CN1333382C - 电流驱动型发光显示装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

在由薄膜晶体管驱动的有机EL显示元件中，为了抑制薄膜晶体管的随时间劣化，由p沟道型薄膜晶体管形成薄膜晶体管中的至少一个或第二薄膜晶体管。按与内装于驱动电路中的薄膜晶体管相同的工艺形成p沟道型薄膜晶体管。

Description

电流驱动型发光显示装置及其制造方法
技术领域
本发明涉及使用薄膜晶体管驱动有机场致发光(以下称为EL)显示元件等的电流发光元件的显示装置。特别涉及可抑制随时间劣化的薄膜晶体管驱动的电流驱动型发光显示装置及其制造方法。
(背景技术)
本发明的发明者详细调查了薄膜晶体管驱动有机EL显示元件。其结果如下。
(1)在薄膜晶体管驱动有机EL显示元件中，由于有机EL显示元件为直流电流元件，所以在为了控制它而串联接入的薄膜晶体管中也有直流电流流过。
(2)薄膜晶体管分类成n沟道型和p沟道型。所谓n沟道型和p沟道型，其随时间劣化的情况很不相同。
因此，本发明的目的在于，在由薄膜晶体管驱动的电流发光元件中，抑制薄膜晶体管随时间劣化。
(发明的公开)
(1)根据本发明第一方案的电流驱动型发光显示装置，该装置形成多根扫描线和多根数据线，与扫描线和数据线的各交点对应地形成薄膜晶体管和电流发光元件，其特征在于，薄膜晶体管中的至少一个是p沟道型薄膜晶体管。
按照第一方案，能够抑制薄膜晶体管的随时间劣化。
(2)根据本发明的第二方案的电流驱动型发光显示装置，该装置形成多根扫描线、多根数据线、公共电极和反向电极，对应于扫描线和数据线的各交点，形成第一薄膜晶体管、第二薄膜晶体管、保持电容、像素电极和电流发光元件，所述第一薄膜晶体管通过扫描线的电位控制扫描线与保持电容的导通，所述第二薄膜晶体管通过保持电容的电位控制公共电极与像素电极的导通，控制流过位于像素电极和反向电极之间的所述电流发光元件的电流，此电流驱动型发光显示装置的特征在于，第二薄膜晶体管为p沟道型薄膜晶体管。
(3)根据本发明第三方案的电流驱动型发光显示装置，如第一方案或第二方案所述，在基板上形成所述多根扫描线、所述多根数据线、所述薄膜晶体管和所述电流发光元件，同时还形成用于驱动所述发光元件的驱动电路，其特征在于，用与形成所述驱动电路内的薄膜晶体管相同的工艺形成所述p沟道型薄膜晶体管。
(4)在方案1至方案3的任何一项方案所述的电流驱动型发光显示装置中，所述薄膜晶体管由多晶硅薄膜晶体管构成。
(5)根据本发明第五方案，构成第三方案所述的电流驱动型发光显示装置，其特征在于，所述驱动电路由互补型薄膜晶体管构成，用相同的工艺形成所述第一薄膜晶体管和所述驱动电路内的n沟道型薄膜晶体管，用相同的工艺形成所述第二薄膜晶体管和所述驱动电路内的p沟道型薄膜晶体管。
按照第五方案，能够不增加制造工艺，提供没有随时间劣化的高性能的电流驱动型发光显示装置。
(附图的简单说明)
图1是表示采用本发明的显示装置的基本结构的方框图。
图2是表示配有本发明实施例1的薄膜晶体管的显示元件的等效电路图。
图3是表示配有本发明实施例1的薄膜晶体管的显示元件的驱动电压图。
图4是表示本发明实施例1的电流薄膜晶体管的电流电压特性图。
图5是表示本发明实施例1的有机EL显示元件的电流电压特性图。
图6(a)表示配有本发明实施例1的薄膜晶体管的有机EL显示元件的剖面图，图6(b)表示配有本发明实施例1的薄膜晶体管的有机EL显示元件的平面图。
图7是表示配有本发明实施例2的薄膜晶体管的有机EL显示元件的等效电路图。
图8是表示配有本发明实施例2的薄膜晶体管的有机EL显示元件的驱动电压图。
图9是表示本发明实施例2的电流薄膜晶体管的电流电压特性图。
图10是表示本发明实施例2的有机EL显示元件的电流电压特性图。
图11(a)表示配有本发明实施例2的薄膜晶体管的有机EL显示元件的剖面图，图11(b)表示配有本发明实施例2的薄膜晶体管的有机EL显示元件的平面图。
图12是表示n沟道型薄膜晶体管的随时间劣化图。
图13是表示p沟道型薄膜晶体管的随时间劣化图。
图14是表示本发明薄膜晶体管驱动的有机EL显示元件的制造工艺的图。
(符号的说明)
111扫描线
112数据线
113公共线
114保持电极
115用A1形成的像素电极
116用ITO形成的反向电极
121开关薄膜晶体管
122n沟道型电流薄膜晶体管
123保持电容
131正向偏置有机EL显示元件
132孔穴注入层
133有机EL层
141电流发光元件的电流方向
151抗蚀剂
211扫描电位
212信号电位
213保持电位
214公共电位
215像素电极
216反向电位
221像素变为显示状态的期间
222像素变为非显示状态的期间
31漏极电压4V时的n沟道型电流薄膜晶体管的电流电压特性
32漏极电压8V时的n沟道型电流薄膜晶体管的电流电压特性
4正向偏置有机EL显示元件的电流电压特性
611扫描线
612数据线
613公共线
614保持电极
615用ITO形成的像素电极
616用Al形成的反向电极
621开关薄膜晶体管
622 p沟道型电流薄膜晶体管
623保持电容
631反向偏置有机EL显示元件
632孔穴注入层
633有机EL层
641电流发光元件的电流方向
651抗蚀剂
711扫描电位
712信号电位
713保持电位
714公共电位
715像素电位
716反向电位
721像素变为显示状态的期间
722像素变为非显示状态的期间
81漏极电压4V时的p沟道型电流薄膜晶体管的电流电压特性
82漏极电压8V时的p沟道型电流薄膜晶体管的电流电压特性
9反向偏置有机EL显示元件的电流电压特性
511施加电压前的Vd＝4V时n沟道型薄膜晶体管的传输特性
512施加电压前的Vd＝8V时n沟道型薄膜晶体管的传输特性
521施加电压后的Vd＝4V时n沟道型薄膜晶体管的传输特性
522施加电压后的Vd＝8V时n沟道型薄膜晶体管的传输特性
811施加电压前的Vd＝4V时p沟道型薄膜晶体管的传输特性
812施加电压前的Vd＝8V时p沟道型薄膜晶体管的传输特性
821施加电压后的Vd＝4V时p沟道型薄膜晶体管的传输特性
822施加电压后的Vd＝8V时p沟道型薄膜晶体管的传输特性
(实施发明的优选实施例)
(有机EL显示元件的整体结构)
下面，参照附图说明本发明的优选实施例。
如图1所示，基板1上的中央部分为显示部分。在透明基板1的外周部分内，在对着图面的上侧构成相对于数据线112的输出图象信号的数据侧驱动电路3，在对着图面的左侧构成相对于扫描线111的输出扫描信号的扫描侧驱动电路4。在这些驱动电路3、4中，由N型薄膜晶体管和P型薄膜晶体管构成互补型TFT，该互补型薄膜晶体管构成移位寄存器电路、电平移动电路、模拟开关电路等。
在透明基板1上，构成多根扫描线111和在相对于该扫描线111的延伸方向的垂直方向上延伸的多根数据线112，通过这些数据线112和扫描线111的交叉构成矩阵形式的像素7。
通过扫描线111把扫描信号供给栅极21(第一栅极)的第一薄膜晶体管121(以下称为开关薄膜晶体管)，构成那些像素7。该开关薄膜晶体管121的源/漏区的一方与数据线112电连接，源/漏区的另一方与电位保持电极113电连接。此外，相对于扫描线111，并联配置公共线114，在该公共线114和电位保持电极113之间形成保持电容123。公共线保持固定电位。因此，如果通过扫描信号进行选择，使开关薄膜晶体管121变为导通状态，那么来自扫描线112的图象信号通过开关薄膜晶体管写入保持电容123。
在电位保持电极113上电连接第二薄膜晶体管122(以下称为电流薄膜晶体管)的栅极，该电流薄膜晶体管122的源/漏区的一方与公共线114电连接，源/漏区的另一方与发光元件131一方的电极115电连接。在电流薄膜晶体管122变为导通状态时，通过电流薄膜晶体管122，公共线114的电流流入有机EL显示元件等发光元件131，使该发光元件131发光。而且，在本结构中，保持电容的一个电极与公共线114连接，但也可以不与公共线114连接，另外设置电容线，使其与电容线连接。再有，也可以构成把保持电容的一个电极与邻接的栅极线连接的结构。
(实施例1)
图1是表示配有本发明实施例1的薄膜晶体管的有机EL显示元件的等效电路图，图2是表示配有本发明实施例1的薄膜晶体管的有机EL显示元件的驱动电压图，图3是表示本发明实施例1的电流薄膜晶体管的电流电压特性图，图4是表示本发明实施例1的有机EL显示元件的电流电压特性图。
图1中，111是扫描线，112是数据线，113是保持电极，114是公共线，115是用Al形成的像素电极，116是用ITO形成的反向电极，121是开关薄膜晶体管，122是n沟道型电流薄膜晶体管，123是保持电容，131是利用从供电线116向像素电极115流动的电流发光的有机EL显示元件13(以下称为正向偏置有机EL显示元件)，141是有机EL显示元件的电流方向。
图2中，211是扫描电位，212是信号电位，213是保持电位，214是公共电位，215是像素电位，216是反向电位。而且，为了说明图2中各电位关系，仅记述各电位的一部分。扫描线111的电位对应于扫描电位211，数据线112的电位对应于信号电位212，保持电极113的电位对应于保持电位213，公共线114的电位对应于公共电位214，用Al形成的像素电极115的电位对应于像素电位215，用ITO(铟锡氧化物)形成的反向电极116的电位对应于反向电位216。而且，图2是按模式部分记述各信号电位的图。
221表示在像素变为显示状态的期间在正向偏置有机EL显示元件131中流过电流发光，222表示在像素变为非显示状态的期间在正向偏置有机EL显示元件131中没有电流流过不发光。
图4中，31是漏极电压4V时的n沟道型电流薄膜晶体管122的电流电压特性，32是漏极电压8V时的n沟道型电流薄膜晶体管122的电流电压特性。显然，无论在哪个漏极电压中，当栅极为低电压时，n沟道型电流薄膜晶体管122都变为关闭状态，流过小的漏极电流，源/漏间的电阻变为高电阻，而当栅极电压为高电压时，n沟道型电流薄膜晶体管122变为导通状态，流过大的漏极电流，源/漏间的电阻变为低电阻。
图5中，4是正向偏置有机EL显示元件131的电流电压特性。其中，电压是表示相对于像素电位215的反向电位216，电流是表示从反向电极116向像素电极115流动的电流。正向偏置有机EL显示元件131在某个阈值电压以下时变为关闭状态，呈现高电阻，没有电流流过，不发光。在阈值电压以上时，则变为导通状态，呈现低电阻，有电流流过，并发光。其中，阈值电压大约为2V。
下面，用图2、图3、图4和图5说明配有本实施例的薄膜晶体管的有机EL显示元件的工作。
开关薄膜晶体管121利用扫描线111的电位控制数据线112与保持电极113的导通。也就是说，利用扫描电位211，控制信号电位212与保持电位213的导通。再有，其中开关薄膜晶体管121是n沟道薄膜晶体管，但p沟道薄膜晶体管也可以。
相对于像素变为显示状态的期间221，信号电位212变成高电位，在保持电位213上保持其高电位。相对于像素变为非显示状态的期间222，信号电位212变成低电位，在保持电位213上保持其低电位。
n沟道型电流薄膜晶体管122有图3所示的特性，由保持电极113的电位控制公共线114与像素电极115的导通。也就是说，由保持电位213控制公共电位214与像素电位222的导通。相对于像素变为显示状态的期间221，由于保持电位213为高电位，所以公共线114与像素电极115导通，相对于像素变为非显示状态的期间222，由于保持电位213为低电位，所以公共线114与像素电极115之间被断开。
有机EL显示元件131有图5所示的特性，相对于像素变为显示状态的期间221，在像素电极115与反向电极116间流过电流，有机EL显示元件131发光。相对于像素变为非显示状态的期间222，没有电流流过，不发光。
图6(a)表示配有本发明实施例的薄膜晶体管有机EL显示元件(一像素)的剖面图，图6(b)表示本发明实施例的薄膜晶体管有机EL显示元件(一像素)的平面图。图6(a)的剖面A-A’与图6(b)的剖面A-A’对应。
图5中，132是孔穴注入层，133是有机EL层，151是抗蚀剂。
再有，其中有关的开关薄膜晶体管121和n沟道型电流薄膜晶体管122被用作薄膜晶体管液晶显示元件。采用低温多晶硅薄膜晶体管的结构和工艺处理，即采用顶部栅极结构和最高温度600度以下的工艺处理，但采用其它结构和工艺处理也可以。
通过用Al形成的像素电极115、用ITO形成的反向电极116、孔穴注入层132和有机EL层33，形成正向偏置有机EL显示元件131。在该正向偏置有机EL显示元件131中，能够使有机EL显示元件的电流方向141从用ITO形成的反向电极116流向用Al形成的像素电极115。再有，有关有机EL显示元件，即使不用这里使用的结构，只要使有机EL显示元件的电流方向141能够从反向电极向像素电极方向流动，采用其它结构也可以。
再有，其中采用抗蚀剂151作为各像素间的分离结构，按喷墨印刷法形成孔穴注入层132和有机EL层133，用溅射法形成由ITO构成的反向电极116，当然采用其他方法也可以。
在本实施例中，与反向电位216相比，公共电位214为低电位。并且，电流薄膜晶体管为n沟道型电流薄膜晶体管122。
在像素变为显示状态的期间221中，n沟道型电流薄膜晶体管122变为导通状态。如图3所示，流过正向偏置有机EL显示元件131的电流，即n沟道型电流薄膜晶体管122的导通电流依赖于栅极电压。其中，所谓栅极电压是保持电位213与公共电位214和像素电位215中的低电位一方的电位差。按照本实施例，由于公共电位214变为比像素电位215低的电位，所以栅极电压变为保持电位213与公共电位214的电位差。由于该电位差达到充分大，所以可获得充分大的导通电流。再有，n沟道型电流薄膜晶体管122的导通电流也依赖于漏极电压，但上述结论不变。
此外，相反地，为了获得必要的导通电流，应能够使保持电位213达到更低的电位，能够降低信号电位212的振幅，从而可降低扫描电位211的振幅。也就是说，在开关薄膜晶体管121和n沟道型电流薄膜晶体管122中，可不导致画质的劣化、工作异常和工作频率下降，而实现驱动电压的下降。
还有，在本实施例中，相对于处于显示状态的像素的信号电位212是比反向电位216低的电位。
如上所述，在像素变为显示状态的期间221中，n沟道型电流薄膜晶体管122的导通电流依赖于保持电位213与公共电位214的电位差，而不直接依赖于保持电位213与反向电位216的电位差。因此，在n沟道型电流薄膜晶体管122中，确保了充分大的导通电流，同时能够使保持电位213，也就是使相对于处于显示状态的像素的信号电位212能够变成比反向电位216低的低电位，从而能够降低信号电位212的振幅和扫描电位211的振幅。也就是说，在开关薄膜晶体管121和n沟道型电流薄膜晶体管122中，可不导致画质的劣化、工作异常和工作频率下降，而实现驱动电压的下降。
并且，在本实施例中，相对于处于非显示状态的像素的信号电位212是比公共电位214高的电位。
在像素处于非显示状态的期间222中，与公共电位214相比，在信号电位212稍微变为高电位的情况下，n沟道型电流薄膜晶体管122就不能达到完全关闭状态。但是，如图3所示，n沟道型电流薄膜晶体管122的源/漏间电阻变成相当大的高电阻。因此，通过按n沟道型电流薄膜晶体管122的电阻值和正向偏置有机EL显示元件131的电阻值来分开公共电位214和反向电位216而决定的像素电位215就变为反向电位216附近的电位。
施加在正向偏置有机EL显示元件131上的电压是像素电位215与反向电位216的电位差，如图5所示，在某个阈值电压以下时，变为关闭状态，没有电流流过，不发光。也就是说，通过利用正向偏置有机EL显示元件131的阈值电压，与公共电位214相比，信号电位212为稍微高些的高电位，n沟道型电流薄膜晶体管122也未达到完全关闭状态，不可能使正值有机EL显示元件131发光。
其中，与公共电位214相比，通过使相对于处于非显示状态的像素的信号电位212为高电位，就能够降低信号电位212的振幅，从而降低扫描电位211的振幅。也就是说，在开关薄膜晶体管121和n沟道型电流薄膜晶体管122中，可不导致画质的劣化、工作异常和工作频率下降，而实现驱动电压的下降。
再有，配有本实施例的薄膜晶体管的有机EL显示元件的动作不象上述那样简单，而是以更复杂的电压和电流之间的关系进行动作，但就近似和定性而言，上述说明成立。
(实施例2)
图7是表示配有本发明实施例2的薄膜晶体管的有机EL显示元件的等效电路图，图8是表示配有本发明实施例2的薄膜晶体管的有机EL显示元件的驱动电压图，图9是表示本发明实施例2的电流薄膜晶体管的电流电压特性图，图10是表示本发明实施例2的有机EL显示元件的电流电压特性图。
图7中，615是用ITO形成的像素电极，616是用Al形成的反向电极，622是p沟道型电流薄膜晶体管，631是利用从像素电极615流入供电线616的电流发光的有机EL显示元件(以下称为反向偏置有机EL显示元件)。641是有机EL显示元件的电流方向，但与图1的方向相反。除此之外，与上述实施例1和图1相同。
图8中，各电位的电平与图2不同。除此之外，与图2相同。
图9中，81是漏极电压为4V时的p沟道型电流薄膜晶体管622的电流电压特性，82是漏极电压为8V时的p沟道型电流薄膜晶体管622的电流电压特性。
图10中，9是反向偏置有机EL显示元件631的电流电压特性。
配有本实施例薄膜晶体管的有机EL显示元件的动作，除利用电流薄膜晶体管为p沟道型薄膜晶体管622，使有关的电流薄膜晶体管的电位关系反相外，与实施例1相同。
图11(a)表示配有本发明实施例的薄膜晶体管的有机EL显示元件(一像素)的剖面图，图11(b)表示配有本发明实施例2的薄膜晶体管的有机EL显示元件(一像素)的平面图。图11(a)的剖面A-A’与图11(b)的剖面A-A’对应。
图10中，632是孔穴注入层，633是有机EL层。除此之外，与图5相同。
通过用ITO形成的像素电极615、用Al形成的反向电极616、孔穴注入层632和有机EL层633，形成反向偏置EL显示元件631。在该反向偏置EL显示元件631中，能够使有机EL显示元件的电流方向641成为从用ITO形成的像素电极615向用Al形成的反向电极616的方向。
在本实施例中，与反向电位716相比，公共电位714为高电位。并且，电流薄膜晶体管为p沟道型电流薄膜晶体管622。
再有，在本实施例中，与反向电位716相比，相对于处于显示状态的像素的信号电位712为高电位。
再有，在本实施例中，与公共电位714相比，相对于处于非显示状态的像素的信号电位712为低电位。
除电流薄膜晶体管为p沟道型薄膜晶体管622，与电流薄膜晶体管有关的电位关系被反相外，本实施例的薄膜晶体管有机EL显示元件的全部效果与实施例1相同。
在本实施例中，电流薄膜晶体管122是p沟道型薄膜晶体管。利用该结构，可以使电流薄膜晶体管122的随时间劣化显著地降低。此外，利用p沟道型的多晶硅薄膜晶体管的结构，还能够降低电流薄膜晶体管122的随时间劣化。
图14是表示配有上述本发明实施例的薄膜晶体管的电流驱动型发光显示装置的制造工艺图。
首先，如图14(a)所示，在基板1上把200～600埃的非晶硅层形成在整个基板上，通过实施激光等退火使非晶硅多结晶化，形成多晶硅层。然后，把多晶硅层做成图案，形成作为开关薄膜晶体管121的源/漏及沟道区的硅薄膜421，存储电容123的第一电极423，和作为电流薄膜晶体管122的源/漏及沟道区的硅薄膜422。接着，在硅薄膜421、422和第一电极423上形成作为栅极绝缘膜的绝缘膜424。随后，在第一电极423上有选择地注入磷(P)离子，进行低电阻化。之后，如图14(b)所示，在硅薄膜421和422上通过栅极绝缘膜形成由TaN层构成的栅极111和111’。然后，在作为电流薄膜晶体管的硅层422上形成抗蚀剂掩模42，以栅极为掩模，按自对准方式进行磷(P)的离子注入，在硅层421上形成n型的源/漏区。接着，如图14(c)所示，在第一硅层421和第一电极上形成抗蚀剂掩模412’，在硅层422上以栅极111’为掩模，按自对准进行硼(B)的离子注入，在硅层422上形成p型的源和漏区。这样，利用n沟道型杂质掺杂411，形成开关薄膜晶体管121。此时，电流薄膜晶体管122由抗蚀剂掩模42保护，不进行n沟道型杂质掺杂411。接着，利用p沟道型杂质掺杂412，形成开关薄膜晶体管122。
此外，图中虽未示出，但在同一基板形成的情况下，也可以用与上述工艺相同的处理同时形成驱动开关薄膜晶体管121的驱动电路部分的移位寄存器、构成采样保持电路等的薄膜晶体管。
再有，也可以用与栅极111和111’相同的材料同时形成存储电容的第二电极425，用其它材料形成也可以。
随后，如图14(d)所示，在形成层间绝缘膜43，形成接触孔后，形成由铝和ITO构成的电极层426、427、428和429。
然后，在形成层间绝缘膜44进行平坦化后，形成接触孔，形成100～2000埃、最好为约1600埃的IT045，以便能够连接电流薄膜晶体管的一个电极。接着，相对于各像素区域，分开形成2.0μm以上的阻挡层(バンク居)46、47。接着，在由阻挡层46、47包围的区域中，利用喷墨方式等形成有机EL层48。在形成有机EL层48后，在有机EL层48上用6000～8000埃构成的铝锂形成为反向电极49。在有机EL48和反向电极49之间还可以设有如图5所示的孔穴注入层。
利用上述工艺，能够形成高性能的薄膜晶体管驱动的有机EL显示元件。此外，与非晶硅相比，由于多晶硅的载流子的迁移率特别大，所以能够高速动作。
具体地说，在本实施例中，在形成p型电流薄膜晶体管122和n型开关薄膜晶体管121时，能够采用上述实施例同时形成构成驱动电路的移位寄存器、采样保持电路等的互补型薄膜晶体管的p型和n型的薄膜晶体管。按照该结构，可获得降低电流薄膜晶体管122随时间劣化的结构，并且在不增加制造过程的情况下就能够实现。
在如上所述的实施例1中，说明了电流薄膜晶体管为n沟道型的结构，在实施例2中说明了电流薄膜晶体管为p沟道型的结构，下面研讨p沟道型和n沟道型的薄膜晶体管的随时间劣化。
图12和图13是表示在同等的施加电压条件下，n沟道型和p沟道型薄膜晶体管，特别是多晶硅薄膜晶体管的随时间劣化的图。图12的511、512表示施加电压前的Vd＝4V、Vd＝8V时n沟道型薄膜晶体管的传输特性。此外，521、522表  Vg＝0V、Vd＝15V、1000秒左右的施加电压后的Vd＝4V、Vd＝8V时n沟道型薄膜晶体管的传输特性。图13的811、812表示施加电压前的Vd＝4V、Vd＝8V时p沟道型薄膜晶体管的传输特性。此外，821、822表  Vg＝0V、Vd＝15V、1000秒左右的施加电压后的Vd＝4V、Vd＝8V时p沟道型薄膜晶体管的传输特性。显然，可以看出，p沟道型薄膜晶体管的一方，虽然导通电流减小和关闭电流增加，但都较小。
考虑到图12和图13所示的p型和n型的薄膜晶体管的随时间劣化特性的不同，通过用p沟道型薄膜晶体管、特别是用p型多晶硅薄膜晶体管构成开关薄膜晶体管和电流薄膜晶体管中的至少一个，就能够抑制随时间劣化。再有，不仅电流薄膜晶体管，而且还通过用p型薄膜晶体管构成开关薄膜晶体管，也能够维持显示元件的特性。
此外，虽然上述实施例用有机EL显示元件作为发光元件进行了说明，但不用说，它并不限于有机EL显示元件，也适用于无机EL元件或其它电流驱动型发光元件。
(工业上的利用领域)
本发明的显示装置可作为备有有机EL显示元件、无机EL元件等的各种电流驱动型发光元件和驱动这些元件的薄膜晶体管等开关元件的显示装置使用。

Claims (24)

1.一种电流驱动型发光显示装置，包括：
多条扫描线；
多条数据线；
多个像素，由多条扫描线与多条数据线的交叉点构成；
直流驱动发光元件，形成于多个象素的每一个中，该发光元件包括一个孔穴注入层并以直流发光；
第一晶体管，与多条扫描线的每一条和多条数据线的每一条连接；
保持电容，形成于多个象素的每一个中；
第二晶体管，设于多个象素的每一个中，其栅极与保持电容连接，该第二晶体管为p沟道型晶体管；以及
多条公共线，其每一条都保持在一受控的电位上，以通过第二晶体管为各直流驱动发光元件提供直流电流，且该多条公共线的每一条的电位都保持恒定，
其中第一晶体管和第二晶体管都是多晶硅薄膜晶体管。
2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述第一晶体管是n沟道型晶体管。
3.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述发光元件是有机场致发光元件。
4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述第一晶体管的源极或漏极通过一个电位保持电极与保持电容连接。
5.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述第二晶体管用于控制流过发光元件的电流。
6.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述第一晶体管是薄膜晶体管。
7.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，还包括连接到多条扫描线上的第一驱动电路和连接到多条数据线上的第二驱动电路。
8.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，第一驱动电路和第二驱动电路各包括一个晶体管。
9.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，还包括连接到多条扫描线上的第一驱动电路和连接到多条数据线上的第二驱动电路，第一驱动电路和第二驱动电路各包括一个薄膜晶体管。
10.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，还包括连接到多条扫描线上的第一驱动电路和连接到多条数据线上的第二驱动电路，第一驱动电路和第二驱动电路中至少一个包括一个n沟道型薄膜晶体管和一个p沟道型薄膜晶体管。
11.如权利要求10所述的显示装置，其特征在于，第一和第二驱动电路中至少一个的薄膜晶体管是按照与第一和第二晶体管中至少一个的相同工艺步骤制成的。
12.如权利要求10所述的显示装置，其特征在于，所述第一晶体管是多晶硅薄膜晶体管。
13.一种制造权利要求11所述显示装置的方法，包括：
按照与n沟道型薄膜晶体管相同的工艺步骤制成第一晶体管；和
按照与n沟道型薄膜晶体管相同的工艺步骤制成第二晶体管。
14.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述第一驱动电路和所述第二驱动电路中至少一个包括移位寄存器电路、电平移动电路和模拟开关电路中至少一个。
15.一种显示装置，包括：
多条扫描线；
多条数据线；
多条公共线；
一个反向电极；以及
多个像素，对应于多条扫描线与多条数据线的交叉点，该多个像素中每一个都包括：
一个发光元件，由直流电驱动，该发光元件包括一个孔穴注入层；
一个保持电容；
第一晶体管，其栅极和源极或漏极分别与多条扫描线之一和多条数据线之一连接，该第一晶体管用于控制一条数据线与保持电容之间的导通；以及
第二晶体管，其栅极与保持电容连接，该第二晶体管为p沟道型晶体管，该第二晶体管控制多条公共线的相应一条公共线与发光元件之间的导通，并按照第二晶体管的栅极电压来控制通过发光元件的直流电流，且所述相应一条公共线的电位保持恒定，
其中所述发光元件配置在所述反向电极与所述第二晶体管之间，当直流电流流过所述第二晶体管与所述反向电极之间时该发光元件发光，并且所述第二晶体管是多晶硅薄膜晶体管。
16.如权利要求15所述的显示装置，其特征在于，所述第一晶体管是n沟道型晶体管。
17.如权利要求15所述的显示装置，其特征在于，所述发光元件是有机场致发光元件。
18.如权利要求15所述的显示装置，其特征在于，所述第二晶体管用于控制流过发光元件的电流。
19.如权利要求15所述的显示装置，其特征在于，所述第一晶体管是薄膜晶体管。
20.一种显示装置，包括：
多条扫描线；
多条数据线；
多条公共线；
多个像素，对应于多条扫描线与多条数据线的交叉点，该多个像素之一包括：
一个发光元件，由直流电驱动，该发光元件包括一个孔穴注入层；
一个保持电容；
第一晶体管，其栅极和源极或漏极分别与多条扫描线之一和多条数据线之一连接，该第一晶体管用于控制一条数据线与保持电容之间的导通；以及
第二晶体管，其栅极与保持电容连接，该第二晶体管为p沟道型晶体管，该第二晶体管控制多条公共线的相应一条公共线与发光元件之间的导通，且所述相应一条公共线的电位保持恒定，
其中流过所述第二晶体管的直流电流也流过所述发光元件，该发光元件以直流发光，并且所述第二晶体管是多晶硅薄膜晶体管。
21.如权利要求20所述的显示装置，其特征在于，所述第一晶体管是n沟道型晶体管。
22.如权利要求20所述的显示装置，其特征在于，所述发光元件是有机场致发光元件。
23.如权利要求20所述的显示装置，其特征在于，所述第一晶体管通过一个电位保持电极与所述保持电容连接。
24.一种显示装置，包括：
多条扫描线；
多条数据线；
多条公共线；
一个反向电极；以及
多个像素，对应于多条扫描线与多条数据线的交叉点，该多个像素之一包括：
一个发光元件，由直流电驱动，该发光元件包括一个孔穴注入层；
一个保持电容；
第一晶体管，其栅极和源极或漏极分别与多条扫描线之一和多条数据线之一连接，该第一晶体管用于控制一条数据线与保持电容之间的导通，并且所述第一晶体管为n沟道型的晶体管，
第二晶体管，其栅极与保持电容连接，该第二晶体管为p沟道型的晶体管，该第二晶体管控制多条公共线的相应一条公共线与发光元件之间的导通，并按照第二晶体管的栅极电压来控制通过发光元件的直流电流，且所述相应一条公共线的电位保持恒定，
其中所述发光元件配置在所述反向电极与所述第二晶体管之间，当直流电流流过所述第二晶体管与所述反向电极之间时该发光元件发光，并且所述第二晶体管是多晶硅薄膜晶体管。
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