JP2009053477A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 基板と、
   該基板上において、互いに交差すると共に遮光性の導電膜を夫々含んでなるデータ線及び走査線と、
   前記データ線及び前記走査線の交差に対応して規定される画素毎に設けられた画素電極と、
   前記データ線に電気的に接続されたデータ線側ソースドレイン領域、前記画素電極に電気的に接続された画素電極側ソースドレイン領域、及び前記走査線の一部からなる又は前記走査線に電気的に接続されたゲート電極にゲート絶縁膜を介して対向するように配置されたチャネル領域を有する半導体層と、
   前記ゲート電極から前記画素電極側ソースドレイン領域側に延設され、前記ゲート絶縁膜より厚い第１層間絶縁膜部分を介して前記半導体層と対向する第１延設部分と、
   前記ゲート電極から前記第１延設部分を介して更に延設され、前記第１層間絶縁膜部分よりも薄い第２層間絶縁膜部分を介して前記半導体層と対向する第２延設部分と
   を備え、
   前記第１延設部分は、前記基板上で平面的に見て、前記走査線及び前記データ線の交差する交差領域内に少なくとも部分的に配置されている
   ことを特徴とする電気光学装置。
2. 前記第１延設部分は、前記半導体層における、前記チャネル領域及び前記画素電極側ソースドレイン領域間に形成された接合領域と対向することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記接合領域は、前記チャネル領域及び前記画素電極側ソースドレイン領域間に形成されたＬＤＤ領域であることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
4. 前記第２層間絶縁膜は、前記ゲート絶縁膜と同一層からなり、
   前記第１層間絶縁膜は、前記同一層及び前記同一層の上又は下に積層された一の絶縁膜を含む
   ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. 前記第１層間絶縁膜は、
   一の絶縁膜と、
   該一の絶縁膜の下層側に積層されており、該一の絶縁膜をエッチングによりパターニングする際にストッパとして機能する保護膜と
   を含むことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 前記ゲート絶縁膜は、前記第１層間絶縁膜と同一層が、前記チャネル領域に対向する領域で凹状に掘られてなり、
   前記第２層間絶縁膜は、前記第１層間絶縁膜と同一層が、前記第２延設部分に対向する領域で凹状に掘られてなる
   ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
7. 前記第２層間絶縁膜は、前記ゲート絶縁膜よりも厚く且つ前記第１層間絶縁膜部分よりも薄いことを特徴とする請求項１から３、５から６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
8. 前記走査線における前記第２延設部分から更に延設され、前記第２層間絶縁膜部分よりも厚い第３層間絶縁膜部分を介して前記半導体層の上又は下に積層された第３延設部分を更に備えることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
9. 前記ゲート電極は、前記走査線の一部からなり、
   前記ゲート電極、前記第１延設部及び前記第２延設部は夫々、前記走査線と同層において同一膜により一体的に形成される
   ことを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の電気光学装置。
10. 請求項１から９のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。