长范围上的最大反射率称作R640-最大值以及在约为640-710nm波长范围上的最小反射率称作R640-最小值)。在一些实施方式中，反射率谱展现如下任意一个或多个：R400-最大值大于R500-最大值、R400-最大值大于R640-最大值、R400-最小值小于R500-最小值、R600最小值小于R500-最小值。在一些实施方式中，反射率谱展现如下任意一个或多个：R400-最大值约为0.6-1.5％、R400-最小值约为0-0.3％、R500-最大值约为0.5-0.9％、R500-最小值约为0.3-0.7％、R640-最大值约为0.5-0.9％、以及R640-最小值约为0-0.3％。

基材

基材110可包括无机材料，并且可包括无定形基材、晶体基材或其组合。基材110可以由人造材料和/或天然存在的材料(例如，石英和聚合物)形成。例如，在一些情况下，基材100可表征为有机物，并且具体来说，可以是聚合物。合适的聚合物的例子包括但不限于：热塑性物质，包括聚苯乙烯(PS)(包括苯乙烯共聚物和掺混物)、聚碳酸酯(PC)(包括共聚物和掺混物)、聚酯(包括共聚物和掺混物，包括聚乙二醇对苯二甲酸酯和聚乙二醇对苯二甲酸酯共聚物)、聚烯烃(PO)和环聚烯烃(环PO)、聚氯乙烯(PVC)、丙烯酸聚合物，包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)(包括共聚物和掺混物)、热塑性氨基甲酸酯(TPU)、聚醚酰亚胺(PEI)，以及这些聚合物的相互掺混物。其他示例性聚合物包括环氧树脂、苯乙烯类树脂、酚醛类树脂、三聚氰胺树脂和硅酮树脂。

在一些具体实施方式中，基材110可以具体地排除聚合物、塑料和/或金属基材。基材可表征为含碱性基材(即，基材包含一种或多种碱性物质)。在一个或多个实施方式中，基材展现出约为1.45-1.55的折射率。在具体实施方式中，利用环上球测试，使用至少5个、至少10个、至少15个或者至少20个样品进行测量，基材110在一个或多个相对主表面的表面上可展现出大于或等于0.5％、大于或等于0.6％、大于或等于0.7％、大于或等于0.8％、大于或等于0.9％、大于或等于1％、大于或等于1.1％、大于或等于1.2％、大于或等于1.3％、大于或等于1.4％、大于或等于1.5％或者甚至大于或等于2％的平均断裂应变。在具体实施方式中，基材110在其一个或多个相对主表面的表面上可展现出约为1.2％、约为1.4％、约为1.6％、约为1.8％、约为2.2％、约为2.4％、约为2.6％、约为2.8％或者约为3％或更大的平均断裂应变。

合适的基材110可展现出约为30-120GPa的弹性模量(或者杨氏模量)。在一些情况下，基材的弹性模量可以约为30-110GPa、约为30-100GPa、约为30-90GPa、约为30-80GPa、约为30-70GPa、约为40-120GPa、约为50-120GPa、约为60-120GPa、约为70-120GPa，以及其间的所有范围和子范围。

在一个或多个实施方式中，无定形基材可包括玻璃，其可以经过强化或者未经过强化。合适的玻璃的例子包括钠钙玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、含碱性硼硅酸盐玻璃以及碱性铝硼硅酸盐玻璃。在一些变化形式中，玻璃可以不含氧化锂。在一个或多个替代实施方式中，基材110可以包括晶体基材，例如玻璃陶瓷基材(其可以经过强化或者未经过强化)或者可也包括单晶结构，例如蓝宝石。在一个或多个具体实施方式中，基材110包括无定形基底(例如玻璃)和晶体包覆(例如，蓝宝石层、多晶氧化铝层和/或尖晶石(MgAl₂O₄)层)。

基材110可以是基本平坦或者片状的，但是其他实施方式可采用弯曲或者任意其他形状或造型的基材。基材110可以是基本上光学透澈、透明和没有光散射的。在此类实施方式中，基材在光波长区域可展现大于或等于约85％、大于或等于约86％、大于或等于87％、大于或等于88％、大于或等于89％、大于或等于90％、大于或等于91％或者大于或等于92的平均透光率。在一个或多个替代实施方式中，基材110可以是不透明的，或者可以在光波长区域展现出小于约10％、小于约9％、小于约8％、小于约7％、小于约6％、小于约5％、小于约4％、小于约3％、小于约2％、小于约1％或者小于约0％的平均透光率。在一些实施方式中，这些光反射率值和透射率值可以是总反射率或者总透射率(同时考虑了基材的两个主表面上的反射率或透射率)，或者可以在基材单侧观察到这些光反射率值和透射率值(即，仅在减反射表面122上，而没有考虑相反表面)。除非另有说明，否则是在0度入射照射角测量平均反射率或透射率(但是，可以是在45度或60度的入射照射角提供此类测量)。基材110可任选地展现出颜色，例如白色、黑色、红色、蓝色、绿色、黄色、橙色等。

作为补充或替代，出于美观和/或功能原因，基材110的物理厚度可沿其一个或多个尺寸发生变化。例如，基材110的边缘可以相比于基材110的更为中心的区域更厚。根据制品100的应用或用途，基材110的长度、宽度和物理厚度尺寸也可以发生变化。

可采用各种不同工艺来提供基材110。例如，当基材110包括无定形基材例如玻璃时，各种成形方法可以包括浮法玻璃工艺以及下拉工艺例如熔合拉制和狭缝拉制。

一旦形成，可以对基材110进行强化以形成经强化的基材。本文所用术语“强化的基材”可以表示通过例如用较大离子来离子交换基材表面中的较小离子进行化学强化的基材。但是，也可采用本领域已知的其他强化方法，例如采用热回火或者部分基材之间的热膨胀系数的不匹配来产生压缩应力和中心拉伸区域，以形成经强化的基材。

当基材通过离子交换工艺进行化学强化时，用具有相同价态或氧化态的较大的离子来代替或交换基材的表面层内的离子。通常通过将基材浸泡在熔盐浴中进行离子交换工艺，所述熔盐浴包含要与基材中的较小离子发生交换的较大离子。本领域技术人员能够理解，离子交换工艺的参数包括但不限于：浴组成和温度、浸没时间、基材在一种或多种盐浴中的浸没次数、多种盐浴的使用、其它步骤例如退火以及洗涤等，其通常是由以下的因素决定的：基材的组成，所需的压缩应力(CS)、通过强化操作得到的基材的压缩应力层深度(或层深度)。例如，含碱金属的玻璃基材的离子交换可以通过以下方式实现：浸泡在至少一种包含盐的熔盐浴中，所述盐包括例如但不限于较大碱金属离子的硝酸盐、硫酸盐和氯化物。熔融盐浴的温度通常约为380℃至高至约450℃，而浸泡时间约为15分钟至高至40小时。但是，也可以采用与上述不同的温度和浸泡时间。

另外，在以下文献中描述了在多种离子交换浴中浸没玻璃基材(在浸泡之间进行洗涤和/或退火步骤)的离子交换工艺的非限制性例子：Douglas C.Allan等人于2009年7月10日提交的题为“Glass with Compressive Surface for Consumer Applications(用于消费者应用的具有压缩表面的玻璃)”的美国专利申请第12/500,650号，其要求2008年7月11日提交的美国临时专利申请第61/079,995号的优先权，其中，通过在不同浓度的盐浴中多次浸泡，进行连续的离子交换处理，从而对玻璃基材进行强化；以及2012年11月20日公告的Christopher M.Lee等人的题为“Dual Stage Ion Exchange for ChemicalStrengthening of Glass(用于对玻璃进行化学强化的双阶段离子交换)”的美国专利8,312,739，其要求2008年7月29日提交的美国临时专利申请第61/084,398号的优先权，其中，玻璃基材通过以下方式进行强化：首先在用流出离子稀释的第一浴中进行离子交换，然后在第二浴中浸泡，所述第二浴的流出离子浓度小于第一浴。美国专利申请第12/500,650号和美国专利第8,312,739号的内容全文参考结合于此。

可以基于中心拉伸(CT)、表面CS和层深度(DOL)的参数对通过离子交换所实现的化学强化程度进行定量化。可以在强化的玻璃的表面附近或其内的各个深度处测量表面CS。最大CS值可以包括在强化基材的表面(CS_s)测得的CS。CT是计算用于玻璃基材内与压缩应力层相邻的内部区域，其可以由CS、物理厚度t和DOL计算得到。采用本领域已知的那些方式测量CS和DOL。此类方式包括但不限于，使用诸如Luceo有限公司(日本东京)制造的FSM-6000或者类似的商用仪器，来测量表面应力(FSM)，测量CS和DOL的方法如ASTM 1422C-99所述，题为“Standard Specification for Chemically Strengthened Flat Glass(用于化学强化的平坦玻璃的标准规格)”和ASTM 1279.19779“Standard Test Method for Non-Destructive Photoelastic Measurement of Edge and Surface Stresses inAnnealed,Heat-Strengthened,and Fully-Tempered Flat Glass(用于退火的、热强化的、完全回火的平坦玻璃中的边缘和表面应力的非破坏性光弹性测量的标准测试方法)”，其全文通过引用结合入本文。表面应力测量依赖于应力光学系数(SOC)的精确测量，其与玻璃基材的双折射相关。进而通过本领域已知的那些方法来测量SOC，例如纤维和四点弯曲方法(它们都参见ASTM标准C770-98(2008)所述，题为“Standard Test Method forMeasurement of Glass Stress-Optical Coefficient(用于测量玻璃的应力-光学系数的标准测试方法)”，其全文通过引用结合入本文，以及块圆柱体方法。CS和CT之间的关系如下式(1)所示：

CT＝(CS·DOL)/(t–2 DOL) (1)，

式中，t是玻璃制品的物理厚度(μm)。在本发明的各部分中，CT和CS的单位是兆帕斯卡(MPa)，物理厚度t的单位是微米(μm)或毫米(mm)，以及DOL的单位是微米(μm)。

在一个实施方式中，强化的基材110的表面CS可以大于或等于250MPa、大于或等于300MPa，例如大于或等于400MPa、大于或等于450MPa、大于或等于500MPa、大于或等于550MPa、大于或等于600MPa、大于或等于650MPa、大于或等于700MPa、大于或等于750MPa、或者大于或等于800MPa。强化的基材的DOL可以大于或等于10μm、大于或等于15μm、大于或等于20μm(例如，25μm、30μm、35μm、40μm、45μm、50μm或更大)，和/或CT可以大于或等于10MPa、大于或等于20MPa、大于或等于30MPa、大于或等于40MPa(例如，42MPa、45MPa或50MPa或更大)但是小于100MPa(例如，95、90、85、80、75、70、65、60、55MPa或更小)。在一个或多个具体实施方式中，强化的基材具有以下一种或多种性质：表面CS大于500MPa、DOL大于15μm，以及CT大于18MPa。

可用于基材的示例性玻璃可包括碱性铝硅酸盐玻璃组合物或者碱性铝硼硅酸盐玻璃组合物，但是也考虑其他玻璃组合物。此类玻璃组合物能够通过离子交换过程进行化学强化。一种示例性玻璃组合物包含SiO₂、B₂O₃和Na₂O，其中，(SiO₂+B₂O₃)≥66摩尔％，并且Na₂O≥9摩尔％。在一个实施方式中，玻璃组合物包含至少6重量％的氧化铝。在另一个实施方式中，基材包含具有一种或多种碱土氧化物，从而碱土氧化物的含量至少为5重量％的玻璃组合物。在一些实施方式中，合适的玻璃组合物还包含K₂O、MgO和CaO中的至少一种。在一个特定实施方式中，用于基材的玻璃组合物可包含：61-75摩尔％的SiO₂；7-15摩尔％的Al₂O₃；0-12摩尔％的B₂O₃；9-21摩尔％的Na₂O；0-4摩尔％的K₂O；0-7摩尔％的MgO；以及0-3摩尔％的CaO。

适合基材的另一种示例性玻璃组合物包含：60-70摩尔％的SiO₂；6-14摩尔％的Al₂O₃；0-15摩尔％的B₂O₃；0-15摩尔％的Li₂O；0-20摩尔％的Na₂O；0-10摩尔％的K₂O；0-8摩尔％的MgO；0-10摩尔％的CaO；0-5摩尔％的ZrO₂；0-1摩尔％的SnO₂；0-1摩尔％的CeO₂；小于50ppm的As₂O₃；以及小于50ppm的Sb₂O₃；其中12摩尔％≤(Li₂O+Na₂O+K₂O)≤20摩尔％，以及0摩尔％≤(MgO+CaO)≤10摩尔％。

适合基材的另一种示例性玻璃组合物包含：63.5-66.5摩尔％的SiO₂；8-12摩尔％的Al₂O₃；0-3摩尔％的B₂O₃；0-5摩尔％的Li₂O；8-18摩尔％的Na₂O；0-5摩尔％的K₂O；1-7摩尔％的MgO；0-2.5摩尔％的CaO；0-3摩尔％的ZrO₂；0.05-0.25摩尔％的SnO₂；0.05-0.5摩尔％的CeO₂；小于50ppm的As₂O₃；以及小于50ppm的Sb₂O₃；其中14摩尔％≤(Li₂O+Na₂O+K₂O)≤18摩尔％，且2摩尔％≤(MgO+CaO)≤7摩尔％。

在一个具体实施方式中，适用于基材的碱性铝硅酸盐玻璃组合物包含氧化铝、至少一种碱金属以及，在一些实施方式中大于50摩尔％的SiO₂，在另一些实施方式中至少58摩尔％的SiO₂，以及在其他实施方式中至少60摩尔％的SiO₂，其中比例(Al₂O₃+B₂O₃)/Σ改性剂(即，改性剂总和)大于1，其中比例的组分以摩尔％计，以及改性剂是碱金属氧化物。在具体实施方式中，该玻璃组合物包含：58-72摩尔％的SiO₂；9-17摩尔％的Al₂O₃；2-12摩尔％的B₂O₃；8-16摩尔％的Na₂O；以及0-4摩尔％的K₂O，其中比例(Al₂O₃+B₂O₃)/Σ改性剂(即，改性剂总和)大于1。

在另一个实施方式中，基材可包括碱性铝硅酸盐玻璃组合物，其包含：64-68摩尔％的SiO₂；12-16摩尔％的Na₂O；8-12摩尔％的Al₂O₃；0-3摩尔％的B₂O₃；2-5摩尔％的K₂O；4-6摩尔％的MgO；以及0-5摩尔％的CaO，其中66摩尔％≤SiO₂+B₂O₃+CaO≤69摩尔％；Na₂O+K₂O+B₂O₃+MgO+CaO+SrO>10摩尔％；5摩尔％≤MgO+CaO+SrO≤8摩尔％；(Na₂O+B₂O₃)-Al₂O₃≤2摩尔％；2摩尔％≤Na₂O-Al₂O₃≤6摩尔％；以及4摩尔％≤(Na₂O+K₂O)-Al₂O₃≤10摩尔％。

在一个替代实施方式中，基材可包括碱性铝硅酸盐玻璃组合物，其包含：大于或等于2摩尔％的Al₂O₃和/或ZrO₂或者大于或等于4摩尔％的Al₂O₃和/或ZrO₂。

其中，基材110包括晶体基材，基材可以包括单晶体，其可以包括Al₂O₃。这种单晶基材称作蓝宝石。晶体基材的其他合适材料包括多晶氧化铝层和/或尖晶石(MgAl₂O₄)。

任选地，晶体基材110可包括玻璃陶瓷基材，其可以经过强化或者未经过强化。合适的玻璃陶瓷的例子可以包括Li₂O-Al₂O₃-SiO₂体系(即，LAS体系)玻璃陶瓷、MgO-Al₂O₃-SiO₂体系(即，MAS体系)玻璃陶瓷，和/或包括具有β-石英固溶体、β-锂辉石ss、堇青石和二硅酸锂的主晶相的玻璃陶瓷。可以采用本文所揭示的化学强化工艺对玻璃陶瓷基材进行强化。在一个或多个实施方式中，MAS体系玻璃陶瓷基材可以在Li₂SO₄熔盐中进行强化，从而可以发生2Li⁺被Mg²⁺交换。

根据一个或多个实施方式的基材110可具有约为100μm至约5mm的物理厚度。示例性基材110的物理厚度范围约为100-500μm，例如，100、200、300、400或500μm。其他示例性基材110的物理厚度范围约为500-1000μm，例如500、600、700、800、900或者1000μm。基材110的物理厚度可以大于约1mm，例如约为2、3、4或者5mm。在一个或多个具体实施方式中，基材110的物理厚度可以小于或等于2mm，或者小于1mm。基材110可经过酸性抛光或者任意其他方式的处理，以去除或减少表面瑕疵的影响。

减反射涂层

如图1所示，减反射涂层120可包括多层120A、120B、120C。在一些实施方式中，可以在基材110与减反射涂层120的相对侧上(即，主表面114上，未示出)布置一层或多层。

减反射涂层120的物理厚度范围可以约为0.1-1μm。在一些情况下，减反射涂层120的物理厚度可以是约为0.01μm至约为0.9μm、约为0.01μm至约为0.8μm、约为0.01μm至约为0.7μm、约为0.01μm至约为0.6μm、约为0.01μm至约为0.5μm、约为0.01μm至约为0.4μm、约为0.01μm至约为0.3μm、约为0.01μm至约为0.2μm、约为0.01μm至约为0.1μm、约为0.02μm至约为1μm、约为0.03μm至约为1μm、约为0.04μm至约为1μm、约为0.05μm至约为1μm、约为0.06μm至约为1μm、约为0.07μm至约为1μm、约为0.08μm至约为1μm、约为0.09μm至约为1μm、约为0.2μm至约为1μm、约为0.3μm至约为1μm、约为0.4μm至约为1μm、约为0.5μm至约为1μm、约为0.6μm至约为1μm、约为0.7μm至约为1μm、约为0.8μm至约为1μm、或者约为0.9μm至约为1μm，以及其间的所有范围和子范围。

在一个或多个实施方式中，减反射涂层120可包括周期130，其包括两层或更多层。在一个或多个实施方式中，所述两层或更多层可表征为相互具有不同的折射率。在一个实施方式中，周期130包括第一低RI层130A和第二高RI层130B。第一低RI层与第二高RI层的折射率差异可以大于或等于约0.01、大于或等于0.05、大于或等于0.1、或者甚至大于或等于0.2。

如图2所示，减反射涂层120可包括多个周期(130)。单个周期包括第一低RI层130A和第二高RI层130B，使得当提供多个周期时，第一低RI层130A(指定所示为“L”)和第二高RI层130B(指定所示为“H”)以如下层顺序交替：L/H/L/H或H/L/H/L，使得第一低RI层和第二高RI层看上去沿着减反射涂层120的物理厚度是交替的。在图2的例子中，减反射涂层120包括3个周期。在一些实施方式中，减反射涂层120可包括高至25个周期。例如，减反射涂层120可包括约为2-20个周期、约为2-15个周期、约为2-10个周期、约为2-12个周期、约为3-8个周期、约为3-6个周期。

在图2所示的实施方式中，减反射涂层120可包括额外的包覆层131，其可以包括比第二高RI层130B低折射率的材料。

在一些实施方式中，周期130可包括一层或多层第三层130C，如图3所示。第三层130C可具有低RI、高RI或中等RI。在一些实施方式中，第三层130C可具有与第一低RI层130A或第二高RI层130B相同的RI。在其他实施方式中，第三层130C可具有中等RI，其位于第一低RI层130A的RI与第二高RI层130B的RI之间。或者，第三层130C可具有大于第二高RI层130B的折射率。减反射涂层120中提供的第三层可具有如下示例性构造：L_第三层/H/L/H/L；H_第三层/L/H/L/H；L/H/L/H/L_第三层；H/L/H/L/H_第三层；L_第三层/H/L/H/L/H_第三层；H_第三层/L/H/L/H/L_第三层；L_第三层/L/H/L/H；H_第三层/H/L/H/L；H/L/H/L/L_第三层；L/H/L/H/H_第三层；L_第三层/L/H/L/H/H_第三层；H_第三层//H/L/H/L/L_第三层；L/M_第三层/H/L/M/H；H/M/L/H/M/L；M/L/H/L/M；以及其他构造。在这些构造中，没有任何下标的“L”指的是第一低RI层，以及没有任何下标的“H”指的是第二高RI层。标记“L_第三子层”指的是具有低RI的第三层，“H_第三子层”指的是具有高RI的第三层，以及“M”指的是具有中等RI的第三层，全都相对于第一层和第二层而言。

如本文所用术语“低RI”、“高RI”和“中等RI”指的是RI相互之间的相对值(例如，低RI<中等RI<高RI)。在一个或多个实施方式中，当用于第一低RI层或第三层时，术语“低RI”包括约为1.3-1.7。在一个或多个实施方式中，当用于第二高RI层或第三层时，术语“高RI”包括约为1.6-2.5。在一些实施方式中，当用于第三层时，术语“中等RI”包括约为1.55-1.8。在一些情况下，低RI、高RI和中等RI的范围可以重叠；但是，在大多数情况下，减反射涂层120的层对于RI具有如下大致关系：低RI<中等RI<高RI。

第三层130C可以作为不同于周期130的单独层提供，并且可以布置在周期或者多个周期与额外涂层140之间，作为包覆层131的替代或补充，如图4所示。第三层130C也可以作为不同于周期130的单独层提供，并且可以布置在基材110与所述多个周期130之间，如图5所示。

适用于减反射涂层120的示例性材料包括：SiO₂、Al₂O₃、GeO₂、SiO、AlO_xN_y、AlN、SiN_x、SiO_xN_y、Si_uAl_vO_xN_y、Ta₂O₅、Nb₂O₅、TiO₂、ZrO₂、TiN、MgO、MgF₂、BaF₂、CaF₂、SnO₂、HfO₂、Y₂O₃、MoO₃、DyF₃、YbF₃、YF₃、CeF₃、聚合物、含氟聚合物、等离子体聚合化的聚合物、硅氧烷聚合物、硅倍半氧烷、聚酰亚胺、氟化聚酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚醚砜、聚苯砜、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、丙烯酸聚合物、氨基甲酸酯聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯，下述适用于耐划痕层的其它材料，以及本领域已知的其他材料。用于第一低RI层的一些合适材料的例子包括：SiO₂、Al₂O₃、GeO₂、SiO、AlO_xN_y、SiO_xN_y、Si_uAl_vO_xN_y、MgO、MgAl₂O₄、MgF₂、BaF₂、CaF₂、DyF₃、YbF₃、YF₃和CeF₃。可以使得用于第一低RI层的材料的氮含量最小化(例如，在诸如Al₂O₃和MgAl₂O₄的材料中)。用于第二高RI层的一些合适材料的例子包括：Si_uAl_vO_xN_y、Ta₂O₅、Nb₂O₅、AlN、Si₃N₄、AlO_xN_y、SiO_xN_y、HfO₂、TiO₂、ZrO₂、Y₂O₃、Al₂O₃、MoO₃和钻石状碳。可以使得用于第二高RI层的材料的氧含量最小化，特别是SiN_x或AlN_x材料。前述材料可以被氢化至高至约30重量％。当需要具有中等折射率的材料时，一些实施方式可采用AlN和/或SiO_xN_y。可以具体地对第二高RI层的硬度进行表征。在一些实施方式中，通过布氏压痕计硬度测试测得的硬度可以大于或等于约8GPa、大于或等于约10GPa、大于或等于约12GPa、大于或等于约15GPa、大于或等于约18GPa、或者大于或等于约20GPa。在一些情况下，第二高RI层材料可以作为单层沉积(即，不作为减反射涂层的一部分)，并且该单层可以具有约为500-2000nm的厚度，用于可重复的硬度测定。

在一个或多个实施方式中，减反射涂层120的至少一层可包括特定的光学厚度范围。如本文所用术语“光学厚度”是通过(n*d)确定的，其中，“n”指的是子层的RI，以及“d”指的是层的物理厚度。在一个或多个实施方式中，减反射涂层120的至少一层可包括约为2-200nm、约为10-100nm、或者约为15-100nm的光学厚度。在一些实施方式中，减反射涂层120的所有层可分别具有约为2-200nm、约为10-100nm、或者约为15-100nm的光学厚度。在一些情况下，减反射涂层120的至少一层具有大于或等于约50nm的光学厚度。在一些情况下，第一低RI层分别具有约为2-200nm、约为10-100nm、或者约为15-100nm的光学厚度。在其他情况下，第二高RI层分别具有约为2-200nm、约为10-100nm、或者约为15-100nm的光学厚度。在其他情况下，第三层分别具有约为2-200nm、约为10-100nm、或者约为15-100nm的光学厚度。

在一些实施方式中，可以使得减反射涂层120的一层或多层的厚度最小化。在一个或多个实施方式中，使得高RI层和/或中等RI层的厚度最小化，从而它们小于约500nm。在一个或多个实施方式中，高RI层的总厚度、中等RI层的总厚度和/或高RI层与中等RI层的总厚度小于约500nm。

在一个或多个实施方式中，减反射涂层120的物理厚度小于或等于约800nm。减反射涂层120的物理厚度可以是如下范围：约为10-800nm、约为50-800nm、约为100-800nm、约为150-800nm、约为200-800nm、约为10-750nm、约为10-700nm、约为10-650nm、约为10-600nm、约为10-550nm、约为10-500nm、约为10-450nm、约为10-400nm、约为10-350nm、约为10-300nm、约为50-300，以及其间的所有范围和子范围。

在一个或多个实施方式中，可以对第二高RI层的总物理厚度进行表征。例如，在一些实施方式中，第二高RI层的总厚度可以大于或等于约100nm、大于或等于约150nm、大于或等于约200nm、大于或等于约500nm。结合减反射涂层120中的单独高RI层的厚度的组合来计算总厚度，即使当存在插入的低RI层或其他层时也是如此。在一些实施方式中，还可包含高硬度材料(例如，氮化物或氧氮化物)的第二高RI层的总物理厚度可以大于减反射涂层的总物理厚度的30％。例如，第二高RI层的总物理厚度可以大于或等于减反射涂层的总物理厚度的约40％、大于或等于约50％、大于或等于约60％、大于或等于约70％、大于或等于约75％、或者甚至大于或等于约80％。

在一些实施方式中，还可同时在减反射涂层中具有更大比例的硬且高折射率材料，从而还展现出低反射率、低颜色和高耐磨损性，如本文其他地方所述。

在一些实施方式中，当在制品的减反射表面122测量时(例如，当从未涂覆的背表面(例如图1中的144)去除反射时，例如通过采用与吸收器相连的背表面上的折射率匹配油，或者其他方法)，减反射涂层120在光波长区域展现出小于或等于约2％、小于或等于约1.5％、小于或等于约0.75％、小于或等于约0.5％、小于或等于约025％、小于或等于约0.1％、或者甚至小于或等于约0.05％的平均反光率。在一些情况下，减反射涂层120可以在其他波长范围，例如约450-650nm、约420-680nm、约420-700nm、约420-740nm、约420-850nm、或者约420-950nm，展现出该平均反光率。在一些实施方式中，减反射涂层122在光波长区域展现出大于或等于约90％、大于或等于92％、大于或等于94％、大于或等于96％、或者大于或等于98％的平均透光率。除非另有说明，否则是在0度入射照射角测量平均反射率或透射率(但是，可以是在45度或60度的入射照射角提供此类测量)。

制品100可包括布置在减反射涂层上的一层或多层额外涂层140，如图6所示。在一个或多个实施方式中，所述额外涂层可包括易清洁涂层。合适的易清洁涂层的例子如2012年11月30日提交的题为“PROCESS FOR MAKING OF GLASS ARTICLES WITH OPTICAL ANDEASY-TO-CLEAN COATINGS(用于制造具有光学涂层和易清洁涂层的玻璃制品的工艺)”的美国专利申请第13/690,904号所述，其全文通过引用结合入本文。易清洁涂层可具有约为5-50nm的厚度，并且可包括已知材料例如氟化硅烷。在一些实施方式中，易清洁涂层的厚度可以是如下范围：约为1-40nm、约为1-30nm、约为1-25nm、约为1-20nm、约为1-15nm、约为1-10nm、约为5-50nm、约为10-50nm、约为15-50nm、约为7-20nm、约为7-15nm、约为7-12nm、或者约为7-10nm，以及其间的所有范围和子范围。

该额外涂层140可包括耐划痕涂层。也可在减反射涂层120的一层中包括耐划痕涂层。用于耐划痕涂层的示例性材料可以包括无机碳化物、氮化物、氧化物、钻石状材料，或其组合。用于耐划痕涂层的合适材料的例子包括金属氧化物、金属氮化物、金属氧氮化物、金属碳化物、金属氧碳化物，和/或其组合。示例性金属包括B、Al、Si、Ti、V、Cr、Y、Zr、Nb、Mo、Sn、Hf、Ta和W。可用于耐划痕涂层的材料的具体例子可以包括：Al₂O₃、AlN、AlO_xN_y、Si₃N₄、SiO_xN_y、Si_uAl_vO_xN_y、钻石、钻石状碳、Si_xC_y、Si_xO_yC_z、ZrO₂、TiO_xN_y，及其组合。

在一些实施方式中，所述额外涂层140可包括易清洁材料与耐划痕材料的组合。在一个例子中，组合包括易清洁材料与钻石状碳。此类额外涂层140的厚度可以约为5-20nm。可以在分开的层中提供所述额外涂层的构成。例如，可以布置钻石状碳作为第一层，并可以在钻石状碳第一层上布置易清洁材料作为第二层。第一层与第二层的厚度可以是提供上文关于所述额外层所提供的厚度。例如，钻石状碳的第一层的厚度可以约为1-20nm或者约为4-15nm(或者更具体来说约为10nm)，以及易清洁第二层的厚度可以约为1-10nm(或者更具体来说约为6nm)。钻石状涂层可包括四面体无定形碳(Ta-C)、Ta-C:H和/或a-C-H。

本文的第二个方面属于形成本文所述的制品的方法。在一个实施方式中，该方法包括：在涂覆室中提供具有主表面的基材，在涂覆室中形成真空，在主表面上形成厚度小于或等于约1um的耐用减反射涂层，任选地，在减反射涂层上形成额外涂层，所述额外涂层包括易清洁涂层和耐划痕涂层中的至少一种，以及从涂覆室取出基材。在一个或多个实施方式中，减反射涂层和所述额外涂层是在相同涂覆室内形成的，或者没有破坏不同涂覆室中的真空的情况下形成的。

在一个或多个实施方式中，该方法可包括：将基材装载在载体上，所述载体用于在负载锁定状态下移动基材进出不同的涂覆室，从而当基材移动时保持了真空。

可以采用各种沉积方法，例如，真空沉积技术，例如化学气相沉积(例如，等离子体强化的化学气相沉积(PECVD)、低压化学气相沉积、大气压化学气相沉积以及等离子体强化的大气压化学气相沉积)、物理气相沉积(例如，反应性或非反应性喷溅或激光烧蚀)、热或电子束蒸发或者原子层沉积，来形成减反射涂层120和/或所述额外涂层140。也可使用基于液体的方法，例如喷雾或狭缝涂覆。当采用真空沉积时，可以在一次沉积运行中使用串联式工艺来形成减反射涂层120和/或所述额外涂层140。在一些情况下，可以通过线性PECVD源来制造真空沉积。

在一些实施方式中，该方法可以包括控制减反射涂层120和/或所述额外涂层140的厚度，从而使得沿着减反射表面122至少约80％的面积变化不超过约4％或者沿着基材面积在任意点相对于每一层的目标厚度变化不超过约4％。在一些实施方式中，减反射涂层120和/或所述额外涂层140的厚度使得沿着减反射表面122至少约95％的面积变化不超过约4％。

实施例

通过以下实施例进一步阐述本发明的各个实施方式。在实施例中，应注意的是，发现AlOxNy和SiuAlvOxNy基本上是可互换作为模型实施例中的高折射率材料，仅需要少量工艺调节来重新产生提供的目标折射率分布值和层厚度设计，这对于本领域技术人员是显而易见的。

实施例1

通过如下方式形成实施例1：提供标称组成为69摩尔％的SiO₂、10摩尔％的Al₂O₃、15摩尔％的Na₂O以及5摩尔％的MgO的玻璃基材，在玻璃基材上布置具有五层的减反射涂层，采用等离子体强化的化学气相沉积(PECVD)工艺，如表1和图7所示。

表1：实施例1的减反射涂层属性

第二高RI层的折射率约为1.6-2.1，这取决于这些层中存在的氮含量。所得到的制品是透明的，并且在2000次线性磨损测试循环之后展现出耐磨损性。

图8显示实施例1在光波长区域的反射谱。实施例1沿着一部分的光波长区域展现出小于约0.5％的反射率，以及在整个光波长区域展现出小于或等于约2％的反射率。

模型实施例2

采用与实施例1所用相同的玻璃基材来制备模型实施例2，如表2所示。

表2：模型实施例2的减反射涂层和易清洁涂层属性

模拟模型实施例2的反射率如图9所示(所示厚度不是实际情况，而是出于示意目的)。如图9所示，模型实施例2在约为420-620nm的波长范围的反射率小于约0.5％，并且在整个光波长区域小于约1％。

应理解的是，可以对模型实施例2进行改性，从而包含较厚或较薄的易清洁额外涂层(例如，约7-15nm)，折射率范围约为1.2-1.5，这取决于选择的材料和所采用的成形工艺。

模型实施例3

采用与实施例1所用相同玻璃基材来制备模型实施例3，并且其包括减反射涂层、布置在减反射涂层上的厚度为6nm或10nm的DLC涂层、以及DLC涂层上的易清洁涂层，如表3所示。

表3：模型实施例3的减反射涂层、易清洁涂层和DLC涂层属性

对于不同DLC涂层厚度，模拟模型实施例3的反射率，全部如图10所示。如图10所示，对于两种DLC涂层厚度，模型实施例3的反射率在光波长区域都小于约1％。在DLC涂层约为6nm的实施方式中，在整个光波长区域上的反射率甚至更低(即，小于约0.5％)。出于清楚目的，DLC涂层厚度为6nm的模型实施例3的反射谱如图11所示。

模型实施例4-8

实施例4-8使用模型来理解包括耐用减反射涂层的实施方式的制品的反射谱，如本文所述。在模型实施例4-8中，使用Si_uAl_vO_xN_y层和SiO₂层，以及标称组成约为58摩尔％的SiO₂、17摩尔％的Al₂O₃、17摩尔％的Na₂O、3摩尔％的MgO、0.1摩尔％的SnO和6.5摩尔％的P₂O₅的强化的铝硅酸盐玻璃基材。

为了确定涂层材料的折射率分布曲线，在约为50℃的温度采用离子辅助，通过DC、RF或(分别)添加来自硅、铝、硅和铝的组合或共喷溅、或者氟化镁靶的RF，在硅晶片上形成每种涂层材料的层。在一些层的沉积过程中，将晶片加热至200℃，使用直径为3英寸的靶。所使用的反应性气体包括氮气、氟气和氧气，氩气用作惰性气体。以13.56Mhz将RF能源供给到硅靶，并将DC能源供给到Si靶、Al靶和其他靶。

采用光谱椭圆对称法测量形成的层和玻璃基材各自的折射率(与波长的关系)。然后将由此测得的折射率用于计算模型实施例4-8的反射率谱。出于方便，模型实施例在它们的说明表中使用单个折射率值，这对应于从说明曲线约为550nm波长选择的点。

实施例4包括6层减反射涂层，其包括依次布置在彼此顶部上的层210、220、230、240、250和260，所述6层减反射涂层布置在强化的铝硅酸盐玻璃基材200上，如图12和表7所示(所示厚度不是实际情况，而是出于示意目的)。

表7：模型实施例4的属性

Si_uAl_vO_xN_y层相比于SiO₂层具有更高的硬度(通过布氏压痕计硬度测试测得)，所述Si_uAl_vO_xN_y层的总厚度是130nm，这占了涂层总厚度的约47％。通过DC/RF喷溅制造具有类似于模型实施例4的减反射涂层结构的减反射涂层。发现这些涂层展现出与裸玻璃基材类似或者更好的耐磨损性，并且相比于常规的仅氧化物减反射涂层，显著改善了耐磨损性，如实施例15所示。根据实施例4的制品展现出与(其上没有布置减反射层的)裸玻璃基材的磨损类似的磨损。

在不同的观察入射照射角或照射角度(“AOI”)计算实施例4的制品的单侧反射率，所得到的反射谱如图13所示。还测量了D65光源和F2光源下，基于10°观察者的反射颜色，并绘制a*和b*值与相对于法向入射以规律增量从0度增加到约60度的入射照射角或AOI的关系。显示反射颜色的图如图14所示。

实施例5包括9层减反射涂层，其包括依次布置在彼此顶部上的层310(第三层)、320、330、340、350、360、370、380和390，所述9层减反射涂层布置在强化的铝硅酸盐玻璃基材200上，如图15所示(所示厚度不是实际情况，而是出于示意目的)并且层的相对厚度如表8所示。

表8：模型实施例5的属性

在模型实施例5中，Si_uAl_vO_xN_y层相比于SiO₂层具有更高的硬度(通过布氏压痕计硬度测试测得)，所述Si_uAl_vO_xN_y层的总厚度是133nm，这占了涂层总厚度的约29％。相信根据实施例5的制品展现出与(其上没有布置减反射层的)裸玻璃基材的磨损类似的磨损。

在不同的观察入射照射角或照射角度(“AOI”)计算实施例5的制品的单侧反射率，所得到的反射谱如图16所示。还测量了D65光源下，基于10°观察者的反射颜色，并绘制a*和b*值与相对于法向入射以规律增量从0度增加到约60度的入射照射角或AOI的关系。显示反射颜色的图如图17所示。

实施例6包括10层减反射涂层，其包括依次布置在彼此顶部上的层400、410、420、430、440、450、460、470、480和490，所述10层减反射涂层布置在强化的铝硅酸盐玻璃基材200上，如图18和表9所示(图18所示的厚度不是实际情况，而是出于示意目的)。

表9：模型实施例16的属性

层470、480和490与空气阻抗匹配，以及层400、410、420、430、440和450与玻璃基材阻抗匹配。因此，可以改性层460以具有约为0-500nm或者约为100-2000nm的厚度，而不影响减反射涂层或制品的光学性质。

在模型实施例6中，Si_uAl_vO_xN_y层相比于SiO₂层具有更高的硬度(通过布氏压痕计硬度测试测得)，所述Si_uAl_vO_xN_y层的总厚度是578nm，这占了涂层总厚度的约76％。通过DC/RF喷溅制造具有非常类似于模型实施例6结构的减反射涂层，并且展现出明显优于裸玻璃基材的耐磨损性以及明显优于常规的仅氧化物减反射涂层的耐磨损性。

在不同的观察入射照射角或照射角度(“AOI”)计算实施例6的制品的单侧反射率，所得到的反射谱如图19所示。还测量了D65光源和F2光源下，基于10°观察者的反射颜色，并绘制a*和b*值与相对于法向入射以规律增量从0度增加到约60度的入射照射角或AOI的关系。显示反射颜色的图如图20所示。

模型实施例7包括12层减反射涂层，其包括依次布置在彼此顶部上的层500、505、510、515、520、530、540、550、560、570、580和590，所述12层减反射涂层布置在强化的铝硅酸盐玻璃基材200上，如图21和表10所示(图21所示的厚度不是实际情况，而是出于示意目的)。

表10：模型实施例7的属性

层550、560、570、580和590与空气阻抗匹配，以及层500、505、510、515、520和530与玻璃基材阻抗匹配。因此，可以改性层540以具有约为0-5000nm或者约为100-2500nm的厚度，而不影响减反射涂层或制品的光学性质。

在模型实施例7中，Si_uAl_vO_xN_y层相比于SiO₂层具有更高的硬度(通过布氏压痕计硬度测试测得)，所述Si_uAl_vO_xN_y层的总厚度是774nm，这占了涂层总厚度的约78％。通过DC/RF喷溅制造具有非常类似于模型实施例7结构的减反射涂层，并且展现出明显优于裸玻璃基材的耐磨损性以及明显优于常规的仅氧化物减反射涂层的耐磨损性，如下文的实施例16所示。

在不同的观察入射照射角或照射角度(“AOI”)计算实施例7的制品的单侧反射率，所得到的反射谱如图22所示。还测量了D65光源和F2光源下，基于10°观察者的反射颜色，并绘制a*和b*值与相对于法向入射以规律增量从0度增加到约60度的入射照射角或AOI的关系。显示反射颜色的图如图23所示。

实施例8包括14层减反射涂层，其包括依次布置在彼此顶部上的层600、605、610、615、620、625、630、635、640、650、660、670、680和690，所述14层减反射涂层布置在强化的铝硅酸盐玻璃基材200上，如图24所示(所示厚度不是实际情况，而是出于示意目的)并且层的相对厚度如表11所示。

表11：模型实施例8的属性

Si_uAl_vO_xN_y层相比于SiO₂层具有更高的硬度(通过布氏压痕计硬度测试测得)，所述Si_uAl_vO_xN_y层的总厚度是722nm，这占了涂层总厚度的约66％。

在不同的观察入射照射角或照射角度(“AOI”)计算实施例8的制品的单侧反射率，所得到的反射谱如图25所示。还测量了D65光源和F2光源下，基于10°观察者的反射颜色，并绘制a*和b*值与相对于法向入射以规律增量从0度增加到约60度的入射照射角或AOI的关系。显示反射颜色的图如图26所示。

模型实施例9、10A&10B

模型实施例9、10A和10B采用的是用于模型实施例4-8以及如上表4-5所示的折射率和分布曲线，来计算各种减反射涂层120设计的反射率谱。

模型实施例9包括6层减反射涂层，它们依次布置在彼此顶部上，所述6层减反射涂层布置在强化的铝硅酸盐玻璃基材200上。层的相对厚度如表12所示。

表12：模型实施例9的属性

在不同的观察入射照射角或照射角度(“AOI”)计算模型实施例9的制品的单侧反射率，所得到的反射谱如图27所示。还测量了D65光源和F2光源下，基于10°观察者的反射颜色，并绘制a*和b*值与相对于法向入射以规律增量从0度增加到约60度的入射照射角或AOI的关系。显示反射颜色的图如图28所示。

模型实施例10A和10B分别包括8层减反射涂层。每层涂层依次布置在彼此顶部上，并且布置在强化的铝硅酸盐玻璃基材200上。层的相对厚度如表13所示。

表13：模型实施例10A和10B的属性

在不同的观察入射照射角或照射角度(“AOI”)计算实施例10A和10B的制品的单侧反射率值，所得到的反射谱分别如图29和30所示。还测量了D65光源和F2光源下，基于10°观察者的反射颜色，并绘制a*和b*值与相对于法向入射以规律增量从0度增加到约60度的入射照射角或AOI的关系。显示实施例10A和10B的反射颜色的图分别如图31-32所示。

模型实施例4、7、9、10A和10B的光学性能与模型比较例11对比，所述模型比较例11包括交替的Nb₂O₅和SiO₂层的6层减反射涂层以及布置在减反射涂层上的疏水涂层。为了产生模型比较例11，使用离子辅助的电子束沉积在硅晶片上沉积Nb₂O₅的单层以及在硅晶片上沉积SiO₂的单层。采用光谱椭圆对称法测量这些层的折射率与波长的关系。然后将测得的折射率用于模型比较例11。评估的光学性能包括约为450-650nm波长范围的平均反射率以及色移(相对于a*和b*坐标(-1,-1)，采用等式√((a*_实施例-(-1))²+(b*_e实施例-(-1))²))，在F02和D65光源下，以相对于法向入射约为0-60度的入射照射角观察时。表14显示模型实施例4、7、9、10A和10B以及模型比较例11的平均反射率和最大色移。表14：模型实施例4、7、9、10A和10B以及模型比较例11的平均反射率和色移

如图14所示，虽然模型比较例11展现出最低的平均反射率，但是其也展现出最大的色移。模型实施例4展现出相当的反射率和明显降低的色移。模型实施例7、9、10A和10B虽然具有更低的色移，但是反射率略微增加。

实施例12-18

实施例12-18包括铝硅酸盐玻璃裸基材(没有涂层)或者具有各种减反射涂层或硬涂层的铝硅酸盐玻璃基材，如表15所示。铝硅酸盐玻璃基材经过化学强化，展现出约为700-900MPa的压缩应力和约为40-50um的压缩应力层深度值。采用反应性DC喷溅、电子束蒸发和反应性DC和RF喷溅，来沉积减反射涂层。减反射涂层包括如下层：SiO₂、Si_uAl_vO_xN_y、AlO_xN_y和Nb₂O₅。通过具有离子辅助的约200℃的Si靶的DC反应性喷溅或者离子辅助的电子束沉积来形成SiO₂层，如表15所示。通过离子辅助电子束沉积来沉积Nb₂O₅层。通过DC反应性喷溅结合RF外加DC喷溅，采用以离子辅助加热至200℃的基材，来沉积Si_uAl_vO_xN_y层。通过AJA-工业喷溅器沉积工具中的反应性喷溅来制得Si_uAl_vO_xN_y层。用于形成Si_uAl_vO_xN_y层的靶是3”直径的Si和3”直径的Al。反应性气体是氮气和氧气，以及“工作”(或惰性)气体是氩气。供给到硅靶的能源是13.56Mhz的射频(RF)。供给到Al靶的能源是DC。应注意的是，AlO_xN_y层可以取代Si_uAl_vO_xN_y层，并且可以采用用于形成此类层相同或相似的工艺形成。可以将Si_uAl_vO_xN_y和AlOxNy层都制造成展现出在550nm约为1.95的折射率，以及采用布氏压痕计硬度测试测得的大于15GPa的测量硬度。

表15：实施例12-18的减反射涂层结构

实施例	涂层结构
		实施例12	6层，具有与模型实施例4相同的结构和材料
实施例13	12层，具有与模型实施例7相同的结构和材料
		比较例14	6层，具有与模型比较例11相同的结构和材料
比较例15	仅具有疏水涂层的化学强化玻璃
		比较例16	厚度为186nm的Si<sub>u</sub>Al<sub>v</sub>O<sub>x</sub>N<sub>y</sub>单层
比较例17	厚度为478nm的Si<sub>u</sub>Al<sub>v</sub>O<sub>x</sub>N<sub>y</sub>单层
		比较例18	没有涂层的化学强化玻璃(裸玻璃)

表16显示实施例12-13以及比较例14-18的耐磨损性，这是通过使得样品经受泰伯尔测试之后测量散射光强度(CCBTDF，1/立体弧度)和透射雾度(8mm孔隙)测得的。在没有磨损的减反射表面测量平均反射率(单次表面测量，减去来自相反的未涂覆表面的4％的反射率)。

表16：实施例12-13以及比较例14-18的平均反射率(没有磨损)与(在经受泰伯尔测试之后)通过散射光强度和透射雾度测得的耐磨损性

如表16所示，实施例12和13在40度接近比较例18的散射光强度而没有发生磨损(或者没有经过泰伯尔测试)，表明优异的耐磨损性。实施例12和13在20度也展现出最低的散射光强度，所有的样品都是在经过泰伯尔测试之后。实施例12和13两者的透射雾度都基本与比较例18的透射雾度相同，没有磨损。相比于比较例18，实施例12和13的平均反射率得到显著改善，仅比较例14展现出较低的平均反射率。

图33显示表16的测量的散射光强度(CCBTDF，1/立体弧度)，对于实施例12-13和比较例15-17沿着与磨损方向正交的极性角，经受和没有经受泰伯尔测试。较低的散射强度值表明较不严重的磨损，因而具有较高的耐磨损性(以及人类检查试验中较低的磨损可见性)。

在经受泰伯尔测试之后，通过AFM粗糙度评估实施例12-13和比较例14、17-18的耐磨损性。表17显示磨损区域内的80x 80微米面积的5次扫描所记录的AFM粗糙度统计(平均值和标准偏差)。如表17所示，相比于比较例14和18，实施例12和13展现出非常低的粗糙度。比较例17展现出低的粗糙度，但是还展现出较高的反射率和光散射，如上表17所示。

表17：实施例12-13以及比较例14、17和18在经受泰伯尔测试之后通过AFM粗糙度统计测得的耐磨损性

图34显示表22的AFM粗糙度统计图。

实施例19

实施例19包括布置在强化的铝硅酸盐玻璃基材上的10层减反射涂层，所述强化的铝硅酸盐玻璃基材具有如下标称组成：约为58摩尔％的SiO₂、17摩尔％的Al₂O₃、17摩尔％的Na₂O、3摩尔％的MgO、0.1摩尔％的SnO和6.5摩尔％的P₂O₅。层的厚度如表18所示。

SiO₂和Si_uAl_vO_xN_y层都是在AJA工业公司制造的涂覆机中通过反应性喷溅制造。通过具有离子辅助的DC反应性喷溅从Si靶沉积SiO₂；通过DC反应性喷溅结合RF加上具有离子辅助的DC喷溅来沉积Si_uAl_vO_xN_y材料。反应性气体是氮气和氧气，以及“工作”(或惰性)气体是氩气。

表18：实施例19的属性

高RI材料的量约为减反射涂层的51.5％，以及低RI材料的量约为减反射涂层的48.5％。沉积条件如表19所示。沉积温度是200℃。

表19：实施例19的沉积方法

采用分别从涂层材料和玻璃基材获得的分布曲线，对实施例19的制品在不同观察入射照射角或照射角度(“AOI”)的单侧反射率值进行建模。得到的模型反射率谱如图35所示。还测量了D65光源和F2光源下，基于10°观察者的反射颜色和透射颜色，并绘制a*和b*值与相对于法向入射以规律增量从0度增加到约60度的入射照射角或AOI的关系。显示实施例19的反射颜色和透射颜色这两者的图如图36所示。如图36和下表21所示，对于0度至约60度的入射照射角，对于a*＝0和b*＝0的反射颜色和透射颜色都小于3。实施例19评估了不同AOI的适光反射率。对于约为0-20°的AOI，适光反射率可小于或等于约0.4。

表21：实施例19与比较例11的硬材料的适光反射率、反射色移、厚度和百分比

实施例20

实施例20包括布置在强化的铝硅酸盐玻璃基材上的10层减反射涂层，所述强化的铝硅酸盐玻璃基材具有如下标称组成：约为58摩尔％的SiO₂、17摩尔％的Al₂O₃、17摩尔％的Na₂O、3摩尔％的MgO、0.1摩尔％的SnO和6.5摩尔％的P₂O₅。层的厚度如表22所示。

在光驰有限公司(Optorun Co.Ltd.)制造的涂覆机中通过反应性喷溅制造SiO₂和Si_uAl_vO_xN_y层。通过具有离子辅助的DC反应性喷溅从Si靶沉积SiO₂；通过DC反应性喷溅结合RF加上具有离子辅助的DC喷溅来沉积Si_uAl_vO_xN_y材料。反应性气体是氮气和氧气，以及“工作”(或惰性)气体是氩气。SiO₂和Si_uAl_vO_xN_y层的沉积条件见表23。每一层是在200℃的沉积温度形成，持续时间足以形成每一层的物理厚度。

表22：实施例20的属性

表23：实施例20的沉积条件

在0°、30°、45°和60°的入射照射角，实施例20分别在光波长区域展现出0.86％、1.04％、1.6％和3.61％单侧平均反射率(即，从减反射表面122测得)。在0°、30°、45°和60°的入射照射角，实施例20分别在光波长区域展现出99.14％、98.95％、98.4％和96.39％单侧平均透射率(即，从减反射表面122测得)。

在0°、30°、45°和60°的入射照射角，实施例20分别在光波长区域展现出4.85％、3.56％、2.44％和3.77％总平均反射率(即，从减反射表面122和相反主表面14测得)。在0°、30°、45°和60°的入射照射角，实施例20分别在光波长区域展现出95.15％、96.44％、97.56％和96.23％单侧平均透射率(即，从减反射表面122测得)。

在0-60度(或75度)的入射照射角或AOI以及光源D65和F2的条件下，实施例20的单表面(即，减反射表面122)和双表面(即，图1的减反射表面122和主表面114)的反射率和透射颜色坐标如表24A-24D所示。通过消除来自主表面114的透射或反射率，来测量单表面色坐标，这是本领域已知的。色移是采用如下方程式√((a*₂-a*₁)²+(b*₂-b*₁)²)计算得到的，a*₁和b*₁表示当以法向入射(即，AOI＝0)观察时制品的坐标，而a*₂和b*₂表示当以不同入射照射角或者偏离法向入射的入射照射角(即，AOI＝1-60或1-75)观察时制品的坐标。

表24A：对于实施例20，采用光源D65的单表面反射率和透射色坐标(Y、L*、a*和b*)

表24B：对于实施例20，采用光源F2的单表面反射率和透射色坐标(Y、L*、a*和b*)

表24C：对于实施例20，采用光源D65的双表面反射率和透射色坐标(Y、L*、a*和b*)

表24D：对于实施例20，采用光源F2的双表面反射率和透射色坐标(Y、L*、a*和b*)

实施例21

实施例21包括布置在强化的铝硅酸盐玻璃基材上的10层减反射涂层，所述强化的铝硅酸盐玻璃基材具有如下标称组成：约为58摩尔％的SiO₂、17摩尔％的Al₂O₃、17摩尔％的Na₂O、3摩尔％的MgO、0.1摩尔％的SnO和6.5摩尔％的P₂O₅。层的厚度如表25所示。

在光驰有限公司(Optorun Co.Ltd.)制造的涂覆机中通过反应性喷溅制造SiO₂和AlO_xN_y层。通过具有离子辅助的DC反应性喷溅从Si靶沉积SiO₂；通过DC反应性喷溅结合RF加上具有离子辅助的DC喷溅来沉积AlO_xN_y材料。反应性气体是氮气和氧气，以及“工作”(或惰性)气体是氩气。SiO₂和AlO_xN_y层的沉积条件见表26。每一层是在200℃的沉积温度形成，持续时间足以形成每一层的物理厚度。

表25：实施例21的物理属性

表26：实施例21的沉积条件

采用D65光源，通过实施例21的减反射表面和实施例21的相反裸表面这两者测量法向入射的透射色坐标，如图37所示，表示为T(D65)。采用F2光源以及20度、40度和60度的入射照射角与6度的参照照射角，仅在减反射表面上测得的反射色坐标也绘制在图37中，表示为R(F2)。测得的基材的透射率和反射率色坐标绘制在图37中，分别表示为T(玻璃)和R(玻璃)。如图37所示，制品的透射色移相对于基材的透射色移是非常低的(即，小于约0.5)。在反射中，对于参照照射角(a*＝-0.53,b*＝2.08)与20度(a*＝-0.9,b*＝1.95)、40度(a*＝--1.7,b*＝0.69)和60度(a*＝-0.44,b*＝-1.89)的入射观察角，相对于观察角的色移分别是0.39、1.81和3.96。

图38显示在参照照射角与20度、40度和60度的入射观察角，仅在减反射表面上测得的实施例21的反射谱。计算得到实施例21的辐射和适光平均值是0.54％。对于减反射表面和相反裸表面这两者在参照照射角(6度)测得的透射率和反射率谱如图39所示。

实施例21在减反射表面上测得的测量硬度和杨氏模量分别是11.1GPa和110GPa。模型比较例11展现出约为6.8GPa的硬度。

对本领域的技术人员而言，显而易见的是可以在不偏离本发明的范围或精神的情况下对本发明进行各种修改和变动。

Claims

1.一种减反射制品，其包括：

具有主表面的基材；以及

布置在主表面上的厚度是约0.2μm至约1μm的减反射涂层，所述减反射涂层包括减反射表面，其中，减反射涂层包括多层，所述多层包含至少一个低折射率(RI)层和至少一个高RI层，以及其中，高RI层的总物理厚度大于减反射涂层的总物理厚度的28％，

其中，所述至少一个低RI层包括布置在基材的主表面上的一个低RI层，这一个低RI层的物理厚度是大于10nm至小于150nm，以及

其中，通过布氏压痕计硬度测试，所述制品沿着约50nm或更大的压痕深度展现出约8GPa或更大的最大硬度。

2.如权利要求1所述的制品，其中，每个高RI层包含Si₃N₄、SiN_x、SiO_xN_y或Si_uAl_yO_xN_y。

3.如权利要求1或2所述的制品，其中，所述那一个低RI层与基材的主表面接触。

4.如权利要求1或2所述的制品，其中，基材包括选自下组的玻璃：钠钙玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、含碱性硼硅酸盐玻璃和碱性铝硼硅酸盐玻璃。

5.如权利要求1或2所述的制品，其中，所述基材是晶体基材或者玻璃陶瓷基材。

6.如权利要求1或2所述的制品，其中，所述制品展现出如下性质中的一种或两种：

在法向入射、D65或F2光源条件下，(L*,a*,b*)色度体系中的制品透射色坐标展现出：在所述减反射表面测得的相对于基准点小于约2的基准点色移，所述基准点包括以下至少一种：色坐标(a*＝0,b*＝0)以及所述基材的透射色坐标，以及

在法向入射条件下，(L*,a*,b*)色度体系中的制品反射色坐标展现出：在所述减反射表面测得的相对于基准点小于约5的色移，所述基准点包括以下至少一种：色坐标(a*＝0,b*＝0)、色坐标(a*＝-2,b*＝-2)以及所述基材的反射色坐标，

其中，当所述基准点是色坐标(a*＝0,b*＝0)时，通过√((a*_制品)²+(b*_制品)²)定义色移，

其中，当所述基准点是色坐标(a*＝-2,b*＝-2)时，通过√((a*_制品+2)²+(b*_制品+2)²)定义色移，以及

其中，当所述基准点是所述基材的色坐标时，通过√((a*_制品-a*_基材)²+(b*_制品-b*_基材)²)定义色移。

7.如权利要求1或2所述的制品，其中，所述制品展现出包括以下任意一种的耐磨损性：

约1％或更小的雾度，这是采用具有孔隙的浊度测量仪测得的，其中，所述孔隙的直径约为8mm，

约12nm或更小的平均粗糙度Ra，这是通过原子力显微镜测得的，

在约40度或更小的极性散射角约0.05或更小的散射光强度(单位为1/立体弧度)，这是采用用于散射测量的成像球体的透射正交入射测得的，具有600nm波长处的2mm孔隙，

在约20度或更小的极性散射角约0.1或更小的散射光强度(单位为1/立体弧度)，这是采用用于散射测量的成像球体的透射正交入射测得的，具有600nm波长处的2mm孔隙，

其中，所述耐磨损性是在采用泰伯尔测试经过500次磨损循环之后测得的。

8.一种电子产品，其结合了根据权利要求1或2所述的制品，其中，所述制品是覆盖制品，其构造成：(a)保护产品内的装置，(b)提供用户界面用于输入，和/或(c)提供显示屏。

9.一种制品，其包括：

具有主表面的基材；以及

布置在主表面上的物理厚度是约0.2μm至约1μm的减反射涂层，所述减反射涂层包括减反射表面，其中，减反射涂层包括多层，所述多层包含至少一个低折射率(RI)层和至少一个高RI层，以及其中，高RI层的总物理厚度大于减反射涂层的总物理厚度的30％，

其中，每个高RI层包含Si₃N₄、SiN_x、SiO_xN_y或Si_uAl_vO_xN_y，

其中，所述至少一个低RI层包括布置在基材的主表面上且与其直接接触的一层低RI的SiO₂层，具有大于10nm且小于150nm的物理厚度，

其中，每个低RI层具有约1.3至约1.7的折射率以及每个高RI层具有大于约1.7的折射率，

10.如权利要求9所述的制品，所述减反射涂层包含五(5)层至七(7)层。

11.如权利要求9或10所述的制品，其中，所述基材是晶体基材或者玻璃陶瓷基材。

12.一种电子产品，其结合了根据权利要求9或10所述的制品，其中，所述制品是覆盖制品，其构造成：(a)保护产品内的装置，(b)提供用户界面用于输入，和/或(c)提供显示屏。

13.一种制品，其包括：

具有主表面的基材；以及

布置在主表面上的物理厚度是约0.2μm至约1μm的减反射涂层，所述减反射涂层包括减反射表面，其中，减反射涂层包括多个交替的低折射率层与高折射率层，其范围是五(5)层至七(7)层并且包括布置在主表面上且与其直接接触的第一低折射率(RI)的SiO₂层，至少一个额外的低RI的SiO₂层，以及其中，高RI层的总物理厚度大于减反射涂层的总物理厚度的约30％，

其中，每个高RI层包含Si₃N₄、SiN_x、SiO_xN_y或Si_uAl_vO_xN_y，

其中，布置在基材的主表面上且与其直接接触的第一低RI的SiO₂层具有约15nm至约200nm的光学厚度，

其中，每个低RI层具有约1.3至约1.7的折射率以及每个高RI层具有大于约1.9的折射率，以及

14.如权利要求13所述的制品，其中，高RI层的总物理厚度≥200nm。

15.如权利要求13或14所述的制品，其中，减反射涂层的物理厚度是约350nm至约1μm。

16.如权利要求13或14所述的制品，其中，减反射涂层的物理厚度是约0.2μm至约325nm。

17.如权利要求13或14所述的制品，其中，所述基材包括玻璃陶瓷基材。

18.如权利要求13或14所述的制品，其中，所述制品展现出如下性质中的一种或两种：

19.如权利要求13或14所述的制品，其中，所述制品展现出包括以下任意一种的耐磨损性：

约12nm或更凶啊的平均粗糙度Ra，这是通过原子力显微镜测得的，

20.一种电子产品，其结合了根据权利要求13或14所述的制品，其中，所述制品是覆盖制品，其构造成：(a)保护产品内的装置，(b)提供用户界面用于输入，和/或(c)提供显示屏。