JP2007065615A5 - - Google Patents

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  1. 複数の画素電極と、前記複数の画素電極の各々に対応して設けられたスイッチング素子と、が形成された素子基板を有する電気光学装置において、
    前記複数の画素電極がマトリクス状に配列してなる表示領域と、
    前記表示領域の外側に設けられた第1及び第2のシールド配線部と、を具備し、
    前記第1のシールド配線部は前記表示領域の少なくとも3辺方向に延在して設けられ、前記第2のシールド配線部は、前記3辺以外の辺を含む前記表示領域の少なくとも3辺方向に延在して設けられてなることを特徴とする電気光学装置。
  2. 前記第1のシールド配線部及び第2のシールド配線部の少なくとも一方が、前記表示領域を取り囲んで形成されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
  3. 前記複数の画素電極に跨って形成された共通電極を備え、
    前記第1のシールド配線部及び第2のシールド配線部が、前記共通電極と電気的に接続されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。
  4. 前記共通電極と電気的に接続された共通電極配線を前記素子基板に備え、該共通電極配線が、第3のシールド配線部を形成していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の電気光学装置。
  5. 前記スイッチング素子が、前記素子基板に形成されたゲート電極と、該ゲート電極とゲート絶縁膜を介して対向する半導体層と、該半導体層と電気的に接続されたソース/ドレイン電極とを備えた薄膜トランジスタであり、
    前記第1のシールド配線部及び第2のシールド配線部のいずれか一方が、前記ソース/ドレイン電極と同層に同一材料を用いて形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の電気光学装置。
  6. 前記第1のシールド配線部及び第2のシールド配線部のいずれか一方が、前記ゲート電極と同層に同一材料を用いて形成されていることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
  7. 前記画素電極が、前記ソース/ドレイン電極を介して前記スイッチング素子と電気的に接続されており、
    前記第1のシールド配線部及び第2のシールド配線部のいずれか一方が、前記画素電極と同層に同一材料を用いて形成されていることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
  8. 前記画素電極が、前記ソース/ドレイン電極を介して前記スイッチング素子と電気的に接続されており、
    前記画素電極と同層に同一材料を用いて形成された接続部材により、前記第1乃至第3のシールド配線部の少なくとも2つが互いに電気的に接続されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の電気光学装置。
  9. 前記素子基板に、互いに交差して延びる複数のデータ線と複数の走査線とが形成され、前記データ線と前記走査線との交差部に対応して前記画素電極が設けられており、
    前記第1のシールド配線部又は第2のシールド配線部と、前記走査線又は前記データ線とが、少なくとも1つ以上の静電保護回路を介して電気的に接続されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の電気光学装置。
  10. 前記静電保護回路が、前記薄膜トランジスタと同層に形成された半導体層を具備したMOSダイオードを有することを特徴とする請求項9に記載の電気光学装置。
  11. 前記静電保護回路は、前記薄膜トランジスタのゲート電極とドレイン電極とを短絡してなる第1のMOSダイオードと第2のMOSダイオードとを互いに逆向きに接続してなることを特徴とする請求項10に記載の電気光学装置。
  12. 前記第1のMOSダイオードにおけるソース電極とゲート電極とが一部平面的に重なって配置されるとともに、前記第2のMOSダイオードにおけるソース電極とゲート電極とが一部平面的に重なって配置された容量結合動作型のMOSダイオードであることを特徴とする請求項11に記載の電気光学装置。
  13. 前記容量結合動作型のMOSダイオードが、前記データ線と同層に形成された前記シールド配線部と電気的に接続されていることを特徴とする請求項12に記載の電気光学装置。
  14. 請求項1乃至13のいずれか1項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
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