JP4230425B2 - カラーフィルタ基板、および表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、例えばカラー液晶表示装置などの表示装置に使用されるカラーフィルタ基板等に関する。

液晶表示装置は、小型、薄型、低消費電力、および軽量という特徴を有するため、現在、各種の電子機器に広く用いられている。特に、スイッチング素子を有するアクティブマトリクス型液晶表示装置は、パソコン等のＯＡ機器、テレビ等のＡＶ機器や携帯電話などに広く採用されている。また、近年、液晶表示装置の大型化や、高精細化、画素有効面積比率の向上（高開口率化）、広視野角化、または色純度向上などの品位向上が急速に進んでいる。

近年、特に大型ＴＶなどに用いられる液晶表示装置には、応答速度の向上と視角特性の改善（広視野角化技術）が強く求められている。しかしながら、従来のＴＮ（Twisted Nematic）型液晶表示装置やＳＴＮ（Super Twisted Nematic）型液晶表示装置は、視野角が狭いという欠点を有しており、これらの欠点を解決するために様々な技術開発が行われている。

その代表的な技術として、ＭＶＡ(Multi-domain Vertical Alignment)型液晶表示装置がある（特許文献１などを参照）。ＭＶＡ型液晶表示装置には、基板表面に液晶分子のプレチルトを制御するための突起（配向制御用の突起）や、電極にスリット（開口部）が設けられており、これらによって液晶分子の配向方向が分割される結果、視角特性が改善されるとともに、液晶分子の応答速度も向上する。例えば、特許文献１の第５実施例には、カラーフィルタ基板側の対向電極に複数の突起列を設け、カラーフィルタ基板と対向するアクティブマトリクス基板側の画素電極に複数のスリットを設けたＭＶＡ型液晶表示装置が開示されている。さらに、特許文献１では、画素電極と対向電極との双方にスリットを設けた装置、あるいはこれらの双方に突起を設けた表示装置も提案されている。

一方、液晶パネルを製造するためには、対向するアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板との間に液晶材料を注入する必要がある。具体的には、アクティブマトリクス基板およびカラーフィルタ基板の両基板の内側周囲にシール樹脂を塗布してシール部を形成した後、一定の隙間を介して両基板を貼り合わせ、この隙間（液晶セル）に液晶材料を注入して封入する。液晶材料の注入方法としては、従来より、真空注入法が用いられている。真空注入法では、まず、液晶セルを真空チャンバーに入れ、液晶セル内の空気を排除して真空に保持した後、上記シール部の一部に形成された注入口を液晶材料が貯蔵された容器の中に沈める。次いで、チャンバー内を常圧に戻し、大気圧によって液晶セル内に液晶材料を浸透させた後、上記注入口を樹脂で封止する。しかしながら、真空注入法は、液晶材料の注入に時間がかかるという問題点を抱え、この問題点は、特に大型ＴＶなどの大型液晶パネルに適用した場合に一層顕著になる。

このため、最近では、注入法に代わって滴下法が採用されている（特許文献２などを参照）。滴下法は、対向する２枚の基板のうちいずれか一方の基板の表面にシール部を形成し、その内部に液晶材料を滴下した後、この基板を他方の基板と貼り合わせ、シール部を固化する方法である。滴下法によれば、セル化と液晶材料の封入を同時に行うことができるという利点がある。

しかしながら、滴下法では、シール部に滴下する液晶材料の量を一定速度に制御することが困難なため、滴下量の過不足に伴って液晶セル内に気泡が残留する（残留気泡の発生）という問題を抱えている。このような滴下法における残留気泡を防止する技術が、例えば、特許文献３及び４に提案されている。特許文献３には、液晶量の不足に起因して生じる残留気泡の発生を防止する目的で、滴下した液晶材料の量が基準値から外れたときは、滴下した液晶材料を回収する方法が開示されている。また、特許文献４は、カラーフィルタ基板を有する液晶表示装置において、カラーフィルタから発生するガス（吸着水など）に起因して残留気泡が発生するという問題を解決するために、カラーフィルタ基板を加熱処理して脱ガス処理した後、液晶を滴下する方法が開示されている。
特開平１１−２４２２２５号公報 特公平８−２０６２７号公報 特開２００２−１０７７４０号公報 特開平１１−１７４４７７号公報

前述した滴下法における残留気泡の発生は、ＭＶＡ型液晶表示装置において顕著に見られる。例えば、前述した特許文献１のように画素電極に複数のスリットを設けた場合、スリット１１の延設方向（長辺方向）に交差する辺（短辺）の近傍（図７（ｂ）の１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆに相当する。）には、異なる方向に配向される液晶分子が存在するため、液晶分子の配向が乱れる「配向異常」が生じる。その結果、視角特性が低下するのみならず、パネルの表示輝度や応答速度も低下するという問題がある。さらに、黒表示から白表示へ変化するときに、一旦、所定の白よりも明るくなって残像として見えるという弊害もある。なお、スリットの短辺（端部）の近傍の電極部分は、スリットによって分割された部分電極を相互に接続するので、特許文献１にならって以下では、電気的接続部分と呼ぶことにする。

そこで、特許文献１の第６実施例では、カラーフィルタ基板側の対向電極にジグザグに屈曲された複数の突起列を設けるとともに、アクティブマトリクス基板側の画素電極に突起列に応じてジグザグに屈曲させた複数のスリットを設けた構成において、上述の配向異常が生じる部分を隠す目的で、図７（ｂ）に示すような周囲が閉じた開口部を有するブラックマトリクス（以下、ＢＭと呼ぶ場合がある。）１４０を形成している。また、特許文献１は、アクティブマトリクス基板に、画素電極の電位を安定化させるために設けられた補助容量電極によって電気的接続部分１２ｅ、１２ｆを遮光することも開示している。

ところが、このようなＢＭを用い、前述した滴下法によって液晶パネルを製造しようとすると、ＢＭが障壁となり、滴下された液晶材料が液晶セル内に充分行き渡らないために液晶材料の伸びが遅くなり、気泡が発生するという問題がある。

上述した問題点は、周囲が閉じた開口部を有するＢＭを設けた液晶表示装置であれば同様に見られ、ＭＶＡ型液晶表示装置、ＴＮ型液晶表示装置の種類を問わず、生じ得る。特に、応答速度を高めるために液晶層の厚さを小さくすると、液晶材料の伸びはさらに遅くなるため、気泡が一層発生しやすくなる。また、ＭＶＡ型液晶表示装置とＴＮ型液晶表示装置とを比較すると、ＭＶＡ型液晶表示装置の方が気泡の発生は顕著に見られる。この理由として、ＭＶＡ型液晶表示装置に用いられる液晶材料は、ＴＮ型液晶表示装置に用いられる液晶材料よりも粘度が高く、配向膜表面近傍の液晶材料の流動抵抗が大きい点、ＭＶＡ型液晶表示装置は、液晶分子の配向を規制する突起部を有している点などがある。

なお、前述した特許文献３および特許文献４の方法は、いずれも、開口部を有するＢＭの形成に伴って発生する残留気泡の発生を防止するために提案された技術ではないため、これらの方法によっても上記問題点を克服することは困難である。

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、滴下法などによって液晶パネルを作製したときに見られる残留気泡の発生を有効に防止し得るカラーフィルタ基板、および表示装置を提供することにある。

本発明のカラーフィルタ基板は、複数の行および複数の列を有するマトリクス状に配列された複数の画素を有する表示装置に用いられるカラーフィルタ基板であって、前記カラーフィルタ基板は、透明基板と前記透明基板上に設けられた複数の着色層とを備え、前記複数の着色層は、第１カラーフィルタ層、第２カラーフィルタ層、および遮光層を含み、前記第１カラーフィルタ層および前記第２カラーフィルタ層は、前記画素の列に対応して配置された第１カラーフィルタ列および第２カラーフィルタ列を含み、前記遮光層は、隣接する画素列の間隙に対応して配置された遮光列を含み、行方向に隣接する画素の間隙に対応する領域に、前記遮光列と前記第１カラーフィルタ列または前記第２カラーフィルタ列とが互いに重なる列間重畳領域が形成されているとともに、前記遮光列と、前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない列間非重畳領域が形成されており、前記列間非重畳領域は、前記隣接する画素の前記間隙の行方向に連続するように配置されていることを特徴としている。

ここで、「前記遮光列と前記第１カラーフィルタ列または前記第２カラーフィルタ列とが互いに重なる列間重畳領域」は、遮光列と第１カラーフィルタ列とが互いに重なっている領域、および遮光列と第２カラーフィルタ列とが互いに重なっている領域を含み、遮光列が第１または第２カラーフィルタ列のいずれか一方とのみ重なる領域を指すのではなく、遮光列と第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列とが重なっている「三層からなる重畳領域」も含む。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列は、前記列間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれは、それぞれの行方向の幅を規定する第１辺と第２辺とを有し、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、または前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向に平行な方向を＋ｘ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列は、＋ｘ方向に順次形成され、前記遮光列の前記第１辺は、前記列間非重畳領域に、前記遮光列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第１凹部を有し、前記遮光列の前記第２辺は、前記列間非重畳領域に、前記遮光列の前記第２辺から前記第１辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第２凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列に設けられた前記第１凹部は、前記遮光列に設けられた前記第２凹部と対向する位置に配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列に設けられた前記第１凹部と前記第２凹部とは連結されている。

ある好ましい実施形態では、前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列は、それぞれ、前記列間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列、前記第１カラーフィルタ列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれは、それぞれの行方向の幅を規定する第１辺と第２辺とを有し、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれの前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向に平行な方向を＋ｘ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列は、＋ｘ方向に順次形成され、前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺は、前記列間非重畳領域に、前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第１凹部を有し、前記第１カラーフィルタ列の前記第２辺は、前記列間非重畳領域に、前記第１カラーフィルタ列の前記第２辺から前記第１辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第２凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記第２カラーフィルタ列に設けられた前記第１凹部は、前記遮光列を介して前記第１カラーフィルタ列に設けられた前記第２凹部と対向する位置に配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列、前記第１カラーフィルタ列、および前記第２カラーフィルタ列は、それぞれ、前記列間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列、記第１カラーフィルタ列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれは、それぞれの行方向の幅を規定する第１辺と第２辺とを有し、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれの前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向に平行な方向を＋ｘ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列は、＋ｘ方向に順次形成され、前記遮光列の前記第１辺は、前記列間非重畳領域に、前記遮光列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第１凹部を有し、前記遮光列の前記第２辺は、前記列間非重畳領域に、前記遮光列の前記第２辺から前記第１辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第２凹部を有し、前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺は、前記列間非重畳領域に、前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第１凹部を有し、前記第１カラーフィルタ列の前記第２辺は、前記列間非重畳領域に、前記第１カラーフィルタ列の前記第２辺から前記第１辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第２凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列に設けられた前記第１凹部は、前記遮光列に設けられた前記第２凹部と対向する位置に配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列に設けられた前記第１凹部と前記第２凹部とは連結されている。

ある好ましい実施形態では、前記第１カラーフィルタ列に設けられた前記第２凹部は、前記第２カラーフィルタ列に設けられた前記第１凹部と対向する位置に配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記第２カラーフィルタ列に設けられた前記第１凹部と前記第１カラーフィルタ列に設けられた前記第２凹部とは、前記遮光列に設けられた前記第１凹部と前記第２凹部とを介して連結されている。

ある好ましい実施形態では、前記列間非重畳領域は、表示媒体層を挟んで前記カラーフィルタ基板と対向するように配置されるアクティブマトリクス基板上のデータ信号用配線に対向するように配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記データ信号用配線は、複数の支線と、前記複数の支線を連結する導通部分とを含み、前記導通部分に対応するように前記列間非重畳領域が形成されている。

ある好ましい実施形態では、前記列間非重畳領域は、前記アクティブマトリクス基板上の補助容量配線に対向するように配置されている。

本発明のカラーフィルタ基板は、複数の行および複数の列を有するマトリクス状に配列された複数の画素を有する表示装置に用いられるカラーフィルタ基板であって、前記カラーフィルタ基板は、透明基板と前記透明基板上に設けられた複数の着色層とを備え、前記複数の着色層は、第１カラーフィルタ層、第２カラーフィルタ層、および遮光層を含み、前記第１カラーフィルタ層および前記第２カラーフィルタ層は、前記画素の列に対応して配置された第１カラーフィルタ列および第２カラーフィルタ列を含み、前記遮光層は、隣接する画素行の間隙に対応して配置された遮光行を含み、列方向に隣接する画素の間隙に対応する領域に、前記遮光行と前記第１カラーフィルタ列または前記第２カラーフィルタ列とが互いに重なる行間重畳領域が形成されているとともに、前記遮光行と、前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない行間非重畳領域が形成されており、前記行間非重畳領域は、前記隣接する画素の前記間隙の列方向に連続するように配置されていることを特徴としている。

ここで、「前記遮光行と前記第１カラーフィルタ列または前記第２カラーフィルタ列とが互いに重なる行間重畳領域」は、遮光行と第１カラーフィルタ列とが互いに重なっている領域、および遮光行と第２カラーフィルタ列とが互いに重なっている領域を含み、遮光行が第１または第２カラーフィルタ列のいずれか一方とのみ重なる領域を指すのではなく、遮光行と第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列とが重なっている「三層からなる重畳領域」も含む。

ある好ましい実施形態では、前記遮光行は、前記行間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列、前記第１カラーフィルタ列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれは、それぞれの行方向の幅を規定する第１辺と第２辺とを有し、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれの前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向に平行な方向を＋ｘ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列は、＋ｘ方向に順次形成され、前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列は、それぞれ、前記画素のそれぞれに対応して配置された複数のカラーフィルタ部を含み、前記複数のカラーフィルタ部は、列方向に隣接する画素の間隙を介して、第１カラーフィルタ部と第２カラーフィルタ部とを含み、前記第１カラーフィルタ部、前記遮光行、および前記第２カラーフィルタ部のそれぞれは、それぞれの列方向の幅を規定する第３辺と第４辺とを有し、前記第１カラーフィルタ部、前記遮光行、または前記第２カラーフィルタ部の前記第３辺から前記第４辺に向かう列方向に平行な方向を＋ｙ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ部、前記遮光行、および前記第２カラーフィルタ部は、＋ｙ方向に順次形成され、前記遮光行の前記第３辺は、前記行間非重畳領域に、前記遮光行の前記第３辺から前記第４辺に向かう列方向にくびれた少なくとも１つの第３凹部を有し、前記遮光行の前記第４辺は、前記行間非重畳領域に、前記遮光行の前記第４辺から前記第３辺に向かう列方向にくびれた少なくとも１つの第４凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光行に設けられた前記第３凹部は、前記遮光行に設けられた前記第４凹部と対向する位置に配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記遮光行に設けられた前記第３凹部と前記第４凹部とは連結されている。

ある好ましい実施形態では、前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列は、それぞれ、前記行間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列、前記第１カラーフィルタ列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれは、それぞれの行方向の幅を規定する第１辺と第２辺とを有し、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれの前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向に平行な方向を＋ｘ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列は、＋ｘ方向に順次形成され、前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列は、それぞれ、前記画素のそれぞれに対応して配置された複数のカラーフィルタ部を含み、前記複数のカラーフィルタ部は、列方向に隣接する画素の間隙を介して、第１カラーフィルタ部と第２カラーフィルタ部とを含み、前記第１カラーフィルタ部、前記遮光行、および前記第２カラーフィルタ部のそれぞれは、それぞれの列方向の幅を規定する第３辺と第４辺とを有し、前記第１カラーフィルタ部、前記遮光行、または前記第２カラーフィルタ部の前記第３辺から前記第４辺に向かう列方向に平行な方向を＋ｙ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ部、前記遮光行、および前記第２カラーフィルタ部は、＋ｙ方向に順次形成され、前記第２カラーフィルタ部の前記第３辺は、前記行間非重畳領域に、前記第２カラーフィルタ部の前記第３辺から前記第４辺に向かう列方向にくびれた少なくとも１つの第３凹部を有し、前記第１カラーフィルタ部の前記第４辺は、前記行間非重畳領域に、前記第１カラーフィルタ部の前記第４辺から前記第３辺に向かう列方向にくびれた少なくとも１つの第４凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記第２カラーフィルタ部に設けられた前記第３凹部は、前記遮光行を介して、前記第１カラーフィルタ部に設けられた前記第４凹部と対向する位置に配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記遮光行、および前記第１カラーフィルタ列または前記第２カラーフィルタ列は、それぞれ、前記行間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光行、前記第１カラーフィルタ列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれは、それぞれの行方向の幅を規定する第１辺と第２辺とを有し、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれの前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向に平行な方向を＋ｘ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列は、＋ｘ方向に順次形成され、前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列は、それぞれ、前記画素のそれぞれに対応して配置された複数のカラーフィルタ部を含み、前記複数のカラーフィルタ部は、列方向に隣接する画素の間隙を介して第１カラーフィルタ部と第２カラーフィルタ部とを含み、前記第１カラーフィルタ部、前記遮光行、および前記第２カラーフィルタ部のそれぞれは、それぞれの列方向の幅を規定する第３辺と第４辺とを有し、前記第１カラーフィルタ部、前記遮光行、または前記第２カラーフィルタ部の前記第３辺から前記第４辺に向かう列方向に平行な方向を＋ｙ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ部、前記遮光行、および前記第２カラーフィルタ部は、＋ｙ方向に順次形成され、前記遮光行の前記第３辺は、前記行間非重畳領域に、前記遮光行の前記第３辺から前記第４辺に向かう列方向にくびれた少なくとも１つの第３凹部を有し、前記遮光行の前記第４辺は、前記行間非重畳領域に、前記遮光行の前記第４辺から前記第３辺に向かう列方向にくびれた少なくとも１つの第４凹部を有し、前記第２カラーフィルタ部の前記第３辺は、前記行間非重畳領域に、前記第２カラーフィルタ部の前記第３辺から前記第４辺に向かう列方向にくびれた少なくとも１つの第３凹部を有し、前記第１カラーフィルタ部の前記第４辺は、前記行間非重畳領域に、前記第１カラーフィルタ部の前記第４辺から前記第３辺に向かう列方向にくびれた少なくとも１つの第４凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光行に設けられた前記第３凹部は、前記遮光行に設けられた前記第４凹部と対向する位置に配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記遮光行に設けられた前記第３凹部と前記第４凹部とは連結されている。

ある好ましい実施形態では、前記第２カラーフィルタ部に設けられた前記第３凹部は、前記遮光行を介して、前記第１カラーフィルタ部に設けられた前記第４凹部と対向する位置に配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記第２カラーフィルタ部に設けられた前記第３凹部と前記第１カラーフィルタ部に設けられた前記第４凹部とは、前記遮光行に設けられた前記第３凹部と前記第４凹部とを介して連結されている。

ある好ましい実施形態では、前記行間非重畳領域は、表示媒体層を挟んで前記カラーフィルタ基板と対向するように配置されるアクティブマトリクス基板上の走査信号用配線に対向するように配置されている。

ある好ましい実施形態では、行方向に隣接する画素の間隙に対応する領域に、前記遮光列と前記第１カラーフィルタ列または前記第２カラーフィルタ列とが互いに重なる列間重畳領域が形成されているとともに、前記遮光列と、前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない列間非重畳領域が形成されており、前記列間非重畳領域は、前記隣接する画素の前記間隙の行方向に連続するように配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列は、前記列間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列の前記第１辺は、前記列間非重畳領域に、前記遮光列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第１凹部を有し、前記遮光列の前記第２辺は、前記列間非重畳領域に、前記遮光列の前記第２辺から前記第１辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第２凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列に設けられた前記第１凹部は、前記遮光列に設けられた前記第２凹部と対向する位置に配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列に設けられた前記第１凹部と前記第２凹部とは連結されている。

ある好ましい実施形態では、前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列は、それぞれ、前記列間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺は、前記列間非重畳領域に、前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第１凹部を有し、前記第１カラーフィルタ列の前記第２辺は、前記列間非重畳領域に、前記第１カラーフィルタ列の前記第２辺から前記第１辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第２凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記第２カラーフィルタ列に設けられた前記第１凹部は、前記遮光列を介して前記第１カラーフィルタ列に設けられた前記第２凹部と対向する位置に配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列、前記第１カラーフィルタ列、および前記第２カラーフィルタ列は、それぞれ、前記列間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列、記第１カラーフィルタ列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれは、それぞれの行方向の幅を規定する第１辺と第２辺とを有し、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれの前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向に平行な方向を＋ｘ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列は、＋ｘ方向に順次形成され、前記遮光列の前記第１辺は、前記列間非重畳領域に、前記遮光列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第１凹部を有し、前記遮光列の前記第２辺は、前記列間非重畳領域に、前記遮光列の前記第２辺から前記第１辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第２凹部を有し、前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺は、前記列間非重畳領域に、前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第１凹部を有し、前記第１カラーフィルタ列の前記第２辺は、前記列間非重畳領域に、前記第１カラーフィルタ列の前記第２辺から前記第１辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第２凹部を有する。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列に設けられた前記第１凹部は、前記遮光列に設けられた前記第２凹部と対向する位置に配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記遮光列に設けられた前記第１凹部と前記第２凹部とは連結されている。

ある好ましい実施形態では、前記第１カラーフィルタ列に設けられた前記第２凹部は、前記第２カラーフィルタ列に設けられた前記第１凹部と対向する位置に配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記第２カラーフィルタ列に設けられた前記第１凹部と前記第１カラーフィルタ列に設けられた前記第２凹部とは、前記遮光列に設けられた前記第１凹部と前記第２凹部とを介して連結されている。

ある好ましい実施形態では、前記列間非重畳領域は、表示媒体層を挟んで前記カラーフィルタ基板と対向するように配置されるアクティブマトリクス基板上のデータ信号用配線に対向するように配置されている。

ある好ましい実施形態では、前記データ信号用配線は、複数の支線と、前記複数の支線を連結する導通部分とを含み、前記導通部分に対応するように前記列間非重畳領域が形成されている。

ある好ましい実施形態では、前記表示装置は液晶表示装置であって、前記カラーフィルタ基板は、前記画素に対応する領域に液晶分子の配向を規制する突起部をさらに有する。

本発明の表示装置は、前記カラーフィルタ基板と、前記カラーフィルタ基板に対向して配置されているアクティブマトリクス基板と、前記カラーフィルタ基板と前記アクティブマトリクス基板との間に配置された表示媒体層とを有することを特徴としている。

ある好ましい実施形態では、前記表示装置は液晶表示装置であって、前記アクティブマトリクス基板は画素電極を有し、前記画素電極はスリットをさらに有する。

本発明による液晶表示装置の製造方法は、カラーフィルタ基板およびアクティブマトリクス基板に焼成処理を施す工程と、これらの基板上に配向膜を形成する工程と、前記配向膜を洗浄した後、焼成処理を施す工程と、滴下法によって液晶表示パネルを作製する工程とを包含する。

本発明によれば、滴下法などによって液晶パネルを作製したときに見られる残留気泡の発生を有効に防止することができるカラーフィルタ基板が得られる。本発明のカラーフィルタ基板を用いれば、配向異常や表示ムラがなく、高開口率を有し、良好な表示品位の広視野角液晶表示装置を得ることができる。

以下、図面を参照しながら本発明のカラーフィルタ基板を説明する。

本発明のカラーフィルタ基板は、複数の行および複数の列を有するマトリクス状に配列された複数の画素を有する表示装置に用いられる。ここで「マトリクス状に配列された」とは、複数の画素が、データ信号用配線（列方向）および走査信号用配線（行方向）に配列されているストライプ配列が代表的に例示されるが、これに限定されず、デルタ配列なども含まれる。以下では、アクティブマトリクス型液晶表示装置に用いられるストライプ配列のカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板を例に実施形態を説明するが、本発明はこれに限定されない。

図１を参照しながら、一般的なＭＶＡ型のアクティブマトリクス型液晶表示装置の構造を説明する。図１は液晶表示装置の断面概略図である。

図１に示すように液晶表示装置１００は、互いに対向するように配置されたアクティブマトリクス基板３０およびカラーフィルタ基板２０と、これらの基板の間に配置された液晶層（不図示）とを備えている。

アクティブマトリクス基板３０は、ガラス等の透明絶縁性基板１０と、透明絶縁性基板１０上に形成された走査信号線用のゲート配線（不図示）、データ信号線用のソース配線、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）などのアクティブ素子３、および透明画素電極９とを備えている。複数の透明画素電極９は、表示領域でマトリクス状に配列されている。

カラーフィルタ基板２０は、ガラス等の透明絶縁性基板１０と、透明絶縁性基板１０に形成された複数の着色層２１、対向電極（不図示）、対向電極に設けられた配向制御用の突起部２２、およびこれらを覆う配向膜（不図示）とを備えている。複数の着色層２１は、複数のカラーフィルタ層と遮光層とを含んでいる。図１には、４つのカラーフィルタ層と４つの遮光層を含む着色層２１が図示されている。

カラーフィルタ層は、画素の列（画素列）に対応して配置される複数の「カラーフィルタ列」と、画素の行（画素行）に対応して配置される複数の「カラーフィルタ行」とを含む。このうち「カラーフィルタ列」は、同色の複数のカラーフィルタを含み、典型的には、ゲートバスラインによって遮光される部分と一体に、１つの短冊状のカラーフィルタ列として形成される。ただし、「カラーフィルタ列」はこれに限定されず、画素のそれぞれに対応して分断して配置される複数の「カラーフィルタ部」として構成されたものも含む。またカラーフィルタ行は、異なる色のカラーフィルタが巡回的（例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の順）に配列されている。なお、カラーフィルタは、画素に対応する部分を指し、分断されている場合にカラーフィルタ部ということにする。

一方、遮光層は、隣接する画素列の間隙に対応して配置される複数の「遮光列」と、隣接する画素の行（画素行）に対応して配置される複数の「遮光行」とを含む。なお、カラーフィルタ列が、複数のカラーフィルタ部が配列された集合形態としてではなく、１つの短冊形態として存在する場合は、「遮光行」は有していなくともよい。本明細書では、便宜上、隣接する画素列の間隙に対応する領域を「列間領域」と呼び、隣接する画素行の間隙に対応する領域を「行間領域」と呼ぶ場合がある。

また、カラーフィルタ列（カラーフィルタ部を含む）および遮光列における「第１辺」または「第２辺」とは、それぞれの行方向の幅を規定する辺を指す。カラーフィルタ列が複数のカラーフィルタ部を含む場合、カラーフィルタ部および遮光行における「第３辺」または「第４辺」とは、それぞれの列方向の幅を規定する辺を指す。

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。なお、下記実施形態では、いずれも、アクティブマトリクス基板側に設けられた画素電極にスリットを形成し、カラーフィルタ基板側に設けられた対向電極に、液晶分子の配向を規制する突起部を形成したＭＶＡ型液晶表示装置を例示しているが、本発明はこれに限定されず、例えば、スリットと突起部の配置を逆にし、アクティブマトリクス基板側の画素電極に突起部を設け、カラーフィルタ基板側の対向電極にスリットを形成してもよい。あるいは、画素電極および対向電極の両方に突起部を形成してもよく、突起部の代わりにスリットを形成してもよい。さらに、ＭＶＡ型液晶表示装置に限定されず、ＴＮ型液晶表示装置やＩＰＳ型液晶表示装置に適用してもよい。ただし、上述したように突起部を有するＭＶＡ型液晶表示装置は、気泡が残留しやすいので顕著な効果が得られる。

本発明の液晶表示装置は、液晶表示装置の画素の周辺に形成される積層構造が画素内に液晶材料が流れ込むことを阻害することに起因する残留気泡の発生を抑制するために、当該積層構造の一部に選択的に高さが低い領域、すなわち、積層構造を構成する複数の層の一部が存在しない領域を有することを特徴とする。画素の周辺に形成される積層構造は、主に遮光のために形成され、典型的には、遮光層（ブラックマトリクス、ＢＭといわれる。）と１層または２層以上のカラーフィルタ層との積層構造、または、複数のカラーフィルタ層の積層構造である。

なお、積層構造は、画素の周辺を包囲するように形成される場合だけでなく、行方向に隣接する画素間、または、列方向に隣接する画素間に選択的に形成されることもある。これらの場合においても、積層構造に交差する方向への液晶材料の移動は阻害されるので、積層構造を構成する複数の層の一部が存在しない領域を設けることによって、残留気泡の発生を抑制することができる。

ここでは、積層構造を構成する複数の層の少なくとも一部の層が存在しない領域を「非重畳領域」と呼び、積層構造を構成する層が全く存在しない領域も含む。これに対し、「重畳領域」とは、液晶材料の移動を阻害する最も積層層数の多い領域をいう。

以下の実施形態では、典型的な例として、遮光層とカラーフィルタ層との積層構造が重畳領域を形成する例を説明する。

（実施形態１）
本発明によるカラーフィルタ基板の第１の実施形態は、行方向に隣接する画素の間隙に対応する領域に、遮光列と第１カラーフィルタ列または第２カラーフィルタ列とが互いに重なる列間重畳領域が形成されているとともに、遮光列と、第１カラーフィルタ列および第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない列間非重畳領域が形成されており、列間非重畳領域には、少なくとも１つの凹部を有する遮光列が行方向に連続するように配置されたカラーフィルタ基板に関している。詳細には、本実施形態のカラーフィルタ基板は、遮光列の第１辺に形成された第１凹部と、遮光列の第２辺に形成された第２凹部とが連結し、行方向への開口部が形成された非重畳領域を有している。

ここで、「遮光列と第１カラーフィルタ列または第２カラーフィルタ列とが互いに重なる列間重畳領域」は、遮光列と第１カラーフィルタ列とが互いに重なっている領域、および遮光列と第２カラーフィルタ列とが互いに重なっている領域を含み、遮光列が第１または第２カラーフィルタ列のいずれか一方とのみ重なる領域を指すのではなく、遮光列と第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列とが重なっている「三層からなる重畳領域」も含む。

また、「列間非重畳領域」とは、遮光列と、第１カラーフィルタ列および第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない領域を意味し、第１カラーフィルタ列、第２カラーフィルタ列、および遮光列のそれぞれが単独で形成されている領域と、第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列とが互いに重なる領域と、これらが全く存在しない領域とを含む。

具体的には、「列間非重畳領域」の構成は、「列間重畳領域」との関係で決定される。例えば、図６および図１０A（後記する）に示すように、遮光列と第１カラーフィルタ列、または遮光列と第２カラーフィルタ列とが重なった二層の列間重畳領域が形成されている場合は、列間非重畳領域として、二層よりも高さが低い領域（すなわち、第１カラーフィルタ列、第２カラーフィルタ列、および遮光列のそれぞれが単独で形成されている領域と、これらが全く存在しない領域）が含まれる。一方、図１０Ｂ（後記する）に示すように、遮光列と第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列とが互いに重なった三層の列間重畳領域が形成されている場合は、列間非重畳領域として、三層よりも高さが低い領域（すなわち、第１カラーフィルタ列、第２カラーフィルタ列、および遮光列のそれぞれが単独で形成されている領域と、第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列とが互いに重なる領域と、これらが全く存在しない領域）が含まれる。

「列間非重畳領域が行方向に連続するように配置されている」とは、上述した構成を備えた列間非重畳領域が、列間領域に、その途中で分断することなく行方向に連続して形成されていることを意味する。

このような列間非重畳領域は、遮光列に少なくとも１つ有していればよい。少なくとも１つの非重畳領域が形成されていれば、液晶材料が画素列内をスムーズに移動することのできる良好な通り道が得られるからである。従って、本実施形態のように、画素毎に、遮光列の第１および第２辺に形成された各凹部が連結して形成された開口部を３つ設ける必要はなく、複数の画素毎（例えば、画素１０個毎）に開口部を設けても所定の効果を得ることができる。液晶材料の流れやすさを考慮すると、画素毎に、少なくとも１つの開口部を設けることが好ましい。

遮光列に形成される凹部の形状は特に限定されず、例えば、三角形状、台形状、四角形状などの多角形が例示される。

遮光列に形成される凹部の幅および数は、ＴＦＴなどのアクティブ素子を遮光し得、電気的接続部分における配向異常部を隠すことができれば特に限定されないが、許容される範囲で、凹部の幅が広くて数も多い方が好ましい。詳細には、データ配線の導通部分と画素電極との間に寄生する容量の許容される範囲や、パターニング制度などによっても相違するが、例えば、凹部の幅を３μｍ〜１０μｍとし、凹部の数を１〜３とすることが好ましい。

以下、図２から図５を参照しながら、本実施形態のカラーフィルタ基板、および上記カラーフィルタ基板を用いて構成された本実施形態の液晶表示装置を説明する。さらに、図２、および図６から図１０参照しながら、本実施形態における列間重畳領域と列間非重畳領域との関係を詳しく説明する。

図２は、実施形態１のカラーフィルタ基板を説明するための平面図である。なお、図２のＸ−Ｘ’（列間重畳領域）に対応する断面図は、前述した図１に示したカラーフィルタ基板と同様である。図２では、カラーフィルタ基板を構成する他の要件（例えば、対向電極に設けられた配向制御用の突起部など）は省略している。図３（ａ）は、本実施形態のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置を説明するための平面図、図３（ｂ）は、アクティブマトリクス基板側に形成された透明画素電極のスリットパターンと、遮光層との位置関係を説明するための平面図であり、図３（ｃ）は、ソース配線４の拡大図である。図４および図５は、いずれも、図３（ａ）に示す液晶表示装置の断面図である。このうち図４は、図３（ａ）のＣ−Ｃ’（列間領域）に対応する断面を、図５は、図３（ａ）のＢ−Ｂ’（行間領域）に対応する断面を、それぞれ、示している。

図２に示すように、第１カラーフィルタ列６０、遮光列７０、および第２カラーフィルタ列８０のそれぞれは、それぞれの行方向の幅を規定する第１辺と第２辺とを有している。例えば、第１カラーフィルタ列６０は、行方向の幅を規定する第１辺６１と第２辺６２とを有し、第２カラーフィルタ列８０は、行方向の幅を規定する第１辺８１と第２辺８２とを有している。同様に、遮光列７０は、行方向の幅を規定する第１辺７１と第２辺７２とを有している。これらは、それぞれの第１辺から第２辺に向かう行方向に平行な方向を＋ｘ方向としたとき、＋ｘ方向に順次形成されている。

遮光列７０は、導通部分１１０（図３）に対向する位置に配置されている。画素（不図示）に対応する列間領域は、導通部分１１０（図３）、およびゲート配線１に平行な補助容量配線２とソース配線４との両方に対向する位置に、合計３つの開口部７３を有している（図３（ａ）の矢印部分）。それぞれの開口部７３によって規定される非重畳領域は、図２中の左から、第１カラーフィルタ列のみ存在する部分、いずれのカラーフィルタ列も遮光列も存在しない部分、第２カラーフィルタ列間のみ存在する部分で構成されている。このように、遮光列と、第１および第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない非重畳領域が列間領域の行方向に連結して形成された領域（開口部７３）は、滴下された液晶材料が液晶セル内をスムーズに移動するための良好な通り道となるため、残留気泡の発生を有効に防止することができる。

本実施形態における列間重畳領域と列間非重畳領域との関係は、詳しくは、図６（ａ）から（ｃ）に示すとおりである。図６（ａ）は、図２のカラーフィルタ基板の一部拡大図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、図６（ｃ）は、図６（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。

図２に示すように、本実施形態のカラーフィルタ基板は、行方向に隣接する画素の列（画素列）のそれぞれに対応して配置された第１カラーフィルタ列６０および第２カラーフィルタ列８０を含むとともに、画素列の間隙に対応して配置された遮光列７０を含んでいる。

図６（ａ）に示すように、画素列の間隙に対応する領域（列間領域）１２０には、開口部７３を備えた遮光列７０が形成されている。開口部７３は、遮光列７０の第１辺７１から第２辺７２に向かう行方向にくびれた第１凹部（不図示）と、遮光列７０の第２辺７２から第１辺７１に向かう行方向にくびれた第２凹部（不図示）とが連結して形成される。

図６（ａ）に示す列間領域１２０のうちＤ−Ｄ’に対応する列間領域には、図６（ｂ）に示すように、第１カラーフィルタ列６０と遮光列７０とが重なる重畳領域１２１、および第２カラーフィルタ列８０と遮光列７０とが重なる重畳領域１２３が形成されるとともに、遮光列７０のみ存在する非重畳領域１２２が形成されている。一方、図６（ａ）のＥ−Ｅ’に対応する列間領域１２０には、図６（ｃ）に示すように、第１カラーフィルタ列のみ存在する非重畳領域１２４、遮光列もいずれのカラーフィルタ列も存在しない非重畳領域１２５、および第２カラーフィルタ列のみ存在する非重畳領域１２６が、行方向に向かって連続して配置されている。このように本実施形態では、少なくとも１つの凹部を有する遮光列によって規定される列間非重畳領域が行方向に連続するように配置され、液晶材料が液晶セル内をスムーズに移動することのできる通り道を形成したところに特徴がある。

遮光列の第１辺および第２辺に形成される第１凹部および第２凹部は、対向するように配置されていることが好ましい。しかしながら、これに限定する必要はなく、行方向に連続するように配置されていれば液晶材料の良好な通り道となり得るため、例えば、第１凹部と第２凹部とが斜め方向に配置されている態様も包含まれる。

列間非重畳領域は、色抜け（光漏れ）を防止するという観点から、アクティブマトリクス基板側のデータ信号用配線（ソース配線）に対向するように形成することが好ましい。

なお、本実施形態のように冗長構造を有するソース配線を備える構成においては、列間非重畳領域を導通部分１１０に対向する位置に設けることが好ましい。これは、後述する実施形態についても同様である。図３（ａ）に示すソース配線４は、図３（ｃ）の拡大図で詳しく示すとおり、複数の支線４ａ、４ｂと、これらの支線を連結する導通部分１１０とを含んでいる。導通部分１１０により、２つのソース配線の片側が断線しても、不良とならない冗長構造となっている。このように導通部分１１０に対向する位置に列間非重畳領域を形成することにより、前述した色抜けの防止効果に加えて断線防止効果も得ることができる。

さらに、カラーフィルタ基板とアクティブマトリクス基板とを貼り合わせて液晶表示装置を作製するときに生じるアライメントずれ（位置あわせのズレ）を防止する目的で、遮光列に形成される凹部は、補助容量配線２に対向するように（詳細には、ゲート配線１に平行な補助容量配線２と、ソース配線４との両方に対向する位置）形成することが最も好ましい。補助容量配線２により、行方向のアライメントずれに基づく光漏れや色抜けなどを防止できるからである。これは、後述する実施形態についても同様である。

この点について、図２７を参照しながら詳しく説明する。図２７は、本実施形態のカラーフィルタ基板を用いて図３（ａ）に示す液晶表示装置を作製する際、行方向にアライメントずれが生じたときの図３（ａ）のＡ−Ａ’に対応する断面図である。

図６（ａ）に示したような開口部を有する遮光列を備えたカラーフィルタ基板をアクティブマトリクス基板３０と貼り合わせる際、図２７に示すように、行方向（すなわち、ゲート配線または補助容量配線の方向）のアライメントずれが生じると、ソース配線４に対応する位置に設けた遮光列の開口部Ｘの一部が画素内に配置されて光漏れが発生したり、あるいは、透明画素電極９に対応する位置にカラーフィルタ列２１が配置されず、色抜けが発生して表示品位が低下する。さらに、アライメントずれが大きくなると、隣接するカラーフィルタ列との間で混色が生じ、表示品位が一層低下する。このようなアライメントずれによる弊害を有効に防止するためには、補助容量配線に対応する位置に列間非重畳領域（本実施形態の場合は、開口部を有する遮光列）を形成すれば良い。

比較のために、図７から図９を参照しながら、従来のカラーフィルタ基板を説明する。図７（ａ）は、従来のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置を説明するための平面図であり、図７（ｂ）は、アクティブマトリクス基板側に形成された透明画素電極と、遮光列との位置関係を説明するための平面図である。図８および図９は、いずれも、図７（ａ）に示す液晶表示装置の断面図である。このうち図８は、図７（ａ）のＣ−Ｃ’（列間領域）に対応する断面を、図９は、図７（ａ）のＢ−Ｂ’（行間領域）に対応する断面を、それぞれ、示している。

これらの図より明らかなように、従来のカラーフィルタ基板は、周囲が閉じた開口部を有しており、列間領域に配置された遮光列は、凹部を全く含んでいない。同様に、行間領域に配置された遮光列も凹部を含んでいない。すなわち、従来のカラーフィルタ基板は、列間領域および行間領域のいずれの断面をとっても前述した図６（ｂ）に示すようになり、列間領域には、遮光列と、第１または第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない非重畳領域が行方向に連続するように配置されていないため、液晶材料の流れが阻害され、気泡が発生しやすくなる。

なお、本実施形態では、遮光列の第１辺に形成された第１凹部と、遮光列の第２辺に形成された第２凹部とが連結して開口部を形成しているが、「少なくとも１つの凹部を有する遮光列が行方向に連続するように配置された列間非重畳領域」の態様は、これに限定されない。本実施形態の改変例を図１０Ａおよび図１０Ｂに示す。

このうち図１０Ａは、第１凹部と第２凹部とが連結していない（すなわち、開口部を形成しない）カラーフィルタ基板である。図１０Ａ（ａ）は、このような開口部を形成しない実施形態のカラーフィルタ基板において、遮光列７０の第１辺７１に形成された第１凹部７６と第２辺７２に形成された第２凹部７７との関係を示す説明図であり、図１０Ａ（ｂ）は、図１０Ａ（ａ）のＤ−Ｄ’に対応する断面図、図１０Ａ（ｃ）は、図１０Ａ（ａ）のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。

このうち、図１０Ａ（ｂ）の構成は、前述した図６（ｂ）の構成と同じである。すなわち、図１０Ａ（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する列間領域には、図１０Ａ（ｂ）に示すように、第１カラーフィルタ列６０と遮光列７０とが重なる重畳領域１２１、および第２カラーフィルタ列８０と遮光列７０とが重なる重畳領域１２３が形成されるとともに、遮光列７０のみ存在する非重畳領域１２２が形成されている。一方、図１０Ａ（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する列間領域には、図１０Ａ（ｃ）に示すように、第１カラーフィルタ列のみ存在する非重畳領域１２４、遮光列もいずれのカラーフィルタ列も存在しない非重畳領域１２５、遮光列のみ存在する非重畳領域１２２、遮光列もいずれのカラーフィルタ列も存在しない非重畳領域１２５、および第２カラーフィルタ列のみ存在する非重畳領域１２６が、行方向に向かって連続して配置されている。このような非重畳領域も液晶材料の良好な通り道となるため、残留気泡の発生を防止することが可能である。

また、図１０Ｂに、遮光列と第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列とが互いに重なる「三層からなる重畳領域」が形成されているとともに、列間非重畳領域は、第１カラーフィルタ列のみ存在する部分、第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列とが互いに重なっている部分、および第２カラーフィルタ列のみ存在する部分で構成されたカラーフィルタ基板を示す。本実施形態において「前記遮光列と前記第１カラーフィルタ列または前記第２カラーフィルタ列とが互いに重なる列間重畳領域」とは、遮光列と第１カラーフィルタ列とが互いに重なっている領域、および遮光列と第２カラーフィルタ列とが互いに重なっている領域を含み、遮光列が第１または第２カラーフィルタ列のいずれか一方とのみ重なる領域を指すのではなく、遮光列と第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列とが重なっている「三層からなる重畳領域」も含んでいる。図１０Ｂは、このようなカラーフィルタ基板に関している。

図１０Ｂ（ａ）は、上記カラーフィルタ基板を説明するための図であり、図１０Ｂ（ｂ）は、図１０Ｂ（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、図１０Ｂ（ｃ）は、図１０Ｂ（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。

図１０Ｂ（ａ）に示すように、列間領域１２０には、開口部７３を備えた遮光列７０が形成されているとともに、当該遮光列７０と互いに重なるように第１カラーフィルタ列６０および第２カラーフィルタ列８０が配置されている。開口部７３は、遮光列７０の第１辺７１から第２辺７２に向かう行方向にくびれた第１凹部（不図示）と、遮光列７０の第２辺７２から第１辺７１に向かう行方向にくびれた第２凹部（不図示）とが連結して形成される。

図１０Ｂ（ａ）に示す列間領域１２０のうちＤ−Ｄ’に対応する列間領域には、図１０Ｂ（ｂ）に示すように、第１カラーフィルタ列６０と遮光列７０とが重なる重畳領域１２１、および第２カラーフィルタ列８０と遮光列７０とが重なる重畳領域１２３が形成されているとともに、第１カラーフィルタ列６０と遮光列７０と第２カラーフィルタ列８０とがすべて重なる重畳領域１２７が形成されている。一方、図１０Ｂ（ａ）のＥ−Ｅ’に対応する列間領域１２０には、図１０Ｂ（ｃ）に示すように、第１カラーフィルタ列のみ存在する非重畳領域１２４、第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列とが互いに重なる非重畳領域１２８、および第２カラーフィルタ列のみ存在する非重畳領域１２６が、行方向に向かって連続して配置されている。このような構成もまた、滴下された液晶材料が液晶セル内をスムーズに移動するための良好な通り道となり得るため、残留気泡の発生を有効に防止することができる。

上記の実施形態ではいずれも、列間領域に遮光列を有しており、遮光列と、第１および第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない列間非重畳領域が行方向に連続して配置されることにより、液晶材料の良好な通り道が形成されて残留気泡の発生を防止している。しかしながら、本実施形態による作用効果は、必ずしも、遮光列を備えたカラーフィルタ基板に限って発揮されるものではなく、遮光列がなく複数のカラーフィルタ列（例えば赤カラーフィルタ列、青カラーフィルタ列、および青カラーフィルタ列）のみで構成されたカラーフィルタ基板であっても、液晶の良好な通り道となり得る領域が形成されていれば同様の作用効果を発揮し得る。

以下、図１０Ｃ（ａ）から（ｃ）を参照しながら、遮光列のないカラーフィルタ基板の態様を説明する。この態様は、赤、青、および緑の三色のカラーフィルタ列のみで構成されたカラーフィルタ基板に関し、図１０C（ａ）および（ｃ）に示すように、赤カラーフィルタ列と青カラーフィルタの少なくとも一方が重なるように緑カラーフィルタ列の一部に凹部を設けることにより、遮光列と同等の機能を付与している。なお、遮光効果の観点からすれば、図１０Ｃに示すように、赤カラーフィルタ列と青カラーフィルタ列とが重なっていることが好ましい。

図１０Ｃ（ａ）は、上記カラーフィルタ基板を説明するための図であり、図１０Ｃ（ｂ）は、図１０Ｃ（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、図１０Ｂ（ｃ）は、図１０Ｃ（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。

図１０Ｃ（ａ）に示すように、列間領域１２０には、凹部を備えた緑カラーフィルタ列Ｇが形成されているとともに、緑カラーフィルタ列Ｇと互いに重なり合うように赤カラーフィルタ列Ｒおよび青カラーフィルタ列Ｂが配置されている。

図１０Ｃ（ａ）に示す列間領域１２０のうちＤ−Ｄ’に対応する列間領域には、図１０Ｃ（ｂ）に示すように、緑カラーフィルタ列Ｇと赤カラーフィルタ列Ｒとが重なる領域１６２、および赤カラーフィルタ列Ｒと青カラーフィルタ列Ｂとが重なる領域１６４が形成されるとともに、緑カラーフィルタ列Ｇと赤カラーフィルタ列Ｒと青カラーフィルタ列Ｂとがすべて重なる領域１６３が形成されている。一方、図１０Ｃ（ａ）のＥ−Ｅ’に対応する列間領域１２０には、図１０Ｃ（ｃ）に示すように、赤カラーフィルタ列Ｒのみ存在する領域１６５、および赤カラーフィルタ列Ｒと青カラーフィルタ列Ｂとが互いに重なる領域１６４が、行方向に向かって連続して配置されている。これらの領域１６５および１６４は、残留気泡の発生を防止する「列間非重畳領域」として機能するため、残留気泡の発生を抑制することができる。

次に、図３から図５を参照しながら、本実施形態のカラーフィルタ基板を用いて作製される液晶表示装置を説明する。

前述したとおり、本実施形態の液晶表示装置は、互いに対向して配置されたアクティブマトリクス基板３０およびカラーフィルタ基板２０と、これらの基板間に挟持された液晶層（不図示）とを備えている（図４および図５を参照）。

アクティブマトリクス基板３０は、絶縁性透明基板１０において、ゲート絶縁膜５０を介して交差するように配置された走査信号用配線（ゲート配線）１およびデータ信号用配線（ソース線）４と、これらの交差部近傍に配置されたＴＦＴなどのアクティブ素子３とを有している。ソース４は、前述したとおり、複数の支線４ａ、４ｂと、これらの支線を連結する導通部分１１０とを含んでいる（図３（ｃ））。

図３（ａ）に詳しく示すように、アクティブマトリクス基板３０は、走査信号用配線（ゲート配線）１と、ゲート配線と略平行に形成された補助容量配線２、画素電極９の電位を安定化させるための補助容量形成電極６、ＴＦＴなどのアクティブ素子３に接続されたドレイン引き出し配線５、層間絶縁膜７に形成されたコンタクトホール８を介してドレイン引き出し配線５に接続された画素電極９などを備えている。画素電極９は、複数のスリット（画素電極スリット）１１を有している。

ところで、スリット１１の延設方向（長辺方向）に交差する辺（短辺）に対応する電気的接続部分１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆには、前述したとおり、液晶分子の配向が乱れて配向異常が生じやすい。そこで、これらの配向異常が生じる部分を隠す目的で、図３（ａ）に示すように、電気的接続部分１２ａ〜１２ｄは遮光層１４０と重なるように配置し、残りの電気的接続部分１２ｅ〜１２ｆは補助容量配線２と重なるように配置することが好ましい。これにより、これらの電気的接続部分１２ａ〜１２ｆで生じる配向異常による表示品位の低下を防止することができる。そのため、本実施形態では、列間非重畳領域を構成する遮光列上の開口部は、すべて、これら電気的接続部分が配置されている部分とは異なる部分（図３（ａ）中の矢印部分）に設けている。

（実施形態２）
本発明によるカラーフィルタ基板の第２の実施形態は、行方向に隣接する画素の間隙に対応する領域に、遮光列と第１カラーフィルタ列または第２カラーフィルタ列とが互いに重なる列間重畳領域が形成されているとともに、遮光列と、第１カラーフィルタ列および第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない列間非重畳領域が形成されており、列間非重畳領域には、少なくとも１つの凹部を有する第１および第２カラーフィルタ列が行方向に連続するように配置されたカラーフィルタ基板に関している。具体的には、列間非重畳領域に、第２カラーフィルタ列の第１辺から第２辺に向かう行方向にくびれた第１凹部と、第１カラーフィルタ列の第２辺から第１辺に向かう行方向にくびれた第２凹部とを有するカラーフィルタ基板である。

本実施形態と実施形態１とは、列間領域に、液晶の通り道となる列間非重畳領域を形成している点で一致するが、本実施形態は、列間非重畳領域に、少なくとも１つの凹部を有する第１および第２カラーフィルタ列が配置されている点で、少なくとも１つの凹部を有する遮光列が配置された実施形態１と相違する。

このような列間非重畳領域は、第１および第２カラーフィルタ列に少なくとも１つ有していればよい。少なくとも１つの列間非重畳領域が形成されていれば、液晶材料が画素列内をスムーズに移動することのできる通り道が得られるからである。従って、本実施形態で示すように、画素毎にそれぞれ、３つの凹部を設ける必要はなく、複数の画素毎（例えば、画素１０個毎）に設けることもできる。液晶材料の流れやすさを考慮すると、画素毎に、少なくとも１つの凹部を設けることが好ましい。

各カラーフィルタ部に形成される凹部の形状は特に限定されず、例えば、三角形状、台形状、四角形状などの多角形が例示される。

各カラーフィルタ部に形成される凹部の幅および数は、ＴＦＴなどのアクティブ素子を遮光し得、電気的接続部分における配向異常部を隠すことができれば特に限定されないが、許容される範囲で、凹部の幅が広くて数も多い方が好ましい。詳細には、データ配線の導通部分と画素電極との間に寄生する容量の許容される範囲や、パターニング制度などによっても相違するが、例えば、凹部の幅を３μｍ〜１０μｍとし、凹部の数を１〜３とすることが好ましい。

以下、図１１から図１４を参照しながら、本実施形態のカラーフィルタ基板、および上記カラーフィルタ基板を用いて構成された本実施形態の液晶表示装置を説明する。さらに、図１１、および図１５（ａ）から（ｃ）を参照しながら、本実施形態における列間重畳領域と列間非重畳領域との関係を詳しく説明する。

図１１は、実施形態２のカラーフィルタ基板を説明するための平面図である。図１１では、カラーフィルタ基板を構成する他の要件（例えば、対向電極に設けられた配向制御用の突起部など）は省略している。図１２は、本実施形態のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置を説明するための平面図である。図１２は、説明の便宜上、画素電極パターンのみを抜き出した平面図を示しており、アクティブマトリクス基板を構成する他の要件（ソース配線、補助容量配線、ゲート配線など）は、省略している。図１３および図１４は、いずれも、図１２に示す液晶表示装置の断面図である。このうち図１３は、図１２のＢ−Ｂ’（行間領域）に対応する断面を、図１４は、図１２のＣ−Ｃ’（列間領域）に対応する断面を、それぞれ、示している。

本実施形態におけるカラーフィルタ列は、画素のそれぞれに対応して分断して配置されるカラーフィルタ部の集合体として存在している点で、カラーフィルタ部としてではなく１つの短冊状のカラーフィルタ列として存在する実施形態１のカラーフィルタ基板とは相違している。カラーフィルタ列の構成は、本実施形態の構成に限定されず、実施形態１のように構成されていても良い。

図１１に示すように、本実施形態では、第１カラーフィルタ列６０を構成する第１カラーフィルタ部６５、および第２カラーフィルタ列８０を構成する第２カラーフィルタ部８５は、画素電極に対向する位置に配置されており、第２カラーフィルタ部８５の第１辺８１および第１カラーフィルタ部６５の第２辺６２は、それぞれ、第２カラーフィルタ部８５の第１辺８１から第２辺８２に向かう行方向にくびれた第１凹部８９、および第１カラーフィルタ部６５の第２辺６２から第１辺６１に向かう行方向にくびれた第２凹部６９を、３つずつ有している。第２カラーフィルタ部に設けられたそれぞれの第１凹部８９は、遮光列７０を介して第１カラーフィルタ部６５に設けられたそれぞれの第２凹部６９と対向する位置に配置されている。

第１カラーフィルタ部６５に形成された３つの第１凹部６９、および第２カラーフィルタ部８５に形成された３つの第１凹部８９は、いずれも、ソース配線（不図示）に対向するように形成されている。それぞれの３つの第１凹部６９、８９のうち、２つの第１凹部６９、８９は、いずれも、導通部分１１０（不図示）に対向する位置に形成されており、１つの第１凹部６９、８９は、ゲート配線（不図示）に平行な補助容量配線（不図示）と、ソース配線（不図示）との両方に対向するように形成されている。第１凹部６９のそれぞれと第１凹部８９のそれぞれとによって規定される非重畳領域は、遮光列のみで構成されている。本実施形態では、遮光列のみで構成される非重畳領域が列間領域の行方向に連結して形成されているため、液晶セル内をスムーズに移動するための良好な通り道が得られ、残留気泡の発生を有効に防止することができる。

なお、第２カラーフィルタ部８５に形成された第１凹部８９と、第１カラーフィルタ部６５に形成された第２凹部６９とは、図１１に示すように、対向するように配置されていることが好ましい。但し、これに限定されず、それぞれの凹部によって規定される非重畳領域が行方向に連続するように配置されていれば液晶材料の通り道となり得るため、例えば、第１凹部と第２凹部とが斜め方向に配置されている態様も含まれる。

列間非重畳領域が形成される好ましい位置は、実施形態１で説明したとおりである。すなわち、色抜け（光漏れ）を防止するという観点から、列間非重畳領域は、アクティブマトリクス基板側のデータ信号用配線（ソース配線）に対向するように形成することが好ましい。また、本実施形態のように、複数の支線と、これらの支線を連結する導通部分とを含むソース配線を備えた構成においては、導通部分に対向する位置に列間非重畳領域を形成することが好ましい。さらに、アクティブマトリクス基板が補助容量配線を備えている場合は、補助容量配線に対向するように形成することが好ましい。

本実施形態における列間重畳領域と列間非重畳領域との関係は、詳しくは、図１５（ａ）から（ｃ）に示すとおりである。図１５（ａ）は、図１１のカラーフィルタ基板の一部拡大図であり、図１５（ｂ）は、図１５（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、図１５（ｃ）は、図１５（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。

図１５（ａ）に示すように、画素列の間隙に対応する領域（列間領域）１２０には、第２カラーフィルタ列に形成された第１凹部８９と、第１カラーフィルタ列に形成された第２凹部６９とが形成されている。

図１５（ａ）に示す列間領域のうちＤ−Ｄ’に対応する列間領域には、図１５（ｂ）に示すように、第１カラーフィルタ列６０と遮光列７０とが重なる重畳領域１２１、および第２カラーフィルタ列８０と遮光列７０とが重なる重畳領域１２３が形成されるとともに、遮光列７０のみ存在する非重畳領域１２２が形成されている。この構成は、図６（ａ）の構成と同じである。一方、図１５（ａ）のＥ−Ｅ’に対応する列間領域には、図１５（ｃ）に示すように、遮光列７０のみ存在する非重畳領域１２２が、行方向に向かって連続して配置されている。このように本実施形態では、少なくとも１つの凹部を有する第１および第２カラーフィルタ部（第１および第２カラーフィルタ列として存在していてもよい。本実施形態において、以下、同じ。）によって規定される列間非重畳領域が行方向に連続するように配置され、液晶材料が液晶セル内をスムーズに移動することのできる通り道を形成したところに特徴がある。

さらに、本実施形態には、列間非重畳領域に、実施形態１に示すような、少なくとも１つの凹部を備えた遮光列と、本実施形態に示すような、少なくとも１つの凹部を備えた第１および第２カラーフィルタ列（第１および第２カラーフィルタ部として存在していてもよい）とが、両方、配置されたカラーフィルタ基板も含まれる。遮光列とカラーフィルタ列との両方に上記の凹部を設けると液晶材料の通り道がより多くなるため、残留気泡の発生を一層有効に抑えることができる。

特に、列間非重畳領域に、遮光列もカラーフィルタ列も全く存在しない開口部を備えたカラーフィルタ基板は、より広い液晶材料の通り道が提供されるため好ましい。

図１６（ａ）は、このような実施形態のカラーフィルタ基板を説明するための平面図であり、図１６（ｂ）は、図１６（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、図１６（ｃ）は、図１６（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。

図１６（ａ）に示すように、列間領域１２０には、その第２辺６２に第２凹部６９を備えた第１カラーフィルタ列６０、開口部を備えた遮光列７０、およびその第１辺８１に第１凹部８９を備えた第２カラーフィルタ列８０が形成されている。

このうち、図１６（ｂ）の構成は前述した図６（ｂ）の構成と同じである。すなわち、図１６（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する列間領域には、図１６（ｂ）に示すように、第１カラーフィルタ列６０と遮光列７０とが重なる重畳領域１２１、および第２カラーフィルタ列８０と遮光列７０とが重なる重畳領域１２３が形成されるとともに、遮光列７０のみ存在する非重畳領域１２２が形成されている。

一方、図１６（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する列間領域には、図１６（ｃ）に示すように、遮光列もいずれのカラーフィルタ列も存在しない非重畳領域１２５が、行方向に向かって連続して配置されている。

上記のカラーフィルタ基板は、実施形態１の図６（ａ）から（ｃ）に示す遮光列を備えたカラーフィルタ基板と、本実施形態の図１５（ａ）から（ｃ）に示す第１および第２カラーフィルタ列を備えたカラーフィルタ基板とを組み合わせることによって得られる。遮光列７０に形成された開口部と、第１および第２カラーフィルタ列６０、８０に形成された凹部とは、列方向の幅が同じとなるように形成されているため、列間非重畳領域には、遮光列もカラーフィルタ列も全く存在しない開口部７８が得られる。

（実施形態３）
本発明によるカラーフィルタ基板の第３の実施形態は、列方向に隣接する画素の間隙に対応する領域に、遮光行と第１カラーフィルタ列または第２カラーフィルタ列とが互いに重なる行間重畳領域が形成されているとともに、遮光行と、第１カラーフィルタ列および第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない行間非重畳領域が形成されており、行間非重畳領域には、少なくとも１つの凹部を有する遮光行が列方向に連続するように配置されたカラーフィルタ基板に関している。詳細には、実施形態３は、行間非重畳領域に、少なくとも１つの凹部を備えた遮光行が配置されたカラーフィルタ基板に関している。具体的には、遮光行の第３辺および第４辺に、それぞれ、形成された第３凹部および第４凹部が連結し、列方向への開口部が形成された非重畳領域を有している。

ここで、「遮光行と第１カラーフィルタ列または第２カラーフィルタ列とが互いに重なる行間重畳領域」とは、遮光行と第１カラーフィルタ列とが互いに重なっている領域、および遮光行と第２カラーフィルタ列とが互いに重なっている領域を含むが、遮光行が第１または第２カラーフィルタ列のいずれか一方とのみ重なる領域を指すのではなく、遮光行と第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列とが重なっている「三層からなる重畳領域」も含んでいる。

また、「行間非重畳領域」とは、遮光行と、第１カラーフィルタ列および第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない領域を意味し、第１カラーフィルタ部、第２カラーフィルタ部、および遮光行のそれぞれが単独で形成されている領域と、第１カラーフィルタ部と第２カラーフィルタ部とが互いに重なる領域と、これらが全く存在しない領域とを含む。

具体的には、「行間非重畳領域」の構成は、「行間重畳領域」との関係で決定される。例えば、図１８（後記する）に示すように、遮光行と第１カラーフィルタ部、または遮光行と第２カラーフィルタ部とが重なった二層の行間重畳領域が形成されている場合は、行間非重畳領域として、二層よりも高さが低い領域（すなわち、第１カラーフィルタ部、第２カラーフィルタ部、および遮光行のそれぞれが単独で形成されている領域と、これらが全く存在しない領域）が含まれる。一方、遮光行と第１カラーフィルタ部と第２カラーフィルタ部とが互いに重なった三層の行間重畳領域が形成されている場合は、行間非重畳領域として、三層よりも高さが低い領域（すなわち、第１カラーフィルタ部、第２カラーフィルタ部、および遮光行のそれぞれが単独で形成されている領域と、第１カラーフィルタ部と第２カラーフィルタ部とが互いに重なる領域と、これらが全く存在しない領域）が含まれる。

「行間非重畳領域が列方向に連続するように配置されている」とは、上述した構成を備えた行間非重畳領域が、行間領域に、その途中で分断することなく行方向に連続して形成されていることを意味する。

このような行間非重畳領域は、遮光行に少なくとも１つ有していればよい。少なくとも１つの非重畳領域が形成されていれば、液晶材料が画素行内をスムーズに移動することのできる通り道が得られるからである。従って、本実施形態のように、画素毎に、遮光行の第３辺および第４辺に形成された各凹部が連結して形成された開口部を設ける必要はなく、複数の画素毎（例えば、画素１０個毎）に開口部を設けても効果を得ることができる。液晶材料の流れやすさを考慮すると、画素毎に、少なくとも１つの開口部を設けることが好ましい。

遮光行に形成される凹部の形状は特に限定されず、例えば、三角形状、台形状、四角形状などの多角形が例示される。

遮光行に形成される凹部の幅および数は、ＴＦＴなどのアクティブ素子を遮光し得、電気的接続部分における配向異常部を隠すことができれば特に限定されないが、許容される範囲で、凹部の幅が広くて数も多い方が好ましい。詳細には、ＩＴＯなどから構成される透明画素電極の電気的接続部分の配置などによっても相違するが、例えば、凹部の幅を３μｍ〜１０μｍとし、凹部の数を１〜３とすることが好ましい。

遮光行の第３辺および第４辺に形成される第３凹部および第４凹部は、対向するように配置されていることが好ましい。しかしながら、これに限定する必要はなく、行方向に連続するように配置されていれば液晶材料の良好な通り道となり得るため、例えば、第３凹部と第４凹部とが斜め方向に配置されている態様も含まれる。

以下、図１７、および図１８（ａ）から（ｂ）を参照しながら、本実施形態のカラーフィルタ基板、および上記カラーフィルタ基板を用いて構成された本実施形態の液晶表示装置を説明する。図１７では、カラーフィルタ基板を構成する他の要件（例えば、対向電極に設けられた配向制御用の突起部など）は省略している。さらに、図１７、および図１９（ａ）から（ｃ）を参照しながら、本実施形態における行間重畳領域と行間非重畳領域との関係を詳しく説明する。

図１７は、実施形態３のカラーフィルタ基板を説明するための平面図である。図１８（ａ）は、本実施形態のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置を説明するための平面図であり、図１８（ｂ）は、アクティブマトリクス基板側に形成された透明画素電極のスリットパターンと、遮光層との位置関係を説明するための平面図である。

図１７に示すように、第１カラーフィルタ列６０に形成された第１カラーフィルタ部６５、遮光行９０、および第１カラーフィルタ列６０に形成された第２カラーフィルタ部６８のそれぞれは、それぞれの列方向の幅を規定する第３辺と第４辺とを有している。例えば、第１カラーフィルタ部６５は、列方向の幅を規定する第３辺６３と第４辺６４とを有し、第２カラーフィルタ部８０は、列方向の幅を規定する第３辺６６と第４辺６７とを有している。同様に、遮光行９０は、列方向の幅を規定する第４辺９３と第４辺９４とを有している。これらは、それぞれの第３辺から第４辺に向かう列方向に平行な方向を＋ｙ方向としたとき、＋ｙ方向に順次形成されている。

遮光行９０は、走査信号用配線（ゲート配線）１（図１８（ａ））に対向するように配置されており、画素（不図示）に対応する行間領域に２つの開口部９６（図１８（ａ）の矢印部分）を有している。それぞれの開口部９６によって規定される非重畳領域は、図１９（ｃ）に詳しく示すように、第１カラーフィルタ部６５のみ存在する部分１２６、いずれのカラーフィルタ部も遮光列も存在しない部分１２５、第２カラーフィルタ部６８のみ存在する部分１２４で構成されている。このように、遮光行と、第１および第２カラーフィルタ部の双方とが重ならない非重畳領域が行間領域の列方向に連結して形成された領域（開口部９６）は、滴下された液晶材料が液晶セル内をスムーズに広がるための良好な通り道となるため、残留気泡の発生を有効に防止することができる。

本実施形態における列間重畳領域と列間非重畳領域との関係は、詳しくは、図１９（ａ）から（ｃ）に示すとおりである。図１９（ａ）は、このような実施形態のカラーフィルタ基板を説明するための平面図であり、図１９（ｂ）は、図１９（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、図１９（ｃ）は、図１９（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。

図１９（ａ）に示すように、画素行の間隙に対応する領域（行間領域）１３０には、開口部９６を備えた遮光行９０が形成されている。開口部９６は、遮光行９０の第３辺から第４辺に向かう行方向にくびれた第３凹部（不図示）と、遮光行９０の第３辺から第４辺に向かう行方向にくびれた第４凹部（不図示）とが連結して形成される。

図１９（ａ）に示す行間領域のうちＤ−Ｄ’に対応する行間領域には、図１９（ｂ）に示すように、第１カラーフィルタ部６５と遮光行９０とが重なる重畳領域１２１、および第２カラーフィルタ部６８と遮光行９０とが重なる重畳領域１２３が形成されるとともに、遮光行９０のみ存在する非重畳領域１２２が形成されている。一方、図１９（ａ）のＥ−Ｅ’に対応する行間領域には、図１９（ｃ）に示すように、第１カラーフィルタ部６５のみ存在する非重畳領域１２４、遮光行９０もいずれのカラーフィルタ部も存在しない非重畳領域１２５、および第２カラーフィルタ部６８のみ存在する非重畳領域１２６が、列方向に向かって連続して配置されている。このように本実施形態では、少なくとも１つの凹部を備えた遮光行によって規定される行間非重畳領域が行方向に連続するように配置されているところに特徴がある。

なお、本実施形態では、遮光行の第３辺に形成された第３凹部と、遮光列の第４辺に形成された第４凹部とが連結して開口部を形成しているが、これに限定されず、第３凹部と第４凹部とが連結していない（すなわち、開口部を形成しない）態様も含まれる。

遮光行に形成される凹部は、色抜け（光漏れ）を防止するという観点から、アクティブマトリクス基板上の走査信号用配線（ゲート配線）に対応するように形成することが好ましい。特に、図１８（ａ）に示すように、電気的接続部分１２ａ〜１２ｆで生じる配向異常による表示品位の低下を防止するために、電気的接続部分１２ａ〜１２ｄが配置されているゲート配線１の部分を除いた部分（例えば、図１８（ａ）の矢印部分）に対応するように形成することが一層好ましい。前述したとおり、配向異常が生じるこれら電気的接続部分１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆを隠すためには、図１８（ａ）に示すように、１２ａ〜１２ｄの電気的接続部分は遮光層１４０と重なるように配置し、残りの電気的接続部分１２ｅ〜１２ｆは補助容量配線２と重なるように配置することが好ましいからである。

さらに、本実施形態には、行間非重畳領域に、少なくとも１つの凹部を備えた第１および第２カラーフィルタ部が画素列の方向に連続するように配置されたカラーフィルタ基板も含まれる。このような構成であっても、液晶材料の良好な通り道が得られるため、残留気泡の発生を防止することができる。例えば、第２カラーフィルタ部の第１辺から第２辺に向かう列方向にくびれた第１凹部と、第１カラーフィルタ部の第２辺から第１辺に向かう列方向にくびれた第２凹部とによって規定される行間非重畳領域などが挙げられる。

また、本実施形態は、行間非重畳領域に、本実施形態で示すような少なくとも１つの凹部を備えた遮光行と、少なくとも１つの凹部を備えた第１および第２カラーフィルタ部とが、両方、配置されたカラーフィルタ基板も含む。遮光行とカラーフィルタ部との両方に上記の凹部を設けると、液晶材料の通り道がより多くなるため、残留気泡の発生を一層有効に抑えることができる。特に、行間非重畳領域に、遮光行も第１および第２カラーフィルタ部も全く存在しない開口部を形成した態様は、より広い液晶材料の通り道が提供されるため、より好ましい。

（実施形態４）
本発明によるカラーフィルタ基板の第４および第５の実施形態は、列間非重畳領域および行間非重畳領域の両方に、少なくとも１つの凹部を備えた遮光列または第１および第２カラーフィルタ列が配置されたカラーフィルタ基板に関している。このような構成とすることにより、より広い液晶材料の通り道が提供されるため、残留気泡の発生をさらに有効に防止することができる。

まず、実施形態４のカラーフィルタ基板は、遮光列の第１辺に形成された第１凹部と、遮光列の第２辺に形成された第２凹部とが連結し、行方向への開口部が形成された列間非重畳領域を有するとともに、遮光行の第３辺に形成された第３凹部と、遮光行の第４辺に形成された第４凹部とが連結し、列方向への開口部が形成された行間非重畳領域を有している。

以下、図２０から図２２を参照しながら、実施形態４のカラーフィルタ基板を用いて構成された本実施形態の液晶表示装置を説明する。

図２０は、本実施形態のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置を説明するための平面図である。図２０は、説明の便宜上、画素電極パターンのみを抜き出した平面図を示しており、アクティブマトリクス基板を構成する他の要件（ソース配線、ゲート配線、導通部分など）は、省略している。図２１および図２２は、いずれも、図２０に示す液晶表示装置の断面図である。このうち図２１は、図２０のＢ−Ｂ’（行間領域）に対応する断面を、図２２は、図２０のＣ−Ｃ’（列間領域）に対応する断面を、それぞれ、示している。

図２０に示すとおり、本実施形態のカラーフィルタ基板は、列間領域には、ソース配線（不図示）に対向する位置に合計３つの開口部１８１を備えた遮光列が、行間領域には、ゲート配線（不図示）に対応する位置に２つの開口部１８２を備えた遮光行が、それぞれ、形成されている。遮光列に形成された３つの開口部１８１のうち２つは、導通部分１１０（不図示）に対向する位置に形成されている。

本実施形態において、列間領域に形成された列間重畳領域と列間非重畳領域との関係は、実施形態１の図６（ａ）から（ｃ）に示したとおりであり、行間領域に形成された行間重畳領域と行間非重畳領域との関係は、実施形態３の図１９（ａ）から（ｃ）に示したとおりである。これらの詳細は、各実施形態で詳述しているので説明を省略する。

本実施形態では、遮光列に形成された第１凹部と第２凹部とが連結して合計３つの開口部を形成し、遮光行に形成された第３凹部と第４凹部とが連結して合計２つの開口部を形成しているが、これに限定されず、第１凹部と第２凹部、第３凹部と第４凹部とが、それぞれ、連結していない実施形態も包含される。

また、本実施形態では、遮光列に形成された第１凹部と第２凹部、遮光行に形成された第３凹部と第４凹部とが、それぞれ、対向するように配置されているが、必ずしもこのような配置に限定される必要はなく、行方向または列方向に連続するように配置されていればよい。従って、例えば、第１凹部と第２凹部、第３凹部と第４凹部とが斜め方向に配置されていてもよい。

図２３に、実施形態４の改変例を示す。図２３（ａ）は、実施形態４の改変例のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置の平面図であり、（ｂ）は、透明画素電極と、遮光列との位置関係を説明するための平面図である。図２３では、列間領域に設けられた３つの開口部の１つが、ゲート配線に平行な補助容量配線と、ソース配線との両方に対向するように形成されている点で、図２０に示す実施形態と相違している。このように補助容量配線にも対向するように開口部を形成することにより、図２７に示した行方向のアライメントずれを防止するという効果も得られる。これらの詳細は、実施形態１および３に詳述したとおりである。

さらに、本実施形態は、列間非重畳領域および行間非重畳領域の両方に、少なくとも１つの凹部を備えた第１および第２カラーフィルタ部が配置されたカラーフィルタ基板を含む。このうち列間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を備えた第１および第２カラーフィルタ部は実施形態２（図１１から図１５）において、行間非重畳領域は実施形態３で詳述しており、説明を省略する。

（実施形態５）
本発明によるカラーフィルタ基板の第５の実施形態は、列間非重畳領域には、少なくとも１つの凹部を備えた遮光列と、少なくとも１つの凹部を備えた第１カラーフィルタ部とが形成されており、且つ、行間非重畳領域には、少なくとも１つの凹部を備えた遮光行が配置されたカラーフィルタ基板に関している。

図２４は、本実施形態のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置を説明するための平面図である。図２４は、説明の便宜上、画素電極パターンのみを抜き出した平面図を示しており、アクティブマトリクス基板を構成する他の要件（ソース配線、補助容量配線、ゲート配線、導通部分など）は、省略している。図２５および図２６は、いずれも、図２４に示す液晶表示装置の断面図である。このうち図２５は、図２４のＢ−Ｂ’（行間領域）に対応する断面を、図２６は、図２４のＣ−Ｃ’（列間領域）に対応する断面を、それぞれ、示している。図２５に示すように、図２４のＢ−Ｂ’に対応する部分にはカラーフィルタは形成されていない。

図２４に示すように、列間領域には、ソース配線（不図示）に対向する位置に、３つの開口部１８１が形成されている。開口部１８１のそれぞれは、遮光列に形成された第１凹部と第２凹部とが連結して形成された開口部と、第１カラーフィルタ部に形成された第１凹部とが、互いに重なって形成されている。３つの開口部１８１のうち、２つの開口部１８１は、いずれも、導通部分１１０（不図示）に対向する位置に形成されており、１つの開口部１８１は、ゲート配線（不図示）に平行な補助容量配線（不図示）と、ソース配線（不図示）との両方に対向するように形成されている。一方、行間領域には、ゲート配線（不図示）に対向する位置に、２つの開口部１８２が形成されている。開口部１８２のそれぞれは、遮光行に形成された第１凹部と第２凹部とが連結して形成されている。図２４に示すような構成とすることにより、より広い液晶材料の通り道が提供されるため、残留気泡の発生をさらに有効に防止することができる。

本実施形態における列間非重畳領域の詳細は、実施形態１および２に詳述したとおりであり、行間非重畳領域の詳細は、実施形態３のなかで例示したとおりである。

さらに、本実施形態には、列間非重畳領域および行間非重畳領域の両方に、遮光列もいずれのカラーフィルタ列も全く存在しない開口部が形成された態様も含まれる。このような構成により、残留気泡の発生を更に一層有効に抑制することができる。

次に、本発明による液晶表示装置の製造方法を説明する。

本発明に用いられるアクティブマトリクス基板は、例えば、以下のようにして製造することができる。

まず、透明性絶縁基板１０の上に，走査信号用配線（ゲート配線）１および補助容量配線２を形成する。これらの配線は、スパッタリング法などの公知の方法によってＴｉ／Ａｌ／Ｔｉの積層膜を堆積した後、フォトリソグラフィー法によってレジストパターンを形成し、塩素系ガスなどのエッチングガスを用いてドライエッチングし、レジストを剥離することによって同時に形成する。次いで、窒化シリコン(ＳｉＮｘ)などから構成されるゲート絶縁膜、アモルファスシリコンなどから構成される活性半導体層、リンなどをドープしたアモルファスシリコンなどから構成される低抵抗半導体層をＣＶＤ法によって成膜した後、データ信号用配線（ソース配線）４、ドレイン引き出し配線５、および補助容量形成用電極６を形成する。これらの配線および電極は、スパッタリング法などの公知の方法によってＡｌ／Ｔｉなどの金属を堆積した後、フォトリソグラフィー法によってレジストパターンを形成し、塩素系ガスなどのエッチングガスを用いてドライエッチングし、レジストを剥離することによって同時に形成する。なお、補助容量は、補助容量配線２と補助容量形成電極６との間に、厚さが約４００ｎｍのゲート絶縁膜を介して形成する。次いで、ソース／ドレイン分離のため、塩素ガスなどを用いて低抵抗半導体層をドライエッチングし、ＴＦＴ素子などのアクティブ素子３を形成する。次に、アクリル系感光性樹脂などから構成される約３μｍの層間絶縁膜７をスピンコート法によって塗布し、ドレイン引き出し配線５と透明画素電極９とを電気的にコンタクトするためのコンタクトホール８をフォトリソグラフィー法によって形成する。さらに、透明画素電極９および配向膜（図示せず）を順次、形成する。

前述した実施形態の表示装置は、いずれも、ＭＶＡ型液晶表示装置であり、ＩＴＯなどから構成される透明画素電極９に複数のスリット１１が形成されている。具体的には、スパッタリング法などの公知の方法によってゲート電極用金属膜を堆積した後、フォトリソグラフィー法によってレジストパターンを形成し、塩化第二鉄などのエッチング液を用いてエッチングすることにより、図３（ａ）などに示すスリット１１を設ける。以上の工程により、本実施形態に用いられるアクティブマトリクス基板が得られる。

なお、図３（ａ）のように複数のスリット１１を形成した場合、前述したように、スリット１１の延設方向（長辺方向）に交差する辺（短辺）に対応する電気的接続部分１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆには、液晶分子の配向が乱れて配向異常が生じやすい。さらに、これら電気的接続部分のうちゲート配線１上に配置する電気的接続部分１２ａ〜１２ｄでは、液晶材料中に含まれる不純物イオンが集まりやすいため、表示ムラが発生しやすい。この理由は、ゲート配線に供給される電圧に関し、ＴＦＴ素子をオン状態に動作させるために供給されるプラス電圧を印加する時間は、通常μ秒オーダーであるのに対し、ＴＦＴ素子をオフ状態に動作させるために供給されるマイナス電圧を印加する時間は、通常ｍ秒オーダーであり、マイナス電圧を印加する時間の方が長いため、電気的接続部分１２ａ〜１２ｄをゲート配線１上に配置すると、ゲートマイナスＤＣ成分により、液晶材料中に含まれる不純物イオンが集まりやすくなるためである。従って、電気的接続部分１２ａ〜１２ｄは、基板の法線方向からみたときに、ゲート配線１と平面的に重ならない領域に配置することが好ましく、さらに、電気的接続部分を遮光層で隠すことが好ましい。

なお、残りの電気的接続部分１２ｅおよび１２ｆで生じる配向異常は、これらを補助容量配線２上に配置することによって隠すことが可能である。この理由は、補助容量配線２は、カラーフィルタ基板に設けられる対向電極と同電位であり、透明画素電極９は、対向電極電位に対してプラス電位とマイナス電位が画素への書き込みごとに反転する（ＡＣ駆動）ため、液晶材料中の不純物イオンが補助容量配線上に集まる恐れはないからである。従って、補助容量配線に対応する位置に遮光層を設ける必要はない。その結果、従来よりも開口部を広くとることができ、開口率の高い液晶表示装置が得られる。

ところで、特開平１０-３３３１７０号公報には、ＭＶＡ型表示装置などにおいて、画素電極または対向電極に形成された開口部に対応する位置に、補助容量を形成するための維持電極を形成することによって光漏れを防止する液晶表示装置が開示されている。しかしながら、上記公報の段落[００５９]にも指摘されているように、画素電極側に設けた開口部に対応する位置に維持電極を形成し、画素電極スリット全体を隠そうとすると、画素電極と対向電極との間に形成される「フリンジフィールド」（液晶分子をプレチルトさせるための斜め電界）が、維持電極などに印加される電圧の影響を受けるという問題がある。この問題を解決するために、上記公報では、画素電極と維持電極との間に有機絶縁膜の保護層を３μｍ以上と厚く形成する方法を提案している。しかしながら、容量は電極面積／膜厚の比で表されることから、充分な補助容量を確保するためには、補助容量を形成する電極面積、すなわち、電極スリットの存在しない画素電極と維持電極との平面的な重なりを大きくしなければならず、開口率の低下を招いてしまう。従って、前述の方法では、光漏れによるコントラスト比の低下よりも、開口率の低下に伴う輝度低下によるコントラスト低下の方が顕著に見られると思料され、実用的でない。また、上記公報に記載の構成を採用した場合でも、画素電極スリットの端部近傍で配向異常が見られ、これによる表示品位低下が顕著に生じることから、遮光しておくことが好ましい。

本発明のカラーフィルタ基板は、例えば、以下のようにして作製することができる。

カラーフィルタ層および遮光層の材料としては、典型的には、ネガ型の着色樹脂が用いられる。例えば、赤色カラーフィルタ層は、赤色顔料を分散させたネガ型のアクリル系感光性樹脂などによって得られる。基板への付与は、スピンコートなどの塗布方法やドライフィルム法などを適用すれば良い。

まず、遮光層を形成する。例えば、カーボン微粒子を分散させたネガ型のアクリル系感光性樹脂を用いて絶縁性透明基板上に黒色感光性樹脂層を形成する。次いで、フォトマスクを介して黒色感光性樹脂層を露光した後、現像して遮光層を形成すれば良い。

例えば、行間非重畳領域に、少なくとも１つの凹部を有する遮光行が行方向に連続して配置している実施形態の場合、前述したとおり、遮光行は、ゲート配線に対向する位置に設けることが好ましく、補助容量配線に対向する位置に設ける必要はない。具体的には、例えば、図３（ａ）に示す電気的接続部分１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄに生じる配向異常領域を遮光するため、遮光層を島状に形成することが好ましい。また、ＴＦＴ素子などのアクティブ素子３に外光が入射することにより、光励起されるオフ電流の増加を防止する目的で、アクティブ素子３に遮光層を設けておくことが好ましい。

さらに、本発明のカラーフィルタ基板によれば、画素とゲート配線との間に３μｍ程度の層間絶縁膜を設けることにより、ゲート配線に対応する位置に遮光行を設ける必要もなくなる。従来のカラーフィルタ基板では、図７（ａ）に示すとおり、ゲート配線に対向する位置、および画素とゲート配線との間に遮光層を設けることが必要であったが、層間絶縁膜の形成によって層間絶縁膜とゲート配線とが重なる領域が生じ、ゲート配線と透明画素電極との間に発生する容量を充分下げることができるため、光の漏れを防止できる。従って、本実施形態によれば、列間非重畳領域にのみ少なくとも１つの凹部を有する遮光列を設けるだけでよいため、従来よりも開口率の高い液晶表示装置を得ることができる。

次に、例えば赤色着色層を形成する。例えば、赤色顔料を分散させたネガ型のアクリル系感光性樹脂を用いて赤色感光性樹脂層を形成する。次いで、フォトマスクを介して赤色感光性樹脂層を露光した後、現像し、赤色層を形成する。

同様にして、例えば緑色層および青色層を順次、形成し、カラーフィルタ層を得る。

次いで、ＩＴＯなどから構成される透明画素電極９をスパッタリング法などによって形成する。その後、例えばポジ型のフェノールノボラック系感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィプロセスで所定の配向制御用突起２２を得る。以上の方法により、本実施形態のカラーフィルタ基板が形成される。

本発明の実施形態に用いられる遮光層および第１〜第３のカラーフィルタ層の膜厚は適宜、適切に選択し得るが、本実施形態の液晶表示装置では、それぞれ、１．６μｍ、１．８μｍとしている。

以上の説明では、赤、緑、青からなる３色のカラーフィルタを用いてカラーフィルタ基板を例示したが、カラーフィルタの種類はこれに限定されず、赤、緑、青、白からなる４色のカラーフィルタを用いてもよい。さらに、３色または４色のカラーフィルタに加えて、シアン、マゼンダおよびイエローの少なくとも一種のカラーフィルタを用いることもできる。特に、赤、緑、青、シアン、マゼンダおよびイエローからなる６色のカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板にも適用できる。上記６色のカラーフィルタを用いれば、３色のカラーフィルタを用いたカラーフィルタ基板に比べて自然な中間色を表示装置できるという効果がある。

次に、このようにして作製されたアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とを用い、液晶表示パネル（液晶表示装置）を製造する方法について説明する。前述したとおり、本発明のカラーフィルタ基板は、滴下法における残留気泡の発生を有効に防止し得る構造を有しているため、注入法よりも生産効率などの点で有用な滴下法を特に改変することなく、良好な表示品位の液晶パネルを製造することができる。

なお、残留気泡は、カラーフィルタ等から発生するガス（吸着水など）に起因しても発生することがある。ガスの発生に起因する残留気泡の発生を防止するために、本実施形態では、滴下法を実施する前に、カラーフィルタ基板およびアクティブマトリクス基板（ＴＦＴ基板）に付着した水分（吸着水）などを除去するための脱ガス処理を行う。具体的には、以下のような脱ガス処理を行う。

まず、アクティブマトリクス基板およびカラーフィルタ基板に焼成処理（例えば２１０℃で６０分間の加熱処理）を施す（第１回の脱ガス処理）。

その後、これらの基板を洗浄した後、配向膜を塗布し、焼成（例えば２００℃で４０分間の加熱処理）することによって、配向膜を形成する。

得られた配向膜を洗浄した後、焼成処理（例えば２００℃で３０分間の加熱処理）を施す（２回目の脱ガス処理）。

このように、配向膜を形成する前に１回、配向膜を形成した後にさらに１回、合計２回の脱ガス処理を行うことによって、吸着水などに起因する残留気泡の発生を効果的に防止することができる。

なお、前述した特許文献４に記載の製造方法では、配向膜を形成した後は脱ガス処理をすることなく、液晶材料を滴下しているが、これでは脱ガスが十分でないことがある。また、特許文献４の製造方法においては、カラーフィルタ基板に対してのみ脱ガス処理を行っているが、例えばアクティブマトリクス基板が樹脂材料で形成された層間絶縁膜を備える場合には、層間絶縁膜からのガス発生も無視できないことがあり、上述したように、アクティブマトリクス基板に対しても２回の脱ガス処理を行うことが好ましい。

得られたカラーフィルタ基板およびアクティブマトリクス基板を用いて、公知の滴下法を採用して液晶パネルを製造する。このとき、２回目の脱ガス処理をした後、液晶材料の滴下までの時間を管理することが好ましい。脱ガス処理からあまり長時間が経過すると、空気中の水分が吸着し、残留気泡を発生することがある。脱ガス処理から液晶材料の滴下までの時間は、実験によると、例えば相対湿度６０％、雰囲気温度２３℃の条件下で、約６０分以内とすることが好ましい。

例えば、滴下法を用いて以下のようにしてパネルサイズが２０型ＶＧＡ液晶パネルを製造できる。

まず、例えばカラーフィルタ基板の同色部にＵＶ硬化樹脂からなるシール材を付与し、シール部を形成する。シール材で包囲された領域内に液晶材料を規則的に滴下する。このとき、液晶セルの厚さを例えば３．７μｍとすると、これに相当する量の液晶材料を滴下する。

具体的には、１滴あたりの液晶量を１．３１７ｍｇとし、総滴下点数３００点、総液晶滴下量３９５．０４６ｍｇとなるように滴下する。次いで、カラーフィルタ基板とアクティブマトリクス基板とを貼合せ、装置内の雰囲気が１Ｐａとなるまで減圧した後、当該減圧下にて基板を貼合せる。その後、雰囲気を大気圧に戻すとシール部が押し潰され、所望とするシール部のギャップが得られる。次に、ＵＶ硬化装置を用いて２０００ｍＪの硬化条件でＵＶ照射し、シール部の仮硬化を行った後、１３０℃で７０分間焼成してシール部を最終硬化させる。本実施形態のカラーフィルタ基板は上述したような構成を有しているので、シール部の内側全体に液晶材料が行き渡り、気泡が発生することなく液晶材料が充填されるようになる。焼成終了後、液晶パネル単位に分断し、所定の液晶パネルが得られる。

このようにして得られた液晶パネルに対し、必要に応じて駆動回路などを接続することによって所望の液晶表示装置が得られる。

以上のようにして作製された液晶表示装置は、滴下された液晶材料が液晶セル内に充分行き渡るため、残留気泡が発生することもなく、しかも、配向異常による表示品位の低下も見られず、良好な表示品位が得られる。

上述した実施形態は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置に関しているが、本発明はこれに限定されず、ＭＩＭを用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置や単純マトリクス型液晶表示装置に適用することができる。

本発明のカラーフィルタ基板は、透過型、反射型、透過反射両用型（半透過型）などの様々な液晶表示装置に適用することができる。また、ストライプ配列のカラーフィルタ基板に限定されず、ストライプ配列以外の配列（例えばデルタ配列）にも適用できる。さらに、液晶表示装置の表示モードも限定されず、ＴＮ型をはじめ、ＭＶＡやＩＰＳなどの種々の表示モードに適用できる。さらに、アクティブマトリクス型液晶表示装置の他、液晶層以外の表示媒体層、例えば電気泳動層などを有する他のタイプの表示装置を含む種々のカラー表示装置に用いることが可能である。

一般的なアクティブマトリクス型液晶表示装置の断面図である。 実施形態１のカラーフィルタ基板を説明するための図である。 （ａ）は、実施形態１のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置の平面図、（ｂ）は、透明画素電極のスリットパターンと、遮光層との位置関係を説明するための平面図であり、（ｃ）は、ソース配線の拡大図である。 図３（ａ）のＣ−Ｃ’に対応する断面図である。 図３（ａ）のＢ−Ｂ’に対応する断面図である。 （ａ）は、図２のカラーフィルタ基板の一部拡大図であり、（ｂ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、（ｃ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。 （ａ）は、従来のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置の平面図であり、（ｂ）は、透明画素電極と、遮光列との位置関係を説明するための平面図である。 図７（ａ）のＣ−Ｃ’に対応する断面図である。 図７（ａ）のＢ−Ｂ’に対応する断面図である。 （ａ）は、実施形態１の改変例のカラーフィルタ基板を説明するための図であり、（ｂ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、（ｃ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。 （ａ）は、実施形態１の他の改変例のカラーフィルタ基板を説明するための図であり、（ｂ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、（ｃ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。 （ａ）は、他のカラーフィルタ基板を説明するための図であり、（ｂ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、（ｃ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。 実施形態２のカラーフィルタ基板を説明するための図である。 実施形態２のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置の平面図である。 図１２のＢ−Ｂ’に対応する断面図である。 図１２のＣ−Ｃ’に対応する断面図である。 （ａ）は、図１２のカラーフィルタ基板の一部拡大図であり、（ｂ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、（ｃ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。 （ａ）は、実施形態２の改変例のカラーフィルタ基板の一部拡大図であり、（ｂ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、（ｃ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。 実施形態３のカラーフィルタ基板の平面図である。 実施形態３のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置の平面図である。 （ａ）は、図１８のカラーフィルタ基板の一部拡大図であり、（ｂ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＤ−Ｄ’に対応する断面図、（ｃ）は、（ａ）のカラーフィルタ基板のＥ−Ｅ’に対応する断面図である。 実施形態４のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置の平面図である。 図２０のＢ−Ｂ’に対応する断面図である。 図２０のＣ−Ｃ’に対応する断面図である。 （ａ）は、実施形態４の改変例のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置の平面図であり、（ｂ）は、透明画素電極と、遮光列との位置関係を説明するための図である。 実施形態５のカラーフィルタ基板を用いて構成され、画素に対応して配置された液晶表示装置を説明するための平面図である。 図２４のＢ−Ｂ’に対応する断面図である。 図２４のＣ−Ｃ’に対応する断面図である。 図３の液晶表示装置を作製する際、行方向にアライメントずれが生じたときの図３のＡ−Ａ’に対応する断面図である。

符号の説明

１ 走査信号用配線（ゲート配線）
２ 補助容量配線
３ ＴＦＴ素子などのアクティブ素子
４ データ信号用配線（ソース配線）
５ ドレイン引き出し配線
６ 補助容量形成用電極
７ 層間絶縁膜
８ コンタクトホール
９ 透明画素電極
１０ 透明絶縁性基板
１１ 画素電極スリット
１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆ、１２ｇ 電気的接続部分
２０ カラーフィルター基板
２１ 着色層
２２ 配向制御用の突起
３０ アクティブマトリクス基板
５０ ゲート絶縁膜
６０ 第１カラーフィルタ列
６１ 第１カラーフィルタ列の第１辺
６２ 第１カラーフィルタ列の第２辺
６３ 第１カラーフィルタ列の第３辺
６４ 第１カラーフィルタ列の第４辺
６５ 第１カラーフィルタ列に形成された第１カラーフィルタ部
６６ 第１カラーフィルタ部の第３辺
６７ 第１カラーフィルタ列の第４辺
６８ 第１カラーフィルタ列に形成された第２カラーフィルタ部
６９ 第１カラーフィルタ列に形成された第１凹部
７０ 遮光列
７１ 遮光列の第１辺
７２ 遮光列の第２辺
７３ 遮光列に形成された開口部
７６ 遮光列に形成された第１凹部
７７ 遮光列に形成された第１凹部
７８ 遮光列と、第１または第２カラーフィルタ部との両方に形成された開口部
８０ 第２カラーフィルタ列
８１ 第２カラーフィルタ列の第１辺
８２ 第２カラーフィルタ列の第２辺
８５ 第２カラーフィルタ列に形成された第１カラーフィルタ部
８６ 第２カラーフィルタ列に形成された第２カラーフィルタ部
８９ 第２カラーフィルタ列に形成された第１凹部
９０ 遮光行
９３ 遮光行の第３辺
９４ 遮光行の第４辺
９５ カラーフィルタ層
９６ 遮光行に形成された開口部
１００ 液晶表示装置
１１０ 導通部分
１２０ 列間領域
１２１ 第１カラーフィルタ列とブラックマトリクスとが互いに重なる重畳領域
１２２ 遮光列のみ存在する非重畳領域
１２３ 第２カラーフィルタ列とブラックマトリクスとが互いに重なる重畳領域
１２４ 第１カラーフィルタ列のみ存在する非重畳領域
１２５ 遮光列も第１および第２カラーフィルタ列のいずれの領域も存在しない非重畳領域
１２６ 第２カラーフィルタ列のみ存在する非重畳領域
１２７ 第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列と第３カラーフィルター列とが
互いに重なる重畳領域
１２８ 第１カラーフィルタ列と第２カラーフィルタ列とが互いに重なる重畳領域
１３０ 行間領域
１４０ ブラックマトリクス
１６２ 緑カラーフィルタ列と赤カラーフィルタ列とが互いに重なる重畳領域
１６３ 緑カラーフィルタ列と赤カラーフィルタ列と青カラーフィルタ列とが
互いに重なる重畳領域
１６４ 赤カラーフィルタ列と青カラーフィルタ列とが互いに重なる重畳領域
１６５ 赤カラーフィルタ列のみ存在する非重畳領域
１８１ 遮光列に形成された開口部
１８２ 遮光行に形成された開口部
Ｒ 赤カラーフィルタ列
Ｒ１ 赤カラーフィルタ列の第１辺
Ｒ２ 赤カラーフィルタ列の第２辺
Ｇ 緑カラーフィルタ列
Ｇ２ 緑カラーフィルタ列の第２辺
Ｂ 青カラーフィルタ列
Ｂ１ 青カラーフィルタ列の第１辺

Claims (21)

1. 複数の行および複数の列を有するマトリクス状に配列された複数の画素を有する表示装置に用いられるカラーフィルタ基板であって、
   前記カラーフィルタ基板は、透明基板と前記透明基板上に設けられた複数の着色層とを備え、
   前記複数の着色層は、第１カラーフィルタ層、第２カラーフィルタ層、および遮光層を含み、
   前記第１カラーフィルタ層および前記第２カラーフィルタ層は、前記画素の列に対応して配置された第１カラーフィルタ列および第２カラーフィルタ列を含み、
   前記遮光層は、隣接する画素列の間隙に対応して配置された遮光列を含み、
   行方向に隣接する画素の間隙に対応する領域に、前記遮光列と前記第１カラーフィルタ列または前記第２カラーフィルタ列とが互いに重なる列間重畳領域が形成されているとともに、前記遮光列と、前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない列間非重畳領域が形成されており、前記列間非重畳領域は、前記隣接する画素の前記間隙の行方向に連続するように配置されており、
   前記遮光列は、前記列間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する、カラーフィルタ基板。
2. 前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれは、それぞれの行方向の幅を規定する第１辺と第２辺とを有し、
   前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、または前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向に平行な方向を＋ｘ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列は、＋ｘ方向に順次形成され、
   前記遮光列の前記第１辺は、前記列間非重畳領域に、前記遮光列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第１凹部を有し、
   前記遮光列の前記第２辺は、前記列間非重畳領域に、前記遮光列の前記第２辺から前記第１辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第２凹部を有する、請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
3. 前記遮光列に設けられた前記第１凹部と前記第２凹部とは連結されている、請求項２に記載のカラーフィルタ基板。
4. 前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列は、それぞれ、前記列間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する、請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
5. 前記遮光列、前記第１カラーフィルタ列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれは、それぞれの行方向の幅を規定する第１辺と第２辺とを有し、
   前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれの前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向に平行な方向を＋ｘ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列は、＋ｘ方向に順次形成され、
   前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺は、前記列間非重畳領域に、前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第１凹部を有し、
   前記第１カラーフィルタ列の前記第２辺は、前記列間非重畳領域に、前記第１カラーフィルタ列の前記第２辺から前記第１辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第２凹部を有する、請求項４に記載のカラーフィルタ基板。
6. 前記第２カラーフィルタ列に設けられた前記第１凹部は、前記遮光列を介して前記第１カラーフィルタ列に設けられた前記第２凹部と対向する位置に配置されている、請求項５に記載のカラーフィルタ基板。
7. 前記遮光列に加え、前記第１カラーフィルタ列、および前記第２カラーフィルタ列も、それぞれ、前記列間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する、請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
8. 前記遮光列、前記第１カラーフィルタ列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれは、それぞれの行方向の幅を規定する第１辺と第２辺とを有し、
   前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれの前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向に平行な方向を＋ｘ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光列、および前記第２カラーフィルタ列は、＋ｘ方向に順次形成され、
   前記遮光列の前記第１辺は、前記列間非重畳領域に、前記遮光列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第１凹部を有し、
   前記遮光列の前記第２辺は、前記列間非重畳領域に、前記遮光列の前記第２辺から前記第１辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第２凹部を有し、
   前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺は、前記列間非重畳領域に、前記第２カラーフィルタ列の前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第１凹部を有し、
   前記第１カラーフィルタ列の前記第２辺は、前記列間非重畳領域に、前記第１カラーフィルタ列の前記第２辺から前記第１辺に向かう行方向にくびれた少なくとも１つの第２凹部を有する、請求項７に記載のカラーフィルタ基板。
9. 前記遮光列に設けられた前記第１凹部と前記第２凹部とは連結されている、請求項８に記載のカラーフィルタ基板。
10. 前記第２カラーフィルタ列に設けられた前記第１凹部と前記第１カラーフィルタ列に設けられた前記第２凹部とは、前記遮光列に設けられた前記第１凹部と前記第２凹部とを介して連結されている、請求項９に記載のカラーフィルタ基板。
11. 前記列間非重畳領域は、表示媒体層を挟んで前記カラーフィルタ基板と対向するように配置されるアクティブマトリクス基板上のデータ信号用配線に対向するように配置されている、請求項１から１０のいずれかに記載のカラーフィルタ基板。
12. 前記データ信号用配線は、複数の支線と、前記複数の支線を連結する導通部分とを含み、前記導通部分に対応するように前記列間非重畳領域が形成されている、請求項１１に記載のカラーフィルタ基板。
13. 前記列間非重畳領域は、前記アクティブマトリクス基板上の補助容量配線に対向するように配置されている、請求項１から１２のいずれかに記載のカラーフィルタ基板。
14. 複数の行および複数の列を有するマトリクス状に配列された複数の画素を有する表示装置に用いられるカラーフィルタ基板であって、
    前記カラーフィルタ基板は、透明基板と前記透明基板上に設けられた複数の着色層とを備え、
    前記複数の着色層は、第１カラーフィルタ層、第２カラーフィルタ層、および遮光層を含み、
    前記第１カラーフィルタ層および前記第２カラーフィルタ層は、前記画素の列に対応して配置された第１カラーフィルタ列および第２カラーフィルタ列を含み、
    前記遮光層は、隣接する画素行の間隙に対応して配置された遮光行を含み、
    列方向に隣接する画素の間隙に対応する領域に、前記遮光行と前記第１カラーフィルタ列または前記第２カラーフィルタ列とが互いに重なる行間重畳領域が形成されているとともに、前記遮光行と、前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列の双方とが重ならない行間非重畳領域が形成されており、前記行間非重畳領域は、前記隣接する画素の前記間隙の列方向に連続するように配置されており、
    前記遮光行は、前記行間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する、カラーフィルタ基板。
15. 前記遮光行、前記第１カラーフィルタ列、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれは、それぞれの行方向の幅を規定する第１辺と第２辺とを有し、
    前記第１カラーフィルタ列、前記遮光行、および前記第２カラーフィルタ列のそれぞれの前記第１辺から前記第２辺に向かう行方向に平行な方向を＋ｘ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ列、前記遮光行、および前記第２カラーフィルタ列は、＋ｘ方向に順次形成され、
    前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列は、それぞれ、前記画素のそれぞれに対応して配置された複数のカラーフィルタ部を含み、
    前記複数のカラーフィルタ部は、列方向に隣接する画素の間隙を介して、第１カラーフィルタ部と第２カラーフィルタ部とを含み、
    前記第１カラーフィルタ部、前記遮光行、および前記第２カラーフィルタ部のそれぞれは、それぞれの列方向の幅を規定する第３辺と第４辺とを有し、
    前記第１カラーフィルタ部、前記遮光行、または前記第２カラーフィルタ部の前記第３辺から前記第４辺に向かう列方向に平行な方向を＋ｙ方向としたとき、前記第１カラーフィルタ部、前記遮光行、および前記第２カラーフィルタ部は、＋ｙ方向に順次形成され、
    前記遮光行の前記第３辺は、前記行間非重畳領域に、前記遮光行の前記第３辺から前記第４辺に向かう列方向にくびれた少なくとも１つの第３凹部を有し、
    前記遮光行の前記第４辺は、前記行間非重畳領域に、前記遮光行の前記第４辺から前記第３辺に向かう列方向にくびれた少なくとも１つの第４凹部を有する、請求項１４に記載のカラーフィルタ基板。
16. 前記遮光行に設けられた前記第３凹部と前記第４凹部とは連結されている、請求項１５に記載のカラーフィルタ基板。
17. 前記第１カラーフィルタ列および前記第２カラーフィルタ列は、それぞれ、前記行間非重畳領域に少なくとも１つの凹部を有する、請求項１４に記載のカラーフィルタ基板。
18. 前記表示装置は液晶表示装置であって、
    前記カラーフィルタ基板は、前記画素に対応する領域に液晶分子の配向を規制する突起部をさらに有する、請求項１から１７のいずれかに記載のカラーフィルタ基板。
19. 請求項１から１８のいずれかに記載のカラーフィルタ基板と、前記カラーフィルタ基板に対向して配置されているアクティブマトリクス基板と、前記カラーフィルタ基板と前記アクティブマトリクス基板との間に配置された表示媒体層とを有する表示装置。
20. 前記表示装置は液晶表示装置であって、
    前記アクティブマトリクス基板は、画素電極を有し、前記画素電極はスリットをさらに有する、請求項１９に記載の表示装置。
21. 前記スリットの延設方向に交差する短辺に対応する電気的接続部分は、前記遮光層または前記アクティブマトリクス基板に設けられた補助容量配線と重なるように配置されている、請求項２０に記載の表示装置。

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