JP2013512845A - 水素化ポリゲルマシランを製造するための方法および水素化ポリゲルマシラン - Google Patents
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Abstract
【選択図】 なし
Description
Claims (26)
- 水素化ポリゲルマシランを純粋な化合物または化合物の混合物として調製するための方法であって、ハロゲン化ポリゲルマシランが水素化される方法。
- 前記ハロゲン化ポリゲルマシランが、熱的に調製されたハロゲン化ポリゲルマシランおよびプラズマ化学反応によって調製されたハロゲン化ポリゲルマシランから選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記ハロゲン化ポリゲルマシランが、金属水素化物および/または半金属水素化物から選択される、水素化物である水素化剤と反応する、請求項1または2に記載の方法。
- 前記水素化剤が、MH、MBH4、MBH4-xRx、MAlH4、AlHxR3-x、およびこれらの混合物を包含する群から選択される、請求項3に記載の方法。
- 前記水素化が、−60℃〜200℃を包含する範囲から選択される温度で実施される、請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 前記水素化が、1Pa〜2000hPaを包含する範囲から選択される圧力で実施される、請求項1から5のいずれかに記載の方法。
- 前記ハロゲン化ポリゲルマシランが、水素化の前に溶媒で希釈される、請求項1から6のいずれかに記載の方法。
- 純粋な化合物または化合物の混合物としての水素化ポリゲルマシランであって、
水素を含む置換基Zと、
少なくとも1:1のZ対ゲルマニウム/ケイ素比と、
平均式SiaGebZz(式中、a+b=1であり、zは1≦z≦3から選択される)と、
2≦n≦100の平均鎖長nと
を有する水素化ポリゲルマシラン。 - 請求項1から7に記載の方法によって調製される、請求項8に記載の水素化ポリゲルマシラン。
- ゲルマニウム原子とケイ素原子との間に少なくとも0.0001mol%の直接結合を有する、請求項8および9のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- 3個を超える直接結合したゲルマニウム原子および/またはケイ素原子を有するポリゲルマシラン分子の部分を有し、これらのゲルマニウム原子および/またはケイ素原子の少なくとも8%が分枝部位である、請求項8から10のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- 化合物の混合物であり、前記混合物が、前記混合物中に存在する少なくとも1種の個々の化合物よりも高い溶解性を有する、請求項8から11のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- 3個を超える直接結合したゲルマニウム原子および/またはケイ素原子を有するポリゲルマシラン分子の部分を有し、これらのポリゲルマシラン分子が、平均式SiaGebZz(式中、a+b=1であり、1.9≦z≦2.5である)を有する、請求項8から12のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- Zが、ハロゲンをさらに包含する、請求項8から13のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- ハロゲンの割合が2原子%未満である、請求項14に記載の水素化ポリゲルマシラン。
- 水素の割合が50原子%超である、請求項8から15のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- 1H NMRスペクトルにおいて、6.1から2.0ppmの間の化学シフト範囲に、有意な生成物シグナルを有する、請求項8から16のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- 1H NMRスペクトルにおいて、5.0から2.9ppmの間の化学シフト範囲に、有意な生成物シグナルの全積分のシグナル強度の少なくとも80%を有する、請求項8から17のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- 29Si NMRスペクトルにおいて、−80から−130ppmの間の化学シフト範囲に、有意な生成物シグナルを有する、請求項8から18のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- ラマンスペクトルにおいて、2250波数から2000波数まで、および550波数未満の範囲に、有意な生成物バンドを有する、請求項8から19のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- 無色から黄色または象牙色である、請求項8から20のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- 非結晶質固体または結晶性固体として存在する、請求項8から21のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- 不活性溶媒中10%までの濃度で、少なくとも20%程度まで可溶性である、請求項8から22のいずれかに記載の水素化ポリゲルマシラン。
- 易溶性の水素化ポリゲルマシランが、減圧下に20%超の程度まで分解することなく蒸留可能および/または揮発性である、請求項23に記載の水素化ポリゲルマシラン。
- 請求項8から24に記載の水素化ポリゲルマシランから製造されるケイ素−ゲルマニウム層。
- 基材にケイ素−ゲルマニウム層を製造するための方法であって、
A)固体または溶解された、請求項8〜24に記載の水素化ポリゲルマシランを基材に適用するステップ、および
B)前記水素化ポリゲルマシランを熱分解するステップ
を含む方法。
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