JP2000329924A - カラーフィルタ及びその製造方法 - Google Patents
カラーフィルタ及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学濃度（ＯＤ値）が大きく、膜面の反射率
の低い遮光部を有する高開口率の反射型液晶表示装置用
カラーフィルタを得る。 【解決手段】 ガラス基板１上に着色剤を含む一定厚の
固相レジスト層を設けたポリマーフィルムをラミネート
することによりレジスト層を転写し、ガラス基板１上の
所定の領域に複数色の着色層２を順次形成すると共に、
ＴＦＴアレイ基板の薄膜トランジスタに対向する位置
に、隣接する着色層２の一部を２層以上積層してなる積
層部２２を形成する。これにより、積層部２２において
も個々の着色層２の厚さが十分に確保されており、ＯＤ
値３. ５以上、膜面の反射率５％以下の積層部２２が得
られ、上記課題が解決される。また、共通電極３を積層
部２２の最上層の着色層よりも下層に設けることによ
り、ＴＦＴアレイ基板間とのショートが発生し難いカラ
ーフィルタが得られる。
の低い遮光部を有する高開口率の反射型液晶表示装置用
カラーフィルタを得る。 【解決手段】 ガラス基板１上に着色剤を含む一定厚の
固相レジスト層を設けたポリマーフィルムをラミネート
することによりレジスト層を転写し、ガラス基板１上の
所定の領域に複数色の着色層２を順次形成すると共に、
ＴＦＴアレイ基板の薄膜トランジスタに対向する位置
に、隣接する着色層２の一部を２層以上積層してなる積
層部２２を形成する。これにより、積層部２２において
も個々の着色層２の厚さが十分に確保されており、ＯＤ
値３. ５以上、膜面の反射率５％以下の積層部２２が得
られ、上記課題が解決される。また、共通電極３を積層
部２２の最上層の着色層よりも下層に設けることによ
り、ＴＦＴアレイ基板間とのショートが発生し難いカラ
ーフィルタが得られる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶表示装
置用のカラーフィルタに関するものである。
置用のカラーフィルタに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は薄型、軽量、低消費電力
等の特長を有するため、腕時計、電卓等の表示装置とし
て広く用いられている。特にＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）等によりアクティブ駆動を行なう液晶表示装置は、
従来の最も一般的な表示装置であるＣＲＴに代わって、
ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ等の表示装
置やテレビ等に広く適用されている。これらのＴＦＴ駆
動の液晶表示装置には大きく分けて透過型と反射型があ
り、いずれもＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタ及びそ
れらに挟持された液晶及び駆動回路等によって構成され
ている。さらに前者の透過型液晶表示装置には一般にバ
ックライトが用いられており、液晶表示装置が消費する
電力の大部分がバックライトによるものである。一方、
後者の反射型液晶表示装置は、外部光を利用するための
反射板を備えているため、バックライトが不要であり、
消費する電力が透過型に比べて少ないという利点があ
る。このため、反射型液晶表示装置は、電池駆動が必要
なモバイル機器に多く利用されている。
等の特長を有するため、腕時計、電卓等の表示装置とし
て広く用いられている。特にＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）等によりアクティブ駆動を行なう液晶表示装置は、
従来の最も一般的な表示装置であるＣＲＴに代わって、
ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ等の表示装
置やテレビ等に広く適用されている。これらのＴＦＴ駆
動の液晶表示装置には大きく分けて透過型と反射型があ
り、いずれもＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタ及びそ
れらに挟持された液晶及び駆動回路等によって構成され
ている。さらに前者の透過型液晶表示装置には一般にバ
ックライトが用いられており、液晶表示装置が消費する
電力の大部分がバックライトによるものである。一方、
後者の反射型液晶表示装置は、外部光を利用するための
反射板を備えているため、バックライトが不要であり、
消費する電力が透過型に比べて少ないという利点があ
る。このため、反射型液晶表示装置は、電池駆動が必要
なモバイル機器に多く利用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、反射型
液晶表示装置を室外で用いる場合には、太陽光を利用す
るため、バックライトよりも強い光が液晶表示装置内に
入射する。このような光がＴＦＴに直接照射されて誤動
作を起こすことのないように、カラーフィルタのＴＦＴ
に対向する部分には、一般にＣｒ等の金属膜よりなる遮
光部であるブラックマトリクスが形成されている。しか
し、反射板によって反射された光がカラーフィルタ上の
ブラックマトリクスによって反射され、これがＴＦＴに
照射されてＯＦＦ時のＴＦＴのリーク電流が増え、コン
トラスト比が低下するという問題があった。
液晶表示装置を室外で用いる場合には、太陽光を利用す
るため、バックライトよりも強い光が液晶表示装置内に
入射する。このような光がＴＦＴに直接照射されて誤動
作を起こすことのないように、カラーフィルタのＴＦＴ
に対向する部分には、一般にＣｒ等の金属膜よりなる遮
光部であるブラックマトリクスが形成されている。しか
し、反射板によって反射された光がカラーフィルタ上の
ブラックマトリクスによって反射され、これがＴＦＴに
照射されてＯＦＦ時のＴＦＴのリーク電流が増え、コン
トラスト比が低下するという問題があった。
【０００４】上記の問題を解決するため、例えば特開平
１０−１７０９５９号公報や、特開昭６２−７９４０２
号公報では、カラーフィルタのブラックマトリクスに、
Ｃｒ膜ではなく黒の着色層としてカーボンブラックや顔
料を樹脂と混ぜ合わせた樹脂ブラックを用いたり、隣接
する画素の着色層の一部を重ねることにより遮光層を形
成し、反射を減らすことが提案されている。しかしなが
ら、前者の場合、一般にＣｒよりなるブラックマトリク
スの光学濃度（ＯＤ値）が４以上であるのに対して、樹
脂ブラックよりなるブラックマトリクスのＯＤ値は約３
〜３. ５と小さく、反射光は減るものの外部からブラッ
クマトリクスを透過してＴＦＴに照射される光が増加す
る事になる。また、Ｃｒに比べてパターン精度が悪いた
め、ブラックマトリクス幅を大きめに設計する必要があ
り、液晶表示装置の開口率が低下するという問題があ
る。さらに、後者の場合、隣接する画素の着色層を重ね
ても所望のＯＤ値を得ることは期待できない。その理由
はＲＧＢ（赤、緑、青）の３原色を重ねてＫ（黒）が得
られるのに対し、隣接する画素の場合は上記３原色の内
の少なくとも１色が抜けて２色になるからである。
１０−１７０９５９号公報や、特開昭６２−７９４０２
号公報では、カラーフィルタのブラックマトリクスに、
Ｃｒ膜ではなく黒の着色層としてカーボンブラックや顔
料を樹脂と混ぜ合わせた樹脂ブラックを用いたり、隣接
する画素の着色層の一部を重ねることにより遮光層を形
成し、反射を減らすことが提案されている。しかしなが
ら、前者の場合、一般にＣｒよりなるブラックマトリク
スの光学濃度（ＯＤ値）が４以上であるのに対して、樹
脂ブラックよりなるブラックマトリクスのＯＤ値は約３
〜３. ５と小さく、反射光は減るものの外部からブラッ
クマトリクスを透過してＴＦＴに照射される光が増加す
る事になる。また、Ｃｒに比べてパターン精度が悪いた
め、ブラックマトリクス幅を大きめに設計する必要があ
り、液晶表示装置の開口率が低下するという問題があ
る。さらに、後者の場合、隣接する画素の着色層を重ね
ても所望のＯＤ値を得ることは期待できない。その理由
はＲＧＢ（赤、緑、青）の３原色を重ねてＫ（黒）が得
られるのに対し、隣接する画素の場合は上記３原色の内
の少なくとも１色が抜けて２色になるからである。
【０００５】また、例えば特開平６―３３１９７５号公
報、特開昭６２−２５０４１６号公報等では、異なる色
の着色層を複数積層することも提案されているが、この
場合もＯＤ値が必ずしも大きくなるとは限らない。すな
わち、一般的なカラーフィルタの製造方法は顔料分散法
を用いており、異なる色の顔料を含むレジスト溶液をガ
ラス基板に塗布し、溶媒を蒸発させた後にマスクを通し
て露光・現像することを３回繰り返すことにより、ＲＧ
Ｂの着色層が順次形成される（参考文献：「次世代液晶
ディスプレイ技術」、内田龍男編著、エ業調査会、１１
５頁）。この時、塗布法（例えばスピンコータを用いる
スピンコート法やその改良法であるスプレッド＆スピン
法）を用いると顔料レジストを塗布した直後に平坦化が
なされるため、ＲＧＢ（及びＫ）の着色層を重ねてもそ
れぞれの膜厚が一定とならず、所望の着色層厚を得るこ
とが難しいという欠点がある。このため、複数の着色層
を積層しても予想されるほどのＯＤ値は得られない。ま
た、上記先行例でＲＧＢの積層部を形成した後、その上
にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明導電膜よりな
る共通電極を形成すると、カラーフィルタとＴＦＴアレ
イ基板を対向させて液晶表示装置を作製した際に、両者
間で電気的なショートが発生しやすくなるという問題が
あった。
報、特開昭６２−２５０４１６号公報等では、異なる色
の着色層を複数積層することも提案されているが、この
場合もＯＤ値が必ずしも大きくなるとは限らない。すな
わち、一般的なカラーフィルタの製造方法は顔料分散法
を用いており、異なる色の顔料を含むレジスト溶液をガ
ラス基板に塗布し、溶媒を蒸発させた後にマスクを通し
て露光・現像することを３回繰り返すことにより、ＲＧ
Ｂの着色層が順次形成される（参考文献：「次世代液晶
ディスプレイ技術」、内田龍男編著、エ業調査会、１１
５頁）。この時、塗布法（例えばスピンコータを用いる
スピンコート法やその改良法であるスプレッド＆スピン
法）を用いると顔料レジストを塗布した直後に平坦化が
なされるため、ＲＧＢ（及びＫ）の着色層を重ねてもそ
れぞれの膜厚が一定とならず、所望の着色層厚を得るこ
とが難しいという欠点がある。このため、複数の着色層
を積層しても予想されるほどのＯＤ値は得られない。ま
た、上記先行例でＲＧＢの積層部を形成した後、その上
にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明導電膜よりな
る共通電極を形成すると、カラーフィルタとＴＦＴアレ
イ基板を対向させて液晶表示装置を作製した際に、両者
間で電気的なショートが発生しやすくなるという問題が
あった。
【０００６】本発明は、上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、ＴＦＴアレイ基板側に設けられ
た反射板によって反射された光を反射し難く、且つ光学
濃度（ＯＤ値）が大きい遮光部を有する高開口率の反射
型液晶表示装置用カラーフィルタを得ることを目的とす
る。
ためになされたもので、ＴＦＴアレイ基板側に設けられ
た反射板によって反射された光を反射し難く、且つ光学
濃度（ＯＤ値）が大きい遮光部を有する高開口率の反射
型液晶表示装置用カラーフィルタを得ることを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係わるカラーフ
ィルタは、透明基板上に走査信号線、映像信号線及び薄
膜トランジスタ及び反射板を兼ねた画素電極等が形成さ
れたＴＦＴアレイ基板と対向配置され、このＴＦＴアレ
イ基板との間に液晶が挟持される反射型液晶表示装置用
のカラーフィルタにおいて、透明基板上に遮光領域とし
て形成されたブラックマトリクスと、この基板上の所定
の領域に均一な膜厚で各々形成された複数色の着色層
と、この基板上に形成された透明導電膜よりなる共通電
極と、少なくともＴＦＴアレイ基板の薄膜トランジスタ
に対向する位置に遮光部として形成され、隣接する着色
層の一部を２層以上積層してなる光学濃度３. ５以上、
膜面の反射率５％以下の積層部を備えたものである。ま
た、積層部は、黒の着色層を含むものである。また、積
層部は、Ｃｒ等の金属よりなるブラックマトリクス上に
形成されているものである。さらに、共通電極は、積層
部の最上層の着色層よりも下層に設けられているもので
ある。
ィルタは、透明基板上に走査信号線、映像信号線及び薄
膜トランジスタ及び反射板を兼ねた画素電極等が形成さ
れたＴＦＴアレイ基板と対向配置され、このＴＦＴアレ
イ基板との間に液晶が挟持される反射型液晶表示装置用
のカラーフィルタにおいて、透明基板上に遮光領域とし
て形成されたブラックマトリクスと、この基板上の所定
の領域に均一な膜厚で各々形成された複数色の着色層
と、この基板上に形成された透明導電膜よりなる共通電
極と、少なくともＴＦＴアレイ基板の薄膜トランジスタ
に対向する位置に遮光部として形成され、隣接する着色
層の一部を２層以上積層してなる光学濃度３. ５以上、
膜面の反射率５％以下の積層部を備えたものである。ま
た、積層部は、黒の着色層を含むものである。また、積
層部は、Ｃｒ等の金属よりなるブラックマトリクス上に
形成されているものである。さらに、共通電極は、積層
部の最上層の着色層よりも下層に設けられているもので
ある。
【０００８】また、本発明に係わるカラーフィルタの製
造方法は、透明基板上に走査信号線、映像信号線及び薄
膜トランジスタ及び反射板を兼ねた画素電極等が形成さ
れたＴＦＴアレイ基板と対向配置され、このＴＦＴアレ
イ基板との間に液晶が挟持される反射型液晶表示装置用
のカラーフィルタの製造方法であって、透明基板上に、
着色剤を含む一定厚の固相レジスト層を設けたポリマー
フィルムをラミネートすることによりレジスト層を基板
上に転写し、これを露光、現像する操作を繰り返し行
い、基板上の所定の領域に複数色の着色層を順次形成す
ると共に、少なくともＴＦＴアレイ基板の薄膜トランジ
スタに対向する位置に、隣接する着色層の一部を２層以
上積層し、複数の積層部を形成する工程を含んで製造す
るようにしたものである。
造方法は、透明基板上に走査信号線、映像信号線及び薄
膜トランジスタ及び反射板を兼ねた画素電極等が形成さ
れたＴＦＴアレイ基板と対向配置され、このＴＦＴアレ
イ基板との間に液晶が挟持される反射型液晶表示装置用
のカラーフィルタの製造方法であって、透明基板上に、
着色剤を含む一定厚の固相レジスト層を設けたポリマー
フィルムをラミネートすることによりレジスト層を基板
上に転写し、これを露光、現像する操作を繰り返し行
い、基板上の所定の領域に複数色の着色層を順次形成す
ると共に、少なくともＴＦＴアレイ基板の薄膜トランジ
スタに対向する位置に、隣接する着色層の一部を２層以
上積層し、複数の積層部を形成する工程を含んで製造す
るようにしたものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】実施の形態１．以下に、本発明の
実施の形態を図面に基づいて説明する。図１（ａ）は、
本発明の実施の形態１におけるカラーフィルタを示す部
分平面図、図１（ｂ）は、図１（ａ）中Ａ−Ａで示す部
分の部分断面図である。図において、１は透明基板であ
るガラス基板、２はガラス基板１上の所定の領域に各々
形成された複数色の着色層であり、２Ｒは赤、２Ｇは
緑、２Ｂは青、２Ｋは黒の着色層をそれぞれ示してい
る。なお、本実施の形態では、遮光領域であるブラック
マトリクスを黒の着色層２Ｋにて形成している。また、
２２はＴＦＴアレイ基板の薄膜トランジスタに対向する
位置に遮光部として形成され、隣接する着色層２の一部
を２層以上積層してなる光学濃度（ＯＤ値）３. ５以
上、膜面の反射率５％以下の積層部、２２Ｋは積層部２
２を形成している黒の着色層、３はガラス基板１上に形
成された透明導電膜よりなる共通電極である。本実施の
形態におけるカラーフィルタは、ガラス基板上に走査信
号線、映像信号線及び薄膜トランジスタ及び反射板を兼
ねた画素電極等が形成されたＴＦＴアレイ基板と対向配
置され、このＴＦＴアレイ基板との間に液晶が挟持され
る反射型液晶表示装置用のカラーフィルタであって、ガ
ラス基板１上に遮光領域として形成されたブラックマト
リクスと、ガラス基板１上の所定の領域に均一な膜厚で
各々形成された複数色の着色層２と、ガラス基板１上に
形成された透明導電膜よりなる共通電極３と、少なくと
もＴＦＴアレイ基板の薄膜トランジスタに対向する位置
に遮光部として形成され、隣接する着色層２の一部を２
層以上積層してなるＯＤ値３. ５以上、膜面の反射率５
％以下の積層部２２を備えたものである。
実施の形態を図面に基づいて説明する。図１（ａ）は、
本発明の実施の形態１におけるカラーフィルタを示す部
分平面図、図１（ｂ）は、図１（ａ）中Ａ−Ａで示す部
分の部分断面図である。図において、１は透明基板であ
るガラス基板、２はガラス基板１上の所定の領域に各々
形成された複数色の着色層であり、２Ｒは赤、２Ｇは
緑、２Ｂは青、２Ｋは黒の着色層をそれぞれ示してい
る。なお、本実施の形態では、遮光領域であるブラック
マトリクスを黒の着色層２Ｋにて形成している。また、
２２はＴＦＴアレイ基板の薄膜トランジスタに対向する
位置に遮光部として形成され、隣接する着色層２の一部
を２層以上積層してなる光学濃度（ＯＤ値）３. ５以
上、膜面の反射率５％以下の積層部、２２Ｋは積層部２
２を形成している黒の着色層、３はガラス基板１上に形
成された透明導電膜よりなる共通電極である。本実施の
形態におけるカラーフィルタは、ガラス基板上に走査信
号線、映像信号線及び薄膜トランジスタ及び反射板を兼
ねた画素電極等が形成されたＴＦＴアレイ基板と対向配
置され、このＴＦＴアレイ基板との間に液晶が挟持され
る反射型液晶表示装置用のカラーフィルタであって、ガ
ラス基板１上に遮光領域として形成されたブラックマト
リクスと、ガラス基板１上の所定の領域に均一な膜厚で
各々形成された複数色の着色層２と、ガラス基板１上に
形成された透明導電膜よりなる共通電極３と、少なくと
もＴＦＴアレイ基板の薄膜トランジスタに対向する位置
に遮光部として形成され、隣接する着色層２の一部を２
層以上積層してなるＯＤ値３. ５以上、膜面の反射率５
％以下の積層部２２を備えたものである。
【００１０】本実施の形態におけるカラーフィルタの製
造方法を説明する。まず、予め１００℃前後に加熱した
ガラス基板１上に、着色剤を含む一定厚の固相レジスト
層を設けた例えば富士写真フィルム社製トランサーフィ
ルム等のポリマーフィルムをラミネートする。その後、
ベースフィルムを剥離してレジスト層のみをガラス基板
１上に転写し、これを露光、現像する操作を繰り返し行
い、ガラス基板１上の所定の領域に複数色の着色層２、
ここでは赤の着色層２Ｒ、緑の着色層２Ｇ及び青の着色
層２Ｂを順次形成する。この時、少なくともＴＦＴアレ
イ基板の薄膜トランジスタに対向する位置に、隣接する
着色層２の一部を２層以上積層し、複数の積層部を形成
する。その後、カーボンブラックを混ぜた固相レジスト
層を有するトランサーフィルムからレジスト層を転写
し、裏面から露光し、現像することによって先に形成し
た赤、緑及び青の着色層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂのパターン間
に、黒の着色層２Ｋを形成する。次いで、金属マスクを
用いたスパッタリング法でパネルに対応する部分全面に
ＩＴＯを成膜し、共通電極３を形成する。その後、黒
（ＲＧＢ顔料の混合）の固相レジスト層を設けたポリマ
ーフィルムをラミネートし、保護フィルムを剥離してレ
ジスト層を転写した後、上記２層の積層部の部分にのみ
レジスト層が残るようにマスクを用いてレジスト側から
露光、現像し、積層部の最上層に黒の着色層２２Ｋを形
成し、３層の着色層よりなる積層部２２が得られる。
造方法を説明する。まず、予め１００℃前後に加熱した
ガラス基板１上に、着色剤を含む一定厚の固相レジスト
層を設けた例えば富士写真フィルム社製トランサーフィ
ルム等のポリマーフィルムをラミネートする。その後、
ベースフィルムを剥離してレジスト層のみをガラス基板
１上に転写し、これを露光、現像する操作を繰り返し行
い、ガラス基板１上の所定の領域に複数色の着色層２、
ここでは赤の着色層２Ｒ、緑の着色層２Ｇ及び青の着色
層２Ｂを順次形成する。この時、少なくともＴＦＴアレ
イ基板の薄膜トランジスタに対向する位置に、隣接する
着色層２の一部を２層以上積層し、複数の積層部を形成
する。その後、カーボンブラックを混ぜた固相レジスト
層を有するトランサーフィルムからレジスト層を転写
し、裏面から露光し、現像することによって先に形成し
た赤、緑及び青の着色層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂのパターン間
に、黒の着色層２Ｋを形成する。次いで、金属マスクを
用いたスパッタリング法でパネルに対応する部分全面に
ＩＴＯを成膜し、共通電極３を形成する。その後、黒
（ＲＧＢ顔料の混合）の固相レジスト層を設けたポリマ
ーフィルムをラミネートし、保護フィルムを剥離してレ
ジスト層を転写した後、上記２層の積層部の部分にのみ
レジスト層が残るようにマスクを用いてレジスト側から
露光、現像し、積層部の最上層に黒の着色層２２Ｋを形
成し、３層の着色層よりなる積層部２２が得られる。
【００１１】以上の工程において、ポリマーフィルムが
トランサーの場合は、赤、緑及び青のレジスト層の露光
はレジスト側から行い、黒のレジスト層の露光は通常は
レジストとは反対のガラス面側から行う。このため、前
者の場合はフォトマスクを用いるプロキシ露光を行い、
後者の露光は既に形成された赤、緑及び青の着色層２
Ｒ、２Ｇ、２Ｂのパターンをフォトマスクとする露光を
行う。また、赤、緑及び青のレジスト層の現像は一般の
フォトレジストと同じ溶解型の現像方法を用い、黒のレ
ジスト層の現像はブラシを用いて、硬化していない部分
をはぎ取る現像方法を用いる。この様な現像の結果、ト
ランサーでは１. ２〜１. ７μｍ程度の膜厚の着色層２
が得られ、積層部２２においても各層で同様の膜厚が得
られる。なお、黒のレジスト層の露光をレジスト側から
行うことも可能であり、この場合は膜厚はやや小さくな
りやすいが、十分な膜厚を得ることができる。これに対
し、通常の顔料分散法では単層の場合はトランサーと同
様の膜厚の着色層が得られるが、積層した場合は２層目
が１層目よりも薄くなりやすく、３層目以降はさらに薄
くなる。
トランサーの場合は、赤、緑及び青のレジスト層の露光
はレジスト側から行い、黒のレジスト層の露光は通常は
レジストとは反対のガラス面側から行う。このため、前
者の場合はフォトマスクを用いるプロキシ露光を行い、
後者の露光は既に形成された赤、緑及び青の着色層２
Ｒ、２Ｇ、２Ｂのパターンをフォトマスクとする露光を
行う。また、赤、緑及び青のレジスト層の現像は一般の
フォトレジストと同じ溶解型の現像方法を用い、黒のレ
ジスト層の現像はブラシを用いて、硬化していない部分
をはぎ取る現像方法を用いる。この様な現像の結果、ト
ランサーでは１. ２〜１. ７μｍ程度の膜厚の着色層２
が得られ、積層部２２においても各層で同様の膜厚が得
られる。なお、黒のレジスト層の露光をレジスト側から
行うことも可能であり、この場合は膜厚はやや小さくな
りやすいが、十分な膜厚を得ることができる。これに対
し、通常の顔料分散法では単層の場合はトランサーと同
様の膜厚の着色層が得られるが、積層した場合は２層目
が１層目よりも薄くなりやすく、３層目以降はさらに薄
くなる。
【００１２】また、従来の塗布法で設けたレジスト層は
最初は溶液であるため、溶媒が気化するまでに平坦化、
あるいはレベリングが行われて基板の凸部では薄く、凹
部では厚くなりやすい。また、スピンコート法であれば
基板の中央部で薄く、周辺部で厚くなりやすい。これに
対し、転写によって設けたレジスト層は固体状であるた
め、ガラス基板１の凹凸に関わらず、元のポリマーフイ
ルム上にあったときとほぼ同じ膜厚を保つことになる。
本実施の形態では、積層部２２において、赤、緑及び青
の着色層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂの膜厚はそれぞれ一層当たり
１. ５μｍでほぼ同じであり、黒の着色層２２Ｋの膜厚
は約１μｍであった。３層の着色層２からなる積層部２
２のＯＤ値は約４、膜面の反射率が約１％となり、十分
に大きなＯＤ値と低い膜面の反射率が得られた。さら
に、ＩＴＯよりなる共通電極３は、積層部２２の最上層
の着色層である黒の着色層２２Ｋよりも下層に設けられ
ているため、積層部２２表面には共通電極３が露出して
おらず、極めて高い抵抗値を示した。
最初は溶液であるため、溶媒が気化するまでに平坦化、
あるいはレベリングが行われて基板の凸部では薄く、凹
部では厚くなりやすい。また、スピンコート法であれば
基板の中央部で薄く、周辺部で厚くなりやすい。これに
対し、転写によって設けたレジスト層は固体状であるた
め、ガラス基板１の凹凸に関わらず、元のポリマーフイ
ルム上にあったときとほぼ同じ膜厚を保つことになる。
本実施の形態では、積層部２２において、赤、緑及び青
の着色層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂの膜厚はそれぞれ一層当たり
１. ５μｍでほぼ同じであり、黒の着色層２２Ｋの膜厚
は約１μｍであった。３層の着色層２からなる積層部２
２のＯＤ値は約４、膜面の反射率が約１％となり、十分
に大きなＯＤ値と低い膜面の反射率が得られた。さら
に、ＩＴＯよりなる共通電極３は、積層部２２の最上層
の着色層である黒の着色層２２Ｋよりも下層に設けられ
ているため、積層部２２表面には共通電極３が露出して
おらず、極めて高い抵抗値を示した。
【００１３】本実施の形態において作製されたカラーフ
ィルタを、凹凸のある反射電極を備えた反射型用のＴＦ
Ｔアレイ基板と対向配置し、シール剤を用いて貼り合わ
せ、真空注入法によって液晶を注入して反射型液晶表示
装置を作製したところ、このパネルの表示は室外の太陽
光下でも良好であり、コントラスト比が１０以上で明る
く、優れた表示特性が得られた。比較のために図１に示
す構成のカラーフィルタを従来の顔料分散法によって作
製したが、着色層２の積層部２２の膜厚は、１層目が
１. ７μｍ、２層目が０.４μｍ、３層目が０. ３μｍ
程度であった。このため、所望のＯＤ値３. ５以上、膜
面の反射率約５％以下が得られず、強い太陽光下でＴＦ
Ｔへの反射（または入射）を十分に防ぐことが可能なカ
ラーフィルタは得られなかった。さらに、比較として、
図２に示すように、トランサーフィルムを用いてＴＦＴ
に対向する部分に積層部２２を形成し、最後にＩＴＯを
スパッタリングにて成膜し共通電極３を形成した。この
カラーフィルタを用いて反射型液晶表示装置を作製した
ところ、数箇所の画素が動作せず点欠陥となった。その
原因はカラーフィルタ側の共通電極３とＴＦＴのショー
トによることが明らかであった。
ィルタを、凹凸のある反射電極を備えた反射型用のＴＦ
Ｔアレイ基板と対向配置し、シール剤を用いて貼り合わ
せ、真空注入法によって液晶を注入して反射型液晶表示
装置を作製したところ、このパネルの表示は室外の太陽
光下でも良好であり、コントラスト比が１０以上で明る
く、優れた表示特性が得られた。比較のために図１に示
す構成のカラーフィルタを従来の顔料分散法によって作
製したが、着色層２の積層部２２の膜厚は、１層目が
１. ７μｍ、２層目が０.４μｍ、３層目が０. ３μｍ
程度であった。このため、所望のＯＤ値３. ５以上、膜
面の反射率約５％以下が得られず、強い太陽光下でＴＦ
Ｔへの反射（または入射）を十分に防ぐことが可能なカ
ラーフィルタは得られなかった。さらに、比較として、
図２に示すように、トランサーフィルムを用いてＴＦＴ
に対向する部分に積層部２２を形成し、最後にＩＴＯを
スパッタリングにて成膜し共通電極３を形成した。この
カラーフィルタを用いて反射型液晶表示装置を作製した
ところ、数箇所の画素が動作せず点欠陥となった。その
原因はカラーフィルタ側の共通電極３とＴＦＴのショー
トによることが明らかであった。
【００１４】以上のように、本実施の形態によれば、固
相レジストを用いて形成された着色層２を積層し、遮光
部としての積層部２２を形成することにより、積層部２
２における個々の着色層２の厚さを充分に確保すること
ができたため、光学濃度（ＯＤ値）が大きく、膜面の反
射率の低い遮光部を有する高開口率の反射型液晶表示装
置用カラーフィルタが得られた。また、積層部２２のう
ちの少なくとも一層の着色層を共通電極３よりも上層に
形成したため、ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタ間の
電気的なショートの発生を防止することができた。
相レジストを用いて形成された着色層２を積層し、遮光
部としての積層部２２を形成することにより、積層部２
２における個々の着色層２の厚さを充分に確保すること
ができたため、光学濃度（ＯＤ値）が大きく、膜面の反
射率の低い遮光部を有する高開口率の反射型液晶表示装
置用カラーフィルタが得られた。また、積層部２２のう
ちの少なくとも一層の着色層を共通電極３よりも上層に
形成したため、ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタ間の
電気的なショートの発生を防止することができた。
【００１５】実施の形態２．図３（ａ）は、本発明の実
施の形態２におけるカラーフィルタを示す部分平面図、
図３（ｂ）は、図３（ａ）中Ａ−Ａで示す部分の部分断
面図である。図において、４はＣｒの多層膜よりなるブ
ラックマトリクス（以下、Ｃｒ−ＢＭと記す）、２２Ｂ
は積層部２２を形成している青の着色層を示す。なお、
図中、同一、相当部分には同一符号を付し、説明を省略
する。本実施の形態におけるカラーフィルタの製造方法
を説明する。まず、ガラス基板１の全面にＣｒＯｘ、Ｃ
ｒ等よりなる多層膜をスパッタ法にて成膜し、フォトレ
ジストを全面にスピンコート法で塗布する。これにマス
クを通して露光を行い、現像をした後、エッチングとレ
ジスト剥離によってＣｒ−ＢＭ４を形成する。次に、着
色剤を含む一定厚の固相レジスト層を設けた例えばトラ
ンサーフィルム等のポリマーフィルムをラミネートする
ことによってレジスト層をガラス基板１上に転写し、こ
れを露光・現像することにより、赤、緑及び青の着色層
２Ｒ、２Ｇ、２Ｂを順次形成する。この時、隣接する画
素の着色層２の一部を積層し、ＴＦＴアレイ基板の薄膜
トランジスタに対向する位置に２層の着色層よりなる積
層部を形成する。
施の形態２におけるカラーフィルタを示す部分平面図、
図３（ｂ）は、図３（ａ）中Ａ−Ａで示す部分の部分断
面図である。図において、４はＣｒの多層膜よりなるブ
ラックマトリクス（以下、Ｃｒ−ＢＭと記す）、２２Ｂ
は積層部２２を形成している青の着色層を示す。なお、
図中、同一、相当部分には同一符号を付し、説明を省略
する。本実施の形態におけるカラーフィルタの製造方法
を説明する。まず、ガラス基板１の全面にＣｒＯｘ、Ｃ
ｒ等よりなる多層膜をスパッタ法にて成膜し、フォトレ
ジストを全面にスピンコート法で塗布する。これにマス
クを通して露光を行い、現像をした後、エッチングとレ
ジスト剥離によってＣｒ−ＢＭ４を形成する。次に、着
色剤を含む一定厚の固相レジスト層を設けた例えばトラ
ンサーフィルム等のポリマーフィルムをラミネートする
ことによってレジスト層をガラス基板１上に転写し、こ
れを露光・現像することにより、赤、緑及び青の着色層
２Ｒ、２Ｇ、２Ｂを順次形成する。この時、隣接する画
素の着色層２の一部を積層し、ＴＦＴアレイ基板の薄膜
トランジスタに対向する位置に２層の着色層よりなる積
層部を形成する。
【００１６】次に、金属マスクを用いたスパッタリング
法にてパネルに対応する部分全面にＩＴＯを成膜し、共
通電極３を形成する。さらに、高色純度の青の固相レジ
スト層を設けたポリマーフィルムをラミネートし、レジ
スト層を転写した後、上記２層の積層部にのみレジスト
層が残るようにマスクを用いて露光、現像し、青の着色
層２２Ｂを形成する。その結果、積層部２２における着
色層の厚さはいずれも一層当たり１. ５μｍでほぼ同じ
であり、積層部２２のＯＤ値は約４. ５、膜面の反射率
は約４％であり、十分に大きなＯＤ値と低い膜面の反射
率が得られた。また、ＩＴＯよりなる共通電極３は、積
層部２２の最上層の着色層である青の着色層２２Ｂより
も下層に設けられているため、積層部２２表面には共通
電極３が露出しておらず、極めて高い抵抗値を示した。
さらに、本実施の形態ではＣｒ−ＢＭ４を用いたので、
樹脂よりなるブラックマトリクスを用いた場合よりも開
口率が４％高くなった。
法にてパネルに対応する部分全面にＩＴＯを成膜し、共
通電極３を形成する。さらに、高色純度の青の固相レジ
スト層を設けたポリマーフィルムをラミネートし、レジ
スト層を転写した後、上記２層の積層部にのみレジスト
層が残るようにマスクを用いて露光、現像し、青の着色
層２２Ｂを形成する。その結果、積層部２２における着
色層の厚さはいずれも一層当たり１. ５μｍでほぼ同じ
であり、積層部２２のＯＤ値は約４. ５、膜面の反射率
は約４％であり、十分に大きなＯＤ値と低い膜面の反射
率が得られた。また、ＩＴＯよりなる共通電極３は、積
層部２２の最上層の着色層である青の着色層２２Ｂより
も下層に設けられているため、積層部２２表面には共通
電極３が露出しておらず、極めて高い抵抗値を示した。
さらに、本実施の形態ではＣｒ−ＢＭ４を用いたので、
樹脂よりなるブラックマトリクスを用いた場合よりも開
口率が４％高くなった。
【００１７】本実施の形態において作製されたカラーフ
ィルタを、凹凸のある反射電極を備えた反射型用のアレ
イ基板と対向配置し、シール剤を用いて貼り合わせ、真
空注入法によってＴＮ液晶を注入して反射型液晶表示装
置を作製したところ、このパネルの表示は室外の太陽光
下でも良好であり、コントラスト比が１０以上で明る
く、優れた表示特性が得られた。
ィルタを、凹凸のある反射電極を備えた反射型用のアレ
イ基板と対向配置し、シール剤を用いて貼り合わせ、真
空注入法によってＴＮ液晶を注入して反射型液晶表示装
置を作製したところ、このパネルの表示は室外の太陽光
下でも良好であり、コントラスト比が１０以上で明る
く、優れた表示特性が得られた。
【００１８】なお、上記実施の形態１及び実施の形態２
で用いられるガラス基板１としては、ＴＦＴの製造工
程、またはカラーフィルタの製造工程を経ても化学的に
安定で劣化せず、液晶組成物を汚染せず、透明性などの
光学特性に優れ、適度の機械的強度を有するガラス基板
であれば特に種類は限定しない。一般には旭硝子のＡＮ
６３５やＡＮ１００、日本電気硝子のＯＡ−２やＯＡ−
１０、Ｃｏｒｎｉｎｇの７０５９、ＨＯＹＡのＮＡ−４
５などが用いられる。厚さは０. ５〜１. １mmtが望ま
しいが、これに限定されることはない。また、着色剤と
して顔料またはカーボンブラックを含む一定厚の固相レ
ジスト層を設けたポリマーフィルムは、ラミネートによ
って固体のレジスト層をガラス基板上に転写でき、転写
したレジスト層をマスクを介して露光し、これを現像す
ることによって異なる色の着色層のパターンを順次形成
できるポリマーフィルムであればいずれのポリマーフィ
ルムであってもかまわない。しかし、特に富士写真フィ
ルム株式会社の「トランサー」が好ましい。この時、ポ
リマーフィルムのベースフィルムは、一般にＰＥＴ（ポ
リエチレンテレフタレート）のフィルムが用いられ、着
色剤として顔料またはカーボンブラック、それらのバイ
ンダー樹脂として光反応性( 光重合性、光分解性他) を
有するアクリレート樹脂やそのモノマまたはオリゴマが
用いられることが多いが、その他の材料であっても同様
の機能が果たせる材料であれば良い。また、ポリマーフ
ィルム上に設けた着色剤を含む一定厚のレジスト層に含
ませる着色剤としては、ＲＧＢ（赤、緑、青）及びＫ
（黒）の着色剤以外に、ＹＭＣ（黄・マゼンタ・シア
ン）の着色剤やその他の色の着色剤が用いられる。ある
いはこれらの着色剤を含ませず、別の無色透明な材料を
含ませて、ポリマーフィルム上に設ける一定厚のレジス
ト層を無色透明のレジスト層とする場合もある。
で用いられるガラス基板１としては、ＴＦＴの製造工
程、またはカラーフィルタの製造工程を経ても化学的に
安定で劣化せず、液晶組成物を汚染せず、透明性などの
光学特性に優れ、適度の機械的強度を有するガラス基板
であれば特に種類は限定しない。一般には旭硝子のＡＮ
６３５やＡＮ１００、日本電気硝子のＯＡ−２やＯＡ−
１０、Ｃｏｒｎｉｎｇの７０５９、ＨＯＹＡのＮＡ−４
５などが用いられる。厚さは０. ５〜１. １mmtが望ま
しいが、これに限定されることはない。また、着色剤と
して顔料またはカーボンブラックを含む一定厚の固相レ
ジスト層を設けたポリマーフィルムは、ラミネートによ
って固体のレジスト層をガラス基板上に転写でき、転写
したレジスト層をマスクを介して露光し、これを現像す
ることによって異なる色の着色層のパターンを順次形成
できるポリマーフィルムであればいずれのポリマーフィ
ルムであってもかまわない。しかし、特に富士写真フィ
ルム株式会社の「トランサー」が好ましい。この時、ポ
リマーフィルムのベースフィルムは、一般にＰＥＴ（ポ
リエチレンテレフタレート）のフィルムが用いられ、着
色剤として顔料またはカーボンブラック、それらのバイ
ンダー樹脂として光反応性( 光重合性、光分解性他) を
有するアクリレート樹脂やそのモノマまたはオリゴマが
用いられることが多いが、その他の材料であっても同様
の機能が果たせる材料であれば良い。また、ポリマーフ
ィルム上に設けた着色剤を含む一定厚のレジスト層に含
ませる着色剤としては、ＲＧＢ（赤、緑、青）及びＫ
（黒）の着色剤以外に、ＹＭＣ（黄・マゼンタ・シア
ン）の着色剤やその他の色の着色剤が用いられる。ある
いはこれらの着色剤を含ませず、別の無色透明な材料を
含ませて、ポリマーフィルム上に設ける一定厚のレジス
ト層を無色透明のレジスト層とする場合もある。
【００１９】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、透明基
板上に着色剤を含む一定厚の固相レジスト層を設けたポ
リマーフィルムをラミネートすることによりレジスト層
を転写し、基板上の所定の領域に複数色の着色層を順次
形成すると共に、ＴＦＴアレイ基板の薄膜トランジスタ
に対向する位置に、隣接する着色層の一部を２層以上積
層してなる積層部を形成するようにしたので、積層部に
おいても個々の着色層の厚さが十分に確保されており、
ＯＤ値３. ５以上、膜面の反射率５％以下が得られ、高
開口率で優れた表示特性の反射型液晶表示装置用のカラ
ーフィルタが得られた。
板上に着色剤を含む一定厚の固相レジスト層を設けたポ
リマーフィルムをラミネートすることによりレジスト層
を転写し、基板上の所定の領域に複数色の着色層を順次
形成すると共に、ＴＦＴアレイ基板の薄膜トランジスタ
に対向する位置に、隣接する着色層の一部を２層以上積
層してなる積層部を形成するようにしたので、積層部に
おいても個々の着色層の厚さが十分に確保されており、
ＯＤ値３. ５以上、膜面の反射率５％以下が得られ、高
開口率で優れた表示特性の反射型液晶表示装置用のカラ
ーフィルタが得られた。
【００２０】また、共通電極を積層部の最上層の着色層
よりも下層に設けたので、ＴＦＴアレイ基板間との電気
的なショートが発生し難いカラーフィルタが得られた。
よりも下層に設けたので、ＴＦＴアレイ基板間との電気
的なショートが発生し難いカラーフィルタが得られた。
【図１】 本発明の実施の形態１におけるカラーフィル
タを示す部分平面図及び部分断面図である。
タを示す部分平面図及び部分断面図である。
【図２】 本発明の実施の形態１におけるカラーフィル
タの比較例を示す部分断面図である。
タの比較例を示す部分断面図である。
【図３】 本発明の実施の形態２におけるカラーフィル
タを示す部分平面図及び部分断面図である。
タを示す部分平面図及び部分断面図である。
１ ガラス基板、２ 着色層、２Ｒ 赤の着色層、２Ｇ
緑の着色層、２Ｂ 青の着色層、２Ｋ 黒の着色層、
３ 共通電極（ＩＴＯ）、４ Ｃｒ−ＢＭ、２２ 積層
部、２２Ｋ 黒の着色層、２２Ｂ 青の着色層。
緑の着色層、２Ｂ 青の着色層、２Ｋ 黒の着色層、
３ 共通電極（ＩＴＯ）、４ Ｃｒ−ＢＭ、２２ 積層
部、２２Ｋ 黒の着色層、２２Ｂ 青の着色層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/00 ３４２ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３４２Ｚ 9/30 9/30 Ｃ ３４９ ３４９Ｂ ３４９Ｃ 9/35 9/35 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB13 AD01 AD03 BC31 BC51 BC53 BF01 CC11 CC12 FA03 FA14 2H048 BA02 BA11 BA16 BA17 BA20 BB02 BB14 BB26 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FC10 FD04 FD06 LA03 LA16 5C094 AA06 AA07 AA08 AA10 AA21 AA42 AA43 AA48 BA03 BA43 CA19 CA24 DA13 EA05 EA06 EA07 EB02 EB04 ED03 ED11 ED15 FA01 FA02 FB02 FB12 GB10 JA11 5G435 AA03 AA04 AA16 AA17 BB12 BB16 CC09 CC12 FF03 FF14 GG12 HH08 KK07
Claims (5)
- 【請求項１】 透明基板上に走査信号線、映像信号線及
び薄膜トランジスタ及び反射板を兼ねた画素電極等が形
成されたＴＦＴアレイ基板と対向配置され、上記ＴＦＴ
アレイ基板との間に液晶が挟持される反射型液晶表示装
置用のカラーフィルタにおいて、透明基板上に遮光領域
として形成されたブラックマトリクスと、上記基板上の
所定の領域に均一な膜厚で各々形成された複数色の着色
層と、上記基板上に形成された透明導電膜よりなる共通
電極と、少なくとも上記ＴＦＴアレイ基板の薄膜トラン
ジスタに対向する位置に遮光部として形成され、隣接す
る上記着色層の一部を２層以上積層してなる光学濃度
３. ５以上、膜面の反射率５％以下の積層部を備えたこ
とを特徴とするカラーフィルタ。 - 【請求項２】 積層部は、黒の着色層を含むことを特徴
とする請求項１記載のカラーフィルタ。 - 【請求項３】 積層部は、Ｃｒ等の金属よりなるブラッ
クマトリクス上に形成されていることを特徴とする請求
項１記載のカラーフィルタ。 - 【請求項４】 共通電極は、積層部の最上層の着色層よ
りも下層に設けられていることを特徴とする請求項１〜
請求項３のいずれか一項に記載のカラーフィルタ。 - 【請求項５】 透明基板上に走査信号線、映像信号線及
び薄膜トランジスタ及び反射板を兼ねた画素電極等が形
成されたＴＦＴアレイ基板と対向配置され、上記ＴＦＴ
アレイ基板との間に液晶が挟持される反射型液晶表示装
置用のカラーフィルタの製造方法であって、透明基板上
に、着色剤を含む一定厚の固相レジスト層を設けたポリ
マーフィルムをラミネートすることにより上記レジスト
層を上記基板上に転写し、これを露光、現像する操作を
繰り返し行い、上記基板上の所定の領域に複数色の着色
層を順次形成すると共に、少なくともＴＦＴアレイ基板
の薄膜トランジスタに対向する位置に、隣接する上記着
色層の一部を２層以上積層し、複数の積層部を形成する
工程を備えたことを特徴とするカラーフィルタの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13665299A JP2000329924A (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13665299A JP2000329924A (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000329924A true JP2000329924A (ja) | 2000-11-30 |
Family
ID=15180346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13665299A Pending JP2000329924A (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000329924A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008268705A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置用カラーフィルタ |
| JP2010044159A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法 |
| WO2010070929A1 (ja) * | 2008-12-19 | 2010-06-24 | シャープ株式会社 | 基板および基板を備えた表示パネル |
| US8023072B2 (en) | 2004-07-26 | 2011-09-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter substrate comprising a light shielding column and display device having the same |
| US8040471B2 (en) | 2008-07-01 | 2011-10-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display including color filters, and manufacturing method thereof |
| CN109856846A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-06-07 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 显示面板以及显示装置 |
| CN114035366A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-02-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 场序显示模组及彩色液晶显示器 |
| JP7500986B2 (ja) | 2020-02-17 | 2024-06-18 | Ｔｏｐｐａｎホールディングス株式会社 | カラーフィルタおよび表示装置 |
-
1999
- 1999-05-18 JP JP13665299A patent/JP2000329924A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP5209063B2 (ja) * | 2008-12-19 | 2013-06-12 | シャープ株式会社 | 基板および基板を備えた表示パネル |
| US8687153B2 (en) | 2008-12-19 | 2014-04-01 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate, and display panel provided with substrate |
| CN109856846A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-06-07 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 显示面板以及显示装置 |
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| CN114035366A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-02-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 场序显示模组及彩色液晶显示器 |
| CN114035366B (zh) * | 2021-11-29 | 2023-11-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 场序显示模组及彩色液晶显示器 |
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