JP6400935B2

JP6400935B2 - 表示装置

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Publication number: JP6400935B2
Application number: JP2014085475A
Authority: JP
Inventors: 光隆沖田
Original assignee: Japan Display Inc
Current assignee: Japan Display Inc
Priority date: 2014-04-17
Filing date: 2014-04-17
Publication date: 2018-10-03
Anticipated expiration: 2034-04-17
Also published as: JP2015206830A

Description

本開示は表示装置に関し、例えばインセル型タッチパネルを有する表示装置に適用可能である。

近年、モバイル用途の液晶表示装置ではスマートフォン向けを中心に入力機能としての静電容量タッチパネルが導入されている。さらにこの静電容量タッチパネルは、液晶表示装置内にその機能を組み込むインセル化がすすめられている。
国際公開第２０１２／０７３７９２号（特許文献１）に開示されるように、コモン電極（共通電極）はインセルタッチパネル用の駆動電極および検出電極と兼ねるために、コモン電極が複数に分離されている。コモン電極の分離領域は色画素境界上を行方向（走査線延在方向）および／または列方向（信号線延在方向）に延びるように形成されている。さらに、共通電極にスリットを設け、このスリット（細長い孔）が色画素境界上を行方向および／または列方向に延びるように形成されている。

国際公開第２０１２／０７３７９２号

特許文献１のような共通電極の分離領域が信号線上に位置すると、信号線からの漏れ電界が共通電極の分離領域を通して液晶層に影響を与える。このため、共通電極の分離領域に隣接する画素では信号線から電界の影響で所望の表示ができないことがあり、特に対向基板とアレイ基板の組立てずれが生じた場合には共通電極の分離領域がスジとして見えてしまう。
その他の課題と新規な特徴は、本開示の記述および添付図面から明らかになるであろう。

本開示のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
（１）表示装置は第１の基板と第２の基板とを備える。前記アレイ基板は、第１の方向に延在する第１の信号配線層と、前記第１の方向と異なる第２の方向に延在する第２の信号配線層と、前記第２の信号配線層よりも上層に配置される画素電極層と、前記画素電極層よりも上層に配置される共通電極層と、前記共通電極層の上に接するように配置される配線層と、を備える。前記共通電極層は平面視で前記第２の信号配線層を覆う位置に配置するようにされる。前記配線層は平面視で前記第２の信号配線層を覆う位置に配置するようにされる。前記共通電極層は前記第２の方向に分割するようにされる。
（２）表示装置は第１の基板と第２の基板とを備える。前記第１の基板は、第１の方向に延在する第１の信号配線層と、前記第１の方向と異なる第２の方向に延在する第２の信号配線層と、前記第２の方向に延在する第１の配線層と、第１の絶縁層と、第２の絶縁層と、前記第１の配線層よりも下層に前記第１の絶縁層を介して配置される共通電極層と、前記第１の配線層よりも上層に前記第２の絶縁層を介して配置される画素電極層と、を備える。前記第１の配線層は平面視で前記第２の信号配線層を覆う位置に配置するようにされる。前記共通電極層は前記第２の信号配線層上で前記第２の方向に分割するようにされる。

実施例および比較例に係る表示装置の構成を示す平面図である。実施例および比較例に係る表示装置の構成を示す側面図である。比較例に係る表示装置の構造を説明するための平面図である。図１のＡ−Ａ’線における断面図である。実施例１に係る表示装置の構造を説明するための平面図である。図５の破線Ｃの箇所の拡大図である。図５のＡ−Ａ’線における断面図である。実施例２に係る表示装置の構造を説明するための平面図である。図８の破線Ｃの箇所の拡大図である。図８のＡ−Ａ’線における断面図である。アレイ基板周辺部における断面図である。

以下に、実施例および比較例について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

まず、本開示に先立って検討した技術（以下、比較例という。）、実施例１および実施例２に共通する内容について図１および図２を用いて説明する。
図１は実施例および比較例に係る表示装置の構成を示す平面図である。図２は実施例および比較例に係る表示装置の構成を示す側面図である。比較例、実施例１および実施例２に係る液晶表示装置１００、１００Ａ、１００Ｂは、インセルタイプのタッチパネル機能を有し、共通電極層がタッチパネルの駆動電極層の機能を兼ねている。
表示装置１００、１００Ａ、１００Ｂは、アレイ基板１０、１０Ａ、１０Ｂと対向基板２０と液晶層３０とバックライト４１と偏光板４２と制御回路４３とタッチＩＣ４５とケーブル４９ａ、４９ｂ、４９ｃを有する。表示装置１００、１００Ａ、１００Ｂは縦長である（Ｙ方向の長さがＸ方向の長さよりも大きい）。アレイ基板１０、１０Ａ、１０Ｂには、ＬＣＤ走査回路４６と共通電極選択回路（ＣＯＭ選択回路）４７と信号線選択回路４８がＴＦＴで形成されている。また、アレイ基板１０、１０Ａ、１０Ｂには、ＣＭＯＳ等の半導体集積回路（ＩＣ）で構成された駆動回路４４がＣＯＧ（Chip on Glass）実装されている。駆動回路４４はケーブル４９ａを介してＩＣで構成された制御回路４３に接続されている。対向基板２０の上面（液晶層３０とは反対側）にはＸ方向に延在する複数の検出電極配線層２４が形成され、検出電極配線層２４はケーブル４９ｂを介して、ケーブル４９ｂ上に実装されたタッチＩＣ（Touch IC）４５に接続されている。ケーブル４９ｂは制御回路４３と接続されている。バックライト４１は、ケーブル４９ｃを介して制御回路４３に接続されている。偏光板４２は、バックライト４１とアレイ基板１０、１０Ａ、１０Ｂとの間および対向基板２０の上面に配置されている。
タッチパネルの駆動電極配線層の機能を兼ねる共通電極配線層１４はＹ方向に延在し、Ｘ方向に分割されて周期的に配置されており、検出電極配線層２４はＸ方向に延在し、Ｙ方向に複数配置されている。共通電極配線層（タッチパネルの駆動電極配線層）がＹ方向に延在することにより、タッチパネルの駆動電極配線層がソース配線層と交わらないため、タッチパネルの駆動電極配線層−ソース配線層容量の影響でタッチパネルの駆動電極の負荷が増大するのを抑えることができる。
なお、比較例、実施例１および実施例２に係る液晶表示装置１００、１００Ａ、１００Ｂは、アレイ基板１０、１０Ａ、１０Ｂの構造の除き、基本的に同じ構成である。

次に、比較例について図３および図４を用いて説明する。
図３は比較例に係る表示装置の構造を説明するための平面図である。図４は図３のＡ−Ａ’線における断面図である。
比較例に係る表示装置１００は赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、白（Ｗ）の縦ストライプ形状の副画素を備え、ＲＧＢおよびＲＧＷをそれぞれ１画素とし、ＲＧＢ画素とＲＧＷ画素が交互に配置される。ＢおよびＷのそれぞれはＲまたはＧの半分の画素数である。表示装置１００は、アレイ基板１０と、対向基板２０と、アレイ基板１０と対向基板２０との間に配置される液晶層３０とを備える。
アレイ基板１０において、信号配線層１２の上に平坦化膜１３を介して共通電極層１４が配置される。共通電極層１４の上に絶縁層１６を介して画素電極層１７が配される。共通電極層１４は信号配線層１２と平行な方向（Ｙ方向）に延在し、Ｘ方向に分割されて周期的に配置されており、信号配線層１２の上には共通電極層１４と接する形で補助配線層１５が配置されている。言い換えると補助配線層１５は異色副画素間に配置されている。ただし、分割された共通電極層１４同士をショートしないようにするために、共通電極層１４の分割位置（分割領域）１８には補助配線層１５は配置されていない。共通電極層１４および画素電極層１７はＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透光導体膜で形成され、補助配線層１５および信号配線層１２は遮光導体膜（低抵抗導体膜、金属膜）で形成されている。補助配線層１５は共通電極層１４の抵抗を低減するために設けられている。
対向基板２０は、ブラックマトリクス（遮光層）２２と、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗのカラーフィルタ（着色層）２３と、を備える。カラーフィルタ２３は、行方向（Ｘ方向）にＲ、Ｇ、Ｂ、Ｒ、Ｇ、Ｗの順に繰り返し配置されている。また、カラーフィルタ２３のＲとＧは、列方向（Ｙ方向）に同色が配置され、ＢとＷは交互に配置されている。カラーフィルタ２３は平面視で、Ｘ方向の長さがＹ方向の長さより短いストライプ形状（矩形状）をしている。
上述したように、表示装置１００では信号配線層１２上に分割領域１８が位置するので、分割領域１８を通した信号配線層１２からの漏れ電界が液晶層３０に影響を与える。このため、分割領域１８に隣接する副画素では信号配線層１２から電界の影響で所望の表示ができないことがあり、特に対向基板２０とアレイ基板１０の組立てずれが生じた場合には分割領域１８がスジとして見えてしまう。
そこで、実施の形態に係る表示装置は、信号配線層１２の上にシールド層を設けて、信号配線層１２からの漏れ電界が液晶層３０に影響を与えないようにする。シールド層としては電位が固定される配線層を用いるのが好ましい。

以下に説明する実施例では、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式の液晶表示パネルを例に説明するが、それに限定されるものではない。ＩＰＳ（In-Plane-Switching）方式等の横電界の液晶表示パネルにも適用することができる。

信号配線層の上にシールド層を設ける第１の実施例（実施例１）について図５から図７を用いて説明する。
図５は実施例１に係る表示装置の構造を説明するための平面図である。図６は図５の破線Ｃの箇所の拡大図である。図７は図５のＡ−Ａ’線における断面図である。
実施例１に係る表示装置１００Ａは、比較例に係る表示装置１００と画素構成および配列は同じである。すなわち、対向基板２０の構造は同じである。表示装置１００Ａは、アレイ基板１０Ａと、対向基板２０と、アレイ基板１０Ａと対向基板２０との間に配置される液晶層３０とを備える。なお、Ｒ、Ｇ、Ｂの縦ストライプ形状の副画素を備え、ＲＧＢを１画素とするものであってもよい。すなわち、カラーフィルタ２３は、行方向（Ｘ方向）にＲ、Ｇ、Ｂの順に繰り返し配置され、カラーフィルタ２３の列方向（Ｙ方向）に同色が配置されているものであってもよい。
アレイ基板１０Ａにおいて、信号配線層（映像信号配線層、第２の信号配線層）１２の上に平坦化膜１３を介して画素電極層１７Ａが配置される。画素電極層１７Ａの上に絶縁層１６を介して共通電極層１４Ａが配される。共通電極層１４Ａは信号配線層１２と平行な方向（Ｙ方向）に延在し、Ｘ方向に分割されて周期的に配置されている。走査配線層（走査信号配線層、第１の信号配線層）１１はＸ方向に延在している。共通電極１４Ａの分割領域１８Ａは信号配線層１２が配置されない位置であって走査配線層１１を横切る位置に配置される。副画素の開口部分の共通電極層１４Ａにはスリットが形成されている。信号配線層１２は共通電極層１４Ａで覆われている。また、信号配線層１２の上には共通電極層１４Ａと接する形で補助配線層（第１の配線層）１５Ａが配置されている。言い換えると補助配線層１５Ａは異色副画素間に配置されている。補助配線層１５Ａは遮光層２２に覆われるように配置される。走査配線層１１の上には共通電極層１４Ａがある。分割領域１８Ａは補助配線層１５Ａが配置されない位置であって走査配線層１１を横切る位置に配置される。分割領域１８Ａは遮光層２２に覆われるように配置される。共通電極層１４Ａおよび画素電極層１７ＡはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透光導体膜で形成され、補助配線層１５Ａおよび信号配線層１２は金属膜（遮光性導電膜）で形成されている。

上述したように、表示装置１００Ａでは信号配線層１２上に共通電極層１４Ａを配置するので、信号配線層１２からの漏れ電界を共通電極層１４Ａでシールドすることができる。これにより、比較例に係る表示装置のような分割領域１８がスジとして見えることを防止することができる。
なお、信号配線層１２からの漏れ電界をシールドするためには、補助配線層１５Ａは必ずしも必要ない。ただし、補助配線層１５Ａが遮光膜で形成される場合は、高精細パネルにおいて、対向基板２０とアレイ基板１０の組立ずれが起きたときに生じる視野角混色を低減することができる。また、補助配線層１５Ａが低抵抗の導電膜で形成される場合は、共通電極層１４Ａの抵抗を低減することができる。

以上の実施例１の概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
（１）表示装置は、アレイ基板と、対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板の間に配置される液晶層と、を備える。前記アレイ基板は、第１の方向に延在する走査信号配線層と、前記第１の方向と異なる第２の方向に延在する映像信号配線層と、前記映像信号配線層よりも上層に配置される画素電極層と、前記画素電極層よりも上層に配置される共通電極層と、を備える。前記共通電極層は平面視で前記映像信号配線層を覆う位置に配置するようにされ、前記共通電極層は前記第２の方向に分割するようにされる。
（２）上記（１）の表示装置において、前記共通電極層が分割される個所はいずれかの隣接する映像信号配線層間の前記走査信号配線層を横切る位置にするようにされる。
（３）上記（１）の表示装置において、前記共通電極層の上に接するように配置される補助配線層を有し、前記補助配線層は平面視で前記映像信号配線層を覆う位置に配置する
ようにされる。
（４）上記（３）の表示装置において、前記共通電極層が分割される個所は前記補助配線層が配置されていない位置にするようにされる。
（５）上記（３）の表示装置において、前記補助配線層は遮光性導電膜である。
（６）上記（１）の表示装置において、前記共通電極層は平面視で前記走査信号配線層を覆う位置に配置するようにされる。
（７）上記（１）の表示装置において、前記対向基板は遮光層と着色層を備える。前記遮光層は平面視で前記補助配線層を覆う位置に配置するようにされる。
（８）上記（７）の表示装置において、前記遮光層は平面視で前記共通電極層が分割される個所を覆う位置に配置するようにされる。
（９）上記（１）の表示装置において、前記画素電極および共通電極層は透明性導電膜である。
（１０）上記（１）の表示装置において、前記対向基板は、前記第１の方向に延在する検出電極配線層を備える。前記共通電極層はインセルタッチパネルの駆動電極配線層の機能を兼ねる。

（１１）表示装置は第１の基板と第２の基板とを備える。前記アレイ基板は、第１の方向に延在する第１の信号配線層と、前記第１の方向と異なる第２の方向に延在する第２の信号配線層と、前記第２の信号配線層よりも上層に配置される画素電極層と、前記画素電極層よりも上層に配置される共通電極層と、前記共通電極層の上に接するように配置される第１の配線層と、を備える。前記共通電極層は平面視で前記第２の信号配線層を覆う位置に配置するようにされる。前記第１の配線層は平面視で前記第２の信号配線層を覆う位置に配置するようにされる。前記共通電極層は前記第２の方向に分割するようにされる。
（１２）上記（１１）の表示装置において、前記共通電極層が分割される個所は前記第１の配線層が配置されていない位置にするようにされる。
（１３）上記（１１）の表示装置において、前記共通電極層は平面視で前記第１の信号配線層を覆う位置に配置するようにされる。
（１４）上記（１１）の表示装置において、前記第２の基板は遮光層を備える。前記遮光層は平面視で前記配線層を覆う位置に配置するようにされる。
（１５）上記（１１）の表示装置において、前記第１の配線層は平面視で異色副画素間に配置するようにされる。
（１６）上記（１１）の表示装置において、前記画素電極および共通電極層は透明性導電膜である。前記第１の配線層は遮光性導電膜である。
（１７）上記（１１）の表示装置において、前記第２の基板は、前記第１の方向に延在する検出電極配線層を備える。前記共通電極層はインセルタッチパネルの駆動電極配線層の機能を兼ねる。
（１８）上記（１１）の表示装置において、前記第１の信号配線層は走査信号配線層である。前記第２の信号配線層は映像信号配線層である。
（１９）上記（１１）の表示装置において、さらに、前記第１の基板と前記第２の基板の間に配置される液晶層を備える。

信号配線層の上にシールド層を設ける第２の実施例（実施例２）について図８から図１１を用いて説明する。
図８は実施例２に係る表示装置の構造を説明するための平面図である。図９は図８の破線Ｃの箇所の拡大図である。図１０は図８のＡ−Ａ’線における断面図である。図１１はアレイ基板周辺部における断面図である。
実施例２に係る表示装置１００Ｂは、比較例に係る表示装置と画素構成および配列は同じである。すなわち、対向基板２０の構造は同じである。表示装置１００Ｂは、アレイ基板（第１の基板）１０Ｂと、対向基板（第２の基板）２０と、アレイ基板１０Ｂと対向基板２０との間に配置される液晶層３０とを備える。なお、Ｒ、Ｇ、Ｂの縦ストライプ形状の副画素を備え、ＲＧＢを１画素とするものであってもよい。すなわち、カラーフィルタ２３は、行方向（Ｘ方向）にＲ、Ｇ、Ｂの順に繰り返し配置され、カラーフィルタ２３の列方向（Ｙ方向）に同色が配置されているものであってもよい。
アレイ基板１０Ｂにおいて、信号配線層（映像信号配線層、第２の信号配線層）１２の上に平坦化膜１３を介して共通電極層１４が配置される。共通電極層１４の上に絶縁層（第１の絶縁層）１６ａを介して補助配線層（第１の配線層）１５が配置される。補助配線層１５の上に絶縁層（第２の絶縁層）１６ｂを介して画素電極層１７が配置される。共通電極層１４は信号配線層１２と平行な方向（Ｙ方向）に延在し、Ｘ方向に分割されて周期的に配置されている。走査配線層（走査信号配線層、第１の信号配線層）１１はＸ方向に延在している。補助配線層１５は信号配線層１２と平行な方向（Ｙ方向）に延在し、各異色副画素間に配置されている。補助配線層１５は高精細パネルにおいて、対向基板２０とアレイ基板１０Ｂの組立ずれが起きたときに生じる視野角混色を防止する遮光層の役割と共通電極層１４の抵抗低減する役割を兼ねている。補助配線層１５は共通電極層１４の分割位置（分割領域）１８の上にも配置されている。共通電極層１４および画素電極層１７はＩＴＯ等の透光導体層で形成され、補助配線層１５および信号配線層１２は遮光導体層（低抵抗導体層、金属層）で形成されている。
図１１に示すように、アレイ基板１０Ｂの表示領域外の周辺領域において、共通電極層１４と補助配線層１５とは配線層（第２の配線層）１７ａを介して接続される。配線層１７ａは画素電極層１７と同層の配線である。絶縁層１６ａと絶縁層１６ｂとを同時にパターニングしてコンタクトホールＣＨ１を形成する。また、絶縁層１６ｂパターニングしてコンタクトホールＣＨ２を形成する。コンタクトホールＣＨ１とコンタクトホールＣＨ２の中および絶縁層１６ｂの上面にＩＴＯ膜を成膜し、パターニングすることにより、画素電極層１７と配線層１７ａを形成する。

上述したように、表示装置１００Ｂでは信号配線１２の分割領域１８の上に補助配線層１５を配置するので、信号配線層１２からの画素電極１７へ漏れ電界シールドすることができる。これにより、比較例に係る表示装置のような分割領域１８がスジとして見えることを防止することができる。
また、比較例に係る表示装置とは異なりすべての信号配線上に補助配線層１５を配置することができるので、対向基板２０とアレイ基板１０Ｂの組立ずれが起きたときに生じる視野角混色を低減することができる。

共通電極層１４と画素電極層１７との間の絶縁膜を複数層とするが、複数層の絶縁膜は同時にパターニングすることで、成膜回数は増えるがフォトリソ工程の回数は比較例と同じであるため製造プロセスへの負荷を小さくすることできる。
共通電極層１４と補助配線層１５は例えば表示領域外のパネル周辺部で接続することで画素内に開口率を低下要因となるコンタクトホールを設けることなく信号配線層からの画素電極層への漏れ電界のシールド効果を高めることができる。補助配線層１５が共通電極層１４と接続することができるので、共通電極層１４の抵抗を低減することができる。

以上の実施例２の概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
（１）表示装置は、アレイ基板と、対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板の間に配置される液晶層と、を備える。前記アレイ基板は、第１の方向に延在する走査信号配線層と、前記第１の方向と異なる第２の方向に延在する映像信号配線層と、前記第２の方向に延在する補助配線層と、第１の絶縁層と、第２の絶縁層と、前記補助配線層よりも下層に前記第１の絶縁層を介して配置される共通電極層と、前記補助配線層よりも上層に前記第２の絶縁層を介して配置される画素電極層と、を備える。前記補助配線層は平面視で前記映像信号配線層を覆う位置に配置するようにされる。前記共通電極層は前記映像信号配線層上で前記第２の方向に分割するようにされる。
（２）上記（１）の表示装置において、前記画素電極層とは孤立しかつ前記画素電極層とは同層の配線層を有する。前記共通電極層は、前記配線層を介して前記補助配線層と接続するようにされる。
（３）上記（２）の表示装置において、前記共通電極層上の前記第１の絶縁層と前記第２の絶縁層を貫通する第１のコンタクトホールと、前記補助配線層上の前記第２の絶縁層の第２のコンタクトホールと、を有する。前記配線層は前記第１のコンタクトホール内の前記共通電極層と前記第２のコンタクトホール内の前記補助配線層とを接続するようにされる。
（４）上記（１）の表示装置において、前記対向基板は着色層と遮光層を備える。前記遮光層は平面視で前記補助配線層を覆う位置に配置するようにされる。
（５）上記（１）の表示装置において、前記補助配線層は平面視で異色副画素間に配置するようにされる。
（６）上記（１）の表示装置において、前記共通電極層および前記画素電極層は透明性導電膜である。前記補助配線層は遮光性導電膜である。
（７）上記（１）の表示装置において、前記対向基板は、前記第１の方向に延在する検出電極配線層を備える。前記共通電極層はインセルタッチパネルの駆動電極配線層の機能を兼ねる。

（８）表示装置は第１の基板と第２の基板とを備える。前記第１の基板は、第１の方向に延在する第１の信号配線層と、前記第１の方向と異なる第２の方向に延在する第２の信号配線層と、前記第２の方向に延在する第１の配線層と、第１の絶縁層と、第２の絶縁層と、前記第１の配線層よりも下層に前記第１の絶縁層を介して配置される共通電極層と、前記第１の配線層よりも上層に前記第２の絶縁層を介して配置される画素電極層と、を備える。前記第１の配線層は平面視で前記第２の信号配線層を覆う位置に配置するようにされる。前記共通電極層は前記第２の信号配線層上で前記第２の方向に分割するようにされる。
（９）上記（８）の表示装置において、前記画素電極層とは孤立しかつ前記画素電極層とは同層の第２の配線層を有する。前記共通電極層は前記第２の配線層を介して前記第１の配線層と接続するようにされる。
（１０）上記（９）の表示装置において、前記共通電極層上の前記第１の絶縁層と前記第２の絶縁層を貫通する第１のコンタクトホールと、前記第１の配線層上の前記第２の絶縁層の第２のコンタクトホールと、を有する。前記第２の配線層は前記第１のコンタクトホール内の前記共通電極層と前記第２のコンタクトホール内の前記補助配線層とを接続するようにされる。
（１１）上記（８）の表示装置において、前記第２の基板は遮光層および着色層を備える。前記遮光層は平面視で前記第１の配線層を覆う位置に配置するようにされる。
（１２）上記（８）の表示装置において、前記第１の配線層は平面視で異色副画素間に配置するようにされる。
（１３）上記（８）の表示装置において、前記共通電極層および画素電極層は透明性導電膜である。前記第１の配線層は遮光性導電膜である。
（１４）上記（８）の表示装置において、前記第２の基板は前記第１の方向に延在する検出電極配線層を備える。前記共通電極層はインセルタッチパネルの駆動電極配線層の機能を兼ねる。
（１５）上記（８）の表示装置において、前記第１の信号配線層は走査信号の配線層である。前記第２の信号配線層は映像信号の配線層である。
（１６）上記（８）の表示装置において、さらに、前記第１の基板と前記第２の基板の間に配置される液晶層を備える。

１０、１０Ａ、１０Ｂ・・・アレイ基板
２０・・・対向基板
１１・・・走査配線層（走査信号配線層、第１の信号配線層）
１２・・・信号配線層（映像信号配線層、第２の信号配線層）
１３・・・平坦化層
１４、１４Ａ・・・共通電極層
１５、１５Ａ・・・補助配線層（第１の配線層）
１６・・・絶縁層
１６ａ・・・絶縁層（第１の絶縁層）
１６ｂ・・・絶縁層（第２の絶縁層）
１７、１７Ａ・・・画素電極層
１７ａ・・・配線層（第２の配線層）
１８・・・分割領域（分割位置）
２１・・・ブラックマトリクス（遮光層）
２２・・・カラーフィルタ（着色層）
２４・・・検出電極配線層
３０・・・液晶層
４１・・・バックライト
４２・・・偏光板
４３・・・制御回路
４４・・・駆動回路
４５・・・タッチＩＣ
４６・・・ＬＣＤ走査回路
４７・・・共通電極選択回路
４８・・・信号線選択回路
４９ａ、４９ｂ、４９ｃ・・・ケーブル
１００、１００Ａ、１００Ｂ・・・表示装置

Claims

表示装置は、
アレイ基板と、
対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板の間に配置される液晶層と、
を備え、
前記アレイ基板は、
第１の方向に延在する走査信号配線層と、
前記第１の方向と異なる第２の方向に延在する映像信号配線層と、
前記第２の方向に延在する遮光性の補助配線層と、
第１の絶縁層と、
第２の絶縁層と、
共通電極層と、
画素電極層と、
を備え、
前記補助配線層は平面視で複数の前記映像信号配線層を覆う位置に配置するようにされ、
前記補助配線層は前記共通電極層との間に前記第１の絶縁層を介して配置され、
前記共通電極層は前記映像信号配線層上で前記第２の方向に分割され、
分割された前記共通電極層の間に間隙を有し、
前記補助配線層は、前記共通電極層及び前記間隙に重なって配置される。
請求項１の表示装置において、
さらに、前記画素電極層とは孤立しかつ前記画素電極層とは同層の配線層を有し、
前記共通電極層は、前記配線層を介して前記補助配線層と接続するようにされる。
請求項２の表示装置において、さらに、
前記共通電極層上の前記第１の絶縁層と前記第２の絶縁層を貫通する第１のコンタクトホールと、
前記補助配線層上の前記第２の絶縁層の第２のコンタクトホールと、
を有し、
前記配線層は前記第１のコンタクトホール内の前記共通電極層と前記第２のコンタクトホール内の前記補助配線層とを接続するようにされる。
請求項１の表示装置において、
前記対向基板は着色層と遮光層を備え、
前記遮光層は平面視で前記補助配線層を覆う位置に配置するようにされる。
請求項１の表示装置において、
前記補助配線層は平面視で異色副画素間に配置するようにされる。
請求項１の表示装置において、
前記共通電極層および前記画素電極層は透明性導電膜であり、
前記補助配線層は遮光性導電膜である。
請求項１の表示装置において、
前記対向基板は、前記第１の方向に延在する検出電極配線層を備え、
前記共通電極層はインセルタッチパネルの駆動電極配線層の機能を兼ねる。
表示装置は、
第１の基板と、
第２の基板と、
を備え、
前記第１の基板は、
第１の方向に延在する第１の信号配線層と、
前記第１の方向と異なる第２の方向に延在する第２の信号配線層と、
前記第２の方向に延在する遮光性の第１の配線層と、
第１の絶縁層と、
第２の絶縁層と、
共通電極層と、
画素電極層と、
を備え、
前記第１の配線層は平面視で複数の前記第２の信号配線層を覆う位置に配置するようにされ、
前記第１の配線層は前記共通電極層との間に前記第１の絶縁層を介して配置され、
前記共通電極層は前記第２の信号配線層上で前記第２の方向に分割され、
分割された前記共通電極層の間に間隙を有し、
前記第１の配線層は、前記共通電極層及び前記間隙に重なって配置される。
請求項８の表示装置において、
さらに、前記画素電極層とは孤立しかつ前記画素電極層とは同層の第２の配線層を有し、
前記共通電極層は前記第２の配線層を介して前記第１の配線層と接続するようにされる。
請求項９の表示装置において、さらに、
前記共通電極層上の前記第１の絶縁層と前記第２の絶縁層を貫通する第１のコンタクトホールと、
前記第１の配線層上の前記第２の絶縁層の第２のコンタクトホールと、
を有し、
前記第２の配線層は前記第１のコンタクトホール内の前記共通電極層と前記第２のコンタクトホール内の前記第１の配線層とを接続するようにされる。
請求項８の表示装置において、
前記第２の基板は遮光層および着色層を備え、
前記遮光層は平面視で前記第１の配線層を覆う位置に配置するようにされる。
請求項８の表示装置において、
前記第１の配線層は平面視で異色副画素間に配置するようにされる。
請求項８の表示装置において、
前記共通電極層および画素電極層は透明性導電膜であり、
前記第１の配線層は遮光性導電膜である。
請求項８の表示装置において、
前記第２の基板は、前記第１の方向に延在する検出電極配線層を備え、
前記共通電極層はインセルタッチパネルの駆動電極配線層の機能を兼ねる。
請求項８の表示装置において、
前記第１の信号配線層は走査信号の配線層であり、
前記第２の信号配線層は映像信号の配線層である。
請求項８の表示装置において、さらに、
前記第１の基板と前記第２の基板の間に配置される液晶層を備える。