CN101405310B - 高分子化合物和其制造方法、颜料分散剂、颜料分散组合物、光固化性组合物、滤色器和其制造方法 - Google Patents

高分子化合物和其制造方法、颜料分散剂、颜料分散组合物、光固化性组合物、滤色器和其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101405310B
CN101405310B CN2007800094346A CN200780009434A CN101405310B CN 101405310 B CN101405310 B CN 101405310B CN 2007800094346 A CN2007800094346 A CN 2007800094346A CN 200780009434 A CN200780009434 A CN 200780009434A CN 101405310 B CN101405310 B CN 101405310B
Authority
CN
China
Prior art keywords
group
pigment
compound
methyl
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2007800094346A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101405310A (zh
Inventor
高桥秀知
长田崇一郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of CN101405310A publication Critical patent/CN101405310A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101405310B publication Critical patent/CN101405310B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/38—Polymerisation using regulators, e.g. chain terminating agents, e.g. telomerisation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1807—C7-(meth)acrylate, e.g. heptyl (meth)acrylate or benzyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/04—Acids, Metal salts or ammonium salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C08F20/36—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/52—Amides or imides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1804—C4-(meth)acrylate, e.g. butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate or tert-butyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0071—Process features in the making of dyestuff preparations; Dehydrating agents; Dispersing agents; Dustfree compositions
    • C09B67/0084—Dispersions of dyes
    • C09B67/0085—Non common dispersing agents
    • C09B67/009—Non common dispersing agents polymeric dispersing agent
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00—Dyes not provided for by a single group of this subclass
    • C09B69/10—Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds
    • C09B69/101—Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds containing an anthracene dye
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00—Dyes not provided for by a single group of this subclass
    • C09B69/10—Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds
    • C09B69/109—Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds containing other specific dyes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
    • G03C1/735—Organo-metallic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Abstract

本发明提供了下述通式(1)所示的高分子化合物和其制造方法、使用了该高分子化合物的颜料分散剂、颜料分散组合物、光固化性组合物、以及滤色器和其制造方法；其中，R1为(m+n)价的有机连接基团，R2为单键或2价的有机连接基团，A1为含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基和羟基中的至少一种部位的1价有机基团，m＝1～8，n＝2～9，m+n＝3～10，P1为高分子骨架。

Description

高分子化合物和其制造方法、颜料分散剂、颜料分散组合物、光固化性组合物、滤色器和其制造方法
技术领域
本发明涉及新型高分子化合物和其制造方法、及与新型高分子化合物一起分散含有颜料的颜料分散剂、颜料分散组合物、光固化性组合物、以及滤色器和其制造方法。
背景技术
滤色器是在分散有有机颜料或无机颜料等的颜料分散组合物中含有多官能单体和光聚合引发剂、碱溶性树脂、以及其它成分而形成着色感光性组合物，并使用该着色感光性组合物通过光刻蚀法等来制造的。
近年来，滤色器在液晶显示元件(LCD)用途中，有不仅向显示器中、而且向电视机(TV)中用途扩大的趋势，随着该用途扩大的趋势，在色度、对比度等中也逐渐要求高度的颜色特性。另外，在影像传感器(固体摄像元件)用途中也逐渐同样要求颜色特性高的滤色器。
相对于上述要求，追求使颜料在更微细状态下分散(良好的分散性)、和以稳定状态分散(良好的分散稳定性)。在分散性不充分的情况中，形成的着色抗蚀剂膜上出现了条纹(边缘部分的参差不齐)和表面凹凸，产生了制造出的滤色器的色度和尺寸精度下降、对比度显著劣化等问题。另外，在分散稳定性不充分的情况中，在滤色器的制造工序中，特别容易出现下述问题，即在着色感光性组合物的涂布工序中，膜厚均一性下降，在曝光工序中感光感度下降，在显影工序中碱溶性下降等。进而，在颜料的分散稳定性不好的情况中还存在下述问题，即随着时间变长，着色感光性组合物的构成成分出现凝聚，粘度上升，使用期非常短。
然而，由于颜料的粒径细微化时颜料粒子的表面积变大，所以颜料粒子之间的凝聚力变强，大多难以同时具有高水平的分散性和分散稳定性。
为了解决这样的问题，已开发出了各种颜料分散剂。
例如，已提出了有机色素和聚合物结合而成的聚合物颜料分散剂(例如参照专利文献1)。可以认为这是由于导入到分散剂中的有机色素和颜料粒子之间的相互作用增强，促进了聚合物颜料分散剂在颜料粒子上的吸附，从而提高了分散性。
另外，还提出了仅在聚合物部分的一个末端或两个末端导入有机色素或杂环的聚合物颜料分散剂(例如参照专利文献2～3)。专利文献2通过在颜料表面高效吸附有机色素或杂环，并且使聚合物部分与分散介质具有充分的亲和性，来确保分散稳定性充分的吸附层，专利文献3通过使用具有有机色素或杂环的链转移剂来对专利文献2在合成方法上进行改进。
进而，还有通过添加导入了二烷基氨基的碱性颜料衍生物，使用具有羧酸基的丙烯酸树脂来提高分散性的方法(例如参照专利文献4)。此外，还公开了仅在聚合物部分的一个末端上导入磺酸基或单硫酸酯基的聚合物颜料分散剂(例如参照专利文献5)。其是通过在颜料表面(特别是碱性颜料)上高效吸附磺酸，同时使聚合物部分与分散介质之间具有充分的亲和性，来确保分散稳定性充分的吸附层。
然而，上述专利文献1中记载的聚合物颜料分散剂，由于聚合物中无序地导入了有机色素，所以聚合物部分与分散介质之间的亲和性变弱，难以确保分散稳定性充分的吸附层。另外，如果增加聚合物中有机色素或杂环的导入量，则对分散介质的溶解性减小，所以存在难以确保分散稳定性充分的吸附层的问题。
另外，专利文献2中记载的聚合物颜料分散剂，在聚合物的末端没有导入多个有机色素或杂环，并且导入困难，难以说在颜料表面上的吸附充分强。因此，有时不能确保分散稳定性充分的吸附层。进而，该聚合物颜料分散剂，从将有机色素或杂环与聚合物末端通过高分子反应结合的合成方法的观点来看，难以说是容易的方法。
专利文献3中记载的聚合物颜料分散剂也同样，在聚合物的末端上没有导入多个有机色素或杂环，并且导入困难，所以难以说在颜料表面上的吸附充分强。因此，有时不能确保分散稳定性充分的吸附层。
进而，专利文献4中，由于碱性的颜料衍生物本身着色，所以要将颜料分散组合物调节至期望的颜色，可使用的颜料有限，或者由于具有羧酸基的丙烯酸树脂由于在高分子主链中无规存在，所以存在多个颜料之间交联，分散性恶化等问题。
此外，专利文献5的聚合物颜料分散剂，从通过高分子反应导入末端基的观点来看，难以说是可工业上有利地制备颜料分散剂的合成方法，有时对酸性颜料的分散稳定化效果不充分。
专利文献1：特开平4-139262号公报
专利文献2：特开平9-77987号公报
专利文献3：特开平9-77994号公报
专利文献4：特开平11-189732号公报
专利文献5：特开2002-273191号公报
发明内容
本发明是鉴于上述现状完成的，提供了颜料的分散性、分散稳定性优异的高分子化合物。
另外，本发明提供了可在工业上有利地制备上述高分子化合物的制造方法。
另外，本发明提供了具有高颜料分散性和分散稳定性的颜料分散剂。
另外，本发明提供了颜色特性良好，在构成滤色器时，可以得到优异的碱性显影性和高对比度的颜料分散组合物、光固化性组合物。
进而，本发明提供了颜色特性良好且对比度高的滤色器和其制造方法。
本发明发现了，在聚合物末端上导入了多个对颜料具有吸附能力的结构或官能团，可有效提高作为颜料分散剂使用时的分散性和分散后的分散稳定性，进而，为了在聚合物末端上导入多个上述结构或官能团，使用多官能的硫醇化合物，从容易合成，并且如果考虑立体排斥，从结构上自由度增大的观点来看是有用的，本发明是鉴于这样的认识完成的。为了实现上述课题的具体方法如下。
<1>下述通式(1)所示的高分子化合物，
[化1]
Figure G2007800094346D00031
通式(1)
式中，R1表示(m+n)价的有机连接基团，R2表示单键或2价的有机连接基团，A1表示含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基中的至少一种部位的1价有机基团，n个A1、R2各自独立，可以相同，也可以不同，m表示1～8，n表示2～9，m+n等于3～10，P1表示高分子骨架，m个P1可以相同，也可以不同。
<2>根据<1>所述的高分子化合物，其特征在于，以下述通式(2)表示，
[化2]
Figure G2007800094346D00041
通式(2)
式中，R3表示(m+n)价的有机连接基团，R4、R5各自独立地表示单键或2价的有机连接基团，A2表示含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基中的至少一种部位的1价有机基团，n个A2、R4各自独立，可以相同，也可以不同，m表示1～8，n表示2～9，m+n等于3～10，P2表示高分子骨架，m个P2、R5各自独立，可以相同，也可以不同。
<3>根据<1>所述的高分子化合物，其特征在于，所述A1是含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、和碳原子数为4以上的烃基中的至少一种部位的1价有机基团。
<4>根据<2>所述的高分子化合物，其特征在于，所述A2表示含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、和碳原子数为4以上的烃基中的至少一种部位的1价有机基团。
<5>根据<1>或<3>所述的高分子化合物，其特征在于，所述P1所示的高分子骨架是从选自乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨酯系聚合物、酰胺系聚合物、环氧系聚合物、硅氧烷系聚合物、和它们的改性物或共聚物中的至少一种衍生出的。
<6>根据>2>或<4>所述的高分子化合物，其特征在于，所述P2所示的高分子骨架是从选自乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨酯系聚合物、酰胺系聚合物、环氧系聚合物、硅氧烷系聚合物、和它们的改性物或共聚物中的至少一种衍生出的。
<7>根据<1>～<6>中任一项所述的高分子化合物，其特征在于，重均分子量是3000～100000。
<8>根据<1>～<7>中任一项所述的高分子化合物，是在下述通式(3)所示的化合物的存在下进行自由基聚合反应得到的。
[化3]
Figure G2007800094346D00051
通式(3)
式中，R6表示(m+n)价的有机连接基团，R7表示单键或2价的有机连接基团，A3表示含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基中的至少一种部位的1价有机基团，n个A3、R7各自独立，可以相同，也可以不同，m表示1～8，n表示2～9，m+n等于3～10。
<9>根据<1>～<8>中任一项所述的高分子化合物的制造方法，其特征在于，以下述通式(3)所示的化合物为链转移剂进行自由基聚合反应，
[化4]
Figure G2007800094346D00052
通式(3)
式中，R6表示(m+n)价的有机连接基团，R7表示单键或2价的有机连接基团，A3表示含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基中的至少一种部位的1价有机基团，n个A3、R7各自独立，可以相同，也可以不同，m表示1～8，n表示2～9，m+n等于3～10。
<10>根据<9>所述的高分子化合物的制造方法，其特征在于，所述通式(3)所示的化合物是下述化合物(a)与(b)的加成反应生成物：
(a)一分子中具有3～10个巯基的化合物，
(b)含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基中的至少一种部位，且含有可与巯基反应的官能团的化合物。
<11>一种颜料分散剂，含有<1>～<8>中任一项所述的高分子化合物。
<12>一种颜料分散组合物，在有机溶剂中含有颜料和<11>所述的颜料分散剂。
<13>一种光固化性组合物，含有<12>所述的颜料分散组合物、碱溶性树脂、光聚合性化合物、和光聚合引发剂。
<14>一种滤色器，其特征在于，使用<13>所述的光固化性组合物而形成。
<15>一种滤色器的制造方法，将<13>所述的光固化性组合物直接、或介由其它的层赋予在基板上以形成感光性膜，在形成的感光性膜上通过进行图案曝光和显影来形成着色图案。
<16>根据上述<2>所述的高分子化合物，其特征在于，所述通式(2)中的R3是选自下述具体例(1)～(17)中的有机连接基团。
[化5]
Figure G2007800094346D00061
[化6]
Figure G2007800094346D00071
<17>根据上述<2>所述的高分子化合物，其特征在于，所述通式(2)中的R5是单键、或选自亚乙基、亚丙基、下述基团(a)和下述基团(b)中的2价有机连接基团，在下述基团中，R25表示氢原子或甲基，1表示1或2。
[化7]
Figure G2007800094346D00072
根据本发明，提供了颜料的分散性、分散稳定性优异的高分子化合物，及可在工业上有利地制备该高分子化合物的制造方法。
根据本发明，提供了具有高的颜料分散性和分散稳定性的颜料分散剂。
根据本发明，提供了颜色特性良好、且在构成滤色器时可以得到优异的碱性显影性和高对比度的颜料分散组合物、着色感光性组合物。
进而，根据本发明，提供了颜色特性良好且对比度高的滤色器和其制造方法。
具体实施方式
下面对本发明予以详细说明。
<高分子化合物>
本发明的高分子化合物是下述通式(1)所示的高分子化合物。下述通式(1)所示的高分子化合物，由于在聚合物的末端上具有多个含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基中的至少一种部位的1价有机基团，因而具有各种特性，如对固体表面的吸附性优异，胶束形成能力优异，或具有表面活性性能等。例如可以适合用作颜料分散剂。
[化8]
Figure G2007800094346D00081
通式(1)
在上述通式(1)中，A1表示含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基中的至少一种部位的1价有机基团，n个A1可以相同，也可以不同。
即，上述A1表示含有至少一种下述部位的1价有机基团，所述部位是：有机色素结构、杂环结构那样的对颜料具有吸附能力的结构；酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基那样的对颜料具有吸附能力的官能团。
另外，下文中将该对颜料具有吸附能力的部位(上述结构和官能团)适宜地统称为“吸附部位”来进行说明。
上述吸附部位，在1个A1中至少含有1种即可，也可以含有2种以上。
另外，在本发明中，“含有至少1种吸附部位的1价有机基团”是由上述吸附部位，与1～200个碳原子、0～20个氮原子、0～100个氧原子、1～400个氢原子、和0～40个硫原子形成的有机连接基团结合而成的1价有机基团。另外，在吸附部位本身可构成1价有机基团的情况中，吸附部位本身可以是A1表示的1价有机基团。
首先，对构成上述A1的吸附部位进行以下说明。
作为上述“有机色素结构”，作为优选例可以列举出例如，酞菁类、不溶性偶氮类、偶氮色淀类、蒽醌类、喹吖啶酮类、二噁嗪类、二酮吡咯并吡咯类、蒽素吡啶(anthrapyridine)类、三苯并[cdjk]芘-5，10-二酮(anthanthrone)类、阴丹酮类、磺蒽酮类、紫苏酮(Perylone)类、苝类、硫靛(thioindigoid)类色素结构，更优选酞菁类、偶氮色淀类、蒽醌类、二噁嗪类、二酮吡咯并吡咯类色素结构，特别优选酞菁类、蒽醌类、二酮吡咯并吡咯类色素结构。
另外，作为上述“杂环结构”，作为优选例可以列举出例如，噻吩、呋喃、呫吨、吡咯、吡咯啉、吡咯烷、二氧戊环、吡唑、吡唑啉、吡唑烷、咪唑、噁唑、噻唑、噁二唑、三唑、噻二唑、吡喃、吡啶、哌啶、二噁烷、吗啉、哒嗪、嘧啶、哌嗪、三嗪、三噻烷、异吲哚啉、异吲哚啉酮、苯并咪唑啉酮、苯并噻唑、琥珀酰亚胺、邻苯二甲酰亚胺、萘二甲酰亚胺、乙内酰脲、吲哚、喹啉、咔唑、吖啶、吖啶酮、蒽醌。更优选吡咯啉、吡咯烷、吡唑、吡唑啉、吡唑烷、咪唑、三唑、吡啶、哌啶、吗啉、哒嗪、嘧啶、哌嗪、三嗪、异吲哚啉、异吲哚啉酮、苯并咪唑啉酮、苯并噻唑、琥珀酰亚胺、邻苯二甲酰亚胺、萘二甲酰亚胺、乙内酰脲、咔唑、吖啶、吖啶酮、蒽醌。
另外，上述“有机色素结构”或“杂环结构”可以进一步具有取代基，作为该取代基，可以列举出例如，甲基、乙基等碳原子数为1～20的烷基、苯基、萘基等碳原子数为6～16的芳基、羟基、氨基、羧基、磺酰胺基、N-磺酰基酰胺基、乙酰氧基等碳原子数为1～6的酰氧基、甲氧基、乙氧基等碳原子数为1～20的烷氧基、氯、溴等卤原子、甲氧基羰基、乙氧基羰基、环己基氧基羰基等碳原子数为2～7的烷氧基羰基、氰基、叔丁基碳酸酯等碳酸酯基等。这里，这些取代基还可以介由下述结构单元或将这些结构单元组合而成的连接基团与有机色素结构或杂环结合。
[化9]
Figure G2007800094346D00101
作为上述“酸性基团”，作为优选例可以列举出例如，羧酸基、磺酸基、单硫酸酯基、磷酸基、单磷酸酯基、硼酸基，更优选羧酸基、磺酸基、单硫酸酯基、磷酸基、单磷酸酯基，特别优选羧酸基、磺酸基、磷酸基。
另外，作为上述“具有碱性氮原子的基团”，作为优选例可以列举出例如，氨基(-NH2)、取代亚氨基(-NHR8、-NR9R10，这里，R8、R9和R10各自独立地表示碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)、下述式(a1)表示的胍基、下述式(a2)表示的脒基等。
[化10]
式(a1)中，R11和R12各自独立地表示碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。
式(a2)中，R13和R14各自独立地表示碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。
其中，更优选氨基(-NH2)、取代亚氨基(-NHR8、-NR9R10，这里，R8、R9和R10各自独立地表示碳原子数为1～10的烷基、苯基、苄基。)、上述式(a1)表示的胍基(式(a1)中，R11和R12各自独立地表示碳原子数为1～10的烷基、苯基、苄基。)、上述式(a2)表示的脒基(式(a2)中，R13和R14各自独立地表示碳原子数为1～10的烷基、苯基、苄基。)等。
特别优选使用氨基(-NH2)、取代亚氨基(-NHR8、-NR9R10，这里，R8、R9和R10各自独立地表示碳原子数为1～5的烷基、苯基、苄基。)、上述式(a1)表示的胍基(式(a1)中，R11和R12各自独立地表示碳原子数为1～5的烷基、苯基、苄基。)、上述式(a2)表示的脒基(式(a2)中，R13和R14各自独立地表示碳原子数为1～5的烷基、苯基、苄基。)等。
作为上述“脲基”，作为优选例可以列举出例如，-NR15CONR16R17(其中，R15、R16、和R17各自独立地表示氢原子、或碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)，更优选-NR15CONHR17(其中，R15和R17各自独立地表示氢原子、或碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)，特别优选-NHCONHR17(其中，R17表示氢原子、或碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)。
作为上述“氨基甲酸酯基”，作为优选例可以列举出例如，-NHCOOR18、-NR19COOR20、-OCONHR21、-OCONR22R23(其中，R18、R19、R20、R21、R22和R23各自独立地表示碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)等，更优选-NHCOOR18、-OCONHR21(其中，R18、R21各自独立地表示碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)等，特别优选-NHCOOR18、-OCONHR21(其中，R18、R21各自独立地表示碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)等。
作为上述“具有配位性氧原子的基团”，可以列举出例如，乙酰丙酮基、冠醚等。
作为上述“碳原子数为4以上的烃基”，作为优选例可以列举出碳原子数为4以上的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基等，更优选碳原子数为4～20的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳烷基等，特别优选碳原子数为4～15的烷基(例如辛基、十二烷基等)、碳原子数为6～15的芳基(例如，苯基、萘基等)、碳原子数为7～15的芳烷基(例如苄基等)等。
作为上述“烷氧基甲硅烷基”，可以列举出例如，三甲氧基甲硅烷基、三乙氧基甲硅烷基等。
作为与上述吸附部位结合的有机连接基团，优选单键、或由1～100个碳原子、0～10个氮原子、0～50个氧原子、1～200个氢原子、和0～20个硫原子形成的有机连接基团，该有机连接基团可以没有取代，也可以具有取代基。
作为该有机连接基团的具体例，可以列举出下述结构单元、或将这些结构单元组合而成的基团。
[化11]
Figure G2007800094346D00121
在上述有机连接基团具有取代基的情况中，作为该取代基，可以列举出例如，甲基、乙基等碳原子数为1～20的烷基、苯基、萘基等碳原子数为6～16的芳基、羟基、氨基、羧基、磺酰胺基、N-磺酰基酰胺基、乙酰氧基等碳原子数为1～6的酰氧基、甲氧基、乙氧基等碳原子数为1～6的烷氧基、氯、溴等卤原子、甲氧基羰基、乙氧基羰基、环己基氧基羰基等碳原子数为2～7的烷氧基羰基、氰基、叔丁基碳酸酯等碳酸酯基等。
在上述中，作为上述A1，优选含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、和碳原子数为4以上的烃基中的至少一种部位的1价有机基团，
作为上述A1，更优选下述通式(4)所示的1价有机基团。
[化12]
Figure G2007800094346D00122
通式(4)
在上述通式(4)中，B1表示上述吸附部位(即，选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基中的部位)，R24表示单键或(a+1)价的有机连接基团。a表示1～10的整数，a个B1可以相同，也可以不同。
作为上述B1所示的吸附部位，可以列举出与构成上述通式(1)的A1的吸附部位同样的部位，优选例也同样。
其中，优选选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、和碳原子数为4以上的烃基中的部位。
R24表示单键、或(a+1)价的有机连接基团，a表示1～10。优选a是1～7，更优选a是1～5，特别优选a是1～3。作为(a+1)价的有机连接基团，可以含有由1～100个碳原子、0～10个氮原子、0～50个氧原子、1～200个氢原子、和0～20个硫原子形成的基团，可以没有取代，也可以具有取代基。
上述(a+1)价的有机连接基团，作为具体例可以列举出下述结构单元、或将该结构单元组合而成的基团(可以形成环结构)。
[化13]
Figure G2007800094346D00131
作为R24，优选为单键、或由1～50个碳原子、0～8个氮原子、0～25个氧原子、1～100个氢原子、和0～10个硫原子形成的(a+1)价的有机连接基团，更优选为单键、或由1～30个碳原子、0～6个氮原子、0～15个氧原子、1～50个氢原子、和0～7个硫原子形成的(a+1)价的有机连接基团，特别优选为单键、或由1～10个碳原子、0～5个氮原子、0～10个氧原子、1～30个氢原子、和0～5个硫原子形成的(a+1)价的有机连接基团。
在上述中，在(a+1)价的有机连接基团具有取代基的情况中，作为该取代基可以列举出例如，甲基、乙基等碳原子数为1～20的烷基、苯基、萘基等碳原子数为6～16的芳基、羟基、氨基、羧基、磺酰胺基、N-磺酰基酰胺基、乙酰氧基等碳原子数为1～6的酰氧基、甲氧基、乙氧基等碳原子数为1～6的烷氧基、氯、溴等卤原子、甲氧基羰基、乙氧基羰基、环己基氧基羰基等碳原子数为2～7的烷氧基羰基、氰基、叔丁基碳酸酯等碳酸酯基等。
在上述通式(1)中，R2表示单键或2价的有机连接基团。n个R2可以相同，也可以不同。
作为2价的有机连接基团，包括由1～100个碳原子、0～10个氮原子、0～50个氧原子、1～200个氢原子、和0～20个硫原子形成的基团，可以没有取代，也可以具有取代基。
作为上述2价有机连接基团，作为具体例可以列举出下述结构单元、或将这些结构单元组合而成的基团。
[化14]
作为R2，优选为单键、或由1～50个碳原子、0～8个氮原子、0～25个氧原子、1～100个氢原子、和0～10个硫原子形成的2价的有机连接基团，更优选为单键、或由1～30个碳原子、0～6个氮原子、0～15个氧原子、1～50个氢原子、和0～7个硫原子形成的2价的有机连接基团，特别优选为单键、或由1～10个碳原子、0～5个氮原子、0～10个氧原子、1～30个氢原子、和0～5个硫原子形成的2价的有机连接基团。
在上述中，在2价的有机连接基团具有取代基的情况中，作为该取代基，可以列举出例如，甲基、乙基等碳原子数为1～20的烷基、苯基、萘基等碳原子数为6～16的芳基、羟基、氨基、羧基、磺酰胺基、N-磺酰基酰胺基、乙酰氧基等碳原子数为1～6的酰氧基、甲氧基、乙氧基等碳原子数为1～6的烷氧基、氯、溴等卤原子、甲氧基羰基、乙氧基羰基、环己氧基羰基等碳原子数为2～7的烷氧基羰基、氰基、叔丁基碳酸酯等碳酸酯基等等。
在上述通式(1)中，R1表示(m+n)价的有机连接基团。m+n等于3～10。
作为上述R1所示的(m+n)价的有机连接基团，包括由1～100个碳原子、0～10个氮原子、0～50个氧原子、1～200个氢原子、和0～20个硫原子形成的基团，可以没有取代，也可以具有取代基。
上述(m+n)价的有机连接基团，作为具体例可以列举出下述结构单元、或将该结构单元组合而成的基团(可以形成环结构)。
[化15]
Figure G2007800094346D00151
作为(m+n)价的有机连接基团，优选由1～60个碳原子、0～10个氮原子、0～40个氧原子、1～120个氢原子、和0～10个硫原子形成的基团，更优选由1～50个碳原子、0～10个氮原子、0～30个氧原子、1～100个氢原子、和0～7个硫原子形成的基团，特别优选由1～40个碳原子、0～8个氮原子、0～20个氧原子、1～80个氢原子、和0～5个硫原子形成的基团。
在上述中，在(m+n)价的有机连接基团具有取代基的情况中，作为该取代基，可以列举出例如，甲基、乙基等碳原子数为1～20的烷基、苯基、萘基等碳原子数为6～16的芳基、羟基、氨基、羧基、磺酰胺基、N-磺酰基酰胺基、乙酰氧基等碳原子数为1～6的酰氧基、甲氧基、乙氧基等碳原子数为1～6的烷氧基、氯、溴等卤原子、甲氧基羰基、乙氧基羰基、环己氧基羰基等碳原子数为2～7的烷氧基羰基、氰基、叔丁基碳酸酯等碳酸酯基等等。
下面示出了上述R1所示的(m+n)价的有机连接基团的具体例[具体例(1)～(17)]。但在本发明中并不以此为限。
[化16]
Figure G2007800094346D00161
[化17]
Figure G2007800094346D00162
在上述具体例中，从原料的获得性、合成难易、在各种溶剂中的溶解性的观点来看，最优选的(m+n)价的有机连接基团是下述基团。
[化18]
Figure G2007800094346D00171
在上述通式(1)中，m表示1～8。作为m，优选1～5，更优选1～4，特别优选1～3。
另外，在上述通式(1)中，n表示2～9。作为n，优选2～8，更优选2～7，特别优选3～6。
在上述通式(1)中，P1表示高分子骨架，可以根据目的等从公知的聚合物等中选择。m个P1可以相同，也可以不同。
在聚合物中，要构成高分子骨架，优选为选自乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨酯系聚合物、酰胺系聚合物、环氧系聚合物、硅氧烷系聚合物、和它们的改性物或共聚物[包括例如，聚醚/聚氨酯共聚物、聚醚/乙烯基单体聚合物的共聚物等(无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物中的任一种均可。)。]中的至少一种，更优选为选自乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨酯系聚合物、和它们的改性物或共聚物中的至少一种，特别优选为乙烯基单体的聚合物或共聚物。
进而，上述聚合物优选在有机溶剂中可溶。如果与有机溶剂的亲和性低，则在例如作为颜料分散剂使用的情况中，与分散介质的亲和性变弱，有时不能确保分散稳定性充分的吸附层。
作为上述乙烯基单体，没有特别限定，优选例如(甲基)丙烯酸酯类、巴豆酸酯类、乙烯基酯类、马来酸二酯类、富马酸二酯类、衣康酸二酯类、(甲基)丙烯酰胺类、苯乙烯类、乙烯基醚类、乙烯基酮类、烯烃类、马来酰亚胺类、(甲基)丙烯腈、具有酸性基团的乙烯基单体等。
下面，对这些乙烯基单体的优选例予以说明。
作为(甲基)丙烯酸酯类的例子，可以列举出，(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸叔丁基环己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸叔辛酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸乙酰氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-甲氧乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸3-苯氧基-2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-氯乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸-3，4-环氧环己基甲酯、(甲基)丙烯酸乙烯基酯、(甲基)丙烯酸2-苯基乙烯基酯、(甲基)丙烯酸1-丙烯基酯、(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸炔丙基酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸二甘醇单甲醚酯、(甲基)丙烯酸二甘醇单乙醚酯、(甲基)丙烯酸三甘醇单甲醚酯、(甲基)丙烯酸三甘醇单乙醚酯、(甲基)丙烯酸聚乙二醇单甲醚酯、(甲基)丙烯酸聚乙二醇单乙醚酯、(甲基)丙烯酸β-苯氧乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸壬基苯氧基聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基氧乙基酯、(甲基)丙烯酸三氟乙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸全氟辛基乙酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、(甲基)丙烯酸三溴苯基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸γ-丁内酯等。
作为巴豆酸酯类的例子，可以列举出巴豆酸丁酯、和巴豆酸己酯等。
作为乙烯基酯类的例子，可以列举出乙酸乙烯基酯、氯乙酸乙烯基酯、丙酸乙烯基酯、丁酸乙烯基酯、甲氧基乙酸乙烯基酯、和苯甲酸乙烯基酯等。
作为马来酸二酯类的例子，可以列举出马来酸二甲酯、马来酸二乙酯、和马来酸二丁酯等。
作为富马酸二酯类的例子，可以列举出富马酸二甲酯、富马酸二乙酯、和富马酸二丁酯等。
作为衣康酸二酯类的例子，可以列举出衣康酸二甲酯、衣康酸二乙酯、和衣康酸二丁酯等。
作为(甲基)丙烯酰胺类的例子，可以列举出(甲基)丙烯酰胺、N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基(甲基)丙烯酰胺、N-丙基(甲基)丙烯酰胺、N-异丙基(甲基)丙烯酰胺、N-正丁基(甲基)丙烯酰胺、N-叔丁基(甲基)丙烯酰胺、N-环己基(甲基)丙烯酰胺、N-(2-甲氧基乙基)(甲基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N-苯基(甲基)丙烯酰胺、N-硝基苯基丙烯酰胺、N-乙基-N-苯基丙烯酰胺、N-苄基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰基吗啉、二丙酮丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺、N-羟乙基丙烯酰胺、乙烯基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二烯丙基(甲基)丙烯酰胺、N-烯丙基(甲基)丙烯酰胺等。
作为苯乙烯类的例子，可以列举出，苯乙烯、甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、羟基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、丁氧基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、氯苯乙烯、二氯苯乙烯、溴苯乙烯、氯甲基苯乙烯、被可由酸性物质脱保护的基团(例如t-Boc等)保护的羟基苯乙烯、乙烯基苯甲酸甲酯、和α-甲基苯乙烯等。
作为乙烯基醚类的例子，可以列举出，甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、羟乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、己基乙烯基醚、辛基乙烯基醚、甲氧乙基乙烯基醚、和苯基乙烯基醚等。
作为乙烯基酮类的例子，可以列举出，甲基乙烯基酮、乙基乙烯基酮、丙基乙烯基酮、苯基乙烯基酮等。
作为烯烃类的例子，可以列举出乙烯、丙烯、异丁烯、丁二烯、异戊二烯等。
作为马来酰亚胺类的例子，可以列举出，马来酰亚胺、丁基马来酰亚胺、环己基马来酰亚胺、苯基马来酰亚胺等。
还可以使用(甲基)丙烯腈、被乙烯基取代的杂环式基(例如乙烯基吡啶、N-乙烯基吡咯烷酮、乙烯基咔唑等)、N-乙烯基甲酰胺、N-乙烯基乙酰胺、N-乙烯基咪唑、乙烯基己内酯等。
除了上述化合物以外，还可以使用例如具有氨基甲酸酯基、脲基、磺酰胺基、酚基、酰亚胺基等官能团的乙烯基单体。作为这样的具有氨基甲酸酯基或脲基的单体，例如，可以适宜地利用异氰酸酯基与羟基、或氨基的加成反应来合成。具体地讲，可以适宜地通过含有异氰酸酯基的单体与含有1个羟基的化合物或含有1个伯氨基或仲氨基的化合物进行加成反应，或通过含有羟基的单体或含有伯氨基或仲氨基的单体与单异氰酸酯进行加成反应等来合成。
作为具有酸性基团的乙烯基单体的例子，可以列举出具有羧基的乙烯基单体、具有磺酸基的乙烯基单体。
作为具有羧基的乙烯基单体，可以列举出(甲基)丙烯酸、乙烯基苯甲酸、马来酸、马来酸单烷基酯、富马酸、衣康酸、巴豆酸、肉桂酸、丙烯酸二聚物等。另外，还可以使用(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯等具有羟基的单体与马来酸酐或富马酸酐、环己二甲酸酐那样的环状酸酐的加成反应物，(ω-羧基-聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯等。另外，还可以使用作为羧基前体的马来酸酐、衣康酸酐、柠康酸酐等含有酸酐的单体。另外，从共聚性、成本、溶解性等观点来看，其中特别优选(甲基)丙烯酸。
另外，作为具有磺酸基的乙烯基单体，可以列举出2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸等，作为具有磷酸基的乙烯基单体，可以列举出磷酸单(2-丙烯酰氧基乙酯)、磷酸单(1-甲基-2-丙烯酰氧基乙酯)等。
进而，作为具有酸性基团的乙烯基单体，还可以使用含有酚性羟基的乙烯基单体或具有磺酰胺基的乙烯基单体等。
在上述通式(1)所示的高分子化合物中，优选为下述通式(2)所示的高分子化合物。
[化19]
Figure G2007800094346D00201
通式(2)
在上述通式(2)中，A2表示含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基中的至少一种部位的1价有机基团。n个A2可以相同，也可以不同。
另外，A2与上述通式(1)中的上述A1同义，优选形态也同样。
在上述通式(2)中，R4、R5各自独立地表示单键或2价的有机连接基团。n个R4可以相同，也可以不同。另外，m个R5可以相同，也可以不同。
作为R4、R5表示的2价的有机连接基团，可以使用与作为上述通式(1)的R2所示的2价有机连接基团所列举出的同样的基团，优选形态也同样。
在上述通式(2)中，R3表示(m+n)价的有机连接基团，m+n等于3～10。
作为上述R3表示的(m+n)价的有机连接基团，包括由1～60个碳原子、0～10个氮原子、0～50个氧原子、1～100个氢原子、和0～20个硫原子形成的基团，可以没有取代，也可以具有取代基。
作为上述R3表示(m+n)价的有机连接基团，具体地说，可以使用与作为上述通式(1)的R1所示的(m+n)价有机连接基团所列举出的基团同样的基团，优选形态也同样。
在上述通式(2)中，m表示1～8。作为m，优选1～5，更优选1～4，特别优选1～3。
另外，在上述通式(2)中，n表示2～9。作为n，优选2～8，更优选2～7，特别优选3～6。
另外，通式(2)中的P2表示高分子骨架，可以根据目的等从公知的聚合物等中选择。m个P2可以相同，也可以不同。关于聚合物的优选形态，与上述通式(1)中的P1同样。
在上述通式(2)所示的高分子化合物中，最优选为全部满足下述的R3、R4、R5、P2、m、和n的高分子化合物。
R3：上述具体例(1)、(2)、(10)、(11)、(16)、或(17)；
R4：单键、或下述结构单元、或将该结构单元组合而成的由“1～10个碳原子、0～5个氮原子、0～10个氧原子、1～30个氢原子、和0～5个硫原子”形成的2价有机连接基团(可以具有取代基，作为该取代基可以列举出例如，甲基、乙基等碳原子数为1～20的烷基、苯基、萘基等碳原子数为6～16的芳基、羟基、氨基、羧基、磺酰胺基、N-磺酰基酰胺基、乙酰氧基等碳原子数为1～6的酰氧基、甲氧基、乙氧基等碳原子数为1～6的烷氧基、氯、溴等卤原子、甲氧基羰基、乙氧基羰基、环己基氧基羰基等碳原子数为2～7的烷氧基羰基、氰基、叔丁基碳酸酯等碳酸酯基等。)；
[化20]
Figure G2007800094346D00221
R5：单键、亚乙基、亚丙基、下述基团(a)、或下述基团(b)；
另外，在下述基团中，R25表示氢原子或甲基，1表示1或2。
[化21]
Figure G2007800094346D00222
P2：乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨酯系聚合物和它们的改性物，
m：1～3，
n：3～6。
对本发明的高分子化合物的酸值没有特别限定，但在使用本发明的高分子化合物作为颜料分散剂的情况中，酸值优选为200(mgKOH/g)以下，更优选为160(mgKOH/g)以下，特别优选120(mgKOH/g)以下。如果酸值超过200(mgKOH/g)，则有时颜料的分散性、分散稳定性恶化。
另外，在将本发明的高分子化合物与颜料一起用于需要碱性显影处理的光固化性组合物中的情况中，其酸值优选为30～200(mgKOH/g)，更优选为40～160(mgKOH/g)，特别优选为50～120(mgKOH/g)。在酸值小于30(mgKOH/g)的情况中，有时光固化性组合物的碱性显影性变得不充分，如果酸值超过200(mgKOH/g)，则有时颜料的分散性、分散稳定性恶化。
本发明的高分子化合物的分子量，以重均分子量计，优选3000～100000，更优选5000～80000，特别优选7000～60000。如果重均分子量在上述范围内，则在聚合物末端上导入的多个上述吸附部位可充分发挥效果，在固体表面上的吸附性、胶束形成能力、表面活性性能方面发挥优异性能。特别是在将本发明所涉及的高分子化合物作为颜料分散剂使用的情况中，可以实现良好的分散性和分散稳定性。
(合成方法)
对上述通式(1)所示的高分子化合物(包括通式(2)所示的高分子化合物)没有特别限定，可以通过下述方法等来合成。
1.使末端导入了选自羧基、羟基、氨基等官能团的聚合物，与具有多个上述吸附部位的酰卤、具有多个上述吸附部位的卤代烷、或具有多个上述吸附部位的异氰酸酯等进行高分子反应的方法。
2.使末端导入了碳碳双键的聚合物、与具有多个上述吸附部位的硫醇进行麦克尔加成反应的方法。
3.使末端导入了碳碳双键的聚合物、与具有上述吸附部位的硫醇在自由基引发剂的存在下进行反应的方法。
4.使末端导入了多个硫醇的聚合物、与具有碳碳双键和上述吸附部位的化合物在自由基引发剂的存在下进行反应的方法。
5.在具有多个上述吸附部位的硫醇化合物的存在下，使乙烯基单体进行自由基聚合的方法。
在上述中，从合成的难易考虑，本发明的高分子化合物优选采用2、3、4、5的合成方法，更优选采用3、4、5的合成方法。特别是在本发明的高分子化合物具有通式(2)所示的结构的情况中，从合成的难易考虑，最优选采用5的合成方法来合成。
作为上述5的合成方法，更具体地讲，优选为在下述通式(3)所示的化合物的存在下，使乙烯基单体进行自由基聚合的方法。
[化22]
Figure G2007800094346D00231
通式(3)
在上述通式(3)中，R6、R7、A3、m和n分别与上述通式(2)中的R3、R4、A2、m和n同义，其优选形态也同样。
上述通式(3)所示的化合物可以通过下面的方法等来合成，从合成上的难易考虑，更优选下述7的方法。
6.从具有多个上述吸附部位的卤化物转化成硫醇化合物的方法(可以列举出，与硫脲反应并水解的方法，与NaSH直接反应的方法，与CH3COSNa反应并水解的方法等)。
7.使一分子中具有3～10个巯基的化合物、与具有上述吸附部位且具有可与巯基反应的官能团的化合物进行加成反应的方法。
作为在上述合成方法7中的“可与巯基反应的官能团”，可以优选列举出酰卤、卤代烷、异氰酸酯、碳碳双键等。特别优选，“可与巯基反应的官能团”是碳碳双键，加成反应是自由基加成反应。另外，作为碳碳双键，从与巯基的反应性方面来看，更优选为具有1个取代或2个取代的乙烯基。
作为一分子中具有3～10个巯基的化合物的具体例[具体例(18)～(34)]，可以列举出下面的化合物。
[化23]
Figure G2007800094346D00241
[化24]
Figure G2007800094346D00251
在上述中，从原料的获得性、合成难易、在各种溶剂中的溶解性的观点来看，特别优选的化合物是下面的化合物。
[化25]
Figure G2007800094346D00252
作为具有上述吸附部位且具有碳碳双键的化合物(具体地讲，是具有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基中的至少一种部位，并且具有碳碳双键的化合物)，没有特别限定，可以列举出下面的化合物。
[化26]
Figure G2007800094346D00261
[化27]
Figure G2007800094346D00262
[化28]
Figure G2007800094346D00271
[化29]
Figure G2007800094346D00272
[化30]
Figure G2007800094346D00281
[化31]
Figure G2007800094346D00282
上述“一分子中具有3～10个巯基的化合物”、与“具有上述吸附部位且具有碳碳双键的化合物”的自由基加成反应生成物可以利用下述方法来得到，例如，将上述的“一分子中具有3～10个巯基的化合物”、和“具有上述吸附部位且具有碳碳双键的化合物”溶解在适当的溶剂中，向其中添加自由基引发剂，在约50℃～100℃下进行加成的方法(硫醇-烯键反应法)。
作为在上述硫醇-烯键反应法中使用的适当溶剂的例子，可以依照使用的“一分子中具有3～10个巯基的化合物”、“具有上述吸附部位且具有碳碳双键的化合物”、和“生成的自由基加成反应生成物”的溶解性来任意选择。
可以列举出例如，甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、1-甲氧基-2-丙醇、1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯、丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、甲氧基丙醇乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸乙酯、乙腈、四氢呋喃、二甲基甲酰胺、氯仿、甲苯。这些溶剂可以混合使用2种以上。
另外，作为自由基引发剂，可以使用2，2’-偶氮二(异丁腈)(AIBN)、2，2’-偶氮二(2，4’-二甲基戊腈)、2，2’-偶氮二异丁酸二甲酯那样的偶氮化合物、过氧化苯甲酰基那样的过氧化物、和过硫酸钾、过硫酸铵那样的过硫酸盐等。
作为在上述5的合成方法中使用的乙烯基单体，没有特别限定，可以使用例如，与要得到上述通式(1)的P1所示的高分子骨架时可使用的乙烯基单体同样的单体。
可以仅使用一种上述乙烯基单体进行聚合，也可以并用两种以上进行共聚。
另外，在适用于需要碱性显影处理的光固化性组合物中时，本发明的高分子化合物更优选通过使具有1种以上的酸性基团的乙烯基单体与不具有1种以上的酸性基团的乙烯基单体进行共聚而得到。
作为本发明的高分子化合物，优选为使用这些乙烯基单体和上述通式(3)所示的化合物，用公知方法，依照常规方法进行聚合而得到高分子化合物。另外，本发明中上述通式(3)所示的化合物具有链转移剂的功能，下面有时仅称作“链转移剂”。
可以利用下述方法得到，例如，将这些乙烯基单体、和上述链转移剂溶解在适当的溶剂中，向其中添加自由基引发剂，在约50℃～220℃下，在溶液中聚合的方法(溶液聚合法)。
作为在溶液聚合法中使用的适当的溶剂的例子，可以依照使用的单体、和生成的共聚物的溶解性来任意选择。可以列举出例如，甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、1-甲氧基-2-丙醇、1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯、丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、甲氧基丙醇乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸乙酯、乙腈、四氢呋喃、二甲基甲酰胺、氯仿、甲苯。这些溶剂可以混合使用2种以上。
另外，作为自由基引发剂，可以使用2，2’-偶氮二(异丁腈)(AIBN)、2，2’-偶氮二(2，4’-二甲基戊腈)、2，2’-偶氮二异丁酸二甲酯那样的偶氮化合物、过氧化苯甲酰基那样的过氧化物、和过硫酸钾、过硫酸铵那样的过硫酸盐等。
<颜料分散剂>
本发明的颜料分散剂，作为用于分散颜料的颜料分散剂，含有上述本发明的高分子化合物，除了本发明的高分子化合物以外，为了进一步提高颜料的分散性，还可以添加现在公知的颜料分散剂、表面活性剂等分散剂、或其它成分。
作为公知的分散剂(颜料分散剂)，可以列举出高分子分散剂[例如，聚酰胺胺和其盐、聚羧酸和其盐、高分子量不饱和酸酯、改性聚氨酯、改性聚酯、改性聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸类共聚物、萘磺酸甲醛缩聚物]，以及聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基胺、烷醇胺、颜料衍生物等。
高分子分散剂从其结构来看，可进一步分类成直链状高分子、末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。
高分子分散剂吸附在颜料的表面上，起到了防止再凝聚那样的作用。因此，作为优选结构，可以列举出具有向颜料表面上锚固的部位的末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。另一方面，通过对颜料表面的改质，颜料衍生物具有促进高分子分散剂的吸附的效果。
作为本发明中可使用的公知的分散剂(颜料分散剂)的具体例子，可以列举出BYK Chemie公司制“Disperbyk-101(聚酰胺胺磷酸盐)、107(羧酸酯)、110(含有酸基的共聚物)、130(聚酰胺)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共聚物)”、“BYK-P104、P105(高分子量不饱和聚羧酸)、EFKA公司制“EFKA4047、4050、4010、4165(聚氨酯类)、EFKA4330、4340(嵌段共聚物)、4400、4402(改性聚丙烯酸酯)、5010(聚酯酰胺)、5765(高分子量聚羧酸盐)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞菁衍生物)、6750(偶氮颜料衍生物)”、味の素フアンテクノ公司(Ajinomoto Fine-Techno.Co.Inc)制“アジスパ-(Ajisper)PB821、PB822”、共荣社化学公司制“フロ-レン(FLOWLEN)TG-710(氨酯低聚物)”、“ポリフロ-(POLYFLOW)No.50E、No.300(丙烯酸类共聚物)”、楠本化成公司制“デイスパロン(DISPERON)KS-860、873SN、874、#2150(脂肪族多元羧酸)、#7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725”、花王公司制“デモ-ルRN、N(萘磺酸甲醛缩聚物)、MS、C、SN-B(芳香族磺酸甲醛缩聚物)”、“ホモゲノ-ルL-18(高分子聚羧酸)”、“エマルゲン(EMULGEN)920、930、935、985(聚氧乙烯壬基苯基醚)”、“アセタミン86(硬脂胺乙酸酯)”、Lubrizol公司制“ソルスパ-ス(SOLSPERSE)5000(酞菁衍生物)、22000(偶氮颜料衍生物)、13240(聚酯胺)、3000、17000、27000(末端具有官能部位的高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝型高分子)”、日光ケミカル公司制“ニツコ-ル(NIKKOL)T106(聚氧乙烯失水山梨糖醇单油酸酯)、MYS-IEX(聚氧乙烯单硬脂酸酯)”等。
本发明的颜料分散剂，可以单独使用本发明的高分子化合物，也可以将本发明的高分子化合物与1种以上的上述公知的分散剂组合使用。
<颜料分散组合物>
本发明的颜料分散组合物，可以在有机溶剂中含有至少一种颜料和已述的本发明的颜料分散剂而成，根据需要，可以使用树脂成分等其它成分来构成。该颜料分散组合物，由于含有已述的至少一种本发明的高分子化合物作为颜料分散剂，所以在有机溶剂中颜料的分散状态良好，可以得到良好的颜色特性，同时例如在构成滤色器时，可以得到高对比度。特别是可以对有机颜料发挥优异的分散效果。
(颜料)
本发明的颜料分散组合物，可以适宜地选择现在公知的各种无机颜料或有机颜料来使用。
颜料，无论是无机颜料还是有机颜料，均优选高透射率的，考虑这一点，优选使用粒度尽量小的粒子，如果还考虑操作性，则作为颜料的平均粒径，优选0.01～0.1μm，更优选0.01～0.05μm。
作为上述无机颜料，可以列举出金属氧化物、金属络合物盐等所示的金属化合物，具体地可以列举出，铁、钴、铝、镉、铅、铜、钛、镁、铬、锌、锑等的金属氧化物，以及上述金属的复合氧化物等。
作为上述有机颜料，可以列举出例如，
C.I.颜料黄11、24、31、53、83、93、99、108、109、110、138、139、147、150、151、154、155、167、180、185、199；
C.I.颜料橙36、38、43、71；
C.I.颜料红81、105、122、149、150、155、171、175、176、177、209、220、224、242、254、255、264、270；
C.I.颜料紫19、23、32、37、39；
C.I.颜料蓝1、2、15、15:1、15:3、15:6、16、22、60、66；
C.I.颜料绿7、36、37；
C.I.颜料褐25、28；
C.I.颜料黑1、7；
碳黑等。
在本发明中，特别是优选使用在颜料的结构式中具有碱性N原子的颜料。这些具有碱性N原子的颜料在本发明的组合物中显示出了良好的分散性。虽然尚未充分解明该原因，但可以推定这是由于受到组合物中的成分和颜料的良好亲和性的影响的缘故。
在本发明中，虽没有特别限定，但更优选下述颜料。
C.I.颜料黄11、24、108、109、110、138、139、150、151、154、167、180、185；
C.I.颜料橙36、71；
C.I.颜料红122、150、171、175、177、209、224、242、254、255、264；
C.I.颜料紫19、23、37；
C.I.颜料蓝15:1、15:3、15:6、16、22、60、66；
C.I.颜料黑7。
这些有机颜料，可以单独使用，或为了提高颜色纯度可以组合使用。下面示出了组合的具体例。
可以使用例如，作为红色颜料的蒽醌类颜料、苝类颜料、二酮吡咯并吡咯(Diketopyrrolopyrrole)类颜料单独或其中的至少一种，与双偶氮类黄色颜料、异吲哚啉类黄色颜料、喹酞酮类黄色颜料或苝类红色颜料混合而成的颜料等。例如作为蒽醌类颜料，可以列举出C.I.颜料红177，作为苝类颜料，可以列举出C.I.颜料红155、C.I.颜料红224，作为二酮吡咯并吡咯类颜料，可以列举出C.I.颜料红254，从颜色再现性好的观点出发，优选使用与C.I.颜料黄139的混合。另外，红色颜料和黄色颜料的质量比，优选100:5～100:50。如果小于100:5，则难以抑制400nm～500nm的光透射率，有时不能提高颜色纯度。另外如果超过100：50，则主波长偏向短波长，有时与NTSC的目标色相偏移变大。特别是，作为上述质量比，最合适的是在100：10～100：30的范围。另外，在红色颜料彼此组合的情况中，可以对照色度进行调节。
另外，作为绿色颜料，可以单独使用一种卤化酞菁类颜料，或可以将其与双偶氮类黄色颜料、喹酞酮类黄色颜料、偶氮次甲基类黄色颜料、或异吲哚啉类黄色颜料混合使用。例如，作为这样的例子，优选C.I.颜料绿7、36、37与C.I.颜料黄83、C.I.颜料黄138、C.I.颜料黄139、C.I.颜料黄150、C.I.颜料黄180、或C.I.颜料黄185的混合。绿色颜料和黄色颜料的质量比，优选100:5～100:150。如果质量比小于100:5，则难以抑制400nm～450nm的光透射率，有时不能提高颜色纯度。另外如果超过100：150，则主波长偏向长波长，有时与NTSC的目标色相偏移变大。作为质量比，特别优选在100：30～100：120的范围。
作为蓝色颜料，可以单独使用一种酞菁类颜料，或可以将其与二噁嗪类紫色颜料混合使用。优选例如，C.I.颜料蓝15:6与C.I.颜料紫23的混合。蓝色颜料和紫色颜料的质量比，优选100:0～100:50，更优选100:5～100:30。
另外，作为黑色矩阵用的颜料，可以列举出单独的碳、钛黑、氧化铁、氧化钛，或将它们混合而成的颜料，优选碳和钛黑的组合。另外，碳和钛黑的质量比优选为100:0～100:60的范围。如果超过100:60，则有时分散稳定性降低。
颜料在颜料分散组合物中的含量，相对于该组合物的总固体成分(质量)，优选为40～90质量％，更优选为50～80质量％。如果颜料的含量在上述范围内，则颜色浓度充分，可有效确保优异的颜色特性。
(颜料分散剂)
关于颜料分散剂的详细说明，同前所述，关于构成颜料分散剂的成分的优选形态也同样。
另外，作为颜料分散剂在颜料分散组合物中的含量，相对于上述颜料的质量，优选为0.5～100质量％，更优选为3～100质量％，特别优选为5～80质量％。当颜料分散剂的量在上述范围内时，可以得到充分的颜料分散效果。另外，即使颜料分散剂添加多于100质量份，有时也不能期待颜料分散效果的进一步提高。
具体地讲，在使用高分子分散剂的情况中，作为其使用量，相对于颜料，优选在5～100质量％的范围，更优选在10～80质量％的范围。另外，在使用颜料衍生物的情况中，作为其使用量，相对于颜料优选在0.5～30质量％的范围，更优选在3～20质量％的范围，特别优选在5～15质量％的范围。
另外，为了充分得到由本发明的高分子化合物产生的颜料分散性的效果，本发明的高分子化合物相对于本发明的颜料分散组合物中的总的颜料分散剂的含量，优选在10质量％以上，更优选在30质量％以上，进一步优选在50质量％以上。
对本发明的颜料分散组合物的调制，没有特殊限定，例如，可以使用使用立式或卧式的砂磨机(sand grinder)、针磨机(pin mill)、狭缝磨机(slitmill)、超声波分散机等，用0.01～1mm粒径的由玻璃、氧化锆等形成的珠粒将颜料、颜料分散剂、和溶剂进行微分散处理而得到。
另外，在进行珠粒分散之前，可使用二辊、三辊、球磨机、滚筒磨机、分散机、捏合机、共捏合机(co kneader)、均质机(homogenizer)、混合机、单螺杆或双螺杆挤出机等，一边施加强剪切力一边进行混炼分散处理。
另外，关于混炼、分散的详细说明，在T.C.Patton著“Paint Flow andPigment Dispersion”(1964年John Wiley and Sons社出版)等中有记载。
<光固化性组合物>
本发明的光固化性组合物，至少含有前述的本发明的颜料分散组合物、碱溶性树脂、光聚合性化合物、和光聚合引发剂，根据需要还可以含有其它成分。该光固化性组合物，由于含有至少一种本发明的高分子化合物作为颜料分散剂，所以可以保持颜料在组合物中良好的分散状态，得到良好的颜色特性，同时在例如构成滤色器时得到高对比度。下面对各成分进行详细叙述。
(颜料分散组合物)
本发明的光固化性组合物是使用至少一种颜料分散组合物而构成的。关于构成光固化性组合物的本发明的颜料分散组合物的详细说明，如前所述。
作为颜料分散组合物在光固化性组合物中的含量，相对于光固化性组合物的总固体成分(质量)，优选使颜料的含量是在5～70质量％的范围的量，更优选使颜料的含量是在15～60质量％的范围的量。当颜料分散组合物的含量在上述范围内时，对于确保颜色浓度充分且优异的颜色特性是有效的。
(碱溶性树脂)
本发明的光固化性组合物中含有至少一种碱溶性树脂。
作为碱溶性树脂，是高分子聚合物，可以从分子(优选以丙烯酸系共聚物、苯乙烯系共聚物为主链的分子)中具有至少一个可促进碱溶性的基团(例如，羧基、磷酸基、磺酸基等)的碱溶性树脂中适当选择。其中，更优选为在有机溶剂中可溶且通过弱碱水溶液可显影的。
在碱溶性树脂的制备中，可以采用例如通过公知的自由基聚合法进行的方法。在通过自由基聚合法制备碱溶性树脂时的温度、压力、自由基引发剂的种类和其量、溶剂的种类等聚合条件，对于本领域的技术人员来说，可容易地设定，也可以通过实验确定条件。
作为上述高分子聚合物，优选在侧链上具有羧酸的聚合物。可以列举出例如，在特开昭59-44615号、特公昭54-34327号、特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、特开昭59-53836号、特开昭59-71048号各公报中所记载的，甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸共聚物、部分酯化的马来酸共聚物等，以及侧链上具有羧酸的酸性纤维素衍生物、具有羟基的聚合物与酸酐加成而成的聚合物等，进而作为优选的，还可以列举出侧链上具有(甲基)丙烯酰基的高分子聚合物。
作为碱溶性树脂，具体地讲，特别优选的是(甲基)丙烯酸与可同其共聚的其它单体的共聚物。
作为上述可同(甲基)丙烯酸共聚的其它单体，可以列举出(甲基)丙烯酸酯类、巴豆酸酯类、乙烯基酯类、马来酸二酯类、富马酸二酯类、衣康酸二酯类、(甲基)丙烯酰胺类、苯乙烯类、乙烯基醚类、乙烯基酮类、烯烃类、马来酰亚胺类、(甲基)丙烯腈等。
作为(甲基)丙烯酸酯类的例子，可以列举出，(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸叔丁基环己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸叔辛酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸乙酰氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-甲氧乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸3-苯氧基-2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-氯乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸-3，4-环氧环己基甲酯、(甲基)丙烯酸乙烯基酯、(甲基)丙烯酸2-苯基乙烯基酯、(甲基)丙烯酸1-丙烯基酯、(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸炔丙基酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸二甘醇单甲醚酯、(甲基)丙烯酸二甘醇单乙醚酯、(甲基)丙烯酸三甘醇单甲醚酯、(甲基)丙烯酸三甘醇单乙醚酯、(甲基)丙烯酸聚乙二醇单甲醚酯、(甲基)丙烯酸聚乙二醇单乙醚酯、(甲基)丙烯酸β-苯氧乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸壬基苯氧基聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基氧乙基酯、(甲基)丙烯酸三氟乙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸全氟辛基乙酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、(甲基)丙烯酸三溴苯基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸γ-丁内酯等。
作为巴豆酸酯类的例子，可以列举出巴豆酸丁酯、和巴豆酸己酯等。
作为乙烯基酯类的例子，可以列举出乙酸乙烯基酯、氯乙酸乙烯基酯、丙酸乙烯基酯、丁酸乙烯基酯、甲氧基乙酸乙烯基酯、和苯甲酸乙烯基酯等。
作为马来酸二酯类的例子，可以列举出马来酸二甲酯、马来酸二乙酯、和马来酸二丁酯等。
作为富马酸二酯类的例子，可以列举出富马酸二甲酯、富马酸二乙酯、和富马酸二丁酯等。
作为衣康酸二酯类的例子，可以列举出衣康酸二甲酯、衣康酸二乙酯、和衣康酸二丁酯等。
作为(甲基)丙烯酰胺类的例子，可以列举出(甲基)丙烯酰胺、N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基(甲基)丙烯酰胺、N-丙基(甲基)丙烯酰胺、N-异丙基(甲基)丙烯酰胺、N-正丁基(甲基)丙烯酰胺、N-叔丁基(甲基)丙烯酰胺、N-环己基(甲基)丙烯酰胺、N-(2-甲氧基乙基)(甲基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N-苯基(甲基)丙烯酰胺、N-硝基苯基丙烯酰胺、N-乙基-N-苯基丙烯酰胺、N-苄基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰基吗啉、二丙酮丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺、N-羟乙基丙烯酰胺、乙烯基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二烯丙基(甲基)丙烯酰胺、N-烯丙基(甲基)丙烯酰胺等。
作为苯乙烯类的例子，可以列举出，苯乙烯、甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、羟基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、丁氧基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、氯苯乙烯、二氯苯乙烯、溴苯乙烯、氯甲基苯乙烯、被可由酸性物质脱保护的基团(例如t-Boc等)保护的羟基苯乙烯、乙烯基苯甲酸甲酯、和α-甲基苯乙烯等。
作为乙烯基醚类的例子，可以列举出，甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、羟乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、己基乙烯基醚、辛基乙烯基醚、甲氧乙基乙烯基醚、和苯基乙烯基醚等。
作为乙烯基酮类的例子，可以列举出，甲基乙烯基酮、乙基乙烯基酮、丙基乙烯基酮、苯基乙烯基酮等。
作为烯烃类的例子，可以列举出乙烯、丙烯、异丁烯、丁二烯、异戊二烯等。
作为马来酰亚胺类的例子，可以列举出，马来酰亚胺、丁基马来酰亚胺、环己基马来酰亚胺、苯基马来酰亚胺等。
还可以使用(甲基)丙烯腈、被乙烯基取代的杂环式基(例如乙烯基吡啶、N-乙烯基吡咯烷酮、乙烯基咔唑等)、N-乙烯基甲酰胺、N-乙烯基乙酰胺、N-乙烯基咪唑、乙烯基己内酯等。
除了上述化合物以外，还可以使用例如具有氨基甲酸酯基、脲基、磺酰胺基、酚基、酰亚胺基等官能团的乙烯基单体。作为这样的具有氨基甲酸酯基或脲基的单体，例如，可以适宜地利用异氰酸酯基与羟基或氨基的加成反应来适当地合成。具体地讲，可以通过含有异氰酸酯基的单体与含有1个羟基的化合物或含有1个伯氨基或仲氨基的化合物的加成反应，或含有羟基的单体或含有伯氨基或仲氨基与单异氰酸酯的加成反应等来适宜地合成。
其中，特别优选(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸共聚物、或由(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/其它单体形成的多元共聚物。
此外，作为有用的聚合物，还可以列举出与甲基丙烯酸-2-羟基乙酯共聚而成的聚合物等。该聚合物可以以任选的量来混合使用。
除了上述以外，还可以列举出在特开平7-140654号公报中记载的，(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羟基乙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羟基乙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。
另外，侧链上具有烯丙基或乙烯基酯基和羧基的(甲基)丙烯酸树脂，及在特开2000-187322号公报、特开2002-62698号公报中记载的侧链上具有双键的碱溶性树脂，以及在特开2001-242612号公报中记载的侧链上具有酰胺基的碱溶性树脂，在膜强度、感度、显影性方面的平衡性优异，是优选的。
作为可在本发明中使用的碱溶性树脂的重均分子量，优选为5000以上，更优选为1万～30万的范围，以数均分子量计，优选为1000以上，更优选为2000～25万的范围。多分散度(重均分子量/数均分子量)优选在1.1～10的范围，进而优选在1.2～5的范围。
这些碱溶性树脂可以是无规聚合物、嵌段聚合物、接枝聚合物等中的任一种。
可在本发明中使用的碱溶性树脂，可以通过现在公知的方法来合成。作为在合成时使用的溶剂，可以列举出例如，四氢呋喃、二氯乙烯、环己酮、甲乙酮、丙酮、甲醇、乙醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙酸2-甲氧基乙酯、二甘醇二甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、二甲亚砜、水等。这些溶剂可以单独使用，也可以将2种以上混合使用。
在合成可在本发明中使用的碱溶性树脂时，作为可使用的自由基引发剂，可以列举出偶氮系引发剂、过氧化物引发剂等公知的化合物。
另外，上述通式(1)或上述通式(2)所示的本发明的高分子化合物也可以作为碱溶性树脂使用。
作为碱溶性树脂在光固化性组合物中的含量，相对于该组合物的总固体成分，优选1～20质量％，更优选2～15质量％，特别优选3～12质量％。
(光聚合性化合物)
本发明的光固化性组合物中含有至少一种光聚合性化合物。可在本发明中使用的光聚合性化合物是具有至少一个烯键式不饱和双键的加聚性化合物，选自具有至少1个、优选2个以上的末端烯键式不饱和键的化合物。这样的化合物群在本产业领域中广为人知，本发明可以没有特殊限定地使用这些化合物。它们可以呈例如单体、预聚物即2聚物、3聚物和低聚物、或它们的混合物以及它们的共聚物等化学形态。作为单体及其共聚物的例子，可以列举出不饱和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸等)、其酯类、酰胺类。优选使用不饱和羧酸与脂肪族多元醇化合物形成的酯、不饱和羧酸与脂肪族多元胺化合物形成的酰胺类。另外，还优选使用具有羟基、氨基、巯基等亲核性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺类与单官能或多官能的异氰酸酯类或环氧类的加成反应物，以及与单官能或多官能的羧酸的脱水缩合反应物等。另外，还优选具有异氰酸酯基、环氧基等亲电性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺类与单官能或多官能的醇类、胺类、硫醇类的加成反应物，进而还优选具有卤素基、甲苯磺酰氧基等离去性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺类与单官能或多官能的醇类、胺类、硫醇类的取代反应物。另外，作为其它的例子，还可以使用被不饱和膦酸、苯乙烯、乙烯基醚等取代的化合物类来代替上述不饱和羧酸。
作为脂肪族多元醇化合物与不饱和羧酸形成的酯的单体的具体例子，作为丙烯酸酯，有乙二醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、四亚甲基二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、1，4-环己二醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)三聚异氰酸酯、聚酯丙烯酸酯低聚物、三聚异氰酸EO改性三丙烯酸酯等。
作为甲基丙烯酸酯，有四亚甲基二醇二(甲基丙烯酸)酯、三甘醇二(甲基丙烯酸)酯、新戊二醇二(甲基丙烯酸)酯、三羟甲基丙烷三(甲基丙烯酸)酯、三羟甲基乙烷三(甲基丙烯酸)酯、乙二醇二(甲基丙烯酸)酯、1，3-丁二醇二(甲基丙烯酸)酯、己二醇二(甲基丙烯酸)酯、季戊四醇二(甲基丙烯酸)酯、季戊四醇三(甲基丙烯酸)酯、季戊四醇四(甲基丙烯酸)酯、二季戊四醇二(甲基丙烯酸)酯、二季戊四醇六(甲基丙烯酸)酯、山梨糖醇三(甲基丙烯酸)酯、山梨糖醇四(甲基丙烯酸)酯、二[对-(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基]二甲基甲烷、二-[对-(甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷等。
作为衣康酸酯，有乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康酸酯、1，3-丁二醇二衣康酸酯、1，4-丁二醇二衣康酸酯、四亚甲基二醇二衣康酸酯、季戊四醇二衣康酸酯、山梨糖醇四衣康酸酯等。作为巴豆酸酯，有乙二醇二巴豆酸酯、四亚甲基二醇二巴豆酸酯、季戊四醇二巴豆酸酯、山梨糖醇四巴豆酸酯等。作为异巴豆酸酯，有乙二醇二异巴豆酸酯、季戊四醇二异巴豆酸酯、山梨糖醇四异巴豆酸酯等。作为马来酸酯，有乙二醇二马来酸酯、三甘醇二马来酸酯、季戊四醇二马来酸酯、山梨糖醇四马来酸酯等。
作为其它酯的例子，优选使用例如在特公昭51-47334、特开昭57-196231中记载的脂肪族醇系酯类，在特开昭59-5240、特开昭59-5241、特开平2-226149中记载的具有芳香族系骨架的酯，在特开平1-165613中记载的含有氨基的酯等。进而，上述酯单体还可以作为混合物使用。
另外，作为脂肪族多元胺化合物与不饱和羧酸形成的酰胺的单体的具体例子，有亚甲基二丙烯酰胺、亚甲基二(甲基丙烯酰胺)、1，6-亚己基二丙烯酰胺、1，6-亚己基二(甲基丙烯酰胺)、二亚乙基三胺三丙烯酰胺、苯二甲基二丙烯酰胺、苯二甲基二(甲基丙烯酰胺)等。作为其它的优选酰胺类单体的例子，可以列举出特公昭54-21726中记载的具有亚环己基结构的酰胺类单体。
另外，还优选为利用异氰酸酯与羟基的加成反应而制备的氨酯类加聚性化合物，作为这样的具体例，可以列举出例如，在特公昭48-41708号公报中记载的在1分子中具有2个以上的异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物与下述通式(I)所示的含有羟基的乙烯基单体加成而形成的在1分子中含有2个以上的聚合性乙烯基的乙烯基氨酯化合物等。
CH2＝C(R)COOCH2CH(R’)OH(I)
(其中，R和R’各自独立地表示H或CH3。)
另外，在特开昭51-37193号、特公平2-32293号、特公平2-16765号中记载那样的氨基甲酸酯丙烯酸酯类，在特公昭58-49860号、特公昭56-17654号、特公昭62-39417号、特公昭62-39418号中记载的具有环氧乙烷类骨架的氨基甲酸酯化合物类也是优选的。进而，通过使用在特开昭63-277653号、特开昭63-260909号、特开平1-105238号中记载的分子内具有氨基结构或硫醚结构的加聚性化合物类，也可以得到感光速度非常优异的光聚合性组合物。
作为其它例子，可以列举出在特开昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号的各公报中记载那样的聚酯丙烯酸酯类、环氧树脂与(甲基)丙烯酸反应而成的环氧丙烯酸酯类等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。另外，还可以列举出在特公昭46-43946号、特公平1-40337号、特公平1-40336号中记载的特定的不饱和化合物，在特开平2-25493号中记载的乙烯基膦酸类化合物等。另外，在某些情况下，优选使用在特开昭61-22048号中记载的含有全氟烷基的结构。进而，还可以使用在日本接着协会志Vol.20、No.7、第300～308页(1984年)中作为光固化性单体和低聚物介绍的化合物。
关于这些加聚性化合物的结构、单独使用还是并用、添加量等详细的使用方法，可以按照最终的感光材料的性能设计来任意设定。例如，可以根据以下那样的观点来选择。
在感度方面，优选每1分子的不饱和基含量多的结构，在多数情况下，优选2官能以上。另外，为了提高图像部即固化膜的强度，也可以是3官能以上的化合物，进而，通过并用不同官能数、不同聚合性基(例如，丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯类化合物、乙烯基醚类化合物)的化合物来调节感度和强度这两方面的方法也是有效的。从固化感度的观点来看，优选使用含有2个以上的(甲基)丙烯酸酯结构的化合物，更优选使用含有3个以上的化合物，最优选使用含有4个以上的化合物。另外，从固化感度、和未曝光部分的显影性的观点来看，优选含有EO改性体。另外，从固化感度和曝光部强度的观点来看，优选含有氨酯键。
另外，对于与聚合性层中的其它成分(例如碱溶性树脂、引发剂、着色剂(颜料、染料等)的相容性、分散性来说，加聚化合物的选择、使用方法也是重要因素，例如，有时通过使用低纯度化合物、或并用2种以上来提高相容性。另外，为了提高基板、后述的被覆层等的密合性，可以选择特定结构。
出于以上观点，作为优选化合物，可以列举出，双酚A二丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯EO改性体、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)三聚异氰酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯EO改性体、二季戊四醇六丙烯酸酯EO改性体等，另外，作为市售品，优选氨酯低聚物UAS-10、UAB-140(山陽国策パルプ公司制)，DPHA-40H(日本化
Figure G2007800094346D0042104130QIETU
公司制)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共栄公司制)。
其中，更优选为双酚A二丙烯酸酯EO改性体、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)三聚异氰酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯EO改性体、二季戊四醇六丙烯酸酯EO改性体等，另外，作为市售品，更优选DPHA-40H(日本化
Figure 2007800094346100002G2007800094346D0042104130QIETU
公司制)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共栄社化学公司制)。
光聚合性化合物，除了单独使用1种以外，还可以组合2种以上来使用。
作为光聚合性化合物在光固化性组合物中的含量，相对于该组合物的全部固体成分优选为1～90质量％，更优选5～80质量％，进一步优选10～70质量％。光聚合性化合物的含量在上述范围内时，固化反应可充分进行。
特别是，在将本发明的光固化性组合物用于形成滤色器的着色图案的情况下，上述含量的范围优选为5～50质量％，更优选为7～40质量％，进一步优选为10～35质量％。
(光聚合引发剂)
本发明的光固化性组合物中含有至少一种光聚合引发剂。
本发明中的光聚合引发剂是受光分解，可引发、促进后述的含有烯键式不饱和键的化合物聚合的化合物，优选是在波长300～500nm的区域具有吸收的物质。另外，光聚合引发剂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
作为光聚合引发剂，可以列举出例如，有机卤化化合物、噁二唑化合物、羰基化合物、缩酮化合物、苯偶姻化合物、吖啶化合物、有机过氧化物、偶氮化合物、香豆素化合物、叠氮化合物、金属茂化合物、六芳基联咪唑化合物、有机硼酸盐化合物、二砜化合物、肟酯化合物、鎓盐化合物、酰基膦(氧化物)化合物。
下面对上述各种化合物进行详细说明。
作为有机卤化化合物，具体地可以列举出下述文献中记载的化合物，所述文献为：若林等“Bull Chem Soc Japan”42，2924(1969)、美国专利第3,905,815号说明书、特公昭46-4605号、特开昭48-36281号、特开昭55-32070号、特开昭60-239736号、特开昭61-169835号、特开昭61-169837号、特开昭62-58241号、特开昭62-212401号、特开昭63-70243号、特开昭63-298339号、M.P.Hutt“Journal of Heterocyclic Chemistry”1(No3)，(1970)；特别可以列举出三卤甲基取代的噁唑化合物、均三嗪化合物。
作为均三嗪化合物，更优选为在均三嗪环上结合了至少1个单、二、或三卤取代的甲基而成的均三嗪衍生物，具体地可以列举出例如，2，4，6-三(单氯甲基)均三嗪、2，4，6-三(二氯甲基)均三嗪、2，4，6-三(三氯甲基)均三嗪、2-甲基-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-正丙基-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-(α，α，β-三氯乙基)-4，6-二(三氯甲基)-均三嗪、2-苯基-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-(对甲氧基苯基)-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-(3，4-环氧苯基)-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-(对氯苯基)-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-[1-(对甲氧基苯基)-2，4-丁二烯基]-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-苯乙烯基-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-(对甲氧基苯乙烯基)-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-(对异丙氧基苯乙烯基)-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-(对甲苯基)-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-(4-甲氧基萘基)-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-苯硫基-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2-苄硫基-4，6-二(三氯甲基)均三嗪、2，4，6-三(二溴甲基)均三嗪、2，4，6-三(三溴甲基)均三嗪、2-甲基-4，6-二(三溴甲基)均三嗪、2-甲氧基-4，6-二(三溴甲基)均三嗪等。
作为噁二唑化合物，可以列举出，2-三氯甲基-5-苯乙烯基-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(氰基苯乙烯基)-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(萘-1-基)-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-苯乙烯基)苯乙烯基-1，3，4-噁二唑等。
作为羰基化合物，可以列举出二苯甲酮、米蚩酮、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4-溴二苯甲酮、2-羧基二苯甲酮等二苯甲酮衍生物；2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮、α-羟基-2-甲基苯基丙酮、1-羟基-1-甲基乙基(对异丙基苯基)酮、1-羟基-1-(对十二烷基苯基)酮、2-甲基-(4’-(甲硫基)苯基)-2-吗啉基-1-丙酮、1，1，1-三氯甲基-(对丁基苯基)酮、2-苄基-2-甲基氨基-4-吗啉基苯丁酮等苯乙酮衍生物；噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2，4-二异丙基噻吨酮等噻吨酮衍生物；对二甲氨基苯甲酸乙酯、对二乙氨基苯甲酸乙酯等苯甲酸酯衍生物等。
作为缩酮化合物，可以列举出苄基甲基缩酮、苄基-β-甲氧基乙基乙基缩酮等。
作为苯偶姻化合物，可以列举出苯偶姻异丙醚、苯偶姻异丁醚、苯偶姻甲醚、甲基-邻苯甲酰基苯甲酸酯等。
作为吖啶化合物，可以列举出9-苯基吖啶、1，7-二(9-吖啶基)庚烷等。
作为有机过氧化化合物，可以列举出例如，过氧化三甲基环己酮、过氧化乙酰丙酮、1，1-二(叔丁基过氧化)-3，3，5-三甲基环己烷、1，1-二(叔丁基过氧化)环己烷、2，2-二(叔丁基过氧化)丁烷、叔丁基过氧化氢、枯基过氧化氢、二异丙基苯过氧化氢、2，5-二甲基己烷-2，5-二过氧化氢、1，1，3，3-四甲基丁基过氧化氢、过氧化叔丁基枯基、过氧化二枯基、2，5-二甲基-2，5-二(叔丁基过氧化)己烷、2，5-草酰过氧化物、过氧化琥珀酸、过氧化苯甲酰基、过氧化2，4-二氯苯甲酰基、二异丙基过氧化二碳酸酯、二-2-乙基己基过氧化二碳酸酯、二-2-乙氧基乙基过氧化二碳酸酯、二甲氧基异丙基过氧化碳酸酯、二(3-甲基-3-甲氧基丁基)过氧化二碳酸酯、叔丁基过氧化乙酸酯、叔丁基过氧化新戊酸酯、叔丁基过氧化新癸酸酯、叔丁基过氧化辛酸酯、叔丁基过氧化月桂酸酯、叔碳酸酯(タ-シルカ-ボネ-ト，tertial carbonate)、3，3’，4，4’-四-(叔丁基过氧化羰基)二苯甲酮、3，3’，4，4’-四-(叔己基过氧化羰基)二苯甲酮、3，3’，4，4’-四-(对异丙基枯基过氧化羰基)二苯甲酮、羰基二(叔丁基过氧化二氢二邻苯二甲酸酯)、羰基二(叔己基过氧化二氢二邻苯二甲酸酯)等。
作为偶氮化合物，可以列举出例如在特开平8-108621号公报中记载的偶氮化合物等。
作为香豆素化合物，可以列举出例如，3-甲基-5-氨基-((均三嗪-2-基)氨基)-3-苯基香豆素、3-氯-5-二乙氨基-((均三嗪-2-基)氨基)-3-苯基香豆素、3-丁基-5-二甲基氨基-((均三嗪-2-基)氨基)-3-苯基香豆素等。
作为叠氮化合物，可以列举出在美国专利第2848328号说明书、美国专利第2852379号说明书、以及美国专利第2940853号说明书中记载的有机叠氮化合物，2，6-二(4-叠氮苄叉基)-4-乙基环己酮(BAC-E)等。
作为金属茂化合物，可以列举出在特开昭59-152396号公报、特开昭61-151197号公报、特开昭63-41484号公报、特开平2-249号公报、特开平2-4705号公报、特开平5-83588号公报中记载的各种二茂钛化合物，例如，二环戊二烯基双苯基钛、二环戊二烯基双(2，6-二氟苯-1-基)钛、二环戊二烯基双(2，4-二氟苯-1-基)钛、二环戊二烯基双(2，4，6-三氟苯-1-基)钛、二环戊二烯基双(2，3，5，6-四氟苯-1-基)钛、二环戊二烯基双(2，3，4，5，6-五氟苯-1-基)钛、二(甲基环戊二烯基)双(2，6-二氟苯-1-基)钛、二(甲基环戊二烯基)双(2，4，6-三氟苯-1-基)钛、二(甲基环戊二烯基)双(2，3，5，6-四氟苯-1-基)钛、二(甲基环戊二烯基)双(2，3，4，5，6-五氟苯-1-基)钛，以及在特开平1-304453号公报、特开平1-152109号公报中记载的铁-芳烃络合物等。
作为六芳基联咪唑化合物，可以列举出例如，在特公平6-29285号公报、美国专利第3,479,185号、美国专利第4,311,783号、美国专利第4,622,286号等各说明书中记载的各种化合物，具体地可以列举出，2，2’-二(邻氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑、2，2’-二(邻溴苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑、2，2’-二(邻，对-二氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑、2，2’-二(邻氯苯基)-4，4’，5，5’-四(间甲氧基苯基)联咪唑、2，2’-二(邻，邻’-二氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑、2，2’-二(邻硝基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑、2，2’-二(邻甲基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑、2，2’-二(邻三氟苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑等。
作为有机硼酸盐化合物，作为具体例子，可以列举出例如，在特开昭62-143044号、特开昭62-150242号、特开平9-188685号、特开平9-188686号、特开平9-188710号、特开2000-131837号、特开2002-107916号、特许第2764769号、特愿2000-310808号等各公报，以及Kunz，Martin在“RadTech’98.Proceeding April19-22，1998，Chicago”等中记载的有机硼酸盐，在特开平6-157623号公报、特开平6-175564号公报、特开平6-175561号公报中记载的有机硼锍络合物或有机硼氧锍络合物，在特开平6-175554号公报、特开平6-175553号公报中记载的有机硼碘鎓络合物，在特开平9-188710号公报中记载的有机硼鏻络合物，在特开平6-348011号公报、特开平7-128785号公报、特开平7-140589号公报、特开平7-306527号公报、特开平7-292014号公报等中的有机硼过渡金属配位络合物等。
作为二砜化合物，可以列举出在特开昭61-166544号公报、特开2002-328465号公报(特愿2001-132318号说明书)等中记载的化合物等。
作为肟酯化合物，可以列举出在J.C.S.Perkin II(1979)1653-1660)、J.C.S.Perkin II(1979)156-162、Journal of Photopolymer Scienceand Technology(1995)202-232、特开2000-66385号公报中记载的化合物，在特开2000-80068号公报、特表2004-534797号公报中记载的化合物等。
作为鎓盐化合物，可以列举出例如在S.I.Schlesinger，Photogr.Sci.Eng.，18，387(1974)、T.S.Bal等人在Polymer，21，423(1980)中记载的重氮盐，在美国专利第4,069,055号说明书、特开平4-365049号等中记载的铵盐，在美国专利第4,069,055号、美国专利第4,069,056号各说明书中记载的鏻盐，在欧洲专利第104,143号、美国专利第339,049号、美国专利第410,201号各说明书、特开平2-150848号、特开平2-296514号各公报中记载的碘鎓盐等。
可在本发明中优选使用的碘鎓盐，是二芳基碘鎓盐，从稳定性的观点来看，优选被2个以上的烷基、烷氧基、芳氧基等给电子性基团取代。另外，作为其它的优选碘鎓盐的形态，优选是二芳基碘鎓盐中的一个取代基具有香豆素、蒽醌结构、且在300nm以上具有吸收的碘鎓盐等。
作为在本发明中可优选使用的锍盐，可以列举出欧洲专利第370,693号、欧洲专利第390,214号、欧洲专利第233,567号、欧洲专利第297,443号、欧洲专利第297,442号、美国专利第4,933,377号、美国专利第161,811号、美国专利第410,201号、美国专利第339,049号、美国专利第4,760,013号、美国专利第4,734,444号、美国专利第2,833,827号、德国专利第2,904,626号、德国专利第3,604,580号、德国专利第3,604,581号各说明书中记载的锍盐，从稳定性的感度的观点来看，优选被吸电子性基团取代的锍盐。作为吸电子性基团，优选哈米特(Hammett)值比0大。作为优选的吸电子性基团，可以列举出卤原子、羧酸等。
另外，作为其它的优选锍盐，可以列举出三芳基锍盐中的一个取代基具有香豆素、蒽醌结构、且在300nm以上具有吸收的锍盐。作为其它的优选锍盐，可以列举出三芳基锍盐在取代基中具有烯丙氧基、芳硫基且在300nm以上具有吸收的锍盐。
另外，作为鎓盐化合物，可以列举出J.V.Crivello等人在Macromolecules，10(6)，1307(1977)、J.V.Crivello等人在J.PolymerSci.，Polymer Chem.Ed.，17，1047(1979)中记载的硒鎓盐，C.S.Wen等人在Teh，Proc.Conf.Rad.Curing ASIA，478页，Tokyo，Oct(1988)中记载的鉮盐等鎓盐等。
作为酰基膦(氧化物)化合物，可以列举出Ciba Specialty Chemicals公司制的IRGACURE819、Dalocure4265、Dalocure TPO等。
作为本发明中可使用的光聚合引发剂，从曝光感度的观点来看，优选为选自三卤甲基三嗪类化合物、苄基二甲基缩酮化合物、α-羟基酮化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦类化合物、氧化膦类化合物、金属茂化合物、肟类化合物、联咪唑类化合物、鎓类化合物、苯并噻唑类化合物、二苯甲酮类化合物、苯乙酮类化合物及其衍生物、环戊二烯-苯-铁络合物及其盐、卤甲基噁二唑化合物、3-芳基取代香豆素化合物中的化合物。
更优选三卤甲基三嗪类化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦类化合物、氧化膦类化合物、肟类化合物、联咪唑类化合物、鎓类化合物、二苯甲酮类化合物、苯乙酮类化合物，更优选为选自三卤甲基三嗪类化合物、α-氨基酮化合物、肟类化合物、联咪唑类化合物、二苯甲酮类化合物中的至少一种化合物。另外，最优选联咪唑类化合物。
作为光聚合引发剂在光固化性组合物中的含量，相对于该组合物的总固体成分优选为0.1～50质量％，更优选为0.5～30质量％，特别优选为1～20质量％。在该范围内时，可以得到良好的感度和图案形成性。
下面，对上述以外的成分予以说明。
-溶剂-
本发明的颜料分散组合物和光固化性组合物，一般优选使用溶剂与上述成分一起进行调制。
作为溶剂，可以列举出酯类，例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲酸戊酯、乙酸异戊酯、乙酸异丁酯、丙酸丁酯、丁酸异丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、烷基酯类、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、以及3-氧基丙酸甲酯和3-氧基丙酸乙酯等3-氧基丙酸烷基酯类(例如，3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯)、以及2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、和2-氧基丙酸丙酯等2-氧基丙酸烷基酯类(例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯、2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯)、以及丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等；
醚类，例如二甘醇二甲醚、四氢呋喃、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二甘醇单甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单丁醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等；
酮类，例如甲乙酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮等；
芳香族烃类，例如甲苯、二甲苯等。
其中，3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、二甘醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚乙酸酯等是优选的。
溶剂除了可以单独使用以外，还可以组合2种以上来使用。
-增感剂-
在本发明的光固化性组合物中，为了提高自由基引发剂的自由基产生效率、实现感光波长的长波长化，可以含有增感剂。作为可在本发明中使用的增感剂，优选按照电子转移机理或能量转移机理使上述光聚合引发剂感度增加的化合物。
作为可在本发明中使用的增感剂，可以列举出属于下列化合物类的、且在300nm～450nm的波长区域中具有吸收波长的化合物。
作为优选的增感剂的例子，可以列举出属于下列化合物类的、且在330nm～450nm的波长区域中具有吸收波长的化合物。
可以列举出例如，多核芳香族类(例如，菲、蒽、芘、苝、苯并菲、9，10-二烷氧基蒽)、咕吨酮类(例如，荧光素、曙红、赤藓红、罗丹明B、玫瑰红)、噻吨酮类(异丙基噻吨酮、二乙基噻吨酮、氯噻吨酮)、花青类(例如，硫杂羰花青(thiacarbocyanine)、氧杂羰花青(oxacarbocyanine))、部花青类(例如，部花青、羰部花青(carbomerocyanine))、酞菁类、噻嗪类(例如，硫堇、亚甲蓝、甲苯胺蓝)、吖啶类(例如，吖啶橙、氯黄素(chloroflavine)、吖啶黄素)、蒽醌类(例如蒽醌)、方形酸内鎓盐squalium类(例如，方形酸内鎓盐(squalium))、吖啶橙、香豆素类(例如7-二乙氨基-4-甲基香豆素)、氧代香豆素、吩噻嗪类、酚嗪类、苯乙烯基苯类、偶氮化合物、二苯甲烷、三苯甲烷、二苯乙烯基苯类、咔唑类、卟啉、螺环化合物、喹吖酮、靛蓝、苯乙烯基、吡喃鎓化合物、甲撑吡咯化合物、吡唑并三唑化合物、苯并噻唑化合物、巴比妥酸衍生物、硫代巴比妥酸衍生物、苯乙酮、二苯甲酮、噻吨酮、米蚩酮等芳香族酮化合物、N-芳基噁唑啉酮等杂环化合物等。进而还可以列举出在欧洲专利第568,993号说明书、美国专利第4,508,811号说明书、美国专利第5,227,227号说明书、特开2001-125255号公报、特开平11-271969号公报中记载的化合物等。
作为更优选的增感剂的例子，可以列举出下述通式(i)～(iv)所示的化合物。
[化32]
Figure G2007800094346D00501
式(i)
(式(i)中，A1表示硫原子或NR50，R50表示烷基或芳基，L2表示与邻接的A1和邻接的碳原子一起形成色素的碱性核的非金属原子团，R51、R52各自独立地表示氢原子或一价非金属原子团，R51、R52可以彼此结合形成色素的酸性核。W表示氧原子或硫原子。)
[化33]
Figure G2007800094346D00502
式(ii)
(在式(ii)中，Ar1和Ar2各自独立地表示芳基，介由-L3-的键而连接。这里，L3表示-O-或-S-。另外，W与通式(i)所示的基团意思相同。)
[化34]
Figure G2007800094346D00511
式(iii)
(在式(iii)中，A2表示硫原子或NR59，L4表示与邻接的A2和碳原子一起形成色素的碱性核的非金属原子团，R53、R54、R55、R56、R57和R58各自独立地表示一价的非金属原子团，R59表示烷基或芳基。)
[化35]
Figure G2007800094346D00512
式(iv)
(在式(iv)中，A3、A4各自独立地表示-S-、或-NR62-、-NR63-，R62、R63各自独立地表示取代或非取代的烷基、取代或非取代的芳基，L5、L6各自独立地表示与邻接的A3、A4和邻接的碳原子一起形成色素的碱性核的非金属原子团，R60、R61各自独立地表示一价非金属原子团，或者可以彼此结合形成脂肪族性或芳香族性的环。)
增感剂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
本发明的光固化性组合物中的增感剂的含量，从向深部的光吸收效果和引发分解效率的观点来看，以固体成分计优选为0.1～20质量％，更优选为0.5～15质量％。
-共增感剂-
本发明的光固化性组合物还优选含有共增感剂。本发明中的共增感剂具有下述作用，即进一步提高增感色素或引发剂对活性放射线的感度，或抑制氧对聚合性化合物的聚合阻碍等。
作为这样的共增感剂的例子，可以列举出胺类，例如在M.R.Sander等人发表的“Journal of Polmyer Society”第10卷3173页(1972)、特公昭44-20189号公报、特开昭51-82102号公报、特开昭52-134692号公报、特开昭59-138205号公报、特开昭60-84305号公报、特开昭62-18537号公报、特开昭64-33104号公报、Research Disclosure33825号中记载的化合物等，具体地可以列举出三乙醇胺、对二甲氨基苯甲酸乙酯、对甲酰基二甲基苯胺、对甲硫基二甲基苯胺等。
作为共增感剂的其它的例子，有硫醇和硫醚类，可以列举出例如，在特开昭53-702号公报、特公昭55-500806号公报、特开平5-142772号公报中记载的硫醇化合物，在特开昭56-75643号公报中的二硫化物等，具体地可以列举出，2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基-4(3H)-喹唑啉、β-巯基萘等。
另外，作为共增感剂的其它例子，可以列举出氨基酸化合物(例如，N-苯基甘氨酸等)、在特公昭48-42965号公报中记载的有机金属化合物(例如，三丁基锡乙酸酯等)、在特公昭55-34414号公报中记载的氢供体、在特开平6-308727号公报中记载的硫化合物(例如三噻烷等)等。
这些共增感剂的含量，从提高聚合生长速度和链转移之间的平衡所决定的固化速度的观点来看，相对于光固化性组合物的总固体成分的质量优选为0.1～30质量％，更优选为1～25质量％的范围，进而优选为0.5～20质量％的范围。
-其它成分-
本发明的颜料分散组合物或光固化性组合物中，根据需要还可以含有氟类有机化合物、热聚合防止剂、着色剂、光聚合引发剂、其它填充剂、除了上述通式(1)或(2)所示的高分子化合物和碱溶性树脂以外的其它高分子化合物、表面活性剂、密合促进剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、防凝聚剂等各种添加剂。
(氟类有机化合物)
通过含有氟类有机化合物，可以改善制成涂布液时的液体特性(特别是流动性)，且可改善涂布厚度的均一性、省液性。也就是说，可以降低基板与涂布液的表面张力，改善对基板的润湿性，提高对基板的涂布性，所以即使在以少量的液量形成几个μm程度的薄膜的情况中，也可以有效形成厚度不均较小的均一厚度的膜。
氟类有机化合物的氟含有率优选为3～40质量％，更优选5～30质量％，特别优选7～25质量％。氟含有率在上述范围内时，在涂布厚度均一性和省液性的方面是有效的，在组合物中的溶解性也良好。
作为氟类有机化合物，可以列举出例如メガフアツク(Megafac)F171、メガフアツクF172、メガフアツクF173、メガフアツクF177、メガフアツクF141、メガフアツクF142、メガフアツクF143、メガフアツクF144、メガフアツクR30、メガフアツクF-437(以上为大日本油墨化学工业公司制)、7ロラ-ド(Fluorad)FC430、フロラ-ドFC431、フロラ-ドFC171(以上为住友スリ-エム(株)制)、サ-フロンS-382、サ-フロンSC-101、サ-フロンSC-103、サ-フロンSC-104、サ-7ロンSC-105、サ-7ロンSC1068、サ-7ロンSC-381、サ-7ロンSC-383、サ-7ロンS393、サ-フロンKH-40(以上为旭硝子(株)制)等。
氟类有机化合物，特别是例如，在使涂布形成的涂布膜变薄时，可有效防止涂布不均和厚度不均。另外，即使在容易出现液体断流的狭缝涂布中也是有效的。
氟类有机化合物的添加量，相对于颜料分散组合物或光固化性组合物的全部质量优选为0.001～2.0质量％，更优选为0.005～1.0质量％。
(热聚合引发剂)
本发明的颜料分散组合物或光固化性组合物中含有热聚合引发剂也是有效的。作为热聚合引发剂，可以列举出例如各种偶氮类化合物、过氧化物类化合物，作为上述偶氮类化合物，可以列举出双偶氮类化合物，作为上述过氧化物类化合物，可以列举出过氧化酮、过氧化缩酮、氢过氧化物、过氧化二烷基、过氧化二酰基、过氧化酯、过氧化二碳酸酯等。(表面活性剂)
本发明的颜料分散组合物或光固化性组合物，从改良涂布性的观点来看，优选使用各种表面活性剂来构成，可以使用非离子类、阳离子类、阴离子类的各种表面活性剂。其中，优选非离子类表面活性剂中具有全氟烷基的氟类表面活性剂。
作为氟类表面活性剂的具体例，可以列举出大日本油墨化学工业(株)制的メガフアツク(注册商标)系列、3M公司制的フロラ-ド(注册商标)系列等。
除了上述物质以外，作为颜料分散组合物或光固化性组合物中添加物的具体例，可以列举出玻璃、氧化铝等填充剂；衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸共聚物、部分酯化的马来酸共聚物、酸性纤维素衍生物、具有羟基的聚合物与酸酐加成的聚合物、醇溶性尼龙、双酚A与表氯醇形成的苯氧基树脂等碱可溶的树脂；非离子类、阳离子类、阴离子类的表面活性剂，具体有酞菁衍生物(市售品EFKA-745(森下产业公司制))；有机硅氧烷聚合物KP341(信越化学工业公司制)、(甲基)丙烯酸类(共)聚合物ポリフロ-No.75、No.90、No.95(共荣社油脂化学工业公司制)、W001(裕商公司制)等阳离子类表面活性剂；
作为其他的添加物等的例子，可以列举出聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、失水山梨糖醇脂肪酸酯(BASF公司制プルロ二ツクL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、テトロ二ツク304、701、704、901、904、150R1等非离子类表面活性剂；W004、W005、W017(裕商公司制)等阴离子类表面活性剂；EFKA-46、EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA聚合物100、EFKA聚合物400、EFKA聚合物401、EFKA聚合物450(以上为森下产业公司制)、デイスパ-スエイド6、デイスパ-スエイド8、デイスパ-スエイド15、デイスパ-スエイド9100(サンノプコ(SAN NOPCO)公司制)等高分子分散剂；ソルスパ-ス3000、5000、9000、12000、13240、13940、17000、24000、26000、28000等各种ンルスパ-ス分散剂(ゼネカ公司制)；アデカプルロ二ツク(Adeka Pluronic)L31、F38、L42、L44、L61、L64、F68、L72、P95、F77、P84、F87、P94、L101、P103、F108、L121、P-123(旭电化公司制)和インネツト(Isonet)S-20(三洋化成公司制)；2-(3-叔丁基-5-甲基-2-羟基苯基)-5-氯苯并三唑、烷氧基二苯甲酮等紫外线吸收剂；以及聚丙烯酸钠等防凝聚剂。
另外，在欲促进未固化部分的碱溶性、进一步提高光固化性组合物的显影性的情况中，可以向光固化性组合物中添加有机羧酸、优选添加分子量为1000以下的低分子量有机羧酸。具体可以列举出例如，甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、新戊酸、己酸、二乙基乙酸、庚酸、辛酸等脂肪族单羧酸；草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、十三烷二酸、甲基丙二酸、乙基丙二酸、二甲基丙二酸、甲基琥珀酸、四甲基琥珀酸、柠康酸等脂肪族二羧酸；丙三羧酸、乌头酸、樟脑三酸等脂肪族三羧酸；苯甲酸、甲基苯甲酸、异丙基苯甲酸、2，3一二甲基苯甲酸、3，5-二甲基苯甲酸等芳香族单羧酸；邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸、偏苯三酸、均苯三酸、苯偏四甲酸、均苯四酸等芳香族多元羧酸；苯基乙酸、苯基丙酸、氢化肉桂酸、苦杏仁酸、苯基琥珀酸、苯基丙烯酸、肉桂酸、肉桂酸甲酯、肉桂酸苄酯、肉桂叉基乙酸、香豆酸、伞形酸等其他羧酸。
(热聚合防止剂)
在本发明中，为了阻止在光固化性组合物的制备或保存中聚合性化合物不必要的热聚合，优选添加少量的热聚合防止剂。
作为可在本发明中使用的热聚合防止剂，可以列举出氢醌、对甲氧基苯酚、二叔丁基对甲酚、连苯三酚、叔丁基连苯二酚、苯醌、4，4’-硫代二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2’-亚甲基二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2-巯基苯并咪唑、N-亚硝基苯基羟基胺亚铈盐等。
热聚合防止剂的添加量，相对于全部组合物的质量优选为约0.01质量％～约5质量％。另外，根据需要，为了防止氧阻碍聚合，可以添加山嵛酸、山嵛酸酰胺那样的高级脂肪酸衍生物等，可使其在涂布后的干燥过程中主要存在于感光层的表面。高级脂肪酸衍生物的添加量，优选为全部组合物的约0.5质量％～约10质量％。
本发明的光固化性组合物，可以通过在前述的本发明的颜料分散组合物中含有碱溶性树脂、光聚合性化合物、和光聚合引发剂(优选与溶剂一起)，并根据需要混合表面活性剂等添加剂，从而调制。
<滤色器和其制造方法>
下面对本发明的滤色器和其制造方法予以说明。
本发明的滤色器的特征在于，在支持体上具有使用本发明的光固化性组合物而成的着色图案。
下面，对本发明的滤色器，通过其制造方法(本发明的滤色器的制造方法)进行详细说明。
本发明的滤色器的制造方法的特征在于包括以下工序，即：将本发明的光固化性组合物直接或介由其它层赋予在基板上从而形成感光性膜的工序(下面，适宜地简称作“感光性膜形成工序”。)；对形成的感光性膜进行图案曝光(介由掩模进行曝光)的工序(下面，适宜地简称作“曝光工序”)；使曝光后的感光性膜显影，从而形成着色图案的工序(下面，适宜地简称作“显影工序”。)。
下面，对本发明的制造方法中的各工序进行说明。
(感光性膜形成工序)
在感光性膜形成工序中，直接或在具有其它层的基板上涂布(赋予)本发明的光固化性组合物，从而形成感光性膜。
作为本工序中使用的基板，可以列举出例如，用于液晶显示元件等的钠玻璃、派拉克斯(注册商标)玻璃、石英玻璃、以及在它们上贴附了透明导电膜的玻璃，在摄像元件等中使用的光电转换元件基板，例如
Figure G2007800094346D0056112001QIETU
硅基板等，互补性金属氧化膜半导体(CMOS)等。在这些基板上有时也形成有隔离各像素的黑色条纹。
另外，在这些基板上，根据需要可以设置用于改良与上部的层的密合、防止物质扩散、或用于使基板表面的平坦化的下涂层(其它层)。
作为在基板上涂布本发明的光固化性组合物的方法，可以使用狭缝涂布法、喷墨法、旋涂、流涂、辊涂、丝网印刷法等各种涂布方法。
作为光固化性组合物的涂布膜厚，优选为0.1～10μm，更优选为0.2～5μm，进一步优选为0.2～3μm。
涂布在基板上的感光性膜的干燥(预烘干)可以通过电热板、烘箱等在50℃～140℃的温度下进行10～300秒。
(曝光工序)
在曝光工序中，使在上述感光性膜形成工序中形成的感光性膜介由具有规定掩模图案的掩模进行曝光，即进行图案曝光。
在本工序中，通过介由规定的掩模图案对涂布膜即感光性膜进行曝光，可使仅被光照射的涂布膜部分发生固化。
作为可在曝光中使用的辐射线，特别优选使用g线、i线等紫外线。照射量优选5～1500mJ/cm2，更优选10～1000mJ/cm2，最优选10～500mJ/cm2。
在本发明的滤色器用于液晶显示元件时，在上述范围中，优选为5～200mJ/cm2，更优选为10～150mJ/cm2，最优选为10～100mJ/cm2。另外，在本发明的滤色器用于固体摄像元件时，在上述范围中，优选为30～1500mJ/cm2，更优选为50～1000mJ/cm2，最优选为80～500mJ/cm2。
(显影工序)
接着，通过进行显影处理，使在曝光工序中未曝光的部分在显影液中溶出，仅剩下光固化了的部分。作为显影液，只要可溶解未固化部分中的光固化性组合物的膜而不溶解固化的部分即可，可以使用任一种。具体地讲，可以使用各种有机溶剂的组合或碱性的水溶液。
作为显影温度，通常为20℃～30℃，显影时间为20～90秒。
作为上述有机溶剂，可以列举出在调制本发明的颜料分散组合物或光固化性组合物时可以使用的已经叙述过的溶剂。
作为上述碱性的水溶液，优选使用将例如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、硅酸钠、偏硅酸钠、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、胆碱、吡咯、哌啶、1，8-二氮双环-[5，4，0]-7-十一碳烯等碱性化合物用纯水稀释至浓度为0.001～10质量％、优选为0.01～1质量％而成的碱性水溶液作为显影液。
另外，在使用由这样的碱性水溶液形成的显影液时，一般显影后用纯水洗净(淋洗)。
在显影工序后，洗净去除剩余的显影液，进行干燥，然后进行加热处理(后烘烤)。
后烘烤是为了使固化完全而在显影后进行的加热处理，通常进行100℃～240℃的热固化处理。当基板是玻璃基板或
Figure G2007800094346D0058112052QIETU
硅基板时，在上述温度范围中，优选为200℃～240℃。
该后烘烤处理可以对显影后的涂布膜在上述那样的条件下使用电热板或对流烘箱(热风循环式干燥机)、高频加热机等加热设备以连续式或间歇式进行。
将上面说明的感光性膜形成工序、曝光工序、和显影工序(进而包括根据需要进行的加热处理)仅重复期望的色相数，从而根据期望的色相来制造滤色器。
在将本发明的光固化性组合物赋予基板上形成膜时，作为膜的干燥厚度，一般为0.3～5.0μm，优选为0.5～3.5μm，最优选1.0～2.5μm。
作为基板，可以列举出例如，在液晶显示元件等中使用的无碱玻璃、钠玻璃、派拉克斯(注册商标)玻璃、石英玻璃、和对它们贴附了透明导电膜的玻璃，在固体摄像元件等中使用的光电转换元件基板，例如
Figure G2007800094346D0058112120QIETU
硅基板等，以及塑料基板。在这些基板上，通常形成有隔离各像素的黑色条纹。
塑料基板优选在其表面上具有气体阻隔层和/或耐溶剂性层。
作为本发明的光固化性组合物的用途，主要可以讲出在滤色器的像素中的用途，但毋庸置疑的是，也适用于在滤色器的像素之间设置的黑色矩阵。对于黑色矩阵，除了在本发明的光固化性组合物中使用添加碳黑、钛黑等黑色着色剂作为着色剂以外，与上述像素的制作方法同样地进行图案曝光，碱性显影，进而在这之后，进行后烘烤以促进膜的固化而形成。
实施例
下面，通过实施例来更具体地说明本发明，但本发明并不限定下面的实施例。另外，只要没有特殊说明，“％”、“份”是质量基准。
(实施例1～57)
作为实施例1～57，按照下示方法合成了本发明的高分子化合物C-1～C-57。
<通式(3)所示的硫醇化合物的合成>
像下面所示那样合成了链转移剂B-1～B-24(前述的通式(3)所示的硫醇化合物)。
[合成例B-1]
将7.83份二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)[DPMP；堺化学工业(株)制]、和15.57份的下述具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-1)溶解在93.60份的二甲基甲酰胺中，氮气流下加热至70℃。向其中加入0.06份的2.2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)[V-65、和光纯药工业(株)制]，加热3小时。再加入0.06份的V-65，氮气流下在70℃下反应3小时。通过冷却至室温得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-1)的20％溶液。
[化36]
B-1(1/5加成体)
[合成例B-2]
除了在上述合成例B-1中，将15.57份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-1)、和93.60份的二甲基甲酰胺变更成11.76份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-2)、和78.38份的二甲基甲酰胺以外，其他与上述合成例B-1同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-2)的20％溶液。
[化37]
Figure G2007800094346D00592
B-Z(1/5加成体)
[合成例B-3]
除了在上述合成例B-1中，将15.57份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-1)、和93.60份的二甲基甲酰胺变更成14.61份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-3)、和89.78份的二甲基甲酰胺以外，其他与上述合成例B-1同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-3)的20％溶液。
[化38]
Figure G2007800094346D00601
B-3(1/5加成体)
[合成例B-4]
除了在上述合成例B-1中，将15.57份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-1)、和93.60份的二甲基甲酰胺变更成17.52份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-4)、和101.4份的二甲基甲酰胺以外，其他与上述合成例B-1同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-4)的20％溶液。
[化39]
Figure G2007800094346D00602
B-4(1/5加成体)
[合成例B-5]
除了在上述合成例B-1中，将15.57份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-1)、和93.60份的二甲基甲酰胺变更成14.67份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-5)、和89.99份的二甲基甲酰胺以外，其他与上述合成例B-1同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-5)的20％溶液。
[化40]
Figure G2007800094346D00611
[合成例B-6]
除了在上述合成例B-1中，将15.57份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-1)、和93.60份的二甲基甲酰胺变更成9.66份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-6)、和40.82份的二甲基甲酰胺以外，其他与上述合成例B-1同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-6)的30％溶液。
[化41]
Figure G2007800094346D00612
[合成例B-7]
除了在上述合成例B-1中，将15.57份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-1)、和93.60份的二甲基甲酰胺变更成10.06份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-7)、和41.75份的1-甲氧基-2-丙醇以外，其他与上述合成例B-1同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-7)的30％溶液。
[化42]
Figure G2007800094346D00613
[合成例B-8]
除了在上述合成例B-1中，将15.57份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-1)、和93.60份的二甲基甲酰胺变更成7.01份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-8)、和34.62份的1-甲氧基-2-丙醇以外，其他与上述合成例B-1同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-8)的30％溶液。
[化43]
Figure G2007800094346D00621
[合成例B-9]
除了在上述合成例B-1中，将15.57份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-1)、和93.60份的二甲基甲酰胺变更成4.85份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-9)、和29.60份的1-甲氧基-2-丙醇以外，其他与上述合成例B-1同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-9)的30％溶液。
[化44]
Figure G2007800094346D00622
[合成例B-10]
除了在上述合成例B-1中，将15.57份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-1)、和93.60份的二甲基甲酰胺变更成12.44份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-10)、和47.30份的1-甲氧基-2-丙醇以外，其他与上述合成例B-1同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-10)的30％溶液。
[化45]
Figure G2007800094346D00631
B-10(1/4.5加成体)
[合成例B-11]
将4.89份的季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)[PEMP；堺化学工业(株)制]、和15.19份的下述具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-11)溶解在80.32份的二甲基甲酰胺中，氮气流下加热至70℃。向其中加入0.04份的2.2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)[V-65、和光纯药工业(株)制]，加热3小时。再加入0.04份的V-65，氮气流下在70℃下反应3小时。通过冷却至室温得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-11)的20％溶液。
[化46]
Figure G2007800094346D00632
[合成例B-12]
除了在上述合成例B-11中，将15.19份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-11)、和80.32份的二甲基甲酰胺变更成14.41份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-12)、和77.20份的二甲基甲酰胺以外，其他与上述合成例B-11同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-12)的20％溶液。
[化47]
Figure G2007800094346D00641
[合成例B-13]
除了在上述合成例B-1中，将15.57份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-1)、和93.60份的二甲基甲酰胺变更成5.26份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-13)、和30.54份的1-甲氧基-2-丙醇以外，其他与上述合成例B-1同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-13)的30％溶液。
[化48]
Figure G2007800094346D00642
B-13(1/5加成体)
[合成例B-14]
除了在上述合成例B-1中，将15.57份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-1)、和93.60份的二甲基甲酰胺变更成4.71份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-14)、和29.25份的1-甲氧基-2-丙醇以外，其他与上述合成例B-1同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-14)的30％溶液。
[化49]
Figure G2007800094346D00643
B-14(1/5加成体)
[合成例B-15]
将7.83份二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)[DPMP；堺化学工业(株)制]、和6.51份的下述具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-15)溶解在33.45份的1-甲氧基-2-丙醇中，氮气流下加热至70℃。向其中加入0.06份的2.2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)[V-65、和光纯药工业(株)制]，加热3小时。再加入0.06份的V-65，氮气流下在70℃下反应3小时。通过冷却至室温得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-15)的30％溶液。
[化50]
Figure G2007800094346D00651
B-15(1/5加成体)
[合成例B-16]
除了在上述合成例B-15中，将6.51份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-15)、和33.45份的1-甲氧基-2-丙醇变更成5.80份的下述具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-16)、和31.81份的1-甲氧基-2-丙醇以外，其他与上述合成例B-15同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-16)的30％溶液。
[化51]
[合成例B-17]
除了在上述合成例B-15中，将6.51份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-15)、和33.45份的1-甲氧基-2-丙醇变更成12.46份的下述具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-17)、和47.35份的二甲基甲酰胺以外，其他与上述合成例B-15同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-17)的30％溶液。
[化52]
[合成例B-18]
除了在上述合成例B-15中，将6.51份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-15)、和33.45份的1-甲氧基-2-丙醇变更成10.46份的下述具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-18)、和42.67份的二甲基甲酰胺以外，其他与上述合成例B-15同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-18)的30％溶液。
[化53]
Figure G2007800094346D00662
B-18(1/5加成体)
[合成例B-19]
除了在上述合成例B-15中，将6.51份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-15)、和33.45份的1-甲氧基-2-丙醇变更成10.36份的下述具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-19)、和42.45份的二甲基甲酰胺以外，其他与上述合成例B-15同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-19)的30％溶液。
[化54]
Figure G2007800094346D00671
B-19(1/5加成体)
[合成例B-20]
除了在上述合成例B-15中，将6.51份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-15)、和33.45份的1-甲氧基-2-丙醇变更成7.86份的下述具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-20)、和36.61份的1-甲氧基-2-丙醇以外，其他与上述合成例B-15同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-20)的30％溶液。
[化55]
Figure G2007800094346D00672
B-20(1/5加成体)
[合成例B-21]
除了在上述合成例B-15中，将6.51份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-15)、和33.45份的1-甲氧基-2-丙醇变更成8.51份的下述具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-21)、和38.13份的1-甲氧基-2-丙醇以外，其他与上述合成例B-15同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-21)的30％溶液。
[化56]
Figure G2007800094346D00673
[合成例B-22]
除了在上述合成例B-15中，将6.51份的具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-15)、和33.45份的1-甲氧基-2-丙醇变更成11.72份的下述具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-22)、和45.61份的1-甲氧基-2-丙醇以外，其他与上述合成例B-15同样地进行，得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-22)的30％溶液。
[化57]
Figure G2007800094346D00681
B-22(1/4.5加成体)
[合成例B-23]
将4.89份的季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)[PEMP；堺化学工业(株)制]、和3.90份的下述具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-15)溶解在20.51份的1-甲氧基-2-丙醇中，氮气流下加热至70℃。向其中加入0.04份的2.2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)[V-65、和光纯药工业(株)制]，加热3小时。再加入0.04份的V-65，氮气流下在70℃下反应3小时。通过冷却至室温得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-23)的30％溶液。
[化58]
Figure G2007800094346D00682
[合成例B-24]
将7.83份的二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)[DPMP；堺化学工业(株)制]、和4.55份的下述具有吸附部位且具有碳碳双键的化合物(A-15)溶解在28.90份的1-甲氧基-2-丙醇中，氮气流下加热至70℃。向其中加入0.04份的2.2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)[V-65、和光纯药工业(株)制]，加热3小时。再加入0.04份的V-65，氮气流下在70℃下反应3小时。通过冷却至室温得到下示的本发明的硫醇化合物(链转移剂B-24)的30％溶液。
[化59]
Figure G2007800094346D00691
B-24(1/3.5加成体)
<高分子化合物的合成>
接着如下示那样合成本发明的高分子化合物C-1～C-57。
[合成例C-1]
将上述合成例B-1中得到的链转移剂B-1的20％溶液46.80份与甲基丙烯酸甲酯(MMA；单体)20份的混合溶液在氮气流下加热至80℃。向其中加入0.013份的2.2’-偶氮二(异丁腈)[AIBN、和光纯药工业(株)制]，加热3小时，然后再加入0.013份的AIBN，氮气流下在80℃下反应3小时。然后冷却至室温，用丙酮稀释。使用大量的甲醇再沉淀，然后经真空干燥得到下示的本发明的高分子化合物(C-1：聚苯乙烯换算的重均分子量为14000)的固体19份。
[化60]
Figure G2007800094346D00692
[合成例C-2]
除了在上述合成例C-1中，将链转移剂B-1的20％溶液46.80份变更成23.40份，将0.013份AIBN变更成0.007份以外，其他与上述合成例C-1同样地进行，得到下示本发明的高分子化合物(C-2：聚苯乙烯换算的重均分子量为30000)的固体23份。
[化61]
Figure G2007800094346D00701
[合成例C-3]
除了在上述合成例C-1中，将20份的甲基丙烯酸甲酯变更成19.5份的甲基丙烯酸丁酯和8.5份的甲基丙烯酸2-羟基乙酯以外，其它与上述合成例C-1同样地进行，得到下示本发明的高分子化合物(C-3：聚苯乙烯换算的重均分子量为15000)的固体20份。
[化62]
[合成例C-4～C-32]
进而，除了将链转移剂、单体的种类和量、AIBN的量、及再沉淀方法如下表1和表2那样变更以外，其他与上述合成例C-1同样地进行，得到本发明的高分子化合物C-4～C-32。
[表1]
合成例 链转移剂 单体 AIBN 再沉淀方法 重均分子量 高分子化合物的收率
C-4 23.40份的B-1溶液 MMA18份MAA2份 0.007份 用甲醇/水(1/1)再沉淀 32000 18份
C-5 39.19份的B-2溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 13000 21份
C-6 19.59份的B-2溶液 BMA19.5份HEMAB.5份 0.007份 用甲醇再沉淀 29000 22份
C-7 44.89份的B-3溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 15000 24份
C-8 22.45份的B-3溶液 MMA20份 0.007份 用甲醇再沉淀 30000 22份
C-9 22.45份的B-3溶液 MMA19份MAA1份 0.007份 用甲醇/水(1/1)再沉淀 31000 21份
C-10 50.7份的B-4溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.013份 用甲醇再沉淀 14000 25份
C-11 25.35份的B-4溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.007份 用甲醇再沉淀 2800D 22份
C-12 45.00份的B-5溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 14000 26份
C-13 22.50份的B-5溶液 MMA20份 0.007份 用甲醇再沉淀 29000 22份
C-14 23.32份的B-6溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 16000 23份
C-15 11.66份的B-6溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.007份 用甲醇再沉淀 31000 21份
C-16 23.86份的B-7溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 15000 23份
C-17 23.86份的B-7溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.013份 用甲醇再沉淀 16000 22份
C-18 11.93份的B-7溶液 MMA18份MAA2份 0.007份 用甲醇/水(1/1)再沉淀 30000 20份
C-19 19.78份的B-8溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 16000 23份
C-20 19.78份的B-8溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.013份 用甲醇再沉淀 14000 23份
MMA…甲基丙烯酸甲酯
MAA…甲基丙烯酸
BMA…甲基丙烯酸正丁酯
HEMA…甲基丙烯酸2-羟基乙酯
表2
合成例 链转移剂 单体 AIBN 再沉淀方法 重均分子量 高分子化合物的收率
C-21 16.91份的B-9溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 15000 22份
C-22 16.91份的B-9溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.013份 用甲醇再沉淀 16000 22份
C-23 9.01份的B-10溶液 MMA20份 0.007份 用甲醇再沉淀 29000 19份
C-24 9.01份的B-10溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.007份 用甲醇再沉淀 30000 19份
C-25 20.08份的B-11溶液 MMA20份 0.007份 用甲醇再沉淀 28000 21份
C-26 12.87份的B-12溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.007份 用甲醇再沉淀 29000 20份
C-27 17.45份的B-13溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.013份 用甲醇再沉淀 14000 17份
C-28 8.73份的B-13溶液 MMA20份 0.007份 用甲醇再沉淀 24000 15份
C-29 8.73份的B-13溶液 MMA19份MAA1份 0.007份 用甲醇/水(1/1)再沉淀 26000 16份
C-30 16.71份的B-14溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 15000 17份
C-31 8.36份的B-14溶液 MMA20份 0.007份 用甲醇再沉淀 31000 18份
C-32 8.36份的B-14溶液 MMA18份MAA2份 0.007份 用甲醇/水(1/1)再沉淀 32000 18份
MMA…甲基丙烯酸甲酯
MAA…甲基丙烯酸
BMA…甲基丙烯酸正丁酯
HEMA…甲基丙烯酸2-羟基乙酯
下面示出了合成的高分子化合物的结构。另外，(C-4)等的标记表示在上述表1～2中的合成例的序号。
[化63]
[化64]
Figure G2007800094346D00741
[化65]
[化66]
Figure G2007800094346D00761
[化67]
Figure G2007800094346D00771
[合成例C-33]
将上述合成例B-15中记载的链转移剂B-15的30％溶液19.11份与甲基丙烯酸甲酯20份的混合溶液在氮气流下加热至80℃。向其中加入0.013份的2.2’-偶氮二(异丁腈)[AIBN、和光纯药工业(株)制]，加热3小时，然后再加入0.013份的AIBN，氮气流下在80℃下反应3小时。然后冷却至室温，用丙酮稀释。使用大量的甲醇再沉淀，然后经真空干燥得到下示的本发明的高分子化合物(C-33：聚苯乙烯换算的重均分子量为12000)的固体13份。
[化68]
Figure G2007800094346D00772
[合成例C-34]
除了在上述合成例C-33中，将链转移剂B-15的30％溶液19.11份变更成9.56份，将0.013份AIBN变更成0.007份以外，其他与上述合成例C-33同样地进行，得到下示本发明所涉及的高分子化合物(C-34：聚苯乙烯换算的重均分子量为20000)的固体14份。
[化69]
[合成例C-35]
除了在上述合成例C-33中，将20份的甲基丙烯酸甲酯变更成19.5份的甲基丙烯酸丁酯和8.5份的甲基丙烯酸-2-羟基乙酯以外，其它与上述合成例C-33同样地进行，得到下示本发明所涉及的高分子化合物(C-35：聚苯乙烯换算的重均分子量为13000)的固体13份。
[化70]
Figure G2007800094346D00782
[合成例C-36～C-55]
进而，除了将链转移剂、单体的种类和量、AIBN的量、及再沉淀方法如下表3和表4那样进行变更以外，其他与上述合成例C-33同样地进行，得到本发明的高分子化合物C-36～C-55。
表3
合成例 链转移剂 单体 AIBN 再沉淀方法 重均分子量 高分子化合物的收率
C-36 9.56份的B-15溶液 MMA19份MAA1份 0.007份 用甲醇/水(1/1)再沉淀 23000 15份
C-37 9.56份的B-15溶液 MMA18份MAA2份 0.007份 用甲醇/水(1/1)再沉淀 24000 15份
C-38 9.94份的B-15溶液 MMA18份AA2份 0.007份 用甲醇/水(1/1)再沉淀 20000 17份
C-39 9.03份的B-15溶液 MMA18份MK酯SA2份 0.007份 用甲醇/水(1/1)再沉淀 23000 16份
C-40 18.18份的B-16溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 13000 11份
C-41 9.09份的B-16溶液 MMA20份 0.007份 用甲醇再沉淀 23000 12份
C-42 1818份的B-16溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.013份 用甲醇再沉淀 16000 11份
C-43 13.53份的B-17溶液 MMA20份 0.007份 用甲醇再沉淀 27000 13份
C-44 12.19份的B-18溶液 MMA20份 0.007份 用甲醇再沉淀 26000 11份
C-45 12.13份的B-19溶液 MMA20份 0.007份 用甲醇再沉淀 28000 10份
C-46 20.92份的B-20溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 15000 18份
C-47 10.46份的B-20溶液 MMA20份 0.007份 用甲醇再沉淀 32000 19份
C-48 20.92份的B-20溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.0013份 用甲醇再沉淀 17000 22份
C-49 10.46份的B-20溶液 MMA19份MAA1份 0.007份 用甲醇/水(1/1)再沉淀 30000 17份
C-50 21.79份的B-21溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 22000 20份
MMA…甲基丙烯酸甲酯
MAA…甲基丙烯酸
AA…丙烯酸
BMA…甲基丙烯酸正丁酯
HEMA…甲基丙烯酸2-羟基乙酯
MKエステル-SA(新中村化学工业制)
Figure G2007800094346D00791
表4
合成例 链转移剂 单体 AIBN 再沉淀方法 重均分子量 高分子化合物的收率
C-51 21.79份的B-21溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.013份 用甲醇再沉淀 24000 24份
C-52 17.38份的B-22溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 19000 20份
C-53 17.38份的B-22溶液 BMA19.5份HEMA8.5份 0.013份 用甲醇再沉淀 22000 22份
C-54 8.69份的B-22溶液 MMA19份MAA1份 0.007份 用甲醇/水(1/1)再沉淀 31000 18份
C-55 11.72份的B-23溶液 MMA20份 0.013份 用甲醇再沉淀 11000 11份
MMA…甲基丙烯酸甲酯
MAA…甲基丙烯酸
BMA…甲基丙烯酸正丁酯
HEMA…甲基丙烯酸2-羟基乙酯
下面示出了合成的高分子化合物的结构。另外，(C-36)等的标记表示在上述表3～4中的合成例的序号。
[化71]
[化72]
Figure G2007800094346D00821
[化73]
Figure G2007800094346D00831
[合成例C-56]
将上述合成例B-24中所述的链转移剂B-24的30％溶液4.99份、19.0份的甲基丙烯酸甲酯、1.0份的甲基丙烯酸、和4.66份的1-甲氧基-2-丙醇的混合溶液在氮气流下加热至90℃。一边搅拌该混合溶液，一边经2.5小时滴加由0.139份的2，2’-偶氮二异丁酸二甲酯[V-601、和光纯药工业(株)制]、5.36份的1-甲氧基-2-丙醇、和9.40份的1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯形成的混合溶液。滴加结束后在90℃下反应2.5小时，然后加入由0.046份的2，2’-偶氮二异丁酸二甲酯和4.00份的1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯形成的混合溶液，进而再反应2小时。向反应液中加入1.52份的1-甲氧基-2-丙醇、和21.7份的1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯，经冷却至室温得到下示的本发明所涉及的高分子化合物(C-56：聚苯乙烯换算的重均分子量为24000)的溶液(高分子化合物为30质量％，1-甲氧基-2-丙醇为21质量％，1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯为49质量％)。
[化74]
Figure G2007800094346D00841
[合成例C-57]
除了将合成例C-56中记载的链转移剂B-24的30％溶液4.99份、19.0份的甲基丙烯酸甲酯、1.0份的甲基丙烯酸、和4.66份的1-甲氧基-2-丙醇的混合溶液变更成链转移剂B-24的30％溶液5.03份、18.0份的甲基丙烯酸甲酯、2.0份的甲基丙烯酸、和4.66份的1-甲氧基-2-丙醇的混合溶液以外，其他与上述合成例C-56同样地进行反应，从而得到下示的本发明所涉及的高分子化合物(C-57：聚苯乙烯换算的重均分子量为25000)的溶液(高分子化合物为30质量％，1-甲氧基-2-丙醇为21质量％，1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯为49质量％)。
[化75]
Figure G2007800094346D00842
[实施例58]
混合下述组成的成分，使用均质机在转速3,000r.p.m.下搅拌混合3小时，调制混合溶液。
[组成]
·C.I.颜料红254…90份
·C.I.颜料红177…10份
·上述合成例C-1中得到的高分子化合物(颜料分散剂)…50份
·1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯…850份
接着，使用采用了0.3mmΦ的二氧化锆珠粒的珠粒分散机Dispermat(GETZMANN公司制)，对上述得到的混合溶液进行6小时分散处理，然后进而使用带有减压机构的高压分散机NANO-3000-10(日本BEE(株)制)，在2000kg/cm3的压力下，以500g/分钟的流量进行分散处理。重复进行10次该分散处理，得到红色的颜料分散组合物R1。
(评价1)
对得到的颜料分散组合物进行下述评价。
(1)粘度的测定、评价
对得到的颜料分散组合物，使用E型粘度计测定刚分散后的颜料分散组合物的粘度η1和分散后(在室温下)经过1星期后的颜料分散组合物的粘度η2，评价增粘程度。下述表5中示出了评价结果。这里，粘度低表示分散性、分散稳定性良好。
(2)对比度的测定、评价
将得到的颜料分散组合物涂布在玻璃基板上，以干燥后的涂膜厚度为1μm的方式来制作试样。将该试样放置在2枚偏振片之间，测定偏振轴平行时、和垂直时的透射光量，将它们的比值作为对比度(参考“1990年第7次色彩光学会议，512色表示的10.4”尺寸TFT-LCD用滤色器，植木、小関、福永、山中”)。下表5中示出了测定评价的结果。这里，对比度高表示高度微细化，透射率即着色力高。
(实施例59～112)
除了在实施例58中，将颜料分散剂(在上述合成例C-1中得到的高分子化合物)替换成分别在上述合成例C-2～C-55中得到的高分子化合物(颜料分散剂)以外，其他与实施例58同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R2～R55，与实施例58同样地进行评价。
(实施例113、114)
除了在实施例58中，将50份颜料分散剂(在上述合成例C-1中得到的高分子化合物)分别替换成167份的在上述合成例C-56、C-57中各自得到的高分子化合物(颜料分散剂，30质量％的溶液)，将1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯850份变更成733份以外，其他与实施例58同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R56、R57，与实施例58同样地进行评价。
(实施例115)
除了在实施例58中，将红色的颜料分散组合物替换成下述组成的绿色的颜料分散组合物以外，其他与实施例58同样地进行，调制出绿色的颜料分散组合物G1，与实施例58同样地进行评价。
[组成]
·C.I.颜料绿36…60份
·C.I.颜料黄150…40份
·上述合成例C-1中得到的高分子化合物(颜料分散剂)…50份
·1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯…850份
(实施例116～169)
除了在实施例115中，将颜料分散剂(在上述合成例C-1中得到的高分子化合物)替换成分别在上述合成例C-2～C-55中得到的高分子化合物(颜料分散剂)以外，其他与实施例115同样地进行，调制出绿色的颜料分散组合物G2～G55，与实施例58同样地进行评价。
(实施例170、171)
除了在实施例115中，将50份颜料分散剂(在上述合成例C-1中得到的高分子化合物)分别替换成167份的在上述合成例C-56、C-57中各自得到的高分子化合物(颜料分散剂，30质量％的溶液)，将1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯850份变更成733份以外，其他与实施例115同样地进行，调制出绿色的颜料分散组合物G56、G57，与实施例58同样地进行评价。
(实施例172)
除了在实施例58中，将红色的颜料分散组合物替换成下述组成的蓝色的颜料分散组合物以外，其他与实施例58同样地进行，调制出蓝色的颜料分散组合物B1，与实施例58同样地进行评价。
[组成]
·C.I.颜料蓝15：6…85份
·C.I.颜料紫23…15份
·上述合成例C-1中得到的高分子化合物(颜料分散剂)…50份
·1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯…850份
(实施例173～195)
除了在实施例172中，将颜料分散剂(在上述合成例C-1中得到的高分子化合物)替换成在上述合成例C-2～C-9、合成例C-12～C-15、合成例C-33～C-43中得到的高分子化合物(颜料分散剂)以外，其他与实施例172同样地进行，调制出蓝色的颜料分散组合物B2～B24，与实施例58同样地进行评价。
(实施例196、197)
除了在实施例172中，将50份颜料分散剂(在上述合成例C-1中得到的高分子化合物)分别替换成167份的上述合成例C-56、C-57中各自得到的高分子化合物(颜料分散剂，30质量％的溶液)，将1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯850份变更成733份以外，其他与实施例172同样地进行，调制出蓝色的颜料分散组合物B25、B26，与实施例58同样地进行评价。
(比较例1)
除了在实施例58中，将上述合成例C-1中得到的高分子化合物(颜料分散剂)替换成甲基丙烯酸甲酯与上述化合物(A-1)的下述共聚物D-1(＝85/15“重量比”，重均分子量为20,000)以外，其他与实施例58同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R58，与实施例58同样地进行评价。
[化76]
Figure G2007800094346D00881
(比较例2)
除了在实施例58中，将上述合成例C-1中得到的高分子化合物(颜料分散剂)替换成下述的末端具有1个吖啶酮的聚(甲基丙烯酸甲酯)D-2(重均分子量为15,000)以外，其他与实施例58同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R59，并与实施例58同样地进行评价。
[化77]
Figure G2007800094346D00882
(比较例3)
除了在实施例58中，将上述合成例C-1中得到的高分子化合物(颜料分散剂)替换成下述的末端具有1个吖啶酮的聚(甲基丙烯酸丁酯-共聚-甲基丙烯酸2-羟基乙酯)D-3(甲基丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯(＝70/30“质量比”))共聚物(重均分子量为16,000)以外，其他与实施例58同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R60，并与实施例58同样地进行评价。
[化78]
Figure G2007800094346D00883
(比较例4)
除了在实施例58中，将上述合成例C-1中得到的高分子化合物(颜料分散剂)替换成下述的末端具有1个蒽醌的聚(甲基丙烯酸甲酯)D-4(重均分子量为14,000)以外，其他与实施例58同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R61，并与实施例58同样地进行评价。
[化79]
Figure G2007800094346D00891
(比较例5)
除了在实施例58中，将上述合成例C-1中得到的高分子化合物(颜料分散剂)替换成下述的末端具有1个邻苯二甲酰亚胺的聚(甲基丙烯酸甲酯)D-5(重均分子量为15,000)以外，其他与实施例58同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R62，并与实施例58同样地进行评价。
[化80]
Figure G2007800094346D00892
(比较例6)
除了在实施例58中，将上述合成例C-1中得到的高分子化合物(颜料分散剂)替换成下述的末端具有1个萘二甲酰亚胺的聚(甲基丙烯酸甲酯)D-6(重均分子量为16,000)以外，其他与实施例58同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R63，并与实施例58同样地进行评价。
[化81]
Figure G2007800094346D00901
(比较例7)
除了在实施例90中，将上述合成例C-33中得到的高分子化合物(颜料分散剂)替换成下述的甲基丙烯酸甲酯与甲基丙烯酸的共聚物D-7(＝85/15“重量比”，重均分子量：15000)以外，其他与实施例90同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R64，并与实施例58同样地进行评价。
[化82]
Figure G2007800094346D00902
(比较例8)
除了在实施例90中，将上述合成例C-33中得到的高分子化合物(颜料分散剂)替换成下述的末端具有1个羧酸的聚(甲基丙烯酸甲酯)D-8(重均分子量为13000)以外，其他与实施例90同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R65，并与实施例58同样地进行评价。
[化83]
Figure G2007800094346D00903
(比较例9)
除了在实施例90中，将上述合成例C-33中得到的高分子化合物(颜料分散剂)替换成下述的末端具有1个羧酸的聚(甲基丙烯酸丁酯-共聚-甲基丙烯酸2-羟基乙酯)D-9(甲基丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯(＝70/30“质量比”))共聚物(重均分子量为16000)以外，其他与实施例90同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R66，并与实施例58同样地进行评价。
[化84]
(比较例10)
除了在实施例90中，将上述合成例C-33中得到的高分子化合物(颜料分散剂)替换成在特开2002-273191号公报中记载的、末端具有磺酸的聚(甲基丙烯酸甲酯)D-10(重均分子量为8000)以外，其他与实施例90同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R67，并与实施例58同样地进行评价。
[化85]
(比较例11)
除了在实施例90中，将上述合成例C-33中得到的高分子化合物(颜料分散剂)替换成下述的末端具有1个氨基的聚(甲基丙烯酸甲酯)D-11(重均分子量为15000)以外，其他与实施例90同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R68，并与实施例58同样地进行评价。
[化86]
Figure G2007800094346D00913
(比较例12)
除了在实施例90中，将上述合成例C-33中得到的高分子化合物(颜料分散剂)替换成下述的末端具有1个丙基脲基的聚(甲基丙烯酸甲酯)D-12(重均分子量为16000)以外，其他与实施例90同样地进行，调制出红色的颜料分散组合物R69，并与实施例58同样地进行评价。
[化87]
(比较例13～18)
除了在实施例115中，将上述合成例C-1中得到的高分子化合物(颜料分散剂)分别替换成上述的D-1～D-6中的任一个以外，其他与实施例115同样地进行，调制出绿色的颜料分散组合物G58～G63，并与实施例58同样地进行评价。
(比较例19～24)
除了在实施例147中，将上述合成例C-33中得到的高分子化合物(颜料分散剂)分别替换成上述的D-7～D-12中的任一个以外，其他与实施例147同样地进行，调制出绿色的颜料分散组合物G64～G69，并与实施例58同样地进行评价。
(比较例25～28)
除了在实施例172中，将上述合成例C-1中得到的高分子化合物(颜料分散剂)分别替换成上述的D-1～D-4中的任一个以外，其他与实施例172同样地进行，调制出蓝色的颜料分散组合物B27～B30，并与实施例58同样地进行评价。
(比较例29～32)
除了在实施例185中，将上述合成例C-33中得到的高分子化合物(颜料分散剂)分别替换成上述的D-7～D-10中的任一个以外，其他与实施例185同样地进行，调制出蓝色的颜料分散组合物B31～B34，并与实施例18同样地进行评价。
将上述实施例58～197、和比较例1～32中使用的高分子化合物、和评价结果一并示于下表5～8中。另外，表中的C-1等的标记表示在实施例中使用的高分子化合物的合成例的序号。
[表5]
[表6]
Figure G2007800094346D00941
[表7]
实施例(组合物) 高分子化合物 刚刚分散后的粘度η1(cp) 1星期后的粘度η2(cp) 对比度 实施例(组合物) 高分子化合物 刚刚分散后的粘度η1(cp) 1星期后的粘度η2(cp) 对比度
172(B1) C-1 13 14 1100 185(B14) C-33 11 12 1150
173(B2) C-2 13 14 1100 186(B15) C-34 12 12 1100
174(B3) C-3 13 14 1100 187(B16) C-35 11 12 1150
175(B4) C-4 15 16 1100 188(B17) C-38 12 12 1150
176(B5) C-5 14 15 1100 189(B18) C-37 11 12 1150
177(B8) C-6 14 15 1100 190(B19) C-38 11 12 1150
178(B7) C-7 15 16 1050 191(B20) C-39 11 12 1150
179(B8) C-8 15 17 1050 192(B21) C-40 12 12 1100
180(B9) C-9 15 17 1050 193(B22) C-41 11 12 1150
181(B1o) C-12 14 17 1100 194(B23) C-42 12 13 1100
182(B11) C-13 15 18 1050 195(B24) C-43 12 13 1100
183(B12) C-14 15 18 1050 196(B25) C-56 12 12 1150
184(B13) C-15 16 19 1000 197(B26) C-57 12 12 125D
[表8]
Figure G2007800094346D00961
*…分散中粘度变得极高，不能分散。
**…由于凝胶化，不能测定。
(实施例198)
向实施例58中得到的颜料分散组合物R1中进一步加入下述组成的成分，搅拌混合，调制出本发明的光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)。
[组成]
·二季戊四醇六丙烯酸酯…80份
·4-[邻溴对-N，N-二(乙氧基羰基)氨基苯基]-2，6-二(三氯甲基)均三嗪(光聚合引发剂)…30份
·甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸(＝70/30“摩尔比”)共聚物(重均分子量：10,000)的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液(固体成分40％)…200份
·1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯…490份
将得到的光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)涂布在100mm×100mm的玻璃基板上(1737，コ-二ング公司制)，并使颜色浓度的指标x值是0.650，在90℃的烘箱中干燥60秒钟(预烘烤)。然后对整个涂膜表面用200mJ/cm2(照度20mW/cm2)的光曝光，使曝光后的涂膜被覆有碱性显影液CDK-1(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)制)的1％水溶液，静置60秒钟。静置后以喷淋状散布纯水，冲洗显影液。然后将上述那样实施了曝光和显影的涂膜在220℃的烘箱中加热处理1小时(后烘烤)，在玻璃基板上形成了用于滤色器的着色树脂被膜，从而制作出着色滤波基板(滤色器)。
(评价2)
对制作出的着色滤波基板像下面那样测定Y值和对比度。
(3)Y值
使用大塚电子(株)制的MCPD-2000，对制作出的着色滤波基板测定Y值。Y值越大表示透射率越高。
(4)对比度
在着色滤波基板的着色树脂被膜上放置偏振片，夹持着色树脂被膜，使用トプコン公司制的BM-5测定偏振片在平行时的辉度和正交时的辉度，将平行时的辉度除以正交时的辉度所得的值(＝平行时的辉度/正交时的辉度)作为用于评价对比度的指标。
(实施例199～254)
除了在实施例198中，将颜料分散组合物R1替换成在实施例59～114中得到的颜料分散组合物R2～R57以外，其它与实施例198同样地进行，调制出光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)，并与实施例198同样地进行评价。
(实施例255)
向实施例115中得到的颜料分散组合物G1中进一步添加下述组成的成分，搅拌混合，调制出本发明的光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)。
[组成]
·二季戊四醇六丙烯酸酯…50份
·4-[邻溴对-N，N-二(乙氧基羰基)氨基苯基]-2，6-二(三氯甲基)均三嗪(光聚合引发剂)…20份
·甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸(＝70/30“摩尔比”)共聚物(重均分子量为10,000)的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液(固体成分40％)…50份
·1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯…180份
将得到的光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)涂布在100mm×100mm的玻璃基板上(1737，コ-ニング公司制)，并使颜色浓度的指标y值是0.600，在90℃的烘箱中干燥60秒钟(预烘烤)。然后对整个涂膜表面用200mJ/cm2(照度20mW/cm2)的光曝光，使曝光后的涂膜被覆有碱性显影液CDK-1(富士フイルムエレクトロ二クスマテリアルズ(株)制)的1％水溶液，静置60秒钟。静置后以喷淋状散布纯水，冲洗显影液。然后将上述那样实施了曝光和显影的涂膜在220℃的烘箱中加热处理1小时(后烘烤)，在玻璃基板上形成了滤色器用着色树脂被膜，从而制作出着色滤波基板(滤色器)。
与实施例198的评价2同样地对制作出的着色滤波基板进行Y值和对比度的测定。
(实施例256～311)
除了在实施例255中，将颜料分散组合物G1替换成在实施例116～171中得到的颜料分散组合物G2～G57以外，其它与实施例255同样地进行，调制出光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)，与实施例198的评价2同样地进行评价。
(实施例312)
向实施例172中得到的颜料分散组合物B1中进一步添加下述组成的成分，搅拌混合，调制出本发明的光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)。
[组成]
·二季戊四醇六丙烯酸酯…150份
·4-[邻溴对-N，N-二(乙氧基羰基)氨基苯基]-2，6-二(三氯甲基)均三嗪(光聚合引发剂)…60份
·甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸(＝70/30“摩尔比”)共聚物(重均分子量：10,000)的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液(固体成分40％)…400份
·1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯…1440份
将调制的光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)涂布在100mm×100mm的玻璃基板上(1737，コ-二ング公司制)，并使颜色浓度的指标y值是0.090，在90℃的烘箱中干燥60秒钟(预烘烤)。然后对整个涂膜表面用200mJ/cm2(照度20mW/cm2)的光曝光，使曝光后的涂膜被覆有碱性显影液CDK-1(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)制)的1％水溶液，静置60秒钟。静置后以喷淋状散布纯水，冲洗显影液。然后将上述那样实施了曝光和显影的涂膜在220℃的烘箱中加热处理1小时(后烘烤)，在玻璃基板上形成了滤色器用着色树脂被膜，从而制作出着色滤波基板(滤色器)。
与实施例198的评价2同样地对制作出的着色滤波基板进行Y值和对比度的测定。
(实施例313～337)
除了在实施例312中，将颜料分散组合物B1替换成在实施例173～197中得到的颜料分散组合物B2～B26以外，其它与实施例312同样地进行，调制出光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)，并与实施例198的评价2同样地进行评价。
(比较例33～37)
除了在实施例198中，将实施例58中得到的颜料分散组合物R1替换成在比较例2～6中得到的颜料分散组合物R59～R63以外，其它与实施例198同样地进行，调制出光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)，并与实施例198同样地进行评价。
(比较例38～42)
除了在实施例230中，将实施例90中得到的颜料分散组合物R33替换成在比较例8～12中得到的颜料分散组合物R65～R69以外，其它与实施例230同样地进行，调制出光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)，并与实施例198同样地进行评价。
(比较例43～47)
除了在实施例255中，将实施例115中得到的颜料分散组合物G1替换成在比较例14～18中得到的颜料分散组合物G59～G63以外，其它与实施例255同样地进行，调制出光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)，并与实施例198同样地进行评价。
(比较例48～52)
除了在实施例287中，将实施例147中得到的颜料分散组合物G33替换成在比较例20～24中得到的颜料分散组合物G65～G69以外，其它与实施例287同样地进行，调制出光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)，并与实施例198同样地进行评价。
(比较例53～55)
除了在实施例312中，将实施例172中得到的颜料分散组合物B1替换成在比较例26～28中得到的颜料分散组合物B28～B30以外，其它与实施例312同样地进行，调制出光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)，并与实施例198同样地进行评价。
(比较例56～58)
除了在实施例325中，将实施例185中得到的颜料分散组合物B14替换成在比较例30～32中得到的颜料分散组合物B32～B34以外，其它与实施例325同样地进行，调制出光固化性组合物(彩色抗蚀剂液)，并与实施例198同样地进行评价。
将上述实施例198～337、和比较例33～58中使用的颜料分散组合物、和评价结果一并示于下表9～12中。
[表9]
Figure G2007800094346D01011
[表10]
[表11]
实施例 组合物 Y值 x值 y值 对比度 实施例 组合物 Y值 x值 y值 对比度
312 B1 10.1 0.140 0.090 1000 325 B14 10.1 0.140 0.090 1050
313 B2 10.0 0.140 0.090 1000 326 B15 10.0 0.140 0.090 1000
314 B3 9.9 0.140 0090 1000 327 B16 9.9 0.140 0.090 1050
315 B4 10.o 0.140 0.090 1000 328 B17 10.0 0140 0.080 1050
316 B5 10.1 0.140 0090 1000 329 B18 10.0 0.140 0.090 1050
317 B6 10.0 o.140 0.090 1000 330 B19 10.0 0.140 0.090 1050
318 B7 9.8 0.140 0.090 950 331 B20 10.0 0.140 0.090 1050
319 B8 9.8 0.140 0.090 950 332 B21 10.1 0.140 0.090 1000
320 89 9.8 0.140 0.090 950 333 B22 10.0 0.140 0.090 1050
321 B10 10.0 0.140 0.090 1000 334 B23 9.8 0.140 0.090 1000
322 B11 9.9 0.140 0.090 950 335 B24 9.8 0.140 0090 1000
323 B12 9.8 0.140 0.090 950 336 B25 10.0 0.140 0.090 1050
324 B13 9.7 0.140 0.090 900 337 B26 10.0 0.140 0.090 1050
[表12]
Figure G2007800094346D01031
如上表所示，在实施例中粘度低，得到了高对比度，本发明的高分子化合物显示出了作为颜料分散剂的优异的分散性和分散稳定性。推测可以得到高对比度是由于颜料粒子以细微化状态分散的缘故。与此相对的是，比较例不仅不能抑制为低粘度，而且透射率低，在对比度方面也不好。
另外，如上述表9～12所示，含有本发明的高分子化合物(颜料分散剂)的颜料分散组合物、和使用含有该颜料分散组合物的光固化性组合物而制作出的着色滤波基板(滤色器)均具有高透射率，颜色特性良好，同时可以得到高对比度。与此相对的是，比较例在对比度方面明显不好。
本说明书中通过参照而援引了日本专利申请2006-075434、日本专利申请2006-075558、日本专利申请2006-269707的全部公开内容。
本说明书中记载的所有文献、专利申请、和技术标准通过参照而引入到本说明书中，其与各自的文献、专利申请、和技术标准通过参照而援引的内容被具体且分别记载的情况是同等程度。

Claims (16)

1.一种高分子化合物，其特征在于，以下述通式(2)表示，
Figure FSB00000359056400011
通式(2)
式中，R3表示(m+n)价的有机连接基团，R4、R5各自独立地表示单键或2价的有机连接基团，A2表示含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基和羟基中的至少一种部位的1价有机基团，n个A2、R4各自独立，为相同或不同，m表示1～8，n表示2～9，m+n等于3～10，P2表示高分子骨架，m个P2、R5表示相同的高分子骨架。
2.根据权利要求1所述的高分子化合物，其特征在于，所述A2表示含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基和碳原子数为4以上的烃基中的至少一种部位的1价有机基团。
3.根据权利要求1所述的高分子化合物，其特征在于，所述P2所示的高分子骨架来自选自乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨酯系聚合物、酰胺系聚合物、环氧系聚合物、硅氧烷系聚合物中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的高分子化合物，其特征在于，重均分子量是3000～100000。
5.根据权利要求1所述的高分子化合物，其是在下述通式(3)所示的化合物的存在下进行自由基聚合反应得到的，
Figure FSB00000359056400012
通式(3)
式中，R6表示(m+n)价的有机连接基团，R7表示单键或2价的有机连接基团，A3表示含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基中的至少一种部位的1价有机基团，n个A3、R7各自独立，为相同或不同，m表示1～8，n表示2～9，m+n等于3～10。
6.根据权利要求1所述的高分子化合物，其特征在于，所述通式(2)中的R3是选自下述具体例(3)～(9)、(12)～(17)中的有机连接基团，
Figure FSB00000359056400021
7.根据权利要求1所述的高分子化合物，其特征在于，所述通式(2)中的R5是单键或者选自亚乙基、亚丙基、下述基团(a)和下述基团(b)中的2价有机连接基团，在下述基团中，R25表示氢原子或甲基，l表示1或2，
Figure FSB00000359056400031
8.根据权利要求5所述的高分子化合物，其中，所述通式(3)中的R6是选自下述具体例(3)～(9)、(12)～(17)中的有机连接基团，
9.权利要求1所述的高分子化合物的制造方法，其特征在于，以下述通式(3)所示的化合物为链转移剂进行自由基聚合反应，
Figure FSB00000359056400041
通式(3)
式中，R6表示(m+n)价的有机连接基团，R7表示单键或2价的有机连接基团，A3表示含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基和羟基中的至少一种部位的1价有机基团，n个A3、R7各自独立，为相同或不同，m表示1～8，n表示2～9，m+n等于3～10。
10.根据权利要求9所述的高分子化合物的制造方法，其中，所述通式(3)中的R6是选自下述具体例(3)～(9)、(12)～(17)中的有机连接基团，
Figure FSB00000359056400042
11.根据权利要求9所述的高分子化合物的制造方法，其特征在于，所述通式(3)所示的化合物是下述化合物a与化合物b的加成反应生成物：
化合物a是一分子中具有3～10个巯基的化合物，
化合物b是含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基、和羟基中的至少一种部位，且含有可与巯基反应的官能团的化合物。
12.一种颜料分散剂，含有权利要求1～5中任一项所述的高分子化合物。
13.一种颜料分散组合物，其在有机溶剂中含有颜料和权利要求12所述的颜料分散剂。
14.一种光固化性组合物，含有权利要求13所述的颜料分散组合物、碱溶性树脂、光聚合性化合物和光聚合引发剂。
15.一种滤色器，其特征在于，使用权利要求14所述的光固化性组合物而形成。
16.一种滤色器的制造方法，其是将权利要求14所述的光固化性组合物直接或介由其它的层赋予在基板上以形成感光性膜，并在形成的感光性膜上通过进行图案曝光和显影来形成着色图案。
CN2007800094346A 2006-03-17 2007-03-13 高分子化合物和其制造方法、颜料分散剂、颜料分散组合物、光固化性组合物、滤色器和其制造方法 Active CN101405310B (zh)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006075558 2006-03-17
JP075434/2006 2006-03-17
JP2006075434 2006-03-17
JP075558/2006 2006-03-17
JP269707/2006 2006-09-29
JP2006269707A JP5171005B2 (ja) 2006-03-17 2006-09-29 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤
PCT/JP2007/054948 WO2007108367A1 (ja) 2006-03-17 2007-03-13 高分子化合物およびその製造方法、顔料分散剤、顔料分散組成物、光硬化性組成物、並びにカラーフィルタおよびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101405310A CN101405310A (zh) 2009-04-08
CN101405310B true CN101405310B (zh) 2011-04-20

Family

ID=38522399

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007800094346A Active CN101405310B (zh) 2006-03-17 2007-03-13 高分子化合物和其制造方法、颜料分散剂、颜料分散组合物、光固化性组合物、滤色器和其制造方法

Country Status (7)

Country Link
US (2) US8808947B2 (zh)
EP (1) EP2006310A2 (zh)
JP (1) JP5171005B2 (zh)
KR (2) KR101473812B1 (zh)
CN (1) CN101405310B (zh)
TW (1) TW200745183A (zh)
WO (1) WO2007108367A1 (zh)

Families Citing this family (74)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008007772A (ja) * 2006-06-02 2008-01-17 Fujifilm Corp 顔料分散組成物、それを用いた着色感光性樹脂組成物、インクジェットインク、および感光性樹脂転写材料、それらを用いたカラーフィルタ、液晶表示装置、およびｃｃｄデバイス
US20080233307A1 (en) * 2007-02-09 2008-09-25 Chisso Corporation Photocurable inkjet ink
JP5243072B2 (ja) * 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
KR101037782B1 (ko) * 2007-04-05 2011-05-27 주식회사 엘지화학 컬러필터의 제조방법 및 이에 의해 제조된 컬러필터
JP5213375B2 (ja) 2007-07-13 2013-06-19 富士フイルム株式会社 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
JP2009079148A (ja) * 2007-09-26 2009-04-16 Fujifilm Corp 加工顔料、顔料分散組成物、着色感光性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子
JP5244354B2 (ja) * 2007-09-14 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、並びに、それを用いたインクジェット記録方法及び印刷物
JP4959495B2 (ja) * 2007-09-27 2012-06-20 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、それを用いた着色パターン、及び、カラーフィルタ
JP5334403B2 (ja) * 2007-10-31 2013-11-06 富士フイルム株式会社 処理顔料、顔料分散組成物、着色感光性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
US20090214797A1 (en) * 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
US8362140B2 (en) 2008-03-17 2013-01-29 Fujifilm Corporation Pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, photocurable composition, color filter, liquid crystal display device, and solid-state image pickup device
JP2009256572A (ja) * 2008-03-17 2009-11-05 Fujifilm Corp 顔料分散組成物、着色感光性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子
JP5241283B2 (ja) * 2008-03-24 2013-07-17 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置、および固体撮像素子
JP5189393B2 (ja) * 2008-03-31 2013-04-24 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物
JP2010077402A (ja) * 2008-08-29 2010-04-08 Fujifilm Corp 顔料分散組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
JP5393090B2 (ja) * 2008-09-26 2014-01-22 富士フイルム株式会社 顔料分散物、及びそれを用いたインク組成物
SG172999A1 (en) * 2009-01-16 2011-08-29 Fujifilm Electronic Materials Nonpolymeric binders for semiconductor substrate coatings
TWI495957B (zh) 2009-08-28 2015-08-11 Fujifilm Corp 感光化射線或感放射線樹脂組成物及使用該組成物之圖案形成方法
US8778235B2 (en) 2009-09-29 2014-07-15 Fujifilm Corporation Colorant multimer, colored curable composition, color filter and method for producing the same, and solid-state image sensor, image display device, liquid crystal display device and organic EL display with the color filter
JP2012003225A (ja) 2010-01-27 2012-01-05 Fujifilm Corp ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法
US8642709B2 (en) 2010-03-23 2014-02-04 Henkel Ag & Co. Kgaa Epoxy resin composition with reduced toxicity
JP5484173B2 (ja) * 2010-04-20 2014-05-07 富士フイルム株式会社 着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置
DE102010028586A1 (de) 2010-05-05 2011-11-10 Henkel Ag & Co. Kgaa 1K-Epoxidharzzusammensetzung mit verringerter Toxizität
CN103052681B (zh) * 2010-08-02 2015-11-25 汉高股份有限及两合公司 用于环氧树脂的固化剂
JP5417364B2 (ja) 2011-03-08 2014-02-12 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用硬化性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法
JP5587231B2 (ja) * 2011-03-25 2014-09-10 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法。
WO2013038974A1 (en) 2011-09-14 2013-03-21 Fujifilm Corporation Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor
JP5934664B2 (ja) 2012-03-19 2016-06-15 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP5775479B2 (ja) 2012-03-21 2015-09-09 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
KR102057483B1 (ko) * 2012-06-28 2019-12-19 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 경화물과 그 제조 방법, 수지 패턴 제조 방법, 경화막, 액정 표시 장치, 유기 ｅｌ 표시 장치, 및 터치패널 표시 장치
JP5894943B2 (ja) * 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
JP5894944B2 (ja) * 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 化合物及び分散組成物
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
JP6012750B2 (ja) * 2012-10-26 2016-10-25 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化物の製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、有機ｅｌ表示装置、液晶表示装置、並びに、タッチパネル表示装置
WO2014084289A1 (ja) 2012-11-30 2014-06-05 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ
JP6140593B2 (ja) 2012-11-30 2017-05-31 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ
JP6170673B2 (ja) 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー
JP6343446B2 (ja) 2012-12-28 2018-06-13 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子
WO2014104136A1 (ja) 2012-12-28 2014-07-03 富士フイルム株式会社 赤外線反射膜形成用の硬化性樹脂組成物、赤外線反射膜及びその製造方法、並びに赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子
JP6061728B2 (ja) * 2013-02-27 2017-01-18 株式会社オートネットワーク技術研究所 ラジカル、アニオン併用型光硬化材料
JP6097128B2 (ja) * 2013-04-12 2017-03-15 富士フイルム株式会社 遠赤外線遮光層形成用組成物
EP2821436A1 (en) * 2013-07-01 2015-01-07 Allnex Belgium, S.A. Transparent composite composition
JP6114235B2 (ja) * 2013-07-03 2017-04-12 富士フイルム株式会社 赤外線遮光組成物、赤外線遮光層、赤外線カットフィルタ、カメラモジュール
JP6162084B2 (ja) 2013-09-06 2017-07-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素
JP5940618B2 (ja) * 2013-09-27 2016-06-29 富士フイルム株式会社 磁気記録媒体用磁性塗料組成物および磁気記録媒体
TWI652297B (zh) * 2013-11-15 2019-03-01 富士軟片股份有限公司 硬化性組成物、硬化膜的製造方法、硬化膜及顯示裝置
JP6162165B2 (ja) 2014-03-31 2017-07-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、有機エレクトロルミネッセンス素子、色素および色素の製造方法
JP6307164B2 (ja) 2014-08-29 2018-04-04 富士フイルム株式会社 顔料分散液、顔料分散液の製造方法、着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および組成物
KR102027797B1 (ko) * 2014-08-29 2019-10-02 후지필름 가부시키가이샤 착색 조성물, 컬러 필터, 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 색소 다량체의 제조 방법
KR101920742B1 (ko) 2014-09-03 2018-11-21 후지필름 가부시키가이샤 착색 조성물, 경화막, 컬러 필터, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 및 화상 표시 장치
JP6374014B2 (ja) * 2014-09-30 2018-08-15 富士フイルム株式会社 チオール化合物、チオール化合物の製造方法、ポリマー、組成物、硬化性組成物、着色組成物、硬化膜およびカラーフィルタ
JP6416370B2 (ja) * 2015-02-27 2018-10-31 富士フイルム株式会社 固体電解質組成物、電池用電極シート及びその製造方法、並びに全固体二次電池及びその製造方法
JP6560882B2 (ja) * 2015-03-27 2019-08-14 イー インク コーポレイション 電気泳動分散液、電気泳動シート、電気泳動装置および電子機器
KR102363104B1 (ko) * 2015-08-31 2022-02-15 후지필름 가부시키가이샤 착색 감광성 조성물, 경화막, 컬러 필터, 차광막, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치, 및 경화막의 제조 방법
TW201728694A (zh) * 2015-11-17 2017-08-16 Fujifilm Corp 硬化性組成物、光學濾波器、彩色濾光片、圖案形成方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置
EP3431513B1 (en) 2016-03-14 2020-12-23 FUJIFILM Corporation Composition, film, cured film, optical sensor and method for producing film
JPWO2018012253A1 (ja) * 2016-07-15 2019-04-25 日産化学株式会社 ヒダントイン環を有する化合物を含むレジスト下層膜形成組成物
CN109790390B (zh) * 2016-09-27 2022-02-22 富士胶片株式会社 分散液、组合物、膜、膜的制造方法及分散剂
CN110114702B (zh) * 2017-01-17 2022-02-25 Dnp精细化工股份有限公司 滤色器用色材分散液、滤色器用着色树脂组合物、滤色器及显示设备
KR102302380B1 (ko) 2017-03-07 2021-09-15 후지필름 가부시키가이샤 조성물, 막, 광 센서 및 분산제
KR102300781B1 (ko) 2017-08-31 2021-09-10 후지필름 가부시키가이샤 경화성 조성물, 경화물, 컬러 필터, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치
JP7120453B2 (ja) * 2019-03-29 2022-08-17 三菱ケミカル株式会社 高分子化合物及びその製造方法、組成物及びその製造方法、樹脂組成物、潤滑油用添加剤並びに潤滑油
KR102214920B1 (ko) * 2019-05-31 2021-02-10 (주)세경하이테크 다양한 색상 및 패턴 표현이 가능한 터치 윈도우용 데코필름
JP7237166B2 (ja) 2019-08-29 2023-03-10 富士フイルム株式会社 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物
EP4024096A4 (en) 2019-08-30 2022-12-14 FUJIFILM Corporation COMPOSITION, FILM, OPTICAL FILTER AND PRODUCTION METHOD THEREOF, SEMICONDUCTOR IMAGING ELEMENT, INFRARED SENSOR AND SENSOR MODULE
TW202112837A (zh) 2019-09-26 2021-04-01 日商富士軟片股份有限公司 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法
CN112724349A (zh) * 2019-10-28 2021-04-30 立邦涂料（中国）有限公司 新型聚合物及其用途
CN111171885A (zh) * 2019-12-23 2020-05-19 安徽鑫固环保股份有限公司 一种梳型水煤浆分散剂及其制备方法
CN111139111A (zh) * 2019-12-23 2020-05-12 安徽鑫固环保股份有限公司 一种梳型水煤浆添加剂及其制备方法
KR102586093B1 (ko) * 2020-04-16 2023-10-05 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터
CN117999294A (zh) * 2021-09-22 2024-05-07 富士胶片株式会社 化合物、聚合性组合物及固化物
CN114904739B (zh) * 2022-06-16 2023-04-14 广东百安环保新材料有限公司 一种用于钢结构的水性防火涂料及其制备方法
CN115057962A (zh) * 2022-06-24 2022-09-16 深圳市邦得凌半导体材料有限公司 分散树脂及其制备方法和光阻剂组合物

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5492965A (en) * 1991-11-04 1996-02-20 Rohm And Haas Company Compositions containing block copolymers composed of latent thiol mercaptan chain transfer agents
CN1258699A (zh) * 1998-12-28 2000-07-05 大日精化工业株式会社 用于彩色滤光片的颜料分散体、彩色滤光片的制造方法和彩色滤光片
US6866902B2 (en) * 2002-04-09 2005-03-15 Eastman Kodak Company Ink recording element containing stabilized polymeric particles

Family Cites Families (133)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US410201A (en) 1889-09-03 Bent for suspension-bridges
US339049A (en) 1886-03-30 Sole-edge-burnishing
US161811A (en) 1875-04-06 Improvement in mechanisms for feeding heel-stiffeners or counter-blanks
GB763288A (en) 1954-06-16 1956-12-12 Kodak Ltd Improvements in photo mechanical processes and materials therefor
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
US2852379A (en) 1955-05-04 1958-09-16 Eastman Kodak Co Azide resin photolithographic composition
US2940853A (en) 1958-08-21 1960-06-14 Eastman Kodak Co Azide sensitized resin photographic resist
US3479185A (en) 1965-06-03 1969-11-18 Du Pont Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers
JPS4420189B1 (zh) 1965-06-03 1969-08-30
DK125218B (da) 1967-11-09 1973-01-15 Kalle Ag Lysfølsomt optegnelsesmateriale og lysfølsom blanding til anvendelse ved fremstilling af materialet.
US3547651A (en) 1968-04-02 1970-12-15 Du Pont Photopolymerizable compositions containing organometal compounds
DE2033769B2 (de) 1969-07-11 1980-02-21 Ppg Industries, Inc., Pittsburgh, Pa. (V.St.A.) Bis-<2-acryloxyäthyl)hexahydrophthalat enthaltende Gemische und Herstellungsverfahren
JPS4841708B1 (zh) 1970-01-13 1973-12-07
DE2053683A1 (de) 1970-11-02 1972-05-10 Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich Photopolymerisierbare Kopiermasse
DE2064080C3 (de) 1970-12-28 1983-11-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US3987037A (en) 1971-09-03 1976-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
JPS5324989B2 (zh) 1971-12-09 1978-07-24
US3905815A (en) 1971-12-17 1975-09-16 Minnesota Mining & Mfg Photopolymerizable sheet material with diazo resin layer
JPS5230490B2 (zh) 1972-03-21 1977-08-09
US3844790A (en) 1972-06-02 1974-10-29 Du Pont Photopolymerizable compositions with improved resistance to oxygen inhibition
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
DE2363806B2 (de) 1973-12-21 1979-05-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
GB1512982A (en) 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Salts
JPS5311314B2 (zh) 1974-09-25 1978-04-20
ZA757984B (en) 1974-10-04 1976-12-29 Dynachem Corp Polymers for aqueous processed photoresists
DE2458345C3 (de) 1974-12-10 1979-08-23 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Durch UV-Licht härtbare Überzugsmassen und Druckfarben
ZA757987B (en) 1975-12-23 1976-12-29 Dynachem Corp Adhesion promoters for polymerizable films
JPS5928203B2 (ja) 1976-05-04 1984-07-11 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US4173476A (en) 1978-02-08 1979-11-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
JPS6053300B2 (ja) 1978-08-29 1985-11-25 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物
US4311783A (en) 1979-08-14 1982-01-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5,-triphenylimidazole compounds as photoinitiators
DE2944866A1 (de) 1979-11-07 1981-05-21 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
DE2952698A1 (de) 1979-12-29 1981-07-02 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
DE2952697A1 (de) 1979-12-29 1981-07-02 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches kopiermaterial
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3120052A1 (de) 1981-05-20 1982-12-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial
DE3223104A1 (de) 1982-06-21 1983-12-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
JPS595241A (ja) 1982-06-21 1984-01-12 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 放射線重合可能な混合物
JPS5944615A (ja) 1982-09-07 1984-03-13 Furuno Electric Co Ltd ジヤイロ装置
US4518676A (en) 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
JPS5953836A (ja) 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS5971048A (ja) 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
NL8300155A (nl) 1983-01-17 1984-08-16 Philips Nv Registratie-element met een pyrylium- of thiopyrylium-squarylium kleurstoflaag en nieuwe pyrylium- of thiopyrylium-squarylium verbindingen.
DE3471595D1 (en) 1983-01-20 1988-07-07 Ciba Geigy Ag Electron-beam curing method for coatings
US4590287A (en) 1983-02-11 1986-05-20 Ciba-Geigy Corporation Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same
DE3331157A1 (de) 1983-08-30 1985-03-14 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Photopolymerisierbare mischungen, enthaltend tertiaere amine als photoaktivatoren
JPH0629285B2 (ja) 1983-10-14 1994-04-20 三菱化成株式会社 光重合性組成物
JPS60239736A (ja) 1984-05-14 1985-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US4713401A (en) 1984-12-20 1987-12-15 Martin Riediker Titanocenes and a radiation-polymerizable composition containing these titanocenes
JPS61169837A (ja) 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JP2525568B2 (ja) 1985-01-18 1996-08-21 富士写真フイルム株式会社 光可溶化組成物
JPS61169835A (ja) 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
GB2180358B (en) 1985-07-16 1989-10-04 Mead Corp Photosensitive microcapsules and their use on imaging sheets
JPH0766185B2 (ja) 1985-09-09 1995-07-19 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US4622286A (en) 1985-09-16 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer
CA1284740C (en) 1985-11-20 1991-06-11 Peter Gottschalk Photosensitive materials containing ionic dye compounds as initiators
US4772541A (en) 1985-11-20 1988-09-20 The Mead Corporation Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
DE3604581A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien
JPS62212401A (ja) 1986-03-14 1987-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US4857654A (en) 1986-08-01 1989-08-15 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes and their use
JPS6370243A (ja) 1986-09-11 1988-03-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
DE3710282A1 (de) 1987-03-28 1988-10-13 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3710281A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3710279A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
JPH0743536B2 (ja) 1987-05-29 1995-05-15 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE3721740A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen
DE3721741A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien
DE3738864A1 (de) 1987-11-16 1989-05-24 Hoechst Ag Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
US5026625A (en) 1987-12-01 1991-06-25 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes, the use thereof, and n-substituted fluoroanilines
JPH01152109A (ja) 1987-12-09 1989-06-14 Toray Ind Inc 光重合性組成物
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
EP0334338A3 (en) 1988-03-24 1990-06-20 Dentsply International, Inc. Titanate initiators for light cured compositions
DE3817424A1 (de) 1988-05-21 1989-11-23 Hoechst Ag Alkenylphosphon- und -phosphinsaeureester, verfahren zu ihrer herstellung und durch strahlung polymerisierbares gemisch, das diese verbindungen enthaelt
JP2757375B2 (ja) 1988-06-02 1998-05-25 東洋紡績株式会社 光重合性組成物
CA2002873A1 (en) 1988-11-21 1990-05-21 Franklin Donald Saeva Onium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
DE3843205A1 (de) 1988-12-22 1990-06-28 Hoechst Ag Photopolymerisierbare verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US5040237A (en) 1989-03-31 1991-08-13 E. F. Johnson Company Method and apparatus for an alternate home channel for a land mobile transmission trunked communication system
JPH02296514A (ja) 1989-05-12 1990-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 車両用サスペンション制御装置
CA2011515C (en) 1990-03-05 1994-10-11 Roger Boulanger Method for producing a non-woven fabric with a thermally activated adhesive surface, resulting product and applications thereof
JP2993088B2 (ja) 1990-09-29 1999-12-20 大日本インキ化学工業株式会社 顔料分散剤及び顔料組成物
JPH04365049A (ja) 1991-06-12 1992-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JP2764769B2 (ja) 1991-06-24 1998-06-11 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH0583588A (ja) 1991-09-24 1993-04-02 Omron Corp 画像処理装置
JPH05142772A (ja) 1991-11-26 1993-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
DE69320241T2 (de) 1992-05-06 1999-04-29 Kyowa Hakko Kogyo Kk Chemisch amplifizierte Resistzusammensetzung
JP2929858B2 (ja) 1992-08-14 1999-08-03 東洋インキ製造株式会社 重合性組成物および重合方法
JPH06175553A (ja) 1992-12-03 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175554A (ja) 1992-12-03 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd 体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175561A (ja) 1992-12-04 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175564A (ja) 1992-12-04 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録材料及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JP3112771B2 (ja) 1993-04-19 2000-11-27 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH06348011A (ja) 1993-06-04 1994-12-22 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光重合性組成物
JP3455915B2 (ja) 1993-09-24 2003-10-14 Ｊｓｒ株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
JPH07128785A (ja) 1993-11-02 1995-05-19 Konica Corp 画像形成材料及び画像形成方法
JPH07140589A (ja) 1993-11-19 1995-06-02 Konica Corp 画像形成材料および画像形成方法
JP3321288B2 (ja) 1994-04-25 2002-09-03 日本ペイント株式会社 近赤外光重合性組成物
JPH07306527A (ja) 1994-05-11 1995-11-21 Konica Corp 画像形成材料及び画像形成方法
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
JPH0977994A (ja) 1995-09-18 1997-03-25 Toyo Ink Mfg Co Ltd 非水系用顔料分散剤、およびそれを含有する顔料組成物、ならびに非水系顔料分散体
JPH0977987A (ja) 1995-09-11 1997-03-25 Toyo Ink Mfg Co Ltd 非水系用顔料分散剤、およびそれを含有する顔料組成物、ならびに非水系顔料分散体
AU717137B2 (en) 1995-11-24 2000-03-16 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Borate coinitiators for photopolymerization
MY132867A (en) 1995-11-24 2007-10-31 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc Acid-stable borates for photopolymerization
TW467933B (en) 1995-11-24 2001-12-11 Ciba Sc Holding Ag Photopolymerizable compositions comprising borate photoinitiators from monoboranes and the use thereof
US5942555A (en) * 1996-03-21 1999-08-24 Surmodics, Inc. Photoactivatable chain transfer agents and semi-telechelic photoactivatable polymers prepared therefrom
JP3268748B2 (ja) 1996-12-16 2002-03-25 大日精化工業株式会社 顔料の分散剤、顔料分散液、カラーフイルター用顔料分散液
JPH11271969A (ja) 1998-01-21 1999-10-08 Mitsubishi Chemical Corp 光重合性組成物及び感光性平版印刷版
SG77689A1 (en) 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
JP3889530B2 (ja) 1998-08-17 2007-03-07 コダックポリクロームグラフィックス株式会社 光重合性組成物、光重合性平版印刷版及び画像形成方法
DK199901098A (da) 1998-08-18 2000-02-19 Ciba Sc Holding Ag Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse
JP2000187322A (ja) 1998-10-15 2000-07-04 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性組成物、画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法
JP2000310808A (ja) 1999-04-26 2000-11-07 Canon Inc 照明装置及びそれを用いた撮影装置
JP2001132318A (ja) 1999-10-29 2001-05-15 Oi Seisakusho Co Ltd 車両用開閉体の開閉装置
JP2001125255A (ja) 1999-10-27 2001-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2001242612A (ja) 2000-03-01 2001-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP4129113B2 (ja) 2000-08-21 2008-08-06 京セラ株式会社 画像形成機
JP4191887B2 (ja) 2000-09-27 2008-12-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2002273191A (ja) 2001-03-21 2002-09-24 Dainippon Printing Co Ltd 顔料分散剤および感光性着色組成物
JP2002328465A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
CN100528838C (zh) 2001-06-11 2009-08-19 西巴特殊化学品控股有限公司 具有复合结构的肟酯光引发剂
JP2006052168A (ja) * 2004-08-12 2006-02-23 Konishi Co Ltd 新規メルカプトシラン化合物、それを用いた硬化性樹脂、及び、それを用いた硬化性樹脂組成物
JP2006075558A (ja) 2004-09-09 2006-03-23 Haruki Yokono 歯ブラシ
JP2006075434A (ja) 2004-09-10 2006-03-23 Bandai Co Ltd ランキングシステム、ランキング表示装置及びその制御方法、並びにコンピュータプログラム及びそれを格納したコンピュータ読取可能な記憶媒体
JP2006241233A (ja) * 2005-03-01 2006-09-14 Mitsubishi Rayon Co Ltd レジスト用重合体の製造方法、レジスト用重合体、レジスト用組成物、およびパターン製造方法
JP2006269707A (ja) 2005-03-24 2006-10-05 Cmk Corp プリント配線板の製造方法
JP5243072B2 (ja) * 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5492965A (en) * 1991-11-04 1996-02-20 Rohm And Haas Company Compositions containing block copolymers composed of latent thiol mercaptan chain transfer agents
CN1258699A (zh) * 1998-12-28 2000-07-05 大日精化工业株式会社 用于彩色滤光片的颜料分散体、彩色滤光片的制造方法和彩色滤光片
US6866902B2 (en) * 2002-04-09 2005-03-15 Eastman Kodak Company Ink recording element containing stabilized polymeric particles

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP特开2006-241233A 2006.09.14
JP特开2006-52168A 2006.02.23

Also Published As

Publication number Publication date
US20140175348A1 (en) 2014-06-26
KR101473812B1 (ko) 2014-12-17
KR101395070B1 (ko) 2014-05-16
KR20090007705A (ko) 2009-01-20
WO2007108367A1 (ja) 2007-09-27
KR20140007966A (ko) 2014-01-20
JP2007277514A (ja) 2007-10-25
US20100233595A1 (en) 2010-09-16
US8808947B2 (en) 2014-08-19
EP2006310A9 (en) 2009-07-22
CN101405310A (zh) 2009-04-08
US8921018B2 (en) 2014-12-30
TW200745183A (en) 2007-12-16
JP5171005B2 (ja) 2013-03-27
EP2006310A2 (en) 2008-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101405310B (zh) 高分子化合物和其制造方法、颜料分散剂、颜料分散组合物、光固化性组合物、滤色器和其制造方法
CN101265368B (zh) 颜料分散组合物、光固化性组合物、滤色片及其制造方法
CN101343422B (zh) 颜料分散液、可固化组合物、滤色器和固态成像器件
CN101925636B (zh) 树脂、颜料分散液、着色固化性组合物、使用其制造的滤色片及其制造方法
TWI460234B (zh) 顏料分散組成物、顏料分散組成物之製法、著色聚合性組成物、彩色濾光片、及彩色濾光片之製法
CN101971094B (zh) 着色固化性组合物、滤色器和滤色器的制造方法
US8778575B2 (en) Curable composition, color filter using the same and manufacturing method therefor, and solid image pickup element
CN101134800B (zh) 颜料分散组合物、光固化性组合物、滤色器及滤色器的制造方法
CN102236256B (zh) 着色感光性树脂组合物、图案形成方法、滤色器及其制造方法、及显示装置
TWI442178B (zh) 硬化性組成物、使用該硬化性組成物之彩色濾光片及其製造方法、及固態攝影元件
KR20090124938A (ko) 착색 경화성 조성물, 컬러 필터 및 고체촬상소자
CN101646730A (zh) 颜料分散组合物、光固化性组合物、滤色片、以及滤色片的制造方法
CN101680984B (zh) 滤色片用固化性组合物及其制造方法、着色固化性树脂组合物、着色图案及其形成方法、滤色片及其制造方法、以及液晶显示元件
KR20080096472A (ko) 착색 광중합성 조성물, 이것을 사용한 컬러 필터 및 컬러필터의 제조 방법
CN101109901A (zh) 固化性组合物、滤色器、及其制造方法
CN101842444A (zh) 颜料分散组合物、着色固化性组合物、滤色器及其制造方法
KR20100015665A (ko) 안료 분산 조성물, 경화성 조성물, 컬러 필터 및 그 제조방법
TWI476512B (zh) 著色可硬化性組成物、彩色濾光器之彩色區域、彩色濾光器與彩色濾光器之製造方法以及固態影像拾取元件
EP2105793B1 (en) Green curable composition, color filter and method of producing same
CN102093752A (zh) 颜料分散组合物、着色感光性组合物、滤色器及其制造方法、液晶显示装置和固体摄像元件
CN101196685B (zh) 滤色器用着色固化性组合物、滤色器及其制造方法
CN101276147A (zh) 着色图案形成用组合物、着色图案形成方法、滤色器及其制造方法、以及液晶显示元件
CN101657739A (zh) 滤色器、液晶显示装置以及在其制造中使用的固化性组合物
CN101398497B (zh) 滤色器及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant