CN107256105A - 树脂固化膜及其图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法 - Google Patents

树脂固化膜及其图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107256105A
CN107256105A CN201710554942.8A CN201710554942A CN107256105A CN 107256105 A CN107256105 A CN 107256105A CN 201710554942 A CN201710554942 A CN 201710554942A CN 107256105 A CN107256105 A CN 107256105A
Authority
CN
China
Prior art keywords
photosensitive
photosensitive layer
touch panel
polymer combination
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710554942.8A
Other languages
English (en)
Inventor
村上泰治
山崎宏
五十岚由三
笹原直树
向郁夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Publication of CN107256105A publication Critical patent/CN107256105A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0416—Control or interface arrangements specially adapted for digitisers
    • G06F3/04164—Connections between sensors and controllers, e.g. routing lines between electrodes and connection pads
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0443—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1802—C2-(meth)acrylate, e.g. ethyl (meth)acrylate
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)

Abstract

本发明的树脂固化膜图案的形成方法的特征在于，其具备：在基材上设置由含有酸值为75mgKOH/g以上且具有羧基的粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂的感光性树脂组合物构成、并且厚度为10μm以下的感光层的第1工序；通过活性光线的照射使所述感光层的规定部分固化的第2工序；以及除去所述感光层的规定部分以外的部分、形成所述感光层的规定部分的固化膜图案的第3工序，其中，所述感光性树脂组合物含有肟酯化合物和/或膦氧化物化合物作为所述光聚合引发剂。

Description

树脂固化膜及其图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性 元件、触摸面板的制造方法
本申请是申请日为2012年12月4日、发明名称为“树脂固化膜图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法及树脂固化膜”的中国申请号为201280059872.4的分案申请。
技术领域
本发明涉及树脂固化膜图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法及树脂固化膜。
背景技术
从个人电脑或电视的大型电子设备到汽车导航、手机、电子词典等小型电子设备以及OA/FA设备等的显示设备中都要使用液晶显示元件或触摸面板(触摸传感器)。这些液晶显示元件或触摸面板中设有由透明导电电极材料构成的电极。作为透明导电电极材料，已知有ITO(铟锡氧化物)、氧化铟及氧化锡，这些材料由于显示高的可见光透射率，因此作为液晶显示元件用基板等的电极材料成为主流。
触摸面板已经实用化了各种方式，近年来静电电容方式的触摸面板的利用不断发展。静电电容方式触摸面板中，当作为导电体的指尖接触到触摸输入面时，指尖与导电膜之间发生静电电容耦合，形成电容器。因此，静电电容方式触摸面板通过捕捉指尖接触位置处的电荷变化来检测其坐标。
特别是投影型静电电容方式的触摸面板，由于可进行指尖的多点检测，因此具备可进行复杂的指示这一良好的操作性，因其操作性的优良，作为手机或便携式音乐播放器等具有小型显示装置的设备中的显示面上的输入装置的利用不断发展。
一般来说，投影型静电电容方式的触摸面板中，为了表现利用X轴和Y轴的2维坐标，多个X电极和与该X电极正交的多个Y电极形成2层结构，作为该电极，使用ITO(铟锡氧化物)。
但是，由于触摸面板的边框区域是无法检测触摸位置的区域，因此将其边框区域的面积变窄是用于提高产品价值的重要要素。在边框区域上，为了传送触摸位置的检测信号，需要金属配线，而为了谋求边框面积的狭小化，需要将金属配线的宽度变窄。由于ITO的导电性不够高，因此通常金属配线由铜形成。
但是，上述那样的触摸面板在被指尖接触时，有时水分或盐分等腐蚀成分会从传感区域侵入到内部。腐蚀成分侵入到触摸面板的内部时，金属配线会腐蚀，有可能发生电极与驱动用电路间的电阻的增加或者断线。
为了防止金属配线的腐蚀，公开了在金属上形成有绝缘层的静电电容方式的投影型触摸面板(例如专利文献1)。该触摸面板中，利用等离子体化学气相沉积法(等离子体CVD法)在金属上形成二氧化硅层，防止了金属的腐蚀。但是，由于该手法使用等离子体CVD法，因此存在需要高温处理而使基材受到限定、制造成本变高等问题。
另外，作为在所需位置上设置抗蚀剂膜的方法，已知有在规定的基材上设置由感光性树脂组合物构成的感光层、并将该感光层进行曝光、显影的方法(例如专利文献2～4)。另外，在专利文献5及6中公开了通过上述方法形成触摸面板的保护膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2011-28594号公报
专利文献2：日本特开平7-253666号公报
专利文献3：日本特开2005-99647号公报
专利文献4：日本特开平11-133617号公报
专利文献5：日本特开2010-27033号公报
专利文献6：日本特开2011-232584号公报
发明内容
发明要解决的课题
利用感光性树脂组合物制作保护膜与等离子体CVD法相比，可期待成本的缩减。但是，在触摸面板用电极上形成保护膜时，如果树脂膜的厚度大，则有时在有膜的位置和没有膜的位置上高度差明显。为此，优选使保护膜尽可能地薄。
但是，本发明人们发现，在基材上将由感光性树脂组合物构成的感光层以厚度10μm以下形成、通过将该感光层进行曝光、显影来布图时，具有析像度降低的倾向。此外，对于上述专利文献5或6记载的感光性树脂组合物，虽然可以形成薄的膜且透明性高的保护膜，但在形成图案上还有改善的余地。
本发明的目的在于提供即使是薄的膜也可以以充分的析像度形成树脂固化膜图案的树脂固化膜图案的形成方法、可以在基材上形成即使是薄的膜也具有良好图案形状的树脂固化膜的感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法及树脂固化膜。
用于解决课题的手段
为了解决上述课题，本发明人们进行潜心研究的结果发现，通过使用含有特定的粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及特定的光聚合引发剂的感光性树脂组合物，即使在以10μm以下的厚度形成感光层时也具有充分的分辨率、可以形成良好的树脂固化膜图案，从而完成了本发明。
本发明的树脂固化膜图案的形成方法的特征在于，其具备：在基材上设置由含有酸值为75mgKOH/g以上且具有羧基的粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂的感光性树脂组合物构成、并且厚度为10μm以下的感光层的第1工序；通过活性光线的照射使感光层的规定部分固化的第2工序；以及除去所述感光层的规定部分以外的部分、形成所述感光层的规定部分的固化膜图案的第3工序，其中，所述感光性树脂组合物含有肟酯化合物和/或膦氧化物化合物作为所述光聚合引发剂。
根据本发明的树脂固化膜图案的形成方法，可以在基材上形成即使是厚度为10μm以下的薄的膜也具有充分的分辨率的树脂固化膜图案。
对于通过本发明的方法发挥上述效果的理由，本发明人们如下考虑。首先，对于感度降低的要因，本发明人们认为这是由于，如果感光层的厚度变小，则容易受到来自基材的光散射的影响，产生光晕。在本发明中，本发明人们推测，由于肟酯化合物中所含的肟部位或者膦氧化物化合物中所含的膦氧化物部位具有比较高的光分解效率且具有一点点的漏光不会分解的适度阈值，因此由漏光产生的影响得以抑制，其结果是获得了充分的分辨率。
本发明的树脂固化膜图案的形成方法中，从进一步提高析像度的观点出发，优选上述感光性树脂组合物进一步含有紫外线吸收剂。通过含有紫外线吸收剂，可以吸收感光层内的漏光。
从抑制因漏光导致的肟酯化合物或者膦氧化物化合物的分解、进一步提高析像度的观点出发，上述紫外线吸收剂优选是在360nm以下的波长区域具有最大吸收波长的物质。
另外，从进一步提高析像度的观点出发，上述感光层的365nm处的吸光度优选为0.4以下、334nm处的吸光度优选为0.4以上。通过感光层具有上述的吸光特性，变得更容易吸收漏光，可以抑制因漏光导致的肟酯化合物或者膦氧化物化合物的分解。
另外，本发明的树脂固化膜图案的形成方法中，上述感光层优选400～700nm下的可见光透射率的最小值为85％以上。
在形成触摸面板用电极的保护膜等情况下，如果考虑到触摸面板的视觉辨认性或美观性，则优选树脂固化膜的透明性更高。但是在现有的感光性树脂组合物中，由于主要使用利用从紫外区域到可见光区域的光的光反应，因此多使用吸收波及到可见光区域的光引发剂成分。另外，需要颜料或染料的用途的情况也多，难以确保透明性。与此相对，根据本发明的树脂固化膜图案的形成方法，通过设置上述特定的感光层并进行活性光线的照射，即使在感光层的可见光透射率的最小值为85％以上时，也可以获得充分的析像度。
另外，上述感光层优选CIELAB表色系中的b*为-0.2～1.0。
此时，即使在触摸面板的位于触摸传感器区域的电极上形成树脂固化膜图案作为保护膜时，也可以充分防止视觉辨认性或美观性受损。
本发明的树脂固化膜图案的形成方法中，可以是上述基材具备触摸面板用电极、形成树脂固化膜图案作为该电极的保护膜。
另外，本发明的树脂固化膜图案的形成方法中，可以准备具备支撑膜和设置在该支撑膜上的由所述感光性树脂组合物构成的感光层的感光性元件、将该感光性元件的感光层转印在所述基材上来设置感光层。此时，通过使用感光性元件，可以简便地形成膜厚均匀的保护膜。
本发明还提供一种用于形成10μm以下厚度的树脂固化膜图案的感光性树脂组合物，其含有酸值为75mgKOH/g以上且具有羧基的粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂，所述光聚合引发剂包含肟酯化合物和/或膦氧化物化合物。
根据本发明的感光性树脂组合物，可以在规定的触摸面板用电极上形成即使是薄的膜也具有良好的图案形状的保护膜。
本发明的感光性树脂组合物从进一步提高析像度的观点出发，优选进一步含有紫外线吸收剂。
另外，从进一步提高析像度的观点出发，优选上述紫外线吸收剂是在360nm以下的波长区域具有最大吸收波长的物质。
另外，从进一步提高析像度的观点出发，365nm处的吸光度优选为0.4以下、334nm处的吸光度优选为0.4以上。
从充分确保触摸面板的视觉辨认性的观点出发，本发明的感光性树脂组合物优选在400～700nm下的可见光线透射率的最小值为85％以上。
另外，从进一步提高触摸面板的视觉辨认性的观点出发，本发明的感光性树脂组合物优选CIELAB表色系中的b*为-0.2～1.0。
本发明还提供一种感光性元件，其具备支撑膜和设置在该支撑膜上的由上述本发明的感光性树脂组合物构成的感光层。
根据本发明的感光性元件，可以在规定的触摸面板用电极上形成即使是薄的膜也具有良好的图案形状的保护膜。
上述感光层的厚度可以为10μm以下。
本发明还提供一种触摸面板的制造方法，其具备在具有触摸面板用电极的基材上通过上述本发明的树脂固化膜图案的形成方法形成作为覆盖所述电极的一部分或全部的保护膜的树脂固化膜图案的工序。
本发明还提供由上述本发明的感光性树脂组合物的固化物构成的树脂固化膜。
发明的效果
根据本发明，能够提供可形成即使是薄的膜也具有充分的析像度的树脂固化膜图案的树脂固化膜图案的形成方法、可以在触摸面板用电极上形成即使是薄的膜也具有良好图案形状的树脂固化膜的感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法及树脂固化膜。
另外，本发明的树脂固化膜图案的形成方法可以适合于触摸面板用电极的保护膜等那样需要利用薄膜来保护的电子部件的保护膜、特别是静电电容式触摸面板的金属电极的保护膜的形成。
附图说明
图1为表示本发明的感光性元件的一个实施方式的示意截面图。
图2为用于说明本发明的树脂固化膜图案的形成方法的一个实施方式的示意截面图。
图3为表示静电电容式的触摸面板的一例的示意俯视图。
图4为表示静电电容式的触摸面板的另一例的示意俯视图。
图5(a)为图3所示C部分的沿V-V线的部分截面图，图5(b)为表示另一方案的部分截面图。
具体实施方式
以下对用于实施本发明的方式进行详细说明。但本发明并不限定于以下的实施方式。此外，本说明书中，(甲基)丙烯酸是指丙烯酸或者甲基丙烯酸，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯或者与其对应的甲基丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰基是指丙烯酰基或者甲基丙烯酰基。另外，(聚)氧化乙烯链是指氧化乙烯基或者聚氧化乙烯基，(聚)氧化丙烯链是指氧化丙烯基或者聚氧化丙烯基。
另外，本说明书中“工序”的用语不仅是指独立的工序，在与其它工序无法明确区别时，只要能实现该工序所预期的作用则也包括在本用语中。另外，本说明书中用“～”表示的数值范围是指将“～”前后记载的数值分别作为最小值及最大值包括在内的范围。
此外，本说明书中，组合物中的各成分的含量在组合物中含有多个相当于各成分的物质时，如果没有特别说明则是指组合物中存在的该多个物质的合计量。
图1为表示本发明的感光性元件的一个实施方式的示意截面图。图1所示的感光性元件1由支撑膜10、设置在支撑膜10上的由本发明的感光性树脂组合物构成的感光层20、以及设置在感光层20的与支撑膜10相反侧上的保护膜30构成。
本实施方式的感光性元件优选用于形成触摸面板用电极的保护膜。
本说明书中，触摸面板用电极不仅包含位于触摸面板的传感区域上的电极，而且也包含边框区域的金属配线。要设置保护膜的电极可以是其中任意一者，也可以是两者。
作为支撑膜10，可以使用聚合物膜。作为聚合物膜，例如可举出由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚醚砜等构成的膜。
支撑膜10的厚度从确保被覆性和抑制透过支撑膜10照射活性光线时的析像度降低的观点出发，优选为5～100μm、更优选为10～70μm、进一步优选为15～40μm、特别优选为20～35μm。
构成感光层20的本发明的感光性树脂组合物含有酸值为75mgKOH/g以上且具有羧基的粘合剂聚合物(以下也称为(A)成分)、光聚合性化合物(以下也称为(B)成分)以及光聚合引发剂(以下也称为(C)成分)，光聚合引发剂包含肟酯化合物和/或膦氧化物化合物。
本实施方式中，(A)成分优选是含有来自于(a)(甲基)丙烯酸以及(b)(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元的共聚物。
作为上述(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯以及(甲基)丙烯酸羟基乙酯。
上述共聚物还可以进一步在结构单元中含有可与上述的(a)成分和/或(b)成分发生共聚的其它单体。
作为可与上述的(a)成分和/或(b)成分发生共聚的其它单体，例如可以举出(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯腈、二丙酮(甲基)丙烯酰胺、苯乙烯以及乙烯基甲苯。在合成作为(A)成分的粘合剂聚合物时，上述的单体可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
作为(A)成分的粘合剂聚合物的重均分子量从析像度的立场出发，优选为10,000～200,000、更优选为15,000～150,000、进一步优选为30,000～150,000、特别优选为30,000～100,000、极其优选为40,000～100,000。此外，重均分子量的测定条件设为与本申请说明书的实施例相同的测定条件。
作为(A)成分的粘合剂聚合物的酸值从图案性优异的方面出发，优选为75～200mgKOH/g、更优选为75～150mgKOH/g、进一步优选为75～120mgKOH/g。
作为(A)成分的粘合剂聚合物的酸值可以如下测定。
即，首先精密称取作为酸值测定对象的粘合剂聚合物1g。在上述精密称取的粘合剂聚合物中加入丙酮30g，将其均匀溶解。接着，在其溶液中滴加适量的作为指示剂的酚酞，使用0.1N的KOH水溶液进行滴定。然后，由下式算出酸值。
酸值＝0.1×Vf×56.1/(Wp×I/100)
式中，Vf表示KOH水溶液的滴定量(mL)，Wp表示测得的含有粘合剂聚合物的溶液的重量(g)，I表示测得的含有粘合剂聚合物的溶液中的不挥发成分的比例(质量％)。
此外，在将粘合剂聚合物以与合成溶剂或稀释溶剂等挥发成分混合的状态配合时，在精密称取前预先在比挥发成分的沸点高10℃以上的温度下加热1～4小时以除去挥发成分后测定酸值。
作为(B)成分的光聚合性化合物，可以使用具有烯键式不饱和基团的光聚合性化合物。
作为具有烯键式不饱和基团的光聚合性化合物，例如可以举出单官能乙烯基单体、二官能乙烯基单体、具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体。
作为上述单官能乙烯基单体，例如可以举出作为在上述(A)成分的优选例的共聚物的合成中使用的单体例示出的(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸烷基酯以及可与它们共聚的单体。
作为上述二官能乙烯基单体，例如可以举出聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A聚氧化乙烯聚氧化丙烯二(甲基)丙烯酸酯(2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基苯基)丙烷)、双酚A二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、多元羧酸(苯二甲酸酐等)与具有羟基及烯键式不饱和基团的物质(丙烯酸β-羟基乙酯、甲基丙烯酸β-羟基乙酯等)的酯化物。
作为上述具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体，例如可以举出三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等使α,β-不饱和羧酸与多元醇反应而获得的化合物；三羟甲基丙烷三缩水甘油基醚三丙烯酸酯等在含缩水甘油基的化合物上加成α,β-不饱和羧酸而获得的化合物。
其中，优选含有具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体。进而，从电极腐蚀的抑制力以及显影容易性的观点出发，优选含有选自具有来自季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物、具有来自二季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物以及具有来自三羟甲基丙烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少1种，更优选含有选自具有来自二季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物以及具有来自三羟甲基丙烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少1种。
这里，具有来自二季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯是指二季戊四醇与(甲基)丙烯酸的酯化物，该酯化物中还包含用氧化烯基改性了的化合物。上述的酯化物优选一分子中的酯键的数目为6，但也可以混合酯键的数目为1～5的化合物。
另外，上述具有来自三羟甲基丙烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物是指三羟甲基丙烷与(甲基)丙烯酸的酯化物，该酯化物中还包含用氧化烯基改性了的化合物。上述的酯化物优选一分子中的酯键的数目为3，但也可以混合酯键的数目为1～2的化合物。
上述的化合物可以单独使用1种或者组合使用2种以上。
在将分子内具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的单体与单官能乙烯基单体或二官能乙烯基单体组合使用时，对使用的比例没有特别限制，但从获得光固化性以及电极腐蚀的抑制力的观点出发，分子内具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的单体的比例优选相对于感光性树脂组合物中所含的光聚合性化合物的合计量100质量份为30质量份以上、更优选为50质量份以上、进一步优选为75质量份以上。
本实施方式的感光性树脂组合物中的(A)成分以及(B)成分的含量相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份分别为：优选(A)成分为35～85质量份、(B)成分为15～65质量份，更优选(A)成分为40～80质量份、(B)成分为20～60质量份，进一步优选(A)成分为50～70质量份、(B)成分为30～50质量份，特别优选(A)成分为55～65质量份、(B)成分为35～45质量份。特别是从维持透明性、形成图案的方面出发，(A)成分以及(B)成分的含量优选相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份、(A)成分为35质量份以上、更优选为40质量份以上、进一步优选为50质量份以上、特别优选为55质量份以上。
通过使(A)成分以及(B)成分的含量在上述范围内，可以充分确保涂布性或感光性元件中的膜性、并且获得充分的感度，可以充分地确保光固化性、显影性以及电极腐蚀的抑制力。
本实施方式的感光性树脂组合物中，作为(C)成分的光聚合引发剂，包含肟酯化合物和/或膦氧化物化合物作为必需成分。通过含有肟酯化合物和/或膦氧化物化合物，可以在基材上形成即使厚度为10μm以下的薄的膜也具有充分的析像度的树脂固化膜图案。另外，还可以形成透明性也优异的树脂固化膜图案。
对于获得上述效果的理由，本发明人们推测如下。首先，本发明人们认为，对于感度降低的主要原因，如果感光层的厚度变小，则容易受到来自基材的光散射的影响，产生光晕。本实施方式中，由于肟酯化合物中所含的肟部位或者膦氧化物化合物中所含的膦氧化物部位具有比较高的光分解效率且具有一点点的漏光不会发生分解的适度阈值，因此由漏光产生的影响得以抑制，其结果是获得了充分的分辨率。
作为肟酯化合物，可以举出下述通式(C-1)以及通式(C-2)所示的化合物，从速固化性、透明性的观点出发，优选下述通式(C-1)所示的化合物。
上述通式(C-1)中，R1表示碳数为1～12的烷基或者碳数为3～20的环烷基。另外，只要不损害本发明的效果，则也可以在上述通式(C-1)中的芳香环上具有取代基。
上述通式(C-1)中，R1优选是碳数为3～10的烷基或者碳数为4～15的环烷基，更优选是碳数为4～8的烷基或者碳数为4～10的环烷基。
上述通式(C-2)中，R2表示氢原子或者碳数为1～12的烷基，R3表示碳数为1～12的烷基或者碳数为3～20的环烷基，R4表示碳数为1～12的烷基，R5表示碳数为1～20的烷基或者芳基。p1表示0～3的整数。此外，p1为2以上时，多个存在的R4可以彼此相同或不同。此外，咔唑上在不损害本发明效果的范围内可以具有取代基。
上述通式(C-2)中，R2优选是碳数为1～12的烷基、更优选是碳数为1～8的烷基、进一步优选是碳数为1～4的烷基。
上述通式(C-2)中，R3优选是碳数为1～8的烷基或者碳数为4～15的环烷基、更优选是碳数为1～4的烷基或者碳数为4～10的环烷基，特别优选为乙基。
作为上述通式(C-1)所示的化合物，可以举出1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)]等。作为上述通式(C-2)所示的化合物，可以举出乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)等。1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)]可以作为IRGACURE OXE 01(BASF株式会社制、商品名)获得。另外，乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)可以作为IRGACURE OXE 02(BASF株式会社制、商品名)从商业途径获得。它们可以单独使用或者组合使用2种以上。
上述通式(C-1)中，特别是极其优选1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)]。上述通式(C-2)中，特别是极其优选乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)。
作为上述膦氧化物化合物，可以举出下述通式(C-3)以及通式(C-4)所示的化合物。从速固化性、透明性的观点出发，优选下述通式(C-3)所示的化合物。
上述通式(C-3)中，R6、R7以及R8各自独立地表示碳数为1～20的烷基或者芳基。通式(C-4)中，R9、R10以及R11各自独立地表示碳数为1～20的烷基或者芳基。
上述通式(C-3)中的R6、R7或者R8是碳数为1～20的烷基时、以及上述通式(C-4)中的R9、R10或者R11是碳数为1～20的烷基时，该烷基可以是直链状、支链状以及环状中的任一种，另外，该烷基的碳数更优选为5～10。
上述通式(C-3)中的R6、R7或者R8为芳基时、以及上述通式(C-4)中的R9、R10或者R11为芳基时，该芳基也可以具有取代基。作为该取代基，例如可举出碳数为1～6的烷基以及碳数为1～4的烷氧基。
其中，上述通式(C-3)优选R6、R7以及R8为芳基。另外，上述通式(C-4)优选R9、R10以及R11为芳基。
作为上述通式(C-3)所示的化合物，从所形成的保护膜的透明性以及使膜厚为10μm以下时的图案形成能力出发，优选2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-膦氧化物。2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-膦氧化物例如可以作为LUCIRIN TPO(BASF株式会社社制、商品名)从商业途径获得。
(C)成分还可以并用使用除肟酯化合物以及膦氧化物化合物以外的光引发剂。作为除肟酯化合物以及膦氧化物化合物以外的光聚合引发剂，例如可以举出二苯甲酮、4-甲氧基-4’-二甲基氨基二苯甲酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗啉代-丙酮-1等芳香族酮；苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻苯基醚等苯偶姻醚化合物、苯偶姻、甲基苯偶姻、乙基苯偶姻等苯偶姻化合物；苄基二甲基缩酮等苄基衍生物；9-苯基吖啶、1,7-双(9,9’-吖啶基)庚烷等吖啶衍生物；N-苯基甘氨酸、N-苯基甘氨酸衍生物；香豆素系化合物；噁唑系化合物。另外，还可以像二乙基噻吨酮和二甲基氨基苯甲酸的组合那样将噻吨酮系化合物和叔胺化合物组合。
作为(C)成分的光聚合引发剂的含量相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份优选为0.1～20质量份、更优选为1～10质量份、进一步优选为2～5质量份。
(C)成分的含量从光感度以及分辨率优异的方面出发，优选为0.1质量份以上，从可见光透射率优异的方面出发，优选为20质量份以下。
本实施方式的感光性树脂组合物可以进一步含有紫外线吸收剂(以下也称为(D)成分)。紫外线吸收剂从反射光吸收的观点出发，优选波长380nm以下的紫外线的吸收能力优异、且从透明性的观点出发、优选波长400nm以上的可见光的吸收少的物质。具体地说，最大吸收波长为360nm以下的紫外线吸收剂与其相当。
作为紫外线吸收剂，例如可以举出氧二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水杨酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、二苯基丙烯酸酯系化合物、镍络合物系化合物。特别优选的紫外线吸收剂是二苯基氰基丙烯酸酯类等二苯基丙烯酸酯系化合物。
作为(D)成分的紫外线吸收剂的含量相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份优选为0.1～30质量份、更优选为1～20质量份、进一步优选为2～10质量份。
(D)成分的含量从分辨率优异的方面出发，优选为0.1质量份以上、从抑制在活性光线的照射时组合物的表面上的吸收增加而使得内部的光固化变得不充分的方面出发，优选为30质量份以下。
本实施方式的感光性树脂组合物中，除了上述成分以外，还可以根据需要含有相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份各自为0.01～20质量份左右的硅烷偶联剂等密合性赋予剂、流平剂、增塑剂、填充剂、消泡剂、阻燃剂、稳定剂、抗氧化剂、香料、热交联剂、阻聚剂等。它们可以单独使用或组合使用2种以上。
本实施方式的感光性树脂组合物优选400～700nm下的可见光透射率的最小值为85％以上、更优选为92％以上、进一步优选为95％以上。
这里，感光性树脂组合物的可见光透射率如下求得。首先，在支撑膜上按照干燥后的厚度达到10μm以下的方式涂布含有感光性树脂组合物的涂布液，通过将其干燥，形成感光性树脂组合物层(感光层)。接着，按照感光性树脂组合物层(感光层)与玻璃基板接触的方式使用层压机进行层压。这样，获得在玻璃基板上层叠有感光性树脂组合物层以及支撑膜的测定用试样。接着，对所得的测定用试样照射紫外线，将感光性树脂组合物层光固化后，使用紫外可见分光光度计对测定波长区域400～700nm下的透射率进行测定。
另外，上述的优选的透射率是指上述波长区域下的透射率的最小值。
如果在通常的可见光波长区域的光线即400～700nm的波长区域下的透射率为85％以上，则例如在保护触摸面板(触摸传感器)的传感区域的透明电极时、或者在保护触摸面板(触摸传感器)的边框区域的金属层(例如ITO电极上形成了铜层的层等)时从传感区域的端部可见保护膜时，可以充分抑制传感区域上的画像显示品质、色调、亮度的降低。
另外，本实施方式的感光性树脂组合物优选CIELAB表色系中的b*为-0.2～1.0、更优选为0.0～0.7、进一步优选为0.1～0.4。与可见光透射率的最小值为85％以上时同样地从防止传感区域的画像显示品质、色调的降低的观点出发，优选b*为-0.2～0.8。此外，CIELAB表色系中的b*的测定是例如使用Konica Minolta制分光测色计“CM-5”、在b*为0.1～0.2且厚度为0.7mm的玻璃基板上形成厚度为10μm以下的感光性树脂组合物层、照射紫外线使感光性树脂组合物层光固化后、设定在D65光源、视野角2°进行测定而获得上述b*。
另外，从进一步提高析像度的观点出发，本实施方式的感光性树脂组合物优选365nm处的吸光度为0.4以下。另外，334nm处的吸光度优选为0.4以上。通过感光层具有上述的吸光特性，变得更容易吸收漏光，可以抑制因漏光导致的肟酯化合物或者膦氧化物化合物的分解。
上述吸光度可以使用UV分光光度计(株式会社日立制作所制、分光光度计U-3310)测定。测定通过在测定侧放置在支撑膜上形成有由感光性树脂组合物构成的任意膜厚的感光层的感光性元件、在参照侧放置支撑膜、根据吸光度模式在300～700nm间连续测定、读取334nm、365nm处的值来进行。
作为将吸光度调整在上述范围的方法，例如可以举出将肟酯化合物和/或膦氧化物化合物与紫外线吸收剂配合、或者控制感光层的膜厚等。
本实施方式的感光性树脂组合物可以用于在基材上形成感光层。例如可以制备能使感光性树脂组合物均匀地溶解或分散于溶剂中获得的涂布液，通过将其涂布在基材上而形成涂膜，通过干燥除去溶剂而形成感光层。
作为溶剂，从各成分的溶解性、涂膜形成的容易性等方面出发，可以使用酮、芳香族烃、醇、二醇醚、二醇烷基醚、二醇烷基醚醋酸酯、酯或二乙二醇。这些溶剂可以单独使用1种，也可以制成由2种以上的溶剂构成的混合溶剂来使用。
上述溶剂中，优选使用乙二醇单丁基醚醋酸酯、二乙二醇单乙基醚醋酸酯、二乙二醇二乙醚、二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二甲基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚醋酸酯等。
本实施方式的感光性树脂组合物优选像感光性元件那样制成感光性膜来使用。通过将感光性膜层叠在具有触摸面板用电极的基材上，可以容易地实现卷对卷工艺、可以缩短溶剂干燥工序等对制造工序的短缩和成本降低作出大的贡献。
感光性元件1的感光层20可以通过制备含有本实施方式的感光性树脂组合物的涂布液、将其涂布在支撑膜10上并进行干燥来形成。涂布液可以通过将上述的构成本实施方式的感光性树脂组合物的各成分均匀地溶解或分散在溶剂中来获得。
作为溶剂，没有特别限制，可以使用公知的溶剂，例如可以举出丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、甲苯、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、甲二醇、乙二醇、丙二醇、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇单甲基醚、乙二醇单丁基醚醋酸酯、二乙二醇单乙基醚醋酸酯、丙二醇单甲基醚醋酸酯、氯仿、二氯甲烷。这些溶剂可以单独使用1种，也可以制成由2种以上的溶剂构成的混合溶剂来使用。
作为涂布方法，例如可以举出刮刀涂布法、线棒涂布法、辊涂布、丝网涂布法、旋涂法、喷墨涂布法、喷涂法、浸涂法、凹版涂布法、帘涂法、模涂法。
对干燥条件没有特别限制，干燥温度优选设为60～130℃，干燥时间优选设为0.5～30分钟。
为了发挥对电极保护的充分效果、且尽可能减小由局部的电极保护膜形成所产生的触摸面板(触摸传感器)表面的高度差，感光层的厚度以干燥后的厚度计优选为1μm以上且9μm以下，更优选为1μm以上且8μm以下，进一步优选为2μm以上且8μm以下，特别优选为3μm以上且8μm以下。
本实施方式中，感光层20的可见光线透射率的最小值优选为85％以上、更优选为92％以上、进一步优选为95％以上。另外，感光层20的CIELAB表色系中的b*优选为-0.2～1.0，更优选为0.0～0.7，进一步优选为0.1～0.4。
另外，感光层20的365nm处的吸光度优选为0.4以下。另外，334nm处的吸光度优选为0.4以上。
关于感光层20的粘度，在将感光性元件制成卷状时，从防止感光性树脂组合物从感光性元件1的端面渗出达1个月以上的方面以及防止在将感光性元件1切断时由于感光性树脂组合物的碎片附着于基板所引起的照射活性光线时的曝光不良或显影残余等的方面出发，在30℃下优选为15～100mPa·s、更优选为20～90mPa·s、进一步优选为25～80mPa·s。
另外，上述的粘度是如下得到的值：将由感光性树脂组合物形成的直径为7mm、厚度为2mm的圆形膜作为测定用试样，测定沿该试样的厚度方向、在30℃以及80℃下施加1.96×10-2N的负荷时的厚度的变化速度，由该变化速度假定牛顿流体而换算成粘度。
作为保护膜30(覆膜)，例如可以举出由聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯-醋酸乙烯酯共聚物以及聚乙烯-醋酸乙烯酯共聚物与聚乙烯的层叠膜等构成的膜。
保护膜30的厚度优选为5～100μm左右，但从卷成卷状进行保管的观点出发，优选为70μm以下、更优选为60μm以下、进一步优选为50μm以下、特别优选为40μm以下。
感光性元件1可以卷成卷状来进行保管或使用。
本发明中，还可以将含有上述的本实施方式的感光性树脂组合物以及溶剂的涂布液涂布在具有触摸面板用电极的基材上并进行干燥来设置由感光性树脂组合物构成的感光层20。在该用途时，感光层也优选满足上述的膜厚、可见光线透射率、、CIELAB表色系中的b*、吸光度的条件。
下面，对作为本发明的树脂固化膜图案的形成方法的一个实施方式的触摸面板用电极的保护膜的形成方法进行说明。图2是用于说明本发明的树脂固化膜图案的形成方法的一例的示意截面图。
本实施方式的触摸面板用电极的保护膜的形成方法具备：在具有触摸面板用电极110及120的基材100上设置由上述的本实施方式的感光性树脂组合物构成、并且厚度为10μm以下的感光层20的第1工序；通过包含紫外线的活性光线的照射使感光层20的规定部分固化的第2工序；以及在活性光线的照射后除去规定部分以外的感光层(感光层的未被照射活性光线的部分)、形成覆盖电极的一部分或全部的由感光性树脂组合物的固化膜图案构成的保护膜22的第3工序。这样，可以获得作为触摸输入片材的带有保护膜的触摸面板(触摸传感器)200。
作为本实施方式中使用的基材100，可以举出通常作为触摸面板(触摸传感器)用使用的玻璃板、塑料板、陶瓷板等基板。在该基板上设置作为形成树脂固化膜作为保护膜的对象的触摸面板用电极。作为电极，可以举出ITO、Cu、Al、Mo等电极、TFT等。另外，在基板上还可以在基板与电极之间设置有绝缘层。
图2所示的具有触摸面板用电极110及120的基材100例如可以按照以下步骤获得。在PET膜等基材100上按照ITO、Cu的顺序通过溅射形成金属膜后，在金属膜上粘贴蚀刻用感光性膜，形成所希望的抗蚀图案，将不需要的Cu用氯化铁水溶液等蚀刻液除去后，剥离除去抗蚀图案。
本实施方式的第1工序中，将本实施方式的感光性元件1的保护膜30除去后，一边加热感光性元件，一边将感光层20压接在基材100的设有触摸面板用电极110及120的表面上，由此进行转印、层叠(参照图2的(a))。
作为压接手段，可以举出压接辊。压接辊还可以具备加热手段以能够实施加热压接。
为了充分确保感光层20与基材100的密合性、以及感光层20与触摸面板用电极110及120的密合性、并且使感光层20的构成成分难以发生热固化或热裂解，加热压接时的加热温度优选设为10～180℃、更优选设为20～160℃、进一步优选设为30～150℃。
另外，加热压接时的压接压力从充分确保感光层20与基材100的密合性、并且抑制基材100的变形的观点出发，以线压计优选设为50～1×105N/m、更优选设为2.5×102～5×104N/m、进一步优选设为5×102～4×104N/m。
如果将感光性元件1如上述那样进行加热，则无需对基材进行预热处理，但从进一步提高感光层20与基材100的密合性的方面出发，优选将基材100进行预热处理。此时的预热温度优选设为30～180℃。
本实施方式中，可以不使用感光性元件而如下形成感光层20：制备含有本实施方式的感光性树脂组合物以及溶剂的涂布液，将其涂布在基材100的设有触摸面板用电极110及120的表面上并进行干燥，从而形成感光层20。
感光层20优选满足上述的膜厚、可见光线透射率、CIELAB表色系中的b*、吸光度的条件。
本实施方式的第2工序中，对感光层20的规定部分隔着光掩模130以图案状照射活性光线L(参照图2的(b))。
照射活性光线时，在感光层20上的支撑膜10为透明时，可以直接照射活性光线，在该支撑膜10为不透明时将其除去后照射活性光线。从感光层20的保护的方面出发，优选使用透明的聚合物膜作为支撑膜10、在残留该聚合物膜的情况下透过其照射活性光线。
作为活性光线L的照射中使用的活性光线的光源，可以使用公知的活性光源，例如可以举出碳弧灯、超高压汞灯、高压汞灯、氙灯，只要是有效放射紫外线的光源，则没有特别限制。
此时的活性光线L的照射量通常为1×102～1×104J/m2，照射时也可以伴有加热。该活性光线照射量低于1×102J/m2时，有光固化的效果变得不充分的倾向，超过1×104J/m2时，有感光层20变色的倾向。
本实施方式中，感光层20的365nm处的吸光度优选为0.4以下、334nm处的吸光度优选为0.4以上、活性光线的光源优选为超高压汞灯、355nm或364nm等处具有激发的UV激光器等的组合。
本实施方式的第3工序中，将活性光线照射后的感光层用显影液进行显影，除去未被照射活性光线的部分(即感光层的规定部分以外的部分)，形成覆盖电极的一部分或全部的厚度为10μm以下的由本实施方式的感光性树脂组合物的固化膜图案构成的保护膜22(参照图2的(c))。所形成的保护膜22可以具有规定的图案。
此外，活性光线照射后，在感光层20上层叠有支撑膜10时将其除去后利用显影液进行除去未被照射活性光线的部分的显影。
作为显影方法，可以举出使用碱水溶液、水系显影液、有机溶剂等公知的显影液、通过喷雾、淋浴、摇动浸渍、刷洗、擦洗等公知的方法进行显影以除去不需要的部分的方法等，其中，从环境、安全性的观点出发，可以举出使用碱水溶液作为优选的方法。
作为碱水溶液的碱，可以举出氢氧化碱(锂、钠或者钾的氢氧化物等)、碳酸碱(锂、钠或者钾的碳酸盐或碳酸氢盐等)、碱金属磷酸盐(磷酸钾、磷酸钠等)、碱金属焦磷酸盐(焦磷酸钠、焦磷酸钾等)、氢氧化四甲基铵、三乙醇胺等，其中可以举出氢氧化四甲基铵等作为优选的碱。
另外，还优选使用碳酸钠的水溶液。例如优选使用20～50℃的碳酸钠的稀溶液(0.5～5质量％水溶液)。
显影温度以及时间可以根据本实施方式的感光性树脂组合物的显影性进行调整。
另外，碱水溶液中可以混入表面活性剂、消泡剂、用于促进显影的少量有机溶剂等。
另外，显影后，可以将光固化后的感光层20上残存的碱水溶液的碱利用有机酸、无机酸或者这些酸的水溶液、通过喷雾、摇动浸渍、刷洗、擦洗等公知方法进行酸处理(中和处理)。
还可以进一步在酸处理(中和处理)后进行实施水洗的工序。
显影后，根据需要可以通过活性光线的照射(例如5×103～2×104J/m2)使固化膜图案进一步固化。此外，本实施方式的感光性树脂组合物在没有显影后的加热工序的情况下也会显示出对金属的优异密合性，但也可以根据需要代替显影后的活性光线的照射而实施加热处理(80～250℃)、或者与活性光线照射一起实施加热处理(80～250℃)。
如上所述，本实施方式的感光性树脂组合物以及感光性元件优选用于形成树脂固化膜图案。另外，本实施方式的感光性树脂组合物以及感光性元件优选用于形成作为触摸面板用电极的保护膜的树脂固化膜图案(作为树脂固化膜图案形成材料的用途)。关于感光性树脂组合物的上述用途，可以使用与溶剂混合而成的涂布液来形成保护膜。
另外，本发明可以提供含有本发明的感光性树脂组合物的树脂固化膜图案形成材料。该树脂固化膜图案形成材料可以含有上述的本实施方式的感光性树脂组合物，优选是进一步含有上述溶剂的涂布液。
接着，使用图3、图4以及图5来说明本发明的保护膜的使用位置的一例。图3为表示静电电容式的触摸面板的一例的示意俯视图。图3所示的触摸面板在透明基板101的单面上具有用于检测触摸位置坐标的触摸画面102，用于检测该区域的静电电容变化的透明电极103及透明电极104设置在基板101上。透明电极103及透明电极104分别检测触摸位置的X坐标以及Y坐标。
透明基板101上设有用于将触摸位置的检测信号从透明电极103及透明电极104传送到外部电路的引出配线105。另外，引出配线105与透明电极103及透明电极104通过设置在透明电极103及透明电极104上的连接电极106连接。另外，在引出配线105的与透明电极103及透明电极104的连接部的相反侧的端部上设有与外部电路连接的连接端子107。本发明的感光性树脂组合物可以优选用于形成作为引出配线105、连接电极106以及连接端子107的保护膜122的树脂固化膜图案。此时，还可以同时保护位于传感区域的电极。图3中，通过保护膜122保护引出配线105、连接电极106、传感区域的一部分电极以及连接端子107的一部分，但也可以适当变更设置保护膜的位置。例如如图4所示，可以按照保护整个触摸画面102的方式来设置保护膜123。
使用图5来说明图3所示的触摸面板中透明电极与引出配线的连接部的截面结构。图5是图3所示的C部分的沿V-V线的部分截面图，是用于说明透明电极104与引出配线105的连接部的图。如图5(a)所示，透明电极104与引出配线105介由连接电极106电连接。如图5(a)所示，透明电极104的一部分、以及引出配线105及连接电极106的全部被作为保护膜122的树脂固化膜图案覆盖。同样地，透明电极103与引出配线105介由连接电极106电连接。此外，如图5的(b)所示，透明电极104与引出配线105还可以直接电连接。本发明的感光性树脂组合物以及感光性元件优选用于形成作为上述结构部分的保护膜的树脂固化膜图案。
对本实施方式的触摸面板的制造方法进行说明。首先，在设于基材100上的透明电极101上形成透明电极(X位置坐标)103。接着，形成透明电极(Y位置坐标)104。透明电极103以及透明电极104的形成可以使用将形成在基材100上的透明电极层进行蚀刻的方法等。
接着，在透明基板101的表面上形成用于与外部电路连接的引出配线105、连接该引出配线与透明电极103及透明电极104的连接电极106。引出配线105以及连接电极106可以在形成透明电极103及透明电极104之后形成，也可以在各透明电极形成时同时地形成。引出配线105以及连接电极106的形成可以在金属溅射后使用蚀刻法等。引出配线105例如可以使用含有片状的银的导电糊剂材料、利用丝网印刷法在形成连接电极106的同时来形成。接着，形成用于连接引出配线105与外部电路的连接端子107。
按照覆盖通过上述工序形成的透明电极103及透明电极104、引出配线105、连接电极106以及连接端子107的方式压接本实施方式的感光性元件1，在上述电极上设置感光层20。接着，对转印来的感光层20以所希望的形状隔着光掩模以图案状照射活性光线L。照射活性光线L后进行显影，除去感光层20的规定部分以外的部分，由此形成由感光层20的规定部分的固化物构成的保护膜122。这样，可以制造具备保护膜122的触摸面板。
实施例
以下举出实施例来对本发明进一步具体地说明。但本发明并不限于以下的实施例。
[粘合剂聚合物溶液(A1)的制作]
在具备搅拌器、回流冷却机、不活泼性气体导入口以及温度计的烧瓶内装入表1所示的(1)，在氮气气氛下升温至80℃，在将反应温度保持在80℃±2℃的同时用4小时的时间均匀地滴加表1所示的(2)。滴加(2)后在80℃±2℃下持续搅拌6小时，获得重均分子量为约80,000的粘合剂聚合物的溶液(固体成分为45质量％)(A1)。
表1
此外，重均分子量(Mw)通过利用凝胶渗透色谱法(GPC)进行测定、使用标准聚苯乙烯的标准曲线进行换算而导出。以下示出GPC的条件。
GPC条件
泵：日立L-6000型(株式会社日立制作所制、产品名)
色谱柱：Gelpack GL-R420、Gelpack GL-R430、Gelpack GL-R440(以上为日立化成工业株式会社制、产品名)
洗脱液：四氢呋喃
测定温度：40℃
流量：2.05mL/分钟
检测器：日立L-3300型RI(株式会社日立制作所制、产品名)
[酸值的测定方法]
另外，酸值如下测定。首先，将粘合剂聚合物的溶液在130℃下加热1小时，除去挥发成分，获得固体成分。然后，精密称取要测定酸值的聚合物1g后，在该聚合物中添加丙酮30g，将其均匀溶解。接着，在该溶液中适量添加作为指示剂的酚酞，使用0.1N的KOH水溶液进行滴定。然后，由下式算出酸值。
酸值＝0.1×Vf×56.1/(Wp×I/100)
式中，Vf表示KOH水溶液的滴定量(mL)，Wp表示测得的树脂溶液的重量(g)，I表示测得的树脂溶液中的不挥发成分的比例(质量％)。
(实施例1)
[含有感光性树脂组合物的涂布液(V-1)的制作]
将表2所示的材料使用搅拌器混合15分钟，制作用于形成保护膜的含有感光性树脂组合物的涂布液(V-1)。
表2
*1：表示除去了溶剂后的粘合剂聚合物的质量份。
[感光性元件(E-1)的制作]
作为支撑膜，使用厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，将上述制作的含有感光性树脂组合物以及溶剂的涂布液(V-1)利用缺角轮涂布机均匀地涂布在支撑膜上，用100℃的热风对流式干燥机干燥3分钟以除去溶剂，形成由感光性树脂组合物构成的感光层(感光性树脂组合物层)。所得感光层的厚度为2.5μm。
接着，在所得的感光层上进一步贴合25μm厚度的聚乙烯膜作为覆膜，制作了用于形成保护膜的感光性元件(E-1)。
[固化膜的透射率的测定]
一边剥离所得感光性元件(E-1)的作为覆膜的聚乙烯膜，一边按照感光层与厚度为1mm的玻璃基板接触的方式使用层压机(日立化成工业株式会社制、商品名HLM-3000型)、在辊温度为120℃、基板传送速度为1m/分钟、压接压力(滚筒压力)为4×105Pa(由于使用了厚度为1mm、长10cm×宽10cm的基板，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下进行层压，制作了在玻璃基板上层叠有感光层以及支撑膜的层叠体。
接着，对所得的层叠体的感光层用平行光线曝光机(Orc制作所株式会社制、EXM1201)由感光层侧上方以曝光量5×102J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线后，除去支撑膜，获得具有厚度为2.5μm的感光层的固化膜图案的透射率测定用试样。
接着，将所得的试样用株式会社日立High Technologies制的紫外可见分光光度计(U-3310)在测定波长区域400～700nm下测定可见光线透射率。关于所得保护膜的透射率，波长700nm处为97％、波长550nm处为96％、波长400nm处为94％，400～700nm下的透射率的最小值为94％，确保了良好的透射率。
[固化膜的b*的测定]
一边剥离所得感光性元件(E-1)的聚乙烯膜，一边按照感光层与厚度为0.7mm的玻璃基板接触的方式使用层压机(日立化成工业株式会社制、商品名HLM-3000型)、在辊温度为120℃、基板传送速度为1m/分钟、压接压力(滚筒压力)为4×105Pa(由于使用了厚度为1mm、长10cm×宽10cm的基板，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下进行层压，制作了在玻璃基板上层叠有感光层以及支撑膜的基板。
接着，对所得的感光层用平行光线曝光机(Orc制作所株式会社制、EXM1201)由感光层侧上方以曝光量5×102J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线后，除去支撑膜，再由感光层侧上方以曝光量1×104J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线，获得具有厚度为2.5μm的感光层的固化膜图案的b*测定用试样。
接着，将所得试样使用Konica Minolta株式会社制的分光测色计(CM-5)、在光源设定为D65、视野角为2°下测定CIELAB表色系中的b*。
固化膜的b*为0.45，确认了具有良好的b*。
[感光层的吸光度的测定]
使用UV分光光度计(株式会社日High Technologies制、分光光度计U-3310)进行测定。测定是通过在测定侧放置感光性元件、在参照侧放置支撑膜、根据吸光度模式在300～700nm间连续测定、读取334nm、365nm处的值来进行。
所得吸光度的值是334nm处为0.44、365nm处为0.14。
[感光层的感光特性]
一边剥离感光性元件的聚乙烯膜，一边使用层压机(日立化成工业株式会社制、商品名HLM-3000型)、在辊温度为120℃、基板传送速度为1m/分钟、压接压力(滚筒压力)为4×105Pa的条件下层压到PET膜上[厚度为125μm、东洋纺织制、商品名A4300]。活性光线的照射通过设置在具有高压汞灯的曝光机(Orc株式会社制)EXM-1201的半透明PET膜(MYLAR PET)上、隔着其滤光器照射规定量的活性光线来进行。从活性光线的照射后在室温下放置10分钟后，除去聚对苯二甲酸乙二醇酯，用30℃的1％碳酸钠水溶液将未被照射活性光线的部分的感光性树脂组合物喷雾显影60秒。喷雾显影后，使用株式会社Orc制作所制紫外线照射装置，进行1J/cm2的紫外线照射。评价中的感度设定为利用日立化成工业株式会社制的41段阶段式曝光表用于获得6/21段的必要量的曝光量。另外，密合具有线宽/间距宽为6/6～47/47(单位：μm)的配线图案的PET制光掩模，利用光学显微镜观察可获得6/21段的曝光量下的图案，由作为线与间距残留的线宽(μm)求出析像度(μm)。
(实施例2～5、比较例1～6)
除了使用含有表2及表3所示的感光性树脂组合物的涂布液以外，与实施例1同样地制作感光性元件，并对透射率的测定、b*、吸光度、感光特性进行了评价。另外，表2及表3中的数值表示质量份。
表3
*1：表示除去了溶剂后的粘合剂聚合物的质量份。
表2及表3的成分的记号表示以下的意思。
(A)成分
(A1)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯＝12/58/30(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为65,000、酸值为78mgKOH/g
(B)成分
PET-30：季戊四醇三丙烯酸酯(日本化药株式会社制)
(C)成分
IRGACURE OXE 01：1,2-辛二酮,1-[(4-苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)](BASF株式会社制)
IRGACURE OXE 02：乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)(BASF株式会社制)
LUCIRIN TPO：2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-膦氧化物(BASF株式会社制)
其它的光聚合引发剂
IRGACURE 184：1-羟基-环己基-苯基-酮(BASF株式会社制)
IRGACURE 651：2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮(BASF株式会社制)
IRGACURE 369：2-苄基-2-二甲基氨基-1-(吗啉代苯基)-丁酮-1(BASF株式会社制)
IRGACURE 907：2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮(BASF株式会社制)
N-1717：1,7-双(9-吖啶基)庚烷(株式会社ADEKA制)
EAB：4,4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮(保土ヶ谷化学株式会社制)
(D)成分
SB501：乙基-2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸酯(Shipro化成株式会社制)
SB502：2’-乙基己基-2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸酯(Shipro化成株式会社制)
其它成分
Antage W-500：2,2’-亚甲基-双(4-乙基-6-叔丁基苯酚)(川口化学株式会社制)
SH30：八甲基环四硅氧烷(Dow Corning Toray株式会社制)
甲基乙基酮：东燃化学株式会社制
如下述表4及表6所示，在使用了肟酯化合物或者膦氧化物化合物作为光聚合引发剂的实施例1、2以及5中，在2.5μm的膜厚下兼顾了析像度和透明性。另外，并用了紫外线吸收剂的实施例3以及4中进一步实现了高析像化。另一方面，比较例1～6中析像度的降低较大。另外，比较例3、4中虽然析像度良好但膜着色成黄色。
(实施例6～10以及比较例5～12)
另外，对使上述实施例1～5以及比较例1～6的感光层的膜厚为5μm的情况(实施例6～10以及比较例5～12)与上述同样地进行了评价。但是，将上述[感光层的感光特性]中的必要量的曝光量设为利用日立化成工业株式会社制的41段阶段式曝光表用于获得10/41段的曝光量。将结果示于下述表5及表7。
表4
表5
表6
表7
符号说明
1感光性元件、10支撑膜、20感光层、22保护膜、30保护膜、100基材、101透明基板、102触摸画面、103透明电极(X位置坐标)、104透明电极(Y位置坐标)、105引出配线、106连接电极、107连接端子、110、120触摸面板用电极、122、123保护膜、130光掩模、200触摸面板。

Claims (7)

1.一种触摸面板的制造方法，其具备在具有触摸面板用电极的基材上形成作为覆盖所述电极的一部分或全部的保护膜的树脂固化膜图案的工序，其中，所述工序含有：
在基材上设置由含有酸值为75mgKOH/g以上且具有羧基的粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂的感光性树脂组合物构成、并且厚度为10μm以下的感光层的第1工序；
通过活性光线的照射使所述感光层的规定部分固化的第2工序；以及
除去所述感光层的所述规定部分以外的部分、形成所述感光层的所述规定部分的固化膜图案的第3工序，
所述感光性树脂组合物含有肟酯化合物和/或膦氧化物化合物作为所述光聚合引发剂。
2.根据权利要求1所述的触摸面板的制造方法，其中，所述感光性树脂组合物进一步含有紫外线吸收剂。
3.根据权利要求2所述的触摸面板的制造方法，其中，所述紫外线吸收剂是在360nm以下的波长区域具有最大吸收波长的物质。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的触摸面板的制造方法，其中，所述感光层在365nm处的吸光度为0.4以下、在334nm处的吸光度为0.4以上。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的触摸面板的制造方法，其中，所述感光层在400～700nm下的可见光透射率的最小值为85％以上。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的触摸面板的制造方法，其中，所述感光层的CIELAB表色系中的b*为-0.2～1.0。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的触摸面板的制造方法，其中，准备具备支撑膜和设置在该支撑膜上的由所述感光性树脂组合物构成的感光层的感光性元件，将该感光性元件的感光层转印在所述基材上来设置所述感光层。
CN201710554942.8A 2011-12-05 2012-12-04 树脂固化膜及其图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法 Pending CN107256105A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2011/078104 WO2013084282A1 (ja) 2011-12-05 2011-12-05 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
JPPCT/JP2011/078104 2011-12-05
CN201280059872.4A CN103988154B (zh) 2011-12-05 2012-12-04 树脂固化膜图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法及树脂固化膜

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201280059872.4A Division CN103988154B (zh) 2011-12-05 2012-12-04 树脂固化膜图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法及树脂固化膜

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107256105A true CN107256105A (zh) 2017-10-17

Family

ID=48573690

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201280059872.4A Active CN103988154B (zh) 2011-12-05 2012-12-04 树脂固化膜图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法及树脂固化膜
CN201280059908.9A Pending CN103999023A (zh) 2011-12-05 2012-12-04 树脂固化膜图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法以及树脂固化膜
CN201710554942.8A Pending CN107256105A (zh) 2011-12-05 2012-12-04 树脂固化膜及其图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法
CN201710554870.7A Pending CN107272349A (zh) 2011-12-05 2012-12-04 树脂固化膜及其图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201280059872.4A Active CN103988154B (zh) 2011-12-05 2012-12-04 树脂固化膜图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法及树脂固化膜
CN201280059908.9A Pending CN103999023A (zh) 2011-12-05 2012-12-04 树脂固化膜图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法以及树脂固化膜

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710554870.7A Pending CN107272349A (zh) 2011-12-05 2012-12-04 树脂固化膜及其图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法

Country Status (6)

Country Link
US (4) US9348223B2 (zh)
JP (3) JP5304968B1 (zh)
KR (4) KR20140101783A (zh)
CN (4) CN103988154B (zh)
TW (3) TWI509355B (zh)
WO (3) WO2013084282A1 (zh)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013084282A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
WO2013084283A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
JP6361191B2 (ja) * 2014-03-14 2018-07-25 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びタッチパネルの製造方法
US10642087B2 (en) 2014-05-23 2020-05-05 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
US10901125B2 (en) 2014-05-23 2021-01-26 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
KR102582577B1 (ko) * 2014-05-23 2023-09-25 가부시끼가이샤 레조낙 레지스트 패턴의 형성 방법, 프린트 배선판의 제조 방법, 투영 노광용 감광성 수지 조성물 및 감광성 엘리먼트
JP2016021170A (ja) * 2014-07-15 2016-02-04 日立化成株式会社 静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置
KR101650796B1 (ko) 2014-07-30 2016-08-25 현대자동차주식회사 조절 노브 장치
JP6284913B2 (ja) * 2014-08-29 2018-02-28 富士フイルム株式会社 タッチパネル電極保護膜形成用組成物、転写フィルム、積層体、タッチパネル用電極の保護膜及びその形成方法、静電容量型入力装置、並びに、画像表示装置
WO2016047691A1 (ja) 2014-09-24 2016-03-31 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、樹脂パターンの製造方法、硬化膜及び表示装置
WO2017057348A1 (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 富士フイルム株式会社 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極保護膜、積層体、積層体の製造方法および静電容量型入力装置
JP6499568B2 (ja) * 2015-11-30 2019-04-10 富士フイルム株式会社 感光性組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、タッチパネル、及び、表示装置
JP6824261B2 (ja) * 2016-05-31 2021-02-03 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、転写フィルム、加飾パターン、及びタッチパネル
JP2017220033A (ja) * 2016-06-07 2017-12-14 コニカミノルタ株式会社 透明面状デバイス及び透明面状デバイスの製造方法
CN110462560B (zh) * 2017-03-28 2023-07-28 株式会社力森诺科 转印型感光性膜
KR102139407B1 (ko) 2017-09-13 2020-07-29 주식회사 엘지화학 감광재 바인더의 모노머 정량분석방법
IT201800005212A1 (it) 2018-05-09 2019-11-09 Dispositivo distanziatore livellante
US11126033B2 (en) 2018-11-28 2021-09-21 Eyesafe Inc. Backlight unit with emission modification
US10955697B2 (en) 2018-11-28 2021-03-23 Eyesafe Inc. Light emission modification
US11592701B2 (en) 2018-11-28 2023-02-28 Eyesafe Inc. Backlight unit with emission modification
US11810532B2 (en) 2018-11-28 2023-11-07 Eyesafe Inc. Systems for monitoring and regulating harmful blue light exposure from digital devices
JP7469852B2 (ja) 2019-04-22 2024-04-17 東友ファインケム株式会社 タッチセンサパネル及び光学積層体
WO2021010058A1 (ja) * 2019-07-12 2021-01-21 富士フイルム株式会社 転写フィルム、積層体の製造方法およびタッチパネルの製造方法
US10971660B2 (en) 2019-08-09 2021-04-06 Eyesafe Inc. White LED light source and method of making same
KR20220139367A (ko) 2020-03-19 2022-10-14 후지필름 가부시키가이샤 전사 필름, 감광성 재료, 패턴 형성 방법, 회로 기판의 제조 방법, 터치 패널의 제조 방법
JP7407272B2 (ja) 2020-03-19 2023-12-28 富士フイルム株式会社 感光性材料、転写フィルム、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法、パターン形成方法
CN116982002A (zh) 2021-03-16 2023-10-31 富士胶片株式会社 转印膜、感光性组合物
JP2023020450A (ja) 2021-07-30 2023-02-09 富士フイルム株式会社 タッチパネルセンサー、及び、タッチパネルセンサーの製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010095680A1 (ja) * 2009-02-20 2010-08-26 Dic株式会社 重合性液晶組成物
CN101918397A (zh) * 2008-04-10 2010-12-15 株式会社Lg化学 光活性化合物以及含有该光活性化合物的感光性树脂组合物
CN102124529A (zh) * 2008-08-22 2011-07-13 日立化成工业株式会社 感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板
WO2011129210A1 (ja) * 2010-04-14 2011-10-20 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、それを用いた保護膜およびタッチパネル部材

Family Cites Families (121)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63113585A (ja) 1986-10-06 1988-05-18 アンダス・コーポレイション 透明電極ならびにその製法および用途
JPH03281622A (ja) 1990-03-30 1991-12-12 Hitachi Ltd 光硬化性ジアリルフタレート樹脂組成物及びそれを用いたプリント回路板
JPH06306145A (ja) 1993-04-23 1994-11-01 Nippon Kayaku Co Ltd エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JPH07159998A (ja) 1993-12-06 1995-06-23 Japan Synthetic Rubber Co Ltd レジスト組成物
JP3363232B2 (ja) 1993-12-29 2003-01-08 東京応化工業株式会社 耐熱性感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性ドライフィルム
JP3380616B2 (ja) 1994-03-16 2003-02-24 日立化成工業株式会社 カバーレイ形成用感光性樹脂組成物、感光性フィルム、カバーレイの製造方法及びカバーレイ
JPH07256832A (ja) * 1994-03-17 1995-10-09 Mitsubishi Rayon Co Ltd 架橋硬化型樹脂組成物積層体
JP3882232B2 (ja) 1996-09-27 2007-02-14 三菱化学株式会社 透明タッチパネル
JPH11133617A (ja) 1997-10-28 1999-05-21 Hitachi Chem Co Ltd ケミカルミーリング用感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
JP2000332424A (ja) * 1999-05-21 2000-11-30 Fuji Photo Film Co Ltd 多層配線基板用の電気絶縁性樹脂組成物、バイアホールの形成法および多層配線基板の製造方法
KR20010009058A (ko) * 1999-07-07 2001-02-05 성재갑 감광성 수지 조성물
JP2001162757A (ja) 1999-12-10 2001-06-19 Hitachi Chem Co Ltd ラミネート方法
KR100761184B1 (ko) 2000-04-20 2007-10-04 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. 경화성 수지 조성물, 경화 필름 및 복합 제품
TWI296738B (zh) 2001-03-29 2008-05-11 Hitachi Chemical Co Ltd
KR100905478B1 (ko) * 2001-10-05 2009-07-02 가부시키가이샤 브리지스톤 투명 전도성 필름 및 터치패널
JP3901543B2 (ja) 2002-02-26 2007-04-04 株式会社カネカ 感光性樹脂組成物及び感光性カバーレイフィルム
JP3855998B2 (ja) 2002-02-28 2006-12-13 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP2003345015A (ja) 2002-05-29 2003-12-03 Sumitomo Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2005039097A (ja) 2003-07-16 2005-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 銅箔の配線形成方法と配線転写基材及び配線基板
CN1580953A (zh) 2003-08-15 2005-02-16 富士胶片株式会社 感光性转印片、感光性层合体、图像花样的形成方法以及布线花样的形成方法
JP4449402B2 (ja) 2003-08-25 2010-04-14 日立化成工業株式会社 永久レジスト用感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板
JP4555938B2 (ja) 2003-09-24 2010-10-06 日立化成工業株式会社 液晶表示装置用スペーサー及びこれの製造方法、並びにこれを製造するための感光性エレメント
JP4539165B2 (ja) 2004-05-12 2010-09-08 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、スペーサー、およびその形成方法、並びに液晶表示素子
TW200613903A (en) 2004-05-26 2006-05-01 Showa Denko Kk Photosensitive resin composition, and cured product and use thereof
TW200540565A (en) 2004-06-08 2005-12-16 Sumitomo Chemical Co Photosensitive resin composition
JP2006023716A (ja) 2004-06-08 2006-01-26 Sumitomo Chemical Co Ltd 感光性樹脂組成物
CN1707385A (zh) 2004-06-11 2005-12-14 瀚群科技股份有限公司 具生物辨识功能的计算机无线周边装置
US20080268374A1 (en) 2004-07-14 2008-10-30 Fujifilm Corporation Photosensitive Composition, Pattern Forming Material, Photosensitive Laminate, Pattern Forming Apparatus, and Pattern Forming Process
JP2006065073A (ja) 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2006085053A (ja) 2004-09-17 2006-03-30 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像形成材料
KR101225525B1 (ko) 2004-10-26 2013-01-23 쇼와 덴코 가부시키가이샤 티올 화합물 및 이를 사용한 감광성 조성물
JP2006221099A (ja) 2005-02-14 2006-08-24 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法。
JP2006243464A (ja) 2005-03-04 2006-09-14 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 平版印刷版材料及び画像形成方法
JP2006350297A (ja) 2005-05-19 2006-12-28 Hitachi Chem Co Ltd 液晶スペーサー及びその製造方法、液晶スペーサー用感光性樹脂組成物並びに感光性エレメント
CN104133343B (zh) * 2005-05-23 2016-11-16 日立化成株式会社 感光性树脂组合物，感光性元件，光致抗蚀图形的形成方法及印刷电路板的制造方法
US20100129752A1 (en) 2005-05-30 2010-05-27 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive element employing the same, method of forming resist pattern, and process for producing printed wiring board
KR100787341B1 (ko) 2005-09-06 2007-12-18 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 수지 조성물 및 그의 경화물 및 그것을 이용하여 얻어지는인쇄 배선판
JP5384785B2 (ja) 2005-09-06 2014-01-08 太陽ホールディングス株式会社 樹脂組成物及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
JP4678271B2 (ja) 2005-09-26 2011-04-27 Ｊｓｒ株式会社 感光性樹脂組成物、液晶表示パネル用保護膜およびスペーサー、それらを具備してなる液晶表示パネル
CN100568097C (zh) 2005-10-05 2009-12-09 旭化成电子材料株式会社 感光性树脂组合物及层压体
US7700264B2 (en) 2005-10-31 2010-04-20 Nippon Paint Co., Ltd. Photosensitive resin composition, image forming material and image forming method using thereof
CN101384961A (zh) * 2006-02-21 2009-03-11 日立化成工业株式会社 感光性树脂组合物、抗蚀图案的形成方法、印刷电路板的制造方法以及等离子显示屏用基板的制造方法
JP4711862B2 (ja) * 2006-03-08 2011-06-29 富士フイルム株式会社 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板
JP4635925B2 (ja) 2006-03-22 2011-02-23 Ｔｄｋ株式会社 転写用導電性フィルム及びそれを用いた透明導電層が付与された物体
JP5188391B2 (ja) 2006-05-09 2013-04-24 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物
JP4733184B2 (ja) 2006-06-12 2011-07-27 シャープ株式会社 タッチパネル、表示装置及びタッチパネルの製造方法
JP4994136B2 (ja) 2006-07-26 2012-08-08 富士フイルム株式会社 感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法並びに液晶表示装置用基板、及び液晶表示装置
JP5051365B2 (ja) * 2006-08-24 2012-10-17 Ｊｓｒ株式会社 感光性樹脂組成物、表示パネル用スペーサーおよび表示パネル
JP2008127545A (ja) 2006-11-24 2008-06-05 Emulsion Technology Co Ltd 粘着性樹脂組成物、粘着テープ及び電子部品の加工方法
KR20080053199A (ko) 2006-12-08 2008-06-12 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 보호막용 열경화성 조성물, 경화물, ｔｆｔ 액티브매트릭스 기판, 및 액정 표시 장치
EP1958994B1 (en) * 2007-01-31 2010-12-08 FUJIFILM Corporation Ink set for inkjet recording and inkjet recording method
JP5013913B2 (ja) 2007-03-23 2012-08-29 富士フイルム株式会社 離画壁用感光性樹脂膜の形成方法、感光性転写材料、離画壁付基板、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置
JP2009048170A (ja) 2007-07-24 2009-03-05 Kaneka Corp 感光性ドライフィルムレジスト、これを用いたプリント配線板、及び、プリント配線板の製造方法
TW200910005A (en) 2007-07-26 2009-03-01 Fujifilm Corp Photosensitive composition, photosensitive resin transfer film, and method for producing a photospacer, and substrate for a liquid crystal display device and liquid crystal display device
JP2009073022A (ja) 2007-09-20 2009-04-09 Fujifilm Corp 転写用積層材料及び画像形成方法
JP2009122224A (ja) 2007-11-13 2009-06-04 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
JP5257648B2 (ja) * 2007-11-27 2013-08-07 日立化成株式会社 感光性エレメント及びその製造方法
KR101418735B1 (ko) * 2007-12-25 2014-07-11 가부시키가이샤 아데카 옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제
JP2009186838A (ja) 2008-02-07 2009-08-20 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、フォトスペーサー及びその形成方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置
JP5516844B2 (ja) 2008-03-24 2014-06-11 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、スペーサーおよびその製造方法ならびに液晶表示素子
KR20090101848A (ko) * 2008-03-24 2009-09-29 제이에스알 가부시끼가이샤 감방사선성 수지 조성물, 스페이서 및 그의 제조 방법 및 액정 표시 소자
JP5103254B2 (ja) 2008-04-16 2012-12-19 株式会社ジャパンディスプレイイースト 静電容量方式タッチパネルおよびそれを備える画面入力型表示装置
JP5201066B2 (ja) 2008-06-19 2013-06-05 Ｊｓｒ株式会社 タッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物とその形成方法
KR20090132499A (ko) 2008-06-19 2009-12-30 제이에스알 가부시끼가이샤 감방사선성 수지 조성물과 그로부터 형성된 터치 패널용 보호막 및 그 형성 방법
JP2010000434A (ja) 2008-06-19 2010-01-07 Jsr Corp タッチパネルの製造方法
JP5179988B2 (ja) * 2008-07-29 2013-04-10 富士フイルム株式会社 感光性組成物、並びに感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板
JP5274151B2 (ja) * 2008-08-21 2013-08-28 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP2010085929A (ja) 2008-10-02 2010-04-15 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサーとその製造法
US8486591B2 (en) * 2008-10-24 2013-07-16 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for color filter and color filter prepared using the same
KR101082489B1 (ko) * 2008-11-05 2011-11-11 주식회사 엘지화학 불포화 이중 결합을 가진 옥심 에스테르를 함유한 광중합 개시제 및 이를 포함한 감광성 수지 조성물
TWI521300B (zh) 2008-11-18 2016-02-11 Sumitomo Chemical Co Photosensitive resin composition and display device
JP5504689B2 (ja) 2008-11-28 2014-05-28 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物およびそれを用いたタッチパネル用材料
JP5396833B2 (ja) 2008-11-28 2014-01-22 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子のスペーサーおよび保護膜ならびにそれらの形成方法
JP5607346B2 (ja) 2009-01-06 2014-10-15 住友化学株式会社 感光性樹脂組成物、塗膜、パターン及び表示装置
JP2010160670A (ja) 2009-01-08 2010-07-22 Seiko Epson Corp タッチパネルの製造方法、タッチパネル、表示装置、及び電子機器
JP5435596B2 (ja) * 2009-02-13 2014-03-05 エルジー ケム． エルティーディ． 光活性化合物及びそれを含む感光性樹脂組成物
JP4344400B1 (ja) 2009-02-16 2009-10-14 株式会社日本化学工業所 オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
JP2010204532A (ja) 2009-03-05 2010-09-16 Dnp Fine Chemicals Co Ltd 保護膜用熱硬化性樹脂組成物およびカラーフィルタ
CN102378940A (zh) 2009-03-30 2012-03-14 旭化成电子材料株式会社 感光性树脂组合物及其层压体
JP2010237449A (ja) 2009-03-31 2010-10-21 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラー表示装置
JP5383288B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム、樹脂パターン及び樹脂パターンの製造方法、並びに液晶表示装置用基板及び液晶表示装置
JP2010254966A (ja) 2009-03-31 2010-11-11 Jsr Corp 電線被覆用放射線硬化性樹脂組成物
JP5593790B2 (ja) 2009-04-27 2014-09-24 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法
EP2450915A4 (en) 2009-06-30 2014-10-22 Dainippon Ink & Chemicals METHOD FOR FORMING THE STRUCTURE FOR A TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
KR20110002609A (ko) 2009-07-02 2011-01-10 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 컬러 필터 및 이를 포함하는 표시 장치
JP2011028594A (ja) 2009-07-28 2011-02-10 Toshiba Mobile Display Co Ltd タッチパネル
JP2011039165A (ja) 2009-08-07 2011-02-24 Hitachi Chem Co Ltd アルカリ可溶性光硬化型組成物、該組成物を使用した硬化塗膜及び透明部材
KR101144152B1 (ko) 2009-11-17 2012-05-09 (주)삼원에스티 터치패널센서
JP4601710B1 (ja) 2009-09-11 2010-12-22 日本写真印刷株式会社 狭額縁タッチ入力シートとその製造方法
JP5435556B2 (ja) 2009-09-16 2014-03-05 日本写真印刷株式会社 導電性シート、積層導電性シート及び導電性パターンシート、並びに積層導電性シートの製造方法、透明アンテナ又は透明ディスプレイ又はタッチ入力シートの製造方法
JP5259539B2 (ja) 2009-09-16 2013-08-07 日本写真印刷株式会社 保護フィルム付き狭額縁タッチ入力シート、保護フィルム付き積層狭額縁タッチ入力シート及びこれらの製造方法
JP5515584B2 (ja) * 2009-10-02 2014-06-11 Ｊｓｒ株式会社 レジストパターンコーティング剤及びレジストパターン形成方法
CN102576581B (zh) 2009-10-15 2015-07-22 东洋纺织株式会社 导电性膏、导电性膜、触摸面板以及导电性薄膜的制造方法
CN102597042A (zh) 2009-10-29 2012-07-18 日本化药株式会社 光半导体密封用可固化树脂组合物及其固化物
JP2011128674A (ja) 2009-12-15 2011-06-30 Sony Corp 静電容量型入力装置およびその製造方法
JP5413228B2 (ja) 2010-02-09 2014-02-12 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ製造方法およびタッチパネルセンサ
JP2011186208A (ja) 2010-03-09 2011-09-22 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組成物
TWI477904B (zh) 2010-03-26 2015-03-21 Sumitomo Chemical Co Photosensitive resin composition
JP2011227467A (ja) 2010-03-31 2011-11-10 Toray Ind Inc 感光性黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス基板
CN102214024B (zh) 2010-04-08 2013-06-26 新应材股份有限公司 触控板与其制造方法以及具有该触控板的触控显示面板
JP5627273B2 (ja) 2010-04-15 2014-11-19 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
WO2011129312A1 (ja) * 2010-04-16 2011-10-20 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、およびタッチパネル用部材
JP5617329B2 (ja) * 2010-04-28 2014-11-05 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性樹脂組成物およびタッチパネル用絶縁膜
JP2011237736A (ja) 2010-05-13 2011-11-24 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性フィルム及び永久レジスト
TW201214033A (en) 2010-06-17 2012-04-01 Sumitomo Chemical Co Photosensitive resin composition
TWI417657B (zh) 2010-09-01 2013-12-01 Daxin Materials Corp 感光性樹脂組成物
US9051397B2 (en) * 2010-10-05 2015-06-09 Basf Se Oxime ester
JP5150842B2 (ja) 2011-02-25 2013-02-27 綜研化学株式会社 タッチパネル用部材およびタッチパネル
JP5729329B2 (ja) 2011-03-31 2015-06-03 Jsr株式会社 感放射線性組成物、並びに硬化膜及びその形成方法
EP2692525B1 (en) 2011-03-28 2015-10-28 Toray Industries, Inc. Conductive laminated body and touch panel
US9164642B2 (en) * 2011-08-02 2015-10-20 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Touch panel
WO2013018978A1 (ko) * 2011-08-04 2013-02-07 주식회사 엘지화학 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
JP5257558B1 (ja) * 2011-10-03 2013-08-07 日立化成株式会社 導電パターンの形成方法、導電パターン基板及びタッチパネルセンサ
JP2013238837A (ja) 2011-11-21 2013-11-28 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 感光性ドライフィルム、ならびにそれを用いた保護膜およびタッチパネル用絶縁膜
JP2013200577A (ja) 2011-12-05 2013-10-03 Hitachi Chemical Co Ltd 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、タッチパネルの製造方法及び樹脂硬化膜
WO2013084283A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
WO2013084284A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
JP5304971B1 (ja) 2011-12-05 2013-10-02 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜及びタッチパネル
WO2013084282A1 (ja) * 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
JP6233240B2 (ja) * 2013-09-26 2017-11-22 信越化学工業株式会社 パターン形成方法
CN104749888B (zh) * 2013-12-30 2019-12-10 罗门哈斯电子材料有限公司 光致抗蚀剂图案修整组合物和方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101918397A (zh) * 2008-04-10 2010-12-15 株式会社Lg化学 光活性化合物以及含有该光活性化合物的感光性树脂组合物
CN102124529A (zh) * 2008-08-22 2011-07-13 日立化成工业株式会社 感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板
WO2010095680A1 (ja) * 2009-02-20 2010-08-26 Dic株式会社 重合性液晶組成物
WO2011129210A1 (ja) * 2010-04-14 2011-10-20 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、それを用いた保護膜およびタッチパネル部材

Also Published As

Publication number Publication date
US20160223906A1 (en) 2016-08-04
US20180321587A1 (en) 2018-11-08
TW201327041A (zh) 2013-07-01
KR20140097356A (ko) 2014-08-06
TWI509355B (zh) 2015-11-21
JP2020073957A (ja) 2020-05-14
JPWO2013084886A1 (ja) 2015-04-27
KR20140101783A (ko) 2014-08-20
JP5304968B1 (ja) 2013-10-02
KR20170104644A (ko) 2017-09-15
US20170184965A1 (en) 2017-06-29
CN103988154B (zh) 2017-07-11
CN107272349A (zh) 2017-10-20
TW201329631A (zh) 2013-07-16
US9964849B2 (en) 2018-05-08
US9348223B2 (en) 2016-05-24
US20140363767A1 (en) 2014-12-11
KR20180077336A (ko) 2018-07-06
US10386719B2 (en) 2019-08-20
TWI550349B (zh) 2016-09-21
US10663861B2 (en) 2020-05-26
WO2013084886A1 (ja) 2013-06-13
JP6589953B2 (ja) 2019-10-16
JP2017223994A (ja) 2017-12-21
JP7036094B2 (ja) 2022-03-15
WO2013084282A1 (ja) 2013-06-13
CN103999023A (zh) 2014-08-20
KR102174783B1 (ko) 2020-11-05
WO2013084872A1 (ja) 2013-06-13
CN103988154A (zh) 2014-08-13
TW201602728A (zh) 2016-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103988154B (zh) 树脂固化膜图案的形成方法、感光性树脂组合物、感光性元件、触摸面板的制造方法及树脂固化膜
CN103975294B (zh) 触摸面板用电极的保护膜的形成方法、感光性树脂组合物及感光性元件、以及触摸面板的制造方法
CN103975296A (zh) 触摸面板用电极的保护膜的形成方法、感光性树脂组合物及感光性元件、以及触摸面板的制造方法
CN104054042B (zh) 触摸面板用电极的保护膜及触摸面板
CN105264441A (zh) 带有固化膜的透明基材的制造方法、感光性树脂组合物、感光性元件及电子部件
JP2013200577A (ja) 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、タッチパネルの製造方法及び樹脂硬化膜
JP2015014783A (ja) 硬化膜付き透明基材の製造方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及び電子部品
CN106662818A (zh) 转印型感光性折射率调整膜
CN107850846A (zh) 转印型感光性折射率调整膜、折射率调整图案的形成方法及电子部件
JP2015146038A (ja) 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、タッチパネルの製造方法及び樹脂硬化膜
CN108136722A (zh) 转印型感光性折射率调整膜
CN106662811A (zh) 感光性树脂组合物、感光性膜、图案基板、感光性导电膜及导电图案基板
JP5790783B2 (ja) 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、タッチパネルの製造方法及び樹脂硬化膜

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20171017