JP2008032899A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008032899A5
JP2008032899A5 JP2006204624A JP2006204624A JP2008032899A5 JP 2008032899 A5 JP2008032899 A5 JP 2008032899A5 JP 2006204624 A JP2006204624 A JP 2006204624A JP 2006204624 A JP2006204624 A JP 2006204624A JP 2008032899 A5 JP2008032899 A5 JP 2008032899A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
common potential
potential line
pixel
outer periphery
liquid crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006204624A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4449953B2 (ja
JP2008032899A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2006204624A external-priority patent/JP4449953B2/ja
Priority to JP2006204624A priority Critical patent/JP4449953B2/ja
Priority to TW096124419A priority patent/TWI369558B/zh
Priority to US11/878,579 priority patent/US20080024416A1/en
Priority to KR1020070075037A priority patent/KR100884126B1/ko
Priority to CNB2007101392005A priority patent/CN100510913C/zh
Publication of JP2008032899A publication Critical patent/JP2008032899A/ja
Publication of JP2008032899A5 publication Critical patent/JP2008032899A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4449953B2 publication Critical patent/JP4449953B2/ja
Priority to US13/493,618 priority patent/US9291863B2/en
Priority to US15/134,677 priority patent/US10126608B2/en
Priority to US15/162,110 priority patent/US9946125B2/en
Priority to US15/423,209 priority patent/US10126609B2/en
Priority to US16/163,794 priority patent/US10802353B2/en
Priority to US16/521,247 priority patent/US10606133B2/en
Priority to US16/521,228 priority patent/US11543708B2/en
Priority to US16/995,368 priority patent/US11143923B2/en
Priority to US17/068,039 priority patent/US11698555B2/en
Priority to US18/196,725 priority patent/US12019339B2/en
Priority to US18/674,187 priority patent/US20240310678A1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (9)

  1. 基板と、
    前記基板上の表示領域に配置された複数の画素と、
    前記表示領域の外周に配置され、共通電位が供給された外周共通電位ラインと、を備え、
    各画素は、画素電極と、この画素電極上に絶縁膜を介して配置され、複数のスリットを有し、複数の画素に跨って配置された共通電極とを備え、
    前記共通電極の端部が前記外周共通電位ラインに接続されたことを特徴とする液晶表示装置。
  2. 基板と、
    前記基板上の表示領域に配置された複数の画素と、
    前記表示領域の外周に配置され、共通電位が供給された外周共通電位ラインと、を備え、
    各画素は、複数の画素に跨って配置された共通電極と、この共通電極上に絶縁膜を介して配置され、複数のスリットを有する画素電極とを備え、
    前記共通電極の端部が前記外周共通電位ラインに接続されたことを特徴とする液晶表示装置。
  3. 前記外周共通電位ラインは前記スリットの長手方向と外周辺とがなす角の狭角が大きい方の外周辺に配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。
  4. 前記外周共通電位ラインは前記スリットの長手方向に垂直に配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。
  5. 前記外周共通電位ラインは少なくとも前記表示領域の一辺に沿って前記表示領域の外周に配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。
  6. 前記外周共通電位ラインは表示領域を囲んでおり、前記表示領域と前記外周共通電位ラインとの間のスペースに、前記画素に表示信号を供給する表示信号ラインの制御回路、又は前記画素にゲート信号を供給するゲートラインの制御回路を配置したことを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。
  7. 前記外周共通電位ラインは前記画素に表示信号を供給する表示信号ラインと同じ層であることを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6のいずれかに記載の液晶表示装置。
  8. 前記画素電極に画素選択用の薄膜トランジスタが接続されていることを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6のいずれかに記載の液晶表示装置。
  9. 前記共通電極は前記表示領域において一体で形成されていることを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6のいずれかに記載の液晶表示装置。
JP2006204624A 2006-07-27 2006-07-27 液晶表示装置 Active JP4449953B2 (ja)

Priority Applications (16)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006204624A JP4449953B2 (ja) 2006-07-27 2006-07-27 液晶表示装置
TW096124419A TWI369558B (en) 2006-07-27 2007-07-05 Liquid crystal display device
US11/878,579 US20080024416A1 (en) 2006-07-27 2007-07-25 Liquid crystal display device
KR1020070075037A KR100884126B1 (ko) 2006-07-27 2007-07-26 액정 표시 장치
CNB2007101392005A CN100510913C (zh) 2006-07-27 2007-07-27 液晶显示装置
US13/493,618 US9291863B2 (en) 2006-07-27 2012-06-11 Liquid crystal display device
US15/134,677 US10126608B2 (en) 2006-07-27 2016-04-21 Liquid crystal display device
US15/162,110 US9946125B2 (en) 2006-07-27 2016-05-23 Liquid crystal display device
US15/423,209 US10126609B2 (en) 2006-07-27 2017-02-02 Liquid crystal display device
US16/163,794 US10802353B2 (en) 2006-07-27 2018-10-18 Liquid crystal display device
US16/521,247 US10606133B2 (en) 2006-07-27 2019-07-24 Liquid crystal display device
US16/521,228 US11543708B2 (en) 2006-07-27 2019-07-24 Display device including common line display device including common line
US16/995,368 US11143923B2 (en) 2006-07-27 2020-08-17 Display device
US17/068,039 US11698555B2 (en) 2006-07-27 2020-10-12 Display device
US18/196,725 US12019339B2 (en) 2006-07-27 2023-05-12 Display device
US18/674,187 US20240310678A1 (en) 2006-07-27 2024-05-24 Display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006204624A JP4449953B2 (ja) 2006-07-27 2006-07-27 液晶表示装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008032899A JP2008032899A (ja) 2008-02-14
JP2008032899A5 true JP2008032899A5 (ja) 2008-04-10
JP4449953B2 JP4449953B2 (ja) 2010-04-14

Family

ID=38985665

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006204624A Active JP4449953B2 (ja) 2006-07-27 2006-07-27 液晶表示装置

Country Status (5)

Country Link
US (12) US20080024416A1 (ja)
JP (1) JP4449953B2 (ja)
KR (1) KR100884126B1 (ja)
CN (1) CN100510913C (ja)
TW (1) TWI369558B (ja)

Families Citing this family (82)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4449953B2 (ja) 2006-07-27 2010-04-14 エプソンイメージングデバイス株式会社 液晶表示装置
JP5216204B2 (ja) 2006-10-31 2013-06-19 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置及びその作製方法
JP5275650B2 (ja) * 2008-03-12 2013-08-28 株式会社ジャパンディスプレイウェスト 液晶表示装置
JP2009223245A (ja) 2008-03-19 2009-10-01 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置
JP5348521B2 (ja) 2008-06-27 2013-11-20 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示パネル
JP5348384B2 (ja) * 2008-10-01 2013-11-20 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
TWI613489B (zh) 2008-12-03 2018-02-01 半導體能源研究所股份有限公司 液晶顯示裝置
US20120062451A1 (en) * 2009-05-13 2012-03-15 Katsuhiko Morishita Liquid crystal display device
JP5389529B2 (ja) * 2009-05-20 2014-01-15 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置及びその製造方法
KR20220100086A (ko) 2009-07-10 2022-07-14 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 그 제조 방법
US20110085121A1 (en) * 2009-10-08 2011-04-14 Hydis Technologies Co., Ltd. Fringe Field Switching Mode Liquid Crystal Display Device and Method of Fabricating the Same
KR101790977B1 (ko) * 2010-10-08 2017-10-26 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
KR101891985B1 (ko) * 2010-10-08 2018-08-27 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
CN102129143A (zh) * 2010-12-15 2011-07-20 华映视讯(吴江)有限公司 像素阵列基板及其制造方法
KR101924473B1 (ko) * 2010-12-28 2018-12-03 엘지디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 어레이 기판 및 이의 제조 방법
KR101870986B1 (ko) * 2011-09-19 2018-06-26 엘지디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 어레이 기판 제조방법
CN103946742B (zh) 2011-11-18 2016-08-31 夏普株式会社 半导体装置、显示装置和半导体装置的制造方法
WO2013077262A1 (ja) * 2011-11-25 2013-05-30 シャープ株式会社 液晶表示装置
CN103988288B (zh) 2011-12-05 2016-10-12 夏普株式会社 半导体装置
CN104040416B (zh) 2012-01-11 2017-05-17 夏普株式会社 半导体装置、显示装置和半导体装置的制造方法
EP2816402B1 (en) 2012-02-15 2019-11-20 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display
JP5912668B2 (ja) * 2012-03-01 2016-04-27 シャープ株式会社 液晶ディスプレイ
CN102651342B (zh) 2012-03-13 2014-12-17 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法
CN102790051B (zh) * 2012-07-27 2014-12-10 北京京东方光电科技有限公司 阵列基板及其制备方法、显示装置
CN102944959B (zh) * 2012-11-20 2014-12-24 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、其制作方法、其测试方法及显示装置
CN104813386B (zh) * 2012-11-30 2017-05-31 夏普株式会社 Tft基板
TWI636309B (zh) * 2013-07-25 2018-09-21 日商半導體能源研究所股份有限公司 液晶顯示裝置及電子裝置
TWI506501B (zh) * 2013-08-30 2015-11-01 Ye Xin Technology Consulting Co Ltd 電子裝置
JP5714679B2 (ja) * 2013-10-17 2015-05-07 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
CN103529605A (zh) * 2013-10-29 2014-01-22 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置
WO2015092944A1 (ja) * 2013-12-19 2015-06-25 パナソニック液晶ディスプレイ株式会社 表示装置及び表示装置の製造方法
US9608008B2 (en) 2014-02-21 2017-03-28 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix substrate and method for producing same
JP6400935B2 (ja) * 2014-04-17 2018-10-03 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN105022184A (zh) 2014-04-17 2015-11-04 株式会社日本显示器 显示装置
CN104201178B (zh) * 2014-08-08 2017-04-05 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制备方法、显示装置
CN104216183B (zh) 2014-08-28 2017-08-29 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
CN104280951A (zh) * 2014-09-23 2015-01-14 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法、显示装置
CN105824160B (zh) * 2015-01-08 2020-06-16 群创光电股份有限公司 显示面板
TWI567950B (zh) * 2015-01-08 2017-01-21 群創光電股份有限公司 顯示面板
TWI577000B (zh) 2015-01-21 2017-04-01 群創光電股份有限公司 顯示裝置
KR102381082B1 (ko) * 2015-07-31 2022-03-30 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
US10388676B2 (en) 2015-08-10 2019-08-20 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix substrate and method for producing same, and in-cell touch panel-type display device
TWI564644B (zh) * 2015-08-28 2017-01-01 群創光電股份有限公司 顯示裝置
CN105261621B (zh) * 2015-09-06 2018-01-30 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制作方法、显示装置
CN105204252A (zh) * 2015-09-23 2015-12-30 深超光电(深圳)有限公司 薄膜晶体管阵列基板及液晶显示面板
US10438841B2 (en) 2015-10-13 2019-10-08 Amorphyx, Inc. Amorphous metal thin film nonlinear resistor
KR102473647B1 (ko) * 2015-12-29 2022-12-01 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
TWI561891B (en) * 2016-01-04 2016-12-11 Au Optronics Corp Pixel array substrate
CN108713225B (zh) 2016-03-02 2021-04-13 夏普株式会社 有源矩阵基板以及具备有源矩阵基板的液晶显示装置
US10816865B2 (en) 2016-03-15 2020-10-27 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix substrate
US10725336B2 (en) * 2016-05-20 2020-07-28 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display panel and liquid crystal display device
CN105807523B (zh) 2016-05-27 2020-03-20 厦门天马微电子有限公司 阵列基板、包含其的显示面板和显示装置
TW201743118A (zh) 2016-06-08 2017-12-16 群創光電股份有限公司 顯示面板
WO2018030298A1 (ja) 2016-08-12 2018-02-15 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板および表示装置
WO2018043424A1 (ja) 2016-09-01 2018-03-08 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板および表示装置
CN109690661B (zh) 2016-09-02 2021-01-01 夏普株式会社 有源矩阵基板和具备有源矩阵基板的显示装置
CN109661696B (zh) 2016-09-05 2021-04-13 夏普株式会社 有源矩阵基板及其制造方法
CN106502012A (zh) * 2017-01-03 2017-03-15 深圳市华星光电技术有限公司 Ffs模式的阵列基板及其制作方法
JP6718988B2 (ja) 2017-01-27 2020-07-08 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板およびそれを用いた表示装置
US10950705B2 (en) 2017-02-15 2021-03-16 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix substrate
WO2018163997A1 (ja) 2017-03-09 2018-09-13 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板およびその製造方法
WO2018212100A1 (ja) 2017-05-18 2018-11-22 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板およびその製造方法
CN107422552B (zh) * 2017-08-16 2020-03-27 京东方科技集团股份有限公司 显示基板以及显示装置
CN107302665B (zh) * 2017-08-18 2020-07-24 联想(北京)有限公司 一种摄像装置、光圈调节方法和电子设备
JP2019049590A (ja) 2017-09-08 2019-03-28 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板およびデマルチプレクサ回路
JP2019050323A (ja) 2017-09-12 2019-03-28 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板およびデマルチプレクサ回路
JP7066445B2 (ja) 2018-02-20 2022-05-13 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
JP6496433B2 (ja) * 2018-02-27 2019-04-03 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置
JP6706638B2 (ja) 2018-03-07 2020-06-10 シャープ株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2021520060A (ja) * 2018-03-30 2021-08-12 アモルフィックス・インコーポレイテッド アモルファス金属薄膜トランジスタ
CN108983484A (zh) * 2018-08-06 2018-12-11 深圳市华星光电技术有限公司 一种彩色滤光片及制备方法,显示装置
JP6799123B2 (ja) 2018-09-19 2020-12-09 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板およびその製造方法
WO2020065866A1 (ja) * 2018-09-27 2020-04-02 シャープ株式会社 表示装置
CN109521613A (zh) * 2018-12-24 2019-03-26 上海天马微电子有限公司 一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置
CN109742088B (zh) * 2018-12-29 2021-03-16 武汉华星光电技术有限公司 一种tft阵列基板
US10928691B2 (en) * 2019-02-15 2021-02-23 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix substrate comprising a first contact hole that overlaps with a counter electrode control line and passes through a flattening film and liquid crystal display with the same
JP7471075B2 (ja) 2019-12-17 2024-04-19 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板およびその製造方法
US11557679B2 (en) 2020-03-02 2023-01-17 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix substrate and display device
US12075656B2 (en) 2020-06-12 2024-08-27 Amorphyx, Incorporated Circuits including non-linear components for electronic devices
CN111983862B (zh) * 2020-08-19 2022-07-12 武汉华星光电技术有限公司 阵列基板、阵列基板制作方法及液晶显示面板
JP2023036194A (ja) * 2021-09-02 2023-03-14 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN115437187B (zh) * 2022-11-09 2023-03-24 惠科股份有限公司 阵列基板和显示面板

Family Cites Families (86)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW354380B (en) * 1995-03-17 1999-03-11 Hitachi Ltd A liquid crystal device with a wide visual angle
US6078318A (en) * 1995-04-27 2000-06-20 Canon Kabushiki Kaisha Data transfer method, display driving circuit using the method, and image display apparatus
JP3582193B2 (ja) 1995-12-08 2004-10-27 カシオ計算機株式会社 液晶表示素子
JP3170446B2 (ja) 1996-02-27 2001-05-28 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板及び液晶表示装置
US5852485A (en) * 1996-02-27 1998-12-22 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device and method for producing the same
JPH10133234A (ja) 1996-09-04 1998-05-22 Toshiba Corp 液晶表示装置
US20020075422A1 (en) * 1996-09-19 2002-06-20 Seiko Epson Corporation Matrix type display device and manufacturing method thereof
US6532053B2 (en) 1996-12-18 2003-03-11 Hitachi, Ltd. Transverse electric field system liquid crystal display device suitable for improving aperture ratio
JPH10186351A (ja) 1996-12-24 1998-07-14 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JP4024901B2 (ja) 1997-05-22 2007-12-19 エルジー フィリップス エルシーディー カンパニー リミテッド アクティブマトリックス型液晶表示装置
KR100251512B1 (ko) * 1997-07-12 2000-04-15 구본준 횡전계방식 액정표시장치
KR100280874B1 (ko) 1997-09-12 2001-02-01 구본준 액정패널
JP3831863B2 (ja) * 1997-10-21 2006-10-11 大林精工株式会社 液晶表示装置
WO1999023530A1 (fr) * 1997-10-31 1999-05-14 Seiko Epson Corporation Dispositif electro-optique et appareil electronique
US6577368B1 (en) * 1997-11-03 2003-06-10 Samsung Electronics Co., Ltd. IPS-LCD having a third electrode having aperture and formed on counter substrate
JPH11326928A (ja) * 1998-05-08 1999-11-26 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JP3766563B2 (ja) 1999-05-17 2006-04-12 株式会社日立製作所 液晶表示装置
JP3481509B2 (ja) 1999-06-16 2003-12-22 Nec液晶テクノロジー株式会社 液晶表示装置
JP2001083546A (ja) * 1999-07-12 2001-03-30 Hitachi Ltd 液晶表示装置
TW495626B (en) * 1999-09-13 2002-07-21 Ind Tech Res Inst Electrode structure for a wide viewing angle liquid crystal display
US6927824B1 (en) * 1999-09-16 2005-08-09 Fujitsu Display Technologies Corporation Liquid crystal display device and thin film transistor substrate
CN1195243C (zh) * 1999-09-30 2005-03-30 三星电子株式会社 用于液晶显示器的薄膜晶体管阵列屏板及其制造方法
JP2001102169A (ja) * 1999-10-01 2001-04-13 Sanyo Electric Co Ltd El表示装置
JP3379491B2 (ja) * 1999-10-22 2003-02-24 日本電気株式会社 液晶表示装置
JP3687452B2 (ja) 1999-12-27 2005-08-24 株式会社日立製作所 液晶表示装置
JP3832261B2 (ja) 2000-03-16 2006-10-11 セイコーエプソン株式会社 液晶装置、投射型表示装置及び電子機器
JP2001272697A (ja) 2000-03-23 2001-10-05 Hitachi Ltd 液晶表示装置
US6500701B2 (en) * 2000-04-28 2002-12-31 Casio Computer Co., Ltd. Method of manufacturing thin film transistor panel having protective film of channel region
KR100633315B1 (ko) * 2000-06-01 2006-10-11 엘지.필립스 엘시디 주식회사 축적용량방식용 액정표시장치의 공통전극 배선과,횡전계모드용 액정표시장치의 스토리지전극 배선의 구조
JP2001354968A (ja) 2000-06-09 2001-12-25 Hitachi Ltd アクティブ・マトリクス型液晶表示装置およびその液晶組成物質
JP4446577B2 (ja) * 2000-09-06 2010-04-07 エーユー オプトロニクス コーポレイション 表示パネル、表示装置
KR100601454B1 (ko) 2000-10-04 2006-07-14 엘지.필립스 엘시디 주식회사 멀티 도메인 액정표시장치 및 그 제조방법
US6784966B2 (en) * 2001-03-06 2004-08-31 Seiko Epson Corp. Liquid crystal device, projection type display and electronic equipment
JP4556341B2 (ja) 2001-03-30 2010-10-06 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置および電子機器
JP3618302B2 (ja) 2001-04-10 2005-02-09 松下電器産業株式会社 液晶パネルの検査法及び検査装置
JP4041336B2 (ja) * 2001-06-29 2008-01-30 シャープ株式会社 液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置及びその製造方法
JP4353660B2 (ja) 2001-07-27 2009-10-28 三洋電機株式会社 アクティブマトリクス型表示装置
JP2003090994A (ja) 2001-09-19 2003-03-28 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JP3909572B2 (ja) * 2001-09-28 2007-04-25 株式会社日立製作所 表示装置
US6778229B2 (en) * 2001-10-02 2004-08-17 Fujitsu Display Technologies Corporation Liquid crystal display device and method of fabricating the same
JP4305811B2 (ja) * 2001-10-15 2009-07-29 株式会社日立製作所 液晶表示装置、画像表示装置およびその製造方法
JP2003131248A (ja) 2001-10-25 2003-05-08 Seiko Epson Corp 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法並びに液晶表示装置用基板、電子機器
KR100652046B1 (ko) * 2001-12-22 2006-11-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법
KR100450701B1 (ko) * 2001-12-28 2004-10-01 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법
JP3920649B2 (ja) 2002-01-31 2007-05-30 株式会社日立製作所 画像表示装置および液晶表示装置
US7102726B2 (en) * 2002-03-15 2006-09-05 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. System for fabricating liquid crystal display and method of fabricating liquid crystal display using the same
JP2003295207A (ja) 2002-03-29 2003-10-15 Nec Lcd Technologies Ltd 横電界方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置
JP4005410B2 (ja) 2002-05-15 2007-11-07 株式会社 日立ディスプレイズ 画像表示装置
JP3778176B2 (ja) * 2002-05-28 2006-05-24 セイコーエプソン株式会社 発光装置および電子機器
JP4085170B2 (ja) * 2002-06-06 2008-05-14 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
JP3700714B2 (ja) * 2002-06-21 2005-09-28 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置及び電子機器
JP4145637B2 (ja) 2002-11-25 2008-09-03 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板及び表示装置
US6762815B2 (en) * 2002-12-12 2004-07-13 Hannstar Display Corp. In-plane switching LCD with a redundancy structure for an opened common electrode and a high storage capacitance
KR100911470B1 (ko) 2003-01-30 2009-08-11 삼성전자주식회사 액정표시장치
KR100741890B1 (ko) * 2003-06-26 2007-07-23 엘지.필립스 엘시디 주식회사 횡전계 방식의 액정표시장치 및 그의 제조방법
KR101085150B1 (ko) 2003-06-28 2011-11-18 엘지디스플레이 주식회사 횡전계 방식의 액정표시장치 및 그의 제조방법
TW594177B (en) 2003-07-23 2004-06-21 Hannstar Display Corp Liquid crystal display panel for eliminating flicker
JP2005070541A (ja) 2003-08-26 2005-03-17 Seiko Epson Corp 液晶表示装置及び携帯型電子機器
KR101007206B1 (ko) 2003-12-11 2011-01-12 엘지디스플레이 주식회사 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치 및 그 제조방법
CN1627146A (zh) * 2003-12-13 2005-06-15 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 边缘电场开关型液晶显示装置
KR100640212B1 (ko) * 2003-12-16 2006-10-31 엘지.필립스 엘시디 주식회사 공통전극의 접속이 강화된 횡전계방식 액정표시패널 및 그 제조방법
KR20050067735A (ko) * 2003-12-29 2005-07-05 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치
KR100710164B1 (ko) 2003-12-30 2007-04-20 엘지.필립스 엘시디 주식회사 횡전계 방식 액정 표시 장치
US7372513B2 (en) * 2003-12-30 2008-05-13 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for fabricating the same
JP4011557B2 (ja) 2004-03-25 2007-11-21 三菱電機株式会社 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法
JP4462981B2 (ja) 2004-03-29 2010-05-12 Nec液晶テクノロジー株式会社 アクティブマトリクス基板及び該基板を備える液晶表示装置
JP4627148B2 (ja) * 2004-04-09 2011-02-09 株式会社 日立ディスプレイズ 表示装置
JP4230425B2 (ja) 2004-07-26 2009-02-25 シャープ株式会社 カラーフィルタ基板、および表示装置
KR100590932B1 (ko) * 2004-09-23 2006-06-19 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치
KR100583138B1 (ko) * 2004-10-08 2006-05-23 삼성에스디아이 주식회사 발광 표시장치
KR101085136B1 (ko) * 2004-12-04 2011-11-18 엘지디스플레이 주식회사 수평 전계 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
KR101107239B1 (ko) * 2004-12-23 2012-01-25 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 패널 및 그 제조방법
KR100719922B1 (ko) * 2005-03-03 2007-05-18 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치
US7710739B2 (en) * 2005-04-28 2010-05-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and display device
KR101159318B1 (ko) * 2005-05-31 2012-06-22 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
JP4400588B2 (ja) 2005-06-02 2010-01-20 エプソンイメージングデバイス株式会社 電気光学装置、電気光学装置の駆動方法、および、電子機器
KR20070010618A (ko) 2005-07-19 2007-01-24 삼성전자주식회사 표시 장치 및 박막 트랜지스터 표시판
JP4827499B2 (ja) 2005-11-16 2011-11-30 キヤノン株式会社 電流駆動型装置及び表示装置
KR101201068B1 (ko) * 2005-12-20 2012-11-14 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조방법
KR101177593B1 (ko) * 2005-12-29 2012-08-27 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
DE602007010134D1 (de) * 2006-05-19 2010-12-09 Sharp Kk Anzeigevorrichtung
JP4884846B2 (ja) * 2006-05-31 2012-02-29 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
JP4449953B2 (ja) * 2006-07-27 2010-04-14 エプソンイメージングデバイス株式会社 液晶表示装置
JP5191639B2 (ja) * 2006-09-15 2013-05-08 株式会社ジャパンディスプレイイースト 液晶表示装置
US8681305B2 (en) * 2008-12-24 2014-03-25 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device comprising a common line pattern formed correspond to the conductive seal pattern, a transparent electrode pattern overlapping the common line pattern with an insulating layer interposed there between, the transparent electrode pattern having a width equal to or less than that of the common line pattern
JP5013554B2 (ja) 2010-03-31 2012-08-29 株式会社ジャパンディスプレイセントラル 液晶表示装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008032899A5 (ja)
US9761560B2 (en) Display device
JP2009157365A5 (ja)
JP2007052419A5 (ja)
JP2017138635A5 (ja)
US10629635B2 (en) Array substrate and display device
TW200629569A (en) Thin film transistor array panel and liquid crystal display including the panel
TW200725054A (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP2007065615A5 (ja)
JP2013109192A5 (ja)
JP2010091826A5 (ja)
US20080018572A1 (en) Display substrate and display device having the same
JP2017067830A5 (ja)
JP2007065660A5 (ja)
TW200705067A (en) Liquid crystal display apparatus
US20160274432A1 (en) Array substrate and display device
JP2008170934A5 (ja)
US20230324753A1 (en) Electronic panel
JP2010107595A5 (ja)
JP2009053478A5 (ja)
JP2006119618A5 (ja)
JP2015106109A5 (ja)
JP2008015368A5 (ja)
JP2009145367A5 (ja)
US20190353964A1 (en) Array substrate and method for manufacturing the same, and dipslay device