JP2013512842A - 塩素化オリゴゲルマンとその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】なし
Description
A)塩素化ポリゲルマンを準備する工程。
B)前記塩素化ポリゲルマンを塩素、塩素放出化合物、及び/又は塩素含有ガスによって塩素化する工程。
HClは好適な塩素含有ガスである。塩素はCl2の形でより有用である。非金属塩化物は好適で有用な塩素放出化合物である。特に好ましい塩素化剤として、Cl2又はHClを使うとよい。
Claims (26)
- 純粋化合物又は複合混合物としての塩素化オリゴゲルマンであって、
前記純粋化合物と前記複合混合物とは、
少なくとも1つのGe−Ge直接結合と、
塩素または塩素と水素とを含む置換基とを有し、
前記置換基とゲルマニウムとの原子比が少なくとも2:1であり、
a)前記複合混合物は平均してGe:Cl比が1:1〜1:3、好ましくは1:2〜1:3であり、前記純粋化合物はGe:Cl比が1:2〜1:2.67, 好ましくは 1:2.2〜1:2.5であり、
b)前記複合混合物はゲルマニウム原子の平均数が2〜8である
ことを特徴とする純粋化合物又は複合混合物としての塩素化オリゴゲルマン。 - 塩素及び/又はHClを含む酸化剤を用いて塩素化ポリゲルマンを分解することにより得られることを特徴とする請求項1記載の塩素化オリゴゲルマン。
- 骨格構造中に3つより多いゲルマニウム原子を有する生成物部分(product fraction)では、オリゴゲルマン分子中で分岐部位の割合が8%より多く、好ましくは11%より多いことを特徴とする請求項1に記載の塩素化オリゴゲルマンの混合物。
- 3つより多いゲルマニウム原子を有するそれぞれの不活性溶媒の成分よりも、好ましくはトルエン、ベンゼン、及びシクロヘキサンのうち1つ以上の不活性溶媒に対して高い溶解度を有し、より好ましくはそれぞれ過塩素化された、n−テトラゲルマン、イソテトラゲルマン、n−ペンタゲルマン、イソペンタゲルマン、及び/又はネオペンタゲルマンよりも高い溶解度を有していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマンの混合物。
- 好ましくはトルエン、ベンゼン、及びシクロヘキサンのうちの1つ以上の不活性溶媒が、先行技術に拠って熱的に生成された塩素化ポリゲルマンよりも高い溶解度を有していることを特徴とする請求項4に記載の塩素化オリゴゲルマンの混合物。
- 3つより多いゲルマニウム原子を有している前記生成物部分は、ネオ−Ge5Cl12を少なくとも10%、好ましくは18%より多く、より好ましくは25%より多く有していることを特徴とする請求項3乃至5のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマンの混合物。
- 3つより多いゲルマニウム原子を有している前記生成物部分におけるGe:Cl比は、1:2.2〜1:2.5であり、好ましくは1:2.25〜1:2.4であることを特徴とする請求項3乃至6のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマンの混合物。
- 1分子当たりのゲルマニウム原子の平均数は3〜8であることを特徴とする請求項3乃至7のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマンの混合物。
- Ge2Cl6の割合が、少なくとも70wt%であり、好ましくは85wt%より多く、更に好ましくは95wt%より多いことを特徴とする請求項3乃至8のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマンの混合物。
- 水素含有量が、2atom%未満であり、好ましくは1atom%未満であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマン。
- 水素含有量が、2atom%より多く、好ましくは6atom%より多く、より好ましくは10atom%より多いことを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマン。
- 1H NMRスペクトルが、7.2〜3.5ppm、好ましくは5〜3.8ppmの化学シフト範囲にシグナルを有していることを特徴とする請求項1乃至11のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマン。
- ラマン・スペクトルが、600波数未満、好ましくは500〜370波数の間及び320波数未満において有意の波数域を有していることを特徴とする請求項1乃至12のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマン。
- 前記ラマン・スペクトルは、270〜340波数において少なくとも3つの有意の波数域、550〜640波数において少なくとも2つの有意の波数域を有していることを特徴とする請求項13に記載の塩素化オリゴゲルマン。
- 室温で流動性の液体及び/又は少なくとも部分的に固体であることを特徴とする請求項1乃至14のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマン。
- 10wt%の濃度が、ベンゼン、トルエン、及びシクロヘキサンの少なくとも1つに可溶であることを特徴とする請求項1乃至15のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマン。
- 溶解可能部分が、減圧下で、好ましくは0.01〜1hPaで、20%の非分解率で蒸留することができることを特徴とする請求項1乃至16に記載の塩素化オリゴゲルマン。
- 熱的に生成された塩素化ポリゲルマンから得られることを特徴とする請求項1、及び3乃至17のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマン。
- プラズマ化学法に基づいて生成された塩素化ポリゲルマンから得られることを特徴とする請求項1、及び3乃至17のいずれかに記載の塩素化オリゴゲルマン。
- A)塩素化ポリゲルマンを準備する工程と、
B)塩素、塩素放出化合物、及び/又は塩素含有ガスによって前記塩素化ポリゲルマンを塩素化する工程と、
を含むことを特徴とする請求項1乃至19のいずれかに記載のハロゲン化オリゴゲルマンの製造方法。 - 前記工程Bにおける反応の間の温度が、−60〜200℃の範囲にあり、好ましくは−30〜40℃の範囲にあり、より好ましくは−10〜25℃の範囲にあることを特徴とする請求項20に記載の製造方法。
- 前記工程Bにおける圧力が、200〜2000hPaであり、好ましくは800〜1500hPaであることを特徴とする請求項20または21に記載の製造方法。
- 前記工程Bにおける塩素化は、Cl2及び/又はHClを用いて成されることを特徴とする請求項20乃至22のいずれかに記載の製造方法。
- 前記工程Bの後に、1分子中に3つ以下のゲルマニウム原子を有する塩素化された単一のオリゴゲルマン及び複数のオリゴゲルマンを分別蒸留し、実質的に完全に抽出することを特徴とする請求項20乃至23のいずれかに記載の製造方法。
- Ge2Cl6が純粋生成物として得られることを特徴とする請求項24に記載の製造方法。
- 前記準備される塩素化ポリゲルマンは、前記工程Bの前に希釈され、好ましくはその希釈剤としてGeCl4、Ge2Cl6、及び/又はGe3Cl8が用いられることを特徴とする請求項20乃至25のいずれかに記載の製造方法。
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