KR20090033170A

KR20090033170A - 메인터넌스 방법, 노광 방법 및 장치 및 디바이스 제조 방법

Info

Publication number: KR20090033170A
Application number: KR1020087025418A
Authority: KR
Inventors: 야스시 요다
Original assignee: 가부시키가이샤 니콘
Priority date: 2006-06-30
Filing date: 2007-06-28
Publication date: 2009-04-01
Also published as: CN101390194B; CN101390194A; JP5245825B2; WO2008001871A1; EP2043134A1; US20090103064A1; EP2043134A4; TW200819920A; JPWO2008001871A1

Abstract

본 발명은 액침법으로 노광을 행하는 노광 장치의 메인터넌스를 효율적으로 행할 수 있는 메인터넌스 방법이다. 투영 광학계(PL)와 액침 영역(AR2)의 액체(1)를 통해 노광광으로 기판을 노광하는 노광 장치의 메인터넌스 방법에 있어서, 액침 영역(AR2)을 형성하는 노즐 부재(30)와 대향하여 계측 테이블(MTB)을 배치하는 이동 공정과, 노즐 부재(30)를 이용하여 계측 테이블(MTB) 상에 액체(1)를 공급하여, 이 공급된 액체를 실린더부(91) 내에 축적하는 축적 공정과, 액침법에 의한 노광 시에 액체(1)와 접할 가능성이 있는 접액부의 적어도 일부를 포함하는 영역을 향해, 그 축적 공정으로 축적된 액체(1)를 제트 노즐부(90)로부터 분출하는 세정 공정을 갖는다.

Description

메인터넌스 방법, 노광 방법 및 장치 및 디바이스 제조 방법{MAINTENANCE METHOD, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD}

본 발명은 액체를 통해 노광빔으로 기판을 노광하는 노광 장치의 메인터넌스 기술 및 이 메인터넌스 기술을 이용하는 노광 기술 및 디바이스 제조 기술에 관한 것이다.

반도체 디바이스 및 액정 표시 디바이스 등의 마이크로 디바이스(전자 디바이스)는 레티클 등의 마스크 상에 형성된 패턴을 레지스트(감광 재료)가 도포된 웨이퍼 등의 기판 상에 전사하는, 소위 포토리소그래피의 수법에 의해 제조된다. 이 포토리소그래피 공정에 있어서, 마스크 상의 패턴을 투영 광학계를 통해 기판 상에 전사하기 위해, 스텝·앤드·리피트 방식의 축소 투영형의 노광 장치 (소위 스테퍼) 및 스텝·앤드·스캔 방식의 축소 투영형의 노광 장치(소위 스캐닝·스테퍼) 등의 노광 장치가 사용되고 있다.

이 종류의 노광 장치에서는, 반도체 디바이스 등의 고집적화에 의한 패턴의 미세화에 따라, 해마다 보다 높은 해상도(해상력)가 요구되는 것에 응하기 위해, 노광광의 단파장화 및 투영 광학계의 개구수(NA)의 증대(대NA화)가 행해져 왔다. 그런데, 노광광의 단파장화 및 대NA화는, 투영 광학계의 해상도를 향상시키는 반 면, 초점 심도의 협소화를 초래하기 때문에, 이대로는 초점 심도가 지나치게 좁게 되어, 노광 동작 시의 포커스 마진이 부족할 우려가 있다.

그래서, 실질적으로 노광 파장을 짧게 하고, 또한 공기 중에 비해 초점 심도를 넓히는 방법으로서, 액침법을 이용한 노광 장치가 개발되고 있다(예컨대, 특허 문헌 1 참조). 이 액침법은, 투영 광학계의 하면과 기판 표면 사이를 물 또는 유기용매 등의 액체로 채워 액침 영역을 형성한 상태로 노광을 행하는 것이다. 이에 따라 액체 중에서의 노광광의 파장이 공기 중의 1/n 배(n은 액체의 굴절율로, 예컨대 1.2∼1.6 정도)가 되는 것을 이용하여 해상도를 향상할 수 있고, 초점 심도를 약 n 배로 확대할 수 있다.

[특허 문헌 1] 국제 공개 제99/49504호 팜플렛

(발명의 개시)

(발명이 해결하고자 하는 과제)

상기와 같이 액침법을 이용하여 노광 처리를 행하는 경우, 소정의 액체 공급 기구로부터 투영 광학계와 기판 사이의 액침 영역에 액체를 공급하면서 기판의 노광을 행하고, 소정의 액체 회수 기구에 의해 그 액침 영역의 액체를 회수한다. 그러나, 이 액침법에 의한 노광 중에 레지스트 잔재 등의 미소한 이물(파티클)이, 액체와 접하는 부분(접액부), 예컨대 액체 공급 기구 및 액체 회수 기구의 액체의 유로 등에 점차로 축적될 우려가 있다. 이와 같이 축적된 이물은, 그 후의 노광 시에, 다시 액체 중에 혼입하여 노광 대상의 기판 상에 부착되어, 전사되는 패턴의 형상 불량 등의 결함의 요인이 될 가능성이 있다.

그 때문에, 예컨대 노광 장치의 정기적인 메인터넌스 시 등에, 어떠한 방법으로 효율적으로 그 액체 공급 기구 및 액체 회수 기구의 액체의 유로 등에 축적되는 이물을 제거하는 것이 바람직하다.

본 발명은 이러한 사정에 감안하여, 액침법으로 노광을 행하는 노광 장치의 효율적인 메인터넌스 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한, 본 발명은, 그 메인터넌스 기술을 용이하게 적용할 수 있는 노광 기술 및 디바이스 제조 기술을 제공하는 것도 목적으로 한다.

또한, 본 발명은, 액체와 접하는 접액부의 세정을 용이하게 행할 수 있는 세정 기술, 노광 기술 및 디바이스 제조 기술을 제공하는 것도 목적으로 한다.

(과제를 해결하기 위한 수단)

본 발명에 따른 제1 메인터넌스 방법은, 광학 부재(2)와 기판(P) 사이를 제1 액체로 채워 액침 공간을 형성하고, 그 광학 부재와 그 제1 액체를 통해 노광광으로 그 기판을 노광하는 노광 장치의 메인터넌스 방법에 있어서, 그 제1 액체로 그 액침 공간을 형성하는 액침 공간 형성 부재(30)와 대향하여 가동체(MST)를 배치하는 이동 공정과, 그 액침 공간 형성 부재를 이용하여 그 가동체 상에 그 제1 액체에 의한 그 액침 공간을 형성하는 액침 공정과, 그 제1 액체에 접하는 접액부의 세정을 행하기 위해, 그 가동체측으로부터 그 접액부의 적어도 일부를 포함하는 영역을 향해 제2 액체를 분출하는 세정 공정을 갖는 것이다.

본 발명에 따르면, 액침법으로 노광을 행할 때에 그 접액부에 부착되는 이물의 적어도 일부를 그 제2 액체와 함께 용이하게 제거할 수 있다. 이 때에, 미리 또는 적어도 부분적으로 병행되어 그 제1 액체에 의해 액침 공간을 형성함으로써, 그 접액부에 부착하고 있는 이물의 제거가 용이하게 된다. 따라서, 그 제1 액체의 공급 및 회수를 행하는 기구의 메인터넌스를 효율적으로 행할 수 있다.

또한, 본 발명에 따른 제2 메인터넌스 방법은, 광학 부재(2)와 기판(P) 사이를 제1 액체로 채워 액침 공간을 형성하고, 그 광학 부재와 그 제1 액체를 통해 노광광으로 그 기판을 노광하는 노광 장치의 메인터넌스 방법에 있어서, 그 제1 액체로 그 액침 공간을 형성하는 액침 공간 형성 부재(30)와 대향하여 가동체(MST)를 배치하는 이동 공정과, 그 액침 공간 형성 부재를 이용하여 그 가동체 상에 그 제1 액체를 공급하며, 이 공급된 그 제1 액체를 축적하는 축적 공정과, 그 제1 액체에 접하는 접액부의 세정을 행하기 위해, 그 축적 공정에서 축적된 그 제1 액체를 그 접액부의 적어도 일부를 포함하는 영역을 향해 분출하는 세정 공정을 갖는 것이다.

본 발명에 따르면, 액침법으로 노광을 행할 때에 그 접액부에 부착되는 이물의 적어도 일부를 그 제1 액체와 함께 용이하게 제거할 수 있다. 따라서, 그 제1 액체의 공급 및 회수를 행하는 기구의 메인터넌스를 효율적으로 행할 수 있다. 이 때에, 액침 노광일 때에 이용하는 제1 액체를 미리 또는 병행하여 공급함으로써, 접액부에 부착된 이물을 용이하게 제거할 수 있고, 그 제1 액체를 세정용의 액체로서도 이용하기 때문에, 세정용의 액체의 공급 기구를 간소화할 수 있다.

또한, 본 발명에 따른 제3 메인터넌스 방법은, 광학 부재(2)와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판을 노광하는 노광 장치의 메인터넌스 방법으로서, 그 제1 액체와 접하는 접액부를 가지고 또한 그 광학 부재와 그 기판 사이에 그 제1 액체를 유지하는 노즐 부재(30)와 대향하여 가동체(MST)를 배치하며, 그 노즐 부재를 통해 그 가동체에 공급되는 제2 액체를 이용하여 그 접액부를 세정하는 것이다.

또한, 본 발명에 따른 제4 메인터넌스 방법은, 광학 부재(2)와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판을 노광하는 노광 장치의 메인터넌스 방법으로서, 그 광학 부재와 그 기판 사이에 그 제1 액체를 유지하는 노즐 부재와 대향하여 가동체를 배치하고, 그 제1 액체와 접하는 접액부에 관한 정보에 따라, 그 접액부의 제2 액체에 의한 세정 조건을 설정하는 것이다.

이들의 발명에 따르면, 접액부의 세정을 용이하게 행할 수 있고, 나아가서는 액침법으로 노광을 행하는 노광 장치의 효율적인 메인터넌스를 행할 수 있다.

또한, 본 발명의 제1 노광 방법은, 본 발명의 메인터넌스 방법을 이용하는 공정을 갖는 것이다.

또한, 본 발명의 제2 노광 방법은, 광학 부재(2)와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판(P)을 노광하는 노광 방법으로서, 그 제1 액체와 접하는 접액부를 가지고 또한 그 광학 부재와 그 기판 사이에 그 제1 액체를 유지하는 노즐 부재(30)와 대향하여 가동체(MST)를 배치하며, 그 노즐 부재를 통해 그 가동체에 공급되는 제2 액체를 이용하여 그 접액부를 세정하는 것이다.

또한, 본 발명의 제3 노광 방법은, 광학 부재(2)와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판(P)을 노광하는 노광 방법으로서, 그 광학 부재와 그 기판 사이에 그 제1 액체를 유지하는 노즐 부재(30)와 대향하여 가동체(MST)를 배치하고, 그 제1 액체와 접하는 접액부에 관한 정보에 따라, 그 접액부의 제2 액체에 의한 세정 조건을 설정하는 것이다.

이 제2 또는 제3 노광 방법에 따르면, 접액부의 세정을 용이하게 행할 수 있고, 나아가서는 액침법으로 노광을 행하는 노광 장치의 효율적인 메인터넌스를 행할 수 있다.

또한, 본 발명에 따른 제1 노광 장치는, 광학 부재(2)와 기판(P) 사이를 제1 액체로 채워 액침 공간을 형성하고, 그 광학 부재와 그 제1 액체를 통해 노광광으로 그 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서, 그 제1 액체로 액침 공간을 형성하는 액침 공간 형성 부재(30)와, 그 광학 부재에 대해 상대 이동 가능한 가동체(MST)와, 그 가동체에 적어도 일부가 설치되고 또한 제2 액체를 분출하는 액체 분출 기구(62, 63A, 90)와, 그 액침 공간 형성 부재를 통해 그 가동체 상에 그 제1 액체에 의한 그 액침 공간이 형성되어 있을 때에, 그 제1 액체에 접하는 접액부의 세정을 행하기 위해, 그 액체 분출 기구로부터 그 접액부의 적어도 일부를 포함하는 영역을 향해 제2 액체를 분출시키는 제어 장치(61)를 구비한 것이다.

또한, 본 발명에 따른 제2 노광 장치는, 광학 부재(2)와 기판(P) 사이를 제1 액체로 채워 액침 공간을 형성하고, 그 광학 부재와 그 제1 액체를 통해 노광광으로 그 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서, 그 제1 액체로 액침 공간을 형성하는 액침 공간 형성 부재(30)와, 그 광학 부재에 대해 상대 이동 가능한 가동체(MST)와, 그 액침 공간 형성 부재를 통해 그 가동체 상에 공급되는 그 제1 액체를 축적하는 축적 기구(63F, 91, 92)와, 그 가동체에 적어도 일부가 설치되어, 그 제1 액체에 접하는 접액부의 세정을 행하기 위해, 그 축적 기구로 축적된 그 제1 액체를 그 접액부의 적어도 일부를 포함하는 영역을 향해 분출하는 액체 분출 장치(63E, 91, 92)를 구비한 것이다.

또한, 본 발명에 따른 제3 노광 장치는, 광학 부재(2)와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판(P)을 노광하는 노광 장치로서, 그 제1 액체와 접하는 접액부를 가지고 또한 그 광학 부재와 그 기판 사이에 그 제1 액체를 유지하는 노즐 부재(30)와, 그 광학 부재에 대해 상대 이동 가능한 가동체(MST)와, 그 가동체에 적어도 일부가 설치되고, 그 노즐 부재를 통해 그 가동체에 공급되는 제2 액체를 이용하여 그 접액부를 세정하는 세정 부재를 구비하는 것이다.

또한, 본 발명에 따른 제4 노광 장치는, 광학 부재(2)와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판(P)을 노광하는 노광 장치로서, 그 광학 부재와 그 기판 사이에 그 제1 액체를 유지하는 노즐 부재(30)와, 그 제1 액체와 접하는 접액부를 제2 액체로 세정하는 세정 부재와, 적어도 그 세정 시에 그 노즐 부재에 대향하여 배치되는 가동체(MST)와, 그 세정 부재를 제어하여 그 제2 액체에 의한 세정 조건을 가변으로 하고, 또한 그 접액부에 관한 정보에 따라 그 세정 조건을 설정하는 제어 장치(61)를 구비하는 것이다.

이들의 본 발명의 제1, 제2, 제3, 또는 제4 노광 장치에 의해 각각 본 발명의 제1, 제2, 제3, 또는 제4 메인터넌스 방법을 사용할 수 있다.

또한, 본 발명에 따른 디바이스 제조 방법은, 본 발명의 노광 방법 또는 노광 장치를 이용하여 기판을 노광하는 것과, 그 노광된 기판을 현상하는 것을 포함하는 것이다.

또한, 이상의 본 발명의 소정 요소에 부가한 괄호가 있는 부호는, 본 발명의 일 실시형태를 나타낸 도면 중의 부재에 대응하고 있지만, 각 부호는 본 발명을 이해하기 쉽게 하기 위해 본 발명의 요소를 예시한 것에 지나지 않고, 본 발명을 그 실시형태의 구성에 한정하지 않는다.

[발명의 효과]

본 발명에 따르면, 접액부의 세정을 용이하게 행하는 것이 가능해지고, 나아가서는 액침법으로 노광을 행하는 노광 장치의 효율적인 메인터넌스를 행할 수 있다.

도 1은 본 발명의 실시형태의 일례의 노광 장치를 도시하는 일부를 절결한 개략 구성도이다.

도 2는 도 1 중의 노즐 부재(30)를 도시하는 사시도이다.

도 3은 도 2의 AA선을 따라 취한 단면도이다.

도 4는 도 1 중의 계측 스테이지(MST) 측에 설치되는 세정 기구를 도시하는 일부를 절결한 도면이다.

도 5는 도 1의 기판 스테이지(PST) 및 계측 스테이지(MST)를 도시하는 평면도이다.

도 6은 도 5의 상태로부터 투영 광학계(PL)의 저면에 계측 스테이지(MST)가 이동하는 과정을 도시하는 평면도이다.

도 7은 본 발명의 실시형태의 일례의 세정 동작의 설명에 제공되는 계측 테이블(MTB) 및 노즐 부재(30)를 단면으로 나타낸 도면이다.

도 8의 (A)는 본 발명의 실시형태의 다른 예의 세정 기구를 도시하는 일부를 절결한 도면, 도 8의 (B)는 그 세정 기구로부터 액체를 분사하는 모습을 도시하는 일부를 절결한 도면이다.

도 9의 (A)는 메인터넌스 동작의 일례를 도시하는 흐름도, 도 9의 (B)는 마이크로 디바이스의 제조 공정의 일례를 도시하는 흐름도이다.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1: 액체 2: 광학 소자

10: 액체 공급 기구 11: 액체 공급부

13, 14: 공급구 20: 액체 회수 기구

21: 액체 회수부 24: 회수구

25: 메쉬 필터 30: 노즐 부재

62: 분출 장치 65: 회수 장치

66: 혼합 분출 장치 89: 역지(逆止) 밸브

90: 제트 노즐부 91: 실린더부

92: 피스톤부 AR1: 투영 영역

AR2: 액침 영역 CONT: 제어 장치

EL: 노광광 EX: 노광 장치

M: 마스크 P: 기판

PL: 투영 광학계 PST: 기판 스테이지

MST: 계측 스테이지 MTB: 계측 테이블

(발명을 실시하기 위한 최선의 형태)

이하, 본 발명의 바람직한 실시형태의 일례에 대해 도 1∼도 7을 참조하여 설명한다. 도 1은 제1 실시형태의 노광 장치(EX)를 도시하는 개략 구성도이고, 도 1에 있어서, 노광 장치(EX)는 전사(轉寫)용의 패턴이 형성된 마스크(M)를 지지하는 마스크 스테이지(RST)와, 노광 대상의 기판(P)을 지지하는 기판 스테이지(PST)와, 마스크 스테이지(RST)에 지지되어 있는 마스크(M)를 노광광(EL)으로 조명하는 조명 광학계(IL)와, 노광광(EL)으로 조명된 마스크(M)의 패턴 상(像)을 기판 스테이지(PST)에 지지되어 있는 기판(P) 상의 투영 영역(AR1)에 투영하는 투영 광학계(PL)와, 얼라이먼트용의 기준 마크 등이 형성되어 있는 계측 스테이지(MST)와, 노광 장치(EX) 전체의 동작을 통괄 제어하는 제어 장치(CONT)와, 액침법의 적용을 위한 액침 시스템(액침 기구)을 구비하고 있다. 본 실시형태의 액침 시스템에는, 기판(P) 상 및 계측 스테이지(MST) 상에 액체(1)를 공급하는 액체 공급 기구(10)와, 기판(P) 상 및 계측 스테이지(MST) 상에 공급된 액체(1)를 회수하는 액체 회수 기구(20)를 구비하고 있다.

노광 장치(EX)는 적어도 마스크(M)의 패턴상을 기판(P) 상에 전사하고 있는 동안, 액체 공급 기구(10)로부터 공급한 액체(1)에 의해 투영 광학계(PL)의 투영 영역(AR1)을 포함하는 기판(P) 상의 일부의 영역, 또는 기판(P) 상의 일부의 영역 과 그 주위의 영역에(국소적으로) 액침 영역(AR2)을 형성한다. 구체적으로는, 노광 장치(EX)는, 투영 광학계(PL)의 상면측(像面側) 종단부의 광학 소자[예컨대, 저면(사출면)이 거의 평탄한 렌즈 또는 평행 평면판 등](2)와, 그 상면측에 배치된 기판(P) 표면과의 사이에 액체(1)를 채우는 국소 액침 방식을 채용하여, 마스크(M)를 통과한 노광광(EL)으로, 투영 광학계(PL) 및 투영 광학계(PL)와 기판(P)과의 사이의 액체(1)를 통해 기판(P)을 노광함으로써, 마스크(M)의 패턴을 기판(P)에 전사 노광한다. 또한, 본 예에서는 투영 광학계(PL)로부터 사출되는 노광광(EL)의 광로 공간을 포함하는 액침 공간을 형성하는 액침 공간 형성 부재[예컨대 노즐 부재(30)를 포함함]를 이용하여 액침 노광을 행하는 것으로 하고 있다.

본 예에서는, 노광 장치(EX)로서, 마스크(M)와 기판(P)을 소정의 주사 방향으로 동기 이동하면서 마스크(M)에 형성된 패턴을 기판(P)에 노광하는 주사형 노광 장치(소위 스캐닝·스테퍼)를 사용하는 경우를 예로 들어 설명한다. 이하, 투영 광학계(PL)의 광축(AX)에 평행하게 Z축을 취하고, Z축에 수직인 평면 내에서 마스크(M)와 기판(P)과의 동기 이동 방향(주사 방향)을 따라 X축을, 그 주사 방향에 수직인 방향(비주사 방향)을 따라 Y축을 취하여 설명한다. 또한, X축, Y축 및 Z축 주위의 회전(경사) 방향을 각각, θX, θY 및 θZ 방향으로 한다.

본문 내에, 기판은, 예컨대 실리콘 웨이퍼와 같은 반도체 웨이퍼 등의 기재 그 자체뿐만 아니라, 이 기재 상에 감광 재료인 레지스트(포토 레지스트)를 도포한 것을 포함하여, 이 감광막과는 별도로 보호막(탑코트막) 등의 각종 막을 도포한 것도 포함한다. 마스크는, 기판 상에 축소 투영되는 디바이스 패턴이 형성된 레티클 을 포함하여, 예컨대 합성 석영 등의 유리판(투명 기판) 상에 크롬 등의 차광막을 이용하여 소정의 패턴이 형성된 것이다. 이 투과형 마스크는, 차광막으로 패턴이 형성되는 바이너리 마스크에 한정되지 않고, 예컨대 하프톤형 혹은 공간 주파수 변조형 등의 위상 시프트 마스크도 포함한다. 또한, 본 예의 기판(P)은, 예컨대 직경이 200 mm내지 300 mm 정도의 원판형의 반도체 웨이퍼 상에, 도시하지 않은 코터·디벨로퍼에 의해 포토레지스트를 소정의 두께(예컨대 200 nm 정도)로 도포하고, 필요에 따라 그 위에 반사 방지막 또는 탑코트막을 도포한 것을 사용할 수 있다.

우선, 조명 광학계(IL)는 마스크 스테이지(RST)에 지지되어 있는 마스크(M)를 노광광(EL)으로 조명하는 것, 도시하지 않은 노광용 광원으로부터 사출된 광속의 조도를 균일화하는 옵티컬 인터그레이터(optical integrator), 옵티컬 인터그레이터로부터의 노광광(EL)을 집광하는 콘덴서 렌즈, 릴레이 렌즈계, 노광광(EL)에 의한 마스크(M) 상의 조명 영역을 슬릿형으로 설정하는 가변 시야 조리개 등을 갖고 있다. 마스크(M) 상의 소정의 조명 영역은 조명 광학계(IL)에 의해 균일한 조도 분포의 노광광(EL)으로 조명된다. 조명 광학계(IL)로부터 사출되는 노광광(EL)으로서는, 예컨대 수은 램프로부터 사출되는 자외역의 휘선(i 선 등), KrF 엑시머 레이저광(파장 248 nm) 등의 원자외광(DUV 광), 또는 ArF 엑시머 레이저광(파장 193 nm), F₂ 레이저광(파장 157 nm) 등의 진공 자외광(VUV 광) 등이 이용된다. 본 예에 있어서는, 노광광(EL)으로서, ArF 엑시머 레이저광이 이용된다.

또한, 마스크 스테이지(RST)는 마스크(M)를 지지하는 것으로, 도시하지 않은 마스크 베이스 상의 투영 광학계(PL)의 광축(AX)에 수직인 평면 내, 즉 XY 평면 내에서 2차원 이동 가능 및 θZ 방향으로 미소 회전 가능하다. 마스크 스테이지(RST)는, 예컨대 리니어 모터 등의 마스크 스테이지 구동 장치(RSTD)에 의해 구동된다. 마스크 스테이지 구동 장치(RSTD)는 제어 장치(CONT)에 의해 제어된다. 마스크 스테이지(RST) 상에는 이동 거울(반사면)(55A)이 설치되고, 이동 거울(55A)에 대향하는 위치에는 레이저 간섭계(56A)가 설치된다. 실제로는, 레이저 간섭계(56A)는, 3축 이상의 측장(測長)축을 갖는 레이저 간섭계 시스템을 구성하고 있다. 마스크 스테이지(RST)[마스크(M)]의 2차원 방향의 위치 및 회전각은 레이저 간섭계(56A)에 의해 리얼 타임으로 계측되고, 계측 결과는 제어 장치(CONT)에 출력된다. 제어 장치(CONT)는 그 계측 결과에 기초하여 마스크 스테이지 구동 장치(RSTD)를 구동하는 것으로 마스크 스테이지(RST)에 지지되어 있는 마스크(M)의 이동 또는 위치 결정을 행한다. 또한, 이동 거울(55A)은 평면 거울만이 아니라 코너 큐브(레트로리플렉터: retroreflector)를 포함하는 것으로 하여도 좋고, 이동 거울(55A) 대신에, 예컨대 마스크 스테이지(RST)의 단면(端面)(측면)을 경면 가공하여 형성되는 반사면을 이용하여도 좋다.

투영 광학계(PL)는 마스크(M)의 패턴을 소정의 투영 배율(β)(β는, 예컨대 1/4, 1/5 등의 축소 배율)로 기판(P) 상에 투영 노광하는 것으로, 기판(P)측[투영 광학계(PL)의 상면측]의 종단부에 설치된 광학 소자(2)를 포함하는 복수의 광학 소자로 구성되어 있고, 이들 광학 소자는 경통(PK)에 의해 지지되어 있다. 또한, 투영 광학계(PL)는 축소계 뿐만 아니라, 등배계 및 확대계 중 어느 것이라도 좋다. 또한, 투영 광학계(PL)의 선단부의 광학 소자(2)는 경통(PK)에 대해 착탈(교환) 가능하게 설치되어 있고, 광학 소자(2)에는 액침 영역(AR2)의 액체(1)가 접촉한다. 도시하지 않지만, 투영 광학계(PL)는 방진 기구를 통해 3개의 지주에 의해 지지되는 경통 정반에 탑재되지만, 예컨대 국제 공개 제2006/038952호 팜플렛에 개시되어 있는 바와 같이, 투영 광학계(PL)의 위쪽에 배치되는 도시하지 않은 메인 프레임 부재, 혹은 전술의 마스크 베이스 등에 대해 투영 광학계(PL)를 현수하여 지지하여도 좋다.

본 예에 있어서, 액체(1)에는 순수가 이용된다. 순수는 ArF 엑시머 레이저광 뿐만 아니라, 예컨대 수은 램프로부터 사출되는 휘선 및 KrF 엑시머 레이저광 등의 원자외광(DUV 광)도 투과 가능하다. 광학 소자(2)는 형석(CaF₂)으로 형성되어 있다. 형석은 물과의 친화성이 높기 때문에, 광학 소자(2)의 액체 접촉면(2a)의 거의 전체면에 액체(1)를 밀착시킬 수 있다. 또한, 광학 소자(2)는 물과의 친화성이 높은 석영 등이라도 좋다.

또한, 기판(P)의 레지스트는, 일례로서 액체(1)를 튀기는 발액성의 레지스트이다. 또한, 전술한 바와 같이 필요에 따라 레지스트의 위에 보호용의 탑코트를 도포하여도 좋다. 본 예에서는, 액체(1)를 튀기는 성질을 발액성이라고 부른다. 액체(1)가 순수인 경우에는, 발액성이란 발수성을 의미한다.

또한, 기판 스테이지(PST)는 기판(P)을, 예컨대 진공 흡착으로 유지하는 기판 홀더(PH)와, 기판 홀더(PH)[기판(P)]의 Z 방향의 위치(포커스 위치) 및 θX, θ Y 방향의 경사각을 제어하는 Z 스테이지부와, 이 Z 스테이지부를 지지하여 이동하는 XY 스테이지부를 구비한다. 이 XY 스테이지부는, 베이스(54) 상의 XY 평면에 평행한 가이드면[투영 광학계(PL)의 상면과 실질적으로 평행한 면] 상에 X 방향, Y 방향으로 이동할 수 있도록, 예컨대 에어 베어링(기체 축받이)을 통해 적재되어 있다. 기판 스테이지(PST)(Z 스테이지부 및 XY 스테이지부)는, 예컨대 리니어 모터 등의 기판 스테이지 구동 장치(PSTD)에 의해 구동된다. 기판 스테이지 구동 장치(PSTD)는 제어 장치(CONT)에 의해 제어된다. 또한, 본 실시형태에서는, Z 스테이지부는 테이블 및 이 테이블을 적어도 Z, θX 및 θY 방향으로 구동하는 액츄에이터(예컨대, 보이스 코일 모터 등)를 포함하여, 기판 홀더와 테이블을 일체로 형성하고, 통합하여 기판 홀더(PH)라고 부르고 있다. 또한, 기판 스테이지(PST)는 테이블이 XY 스테이지부에 대해 6자유도의 방향으로 미동 가능한 조미동 스테이지라도 좋다.

기판 스테이지(PST) 상의 기판 홀더(PH)에는 이동 거울(55B)이 설치되고, 이동 거울(55B)에 대향하는 위치에는 레이저 간섭계(56B)가 설치된다. 이동 거울(55B)은, 실제로는 도 5에 도시한 바와 같이, X축의 이동 거울(55BX) 및 Y축의 이동 거울(55BY)로 구성되고, 레이저 간섭계(56B)도 X축의 레이저 간섭계(56BX) 및 Y축의 레이저 간섭계(56BY)로 구성되어 있다. 도 1로 되돌아가, 기판 스테이지(PST) 상의 기판 홀더(PH)[기판(P)]의 2차원 방향의 위치 및 회전각은, 레이저 간섭계(56B)에 의해 리얼 타임으로 계측되고, 계측 결과는 제어 장치(CONT)에 출력된다. 제어 장치(CONT)는 그 계측 결과에 기초하여 기판 스테이지 구동 장치(PSTD) 를 구동하는 것으로 기판 스테이지(PST)에 지지되어 있는 기판(P)의 이동 또는 위치 결정을 행한다. 또한, 레이저 간섭계(56B)는 기판 스테이지(PST)의 Z축 방향의 위치 및 θX, θY 방향의 회전 정보도 계측 가능으로 해도 좋고, 그 상세는, 예컨대 일본 특허 공표 제2001-510577호 공보(대응하는 국제 공개 제1999/28790호 팜플렛)에 개시되어 있다. 또한, 이동 거울(55B) 대신에, 예컨대 기판 스테이지(PST) 또는 기판 홀더(PH)의 측면 등을 경면 가공하여 형성되는 반사면을 이용하여도 좋다.

또한, 기판 홀더(PH) 상에는, 기판(P)을 둘러싸도록 환상으로 평면의 발액성의 플레이트부(97)가 설치된다. 발액 처리로서는, 예컨대 발액성을 갖는 재료를 사용한 코팅 처리를 들 수 있다. 발액성을 갖는 재료로서는, 예컨대 폴리4불화에틸렌[테플론(등록상표)] 등의 불소계 수지 재료, 아크릴계 수지 재료, 실리콘계 수지 재료, 또는 폴리에틸렌 등의 합성 수지 재료를 들 수 있다. 또한, 표면 처리를 위한 박막은 단층막이더라도 좋고, 복수층으로 이루어지는 막이더라도 좋다. 그 플레이트부(97)의 상면(上面)은, 기판 홀더(PH)에 유지된 기판(P)의 표면과 거의 동일한 높이의 평탄면이다. 여기서, 기판(P)의 엣지와 플레이트부(97) 사이에는 0.1 mm∼1 mm 정도의 간극이 있지만, 본 예에 있어서는, 기판(P)의 레지스트는 발액성이고, 액체(1)에는 표면 장력이 있기 때문에, 그 간극에 액체(1)가 유입되는 경우는 거의 없고, 기판(P)의 주연(周緣) 근방을 노광하는 경우에도, 플레이트부(97)와 투영 광학계(PL) 사이에 액체(1)를 유지할 수 있다. 또한, 플레이트부(97)와 기판(P)과의 간극에 유입된 액체(1)를 외부에 배출하기 위한 흡인 장치(도시하지 않음)를 기판 홀더(PH)에 설치하여도 좋다. 따라서, 기판(P)의 레지스트(또는 탑코트)는 반드시 발액성이 아니라도 좋다. 또한, 본 실시형태에서는 플레이트부(97)를 착탈 가능(교환 가능)하게 기판 홀더(PH)에 설치하고 있지만, 플레이트부(97)를 설치하지 않고, 예컨대 기판(P)을 둘러싸는 기판 홀더(PH)의 상면을 발액 처리하여 평탄면을 형성하여도 좋다. 이 경우, 기판 홀더(PH)를 착탈 가능(교환 가능)하게 하여, 그 평탄면의 메인터넌스(예컨대, 발액막의 보수 등)를 행하는 것이 바람직하다.

[액체의 공급 및 회수 기구의 설명]

다음으로, 도 1의 액체 공급 기구(10)는 소정의 액체(1)를 기판(P) 상에 공급하는 것으로, 액체(1)를 송출 가능한 액체 공급부(11)와, 액체 공급부(11)에 그 일단부를 접속하는 공급관(12)을 구비하고 있다. 액체 공급부(11)는, 액체(1)를 수용하는 탱크, 필터부 및 가압 펌프 등을 구비하고 있다. 또한, 액체 공급 기구(10)가, 탱크, 필터부, 가압 펌프 등의 모두를 구비하고 있을 필요는 없고, 이들의 적어도 일부를, 예컨대 노광 장치(EX)가 설치되는 공장 등의 설비로 대용하여도 좋다.

액체 회수 기구(20)는 기판(P) 상에 공급된 액체(1)를 회수하는 것으로, 액체(1)를 회수할 수 있는 액체 회수부(21)와, 액체 회수부(21)에 그 일단부가 접속된 회수관(22)과, 회수관(22)에 연결된 공급관(27)과, 공급관(27)의 단부에 접속되어 소정의 세정액을 공급하는 세정액 공급부(26)를 구비하고 있다. 회수관(22) 및 공급관(27)의 도중에는 각각 밸브(23) 및 밸브(28)가 설치된다. 액체 회수부(21)는, 예컨대 진공 펌프 등의 진공계(흡인 장치) 및 회수한 액체(1)를 수용하는 탱크 등을 구비하고 있다. 세정액 공급부(26)는 세정액을 수용하는 탱크 및 가압 펌프 등을 구비하고 있다. 회수관(22)측의 밸브(23)를 폐쇄하고, 공급관(27)측의 밸브(28)를 개방함으로써 세정액 공급부(26)로부터 공급관(27)을 통해 회수관(22)에 세정액을 공급할 수 있다. 또한, 액체 회수 기구(20)가, 진공계, 탱크 등의 모두를 구비하고 있을 필요는 없고, 이들 중 적어도 일부를, 예컨대 노광 장치(EX)가 설치되는 공장 등의 설비로 대용하여도 좋다.

세정액으로서는, 액체(1)와는 별도의 액체인 물과 신나의 혼합액, γ-부틸락톤, 또는 이소프로필알콜(IPA) 등의 용제 등을 사용할 수 있다. 단, 그 세정액으로서 액체(1)를 포함하는 액체, 예컨대 액체(1) 그 자체, 혹은 기체(예컨대, 질소, 오존, 혹은 산소 등)를 용존(dissolve)시킨 액체(1), 또는 액체(1)를 용매로 하는 용액 등을 사용하는 것도 가능하다. 또한, 세정액으로서 액체(1) 그 자체를 사용하는 것과 같은 경우에는, 액체 공급부(11)를 세정액 공급부로서도 사용할 수 있기 때문에, 세정액 공급부(26) 및 공급관(27)은 반드시 설치할 필요는 없다. 또한, 세정액 공급부(26)로부터의 공급관(27)을 액체 공급부(11)에 연통하고 있는 공급관(12)에 접속하는 것도 가능하다. 이 경우, 액체(1)의 공급 유로(예컨대 공급관(12) 등)와는 독립적으로 세정액을 액침 영역(액침 공간)에 공급하여도 좋다.

투영 광학계(PL)의 종단부의 광학 소자(2)의 근방에는 유로 형성 부재로서의 노즐 부재(30)가 배치되어 있다. 노즐 부재(30)는 기판(P)[기판 스테이지(PST)]의 위쪽에 있어서 광학 소자(2)의 주위를 둘러싸도록 설치된 환상 부재이고, 도시하지 않은 지지 부재를 통해 칼럼 기구(도시하지 않음)에 지지되어 있다. 투영 광학 계(PL)의 투영 영역(AR1)이 기판(P) 상에 있는 상태로, 노즐 부재(30)는 그 기판(P)의 표면이 대향하여 배치되는 제1 공급구(13)와 제2 공급구(14)(도 3 참조)를 구비하고 있다. 또한, 노즐 부재(30)는 그 내부에 공급 유로(82A, 82B)(도 3 참조)를 갖고 있다. 공급 유로(82A)의 일단부는 제1 공급구(13)에 접속하여, 그 공급 유로(82A)의 도중에 공급 유로(82B)를 통해 제2 공급구(14)가 접속되고(도 3 참조), 공급 유로(82A)의 타단부는 공급관(12)을 통해 액체 공급부(11)에 접속하고 있다. 또한, 노즐 부재(30)는 기판(P)의 표면에 대향하도록 배치된 직사각형의 프레임형의 회수구(24)(도 3 참조)를 구비하고 있다.

도 2는 노즐 부재(30)의 개략 사시도이다. 도 2에 도시한 바와 같이, 노즐 부재(30)는 투영 광학계(PL)의 종단부의 광학 소자(2)의 주위를 둘러싸도록 설치된 환상 부재로서, 일례로서, 제1 부재(31)와, 제1 부재(31)의 상부에 배치되는 제2 부재(32)를 구비하고 있다. 제1 부재(31) 및 제2 부재(32)의 각각은 판형 부재로서 그 중앙부에 투영 광학계(PL)[광학 소자(2)]를 배치할 수 있는 관통 구멍(31A 및 32A)을 갖고 있다.

도 3은 도 2의 노즐 부재(30) 중 하단의 제1 부재(31)의 AA 선을 따라 취한 단면도이고, 도 3에 있어서, 그 위의 제2 부재(32)에 형성된 공급 유로(82A, 82B) 및 공급 유로(82A)에 접속된 공급관(12)은 2점 쇄선으로 나타내고 있다. 또한, 노즐 부재(30)의 제1 부재(31)는, 투영 광학계(PL)의 광학 소자(2)의 +X 방향측으로 형성되고, 기판(P) 상에 액체(1)를 공급하는 제1 공급구(13)와, 광학 소자(2)의 -X 방향측으로 형성되고, 기판(P) 상에 액체(1)를 공급하는 제2 공급구(14)를 구비하 고 있다. 공급구(13) 및 공급구(14)는 투영 영역(AR1)을 X 방향[기판(P)의 주사 방향]으로 끼우도록 배치되어 있다. 또한, 공급구(13) 및 공급구(14)의 각각은 제1 부재(31)를 관통하는 관통 구멍으로서, Y 방향으로 가늘고 긴 직사각형이지만, 투영 영역(AR1)의 중심에서 외측으로 넓어지는 원호형 등이라도 좋다.

또한, 제1 부재(31)에는, 투영 광학계(PL)의 광학 소자(2)[투영 영역(AR1)]를 둘러싸도록 배치된 직사각형(원형 등이라도 좋음)의 프레임형의 회수구(24)와, 회수구(24)와 회수관(22)을 연통하는 회수 유로(84)가 형성되어 있다. 회수구(24)는, 제1 부재(31)의 저면에 형성된 홈상의 오목부이고, 또한 공급구(13) 및 공급구(14)에서 광학 소자(2)에 대해 외측에 설치된다. 공급구(13) 및 공급구(14)의 기판(P)과의 갭과, 회수구(24)의 기판(P)과의 갭이란, 거의 동일하게 설치되지만, 예컨대 회수구(24)의 기판(P)과의 갭을 공급구(13) 및 공급구(14)의 기판(P)과의 갭보다도 좁게 하여도 좋다. 또한, 노즐 부재(30)는 다공 부재(25)를 구비하고, 이 다공 부재(25)는, 예컨대 제1 부재(31)의 액체(1)의 유로 또는 통과구[공급구(13) 및 공급구(14)와 회수구(24) 중 적어도 하나를 포함함]에 설치된다. 본 실시형태에서는, 다공 부재(25)로서, 회수구(24)를 덮도록 메쉬형에 다수의 작은 구멍이 형성된 메쉬 필터가 끼워 맞추어져 있고, 이하에서는 다공 부재(25)를 메쉬 필터라고도 부른다. 또한, 다공 부재(25)는 메쉬 필터에 한정되지 않고, 예컨대 소결 금속 혹은 세라믹스 등 포어(pore)가 있는 재료로 구성하여도 좋다. 액체(1)가 채워진 액침 영역(AR2)은 투영 영역(AR1)을 포함하도록 회수구(24)에 의해 둘러싸인 거의 직사각형(또는 원형 등이라도 좋음)의 영역의 내측에 형성되고, 또한 주사 노광 시에 는 기판(P) 상의 일부에[또는 기판(P) 상의 일부를 포함하도록] 국소적으로 형성된다. 노즐 부재(유로 형성 부재)(30)는 광학 소자(2)와 기판(P) 사이를 액체(1)로 채워, 노광광(EL)의 광로 공간을 포함하는 국소적인 액침 공간[액침 영역(AR2)에 상당]을 형성하기 때문에, 액침 공간 형성 부재 혹은 containment member(또는 confinement member)등으로도 불린다.

도 2의 노즐 부재(30)의 제1 부재(31), 제2 부재(32) 및 도 3의 메쉬 필터(25)는 각각 액체(1)에 친화성이 있는 친액성의 재료, 예컨대 스테인레스(SUS) 또는 티탄 등으로 형성되어 있다. 그 때문에, 도 1에 있어서, 액침 영역(AR2) 중의 액체(1)는 노즐 부재(30)에 설치된 회수구(24)의 메쉬 필터(25)를 통과한 후, 회수 유로(84) 및 회수관(22)을 통해 액체 회수부(21)에 원활하게 회수된다. 이 때에, 레지스트 잔재 등의 이물 중, 메쉬 필터(25)의 메쉬보다도 큰 이물은 그 표면에 잔류한다.

도 3에 있어서, 본 예의 액체의 회수구(24)는 직사각형 또는 원형의 프레임형이지만, 그 대신에 2점 쇄선으로 도시한 바와 같이, 공급구(13) 및 공급구(14)를 X 방향으로 끼우도록 배치된 2개의 직사각형(또는 원호형 등)의 회수구(29A) 및 회수구(29B)와, 광학 소자(2)를 Y 방향으로 끼우도록 배치된 2개의 직사각형(또는 원호형 등)의 회수구(29C) 및 회수구(29D)로 이루어지는 회수구를 이용하여, 회수구(29A)∼회수구(29D)에 각각 메쉬 필터를 배치하여도 좋다. 또한, 회수구(29A)∼회수구(29D)의 갯수는 임의이다. 또한, 예컨대 국제 공개 제2005/122218호 팜플렛에 개시되어 있는 바와 같이, 회수구(29A)∼회수구(29D)와 회수구(24)를 이중으로 이용하여 액침 영역(AR2)의 액체(1)를 회수하여도 좋다. 또한, 공급구(13) 및 공급구(14)에도 액침 영역(AR2) 내의 이물 노즐 부재(30) 내부에 들어가는 것을 방지하기 위한 메쉬 필터를 배치하여도 좋다. 반대로, 예컨대 회수관(22) 내에 이물이 부착될 가능성이 낮은 것과 같은 경우에는, 메쉬 필터(25)는 반드시 설치할 필요는 없다.

또한, 상기 실시형태에서 이용한 노즐 부재(30)는 전술의 구조에 한정되지 않고, 예컨대, 유럽 특허 출원 공개 제1420298호 명세서, 국제 공개 제2004/055803호 팜플렛, 국제 공개 제2004/057589호 팜플렛, 국제 공개 제2004/057590호 팜플렛, 국제 공개 제2005/029559호 팜플렛(대응 미국 특허 출원 공개 제2006/0231206호 명세서)에 기재되어 있는 유로 형성 부재 등도 이용할 수 있다.

또한, 본 예에서는 액체의 공급구(13) 및 공급구(14)와 회수구(24)는 동일한 노즐 부재(30)에 설치되지만, 공급구(13) 및 공급구(14)와 회수구(24)는 별도의 부재에 설치하여도 좋다. 예컨대, 노즐 부재(30)와는 별도의 부재에 공급구만을 설치하여도 좋고, 별도의 부재에 회수구만을 설치하여도 좋다. 또한, 회수구(24)의 외측에 제2 회수구를 설치하는 경우, 이 제2 회수구를 별도의 부재에 설치하여도 좋다. 또한, 도 1에 있어서, 공급구(13) 및 공급구(14)를 상이한 별도의 액체 공급부에 연통시켜, 공급구(13) 및 공급구(14)로부터 상호 독립적으로 공급량을 제어할 수 있는 상태로 액체(1)를 액침 영역(AR2)에 공급하도록 하여도 좋다.

또한, 액체의 공급구(13) 및 공급구(14)는 기판(P)과 대향하도록 배치되어 있지 않아도 좋다. 또한, 본 예의 노즐 부재(30)는 그 하면이 투영 광학계(PL)의 하단면보다도 상면측(像面側)(기판측)에 설정되어 있지만, 노즐 부재(30)의 하면을 투영 광학계(PL)의 하단면(사출면)과 거의 동일한 높이(Z 위치)로 설정하여도 좋다. 또한, 노즐 부재(30)의 일부(하단부)를, 노광광(EL)을 가로막지 않도록 투영 광학계(PL)[광학 소자(2)]의 아래쪽까지 숨겨 설치하여도 좋다.

전술된 바와 같이, 노즐 부재(30)는 액체 공급 기구(10) 및 액체 회수 기구(20)의 각각의 일부를 구성하고 있다. 즉, 노즐 부재(30)는 액침 시스템의 일부이다. 또한, 회수관(22) 및 공급관(27)에 설치된 밸브(23) 및 밸브(28)는, 회수관(22) 및 공급관(27)의 유로의 각각을 개폐하는 것으로, 그 동작은 제어 장치(CONT)에 제어된다. 회수관(22)의 유로가 개방되어 있는 동안, 액체 회수부(21)는 회수구(24)를 통해 액침 영역(AR2)으로부터 액체(1)를 흡인 회수 가능하고, 밸브(28)가 폐쇄한 상태에서, 밸브(23)에 의해 회수관(22)의 유로가 폐색되면, 회수구(24)를 통한 액체(1)의 흡인 회수가 정지된다. 그 후, 밸브(28)를 개방함으로써 세정액 공급부(26)로부터 공급관(27), 회수관(22) 및 메쉬 필터(25)를 통해 노즐 부재(30)의 회수구(24)를 통과시키도록 세정액을 흐르게 하는 것이 가능해진다.

또한, 액침 시스템의 일부, 예컨대 적어도 노즐 부재(30)는 노광 장치(EX)의 본체부가 탑재되는 전술의 칼럼 기구(도시하지 않음), 즉 투영 광학계(PL)를 유지하는 메인프레임(전술의 경통 정반 등을 포함함)에 설치하는 것으로 했지만, 여기에 한정되지 않고, 예컨대 칼럼 기구(메인프레임)와는 별도의 프레임 부재에 설치하여도 좋다. 또는, 전술한 바와 같이 투영 광학계(PL)가 매달려 지지되는 경우, 투영 광학계(PL)와 일체로 노즐 부재(30)를 매달아 지지하여도 좋고, 혹은 투영 광 학계(PL)와는 독립적으로 매달려 지지되는 계측 프레임에 노즐 부재(30)를 설치하여도 좋다. 후자의 경우, 투영 광학계(PL)는 매달려 지지되지 않아도 좋다.

도 1에 있어서, 액체 공급부(11) 및 세정액 공급부(26)의 액체 공급 동작은 제어 장치(CONT)에 의해 제어된다. 제어 장치(CONT)는 액체 공급부(11) 및 세정액 공급부(26)에 의한 기판(P) 상에 대한 단위 시간당 액체 공급량을 각각 독립적으로 제어 가능하다. 액체 공급부(11)로부터 송출된 액체(1)는 공급관(12) 및 노즐 부재(30)의 공급 유로(82A), 공급 유로(82B)를 통해, 노즐 부재(30)의 하면에 기판(P)에 대향하도록 설치된 공급구(13) 및 공급구(14)(도 3 참조)로부터 기판(P) 상에 공급된다.

또한, 액체 회수부(21)의 액체 회수 동작은 제어 장치(CONT)에 의해 제어된다. 제어 장치(CONT)는 액체 회수부(21)에 의한 단위 시간당의 액체 회수량을 제어 가능하다. 기판(P)의 위쪽에 설치된 회수구(24)로부터 메쉬 필터(25)를 통해 회수된 기판(P) 상의 액체(1)는 노즐 부재(30)의 회수 유로(84) 및 회수관(22)을 통해 액체 회수부(21)에 회수된다.

[계측 스테이지의 설명]

도 1에 있어서, 계측 스테이지(MST)는, Y 방향으로 가늘고 긴 직사각형으로 X 방향(주사 방향)으로 구동되는 X 스테이지부(181)와, 이 위에, 예컨대 에어 베어링을 통해 적재된 레벨링 테이블(188)과, 이 레벨링 테이블(188) 상에 배치된 계측 유닛으로서의 계측 테이블(MTB)을 구비하고 있다. 일례로서, 계측 테이블(MTB)은 레벨링 테이블(188) 상에 에어 베어링을 통해 적재되어 있지만, 계측 테이블(MTB) 을 레벨링 테이블(188)과 일체화하는 것도 가능하다. X 스테이지부(181)는 베이스(54) 상에, 예컨대 에어 베어링을 통해 X 방향으로 이동 가능하게 적재되어 있다.

도 5는 도 1 중의 기판 스테이지(PST) 및 계측 스테이지(MST)를 도시하는 평면도이고, 이 도 5에 있어서, 베이스(54)를 Y 방향(비주사 방향)으로 끼우도록, X축에 평행하게 각각 내면에 X 방향으로 소정 배열로 복수의 영구 자석이 배치된 X축의 고정자(186) 및 고정자(187)가 설치되고, 고정자(186) 및 고정자(187)의 사이에 각각 코일을 포함하는 이동자(182) 및 이동자(183)를 통해 Y축에 거의 평행하게 Y축 슬라이더(180)가 X 방향으로 이동 가능하게 배치되어 있다. 그리고, Y축 슬라이더(180)에 따라 Y 방향으로 이동 가능하게 기판 스테이지(PST)가 배치되고, 기판 스테이지(PST) 내의 이동자와, Y축 슬라이더(180) 상의 고정자(도시하지 않음)로부터 기판 스테이지(PST)를 Y 방향으로 구동하는 Y축 리니어 모터가 구성되고, 이동자(182) 및 이동자(183)와 대응하는 고정자(186) 및 고정자(187)로부터 각각 기판 스테이지(PST)를 X 방향으로 구동하는 한 쌍의 X축 리니어 모터가 구성되어 있다. 이들 X축, Y축 리니어 모터 등이, 도 1의 기판 스테이지 구동 장치(PSTD)를 구성하고 있다.

또한, 계측 스테이지(MST)의 X 스테이지부(181)는 고정자(186) 및 고정자(187) 사이에 각각 코일을 포함하는 이동자(184) 및 이동자(185)을 통해 X 방향으로 이동 가능하게 배치되고, 이동자(184) 및 이동자(185)와 대응하는 고정자(186) 및 고정자(187)로부터 각각 계측 스테이지(MST)를 X 방향으로 구동하는 한 쌍의 X축 리니어 모터가 구성되어 있다. 이 X축 리니어 모터 등이, 도 1에서는 계측 스테이지 구동 장치(TSTD)로서 나타내고 있다.

도 5에 있어서 X 스테이지부(181)의 -X 방향의 단부(端部)에 거의 Y축에 평행하게, Z 방향으로 겹쳐지도록 순차적으로, 내면에 대향하도록 Z 방향으로 똑같은 자장을 발생하기 위해 복수의 영구 자석이 배치된 단면 형상이 コ자형의 고정자(167)와, 거의 X축을 따라 권취(배열)된 코일을 포함하는 평판 상의 고정자(171)가 고정되고, 하측의 고정자(167) 내에 배치되도록 계측 테이블(MTB)의 Y 방향으로 떨어진 2개소에 각각 Y축에 따라 권취(배열)된 코일을 각각 포함하는 이동자(166A) 및 이동자(166B)가 고정되며, 위쪽의 고정자(171)를 Z 방향으로 끼우도록, 계측 테이블(MTB)에 Y 방향으로 소정 배열로 복수의 영구 자석이 배치된 단면 형상이 コ자형의 이동자(170)가 고정되어 있다. 그리고, 하측의 고정자(167)와 이동자(166A) 및 이동자(166B)로부터 각각 X 스테이지부(181)에 대해 계측 테이블(MTB)을 X 방향 및 θZ 방향으로 미소량 구동시키는 X축의 보이스 코일 모터(168A, 168B)(도 1 참조)가 구성되고, 위쪽의 고정자(171)와 이동자(170)로부터 X 스테이지부(181)에 대해 계측 테이블(MTB)을 Y 방향으로 구동시키는 Y축 리니어 모터(169)가 구성되어 있다.

또한, 계측 테이블(MTB) 상의 -X 방향 및 +Y 방향으로 각각 X축의 이동 거울(반사면)(55CX) 및 Y축의 이동 거울(반사면)(55CY)가 고정되어, 이동 거울(55CX)에 -X 방향으로 대향하도록 X축의 레이저 간섭계(56C)가 배치되어 있다. 이동 거울(55CX)과, 이동 거울(55CY)은, 도 1에서는 이동 거울(55C)로서 나타내고 있다. 레이저 간섭계(56C)는 복수축의 레이저 간섭계이고, 레이저 간섭계(56C)에 의해 항상, 계측 테이블(MTB)의 X 방향의 위치 및 θZ 방향의 회전 각도 등이 계측된다. 또한, 이동 거울(55CX), 이동 거울(55CY) 대신에, 예컨대 계측 스테이지(MST)의 측면 등을 경면 가공하여 형성되는 반사면을 이용하여도 좋다.

한쪽, 도 5에 있어서, Y 방향의 위치 계측용의 레이저 간섭계(56BY)는, 기판 스테이지(PST) 및 계측 스테이지(MST)에서 공용된다. 즉, X축의 2개의 레이저 간섭계(56BX, 56C)의 광축은, 투영 광학계(PL)의 투영 영역(AR1)의 중심[본 예에서는 도 1의 광축(AX)과 일치]을 통과하는 X축에 평행이고, Y축의 레이저 간섭계(56BY)의 광축은, 그 투영 영역의 중심(광축(AX))을 통과하는 Y축에 평행이다. 그 때문에, 통상, 주사 노광을 행하기 위해, 기판 스테이지(PST)를 투영 광학계(PL)의 아래쪽으로 이동했을 때에는, 레이저 간섭계(56BY)의 레이저 빔은 기판 스테이지(PST)의 이동 거울(55BY)에 조사되고, 레이저 간섭계(56BY)에 의해 기판 스테이지(PST)[기판(P)]의 Y 방향의 위치가 계측된다. 그리고, 예컨대 투영 광학계(PL)의 결상 특성 등을 계측하기 위해, 계측 스테이지(MST)의 계측 테이블(MTB)을 투영 광학계(PL)의 아래쪽으로 이동했을 때에는, 레이저 간섭계(56BY)의 레이저 빔은 계측 테이블(MTB)의 이동 거울(55CY)에 조사되어, 레이저 간섭계(56BY)에 의해 계측 테이블(MTB)의 Y 방향의 위치가 계측된다. 이에 따라, 항상 투영 광학계(PL)의 투영 영역의 중심을 기준으로 하여 고정밀도로 기판 스테이지(PST) 및 계측 테이블(MTB)의 위치를 계측할 수 있고, 고정밀도로 고가의 레이저 간섭계의 수를 감하여, 제조 비용을 저감할 수 있다.

또한, 기판 스테이지(PST)용의 Y축 리니어 모터 및 계측 테이블(MTB)용의 Y축 리니어 모터(169)에 따라 각각 광학식 등의 리니어 인코더(도시하지 않음)가 배치되어 있고, 레이저 간섭계(56BY)의 레이저 빔이 이동 거울(55BY) 또는 이동 거울(55CY)에 조사되어 있지 않은 기간에서는, 기판 스테이지(PST) 또는 계측 테이블(MTB)의 Y 방향의 위치는 각각 상기한 리니어 인코더에 의해 계측된다.

도 1로 되돌아가, 계측 테이블(MTB)의 2차원 방향의 위치 및 회전각은, 레이저 간섭계(56C) 및 도 5의 레이저 간섭계(56BY)[또는 리니어 인코더)로 계측되어, 계측 결과는 제어 장치(CONT)에 출력된다. 제어 장치(CONT)는 그 계측 결과에 기초하여 계측 스테이지 구동 장치(TSTD), 리니어 모터(169) 및 보이스 코일 모터(168A, 168B)를 구동함으로써, 계측 스테이지(MST) 중의 계측 테이블(MTB)의 이동 또는 위치 결정을 행한다.

또한, 레벨링 테이블(188)은 각각, 예컨대 에어 실린더 또는 보이스 코일 모터 방식으로 Z 방향의 위치를 제어할 수 있는 3개의 Z축 액츄에이터를 구비하고, 통상은 계측 테이블(MTB)의 상면(上面)이 투영 광학계(PL)의 상면(像面)에 집점되도록, 레벨링 테이블(188)에 의해 계측 테이블(MTB)의 Z 방향의 위치, θX 방향, θY 방향의 각도가 제어된다. 그 때문에, 노즐 부재(30)의 근방에는, 투영 영역(AR1) 내 및 그 근방의 기판(P)의 상면 등의 피검면의 위치를 계측하기 위한 오토포커스 센서(도시하지 않음)가 설치되고, 이 오토포커스 센서의 계측치에 기초하여, 제어 장치(CONT)가 레벨링 테이블(188)의 동작을 제어한다. 또한, 도시하지 않지만, X 스테이지부(181)에 대한 레벨링 테이블(188)의 X 방향, Y 방향, θZ 방향 의 위치를 소정 위치에 유지하기 위한 액츄에이터도 설치된다.

또한, 오토포커스 센서는 그 복수의 계측점에서 각각 피검면의 Z 방향의 위치 정보를 계측하는 것으로, θX 및 θY 방향의 경사 정보(회전각)도 검출하는 것이지만, 이 복수의 계측점은 그 적어도 일부가 액침 영역(AR2)[또는 투영 영역(AR1)] 내에 설정되어도 좋고, 혹은 그 모두가 액침 영역(AR2)의 외측에 설정되어도 좋다. 또한, 예컨대 레이저 간섭계(56B), 레이저 간섭계(56C)가 피검면의 Z축, θX 및 θY 방향의 위치 정보를 계측할 수 있을 때는, 기판(P)의 노광 동작 중에 그 Z 방향의 위치 정보가 계측 가능해지도록 오토포커스 센서는 설치하지 않아도 좋고, 적어도 노광 동작 중에는 레이저 간섭계(56B, 56C)의 계측 결과를 이용하여 Z축, θX 및 θY 방향에 관한 피검면의 위치 제어를 행하도록 하여도 좋다.

본 예의 계측 테이블(MTB)은 노광에 관한 각종 계측을 행하기 위한 계측기류(계측 부재)를 구비하고 있다. 즉, 계측 테이블(MTB)은 리니어 모터(169)의 이동자 등 및 이동 거울(55C)이 고정되는 계측 테이블 본체(159)와, 이 상면에 고정되어, 예컨대 석영 유리 등의 저팽창률의 광 투과성의 재료로 이루어지는 플레이트(101)를 구비하고 있다. 이 플레이트(101)의 표면에는 거의 전면에 걸쳐 크롬막이 형성되고, 여기 저기에 계측기용의 영역이나, 일본 특허 공개 평5-21314호 공보(대응하는 미국 특허 제5,243,195호) 등에 개시되는 복수의 기준 마크가 형성된 기준 마크 영역(FM)이 설치된다.

도 5에 도시한 바와 같이, 플레이트(101) 상의 기준 마크 영역(FM)에는, 도 1의 마스크용의 얼라이먼트 센서(AS)용의 한쌍의 기준 마크(FM1, FM2) 및 투영 광 학계(PL)의 측면에 배치된 기판용의 얼라이먼트 센서(ALG)용의 기준 마크(FM3)가 형성되어 있다. 이들의 기준 마크의 위치를, 대응하는 얼라이먼트 센서로 각각 계측함으로써, 투영 광학계(PL)의 투영 영역(AR1)의 투영 위치와 얼라이먼트 센서(ALG)의 검출 위치와의 간격(위치 관계)인 베이스 라인량을 계측할 수 있다. 이 베이스 라인량의 계측 시에는, 플레이트(101) 상에도 액침 영역(AR2)이 형성된다. 또한, 얼라이먼트 센서(AS, ALG)는 각각 화상 처리 방식이라도 좋고, 혹은 코히어런트 빔의 조사에 의해 마크로부터 발생하는 회절광을 검출하는 방식 등이라도 좋다.

플레이트(101) 상의 계측기용의 영역에는, 각종 계측용 개구 패턴이 형성되어 있다. 이 계측용 개구 패턴으로서는, 예컨대 공간 상 계측용 개구 패턴(예컨대 슬릿형 개구 패턴), 조명 불균일 계측용 핀홀 개구 패턴, 조도 계측용 개구 패턴 및 파면 수차 계측용 개구 패턴 등이 있고, 이들의 개구 패턴의 저면측의 계측 테이블 본체(159) 내에는, 대응하는 계측용 광학계 및 광전 센서로 이루어지는 계측기가 배치되어 있다.

그 계측기의 일례는, 예컨대 일본 특허 공개 소57-117238호 공보(대응하는 미국 특허 제4,465,368호 명세서) 등에 개시되는 조도 불균일 센서, 예컨대 일본 특허 공개 제2002-14005호 공보(대응하는 미국 특허 출원 공개 제2002/0041377호 명세서) 등에 개시되는, 투영 광학계(PL)에 의해 투영되는 패턴의 공간상(투영상)의 광강도를 계측하는 공간상 계측기, 예컨대 일본 특허 공개 평11-16816호 공보(대응하는 미국 특허 출원 공개 제2002/0061469호 명세서) 등에 개시되는 조도 모 니터 및 예컨대 국제 공개 제99/60361호 팜플렛(대응하는 유럽 특허 제1,079,223호 명세서) 등에 개시되는 파면수차 계측기이다.

또한, 본 예에서는, 투영 광학계(PL)와 액체(1)를 통해 노광광(EL)에 의해 기판(P)을 노광하는 액침 노광이 행해지는 것에 대응하여, 노광광(EL)을 이용하는 계측에 사용되는 상기한 조도 불균일 센서, 조도 모니터, 공간상 계측기, 파면수차 계측기 등에서는, 투영 광학계(PL) 및 액체(1)를 통해 노광광(EL)을 수광하는 것이 된다. 이 때문에, 플레이트(101)의 표면에는 발액 코트가 실시되고 있다.

[세정액을 분출하는 기구의 설명]

도 4는 계측 스테이지(MST)에 장착된 세정액의 분출 기구를 도시하고, 이 계측 테이블(MTB)을 단면으로 한 도 4에 있어서, 계측 테이블 본체(159)의 상면의 2개소에 오목부(60A) 및 오목부(60B)가 형성되고, 제1 오목부(60A)의 상부의 플레이트(101)에는 개구(101a)가 형성되고, 제2 오목부(60B)의 상부의 플레이트(101)의 영역(101b)에는, 차광막 및 발액 코트는 형성되어 있지 않다. 따라서, 영역(101b)에서는 조명광이 플레이트(101)를 통과할 수 있다.

그리고, 제1 오목부(60A)의 중앙부에, 바닥부로부터 공급된 세정액을 분사구(90a)로부터 위쪽으로 고속으로 분사하기 위한 제트 노즐부(90)가 고정되고, 제트 노즐부(90)의 바닥부의 액체의 유입구는, 계측 테이블 본체(159) 내의 공급 유로(86) 및 외부의 가요성을 갖는 배관(63A)을 통해 세정액의 분출 장치(62)에 접속되어 있다. 즉, 본 실시형태에서는 세정 기구가 도 4에 도시한 분출 기구를 구비하고, 세정액의 분출에 의해 액체(1)와 접하는 접액부를 세정한다. 또한, 세정액을 분출하는 형태로서 본 예에서는, 그 세정액을 고압으로 분사하여 고압 세정을 행하는 것으로 하고 있다. 또한, 적어도 액침 노광 시에 액체(1)와 접하는 접액부의 전부를 세정하여도 좋지만, 본 실시형태에서는 접액부의 일부, 예컨대 노즐 부재(30)의 하면의 일부만을 세정하는 것으로 하고 있다. 또한, 그 세정액의 분출의 별도의 형태로서, 그 세정액을 안개형으로 분무하여도 좋다. 또한, 제트 노즐부(90)를 복수개 구비하여 이들을, 예컨대 일렬로 배치하여도 좋다. 또한, 제트 노즐부(90)의 분사구(90a)로부터의 세정액의 분출 방향을, 플레이트(101)의 상면에 대해 수직인 방향 이외의 경사 방향 등으로 설정하는 것도 가능하다. 즉, 플레이트(101)의 상면에 대한 세정액의 분출 각도는 90도에 한정되지 않고, 예컨대 액츄에이터에 의한 제트 노즐부(90)의 구동에 의해, 세정액의 분출 각도를 가변으로 하여도 좋다. 또한, 분출구(90a)로부터의 세정액을 소정의 각도 범위 내에서 넓혀 분출시켜도 좋다. 또한, 접액부에 관한 정보, 예컨대 세정 개소 및/또는 오염의 정도에 따라, 분출 기구에 의한 접액부의 세정 조건, 예컨대 제트 노즐부(90)로부터 분사되는 세정액의 종류(전술의 혼합비, 용존 기체의 농도 등도 포함함), 압력, 분출 패턴, 또는 온도 등을 변화시켜도 좋다. 이 경우, 변화시키는 세정 조건은 하나에 한정되지 않고 복수라도 좋다. 또한, 세정 조건은 세정액의 특성과 분출 조건 중 적어도 하나에 한정되는 것은 아니고, 세정 기구는 반드시 분출 기구를 구비하고 있지 않아도 좋다.

분출 장치(62)는, 세정액의 축적부(62a), 이 축적부(62a)에서 공급된 세정액의 온도를 소정 온도(예컨대 고온 등)로 제어하는 온도 제어부(62b) 및 온도 제어 된 세정액을 고압으로 배관(63A)측으로 송출하는 가압부(62c)로 구성되고, 축적부(62a), 온도 제어부(62b) 및 가압부(62c)의 동작은 컴퓨터를 포함하는 제어부(61)에 의해 제어되고 있다. 예컨대 피세정부의 오염이 많은 경우에는, 세정액의 온도를 높게 하여도 좋다. 또한, 배관(63A)의 도중에 가요성을 갖는 배관(63B)을 통해, 기체 및 세정액을 혼합하여 분출하는 혼합 분출 장치(66)가 접속되어 있다. 혼합 분출 장치(66)는, 예컨대 클린룸 내의 공기를 덕트(66c) 및 내부의 제진 필터를 통해 받아들이는 기체 흡인부(66a)와, 혼합 가압부(66b)로 구성되어 있다. 혼합 가압부(66b)는 기체 흡인부(66a)에서 공급되는 기체와, 분출 장치(62)의 온도 제어부(62b)에서 배관(63D)을 통해 공급되는 온도 제어된 세정액을 혼합하여 소정 압력으로 배관(63B) 측에 송출한다. 기체 흡인부(66a) 및 혼합 가압부(66b)의 동작은 제어부(61)에 의해 제어되고 있다.

또한, 배관(63A) 및 배관(63B)에는 각각 밸브(64A) 및 밸브(64B)가 장착되어 있고, 제어부(61)는, 분출 장치(62)를 이용할 때에는, 밸브(64B)를 폐쇄하고 밸브(64A)를 개방하며, 혼합 분출 장치(66)를 이용할 때에는, 밸브(64A)를 폐쇄하고 밸브(64B)를 개방한다. 또한, 계측 스테이지(MST)의 이동에 의해 배관(63A) 및 배관(63B)이 빈번하게 굴곡하여 내부의 액체가 누설될 우려를 고려하여, 밸브(64A), 밸브(64B)[후술의 밸브(64C)도 동일함]는 될 수 있는 한 계측 테이블(MTB)에 가까운 위치에 설치하는 것이 바람직하다.

또한, 오목부(60A)의 저면이, 계측 테이블 본체(159) 내의 회수 유로(87) 및 외부의 가요성을 갖는 배관(63C)을 통해 액체의 회수 장치(65)에 접속되고, 배 관(63C)에도 개폐용의 밸브(64C)가 장착되어 있다. 회수 장치(65)는, 흡인용의 펌프, 제진용의 필터부 및 회수된 액체의 축적부를 포함하고, 그 동작 및 밸브(64C)의 개폐는 제어부(61)에 의해 제어되어 있다. 본 예에서는, 오목부(60A) 내에 들어가는 세정액 등[액침 영역(AR2)을 형성하는 액체를 포함함]를 회수 장치(65)에 의해 회수한다. 또한, 오목부(60A) 내에 들어가는 세정액 등을 도 1의 액체 회수부(21)에 의해 노즐 부재(30)를 통해 흡인 회수하는 것도 가능하다. 이 경우에는 회수 장치(65), 배관(63C) 및 회수 유로(87)를 포함하는 계측 스테이지(MST) 측의 세정액 등의 회수 기구는 생략하는 것도 가능하다.

또한, 도 4의 계측 테이블 본체(159) 상의 제2 오목부(60B) 내에는, 대물 렌즈(67a, CCD) 등의 2차원의 촬상 소자(67b) 및 피검면(DP)을 조명하는 도시하지 않은 조명계를 포함하는 관찰 장치(67)가 배치되어 있다. 촬상 소자(67b)의 촬상 신호는 제어부(61)를 통해 도 1의 제어 장치(CONT)의 화상 처리계에 공급되고, 이 화상 처리계에서는, 그 촬상 신호(피검면(DP)의 화상)에 기초하여, 제트 노즐부(90)에 의한 세정 대상의 부재의 위치의 확인 및 오염의 정도의 확인 등을 행한다. 또한, 본 예에서는 도 5에 있어서, 기준 마크(FM1∼FM3)와 오목부(60A)의 위치 관계는 기지이며, 또한 얼라이먼트 센서(ALG)에 의해 기준 마크(FM1∼FM3)를 검출하여 도 1의 노즐 부재(30)와의 위치 관계도 계측할 수 있기 때문에, 이 계측 결과로부터 도 4의 제트 노즐부(90)와 도 1의 노즐 부재(30)(세정 대상)와의 위치 관계도 고정밀도로 구할 수 있다. 따라서, 관찰 장치(67)는 반드시 설치할 필요는 없다. 또한, 계측 스테이지(MST)에 관찰 장치(67)를 설치하는 경우, 관찰 장치(67)의 일 부, 예컨대 전술의 조명계를 계측 스테이지(MST)의 외부에 배치하여도 좋다.

도 4의 분출 장치(62)로부터 분출되는 세정액으로서는, 도 1의 세정액 공급부(26)로부터 공급되는 세정액과 동일하게, 예컨대 물과 신나의 혼합액, γ-부틸락톤 또는 IPA 등의 용제, 혹은 전술한 액체(1)를 포함하는 액체 등을 사용하는 것이 가능하다. 본 실시형태에서는, 분출 장치(62)로부터 분출되는 세정액은, 세정액 공급부(26)로부터 공급되는 세정액과 동일 종류인 것으로 한다. 그리고, 제어부(61)에 의한 분출 장치(62), 혼합 분출 장치(66), 회수 장치(65)의 동작의 제어 및 밸브(64A∼64C)의 개폐 동작 및 이들의 동작에 대응하는 계측 스테이지(MST)의 동작은, 도 1의 제어 장치(CONT)에 의해 통괄적으로 제어된다. 또한, 분출 장치(62)의 세정액의 축적부(62a)를 자유롭게 착탈 가능한 카세트 방식의 용기로서, 회수 장치(65)[또는 도 1의 액체 회수부(21)]에서 회수된 액체를 제진 필터를 통해 그 카세트 방식의 용기에 복귀시켜, 이 회수된 액체를 세정액으로서 재사용하여도 좋다. 또한, 분출 장치(62)와 세정액 공급부(26)에서 세정액의 종류를 다르게 하여도 좋다. 예컨대, 세정액 공급부(26)는 IPA 등의 용제를 공급하고, 분출 장치(62)는 액체(1) 그 자체를 분출하여도 좋다. 또한, 세정 기구는 그 일부를, 예컨대 노광 장치(EX)가 설치되는 공장 등의 설비로 대용하여도 좋다. 또한, 세정 기구는 상기 구성에 한정되는 것은 아니고, 예컨대 축적부(62a)를 설치하지 않아도 좋다.

[노광 공정의 설명]

도 1에 있어서, 기판(P) 상에는 복수의 쇼트 영역이 설정되어 있고, 본 예의 제어 장치(CONT)는 투영 광학계(PL)의 광축(AX)[투영 영역(AR1)]에 대해 기판(P)이 소정 경로를 따라 진행하도록, 레이저 간섭계(56B)의 출력을 모니터하면서 기판 스테이지(PST)를 이동하여, 복수의 쇼트 영역을 순차적으로 스텝·앤드·스캔 방식으로 노광한다. 즉, 노광 장치(EX)에 의한 주사 노광 시에는, 투영 광학계(PL)에 의한 직사각형의 투영 영역(AR1)에 마스크(M)의 일부의 패턴상이 투영되고, 마스크(M)의 조명 영역에 대해 X 방향으로 속도(V)로 이동하는 것에 동기하여, 기판 스테이지(PST)를 통해 기판(P)이 투영 영역(AR1)에 대해 X 방향으로 속도(β·V)(β는 투영 배율)로 이동한다. 그리고, 기판(P) 상의 하나의 쇼트 영역에의 노광 종료 후에, 기판(P)의 스텝 이동에 의해 다음 쇼트 영역이 주사 개시 위치로 이동하여, 이하, 도 5에 도시한 바와 같이, 스텝·앤드·스캔 방식으로 기판(P)을 이동하면서 각 쇼트 영역에 대한 주사 노광 처리가 순차적으로 행해진다.

기판(P)의 노광 처리 중, 도 1의 제어 장치(CONT)는 액체 공급 기구(10)를 구동하여, 기판(P) 상에 대한 액체 공급 동작을 행한다. 액체 공급 기구(10)의 액체 공급부(11)로부터 송출된 액체(1)는 공급관(12)을 유통한 후, 노즐 부재(30) 내부에 형성된 공급 유로(82A), 공급 유로(82B)를 통해 기판(P) 상에 공급된다.

기판(P) 상에 공급된 액체(1)는 기판(P)의 움직임에 맞추어 투영 광학계(PL)의 아래를 흐른다. 예컨대, 어떤 쇼트 영역의 노광 중에 기판(P)이 +X 방향으로 이동하고 있을 때에는, 액체(1)는 기판(P)과 동일한 방향인 +X 방향으로, 거의 기판(P)과 동일한 속도로, 투영 광학계(PL)의 아래를 흐른다. 이 상태로, 조명 광학계(IL)로부터 사출되어 마스크(M)를 통과한 노광광(EL)이 투영 광학계(PL)의 상면측에 조사되어, 이에 따라 마스크(M)의 패턴이 투영 광학계(PL) 및 액침 영역(AR2) 의 액체(1)를 통해 기판(P)에 노광된다. 제어 장치(CONT)는, 노광광(EL)이 투영 광학계(PL)의 상면측에 조사되어 있을 때에, 즉 기판(P)의 노광 동작 중에, 액체 공급 기구(10)에 의한 기판(P) 상에의 액체(1)의 공급을 행한다. 노광 동작 중에 액체 공급 기구(10)에 의한 액체(1)의 공급을 계속하는 것으로 액침 영역(AR2)은 양호하게 형성된다. 한쪽, 제어 장치(CONT)는, 노광광(EL)이 투영 광학계(PL)의 상면측에 조사되어 있을 때에, 즉 기판(P)의 노광 동작 중에, 액체 회수 기구(20)에 의한 기판(P) 상의 액체(1)의 회수를 행한다. 노광 동작 중에[노광광(EL)이 투영 광학계(PL)의 상면측에 조사되어 있을 때에], 액체 회수 기구(20)에 의한 액체(1)의 회수를 계속적으로 실행함으로써, 액침 영역(AR2)의 확대를 억제할 수 있다.

본 예에 있어서, 노광 동작 중, 액체 공급 기구(10)는 공급구(13) 및 공급구(14)로부터 투영 영역(AR1)의 양측에서 기판(P) 상에의 액체(1)의 공급을 동시에 행한다. 이에 따라, 공급구(13) 및 공급구(14)로부터 기판(P) 상에 공급된 액체(1)는 투영 광학계(PL)의 종단부의 광학 소자(2)의 하단면과 기판(P)과의 사이 및 노즐 부재(30)[제1 부재(31)]의 하면과 기판(P)과의 사이에서 양호하게 넓어지고, 액침 영역(AR2)을 적어도 투영 영역(AR1)보다 넓은 범위로 형성한다. 또한, 만일 공급구(13) 및 공급구(14)가 별도의 액체 공급부에 접속되어 있는 경우에는, 주사 방향에 관해, 투영 영역(AR1)의 자기 앞으로부터 공급하는 단위 시간당의 액체 공급량을, 그 반대측에서 공급하는 액체 공급량보다도 많게 설정하여도 좋다.

또한, 노광 동작 중, 액체 회수 기구(20)에 의한 액체(1)의 회수 동작을 행하지 않고, 노광 완료 후, 회수관(22)의 유로를 개방하여, 기판(P) 상의 액체(1)를 회수하도록 하여도 좋다. 일례로서, 기판(P) 상의 어느 하나의 쇼트 영역의 노광 완료 후에 있어, 다음 쇼트 영역의 노광 개시까지의 일부의 기간(스텝 기간의 적어도 일부)에 있어서만, 액체 회수 기구(20)에 의해 기판(P) 상의 액체(1)의 회수를 행하도록 하여도 좋다.

제어 장치(CONT)는 기판(P)의 노광 중, 액체 공급 기구(10)에 의한 액체(1)의 공급을 계속한다. 이와 같이 액체(1)의 공급을 계속함으로써, 투영 광학계(PL)와 기판(P)과의 사이를 액체(1)로 양호하게 채울 수 있을 뿐 만 아니라, 액체(1)의 진동(소위 워터 해머 현상)의 발생을 방지할 수 있다. 이와 같이 하여, 기판(P)의 모든 쇼트 영역에 액침법으로 노광을 행할 수 있다.

또한, 예컨대 기판(P)의 교환 중, 제어 장치(CONT)는 계측 스테이지(MST)를 투영 광학계(PL)의 광학 소자(2)와 대향하는 위치로 이동하여, 계측 스테이지(MST) 상에 액침 영역(AR2)을 형성한다. 이 경우, 기판 스테이지(PST)와 계측 스테이지(MST)를 근접시킨 상태로 이동하여, 한쪽의 스테이지와의 교환으로 다른쪽의 스테이지를 광학 소자(2)와 대향하여 배치하는 것으로, 기판 스테이지(PST)와 계측 스테이지(MST)와의 사이에서 액침 영역(AR2)을 이동한다. 제어 장치(CONT)는 계측 스테이지(MST) 상에 액침 영역(AR2)을 형성한 상태로 계측 스테이지(MST)에 탑재되어 있는 적어도 하나의 계측기(계측 부재)를 사용하여, 노광에 관한 계측(예컨대, 베이스 라인 계측)을 실행한다.

또한, 액침 영역(AR2)을, 기판 스테이지(PST)와 계측 스테이지(MST)와의 사이에서 이동하는 동작 및 기판(P)의 교환 중에 있어서의 계측 스테이지(MST)의 계 측 동작의 상세는, 국제 공개 제2005/074014호 팜플렛(대응하는 유럽 특허 출원 공개 제1713113호 명세서), 국제 공개 제2006/013806호 팜플렛 등에 개시되어 있다. 또한, 기판 스테이지와 계측 스테이지를 구비한 노광 장치는, 예컨대 일본 특허 공개 평11-135400호 공보(대응하는 국제 공개 제1999/23692호 팜플렛), 일본 특허 공개 제2000-164504호 공보(대응하는 미국 특허 제6,897,963호)에 개시되어 있다. 지정국 및 선택국의 국내 법령이 허용하는 한, 미국 특허 제6,897,963호의 개시를 원용하여 본문의 기재의 일부로 한다.

[세정 동작의 설명]

상기와 같은 노광 공정에서, 도 1의 기판(P)과 액침 영역(AR2)의 액체(1)가 접촉하면, 기판(P)의 일부의 성분이 액체(1) 중에 용출하는 경우가 있다. 예컨대, 기판(P) 상의 감광성 재료로서 화학 증폭형 레지스트가 사용되고 있는 경우, 그 화학 증폭형 레지스트는 베이스 수지, 베이스 수지 중에 포함되는 광산발생제(PAG: Photo Acid Generator) 및 캔쳐(quencher)라고 불리는 아민계 물질을 포함하여 구성되어 있다. 그와 같은 레지스트가 액체(1)에 접촉하면, 레지스트의 일부의 성분, 구체적으로는 PAG 및 아민계 물질 등이 액체(1) 중에 용출하는 경우가 있다. 또한, 기판(P)의 기재 자체(예컨대 실리콘 기판)와 액체(1)가 접촉한 경우에도, 그 기재를 구성하는 물질에 의해서는, 그 기재의 일부의 성분(실리콘 등)이 액체(1) 중에 용출할 가능성이 있다.

이와 같이, 기판(P)에 접촉한 액체(1)는 기판(P)으로부터 발생한 불순물이나 레지스트 잔재 등으로 이루어지는 파티클과 같은 미소한 이물을 포함하고 있을 가 능성이 있다. 또한 액체(1)는 대기 중의 진애나 불순물 등의 미소한 이물을 포함하고 있을 가능성도 있다. 따라서, 액체 회수 기구(20)에 의해 회수되는 액체(1)는 여러 가지의 불순물 등의 이물을 포함하고 있을 가능성이 있다. 그래서, 액체 회수부(21)는 회수한 액체(1)를 외부에 배출하고 있다. 또한, 회수한 액체(1)의 적어도 일부를 내부의 처리 장치로 청정하게 한 후, 그 청정화된 액체(1)를 액체 공급부(11)에 복귀하여도 좋다.

또한, 액침 영역(AR2)의 액체(1)에 혼입한 그와 같은 파티클 등의 이물 중에, 도 1의 노즐 부재(30)의 회수구(24)에 설치된 메쉬 필터(25)의 메쉬보다도 큰 이물 등은, 메쉬 필터(25)의 표면(외면) 등에 부착하여 잔류할 우려가 있다. 또한, 메쉬 필터(25) 이외의 노즐 부재(30)의 접액 영역 등에도 이물이 부착하는 경우가 있다. 이와 같이 잔류한 이물은, 기판(P)의 노광 시에, 액침 영역(AR2)의 액체(1)에 다시 혼입할 우려가 있다. 액체(1)에 혼입한 이물이 기판(P) 상에 부착하면, 기판(P)에 형성되는 패턴에 형상 불량 등의 결함이 생길 우려가 있다.

그래서, 본 예의 노광 장치(EX)는, 예컨대 액체 공급 기구(10) 및 액체 회수 기구(20)의 정기적 또는 오퍼레이터 등에 의해 요구되는 메인터넌스 시에, 노즐 부재(30)에 잔류한 이물의 세정을, 도 9(A)의 시퀀스에 따라 이하와 같이 실행한다. 또한, 액체 회수부(21)에서 회수되는 액체의 파티클의 레벨을 항상 모니터하여, 그 파티클의 레벨이 소정의 허용 범위를 넘었을 때에 이하의 세정 동작을 포함하는 메인터넌스를 실행하도록 하여도 좋다. 예컨대, 회수관(22)의 도중에 분기관을 통해 이물(파티클)의 수를 계측하는 파티클 카운터를 설치하여, 회수되는 액체 중의 파 티클수를 모니터하여도 좋다. 파티클 카운터는, 일례로서, 회수되는 액체로부터 소정의 샘플링 레이트로 소정 용량의 액체를 추출하여, 추출한 액체에 레이저 빔을 조사하여, 산란광의 화상을 화상 처리함으로써 그 액체중의 파티클수를 계측한다. 또한, 이하의 세정 동작을, 기판 스테이지(PST) 상의 기판(P)의 교환 중에 수시 행하도록 하여도 좋다. 또한, 예컨대 미리 도 4의 관찰 장치(67)를 이용하여 노즐 부재(30)의 오염이 많은 부분을 검출해 두고, 그 세정 동작 시에는, 그 오염이 많은 부분만을 세정하도록 하여도 좋다.

이 세정 동작에 있어서, 노광광(EL)의 조사를 정지한 상태로, 도 9(A)의 단계(301)에 있어서, 도 6에 도시한 바와 같이, 기판 스테이지(PST) 상의 기판 홀더(PH)에 대해 계측 스테이지(MST)의 계측 테이블(MTB)을 밀착(또는 근접)시킨다. 다음으로, 기판 스테이지(PST) 및 계측 테이블(MTB)[계측 스테이지(MST)]을 동시에 +X 방향으로 이동하고, 투영 광학계(PL)의 바로 아래에 계측 테이블(MTB)의 오목부(60A)를 이동한다(이동 공정). 이 후, 기판 스테이지(PST)는 +X 방향으로 더 대피시켜도 좋다. 이 결과, 도 7(A)에 도시한 바와 같이, 투영 광학계(PL)의 선단의 광학 소자(2)를 둘러싸도록 지지 부재(33A) 및 지지 부재(33B)(발액 코트가 실시되고 있음)에 의해 도시하지 않은 칼럼 기구에 지지되어 있는 노즐 부재(30)의 회수구(24)[메쉬 필터(25)]의 저면에, 계측 테이블(MTB) 상의 오목부(60A) 내의 제트 노즐부(90)가 이동한다.

이 상태로, 액침법에 의한 노광 시와 동일하게[단, 노광광(EL)은 조사되지 않음], 단계(302)에 있어서, 도 1의 액체 공급 기구(10)로부터 노즐 부재(30)의 공 급구(13) 및 공급구(14)를 통해, 투영 광학계(PL)의 광학 소자(2) 및 이것을 둘러싸는 노즐 부재(30)의 저면과 계측 테이블(MTB)의 상면과의 사이에 액체(1)를 공급하고, 도 7(B)에 도시한 바와 같이, 액침 영역(AR2)을 형성한다(액침 공정). 이 때에, 액침 영역(AR2)이 노즐 부재(30)의 외측으로 넓어지지 않도록, 도 1의 밸브(28)를 폐쇄하고 밸브(23)를 개방하며, 액침 영역(AR2) 내의 액체(1)를 액체 회수 기구(20)에 의해 회수한다. 또한, 액체(1)가 오목부(60A) 내에도 유입하기 때문에, 필요에 따라, 도 4의 밸브(64C)를 개방하여, 오목부(60A) 내의 액체(1)를 회수 유로(87) 및 도 4의 배관(63C)을 통해 회수 장치(65)로 회수하여도 좋다. 이와 같이 미리 액침 영역(AR2)을 형성함으로써, 노즐 부재(30)에 부착한 이물의 박리가 용이하게 된다. 또한, 분출 장치(62)로부터 분사되어 노즐 부재(30)에 맞닿은 세정액의 비산 등을 억제하는 것도 가능해진다. 이 상태로, 도 1의 액체 회수 기구(20)에 의한 액침 영역(AR2)으로부터의 액체(1)의 회수를 정지하여, 액체 공급 기구(10)로부터의 액침 영역(AR2)에 대한 액체(1)의 공급을 정지한다. 계측 테이블(MTB)의 상면의 발액성 및 액체(1)의 표면 장력에 의해, 광학 소자(2) 및 노즐 부재(30)의 저면과 계측 테이블(MTB) 사이에는 액침 영역(AR2)이 유지된다.

다음으로, 도 4의 분출 장치(62)를 사용하는 것으로서, 단계(303)에 있어서, 제어부(61)의 제어에 의해, 밸브(64B)를 폐쇄하고 밸브(64A)를 개방하며, 분출 장치(62)로부터 배관(63A), 공급 유로(86) 및 제트 노즐부(90)를 통해, 도 7(C)에 도시한 바와 같이, 노즐 부재(30)의 회수구(24) 내의 메쉬 필터(25)를 향해 세정액(1B)을 분사한다. 이것과 병행하여, 오목부(60A) 내에 유입하는 세정액(1B)을, 회수 유로(87) 및 도 4의 배관(63C)을 통해 회수 장치(65)로 회수한다. 그리고, 이와 같이 제트 노즐부(90)로부터의 세정액(1B)의 분사 및 오목부(60A) 내의 세정액(1B)의 회수를 행하면서, 도 4의 계측 스테이지(MST)를 X 방향, Y 방향으로 구동함으로써, 도 7(C)에 도시한 바와 같이, 제트 노즐부(90)를 노즐 부재(30)의 직사각형의 프레임형의 회수구(24) 및 공급구(13) 및 공급구(14)를 따라 상대 이동한다. 이에 따라, 메쉬 필터(25) 및 공급구(13) 및 공급구(14)의 전체면에 세정액(1B)이 분사된다(세정 공정). 또한, 도 7(D)에 도시한 바와 같이, 노즐 부재(30)의 저면의 일부에서 계측 테이블(MTB)의 상면이 떨어지는 경우에는, 액침 영역(AR2) 내의 액체(1)를 도 1의 액체 회수 기구(20)에 의해 회수해 두어도 좋다.

이 결과, 노즐 부재(30) 내의 메쉬 필터(25)[회수구(24)] 및 공급구(13) 및 공급구(14) 내에 부착하고 있는 이물의 대다수는, 세정액(1B) 내에 혼입 또는 용해한다. 그리고, 이들 이물은 세정액(1B)과 함께 도 4의 회수 장치(65)에 회수된다. 또한, 필요에 따라, 도 7(A)로부터 도 7(D)까지의 세정 동작을 복수회 반복하여도 좋다. 또한, 도 7(B)의 액침 영역(AR2)에의 액체(1)의 공급 및 회수 동작[단계(302)]과, 도 7(C)의 제트 노즐부(90)로부터의 세정액(1B)의 분사 동작[단계(303)]을 적어도 부분적으로 병행하여 실행하여도 좋다. 또한, 회수 장치(65)에 의한 세정액(1B)의 회수 대신에, 혹은 그것과 병행되어, 액체 회수 기구(20)에 의한 세정액(1B)의 회수를 행하여도 좋다. 또한, 세정 동작[특히 세정액(1B)의 분사 동작] 중에, 액침 영역(AR2)에의 액체(1)의 공급 및 회수 동작을 계속적으로 행하여도 좋다.

본 예의 세정 동작의 작용 등을 정리하면 이하와 같이 된다.

(A1) 도 7(C)에 도시한 바와 같이, 세정액(1B)이 노즐 부재(30)의 회수구(24) 및 공급구(13) 및 공급구(14)에 공급되기 때문에, 액침법으로 노광을 행할 때에 노즐 부재(30) 내에 축적되는, 혹은 그 표면에 퇴적되는 이물의 적어도 일부를 세정액(1B)과 함께 제거할 수 있다. 이 때에, 미리 또는 부분적으로 병행되어 액침 영역(AR2)을 형성하고 있기 때문에, 노즐 부재(30)에 부착하고 있는 이물을 용이하게 박리하여 제거할 수 있다. 또한, 세정액의 비산 등에 의한 노광 장치의 오염을 방지할 수도 있다. 이 때문에, 효율적으로 액체 공급 기구(10) 및 액체 회수 기구(20)의 메인터넌스(나아가서는 노광 장치의 메인터넌스) 또는 노즐 부재(30)의 세정을 행할 수 있다. 그 결과, 그 후의 노광 공정에서, 기판(P) 상의 액침 영역(AR2)의 액체 중의 이물량이 감소하기 때문에, 전사되는 패턴의 형상 오차 등이 저감되어, 고정밀도로 노광을 행할 수 있다.

또한, 예컨대 도 1에 있어서 액체의 공급구(13) 및 공급구(14)와 회수구(24)가 별도의 노즐 부재에 설치되는 경우에는, 세정 공정에 있어서, 어느 한쪽의 노즐 부재의 세정만을 행하여도 좋다. 또한, 노광 장치(EX)에 있어서, 액침법에 의한 노광 시에 액체(1)에 접할 가능성이 있는 부분(접액부)의 적어도 일부를 포함하는 피세정부에, 제트 노즐부(90)로부터의 세정액을 분사하여도 좋다. 이에 의해서도, 그 후의 노광 시의 액체중의 이물량은 감소한다. 이 피세정부는, 메쉬 필터(25)[회수구(24)] 및 공급구(13) 및 공급구(14)를 제외하는 노즐 부재(30)의 다른 접액부에 한정되는 것은 아니고, 노즐 부재(30)와 다른 부재, 예컨대 광학 소자(2) 등의 접 액부로도 좋다.

(A2) 또한, 본 예에서는 세정액(1B)을 제트 노즐부(90)로부터 분사하고 있기 때문에, 노즐 부재(30)에 부착된 이물을 효율적으로 제거할 수 있다. 또한, 제트 노즐부(90)를 이용하지 않고, 단순한 분출구로부터 세정액(1B)을 피세정부를 향해 분출하여도 좋다. 또한, 예컨대 세정액(1B)에 의한 세정 효과를 높이기 위해, 세정액(1B)을 노즐 부재(30)에 분출하고 있을 때에, 계측 테이블(MTB)을 X 방향, Y 방향 및 Z 방향의 적어도 하나의 방향으로 진동시켜도 좋다. 전술의 세정 조건은, 계측 테이블(MTB)의 진동의 유무 및/또는 진동 조건을 포함하여도 좋다.

(A3) 또한, 본 예에서는 도 4의 분출 장치(62)로부터 공급되는 세정액을 제트 노즐부(90)로부터 분사하고 있지만, 도 4의 혼합 분출 장치(66)로부터 공급되는 세정액과 기체와의 혼합물을 제트 노즐부(90)로부터 분사하여도 좋다. 이 경우, 그 기포[캐비테이션 기포]에 의해 세정 효과를 높일 수 있다. 또한, 질소 등의 기체를 세정액에 용존시켜도 좋다.

(A4) 또한, 본 예의 노즐 부재(30)는 투영 광학계(PL)의 상면(像面)에 가장 가까운 광학 소자(2)를 둘러싸도록 배치되고, 노즐 부재(30)의 회수구(24)에 메쉬 필터(25)가 설치되며, 상기한 세정 공정에서는, 메쉬 필터(25) 등에 세정액(1B)이 분사된다. 이 때에, 광학 소자(2)의 하면에도 세정액(1B)을 분사하여도 좋다. 이에 따라, 광학 소자(2)에 부착된 이물도 제거할 수 있다.

(A5) 또한, 상기한 세정 동작은, 제트 노즐부(90)로부터 분사된 세정액(1B)을 회수하는 동작(회수 공정)을 포함하기 때문에, 이물이 혼입한 세정액(1B)을 외 부에 배출할 수 있다. 본 예에서는, 세정액(1B)의 회수 기구[도 4의 회수 장치(65)를 포함하는 기구]를 계측 스테이지(MST)측에 설치하고 있지만, 그 세정액의 흡인구를, 예컨대 노즐 부재(30)의 근방에 설치하여도 좋다. 이 경우, 그 흡인구로부터 세정액을 흡인하는 장치를 도 1의 액체 회수부(21)로 겸용하는 것도 가능하고, 이에 의해, 계측 스테이지(MST)(가동체)의 구성을 간소화할 수 있다.

(A6) 또한, 상기한 실시형태에서는, 액침 노광용의 액체(1)와 세정액(1B)과는 다른 종류이기 때문에, 세정액(1B)으로서 용제 등의 세정 효과가 높은 액체를 사용할 수 있다.

또한, 세정액(1B)으로서 액체(1) 그 자체를 이용하는 것도 가능하고, 이 경우에는, 도 1의 세정액 공급부(26) 및 도 4의 분출 장치(62)의 축적부(62a)를 도 1의 액체 공급부(11)로 겸용하는 것이 가능해져, 액체 및 세정액의 공급 기구의 구성을 간소화할 수 있다.

[다른 실시형태의 세정 동작의 설명]

다음으로, 본 발명의 실시형태의 다른 예에 대해 도 8을 참조하여 설명한다. 본 예의 노광 장치도 기본적으로 도 1의 노광 장치(EX)와 동일한 구성이지만, 본 예의 노광 장치에서는 노즐 부재(30)를 세정하기 위해 도 1의 계측 스테이지(MST) 측에 설치된 세정 기구가 다르다. 이하, 도 8에 있어서 도 4 및 도 7(A)에 대응하는 부분에는 동일 부호를 붙여 그 상세 설명을 생략한다.

도 8(A)은 본 예의 계측 스테이지(MST)(도 1 참조)의 계측 테이블(MTB) 및 투영 광학계(PL)의 광학 소자(2)를 둘러싸도록 설치된 노즐 부재(30)를 도시하는 단면도이고, 이 도 8(A)에 있어서, 액침법에 의한 노광 시에는, 노즐 부재(30)를 통해 도 1의 액체 공급 기구(10)로부터 액체(1)를 공급하고, 액체 회수 기구(20)에 의해 그 액체(1)를 회수함으로써, 투영 광학계(PL)의 광학 소자(2) 및 노즐 부재(30)의 저면과 이에 대향하는 기판(도시하지 않음)의 표면 사이의 공간을 포함하 도록 액침 영역(AR2)이 형성된다.

도 8(A)에 있어서, 계측 테이블 본체(MTB)의 상면의 X 방향(주사 방향)의 중앙부에서 계측 테이블(MTB)의 -X 방향의 측면에 걸쳐 회수 유로(87A)가 형성되고, 회수 유로(87A)의 도중에, 액체가 위쪽(+ Z 방향)으로 흐르지 않도록 하기 위한 역지 밸브(89)가 설치된다. 또한, 계측 테이블(MTB)의 상면의 회수 유로(87A)에 연통하는 개구의 근방에 오목부(60A)가 형성되고, 오목부(60A)의 중앙부에 제트 노즐부(90)가 고정되며, 오목부(60A)의 바닥부는 회수 유로(87B)에 의해 회수 유로(87A)의 역지 밸브(89)보다도 상부에 접속되어 있다.

또한, 오목부(60A) 내의 제트 노즐부(90)의 바닥부의 액체의 유입구는, 계측 테이블(MTB) 내의 공급 유로(86) 및 외부의 공급관(63E)을 통해 액체를 축적하기 위한 실린더부(91)에 연통하고 있다. 또한, 회수 유로(87A)는 계측 테이블(MTB)의 측면으로부터 제진 필터(88)가 장착된 회수관(63F)을 통해 실린더부(91)에 연통하고 있다. 실린더부(91)에는 도시하지 않는 구동부[도 4의 제어부(61)에 의해 제어됨]에 의해 눌려지는 피스톤부(92)가 장착되어, 피스톤부(92)를 당기는 것에 의해 실린더부(91) 내에 회수관(63F)을 통해 액침 영역(AR2)의 액체(1)를 축적할 수 있고, 피스톤부(92)를 누름으로써 실린더부(91) 내의 액체(1)를 공급관(63E)을 통해 제트 노즐부(90)로부터 위쪽으로 분사(분출)할 수 있다. 따라서, 회수 유로(87A), 역지 밸브(89), 회수관(63F), 실린더부(91), 피스톤부(92) 및 이 구동부(도시하지 않음)를 포함하여 액체(1)의 축적 기구가 구성되고, 제트 노즐부(90), 공급 유로(86), 공급관(63E), 실린더부(91), 피스톤부(92) 및 이 구동부(도시하지 않음)를 포함하여 액체(1)의 분출 장치가 구성되어 있다. 그 축적 기구 및 분출 장치를 포함하여 본 예의 세정 기구가 구성되어 있다.

또한, 본 예에서는, 그 회수관(63F), 실린더부(91), 피스톤부(92)를 포함하는 액체(1)의 축적 기구는, 회수 유로(87B)와 함께, 제트 노즐부(90)로부터 분사되어 오목부(60A) 내에 유입하는 액체의 회수 기구로서도 사용된다. 또한, 본 예에 있어서도, 예컨대 공급관(63E)과 실린더부(91) 사이에, 액체(1)의 온도를 제어하는 온도 제어부를 설치하고, 제트 노즐부(90)로부터 분사되는 액체의 온도를 제어하여도 좋다. 또한, 예컨대 공급관(63E)와 실린더부(91) 사이에, 액체(1)에 공기 등의 기체를 혼입(혹은 용존)하는 혼합부를 설치하여, 제트 노즐부(90)로부터 분사되는 액체에 기체(기포)를 혼입시켜도 좋다. 또한, 예컨대 신나, 혹은 IPA 등의 용제를 액체(1)에 혼입한 세정액을 제트 노즐부(90)로부터 분사하여도 좋다. 또한, 본 예의 세정 기구는 상기 구성에 한정되지 않는다.

다음으로, 예컨대 도 1의 액체 공급 기구(10) 및 액체 회수 기구(20)의 메인터넌스를 행할 때에, 본 예의 세정 기구를 이용하여 도 1의 노즐 부재(30)의 세정을 행하는 경우의 동작의 일례에 대해 도 8(A) 및 도 8(B)을 참조하여 설명한다.

우선, 도 8(A)에 도시한 바와 같이, 노광광(EL)의 조사를 정지한 상태로 계 측 스테이지(MST)를 구동하고, 투영 광학계(PL)의 저면에 계측 테이블(MTB)의 회수 유로(87A)의 개구를 이동한다(이동 공정). 이 상태에서는, 실린더부(91)의 피스톤부(92)는 한계까지 눌러지고, 실린더부(91)에는 액체(1)는 축적되어 있지 않은 것으로 한다. 계속해서, 액침법에 의한 노광 시와 동일하게[단, 노광광(EL)은 조사되지 않음], 도 1의 액체 공급 기구(10)로부터 노즐 부재(30)의 공급구(13) 및 공급구(14)를 통해 투영 광학계(PL)의 광학 소자(2) 및 이것을 둘러싸는 노즐 부재(30)의 저면과 계측 테이블(MTB)의 상면과의 사이에 액체(1)를 공급하여 액침 영역(AR2)을 형성한다(액침 공정). 그리고, 실린더부(91)의 피스톤부(92)를 점차로 한계까지 당겨서, 액침 영역(AR2) 내의 액체(1)를 회수 유로(87A) 및 회수관(63F)을 통해 실린더부(91) 내에 축적한다(축적 공정). 이 때에, 도 1의 액체 공급 기구(10)로부터는, 실린더부(91)의 용량 이상의 액체(1)를 공급한다.

다음으로, 도 8(B)에 도시한 바와 같이, 실린더부(91)의 피스톤부(92)를 점차로 눌러, 실린더부(91) 내에 축적된 액체(1)를, 공급관(63E), 공급 유로(86) 및 제트 노즐부(90)를 통해 노즐 부재(30)의 회수구(24) 내의 메쉬 필터(25)를 향해 분사한다. 그리고, 이와 같이 제트 노즐부(90)로부터의 액체(1)의 분사를 행하면서, 도 4의 계측 스테이지(MST)를 X 방향, Y 방향으로 구동함으로써, 도 8(B)에 도시한 바와 같이, 제트 노즐부(90)를 노즐 부재(30)의 직사각형의 프레임형의 회수구(24) 및 공급구(13) 및 공급구(14)에 따라 상대 이동한다. 이에 의해, 메쉬 필터(25) 및 공급구(13) 및 공급구(14)의 전체면에 액체(1)가 분사된다(세정 공정). 이 경우, 역지 밸브(89)가 설치되어 있기 때문에, 액체(1)가 회수 유로(87A) 내를 역류하는 경우는 없다.

또한, 도중에 실린더부(91) 내의 액체(1)가 적어졌을 때에는, 도 8(A)에 도시한 바와 같이, 도 1의 액체 공급 기구(10)로부터 노즐 부재(30)를 통해 액침 영역(AR2)에 액체(1)를 공급하고, 피스톤부(92)를 당겨서 실린더부(91) 내에 액체(1)를 보충하여도 좋다. 이 때에, 오목부(60A) 내에 유입한 액체(1)도 회수된다. 그 후, 피스톤부(92)를 누르는 것에 의해, 다시 제트 노즐부(90)로부터 액체(1)를 분사할 수 있다. 이 결과, 노즐 부재(30) 내의 메쉬 필터(25)[회수구(24)] 및 공급구(13) 및 공급구(14) 내에 부착하고 있는 이물의 대다수는, 액체(1) 내에 혼입 또는 용해한다. 그리고, 이들 이물은 액체(1)와 함께 도 8(A)의 실린더부(91) 내로 회수할 수 있다. 또한, 제진 필터(88)를 정기적으로 교환하거나, 또는 실린더부(91)에 물빠짐용 밸브를 설치해 두고, 필요에 따라 실린더부(91) 내의 액체를 외부에 배출하는 것으로, 제트 노즐부(90)로부터 분사되는 액체에 이물이 혼입하는 것을 방지할 수 있다.

본 예의 세정 동작의 작용 등을 정리하면 이하와 같이 된다.

(A7) 노즐 부재(30)를 세정하기 위한 세정액으로서, 도 1의 액체 공급 기구(10)로부터 노즐 부재(30)를 통해 액침 영역(AR2)에 공급되는 액체(1)를 이용하고 있다. 따라서, 세정액의 공급 기구를 간소화할 수 있다. 또한, 미리 접액부에 액체(1)를 공급하는 것과 동등하기 때문에, 노즐 부재(30) 내에 부착하고 있는 이물을 효율적으로 제거할 수 있다. 이 때문에, 효율적으로 액체 공급 기구(10) 및 액체 회수 기구(20)의 메인터넌스(나아가서는 노광 장치의 메인터넌스) 또는 노즐 부재(30)의 세정을 행할 수 있다.

또한, 본 예의 노광 장치(EX)에서도, 접액부의 적어도 일부를 포함하는 피세정부에, 제트 노즐부(90)로부터 액체를 분사하여도 좋다. 이것에 의해서도, 그 후의 노광 시의 액체 중의 이물량은 감소한다. 이 피세정부는, 메쉬 필터(25)[회수구(24)] 및 공급구(13) 및 공급구(14)를 제외하는 노즐 부재(30)의 다른 접액부에 한정되지 않고, 노즐 부재(30)와 다른 부재, 예컨대 광학 소자(2) 등의 접액부라도 좋다.

(A8) 본 예에서는, 도 8(A)에 도시한 바와 같이, 제트 노즐부(90)로부터 액체(1)를 분사하고 있기 때문에, 높은 세정 효과를 얻을 수 있다. 또한, 제트 노즐부(90) 대신에, 예컨대 단순히 액체(1)를 분출하는 부재를 이용하는 것도 가능하다.

(A9) 본 예에서는, 도 8(A)에 도시한 바와 같이, 회수 유로(87A) 중에 역지 밸브(89)가 설치되기 때문에, 실린더부(91) 및 피스톤부(92)를 액체(1)의 축적 기구 및 분출 장치로 겸용할 수 있다. 또한, 역지 밸브(89) 대신에, 예컨대 회수관(63F)을 개폐하기 위한 밸브를 설치하여도 좋다.

또한, 실린더부(91) 및 피스톤부(92)를 액체(1)의 축적 기구 및 분출 장치로 개별로 구비하여도 좋다. 이 경우에는, 예컨대 그 2개의 실린더부를 역지 밸브를 통해 연결해 두는 것에 의해, 상기한 액체(1)의 축적 공정과 액체(1)를 이용하는 세정 공정을 적어도 부분적으로 병행하여 행하는 것이 가능해진다.

또한, 액체(1)의 분출 기구를 계측 스테이지(MST) 상에 설치하는 것도 가능 하다. 이 경우에는, 일례로서, 도 8(A)에 있어서, 계측 테이블(MTB) 상에 액체(1)를 분출하는 소형의 펌프를 탑재해 두고, 도 1의 액체 공급 기구(10)로부터 도 8(A)의 공급구(13) 및 공급구(14)를 통해 액체(1)를 공급하고, 공급된 액체(1)를 그 소형의 펌프에 의해 노즐 부재(30)의 저면 등(접액부의 적어도 일부)에 분출한다고 하는 동작을 연속적으로 반복하여도 좋다. 또는, 계측 테이블(MTB) 상에서 분출한 액체(1)를 순환시켜 재차 분출하여도 좋다. 이와 같이 계측 테이블(MTB) 상에 소형의 펌프를 설치하는 구성에서는, 스테이지 기구를 전체로서 소형화할 수 있다.

또한, 전술의 실시형태에 있어서는, 계측 스테이지(MST)를 움직여, 세정액(1B) 또는 액체(1)를 분사하는 제트 노즐부(90)와 노즐 부재(30)를 상대 이동하고 있지만, 노즐 부재(30)를 가동으로 하여, 정지한 계측 스테이지(MST)[또는 기판 스테이지(PST)] 위에서 제트 노즐부(90)와 노즐 부재(30)를 상대 이동하여도 좋다. 이 경우, 노즐 부재(30)와 계측 스테이지(MST)의 양쪽을 이동하여도 좋다. 또한, 노즐 부재(30)와 계측 스테이지(MST)와의 상대 이동 대신에, 혹은 그와 조합하여, 액침 영역(AR2)의 액체를 진동시켜, 세정 효과를 높이도록 하여도 좋다. 액체를 진동시키는 부재로서는, 예컨대 압전 세라믹스[티탄산바륨계 혹은 티탄산지르콘산연계(소위 PZT)등] 또는 페라이트 진동자(자왜 진동자) 등의 초음파 진동자등을 이용할 수 있다. 이 경우, 액침 영역(AR2)의 액체의 진동과 세정액(1B) 또는 액체(1)의 분출을 적어도 부분적으로 병행하여 행하여도 좋고, 세정액(1B) 또는 액체(1)의 분출에 앞서서 액침 영역(AR2)의 액체를 진동시켜도 좋다.

또한, 전술의 실시형태에서는 세정 동작 시에 액체(1)로 액침 영역(AR2)을 형성하는 것으로 했지만, 액침 노광용의 액체와 다른 액체, 예컨대 세정액 공급부(26) 혹은 전술의 세정 기구로부터 공급되는 세정액으로 액침 영역(AR2)을 형성하여도 좋다. 이 경우, 액체 영역(AR2)의 세정액과 동일 종류의 세정액을 분출시켜도 좋고, 다른 종류의 세정액 혹은 액침 노광용의 액체를 분출시켜도 좋다. 또한, 전술의 실시형태에서는 세정 동작 시에 액침 영역(AR2)을 형성하는 것으로 했지만, 이 액침 영역(AR2)을 형성하지 않고 접액부의 세정을 행하여도 좋다. 이 경우, 접액부에 맞닿은 액체의 비산을 억제 또는 방지하는 부재를 배치하는, 혹은 접액부의 세정 대상 영역을 둘러싸는 가스 배리어를 형성하여도 좋다. 또한, 전술의 실시형태에서는 세정 기구가 액체 분출 방식을 채용하는 것으로 했지만, 세정 기구가 세정 조건을 변경할 수 있는 경우, 세정 기구는 액체 분출 방식과 다른 세정 방식을 채용하여도 좋다. 또한, 전술의 실시형태에서는 액침 노광용의 액체(1)와 접하는 접액부를 세정 대상으로 삼는 것으로 했지만, 필요하면, 액체(1)와 접하지 않는 부분도 세정 대상으로 삼아도 좋다.

또한, 전술의 실시형태에 있어서, 노즐 부재(30)의 회수구(24)에 설치되는 메쉬 필터(25)를 교환 가능하게 하여도 좋다. 또한, 회수구(24) 등에 설치되는 다공 부재가, 메쉬 필터(25)(메쉬형의 필터 부재)인 경우에는, 이물을 효율적으로 제거 가능한 동시에, 부착된 이물의 세정도 용이하다.

그러나, 노즐 부재(30)의 회수구(24) 등에 설치되는 다공 부재는, 메쉬 필터(25)에는 한정되지 않는다. 즉, 메쉬 필터(25) 대신에, 스폰지 등으로 이루어지는 다공 부재 또는 교환 가능한 카트리지식의 필터(세라믹스 필터 등)를 구비한 다 공 부재 등도 사용 가능하다. 또한, 다공 부재의 설치 개소는 회수구(24) 등에 한정되지 않는다.

또한, 노즐 부재(30) 내의 메쉬 필터(25)(또는 다른 다공 부재의 경우도 마찬가지)를 교환 가능하게 한 경우, 이물이 부착된 메쉬 필터(25)를 미사용(또는 세정 완료)의 별도의 메쉬 필터와 교환할 때는, 예컨대 도 1의 제어 장치(CONT)가 액체 회수 기구(20)를 구동하여, 도 3의 노즐 부재(30) 내의 공급 유로(82A), 공급 유로(82B) 및 회수 유로(84)를 포함하는 액체(1)의 유로로부터 액체(1)를 전부 배출해 두는 것이 바람직하다. 이에 따라, 메쉬 필터(25)의 교환 시에, 메쉬 필터(25)로부터 액체(1) 중에 용출한 이물이 노즐 부재(30) 내에 잔류하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 전술의 실시형태에서는, 계측 스테이지(MST)는 세정 기구 외에, 상기 복수의 계측기 중 적어도 하나와 기준 마크를 계측 부재로서 구비하는 것으로 했지만, 계측 스테이지(MST)에 탑재하는 계측 부재의 종류 및/또는 수 등은 여기에 한정되지 않는다. 계측 부재로서, 예컨대 투영 광학계(PL)의 투과율을 계측하는 투과율 계측기 등을 설치하여도 좋다. 또한, 상기 계측기는 그 일부만을 계측 스테이지(MST)에 설치하고, 나머지는 계측 스테이지(MST)의 외부에 설치하여도 좋다. 또한, 적어도 하나의 계측 부재를 기판 스테이지(PST)에 설치하여도 좋다.

또한, 전술의 실시형태에서는, 세정 기구의 적어도 일부를 계측 스테이지(MST)에 설치하는 것으로 했지만, 계측 스테이지(MST)와는 독립의 가동 스테이지(가동 부재, 가동체)에 세정 기구의 적어도 일부를 설치하여도 좋다. 이 가동 스 테이지는, 기판 스테이지(PST)라도 좋고, 혹은 기판 스테이지(PST)와 상이해도 좋다. 이 경우, 예컨대 기판(P)의 교환 시 등에, 전술의 액침 영역(AR2)을 유지하기위해, 기판 스테이지(PST)와의 교환에 의해 그 가동 스테이지를 투영 광학계(PL)와 대향하여 배치하여도 좋다.

또한, 전술의 실시형태에서는 간섭계 시스템(56A∼56C)을 이용하여 마스크 스테이지(RST), 기판 스테이지(PST) 및 계측 스테이지(MST)의 각 위치 정보를 계측하는 것으로 했지만, 여기에 한정되지 않고, 예컨대 각 스테이지에 설치되는 스케일(회절격자)을 검출하는 인코더 시스템을 이용하여도 좋다. 이 경우, 간섭계 시스템과 인코더 시스템의 양쪽을 구비하는 하이브리드 시스템으로서, 간섭계 시스템의 계측 결과를 이용하여 인코더 시스템의 계측 결과의 교정(캘리브레이션)을 행하는 것이 바람직하다. 또한, 간섭계 시스템과 인코더 시스템을 전환하여 이용하는, 혹은 그 양쪽을 이용하여, 스테이지의 위치 제어를 행하도록 하여도 좋다.

또한, 전술의 실시형태에서는 기판 홀더(PH)를 기판 스테이지(PST)와 일체로 형성하여도 좋고, 기판 홀더(PH)와 기판 스테이지(PST)를 따로따로 구성하여, 예컨대 진공 흡착 등에 의해 기판 홀더(PH)를 기판 스테이지(PST)에 고정하는 것으로 하여도 좋다.

또한, 본 발명은, 각종 계측기류를 기판 스테이지(PST)에 탑재한 노광 장치 [계측 스테이지(MST)를 구비하고 있지 않은 노광 장치]에도 적용할 수 있다. 또한, 각종 계측기류는 그 일부만이 계측 스테이지(MST) 또는 기판 스테이지(PST)에 탑재되고, 나머지는 외부 혹은 별도의 부재에 설치하도록 하여도 좋다. 이들의 경우, 예컨대 도 4의 제트 노즐부(90)를 포함하는 세정 기구를 기판 스테이지(PST) 측에 설치하여도 좋다.

또한, 상기 실시형태에서는 노광광(EL)의 조사 영역[전술의 조명 영역, 투영 영역(AR1)을 포함함]이 직사각형인 것으로 했지만, 여기에 한정되지 않고, 예컨대 원호형 등이라도 좋다. 또한, 조사 영역(AR1 등)은 투영 광학계(PL)의 시야 내에서 광축(AX)를 포함하여 설정되는 것으로 했지만, 여기에 한정되지 않고, 예컨대 광축(AX)을 포함하지 않고 편심하여 설정되어도 좋다.

또한, 반도체 디바이스 등의 마이크로 디바이스는, 도 9(B)에 도시한 바와 같이, 마이크로 디바이스의 기능·성능 설계를 행하는 단계(201), 이 설계 단계에 기초한 마스크(레티클)를 제작하는 단계(202), 디바이스의 기재인 기판을 제조하는 단계(203), 전술한 실시형태의 노광 장치(EX)에 의해 마스크의 패턴을 기판에 노광하는 공정, 노광한 기판을 현상하는 공정, 현상한 기판의 가열(큐어) 및 에칭 공정 등을 포함하는 기판 처리 단계(204), 디바이스 조립 단계(다이싱 공정, 본딩 공정, 패키지 공정 등의 가공 프로세스를 포함함)(205) 및 검사 단계(206)　등을 경유하여 제조된다.

또한, 상기 각 실시형태의 기판(P)으로서는, 반도체 디바이스 제조용의 반도체 웨이퍼 뿐만 아니라, 디스플레이 디바이스용의 유리 기판, 박막 자기 헤드용의 세라믹 웨이퍼, 혹은 노광 장치로 이용되는 마스크 또는 레티클의 원판(합성 석영, 실리콘 웨이퍼), 또는 필름 부재 등이 적용된다. 또한, 기판(P)의 형상은 원형 뿐 만 아니라, 직사각형 등 다른 형상이라도 좋다.

또한, 전술의 실시형태에 있어서는, 전사용의 패턴이 형성된 마스크를 이용했지만, 이 마스크 대신에, 예컨대 미국 특허 제6,778,257호 명세서에 개시되어 있는 바와 같이, 노광해야 할 패턴의 전자 데이터에 기초하여 투과 패턴 또는 반사패턴을 형성하는 전자 마스크를 이용하여도 좋다. 이 전자 마스크는, 가변 성형 마스크(액티브 마스크 혹은 이미지 제너레이터)라고도 불리고, 예컨대 비발광형 화상 표시 소자(공간 광변조기)의 일종인 DMD(Digital Micro-mirror Device) 등을 포함하는 것이다.

DMD는, 소정의 전자 데이터에 기초하여 구동하는 복수의 반사 소자(미소 미러)를 가지고, 복수의 반사 소자는, DMD의 표면에 2차원 매트릭스형으로 배열되며, 또한 소자 단위로 구동되어 노광광을 반사, 편향한다. 각 반사 소자는 그 반사면의 각도가 조정된다. DMD의 동작은, 제어 장치(CONT)에 의해 제어될 수 있다. 제어 장치(CONT)는 기판(P) 상에 형성해야 할 패턴에 따른 전자 데이터(패턴 정보)에 기초하여 DMD의 반사 소자를 구동하고, 조명계(IL)에 의해 조사되는 노광광을 반사 소자로 패턴화한다. DMD를 사용함으로써, 패턴이 형성된 마스크(레티클)를 이용하여 노광하는 경우에 비해, 패턴이 변경되었을 때에, 마스크의 교환 작업 및 마스크 스테이지에서의 마스크의 위치 맞춤 조작이 불필요하게 되기 때문에, 노광 동작을 한층 더 효율적으로 행할 수 있다. 또한, 전자 마스크를 이용하는 노광 장치에서는, 마스크 스테이지를 설치하지 않고, 기판 스테이지에 의해 기판을 X축 및 Y축 방향으로 이동만 해도 좋다. 또한, DMD를 이용한 노광 장치는, 상기 미국 특허 이외에, 예컨대 일본 특허 공개 평8-313842호 공보, 일본 특허 공개 제2004-304135호 공보 에 개시되어 있다. 지정국 또는 선택국의 법령이 허용하는 범위에서 미국 특허 제6,778,257호 명세서의 개시를 원용하여 본문의 기재의 일부로 한다.

또한, 노광 장치(EX)로서는, 마스크(M)와 기판(P)을 동기 이동하여 마스크(M)의 패턴을 주사 노광하는 스텝·앤드·스캔 방식의 주사형 노광 장치(스캐닝 스테퍼)의 외에, 마스크(M)와 기판(P)을 정지한 상태로 마스크(M)의 패턴을 일괄 노광하여, 기판(P)을 순차적으로 스텝 이동시키는 스텝·앤드·리피트 방식의 투영 노광 장치(스테퍼)에도 적용할 수 있다. 노광 장치(EX)의 종류로서는, 기판(P)에 반도체 소자 패턴을 노광하는 반도체 소자 제조용의 노광 장치에 한정되지 않고, 액정 표시 소자 제조용 또는 디스플레이 제조용의 노광 장치, 박막 자기 헤드, 마이크로 머신, MEMS, DNA칩, 촬상 소자(CCD) 혹은 레티클 또는 마스크 등을 제조하기 위한 노광 장치 등에도 널리 적용할 수 있다.

또한, 본 발명은, 예컨대 일본 특허 공개 평10-163099호 공보, 일본 특허 공개 평10-214783호 공보(대응하는 미국 특허 제6,341,007, 6,400,441, 6,549,269 및 6,590,634호 명세서), 일본 특허 공표 제2000-505958호 공보(대응하는 미국 특허 제5,969,441호 명세서) 혹은 미국 특허 제6,208,407호 명세서 등에 개시되어 있는 바와 같은 복수의 기판 스테이지를 구비한 멀티스테이지형의 노광 장치에도 적용할 수 있다. 멀티스테이지형의 노광 장치에 대해, 지정국 및 선택국의 국내법령이 허용하는 한, 상기 미국 특허의 개시를 원용하여 본문의 기재의 일부로 한다.

또한, 전술의 실시형태의 투영 광학계는, 선단의 광학 소자의 상면측의 광로 공간(액침 공간)을 액체로 채우고 있지만, 예컨대 국제 공개 제2004/019128호 팜플 렛에 개시되어 있는 바와 같이, 선단의 광학 소자의 마스크측의 광로 공간도 액체로 채우는 투영 광학계를 채용할 수도 있다. 또한, 본 발명은, 예컨대 국제 공개 제2004/093159호 팜플렛, 미국 특허 출원 공개 제2006/0023189A1호 명세서에 개시되어 있는 바와 같이, 투영 광학계와 기판과의 사이의 액침 영역을 그 주위의 에어 커튼으로 유지하는 액침형의 노광 장치에도 적용할 수 있다.

또한, 본 발명은, 예컨대 국제 공개 제2001/035168호 팜플렛에 개시되어 있는 바와 같이, 간섭 줄무늬를 기판(P) 상에 형성함으로써, 기판(P) 상에 라인·앤드·스페이스 패턴을 형성하는 노광 장치에도 적용할 수 있다. 이 경우도, 광학 부재와 기판(P) 사이의 액체를 통해 기판(P)에 노광광이 조사된다.

또한, 예컨대 일본 특허 공표 제2004-519850호 공보(대응하는 미국 특허 제6,611,316호 명세서)에 개시되어 있는 바와 같이, 2개의 마스크의 패턴을, 투영 광학계를 통해 기판 상에서 합성하고, 한 번의 주사 노광에 의해 기판 상의 하나의 쇼트 영역을 거의 동시에 이중 노광하는 노광 장치에도 본 발명을 적용할 수 있다.

전술의 실시형태에 있어서, 액체 공급부 및/또는 액체 회수부가 노광 장치 에 설치될 필요는 없고, 예컨대 노광 장치가 설치되는 공장 등의 설비를 대용하여도 좋다. 또한, 액침 노광에 필요한 구조는, 전술의 구조에 한정되지 않고, 예컨대, 유럽 특허 공개 제1420298호 공보, 국제 공개 제2004/055803호 팜플렛, 국제 공개 제2004/057590호 팜플렛, 국제 공개 제2005/029559호 팜플렛(대응 미국 특허 공개 제2006/0231206호), 국제 공개 제2004/086468호 팜플렛(대응 미국 특허 공개 제2005/0280791호), 일본 특허 공개 제2004-289126호 공보(대응 미국 특허 제 6,952,253호) 등에 기재되어 있는 것을 이용할 수 있다. 액침 노광 장치의 액침 기구 및 그 부속 기기에 대해, 지정국 또는 선택국의 법령이 허용하는 범위에서 상기한 미국 특허 또는 미국 특허 공개 등의 개시를 원용하여 본문의 기재의 일부로 한다.

또한, 상기 실시형태에서는, 액침법에 이용하는 액체(1)로서, 물보다도 노광광에 대한 굴절률이 높은 액체, 예컨대 굴절률이 1.6∼1.8 정도인 것을 사용하여도 좋다. 여기서, 순수보다도 굴절률이 높은(예컨대 1.5 이상의) 액체(1)로서는, 예컨대, 굴절률이 약 1.50인 이소프로판올, 굴절률이 약 1.61인 글리세롤(글리세린)이라고 하는 C-H 결합 혹은 O-H 결합을 갖는 소정 액체, 헥산, 헵탄, 데칸 등의 소정액체(유기 용제), 혹은 굴절률이 약 1.60인 데카린(Decalin: Decahydronaphthalene) 등을 들 수 있다. 또한, 액체(1)는 이들 액체 중 임의의 두 종류 이상의 액체를 혼합한 것이라도 좋고, 순수에 이들 액체 중 적어도 하나를 첨가(혼합)한 것이라도 좋다. 또한, 액체(1)는 순수에 H⁺, Cs⁺, K⁺, Cl^-, SO₄ ^2-, PO₄ ^2-등의 염기 또는 산을 첨가(혼합)한 것이라도 좋고, 순수에 Al산화물 등의 미립자를 첨가(혼합)한 것이라도 좋다. 또한, 액체(1)로서는, 광의 흡수 계수가 작고, 온도의존성이 적으며, 투영 광학계(PL) 및/또는 기판(P)의 표면에 도포되어 있는 감광재(또는 탑코트막 혹은 반사 방지막 등)에 대해 안정한 것이 바람직하다. 액체(1)로서, 초임계 유체를 이용하는 것도 가능하다. 또한, 기판(P)에는, 액체로부터 감광재나 기재를 보호하는 탑코트막 등을 설치할 수 있다.

또한, 투영 광학계(PL)의 광학 소자(종단 광학 소자)(2)를, 불화칼슘(형석)대신에, 예컨대 석영(실리카), 혹은, 불화바륨, 불화스트론튬, 불화리튬 및 불화 나트륨 등의 불화화합물의 단결정 재료로 형성하여도 좋고, 석영이나 형석보다도 굴절률이 높은(예컨대 1.6 이상) 재료로 형성하여도 좋다. 굴절률이 1.6 이상인 재료로서는, 예컨대, 국제 공개 제2005/059617호 팜플렛에 개시되는, 사파이어, 이산화게르마늄 등, 혹은, 국제 공개 제2005/059618호 팜플렛에 개시되는, 염화 칼륨(굴절률은 약 1.75) 등을 이용할 수 있다.

액침법을 이용하는 경우, 예컨대, 국제 공개 제2004/019128호 팜플렛(대응 미국 특허 공개 제2005/0248856호)에 개시되어 있는 바와 같이, 종단 광학 소자의 상면측의 광로에 부가하여, 종단 광학 소자의 물체면측의 광로도 액체로 채우도록 하여도 좋다. 또한, 종단 광학 소자의 표면의 일부(적어도 액체와의 접촉면을 포함함) 또는 전부에, 친액성 및/또는 용해 방지 기능을 갖는 박막을 형성하여도 좋다. 또한, 석영은 액체와의 친화성이 높고, 또한 용해 방지막도 불필요하지만, 형석은 적어도 용해 방지막을 형성하는 것이 바람직하다.

상기 각 실시형태에서는, 노광광(EL)의 광원으로서 ArF 엑시머 레이저를 이용했지만, 예컨대, 국제 공개 제1999/46835호 팜플렛(대응 미국 특허 제7,023,610호)에 개시되어 있는 바와 같이, DFB 반도체 레이저 또는 화이버 레이저 등의 고체 레이저 광원, 화이버 앰프 등을 갖는 광증폭부 및 파장 변환부 등을 포함하여, 파장 193 nm의 펄스광을 출력하는 고조파 발생 장치를 이용하여도 좋다. 또한, 상기 각 실시형태에서는, 투영 영역(노광 영역)이 직사각형인 것으로 했지만, 다른 형 상, 예컨대 원호형, 사다리꼴 형상, 평행사변형 형상, 혹은 능형상 등이라도 좋다.

이상과 같이, 상기한 실시형태의 노광 장치(EX)는 본원 청구의 범위에 들 수 있던 각 구성 요소를 포함하는 각종 서브 시스템을, 소정의 기계적 정밀도, 전기적 정밀도, 광학적 정밀도를 유지하도록, 조립하는 것으로 제조된다. 이들 각종 정밀도를 확보하기 위해, 이 조립의 전후에는, 각종 광학계에 대해서는 광학적 정밀도를 달성하기 위한 조정, 각종 기계계에 대해서는 기계적 정밀도를 달성하기 위한 조정, 각종 전기계에 대해서는 전기적 정밀도를 달성하기 위한 조정이 행해진다. 각종 서브 시스템으로부터 노광 장치에의 조립 공정은, 각종 서브 시스템 상호의, 기계적 접속, 전기 회로의 배선 접속, 기압 회로의 배관 접속 등이 포함된다. 이 각종 서브 시스템으로부터 노광 장치에의 조립 공정 전에, 각 서브 시스템 개개의 조립 공정이 있는 것은 물론이다. 각종 서브 시스템의 노광 장치에의 조립 공정이 종료하면, 종합 조정이 행해져, 노광 장치 전체로서의 각종 정밀도가 확보된다. 또한, 노광 장치의 제조는 온도 및 클린도 등이 관리된 클린룸에서 행하는 것이 바람직하다.

본원 명세서에서 내건 여러 가지의 미국 특허 및 미국 특허 출원 공개 등에 대해서는, 특히 원용 표시를 행한 것 이외에 대해서도, 지정국 또는 선택국의 법령이 허용하는 범위에서 이들의 개시를 원용하여 본문의 일부로 한다.

또한, 본 발명은 전술의 실시형태에 한정되지 않고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지의 구성을 취할 수 있는 것은 물론이다. 또한, 명세서, 특허 청구의 범위, 도면 및 요약을 포함하는 2006년 6월 30일자로 제출한 일본 국 특허 출원 제2006-182561의 모든 개시 내용은, 모두 그대로 인용하여 본원에 삽입되고 있다.

본 발명에 따르면, 액침법으로 노광을 행하는 노광 장치의 메인터넌스를 효율적으로 행할 수 있기 때문에, 그 후의 노광 시에 액침 영역의 액체 중의 이물량이 감소하여, 디바이스를 고정밀도로 제조할 수 있다.

Claims

광학 부재와 기판 사이를 제1 액체로 채워 액침 공간을 형성하고, 상기 광학 부재와 상기 제1 액체를 통해 노광광으로 상기 기판을 노광하는 노광 장치의 메인터넌스 방법에 있어서,

상기 제1 액체로 상기 액침 공간을 형성하는 액침 공간 형성 부재와 대향하여 가동체를 배치하는 이동 공정과,

상기 액침 공간 형성 부재를 이용하여 상기 가동체 상에 상기 제1 액체에 의한 상기 액침 공간을 형성하는 액침 공정과,

상기 제1 액체에 접하는 접액부의 세정을 행하기 위해, 상기 가동체측으로부터 상기 접액부의 적어도 일부를 포함하는 영역을 향해 제2 액체를 분출하는 세정 공정

을 포함하는 메인터넌스 방법.
제1항에 있어서, 상기 액침 공정과 상기 세정 공정을 적어도 부분적으로 병행하여 실행하는 메인터넌스 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 세정 공정에서는, 상기 제2 액체를 제트 노즐로부터 분사하는 것인 메인터넌스 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정 공정에서는, 상기 제2 액체에 기체를 혼합시켜 분출하는 것인 메인터넌스 방법.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체를 회수하는 회수 공정을 포함하는 메인터넌스 방법.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 액체와 상기 제2 액체는 다른 것인 메인터넌스 방법.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체를 포함하는 것인 메인터넌스 방법.
제7항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체에 기체 혹은 용제를 혼입하여 이루어지는 것인 메인터넌스 방법.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체와 동일한 것인 메인터넌스 방법.
제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 액체는 상기 액침 공간 형성 부재를 통해 상기 가동체측에 공급되는 것인 메인터넌스 방법.
광학 부재와 기판 사이를 제1 액체로 채워 액침 공간을 형성하고, 상기 광학 부재와 상기 제1 액체를 통해 노광광으로 상기 기판을 노광하는 노광 장치의 메인터넌스 방법에 있어서,

상기 제1 액체로 상기 액침 공간을 형성하는 액침 공간 형성 부재와 대향하여 가동체를 배치하는 이동 공정과,

상기 액침 공간 형성 부재를 이용하여 상기 가동체 상에 상기 제1 액체를 공급하며, 이 공급된 상기 제1 액체를 축적하는 축적 공정과,

상기 제1 액체에 접하는 접액부의 세정을 행하기 위해, 상기 축적 공정에서 축적된 상기 제1 액체를 상기 접액부의 적어도 일부를 포함하는 영역을 향해 분출하는 세정 공정

을 포함하는 메인터넌스 방법.
제11항에 있어서, 상기 세정 공정에서는, 상기 축적 공정에서 축적된 상기 제1 액체를 제트 노즐로부터 분사하는 것인 메인터넌스 방법.
제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 축적 공정과 상기 세정 공정을 적어도 부분적으로 병행하여 실행하는 메인터넌스 방법.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정 공정에서는, 상기 액 침 공간 형성 부재의 상기 제1 액체의 통과구가 적어도 세정되는 것인 메인터넌스 방법.
제14항에 있어서, 상기 액침 공간 형성 부재는 상기 제1 액체의 공급구 및 회수구 중 적어도 한쪽을 가지고, 상기 통과구는 상기 공급구 및 상기 회수구 중 적어도 한쪽을 포함하는 것인 메인터넌스 방법.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정 공정에서는, 상기 액침 공간 형성 부재의 다공 부재가 적어도 세정되는 것인 메인터넌스 방법.
제16항에 있어서, 상기 다공 부재는 상기 액침 공간 형성 부재의 상기 제1 액체의 회수구 혹은 회수 유로에 설치되는 것인 메인터넌스 방법.
제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액침 공간 형성 부재는 상기 광학 부재를 둘러싸도록 배치되는 것인 메인터넌스 방법.
제18항에 있어서, 상기 노광 장치는 상기 광학 부재가 가장 상면(像面)의 근처에 배치되는 투영 광학계를 포함하는 것인 메인터넌스 방법.
광학 부재와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판을 노광하는 노광 장치의 메인 터넌스 방법으로서,

상기 제1 액체와 접하는 접액부를 가지고 또한 상기 광학 부재와 상기 기판 사이에 상기 제1 액체를 유지하는 노즐 부재와 대향하여 가동체를 배치하고, 상기 노즐 부재를 통해 상기 가동체에 공급되는 제2 액체를 이용하여 상기 접액부를 세정하는 메인터넌스 방법.
제20항에 있어서, 상기 제2 액체를 상기 가동체로부터 분출하여 상기 접액부를 세정하는 메인터넌스 방법.
제20항 또는 제21항에 있어서, 상기 세정 시, 상기 광학 부재와 상기 가동체와의 사이에 액침 영역을 형성하는 메인터넌스 방법.
제22항에 있어서, 상기 액침 영역은 상기 제2 액체로 형성되는 것인 메인터넌스 방법.
제20항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가동체에 공급되는 제2 액체를 축적하여, 상기 축적된 제2 액체를 상기 접액부에 향하게 하는 메인터넌스 방법.
광학 부재와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판을 노광하는 노광 장치의 메인 터넌스 방법으로서,

상기 광학 부재와 상기 기판 사이에 상기 제1 액체를 유지하는 노즐 부재와 대향하여 가동체를 배치하고, 상기 제1 액체와 접하는 접액부에 관한 정보에 따라, 상기 접액부의 제2 액체에 의한 세정 조건을 설정하는 메인터넌스 방법.
제25항에 있어서, 상기 정보는 상기 접액부의 세정 대상 영역의 위치와 상태 중 적어도 한쪽에 관한 정보를 포함하는 것인 메인터넌스 방법.
제26항에 있어서, 상기 정보는 상기 세정 대상 영역의 오염에 관한 정보를 포함하는 것인 메인터넌스 방법.
제25항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정 조건은 상기 정보에 따라 가변인 것인 메인터넌스 방법.
제25항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정 조건은 상기 제2 액체의 특성을 포함하는 것인 메인터넌스 방법.
제25항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 접액부를 향해 분출되고, 상기 세정 조건은 상기 제2 액체의 분출 조건을 포함하는 것인 메인터넌스 방법.
제20항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체를 포함하는 것인 메인터넌스 방법.
제31항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체에 기체 혹은 용제를 혼입하여 이루어지는 것인 메인터넌스 방법.
제20항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체와 동일한 것인 메인터넌스 방법.
제20항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체와 다른 것인 메인터넌스 방법.
제20항 내지 제34항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐 부재의 접액부 중 적어도 상기 제1 액체의 통과구를 세정하는 메인터넌스 방법.
제20항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐 부재는, 상기 제1 액체의 공급구 및 회수구 중 적어도 한쪽을 가지고, 상기 공급구 및 상기 회수구 중 적어도 한쪽을 세정하는 것인 메인터넌스 방법.
제20항 내지 제36항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐 부재의 접액부 중 적어도 다공 부재를 세정하는 메인터넌스 방법.
제37항에 있어서, 상기 다공 부재는 상기 노즐 부재의 상기 제1 액체의 회수구 혹은 회수 유로에 설치되는 것인 메인터넌스 방법.
제20항 내지 제38항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐 부재와 다른 상기 제1 액체와의 접액부의 세정도 행하는 메인터넌스 방법.
제39항에 있어서, 상기 노즐 부재와 다른 접액부는 적어도 상기 광학 부재를 포함하는 것인 메인터넌스 방법.
제20항 내지 제40항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐 부재는 상기 광학 부재를 둘러싸고 배치되며, 상기 노광 장치는 상기 광학 부재가 가장 상면(像面)의 근처에 배치되는 투영 광학계를 포함하는 것인 메인터넌스 방법.
제1항 내지 제41항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접액부는 상기 제1 유체에 대해 친액성의 영역을 포함하는 것인 메인터넌스 방법.
제1항 내지 제42항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가동체는 상기 기판을 유 지할 수 있는 가동체와 다른 것인 메인터넌스 방법.
광학 부재와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판을 노광하는 노광 방법으로서,

제1항 내지 제43항 중 어느 한 항에 기재한 메인터넌스 방법을 이용하는 공정을 포함하는 노광 방법.
광학 부재와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판을 노광하는 노광 방법으로서,

상기 제1 액체와 접하는 접액부를 가지고 또한 상기 광학 부재와 상기 기판 사이에 상기 제1 액체를 유지하는 노즐 부재와 대향하여 가동체를 배치하고, 상기 노즐 부재를 통해 상기 가동체에 공급되는 제2 액체를 이용하여 상기 접액부를 세정하는 것을 포함하는 노광 방법.
광학 부재와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판을 노광하는 노광 방법으로서,

상기 광학 부재와 상기 기판 사이에 상기 제1 액체를 유지하는 노즐 부재와 대향하여 가동체를 배치하고, 상기 제1 액체와 접하는 접액부에 관한 정보에 따라, 상기 접액부의 제2 액체에 의한 세정 조건을 설정하는 것을 포함하는 노광 방법.
제44항 내지 제46항 중 어느 한 항에 기재한 노광 방법을 이용하여 기판을 노광하는 것과,

상기 노광된 기판을 현상하는 것

을 포함하는 디바이스 제조 방법.
광학 부재와 기판 사이를 제1 액체로 채워 액침 공간을 형성하고, 상기 광학 부재와 상기 제1 액체를 통해 노광광으로 상기 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서,

상기 제1 액체로 상기 액침 공간을 형성하는 액침 공간 형성 부재와,

상기 광학 부재에 대해 상대 이동 가능한 가동체와,

상기 가동체에 적어도 일부가 설치되고 또한 제2 액체를 분출하는 액체 분출 기구와,

상기 액침 공간 형성 부재를 통해 상기 가동체 상에 상기 제1 액체에 의한 상기 액침 공간이 형성되어 있을 때에, 상기 제1 액체에 접하는 접액부의 세정을 행하기 위해, 상기 액체 분출 기구로부터 상기 접액부의 적어도 일부를 포함하는 영역을 향해 제2 액체를 분출시키는 제어 장치

를 포함하는 노광 장치.
제48항에 있어서, 상기 액체 분출 기구는 상기 제2 액체를 분사하는 제트 노즐을 포함하는 것인 노광 장치.
제48항 또는 제49항에 있어서, 상기 액체 분출 기구는 상기 제2 액체에 기체를 혼합시키는 혼합기를 포함하는 것인 노광 장치.
제48항 내지 제50항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체를 회수하는 액체 회수 기구를 포함하는 노광 장치.
제48항 내지 제51항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 액체와 상기 제2 액체는 다른 것인 노광 장치.
제48항 내지 제52항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체를 포함하는 것인 노광 장치.
제53항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체에 기체 혹은 용제를 혼입하여 이루어지는 것인 노광 장치.
제48항 내지 제51항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체와 동일한 것인 노광 장치.
제53항 내지 제55항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 액체는 상기 액침 공간 형성 부재를 통해 상기 가동체측에 공급되는 것인 노광 장치.
광학 부재와 기판 사이를 제1 액체로 채워 액침 공간을 형성하고, 상기 광학 부재와 상기 제1 액체를 통해 노광광으로 상기 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서,

상기 제1 액체로 상기 액침 공간을 형성하는 액침 공간 형성 부재와,

상기 광학 부재에 대해 상대 이동 가능한 가동체와,

상기 액침 공간 형성 부재를 통해 상기 가동체 상에 공급되는 상기 제1 액체를 축적하는 축적 기구와,

상기 가동체에 적어도 일부가 설치되고, 상기 제1 액체에 접하는 접액부의 세정을 행하기 위해, 상기 축적 기구로 축적된 상기 제1 액체를 상기 접액부의 적어도 일부를 포함하는 영역을 향해 분출하는 액체 분출 장치

를 포함하는 노광 장치.
제57항에 있어서, 상기 액체 분출 장치는, 상기 축적 기구로 축적된 상기 제1 액체를 분사하는 제트 노즐을 포함하고,

상기 축적 기구는, 상기 제1 액체가 상기 액침 공간 형성 부재측에 역류하는 것을 방지하기 위한 역지 밸브를 포함하는 것인 노광 장치.
제48항 내지 제58항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접액부는 상기 액침 공간 형성 부재의 상기 제1 액체의 통과구를 적어도 포함하는 것인 노광 장치.
제59항에 있어서, 상기 액침 공간 형성 부재는 상기 제1 액체의 공급구 및 회수구 중 적어도 한쪽을 가지고, 상기 통과구는 상기 공급구 및 상기 회수구 중 적어도 한쪽을 포함하는 것인 노광 장치.
제48항 내지 제60항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접액부는 상기 액침 공간 형성 부재의 다공 부재를 적어도 포함하는 것인 노광 장치.
제61항에 있어서, 상기 다공 부재는 상기 액침 공간 형성 부재의 상기 제1 액체의 회수구 혹은 회수 유로에 설치되는 것인 노광 장치.
제48항 내지 제62항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액침 공간 형성 부재는 상기 제1 액체의 통과구에 다공 부재가 고정적으로, 또는 교환 가능하게 설치되는 것인 노광 장치.
제63항에 있어서, 상기 다공 부재는 교환 가능하고, 상기 다공 부재의 교환 시에 상기 제1 액체를 그 유로 내로부터 전부 배출하는 액체 회수부를 포함하는 것인 노광 장치.
제48항 내지 제64항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액침 공간 형성 부재는 상기 광학 부재를 둘러싸도록 배치되는 것인 노광 장치.
제65항에 있어서, 상기 광학 부재가 가장 상면(像面)의 근처에 배치되는 투영 광학계를 포함하는 노광 장치.
광학 부재와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판을 노광하는 노광 장치로서,

상기 제1 액체와 접하는 접액부를 가지고 또한 상기 광학 부재와 상기 기판 사이에 상기 제1 액체를 유지하는 노즐 부재와,

상기 광학 부재에 대해 상대 이동 가능한 가동체와,

상기 가동체에 적어도 일부가 설치되며, 상기 노즐 부재를 통해 상기 가동체에 공급되는 제2 액체를 이용하여 상기 접액부를 세정하는 세정 부재

를 구비하는 노광 장치.
제67항에 있어서, 상기 세정 부재는 상기 제2 액체를 상기 가동체로부터 분출하여 상기 접액부를 세정하는 것인 노광 장치.
제67항 또는 제68항에 있어서, 상기 세정 시, 상기 노즐 부재에 의해 상기 광학 부재와 상기 가동체 사이에 액침 영역을 형성하는 노광 장치.
제69항에 있어서, 상기 액침 영역은 상기 제2 액체로 형성되는 것인 노광 장치.
제67항 내지 제70항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가동체에 공급되는 제2 액체를 축적하는 축적부를 구비하고, 상기 세정 부재는 상기 축적된 제2 액체를 상기 접액부에 향하게 하는 것인 노광 장치.
광학 부재와 제1 액체를 통해 노광광으로 기판을 노광하는 노광 장치로서,

상기 광학 부재와 상기 기판 사이에 상기 제1 액체를 유지하는 노즐 부재와,

상기 제1 액체와 접하는 접액부를 제2 액체로 세정하는 세정 부재와,

적어도 상기 세정 시에 상기 노즐 부재에 대향하여 배치되는 가동체와,

상기 세정 부재를 제어하여 상기 제2 액체에 의한 세정 조건을 가변으로 하며, 또한 상기 접액부에 관한 정보에 따라 상기 세정 조건이 설정되는 제어 장치

를 포함하는 노광 장치.
제72항에 있어서, 상기 정보는, 상기 접액부의 세정 대상 영역의 위치와 상태 중 적어도 한쪽에 관한 정보를 포함하는 것인 노광 장치.
제73항에 있어서, 상기 정보는 상기 세정 대상 영역의 오염에 관한 정보를 포함하는 것인 노광 장치.
제72항 내지 제74항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정 조건은 상기 제2 액체의 특성을 포함하는 것인 노광 장치.
제72항 내지 제75항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정 부재는 상기 제2 액체를 상기 접액부를 향해 분출하고, 상기 세정 조건은 상기 제2 액체의 분출 조건을 포함하는 것인 노광 장치.
제67항 내지 제76항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체를 포함하는 것인 노광 장치.
제77항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체에 기체 혹은 용제를 혼입하여 이루어지는 것인 노광 장치.
제67항 내지 제77항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체와 동일한 것인 노광 장치.
제67항 내지 제77항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액체는 상기 제1 액체와 다른 것인 노광 장치.
제67항 내지 제80항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐 부재의 접액부 중 적어도 상기 제1 액체의 통과구를 세정하는 노광 장치.
제67항 내지 제81항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐 부재는, 상기 제1 액체의 공급구 및 회수구 중 적어도 한쪽을 가지고, 상기 공급구 및 상기 회수구 중 적어도 한쪽을 세정하는 것인 노광 장치.
제67항 내지 제82항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐 부재의 접액부 중 적어도 다공 부재를 세정하는 노광 장치.
제83항에 있어서, 상기 다공 부재는, 상기 노즐 부재의 상기 제1 액체의 회수구 혹은 회수 유로에 설치되는 것인 노광 장치.
제67항 내지 제83항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐 부재는, 상기 제1 액체의 통과구에 고정되는, 혹은 교환 가능하게 설치되는 다공 부재를 포함하는 것인 노광 장치.
제67항 내지 제85항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정 부재는, 상기 노즐 부재와 다른 상기 제1 액체와의 접액부의 세정도 행하는 것인 노광 장치.
제86항에 있어서, 상기 노즐 부재와 다른 접액부는 적어도 상기 광학 부재를 포함하는 것인 노광 장치.
제67항 내지 제87항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 부재는 가장 상면(像面)의 근처에 배치되는 투영 광학계를 구비하고, 상기 노즐 부재는 상기 광학 부재를 둘러싸며 배치되는 것인 노광 장치.
제48항 내지 제88항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접액부는, 상기 제1 유체에 대해 친액성의 영역을 포함하는 것인 노광 장치.
제48항 내지 제89항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가동체는, 상기 기판을 유지할 수 있는 가동체와 다른 것인 노광 장치.
제48항 내지 제89항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가동체는, 상기 기판을 유지할 수 있는 기판 스테이지 또는 상기 기판 스테이지와는 독립적으로 이동하는 스테이지인 것인 노광 장치.
제48항 내지 제91항 중 어느 한 항에 기재한 노광 장치를 이용하여 기판을 노광하는 것과,

상기 노광된 기판을 현상하는 것

을 포함하는 디바이스 제조 방법.