JP3993182B2 - ２個の物品ホルダを有する二次元バランス位置決め装置及びこの位置決め装置を有するリソグラフ装置 - Google Patents

Description

本発明はベースと、第１移動ユニットと、第２移動ユニットとを具え、第１移動ユニットはＸ方向に平行に、このＸ方向に垂直なＹ方向に平行にベースに対し移動し得る第１物品ホルダを有し、第２移動ユニットはＸ方向に平行に、Ｙ方向に平行にベースに対し移動し得る第２物品ホルダを有し、第１物品ホルダと第２物品ホルダとは測定位置から作動位置にベースに対し連続的に移動可能であり、第１移動ユニット、及び第２移動ユニットはそれぞれ作動中、相互に移動可能で、相互に駆動力を作用させる第１部分、及び第２部分を具え、第１移動ユニット、及び第２移動ユニットの第１部分がそれぞれＸ方向に平行に、Ｙ方向に平行に第１物品ホルダ、及び第２物品ホルダに連結されている位置決め装置に関するものである。

また、本発明は放射源と、マスクホルダと、集束ユニットと、位置決め装置とを固定するフレームを具え、集束ユニットは主軸線を有し、位置決め装置はこの主軸線に垂直なＸ方向に平行に、及びＸ方向に垂直で主軸線にも垂直なＹ方向に平行に、集束ユニットに対し移動可能な基材ホルダを具えるリソグラフ装置に関するものである。

更に、本発明は位置決め装置と、集束ユニットと、別個の位置決め装置と、放射源とを固定するフレームを具え、集束ユニットは主軸線を有し、位置決め装置はこの主軸線に垂直なＸ方向に平行に、及びＸ方向に垂直で主軸線にも垂直なＹ方向に平行に、集束ユニットに対し移動可能な基材ホルダを具え、別個の位置決め装置は少なくともＸ方向に平行に集束ユニットに対し移動可能なマスクホルダを具えているリソグラフ装置に関するものである。

最初のパラグラフに述べた種類の位置決め装置はヨーロッパ特許公開第525872号から既知である。この既知の位置決め装置は光学リソグラフ法によって、集積半導体回路を製造するため光学リソグラフ装置に使用されている。リソグラフ装置は光源、及びレンズ系によってマスク上にあるこのような半導体回路の微細なパターンを縮小された寸法で、半導体基材上に結像する。このような半導体回路は複雑な構造を有するから、半導体基材を多数回、露光し、その度に異なる微細なパターンを有する異なるマスクを使用する必要がある。マスクは順次、マガジンから取り出され、既知の位置決め装置によってリソグラフ装置内の作動位置に設置される。マガジンから取り出したマスクを作動位置に移動させている間、マスクは測定位置を通過し、この測定位置においてリソグラフ装置の基準位置に対してマスクが占める位置が測定される。測定位置から作動位置へのマスクの移動中、マスクを移動させる物品ホルダの位置を上記基準位置に対して測定するから、物品ホルダの適切な移動を通じて、基準位置に対して希望する作動位置にマスクを設置することができる。半導体基材の露光中、関連する物品ホルダは希望する作動位置にマスクを維持する。その後、他の物品ホルダはマガジンから次のマスクを取り出して、このマスクを測定位置に動かす。このようにして、２個の物品ホルダと共に２個の移動ユニットを使用することによって、前のマスクが作動位置にあって、この前のマスクを通じて半導体基材を露光しつつある間に、基準位置に対して、次のマスクの位置を測定することができる。このようにして、リソグラフ装置の生産量を著しく増大することができる。

更に、最初のパラグラフに述べた種類の位置決め装置の使用は一般に工作機械、及び機械加工設備において既知である。この場合、１個、又は２個の物品ホルダによって支持される工作物がこの物品ホルダに対して占める位置を測定位置において測定する。次に関連する物品ホルダは工作物と共に、工作物を加工すべき作動位置に動かされる。関連する物品ホルダが工作機械の基準位置に対して占める位置を作動位置において測定し、その結果、工作物を基準位置に対して希望する作動位置にもたらすことができる。この場合も、２個の物品テーブルと共に、２個の移動ユニットを使用することによって、工作機械、即ち機械加工設備の生産量を著しく増大することができる。これは前の工作物を処理している間に、次の工作物は既に、測定位置に動かされているからである。

既知の位置決め装置の第１移動ユニット、及び第２移動ユニットはそれぞれ関連する物品ホルダに固定された第１部分と、ベースに固定された第２部分とを具え、各移動ユニットの上記第１部分、及び第２部分は相互に駆動力を作用させながら、相互に相対的に移動することができる。この既知の位置決め装置の欠点は、移動ユニットの２個の部分がそれぞれベースに固定されており、従って第１移動ユニット、及び第２移動ユニットのための共通ベースを形成していることである。物品ホルダの移動中、反力が第２部分に作用し、この力はベースに伝達される。上記の反力はベースの機械的振動を引き起こし、その振動は第２部分、及び物品ホルダに伝達される。第１物品ホルダが例えば作動位置にあると、次のマスクがマガジンから測定位置に移動中、第２移動ユニットによってベースに作用する反力の結果として、機械的振動が第１物品ホルダに生ずる。２個の移動ユニット間のこのような相互の干渉は移動ユニットの位置決めを不正確なものにしてしまう。通常、これは好ましくない。更に、ベースに発生する機械的振動も既知の位置決め装置を使用する装置の他の部分に伝達する。通常、このことも好ましくない。

本発明の目的はベースを２個の移動ユニットに共通なものにし、２個の移動ユニットの上述のような好ましくない相互の干渉をできるだけ防止した最初のパラグラフに記載された種類の位置決め装置を得るにある。

この目的のため、本発明はＸ方向に平行に、Ｙ方向に平行に設けた第１移動ユニット、及び第２移動ユニットの第２部分を第１移動ユニット、及び第２移動ユニットに共通なバランスユニットに連結し、バランスユニットをＸ方向に平行に、Ｙ方向に平行にベースに対し移動可能に案内すると共に、第１移動ユニット、及び第２移動ユニットに駆動力を発生する力アクチュエータをそれぞれ設けたことを特徴とする。「力アクチュエータ」の語は所定の値の駆動力を発生するアクチュエータを意味すると解される。更に、このような力アクチュエータ、いわゆる位置アクチュエータは所定の値を有する移動を発生することで知られている。バランスユニットを使用するから、位置決め装置の移動ユニットの第１部分によって第２部分に作用する反力はベースに伝達されず、ベースに対し移動し得るバランスユニットに作用し、この反力はベースに対するバランスユニットの移動に変換される。これにより、ベース、及びバランスユニットの機械的振動はできるだけ防止され、またこの振動が物品ホルダに伝導するのをできるだけ防止することができる。ベースに対する物品ホルダの位置は位置決め装置の移動ユニットの駆動力の値によって決定され、上記駆動力の値は制御ユニットによって制御される。力アクチュエータによって駆動力が発生されるから、これ等の駆動力は第２部分に対する移動ユニットの第１部分の位置とは実質的に独立しており、従ってベースに対する物品ホルダの位置は物品ホルダに対するバランスユニットの位置とは実質的に独立している。これにより、２個の移動ユニットの一方の移動ユニットの反力によってＸ方向に平行な、Ｙ方向に平行なベースに対するバランスユニットの移動はベースに対する他方の移動ユニットの物品ホルダの位置に実質的に影響を有せず、従って２個の移動ユニットの位置決め精度間の相互の妨害をできるだけ防止することができる。更に、バランスユニットが２個の移動ユニットのための共通のバランスユニットであることによって、位置決め装置の簡単な構造を達成している。

写真複写機は米国特許第5208497号から既知であり、この既知の複写機は単一の移動ユニットを有し、この移動ユニットにより光学ユニットを単一の走査方向に平行に移動可能にしている。この移動ユニットもバランスユニットを有し、このバランスユニットを光学ユニットに連結し、このバランスユニットも走査方向に平行に移動可能にしている。しかし、米国特許第5208497号はＸ方向に平行に、及びＸ方向に垂直なＹ方向に平行に移動可能な物品ホルダをそれぞれ有する２個の移動ユニットの使用を示しておらず、Ｘ方向に平行に、及びＹ方向に平行に移動可能である共通のバランスユニットにこれ等移動ユニットを協働させることも示していない。

本発明位置決め装置の特殊な実施例は第１移動ユニット、及び第２移動ユニットの力アクチュエータは専らローレンツ力を発生するように構成されていることを特徴とする。専らローレンツ力を発生する力アクチュエータの使用によって、移動ユニットの駆動力を移動ユニットの第１部分、及び第２部分の相対位置とはほぼ独立したものにし、力アクチュエータの特に実際的で、簡単な構造を得ることができる。

本発明位置決め装置の他の実施例はＸ方向に平行に、Ｙ方向に平行に延在するベースの案内面上を静的空気軸受によってバランスユニットが移動可能に案内されるよう構成したことを特徴とする。静的気体軸受を使用することによって、ベースに対するバランスユニットのほぼ摩擦のない案内が得られ、移動ユニットの反力の作用を受けるバランスユニットの移動はバランスユニットと、ベースの案内面との間に発生する摩擦力によって影響を受けない。バランスユニットの移動にこのような影響があると、バランスユニット、及びベースに好ましくない残留機械振動を生ぜしめる。

本発明位置決め装置の更に他の実施例は２個の移動ユニットにそれぞれＸアクチュエータとＹアクチュエータとを設け、ＸアクチュエータにはＸ方向に平行に、Ｙ方向に平行にそれぞれ第１部分を設け、この第１部分を関連する移動ユニットの物品ホルダに連結し、Ｘ方向に平行なこの第１部分を関連するＸアクチュエータの第２部分に対し移動可能とし、Ｙアクチュエータにそれぞれ第１部分を設け、この第１部分を関連する移動ユニットのＸアクチュエータの第２部分に固定し、Ｙ方向に平行な第１部分をバランスユニットに固定された関連するＹアクチュエータの第２部分に対し移動可能にしたことを特徴とする。この実施例では、関連する移動ユニットのＸアクチュエータの適切な駆動力によって、物品ホルダはＸ方向に平行にそれぞれ移動可能になると共に、関連する移動ユニットのＹアクチュエータの適切な駆動力によって、物品ホルダは関連する移動ユニットのＸアクチュエータと共に、Ｙ方向に移動可能である。２個の移動ユニットのＸアクチュエータの反力はＸアクチュエータの第２部分を通じて、またＹアクチュエータを通じてバランスユニットに伝達されると共に、２個の移動ユニットのＹアクチュエータの反力はＹアクチュエータの第２部分を通じて、バランスユニットに直接伝達される。

本発明位置決め装置の特殊な実施例は少なくとも１個のアクチュエータを制御する制御ユニットを位置決め装置に設け、この制御ユニットによって２個の移動ユニットのＸアクチュエータの少なくとも第２部分をＸ方向に平行な位置に保持し得るようにしたことを特徴とする。上に述べたように、２個の移動ユニットの反力によって生ずるベースに対するＸ方向に平行なバランスユニットの移動と、ベースに対するＹ方向に平行なバランスユニットの移動は２個の移動ユニットの駆動力の値にほぼ影響を有せず、ベースに対する２個の物品ホルダの位置はバランスユニットのこのような移動によってほぼ妨害されない。同様のことが、Ｘ方向、及びＹ方向の両方向に平行な構成部分と共にするバランスユニットの移動についても成立する。しかし、移動ユニットの反力はＸ方向に垂直にＹ方向にも垂直に延在する軸線の周りの機械的トルクをバランスユニットに作用させる。更に手段を講じなければ、上記機械的トルクはＸ方向に垂直に、及びＹ方向に垂直に指向する回転軸線の周りに、バランスユニット、及びそれに連結された移動ユニットの回転を生ぜしめる。移動ユニットの駆動力を更に適合させなければ、このような回転はＸ方向に平行に、及びＹ方向に平行にベースに対し物品ホルダを移動させることになり、従ってベースに対する物品ホルダの位置はバランスユニットの上記回転によって影響を受ける。上記アクチュエータを制御するための上記制御ユニットを使用することによって、移動ユニットのＸアクチュエータの少なくとも第２部分をＸ方向に平行な位置に保持する。Ｘ方向に平行で、Ｙ方向に平行なＸアクチュエータの第１部分に物品ホルダを連結するから、上記制御ユニットを使用することによって、Ｘ方向に垂直に、Ｙ方向にも垂直に指向する回転軸線の周りのＸアクチュエータ、及びこれに連結された物品ホルダの回転を防止し、このような回転から生ずるベースに対する物品ホルダの移動を防止する。従って、移動ユニットの反力、及び随伴してバランスユニットに加わる反力トルクはベースに対する物品ホルダの位置にほぼ影響を有しない。

本発明位置決め装置の他の実施例はＹアクチュエータの第１部分を沿わせて移動可能に案内する共通直線案内部を移動ユニットのＹアクチュエータに設け、位置決め装置に回転可能ユニットを設け、回転可能ユニットが、バランスユニットに固定された回転可能な第１部分と、Ｘ方向に垂直に、Ｙ方向に垂直に延在する回転軸線の周りに、回転可能な第１部分に対し回転可能であり、共通直線案内に固定された回転可能な第２部分とを有することを特徴とする。この実施例では、Ｙアクチュエータの第１部分を共通直線案内部に沿って相互に、別個に、移動可能にすると共に、Ｘアクチュエータの第１部分、及びそれに連結された物品ホルダをＹアクチュエータの第１部分に固定されたＸアクチュエータの第２部分に対し、相互に別個に移動可能にする。Ｘアクチュエータの反力は関連するＹアクチュエータ、共通直線案内部、及び回転可能ユニットを介してバランスユニットに伝達されると共に、Ｙアクチュエータの反力は共通直線案内部、及び回転可能ユニットを介してバランスユニットに伝達される。作動中、作動位置にある第１物品ホルダ、及び測定位置にある第２物品ホルダは相互に独立してベースに対し移動可能である。第２物品ホルダを測定位置から作動位置に動かすため、回転可能ユニットによって、上記回転軸線の周りに１８０°の角度にわたり、共通直線案内を回転し、同時に、第１物品ホルダを作動位置から測定位置に動かす。共通直線案内部、及び回転可能ユニットの使用によって、位置決め装置の単純な構造を達成し、共通直線案内部を単に回転運動させることにより、第１物品ホルダと第２物品ホルダとを測定位置から作動位置に、作動位置から測定位置に移動させることができる。

本発明位置決め装置の更に他の実施例では、制御ユニットによって、回転可能ユニットを制御することを特徴とする。この実施例では、回転可能ユニットは２つの機能を有し、特に簡単で実際的構造の位置決め装置が得られる。即ち共通直線案内の回転運動によって、物品ホルダを測定位置から作動位置に、作動位置から測定位置に移動させるためと、制御ユニットによる回転可能ユニットの適切な制御を通じて、共通直線案内部をＹ方向に平行な位置に保持し、従ってＸアクチュエータの第２部分をＸ方向に平行な位置に保持するための２つの目的に回転可能ユニットを使用する。

本発明位置決め装置の特殊な実施例はバランスユニットはＸ方向に平行に、Ｙ方向に平行に延在する案内面を設けた支持体を具え、この案内面は２個の物品ホルダに共通のものであり、この案内面に沿って２個の物品ホルダをＸ方向に平行に、Ｙ方向に平行に移動可能とし、物品ホルダの両方に継手部材を設け、この継手部材により関連する物品ホルダを第１移動ユニットのＸアクチュエータの第１部分に、及び第２移動ユニットのＸアクチュエータの第１部分に連結し得るよう構成したことを特徴とする。この実施例の物品ホルダは例えば、静的気体軸受によって、バランスユニットに属する共通案内面上を移動可能に案内される。この支持体は例えば、花崗岩スラブであり、２つの機能、即ち２個の物品ホルダを支持し、案内する機能と、２個の移動ユニットのためのバランスユニットを形成する機能とである。第１物品ホルダを測定位置から作動位置に移動させつつあり、第２物品ホルダを作動位置から測定位置に移動させつつある時、これ等物品ホルダは共通案内面上を相互に通過する必要がある。これを達成するため、第１物品ホルダを第１移動ユニットによって、測定位置から、測定位置と作動位置との間の第１中間位置に移動させると共に、第２物品ホルダを第２移動ユニットによって、作動位置から、測定位置と作動位置との間の第１中間位置の隣の第２中間位置に移動させる。これ等の中間位置で、第１物品ホルダを第１移動ユニットから外して、第２移動ユニットに連結し、一方、第２物品ホルダを第２移動ユニットから外して、第１移動ユニットに連結する。次に第１物品ホルダを第２移動ユニットによって、第１中間位置から、作動位置に動かすと共に、第２物品ホルダを第１移動ユニットによって、第２中間位置から測定位置に動かす。これ等物品ホルダには上記の継手部材を設けるから、移動ユニットの第１部分が移動ユニットの関連する協働する第２部分に対し移動しなければならない距離は減少し、移動ユニットの必要な寸法を減少させることができる。更に、第１移動ユニットの移動部分と第２移動ユニットの移動部分とが相互に通過し得るようにしなければならないと、移動ユニットは比較的複雑な構造となるが、相互の通過を行わないように、複雑になるのを防止している。

本発明位置決め装置の他の実施例は物品ホルダの継手部材はそれぞれＸＹローレンツ力アクチュエータを具え、関連する物品ホルダに固定された第１部分と、関連する移動ユニットのＸアクチュエータの第１部分に固定された第２部分とをＸＹローレンツ力アクチュエータに設け、ＸＹローレンツ力アクチュエータの第１部分がそれぞれ２個のＸＹローレンツ力アクチュエータの第２部分に協働し得るよう構成したことを特徴とする。上記ＸＹローレンツ力アクチュエータはそれぞれ２つの機能を有し、位置決め装置を単純で、実際的な構造にすることができる。上記ＸＹローレンツ力アクチュエータによって、物品ホルダを関連する移動ユニットのＸアクチュエータの第１部分に対し、比較的僅かな距離にわたり、比較的高い精度で移動させることができる。このようなローレンツ力アクチュエータの第１部分、及び第２部分を専らローレンツ力によって連結するから、ローレンツ力をそれぞれ滅勢し、付勢することによって簡単に、これ等部分を相互に切り離し、連結することができる。ＸＹローレンツ力アクチュエータの第１部分がＸＹローレンツ力アクチュエータの両方の第２部分にそれぞれ協働するようにしたこれ等第１部分の構造は、物品ホルダの上記中間位置において、２個のＸＹローレンツ力アクチュエータのそれぞれの第１部分を他のＸＹローレンツ力アクチュエータの第２部分に引き継ぐことができる。

本発明位置決め装置の更に他の実施例は２個の移動ユニットにはＹ方向に平行に延在する第２部分をそれぞれ設けた２個のＹアクチュエータをそれぞれ設け、Ｘ方向に垂直に、Ｙ方向に垂直に延びる回動軸の周りに、２個の移動ユニットのＸアクチュエータの第２部分を関連するＹアクチュエータの２個の第１部分に対しそれぞれ回動可能に構成し、制御ユニットにより両方の移動ユニットのＹアクチュエータを制御するようにしたことを特徴とする。この実施例において、移動ユニットの反力の作用を受けて、Ｘ方向に垂直に、Ｙ方向にも垂直に指向する回転軸線の周りにベースに対するバランスユニットの回転が発生し、バランスユニットに固定された２個の移動ユニットのＹアクチュエータの第２部分もベースに対して回転する。Ｘアクチュエータの第２部分を関連する移動ユニットのＹアクチュエータの両方の第１部分に回動可能に連結しているから、両方の移動ユニットのＸアクチュエータの第２部分をＸ方向に平行な位置に保持することができ、関連する移動ユニットの２個のＹアクチュエータをバランスユニットに対し相互に異なる距離にわたり移動させることができる。このようにして、バランスユニット、及び移動ユニットの回転を防止するため、別個のアクチュエータの使用を避けることができ、位置決め装置の比較的簡単な構造を得ることができる。

最初のパラグラフに記載した種類の移動可能な基材ホルダを有するリソグラフ装置はヨーロッパ特許公開第498496号から既知である。この既知のリソグラフ装置は光学リソグラフプロセスによる集積半導体回路の製造に使用される。この既知のリソグラフ装置の放射源は光源であり、集束ユニットは光学レンズ系であり、位置決め装置の基材ホルダ上に設置できる半導体基材上に、集積半導体回路の微細なパターンをこのレンズ系によって縮小した尺度で結像させる。この微細なパターンはマスク上にあり、このマスクをリソグラフ装置のマスクホルダ上に設置することができる。このような半導体基材は同一の半導体回路を設けるべき非常に多くのフィールドを有する。この目的のため、半導体基材の個々のフィールドは連続的に露光される。この個々のフィールドの露光中、半導体基材はマスク、及び集束ユニットに対し一定位置にあり、２個の連続する露光工程間で、位置決め装置により、半導体基材の次のフィールドを集束ユニットに対する位置にもたらす。このプロセスをその度毎に異なる微細パターンを現す異なるマスクを使用して多数回、繰り返し、比較的複雑な構造の集積半導体回路を製造することができる。このような集積半導体回路の構造はミクロン以下の範囲にある詳細寸法を有する。従って、順次のマスク上に存在する微細なパターンをミクロン以下の範囲にある相互の精度で半導体基材の上記フィールド上に結像する必要がある。従って、半導体基材を位置決め装置によって、ミクロン以下の精度でマスク、及び集束ユニットに対し、或る精度で位置決めすべきである。更に、半導体回路の製造に必要な時間を制限するため、半導体基材を２個の順次の露光工程間で比較的高速で移動させるべきである。

移動可能な基材ホルダを有する本発明リソグラフ装置は放射源と、マスクホルダと、集束ユニットと、位置決め装置とを固定するフレームを具え、集束ユニットは主軸線を有し、位置決め装置はこの主軸線に垂直なＸ方向に平行に、及びＸ方向に垂直で主軸線にも垂直なＹ方向に、平行に集束ユニットに対し移動可能な基材ホルダを具えるリソグラフ装置において、位置決め装置の２個の物品ホルダのおのおのがリソグラフ装置の基材ホルダであり、位置決め装置のベースがフレームに固定されている間、集束ユニットを介して放射源により基材ホルダ上に設置し得る基材を照射し得る位置が基材ホルダの作動位置であり、本発明の位置決め装置がここに使用する上記位置決め装置であることを特徴とする。本発明位置決め装置を使用することにより、作動中、例えば、第１基材ホルダ上に存在する第１半導体基材が第１基材ホルダに対して占める位置を正確に測定するため、位置決め装置の測定位置を利用することを可能にする。この間に、第２基材ホルダ上に存在する第２半導体基材を照射してもよい。上述したように、ベースに対する第１基材ホルダの位置は、露光中に必要な第２基材ホルダの移動中、第２基材ホルダの移動ユニットによって、位置決め装置のバランスユニットに作用する反力によって、実質的に影響を受けない。その結果、第１基材ホルダに対する第１半導体基材の位置の測定は上記反力によってほぼ作用を受けない。またリソグラフ装置のフレームは好ましくない振動を発生することがなく、これは、基材ホルダの移動は位置決め装置のベースに機械的振動を実質的に発生させないからである。第１半導体基材を作動位置に動かす前に、第１半導体基材の上記位置は既に正確に測定されているから、第１半導体基材を作動位置において、集束ユニットに対し配列する必要はなく、作動位置においては、集束ユニットに対する第１基材ホルダの位置の比較的簡単な測定で十分である。本発明位置決め装置を使用することによってリソグラフ装置の生産高を著しく増大することができ、これは、集束ユニットに対する半導体基材の配列は通常、時間を要する作業であるためである。

移動可能な基材ホルダを有する本発明リソグラフ装置の特別な実施例はリソグラフ装置が別個の位置決め装置を具え、この別個の位置決め装置によりマスクホルダを少なくともＸ方向に平行に集束ユニットに対し移動可能に構成したことを特徴とする。本発明リソグラフ装置のこの特別な実施例においては、半導体基材の個々のフィールドの露光中、製造すべき半導体基材はマスク、及び集束ユニットに対する一定位置でなく、露光中、半導体基材、及びマスクを関連する基材ホルダの移動ユニット、及びマスクホルダの別個の位置決め装置によって、それぞれＸ方向に平行に集束ユニットに対して同期して移動させる。従って、マスク上にあるパターンはＸ方向に平行に走査され、同期して半導体基材上に結像される。これにより、集束ユニットを通して、半導体基材上に結像することができるマスクの最大表面積は集束ユニットの影像のフィールドの寸法によってあまり制約されない。

移動可能な基材ホルダを有する本発明リソグラフ装置は、最初のパラグラフに記載された種類の移動可能な基材ホルダ、及び移動可能なマスクホルダを有するリソグラフ装置において、別個の位置決め装置の２個の物品ホルダのそれぞれがＸ方向に平行にＹ方向にも平行に別個の位置決め装置によって位置決めされ得るリソグラフ装置のマスクホルダであり、別個の位置決め装置のベースがフレームに固定されている間、マスクホルダ上に設置し得るマスクを放射源によって照射し得る位置がマスクホルダの作動位置であり、本発明の位置決め装置が上記別個の位置決め装置であることを特徴とする。本発明位置決め装置を使用することによって、例えば、第１マスクホルダ上に存在する第１マスクが第１マスクホルダに対して占める位置を正確に測定するため、作動中、別個の位置決め装置の位置を測定するのを利用することができる。第２マスクホルダ上に存在する第２マスクを同時に照射することができる。上述したように、ベースに対する第１マスクホルダの位置は、照射中必要である第２マスクホルダの移動中に、別個の位置決め装置のバランスユニットに、第２マスクホルダの移動ユニットによって作用する反力により、実質的に影響を受けない。従って、第１マスクホルダに対する第１マスクの位置の測定は上記反力によって実質的に影響を受けない。リソグラフ装置のフレームは好ましくない振動を発生せず、これはマスクホルダの移動によって、別個の位置決め装置のベースに機械的振動を実質的に発生させないからである。第１マスクを作動位置に動かす前に、第１マスクの上記位置は既に正確に測定されているから、作動位置で第１マスクを集束ユニットに対し配列する必要はなく、作動位置では集束ユニットに対する第１マスクの位置の比較的簡単な測定で十分である。集束ユニットに対するマスクの配列は通常、時間を要するから、本発明位置決め装置の使用はリソグラフ装置の生産量を著しく増大する。

次に、図面を参照して本発明を一層詳細に説明する。
図１に線図的に示す本発明リソグラフ装置は、光学リソグラフ法により、及びいわゆる「ステップアンドレピート」の原理に従うイメージング法によって集積半導体回路の製作に使用される。図１に線図的に示すように、このリソグラフ装置はフレーム１を具え、垂直Ｚ方向に平行に示すように、本発明位置決め装置３、集束ユニット５、マスクホルダ７、及び放射源９の順序でフレーム１に支持する。位置決め装置３は第１基材ホルダ１１と、同一の第２基材ホルダ１３とを具える。図１に示すリソグラフ装置は光学リソグラフ装置であり、その放射源９は光源１５を有する。基材ホルダ１１は、それぞれＺ方向に垂直に延在する支持面１７を有し、この支持面上に第１半導体基材１９を設置することができると共に、基材ホルダ１３は、Ｚ方向に垂直に延在する支持面２１を有し、この支持面上に第２半導体基材２３を設置することができる。第１基材ホルダ１１は、Ｚ方向に垂直なＸ方向に平行に、Ｘ方向、及びＺ方向に垂直なＹ方向にも平行に、位置決め装置３の第１移動ユニット２５によって、フレーム１に対し相対的に移動することができると共に、第２基材ホルダ１３は、Ｘ方向、及びＹ方向に平行に、位置決め装置３の第２移動ユニット２７によってフレーム１に対し相対的に移動することができる。集束ユニット５は撮像システム、又は投影システムであって、Ｚ方向に平行に指向する主光学軸線３１を有する光学レンズ系２９を具え、例えば４、又は５のような光学縮小率を有する。マスクホルダ７はＺ方向に垂直に延在する支持面３３を具え、この上にマスク３５を設置することができる。マスク３５は集積半導体回路のパターン、又はサブパターンを有する。作動中、光源１５から発生する光線ビームはマスク３５を通じて案内され、レンズ系２９によって第１半導体基材１９上に集束し、即ち焦点合せし、マスク３５上にあるパターンを縮小した寸法で、第１半導体基材１９上に結像させる。

第１半導体基材１９は非常に多くの個々のフィールドを有し、このフィールド上に同一の半導体回路を設ける。この目的のため、第１半導体基材１９のフィールドはマスク３５を介して順次、露光される。第１半導体基材１９の個々のフィールドを露光中、第１半導体基材１９、及びマスク３５は集束ユニット５に対して一定位置にあるが、１個のフィールドを露光した後は、次のフィールドを集束ユニット５に対する位置にもたらし、その度に、第１移動ユニット２５によって第１基材ホルダ１１をＸ方向に平行に、及び／又はＹ方向に平行に移動させる。このプロセスを多数回繰り返し、その度に異なるマスクを介するから、層構造の複雑な集積半導体回路が製造される。リソグラフ装置によって製造される集積半導体回路はミクロンより小さい範囲内にある微細な寸法の構造を有する。第１半導体基材１９は多数の異なるマスクを通じて順次露出されるから、これ等マスク上にあるパターンはミクロンより小さい範囲の精度で、又はナノメータの範囲内にすらある精度で、半導体基材１９上に結像する必要がある。従って、半導体基材１９は２個の順次の露出工程間に匹敵する精度で、集束ユニット５に対し位置決めさせなければならず、位置決め装置３の位置決め精度には非常に高い要求が課される。

製造加工される一団の半導体基材は図１に示すリソグラフ装置においてマスク３５を介して順次、露光され、そこで上記一団の半導体基材は次のマスクを介して、順次、露光される。このプロセスをその度に他のマスクを介して、多数回繰り返される。露出すべき半導体基材はマガジン内にあり、このマガジンから半導体基材は移送機構によって、位置決め装置３の測定位置に順次、移送される。共に通常の既知のものである上記マガジン、及び上記移送機構は簡明のため図１には図示しない。図１に示すリソグラフ装置の状態では、第１基材ホルダ１１が作動位置にあり、第１基材ホルダ１１上に設置された第１半導体基材１９が集束ユニット５を通じて放射源９によって照射される。第２基材ホルダ１３は位置決め装置３の上記測定位置にあり、第２基材ホルダ１３上に設置された第２半導体基材２３の第２基材ホルダ１３に対する位置は、図１に線図的に示すリソグラフ装置の光学位置測定ユニット３７によって、Ｘ方向に平行な方向に、及びＹ方向に平行な方向に測定される。このリソグラフ装置内では上記移送機構によって第２半導体基材２３を所定の精度で、第２基材ホルダ１３に対し位置決めされる。図１に示すように、光学位置測定ユニット３７もフレーム１に固定されている。第１半導体基材１９の露光が完了した後、以下に説明するように、第１基材ホルダ１１を位置決め装置３によって、作動位置から測定位置に動かし、この位置から第１半導体基材１９を上記移送機構によってマガジンに復帰させる。同様に、以下に説明するように、第２半導体基材２３は測定位置から作動位置に位置決め装置３によって移動する。第２基材ホルダ１３に対する第２半導体基材２３の位置は測定位置において、既に測定されており、第２半導体基材２３は第２基材ホルダ１３に対して希望する精度で位置決めされているから、作動位置においては、フレーム１、及び集束ユニット５に対する第２基材ホルダ１３の位置の比較的簡単な測定で十分である。基材ホルダに対する半導体基材の測定、及び位置決めには比較的多くの時間を要する。従って、基材ホルダに対する半導体基材の配列が作動位置で行われる１個の基材ホルダのみを有するリソグラフ装置に比較し、２個の移動ユニット２５、２７を有する本発明位置決め装置３の使用によって、生産高を著しく増大することができる。

図２、及び図３は図１のリソグラフ装置に使用して適する本発明位置決め装置３の第１実施例を示す。位置決め装置３の移動ユニット２５、２７はそれぞれＸアクチュエータ３９、４１とＹアクチュエータ４３、４５を有する。Ｘアクチュエータ３９、４１はそれぞれ第１部分４７、４９を具え、この第１部分はＸ方向に平行に延在して関連する移動ユニット２５、２７の基材ホルダ１１、１３に固定されており、関連するＸアクチュエータ３９、４１の第２部分５１、５３に対し、相対的に移動することができる。Ｙアクチュエータ４３、４５はそれぞれ第１部分５５、５７を具え、この第１部分は関連する移動ユニット２５、２７のＸアクチュエータ３９、４１の第２部分５１、５３に固定されており、Ｙ方向に平行に延在する関連するＹアクチュエータ４３、４５の第２部分５９、６１に対し相対的に移動することができる。Ｘアクチュエータ３９、４１、及びＹアクチュエータ４３、４５はいわゆる力アクチュエータであって、Ｘアクチュエータ３９の第１部分４７、４９、及び協働する第２部分５１、５３は作動中、Ｘ方向に平行に、所定の値の相互駆動力を作用させると共に、Ｙアクチュエータ４３、４５の第１部分５５、５７、及び協働する第２部分５９、６１は作動中、Ｙ方向に平行に、所定の値の相互駆動力を作用させる。これ等力アクチュエータは例えば通常の既知であるリニアローレンツ力モータであり、作動中、所定の値のローレンツ力を専ら発生する。このようにして、基材ホルダ１１、１３は関連する移動ユニット２５、２７のＸアクチュエータ４３、４５の適切な駆動力によって、相互に独立してＸ方向に平行に、それぞれ移動可能である。基材ホルダ１１、１３はそれぞれ関連する移動ユニット２５、２７のＸ−アクチュエータ４３、４５と共に、関連する移動ユニット２５、２７のＹアクチュエータ４３、４５の適切な駆動力によって、相互に独立してＹ方向に移動可能である。

更に、図２、及び図３が示すように、移動ユニット２５、２７のＹアクチュエータ４３、４５は共通直線案内部６３を具え、この案内部に沿って、Ｙアクチュエータ４３、４５の第１部分５５、５７はＹ方向に平行に移動可能に案内される。位置決め装置３は図面に線図的にのみ示す回転可能ユニット６５を具え、この回転可能ユニット６５は以下に一層詳細に説明する位置決め装置３のバランスユニット６９に固定された第１ディスク状部６７と、共通直線案内部６３に固定された第２ディスク状部７１とを具える。第２ディスク状部７１はＺ方向に平行に延びる回転軸線７３の周りに、第１ディスク状部６７に対して回転可能である。この目的のため、回転可能ユニット６５に線図的に示す電動機７５を設ける。この電動機７５はバランスユニット６９に固定され、駆動ベルト７７によって第２ディスク状部７１に連結される。作動中、第１半導体基材１９が作動位置で露光され、第２半導体基材２３が測定位置で第２基材ホルダ１３に対し配列された後、回転可能ユニット６５の第２ディスク状部７１は第１ディスク状部６７に対し回転軸線７３の周りに、１８０°にわたり回転し、従って第１移動ユニット２５と第２移動ユニット２７と共に、共通直線案内部６３は回転軸線７３の周りに回転する。共通直線案内部６３の上記回転によって、第１基材ホルダ１１と共に、第１移動ユニット２５を全体として作動位置から測定位置に移動させると共に、第２基材ホルダ１３と共に、第２移動ユニット２７を全体として測定位置から作動位置に移動させる。図３は共通直線案内部６３が１８０°の全回転運動の一部を行った位置にある位置決め装置３を示す。

上述の位置決め装置３のバランスユニット６９は、例えば花崗岩から成る比較的重いバランスブロックを具える。バランスユニット６９は図２、及び図３に図示しない静的気体軸受によって、Ｘ方向に平行に、及びＹ方向に平行に延びる案内面７９上に、Ｘ方向に平行に、及びＹ方向に平行に移動可能に案内される。案内面７９は図１に示す位置決め装置３のベース８１上に設けられている。このベースはリソグラフ装置のフレーム１に固定されている。２個の移動ユニット２５、２７のＹアクチュエータ４３、４５の第２部分５９、６１は共通直線案内部６３、及び回転可能ユニット６５を介して、Ｘ方向に平行に、及びＹ方向に平行に見えているバランスユニット６９に連結されており、従ってバランスユニット６９は位置決め装置３の２個の移動ユニット２５、２７のため共通バランスユニットを考慮している。作動中、Ｙアクチュエータ４３、４５によって発生する駆動力から生じ、Ｙアクチュエータ４３、４５の第１部分５５、５７によって第２部分５９、６１に作用するアクチュエータ４３、４５の反力は、共通直線案内部６３、及び回転可能ユニット６５を介してバランスユニット６９に伝達される。Ｘアクチュエータ３９、４１によって発生する駆動力から生じ、Ｘアクチュエータ３９、４１の第１部分４７、４９によって第２部分５１、５３に作用するＸアクチュエータ３９、４１の反力は、Ｙアクチュエータ４３、４５の第１部分５５、５７、及び第２部分５９、６１、共通直線案内部６３、及び回転可能ユニット６５を介して、バランスユニット６９に伝達される。バランスユニット６９はＸ方向に平行に、及びＹ方向に平行に案内面７９上を移動し得るから、バランスユニット６９はこのバランスユニット６９に伝達された上記の反力の作用を受けて、Ｘ方向に平行に、及び／又はＹ方向に平行にベース８１に対し移動する。バランスユニット６９は比較的重いから、バランスユニット６９がベース８１に対して移動する距離は比較的小さい。従って、２個の移動ユニット２５、２７の反力は案内面７９上のバランスユニット６９の移動に変換されるから、上記反力はバランスユニット６９、位置決め装置３のベース８１、及びリソグラフ装置のフレーム１に機械的振動を生ぜしめない。このような機械的振動は２個の移動ユニット２５、２７の好ましくない不正確な位置決めを生ずる恐れがある。

上に述べたように、移動ユニット２５、２７のＸアクチュエータ３９、４１、及びＹアクチュエータ４３、４５は所定値の駆動力を発生するためのいわゆる力アクチュエータを構成する。このような力アクチュエータを使用することによって、相対的にＸアクチュエータ３９、４１、及びＹアクチュエータ４３、４５の第２部分５１、５３、５９、６１に対して、第１部分４７、４９、５５、５７が占める位置に関し、移動ユニット２５、２７の駆動力の値を実質的に無関係に、即ち独立したものにすることができる。ベース８１に対し相対的な基材ホルダ１１、１３の位置は第１移動ユニット２５、及び第２移動ユニット２７の駆動力の値にそれぞれ従うから、力アクチュエータを使用することによって、基材ホルダ１１、１３の上記位置は移動ユニット２５、２７の第１部分４７、４９、５５、５７、及び第２部分５１、５３、５９、６１の位置に対しほぼ独立したものとなり、従って、基材ホルダ１１、１３の上記位置は第１部分４７、４９に連結された基材ホルダ１１、１３に対し相対的な第２部分５９、６１に連結されたバランスユニット６９の位置に対しほぼ独立したものとなる。従って、ベース８１に対して相対的に、Ｘ方向に平行に指向するバランスユニット６９の移動と、ベース８１に対するＹ方向に平行に指向するバランスユニット６９の移動と、ベース８１に対して相対的に、Ｘ方向に平行な移動成分と、Ｙ方向に平行な移動成分との両方を有するバランスユニット６９の移動とは、ベース８１に対して相対的な基材ホルダ１１、１３の位置には実質的に影響を有しない。上述したように、バランスユニット６９のこのような移動は移動ユニット２５、２７の反力の結果として生ずる。従って、図１に示す状態では、位置測定ユニット３７に対して相対的な第２基材ホルダ１３の位置と、集束ユニット５に対して相対的な第１基材ホルダ１１の位置とは、機械的振動、又はバランスユニット６９の上記移動によっって影響を受けず、従って移動ユニット２５、２７の反力から生ずる移動ユニット２５、２７の位置決め精度間の相互の干渉は防止される。

移動ユニット２５、２７の反力はバランスユニット６９に機械的トルクを生ずるから、バランスユニット６９はこの反力の作用を受けて、Ｘ方向に平行に、及び／又はＹ方向に平行に移動すると共に、Ｚ方向に平行に指向する回転軸線の周りに回転する。力アクチュエータを使用する効果としてベース８１に対して相対的な基材ホルダ１１、１３の位置に影響を有していないＸ方向に平行な、及び／又はＹ方向に平行なバランスユニット６９の移動と異なり、バランスユニット６９のこのような回転は、別個な手段を講じない限り、一般に、ベース８１に対して相対的な基材ホルダ１１、１３の位置に影響を及ぼす。このような好ましくない影響を防止するため、図２に線図的に示す制御ユニット８３を位置決め装置３に設け、位置決め装置３のベース８１に固定された２個の光学位置センサ８５、８７に制御ユニット８３を協働させる。位置センサ８５、８７はＹ方向に対する共通直線案内部６３の方向を測定する。回転可能ユニット６５の電動機７５を制御ユニット８３によって制御し、直線案内部６３を１８０°にわたり回転させる必要がある瞬間を除き、作動中、共通直線案内部６３をＹ方向に平行な位置に保持させる。従って、Ｘアクチュエータ３９、４１の第１部分４７、４９をＸ方向に平行な位置に保持させる。共通直線案内部６３が制御ユニット８３によってＹ方向に平行な位置に保持されるから、Ｘ方向に平行に、及び／又はＹ方向に平行に、ベース８１に対するバランスユニット６９の移動、及びベース８１に対するバランスユニット６９の回転はベース８１に対する基材ホルダ１１、１３の位置に実質的に影響を有せず、従ってまた反力によって生ずるバランスユニット６９の回転から発生する移動ユニット２５、２７の位置決め精度間の相互の干渉は防止される。

静的気体軸受によって案内面７９上にバランスユニット６９を案内することにより、案内面７９上にバランスユニット６９の実質的に摩擦のない案内を行うことができる。反力によって生ずるバランスユニット６９の移動はバランスユニット６９と案内面７９との間の摩擦力によって実質的に妨害されない。その結果、反力はバランスユニット６９の移動にほぼ完全に変換され、ベース８１、及びバランスユニット６９に残留振動をほぼ発生させない。

図２に線図的に示すように、位置決め装置３にいわゆるドリフト防止手段８９を更に設ける。バランスユニット６９は実質的に摩擦がない状態で案内面７９上に案内されるから、別な手段を講じなければ、外部の干渉力、即ち位置決め装置３によって発生したものでない干渉力の作用を受けて、バランスユニット６９が案内面７９上を勝手に移動することが起こり得る。そのような干渉力の例は、案内面７９に平行に指向しバランスユニット６９、及び位置決め装置３に作用する重力の成分である。この成分は案内面７９が完全に水平でないと存在する。ドリフト防止手段８９は比較的小さいドリフト防止力をバランスユニット６９に作用させ、バランスユニット６９が勝手に移動するのを防止する。更に、移動ユニット２５、２７の反力によって生ずるベース８１に対するバランスユニット６９の移動が乱されることがないようにドリフト防止手段８９を構成する必要がある。図２に示す実施例では、ドリフト防止手段８９は例えば２個の機械的ばね９１、９３と、機械的ばね９５とを具える。機械的ばね９１、９３はベース８１とバランスユニット６９とに固定されていて、Ｘ方向に平行にバランスユニット６９に比較的小さなばね力を作用させる。一方、機械的ばね９５はＹ方向に平行にバランスユニット６９に比較的小さなばね力を作用させる。

図４、及び図５は図１にリソグラフ装置に使用するのに適する本発明位置決め装置９７の第２実施例を示す。リソグラフ装置３の構成部分に対応するリソグラフ装置９７の構成部分は図４、及び図５においても同一の符号にて示す。位置決め装置９７内の基材ホルダ１１、１３は静的気体軸受を設けたいわゆる空気静力学的に支持されたフット９９、１０１によって、案内面１０３上をＸ方向平行に、及びＹ方向に平行に移動可能にそれぞれ案内される。この案内面１０３は２個の基材ホルダ１１、１３に共通であり、Ｘ方向に平行に、及びＹ方向に平行に延在する。位置決め装置９７の移動ユニット２５、２７にはそれぞれ位置決め装置３におけると同様に、力アクチュエータとして構成されたＸアクチュエータ１０５、１０７、及び２個のＹアクチュエータ１０９、１１１、及び１１３、１１５を設ける。Ｘアクチュエータ１０５、１０７にはそれぞれＸ方向に平行に延在する第２部分１２１、１２３に対し移動可能に案内される第１部分１１７、１１９を設けると共に、Ｙアクチュエータ１０９、１１１、１１３、１１５にはそれぞれＹ方向に平行に延在する第２部分１３３、１３５、１３７、１３９に対し移動可能に案内される第１部分１２５、１２７、１２９、１３１を設ける。図４に示すように、Ｘアクチュエータ１０５、１０７の第２部分１２１、１２３をそれぞれ関連する移動ユニット２５、２７の２個のＹアクチュエータ１０９、１１１、１１３、１１５の第１部分１２５、１２７、及び１２９、１３１の両方に連結する。Ｘアクチュエータ１０５、１０７の第２部分１２１、１２３はＺ方向に平行な枢着軸線１４１、１４３、１４５、１４７の周りに、関連するＹアクチュエータ１０９、１１１、及び１１３、１１５の２個の第１部分１２５、１２７、及び１２９、１３１に対し回動する。

Ｘアクチュエータの第１部分１１７、１１９は以下に更に説明するようにＸ方向に平行に、及びＹ方向に平行に設けられた関連する移動ユニット２５、２７の基材ホルダ１１、１３にそれぞれ連結される。Ｙアクチュエータ１０９、１１１、１１３、１１５の第２部分１３３、１３５、１３７、１３９はそれぞれ２個の移動ユニット２５、２７に共通のバランスユニット１４９に固定されている。このバランスユニット１４９は位置決め装置３のバランスユニット６９に相当しており、このバランスユニット１４９は図面に示されていない静的気体軸受によって案内面７９上をＸ方向に平行に、Ｙ方向に平行に移動可能に案内される。案内面７９はＸ方向に平行に、Ｙ方向に平行に延在し、フレーム１に固定された位置決め装置９７のベース８１に属している。バランスユニット１４９は同時に、２個の基材ホルダ１１、１３のための共通支持体であり、基材ホルダ１１、１３の共通案内面１０３はバランスユニット１４９の上面である。位置決め装置３のバランスユニット６９と同様、位置決め装置９７のバランスユニット１４９にはドリフト防止手段８９、９１、９３、９５を設ける。基材ホルダ１１、１３はそれぞれＸアクチュエータ１０５、１０７によって、相互に独立してＸ方向に平行に移動可能であり、更に２個のＹアクチュエータ１０９、１１１、及び２個のＹアクチュエータ１１３、１１５の等しい移動量によって、相互に独立してＹ方向に平行に基材ホルダ１１、１３は移動可能である。作動中、Ｘアクチュエータ１０５、１０７の第２部分１２１、１２３、Ｙアクチュエータ１０９、１１１、１１３、１１５の第１部分１２５、１２７、１２９、１３１、及びＹアクチュエータ１０９、１１１、１１３、１１５の第２部分１３３、１３５、１３７、１３９を介して、Ｘアクチュエータ１０５、１０７の反力はバランスユニット１４９に伝達されると共に、Ｙアクチュエータ１０９、１１１、１１３、１１５の反力はＹアクチュエータ１０９、１１１、１１３、１１５の第２部分１３３、１３５、１３７、１３９を介してバランスユニット１４９に直接伝達される。

以下に一層詳細に説明する継手部材１５１、１５３を基材ホルダ１１、１３にそれぞれ設け、これ等継手部材によって、基材ホルダ１１、１３を第１移動ユニット２５のＸアクチュエータ１０５の第１部分１１７と、第２移動ユニット２７のＸアクチュエータ１０７の第１部分１１９とに、交互にＸ方向に平行に、及びＹ方向に平行に連結することができる。この目的のため、第１基材ホルダ１１の継手部材１５１には第１部分１５５、及び第２部分１５７を設け、第１部分１５５によって第１移動ユニット２５のＸアクチュエータ１０５の第１部分１１７に第１基材ホルダ１１を連結し得るようにすると共に、第２部分１５７によって第２移動ユニット２７のＸアクチュエータ１０７の第１部分１１９に第１基材ホルダ１１を連結し得るようにする。同様に、第２基材ホルダ１３の継手部材１５３には第１部分１５９、及び第２部分１６１を設け、第１部分１５９によって第１移動ユニット２５のＸアクチュエータ１０５の第１部分１１７に第２基材ホルダ１３を連結し得るようにすると共に、第２部分１６１によって第２移動ユニット２７のＸアクチュエータ１０７の第１部分１１９に第２基材ホルダ１３を連結し得るようにする。

図１、及び図４に示す状態、即ち第１基材ホルダ１１が作動位置にあって、第２基材ホルダ１３が測定位置にある状態では、継手部材１５１の第１部分１５５を介して、第１移動ユニット２５のＸアクチュエータ１０５の第１部分１１７に第１基材ホルダ１１を連結すると共に、継手部材１５３の第２部分１６１を介して、第２移動ユニット２７のＸアクチュエータ１０７の第１部分１１９に第２基材ホルダ１３を連結する。第１基材ホルダ１１が作動位置から測定位置に移動し、第２基材ホルダ１３が測定位置から作動位置に移動する際、基材ホルダ１１、１３は共通案内面１０３上を相互に通過することが必要である。これを達成するため、第１移動ユニット２５によって第１基材ホルダ１１を作動位置から、作動位置と測定位置との間の図５に示す第１中間位置Ｍ′に移動させ、同時に、第２移動ユニット２７によって第２基材ホルダ１３を測定位置から、作動位置と測定位置との間に位置し第１中間位置Ｍ′の隣にある図５に示す第２中間位置Ｍ″移動させる。上記の中間位置Ｍ′、Ｍ″においては、基材ホルダ１１、１３はそれぞれ第１移動ユニット２５、及び第２移動ユニット２７に連結されていない。従って、第１移動ユニット２５のＸアクチュエータ１０５の第１部分１１７は第１中間位置Ｍ′から第２中間位置Ｍ″に動き、この第２中間位置Ｍ″で、第２基材ホルダ１３の継手部材１５３の第１部分１５９に連結される。同様に、第２移動ユニット２７のＸアクチュエータ１０７の第１部分１１９は第２中間位置Ｍ″から第１中間位置Ｍ″に動き、この第１中間位置で第１基材ホルダ１１の継手部材１５１の第２部分１５７に連結される。このようにして図５に示す状態になり、第１中間位置Ｍ′にある第１基材ホルダ１１は第２移動ユニット２７のＸアクチュエータ１０７の第１部分１１９に連結されていると共に、第２中間位置Ｍ″にある第２基材ホルダ１３は第１移動ユニット２５のＸアクチュエータ１０５の第１部分１１７に連結されている。最後に、第１基材ホルダ１１は第２移動ユニット２７によって、第１中間位置Ｍ′から測定位置に動かされると共に、同時に第２基材ホルダ１３は第１移動ユニット２５によって、第２中間位置Ｍ″から作動位置に動かされる。Ｙアクチュエータ１０９、１１１、１１３、１１５の第１部分１２５、１２７、１２９、１３１が第２部分１３３、１３５、１３７、１３９に対して、移動しなければならない距離は継手部材１５１、１５３を使用することによって減少するから、移動ユニット２５、２７の寸法を減少させる。更に、Ｘアクチュエータ１０５、１０７の第２部分１２１、１２３がＹ方向に平行に相互に通過しなくともよいようになっているため移動ユニット２５、２７は簡単な構造に維持される。

上述したように基材ホルダ１１、１３の継手部材１５１、１５３はいわゆるＸＹローレンツ力アクチュエータとして構成されている。この目的のため、継手部材１５１、１５３の第１部分１５５、１５９は通常の既知のものである永久磁石システムを具えると共に、第１移動ユニット２５のＸアクチュエータ１０５の第１部分１１７は通常の既知の電気コイルシステム１６３を具える。この電気コイルシステム１６３は第１基材ホルダ１１の継手部材１５１の第１部分１５５と、第２基材ホルダ１３の継手部材１５３の第１部分１５９とに交互に協働するように設計されている。継手部材１５１、１５３の第２部分１５７、１６１はそれぞれ通常の既知の１組の永久磁石を具え、第２移動ユニット２７のＸアクチュエータ１０７の第１部分１１９も通常の既知の電気コイルシステム１６５を具える。この電気コイルシステム１６５は第１基材ホルダ１１の継手部材１５１の第２部分１５７と、第２基材ホルダ１３の継手部材１５３の第２部分１６１とに交互に協働するように設計されている。

コイルシステム１６３、継手部材１５１の第１部分１５５、又は適用可能なように継手部材１５３の第１部分１５９によって形成されたＸＹローレンツ力アクチュエータはＸ方向に平行なローレンツ力、Ｙ方向に平行なローレンツ力、及びＺ方向に平行に指向するモーメント軸線の周りのローレンツ力のモーメントを発生させるのに適しており、従って第１基材ホルダ１１、又は適用可能なように第２基材ホルダ１３は上記ＸＹローレンツ力アクチュエータによってＸ方向に平行に、及び／又はＹ方向に平行に比較的僅かな距離にわたり、第１移動ユニット２５のＸアクチュエータ１０５の第１部１１７に対し移動することができ、またこの第１基材ホルダ１１、又は第２基材ホルダ１３はＺ方向に平行に指向する回転軸線の周りに、比較的小さい角度にわたり第１部分１１７に対して回転可能である。同様に、コイルシステム１６５、継手部材１５１の第２部分１５７、又は適用可能なように継手部材１５３の第２部分１６１によって形成されたＸＹローレンツ力アクチュエータはＸ方向に平行なローレンツ力、Ｙ方向に平行なローレンツ力、及びＺ方向に平行に指向するモーメント軸線の周りのローレンツ力のモーメントを発生するのに適しており、従って第１基材ホルダ１１、又は適用可能なように第２基材ホルダ１３は上記ＸＹローレンツ力アクチュエータによって、Ｘ方向に平行な、及び／又はＹ方向に平行な比較的小さい距離にわたり第２移動ユニット２７のＸアクチュエータ１０７の第１部分１１９に対し移動することができる。また第１基材ホルダ１１、又は第２基材ホルダ１３はＺ方向に平行に指向する回転軸線の周りに比較的小さい角度にわたり第１部分１１９に対し回転可能である。上述のＸＹローレンツ力アクチュエータを使用することによって、継手部材１５１、１５３の特に簡単で実際的な構造を提供でき、上記磁石システムとコイルシステムとの間に作用するローレンツ力の作用と不作用とを通じて、継手部材１５１、１５３の連結と離脱とを簡単に達成することができる。更に、このＸＹローレンツ力アクチュエータは移動ユニット２５、２７のための第２の微細な駆動ステージとして作用する。これにより、Ｘアクチュエータ１０５、１０７、及びＹアクチュエータ１０９、１１１、１１３、１１５によって形成された第１駆動ステージに対し基材ホルダ１１、１３を比較的正確に位置決めすることができる。

位置決め装置３のバランスユニット６９同様、位置決め装置９７のバランスユニット１４９はこのバランスユニット１４９に作用する移動ユニット２５、２７の反力の結果として、Ｚ方向に平行に指向する回転軸線の周りに回転する。バランスユニット１４９の回転がベース８１に対する基材ホルダ１１、１３の好ましくない移動を生ぜしめるのを防止するため、位置決め装置９７には第１制御ユニット１６７と第２制御ユニット１６９とを設け、第１制御ユニット１６７によって第１移動ユニット２５のＸアクチュエータ１０５の第２部分１２１をＸ方向に平行な位置に保持することができ、第２制御ユニット１６９によって第２移動ユニット２７のＸアクチュエータ１０７の第２部分１２３をＸ方向に平行な位置に保持することができる。図４に示すように、第１制御ユニット１６７はベース８１に固定された２個の光学位置センサ１７１、１７３に協働し、これ等光学位置センサによって、Ｘ方向に対するＸアクチュエータ１０５の第２部分１２１の方向を測定する。同様に、第２制御ユニット１６９はベース８１に固定された２個の光学センサ１７５、１７７に協働し、これ等光学位置センサによってＸ方向に対するＸアクチュエータ１０７の第２部分１２３の方向を測定する。バランスユニット１４９が回転する場合、Ｘアクチュエータ１０５の第２部分１２１がＸ方向に平行な位置に留まるよう、第１制御ユニット１６７は第１移動ユニット２５の２個のＹアクチュエータ１０９、１１１を制御する。同様に、バランスユニット１４９が回転する場合、Ｘアクチュエータ１０７の第２部分１２３がＸ方向に平行な位置に留まるよう、第２制御ユニット１６９は第２移動ユニット２７の２個のＹアクチュエータ１１３、１１５を制御する。このようにして、Ｘアクチュエータ１０５、１０７の第２部分１２１、１２３がＸ方向に平行な位置に保持されることによって、ベース８１に対する基材ホルダ１１、１３の好ましくない移動を一般に引き起こす原因となるＸアクチュエータ１０５、１０７、及びそれに連結された基材ホルダ１１、１３の回転を防止する。

図６に線図的に示す本発明リソグラフ装置に、いわゆる「ステップアンドスキャン」の原理によるイメージング法を使用する。図６においては図１に示すリソグラフ装置の構成部分に相当する構成部分は同一の符号にて示す。「ステップアンドスキャン」の原理によるイメージング法においては、露光中、第１半導体基材１９は集束ユニット５に対して一定位置にあるのでなく、一露光中、第１半導体基材１９、及びマスク３５は集束ユニット５に対しＸ方向に平行に、同期して移動する。この目的のため、図６のリソグラフ装置には第１半導体基材１９を移動させるための位置決め装置３を設けると共に、集束ユニット５に対してマスク３５をＸ方向に平行に移動させる別個の位置決め装置１７９を設ける。この別個の位置決め装置１７９も図６のリソグラフ装置内にある本発明位置決め装置である。図６に線図的に示すように、この別個の位置決め装置１７９は第１マスクホルダ１８１と、同一の第２マスクホルダ１８３とを有する。マスクホルダ１８１、１８３は、それぞれＺ方向に垂直に延在する支持面であってこの支持面上に第１マスク３５を設置することができる支持面１８５と、Ｚ方向に垂直に延在する支持面であってこの支持面上に第２マスク３５′を設置することができる支持面１８７とを有する。

第１マスクホルダ１８１は位置決め装置１７９の第１移動ユニット１８９によってＸ方向に平行に、Ｙ方向に平行に第１フレーム１に対して位置決めすることができ、第２マスクホルダ１８３は位置決め装置１７９の第２移動ユニット１９１によって、Ｘ方向に平行に、Ｙ方向に平行に第１フレーム１に対して位置決めすることができる。図６に示す状態では、第１マスク３５と共に第１マスクホルダ１８１は位置決め装置１７９の作動位置にあって、第１半導体基材１９を第１マスク３５を通じて照射することができ、一方第２マスク３５′と共に第２マスクホルダ１８３は位置決め装置１７９の測定位置にある。この測定位置では、リソグラフ装置のフレーム１に固定されたリソグラフ装置の別個の位置測定ユニット１９３によって第２マスクホルダ１８３に対する第２マスク３５′の位置を測定することができる。簡明のため、図６には図示しない別個の移送機構によって、第２マスクホルダ１８３に対して必要な精度で、第２マスク３５′を更に測定位置に位置決めすることができる。この移送機構を使用して、マスクマガジンから位置決め装置１７９の測定位置に、順次使用されるマスクを移送する。１個又は数個の半導体基材を照射するため第１マスク３５を使用し終わった後、位置決め装置１７９によって、第１マスクホルダ１８１を作動位置から測定位置に移動させ、上記移送機構によって、第１マスク３５を測定位置からマスクマガジンに復帰させる。同時に、位置決め装置１７９によって第２マスク３５′と共に第２マスクホルダ１８３を測定位置から作動位置に動かす。本発明位置決め装置１７９を使用することによって、リソグラフ装置の生産高を更に増大することができる。これは作動位置に到達すると、順次、使用すべきマスクは関連するマスクホルダに対し、既に配列されているからである。

別個の位置決め装置１７９を図７に線図的に示す。この位置決め装置１７９のマスクホルダ１８１、１８３は、空気静力学的に支持されるフット１９５、及び１９７によって、Ｘ方向に平行に、Ｙ方向に平行に延在する支持体２０１の共通案内面１９９上をＸ方向に平行に、Ｙ方向に平行にそれぞれ移動可能に案内される。回転可能ユニット２０３を介して、支持体２０１をバランスユニット２０５に固定する。位置決め装置１７９のベース２０９の一部を形成している案内面２０７上に、静的気体軸受によって、Ｘ方向に平行に、Ｙ方向に平行に、バランスユニット２０５は移動可能に案内される。図６に線図的に示すように、位置決め装置１７９のベース２０９はリソグラフ装置のフレーム１に固定されている。位置決め装置１７９の回転可能ユニット２０３、及びバランスユニット２０５は先に説明した位置決め装置３の回転可能ユニット６５、及びバランスユニット６９にほぼ相当する。

位置決め装置１７９の第１移動ユニット１８９、及び第２移動ユニット１９１はそれぞれ力アクチュエータとして構成されたＸアクチュエータ２１１、２１３を具える。Ｘアクチュエータ２１１、２１３は、それぞれＸ方向にほぼ平行に延在する関連するＸアクチュエータ２１１、２１３の第２部分２１９、２２１に対しＸ方向に平行に移動可能である第１部分２１５、２１７を具える。Ｘアクチュエータ２１１、２１３の第２部分２１９、２２１は支持体２０１に固定されており、これ等第２部分２１９、２２１はＸ方向にほぼ平行に延在する共通直線案内部２２３を有する。更に、移動ユニット１８９、１９１はそれぞれＸＹローレンツ力アクチュエータ２２５、２２７を具え、このアクチュエータは関連する移動ユニット１８９、１９１のマスクホルダ１８１、１８３に固定される永久磁石システム２２９、２３１と、関連する移動ユニット１８９、１９１のＸアクチュエータ２１１、２１３の第１部分２１５、２１７に固定された電気コイルシステム２３３、２３５とを有する。マスクホルダ１８１、１８３はＸアクチュエータ２１１、２１３によって、比較的大きな距離にわたり、比較的低い精度で、ベース２０９に対しＸ方向に平行に移動させることができ、一方マスクホルダ１８１、１８３はＸＹローレンツ力アクチュエータ２２５、２２７によって、比較的小さな距離にわたり、比較的高い精度で、Ｘ方向、及びＹ方向に平行なＸアクチュエータ２１１、２１３の第１部分２１５、２１７に対し、移動させることができ、しかもマスクホルダ１８１、１８３はＺ方向に平行に指向する軸線の周りに、上記第１部分２１５、２１７に対し限定された角度にわたり回転可能である。ＸＹローレンツ力アクチュエータ２２５、２２７を使用することによって、半導体基材の露光中、Ｙ方向に平行に、比較的高い精度でマスクホルダ１８１、１８３を位置決めすることができ、Ｘ方向に平行に指向するマスクホルダ１８１、１８３の移動をＸ方向に対し高度に平行にすることができる。最後に、位置決め装置３と同様、位置決め装置１７９は制御ユニット２３７を有する。支持体２０１を回転可能ユニット２０３によってベース２０９に対し、１８０°にわたり回転させる瞬間を除き、作動中、制御ユニット２３７によって、直線案内２２３をＸ方向に平行な位置に保持する。図７に線図的に示すように、制御ユニット２３７は２個の光学位置センサ２３９、２４１に協働し、この制御ユニット２３７は回転可能ユニット２０３の電動機２４３を制御する。

図１、及び図６に示すリソグラフ装置において、製造下にある一団の半導体基材は或るマスクを介して順次、照射され、この一団は次のマスクを介して順次照射される。半導体基材を移動させるための本発明位置決め装置３、９７を使用することによって、リソグラフ装置の生産高を著しく増大することができ、更にマスクを移動させるため本発明の別個の位置決め装置１７９を使用することによって、生産高を更に増大することができる。製造下にある半導体基材に一連のマスクを介して順次照射を行い、次の半導体基材に上記一連のマスクを介して照射を行うようにして、本発明をリソグラフ装置に適用することができる。マスクの移動のための位置決め装置が専ら本発明装置であり、半導体基材の移動のための位置決め装置が通常の位置決め装置である場合のリソグラフ装置でも、リソグラフ装置の生産高の大部分の増大を達成することができる。

上述の本発明リソグラフ装置は集積電子半導体回路の製造において半導体基材を露光するのに使用される。リソグラフ装置によってマスクパターンを基材上に結像させて、ミクロン以下の範囲の微細な寸法を有する構造を設けた他の製品の製造にもこのようなリソグラフ装置を使用することができる。その例としては、集積光学システム、又は磁気ドメイン記憶装置の伝導検出パターンの構造、及び液晶影像ディスプレイパターンの構造がある。

本発明位置決め装置はリソグラフ装置に使用されるだけでなく、仕上機械、工作機械、及び処理すべき物品を測定位置にある物品ホルダに対し配列し、次に作動位置で処理する機械、又は装置に使用することができる。

上述したように、本発明位置決め装置３の移動ユニット２５、２７はそれぞれＸアクチュエータ３９、４１、及びＹアクチュエータ４３、４５を有する。上述の本発明位置決め装置９７の移動ユニット２５、２７はそれぞれＸアクチュエータ１０５、１０７、２個のＹアクチュエータ１０９、１１１、及び１１３、１１５、及びＸＹローレンツ力アクチュエータ１５１、１５３を具える。上述の本発明位置決め装置１７９の移動ユニット１８９、１９１はそれぞれＸアクチュエータ２１１、２１３、及びＸＹローレンツ力アクチュエータ２２５、２２７を具える。また本発明位置決め装置は代わりの形式の移動ユニットを具えていてもよい。従って、上述のリニアＸアクチュエータ、及びＹアクチュエータの代わりに、通常のそれ自身既知のいわゆるプレーナ電磁モータを使用してもよい。また代わりに、一方ではＸアクチュエータ３９、４１の２個の第１部分４７、４９のそれぞれと、他方では対応する基材ホルダ１１、１３との間に、例えばＸＹＺローレンツ力アクチュエータを位置決め装置３内に使用することも可能であり、これにより、Ｘ方向に平行に、Ｙ方向に平行に、Ｚ方向に平行に、高い精度で、僅かな距離にわたり、基材ホルダ１１、１３を対応する第１部分４７、４９に対し移動可能にし、更に、Ｘ方向に平行な回転軸線、Ｙ方向に平行な回転軸線、及びＺ方向に平行な回転軸線の周りに、限定された角度にわたり、基材ホルダ１１、１３を対応する第１部分４７、４９に対して、回転可能にすることができる。このようなＸＹＺローレンツ力アクチュエータは使用されているＸＹローレンツ力アクチュエータ、及び空気静力学的に支持されるフットに代え、例えば位置決め装置９７、１７９内に使用することができる。

移動可能な基材ホルダを有する本発明リソグラフ装置を示す線図。 図１のリソグラフ装置の基材ホルダを移動可能にした本発明位置決め装置の第１実施例の線図的平面図。 回転した位置にある図２の位置決め装置。 図１のリソグラフ装置の基材ホルダが移動可能である本発明位置決め装置の第２実施例の線図的平面図。 位置決め装置の２個の基材ホルダが中間位置にある図４の位置決め装置。 移動可能な基材ホルダ、及び移動可能なマスクホルダを有する本発明リソグラフ装置の線図。 図６のリソグラフ装置のマスクホルダを移動させるために使用する別個の本発明位置決め装置の線図。

Claims (10)

1. ベースと、第１移動ユニットと、第２移動ユニットとを具え、前記第１移動ユニットはＸ方向、および当該Ｘ方向に垂直なＹ方向に平行に前記ベースに対し移動し得る第１物品ホルダを有し、前記第２移動ユニットはＸ方向およびＹ方向に平行に前記ベースに対し移動し得る第２物品ホルダを有し、前記第１物品ホルダと第２物品ホルダとは測定位置から作動位置に前記ベースに対し連続的に移動可能であり、前記第１移動ユニットおよび第２移動ユニットはそれぞれ作動中、相互に移動可能な位置決め装置において、
   Ｘ方向およびＹ方向に平行に前記ベースに対して移動可能なバランスユニットが設けられ、
   前記バランスユニットに対して回転可能に支持された回転可能ユニットが設けられ、
   前記回転可能ユニット上に前記第１移動ユニットおよび前記第２移動ユニットが設けられており、
   前記第１移動ユニットおよび前記第２移動ユニットはそれぞれＸアクチュエータとＹアクチュエータを備え、
   各前記Ｘアクチュエータは第１部分および第２部分を備え、当該第１部分が前記物品ホルダに連結され、かつ、前記第２部分に対し移動可能に構成されており、
   各前記Ｙアクチュエータは第１部分を備え、当該第１部分が関連する前記移動ユニットの前記Ｘアクチュエータの前記第２部分に連結されており、前記Ｙアクチュエータには各前記第１部分を沿わせて移動可能に案内する共通直線案内部が設けられており、前記共通直線案内部が前記回転可能ユニットに固定されていることを特徴とする、
   位置決め装置。
2. ベースと、第１移動ユニットと、第２移動ユニットとを具え、前記第１移動ユニットはＸ方向、および当該Ｘ方向に垂直なＹ方向に平行に前記ベースに対し移動し得る第１物品ホルダを有し、前記第２移動ユニットはＸ方向およびＹ方向に平行に前記ベースに対し移動し得る第２物品ホルダを有し、前記第１物品ホルダと第２物品ホルダとは測定位置から作動位置に前記ベースに対し連続的に移動可能であり、前記第１移動ユニットおよび第２移動ユニットはそれぞれ作動中、相互に移動可能な位置決め装置において、
   Ｘ方向およびＹ方向に平行に前記ベースに対して移動可能なバランスユニットが設けられ、
   前記バランスユニット上に前記第１移動ユニットおよび前記第２移動ユニットが設けられており、
   前記第１移動ユニットおよび前記第２移動ユニットは、それぞれＸアクチュエータとＹアクチュエータを備え、
   各前記Ｘアクチュエータは第１部分および第２部分を備え、当該第１部分が前記物品ホルダに連結され、かつ、前記第２部分に対し移動可能に構成されており、
   各前記Ｙアクチュエータは第１部分および第２部分を備え、当該第１部分が関連する前記移動ユニットのＸアクチュエータの前記第２部分に連結されており、かつ、関連する前記Ｙアクチュエータの第２部分に対し移動可能に構成されており、前記第２部分が前記バランスユニットに固定されており、
   前記物品ホルダの両方にローレンツ力アクチュエータを備える継手部材を設け、この継手部材により関連する前記物品ホルダが、前記第１移動ユニットの前記Ｘアクチュエータの前記第１部分、及び前記第２移動ユニットの前記Ｘアクチュエータの前記第１部分に着脱可能に構成されていることを特徴とする、
   位置決め装置。
3. 前記Ｘアクチュエータおよび前記Ｙアクチュエータは、専らローレンツ力を発生するように構成されていることを特徴とする、
   請求項１または２に記載の位置決め装置。
4. Ｘ方向に平行に、Ｙ方向に平行に延在するベースの案内面上を静的空気軸受によって前記バランスユニットが移動可能に案内されるよう構成したことを特徴とする、
   請求項１から３までのいずれか１項に記載の位置決め装置。
5. 少なくとも１個のアクチュエータを制御する制御ユニットを前記位置決め装置に設け、この制御ユニットによって２個の前記移動ユニットの前記Ｘアクチュエータの少なくとも前記第２部分をＸ方向に平行な位置に保持し得るようにしたことを特徴とする、
   請求項１から４までのいずれか１項に記載の位置決め装置。
6. 前記制御ユニットが前記回転可能ユニットを制御するよう構成したことを特徴とする、
   請求項５に記載の位置決め装置。
7. ２個の前記移動ユニットにはＹ方向に平行に延在する第２部分をそれぞれ設けた２個のＹアクチュエータをそれぞれ設け、Ｘ方向に垂直に、Ｙ方向に垂直に延びる回動軸の周りに、２個の前記移動ユニットの前記Ｘアクチュエータの前記第２部分を関連する前記Ｙアクチュエータの２個の前記第１部分に対しそれぞれ回動可能に構成し、前記制御ユニットにより両方の前記移動ユニットの前記Ｙアクチュエータを制御するようにしたことを特徴とする、
   請求項５または６に記載の位置決め装置。
8. 放射源と、マスクホルダと、集束ユニットと、位置決め装置とを固定するフレームを具え、前記集束ユニットは主軸線を有し、前記位置決め装置はこの主軸線に垂直なＸ方向に平行に、及びＸ方向に垂直で前記主軸線にも垂直なＹ方向に平行に、前記集束ユニットに対し移動可能な基材ホルダを具えるリソグラフ装置において、
   前記位置決め装置の２個の前記物品ホルダのおのおのが前記リソグラフ装置の基材ホルダであり、前記位置決め装置の前記ベースが前記フレームに固定されている間、前記集束ユニットを介して前記放射源により基材ホルダ上に設置し得る基材を照射し得る位置が前記基材ホルダの前記作動位置であり、
   請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の位置決め装置がここに使用する前記位置決め装置であることを特徴とする、
   リソグラフ装置。
9. 前記リソグラフ装置が別個の位置決め装置を具え、この別個の位置決め装置により前記マスクホルダを少なくともＸ方向に平行に前記集束ユニットに対し移動可能に構成したことを特徴とする、
   請求項８に記載のリソグラフ装置。
10. 位置決め装置と、集束ユニットと、別個の位置決め装置と、放射源とを固定するフレームを具え、前記集束ユニットは主軸線を有し、前記位置決め装置はこの主軸線に垂直なＸ方向に平行に、及びＸ方向に垂直で前記主軸線にも垂直なＹ方向に平行に、前記集束ユニットに対し移動可能な基材ホルダを具え、前記別個の位置決め装置は少なくともＸ方向に平行に前記集束ユニットに対し移動可能なマスクホルダを具えているリソグラフ装置において、
    前記別個の位置決め装置の２個の前記物品ホルダのそれぞれがＸ方向に平行に、Ｙ方向にも平行に前記別個の位置決め装置によって位置決めされ得る前記リソグラフ装置のマスクホルダであり、前記別個の位置決め装置の前記ベースが前記フレームに固定されている間、マスクホルダ上に設置し得るマスクを前記放射源によって照射し得る位置が前記マスクホルダの作動位置であり、
    請求項１から請求項９までのいずれか１項に記載の位置決め装置が前記別個の位置決め装置であることを特徴とする、
    リソグラフ装置。

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