JP2009053478A5 - - Google Patents

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  1. 基板と、
    該基板上において、互いに交差して延在すると共に遮光性の導電膜を夫々含んでなるデータ線及び走査線と、
    前記データ線及び前記走査線の交差に対応して規定される画素毎に設けられた画素電極と、
    前記データ線又は前記走査線の延在方向に沿ったチャネル長を有するチャネル領域、前記データ線に電気的に接続されたデータ線側ソースドレイン領域、前記画素電極に電気的に接続された画素電極側ソースドレイン領域、並びに前記チャネル領域及び前記データ線側ソースドレイン領域間に形成された第1の接合領域、前記チャネル領域及び前記画素電極側ソースドレイン領域間に形成された第2の接合領域を有する半導体層と、
    前記基板上で平面的に見て、前記第2の接合領域を囲う環形状を有し、前記チャネル領域にゲート絶縁膜を介して対向するように配置されたゲート電極と
    を備え、
    前記第2の接合領域は、前記基板上で平面的に見て、前記データ線及び前記走査線の交差する交差領域内に少なくとも部分的に配置されている
    ことを特徴とする電気光学装置。
  2. 前記ゲート電極は、前記画素電極側ソースドレイン領域に、前記ゲート絶縁膜と同一層からなる層間絶縁膜を介して対向するように配置されていることを特徴とする請求項に記載の電気光学装置。
  3. 前記ゲート電極は、前記画素電極側ソースドレイン領域に、前記ゲート絶縁膜と同一層からなる一の層と、前記一の層に積層された他の層とからなる層間絶縁膜を介して対向するように配置されていることを特徴とする請求項に記載の電気光学装置。
  4. 前記ゲート電極は、前記画素電極側ソースドレイン領域に、エッチングによりパターニングする際にストッパとして機能する保護膜を介して対向するように配置されていることを特徴とする請求項に記載の電気光学装置。
  5. 前記第2の接合領域は、LDD領域であることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  6. 前記ゲート電極は、前記走査線の一部からなり、前記走査線と同層において同一膜により一体的に形成されることを特徴とする請求項1からのいずれか一項に記載の電気光学装置。
  7. 請求項1からのいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
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