CN104054042B - 触摸面板用电极的保护膜及触摸面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种触摸面板用电极的保护膜，其是通过使由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂的感光性树脂组合物构成的感光层的规定部分固化而获得的触摸面板用电极的保护膜，其通过热裂解气相色谱质谱分析会检测到庚腈以及苯甲酸。

Description

触摸面板用电极的保护膜及触摸面板
技术领域
本发明涉及触摸面板用电极的保护膜及具有该保护膜的触摸面板。
背景技术
从个人电脑或电视的大型电子设备到汽车导航、手机、电子词典等小型电子设备以及OA/FA设备等的显示设备中都要使用液晶显示元件或触摸面板(触摸传感器)。这些液晶显示元件或触摸面板中设有由透明导电电极材料构成的电极。作为透明导电电极材料，已知有ITO(铟锡氧化物)、氧化铟及氧化锡，这些材料由于显示高的可见光透射率，因此作为液晶显示元件用基板等的电极材料成为主流。
触摸面板已经实用化了各种方式，近年来静电电容方式的触摸面板的利用不断发展。静电电容方式触摸面板中，当作为导电体的指尖接触到触摸输入面时，指尖与导电膜之间发生静电电容耦合，形成电容器。因此，静电电容方式触摸面板通过捕捉指尖接触位置处的电荷变化来检测其坐标。
特别是投影型静电电容方式的触摸面板，由于可进行指尖的多点检测，因此具备可进行复杂的指示这一良好的操作性，因其操作性的优良，作为手机或便携式音乐播放器等具有小型显示装置的设备中的显示面上的输入装置的利用不断发展。
一般来说，投影型静电电容方式的触摸面板中，为了表现利用X轴和Y轴的2维坐标，多个X电极和与该X电极正交的多个Y电极形成2层结构，作为该电极，使用ITO(铟锡氧化物)。
但是，由于触摸面板的边框区域是无法检测触摸位置的区域，因此将其边框区域的面积变窄是用于提高产品价值的重要要素。在边框区域上，为了传送触摸位置的检测信号，需要金属配线，而为了谋求边框面积的狭小化，需要将金属配线的宽度变窄。由于ITO的导电性不够高，因此通常金属配线由铜形成。
但是，上述那样的触摸面板在被指尖接触时，有时水分或盐分等腐蚀成分会从传感区域侵入到内部。腐蚀成分侵入到触摸面板的内部时，金属配线会腐蚀，有可能发生电极与驱动用电路间的电阻的增加或者断线。
为了防止金属配线的腐蚀，公开了在金属上形成有绝缘层的静电电容方式的投影型触摸面板(例如专利文献1)。该触摸面板中，利用等离子体化学气相沉积法(等离子体CVD法)在金属上形成二氧化硅层，防止了金属的腐蚀。但是，由于该手法使用等离子体CVD法，因此存在需要高温处理而使基材受到限定、制造成本变高等问题。
另外，作为在所需位置上设置抗蚀剂膜的方法，已知有在规定的基材上设置由感光性树脂组合物构成的感光层、并将该感光层进行曝光、显影的方法(例如专利文献2～4)。另外，在专利文献5及6中公开了通过上述方法形成触摸面板的保护膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2011-28594号公报
专利文献2：日本特开平7-253666号公报
专利文献3：日本特开2005-99647号公报
专利文献4：日本特开平11-133617号公报
专利文献5：日本特开2010-27033号公报
专利文献6：日本特开2011-232584号公报
发明内容
发明要解决的课题
利用感光性树脂组合物制作保护膜与等离子体CVD法相比，可期待成本的缩减。但是，在触摸面板用电极上形成保护膜时，如果树脂膜的厚度大，则有时在有膜的位置和没有膜的位置上高度差明显。为此，优选使保护膜尽可能地薄。
但是尚没有在厚度为10μm以下的水平下对由感光性树脂组合物形成的膜的防锈性进行研究的例子。
另外，如果还考虑到传感区域的保护，则在利用感光性树脂组合物制作保护膜时，要求树脂固化膜的透明性。
本发明的目的在于提供具有所希望的形状、透明性优异、并且即使是薄的膜也可具有充分的防锈性的触摸面板用电极的保护膜、以及具有这样保护膜的触摸面板。
用于解决课题的手段
为了解决上述课题，本发明人们进行潜心研究的结果发现，由特定的感光性树脂组合物形成、且通过热裂解气相色谱质谱分析会检测到特定的化合物的树脂固化膜可以具有所希望的形状、透明性优异、并且即使是10μm以下的厚度也具有充分的防锈性、适合作为触摸面板用电极的保护膜，从而完成了本发明。
本发明提供一种触摸面板用电极的保护膜，其是通过使由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂的感光性树脂组合物构成的感光层的规定部分固化而获得的触摸面板用电极的保护膜，其通过热裂解气相色谱质谱分析会检测到庚腈以及苯甲酸。
根据本发明的触摸面板用电极的保护膜，可以具有所希望的形状、透明性优异、并且即使是厚度为10μm以下的薄的膜也可具有充分的防锈性。
对于本发明的触摸面板用电极的保护膜可以发挥上述效果的理由，本发明人们如下认为。如果保护膜的厚度变小，则腐蚀成分容易侵入到触摸面板用电极中。与此相对，含有成为庚腈以及苯甲酸的检测源的成分的感光层被认为是可以充分具有透明性以及图案形成性、且可以形成致密固化状态的组成。本发明人们推测，通过由这种感光层形成触摸面板用电极的保护膜，可以抑制腐蚀成分的侵入、实现充分防锈性和透明性及图案形成性的兼顾。
本发明的触摸面板用电极的保护膜中，从进一步提高防锈性的观点出发，热裂解气相色谱质谱分析中的苯甲酸的检测峰面积优选相对于庚腈的检测峰面积为1～10％。
另外，本发明的触摸面板用电极的保护膜优选400～700nm下的可见光透射率的最小值为90％以上。
进而，从提供具有良好形状的保护膜的观点出发，上述粘合剂聚合物优选具有羧基且酸值为75mgKOH/g以上。
另外，从进一步提高防锈性的观点出发，上述粘合剂聚合物优选羟值为50mgKOH/g以下。
另外，本发明的触摸面板用电极的保护膜优选厚度为10μm以下。
本发明还提供一种具有上述本发明的保护膜的触摸面板。
发明的效果
根据本发明，能够提供可以具有所希望的形状、透明性优异、并且即使是薄的膜也具有充分的防锈性的触摸面板用电极的保护膜、以及具有这样保护膜的触摸面板。
附图说明
图1为表示用于形成本发明的触摸面板用电极的保护膜的感光性元件的一个实施方式的示意截面图。
图2为用于说明本发明的触摸面板用电极的保护膜的形成方法的一个实施方式的示意截面图。
图3为表示静电电容式的触摸面板的一例的示意俯视图。
图4为表示静电电容式的触摸面板的另一例的示意俯视图。
图5(a)为图3所示C部分的沿V-V线的部分截面图，图5(b)为表示另一方案的部分截面图。
图6为对实施例6中获得的保护膜进行热裂解气相色谱质谱分析时的气相色谱图。
具体实施方式
以下对用于实施本发明的方式进行详细说明。但本发明并不限定于以下的实施方式。此外，在本说明书中，(甲基)丙烯酸是指丙烯酸或者甲基丙烯酸，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯或者与其对应的甲基丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰基是指丙烯酰基或者甲基丙烯酰基。另外，(聚)氧化乙烯链是指氧化乙烯基或者聚氧化乙烯基，(聚)氧化丙烯链是指氧化丙烯基或者聚氧化丙烯基。
另外，本说明书中“工序”的用语不仅是指独立的工序，在与其它工序无法明确区别时，只要能实现该工序所预期的作用则也包括在本用语中。另外，本说明书中用“～”表示的数值范围是指将“～”前后记载的数值分别作为最小值及最大值包括在内的范围。
此外，本说明书中，组合物中的各成分的含量在组合物中含有多个相 当于各成分的物质时，如果没有特别说明则是指组合物中存在的该多个物质的合计量。
本发明的触摸面板用电极的保护膜是通过使由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂的感光性树脂组合物构成的感光层的规定部分固化而得到的触摸面板用电极的保护膜，其特征在于，通过热裂解气相色谱质谱分析会检测到庚腈以及苯甲酸。
本申请说明书中，保护膜的热裂解气相色谱质谱分析是对将测定样品在140℃下加热而生成的气体进行气相色谱质谱分析。上述的测定样品的加热时间在1～60分钟的范围内即可，优选为30分钟。以下示出热裂解气相色谱质谱分析的测定条件。
(热裂解气相色谱质谱分析的测定条件)
测定装置：GC/MS QP-2010(岛津制作所制、产品名)
色谱柱：HP-5MS(Agilent Technologie株式会社制、产品名)
烘箱温度：40℃下加热5分钟后、以15℃/min的比例升温至300℃
载气：氦,1.0mL/min
接口温度：280℃
离子源温度：250℃
样品注入量：0.1mL
保护膜的热裂解气相色谱质谱分析中的苯甲酸的检测峰面积优选相对于庚腈的检测峰面积为1～10％、更优选为1～9％、进一步优选为1～7％、特别优选为1～6％。苯甲酸的检测峰面积为1～10％时，能够更可靠地获得具有所希望的形状、透明性优异、并且即使是薄的膜也具有充分的防锈性这一本发明的效果。
接着，对可以用于获得本发明的触摸面板用电极的保护膜的感光性元件以及感光性树脂组合物进行说明。
图1为表示用于形成本发明的触摸面板用电极的保护膜的感光性元件的一个实施方式的示意截面图。图1所示的感光性元件1由支撑膜10、设置在支撑膜10上的由本实施方式的感光性树脂组合物构成的感光层20、以及设置在感光层20的与支撑膜10相反侧上的保护膜30构成。
通过使用上述感光性元件，可以形成本发明的触摸面板用电极的保护膜。
本说明书中，触摸面板用电极不仅包含位于触摸面板的传感区域的电极，还包含边框区域的金属配线。要设置保护膜的电极可以是其中任意一者，也可以是两者。
作为支撑膜10，可以使用聚合物膜。作为聚合物膜，例如可举出由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚醚砜等构成的膜。
支撑膜10的厚度从确保被覆性和抑制透过支撑膜10照射活性光线时的析像度降低的观点出发，优选为5～100μm、更优选为10～70μm、进一步优选为15～40μm、特别优选为20～35μm。
构成感光层20的本实施方式的感光性树脂组合物含有粘合剂聚合物(以下也称为(A)成分)、光聚合性化合物(以下也称为(B)成分)以及光聚合引发剂(以下也称为(C)成分)。在上述感光性树脂组合物中可以含有在通过活性光线照射制成固化物时在该固化物的热裂解中产生庚腈以及苯甲酸的成分。由含有这种成分的感光性树脂组合物形成的保护膜通过上述的热裂解气相色谱质谱分析会检测到庚腈以及苯甲酸。
作为(A)成分，例如可以使用具有羧基的聚合物。
本实施方式中，(A)成分优选是含有来自于(a)(甲基)丙烯酸以及(b)(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元的共聚物。
作为上述(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯以及(甲基)丙烯酸羟基乙酯。
上述共聚物还可以进一步在结构单元中含有可与上述的(a)成分和/或(b)成分发生共聚的其它单体。
作为可与上述的(a)成分和/或(b)成分发生共聚的其它单体，例如可以举出(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯腈、二丙酮(甲基)丙烯酰胺、苯乙烯以及乙烯基甲苯。在合成作为(A)成分的粘合剂聚合物时，上述的单体可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
作为(A)成分的粘合剂聚合物的重均分子量从析像度的立场出发，优选为10,000～200,000、更优选为15,000～150,000、进一步优选为 30,000～150,000、特别优选为30,000～100,000、极其优选为40,000～100,000。此外，重均分子量的测定条件设为与本申请说明书的实施例相同的测定条件。
对于作为(A)成分的粘合剂聚合物的酸值，从容易形成具有所希望的形状的保护膜的观点出发，可以设为75mgKOH/g以上，从谋求保护膜形状的控制容易性和保护膜的防锈性的兼顾的观点出发，优选为75～200mgKOH/g、更优选为75～150mgKOH/g、进一步优选为75～120mgKOH/g。
作为(A)成分的粘合剂聚合物的酸值可以如下测定。即首先精密称取作为酸值测定对象的粘合剂聚合物1g。在上述精密称取的粘合剂聚合物中加入丙酮30g，将其均匀溶解。接着，在上述溶液中滴加适量的作为指示剂的酚酞，使用0.1N的KOH水溶液进行滴定。然后，由下式算出酸值。
酸值＝0.1×Vf×56.1/(Wp×I/100)
式中，Vf表示KOH水溶液的滴定量(mL)，Wp表示测得的含有粘合剂聚合物的溶液的重量(g)，I表示测得的含有粘合剂聚合物的溶液中的不挥发成分的比例(质量％)。
此外，在将粘合剂聚合物以与合成溶剂或稀释溶剂等挥发成分混合的状态配合时，在精密称取前预先在比挥发成分的沸点高10℃以上的温度下加热1～4小时以除去挥发成分后测定酸值。
作为(A)成分的粘合剂聚合物的羟值从进一步提高防锈性的观点出发，优选为50mgKOH/g以下、更优选为45mgKOH/g以下。
(A)成分的羟值可以如下测定。
首先，精密称取作为羟值测定对象的粘合剂聚合物1g。在上述精密称取的粘合剂聚合物中加入10质量％的醋酸酐吡啶溶液10mL，将其均匀溶解，在100℃下加热1小时。加热后，加入水10mL和吡啶10mL，在100℃下加热10分钟。之后，使用自动滴定机(平沼产业株式会社制“COM-1700”)，利用0.5mol/L的氢氧化钾的乙醇溶液进行中和滴定，由此测定上述羟值。
此外，羟值可以由下式算出。
羟值＝(A-B)×f×28.05/试样(g)+酸值
式中，A表示空白试验中使用的0.5mol/L氢氧化钾乙醇溶液的量(mL)，B表示滴定中使用的0.5mol/L氢氧化钾乙醇溶液的量(mL)，f表示因数。
此外，在将粘合剂聚合物以与合成溶剂或稀释溶剂混合的状态配合时，预先在比上述合成溶剂或稀释溶剂的沸点高10℃以上的温度下加热1～4小时以除去上述溶剂后测定羟值。
作为(B)成分的光聚合性化合物，可以使用具有烯键式不饱和基团的光聚合性化合物。
作为具有烯键式不饱和基团的光聚合性化合物，例如可以举出单官能乙烯基单体、二官能乙烯基单体、具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体。
作为上述单官能乙烯基单体，例如可以举出作为上述(A)成分的优选例的共聚物的合成中使用的单体例示出的(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸烷基酯以及可与它们共聚的单体。
作为上述二官能乙烯基单体，例如可以举出聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A聚氧化乙烯聚氧化丙烯二(甲基)丙烯酸酯(2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基苯基)丙烷)、双酚A二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯等、多元羧酸(苯二甲酸酐等)与具有羟基及烯键式不饱和基团的物质(丙烯酸β-羟基乙酯、甲基丙烯酸β-羟基乙酯等)的酯化物。
作为上述具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体，例如可以举出三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等使α,β-不饱和羧酸与多元醇反应而获得的化合物；三羟甲基丙烷三缩水甘油基醚三丙烯酸酯等在含缩水甘油基的化合物上加成α,β-不饱和羧酸而获得的化合物。
其中，优选含有具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体。进而，从电极腐蚀的抑制力以及显影容易性的观点出发，优选含有选自具有来自季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物、具有来自二季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物以及具有来自三羟甲基丙烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少1种，更优选含有选自具有来自二季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物以及具有来自三羟甲基丙烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少1种。
这里，上述具有来自二季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯是指二季戊四醇与(甲基)丙烯酸的酯化物，该酯化物中还包含用氧化烯基改性了的化合物。上述的酯化物优选一分子中的酯键的数目为6，但也可以混合酯键的数目为1～5的化合物。
另外，上述具有来自三羟甲基丙烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物是指三羟甲基丙烷与(甲基)丙烯酸的酯化物，该酯化物中还包含用氧化烯基改性了的化合物。上述的酯化物优选一分子中的酯键的数目为3，但也可以混合酯键的数目为1～2的化合物。
上述的化合物可以单独使用1种或者组合使用2种以上。
在将分子内具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的单体与单官能乙烯基单体或二官能乙烯基单体组合使用时，对使用的比例没有特别限制，但从获得光固化性以及电极腐蚀的抑制力的观点出发，分子内具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的单体的比例优选相对于感光性树脂组合物中所含的光聚合性化合物的合计量100质量份为30质量份以上、更优选为50质量份以上、进一步优选为75质量份以上。
本实施方式的感光性树脂组合物中的(A)成分以及(B)成分的含量相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份分别为：优选(A)成分为35～85质量份、(B)成分为15～65质量份，更优选(A)成分为40～80质量份、(B)成分为20～60质量份，进一步优选(A)成分为50～70质量份、(B)成分为30～50质量份，特别优选(A)成分为55～65质量份、(B)成分为35～45质量份。特别是从维持透明性、形成图案的方面出发，(A)成分以及(B)成分的含量优选是相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份，(A)成分为35质量份以上、更优选为40质量份以上、进一步优选为50质量份以上、特别优选为55质量份以上。
通过使(A)成分以及(B)成分的含量在上述范围内，可以充分确保涂布性或感光性元件中的膜性、并且获得充分的感度，可以充分地确保光固化性、显影性以及电极腐蚀的抑制力。
本实施方式的感光性树脂组合物中，作为(C)成分的光聚合引发剂，优选含有肟酯化合物。通过含有肟酯化合物，可以在基材上形成即使厚度为10μm以下的薄的膜也具有充分的析像度的树脂固化膜图案。进而，还可以形成透明性也优异的树脂固化膜图案。
作为肟酯化合物，可以举出下述通式(C-1)所示的化合物。
上述通式(C-1)中，R1表示碳数为1～12的烷基或者碳数为3～20的环烷基。另外，只要不损害本发明的效果，则也可以在上述通式(C-1)中的芳香环上具有取代基。
上述通式(C-1)中，R1优选是碳数为3～10的烷基或者碳数为4～15的环烷基，更优选是碳数为4～8的烷基或者碳数为4～10的环烷基。
作为上述通式(C-1)所示的化合物，可以举出1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)]等。1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)]可以作为IRGACURE OXE01(BASF株式会社制、商品名)获得。
上述通式(C-1)中，特别是极其优选1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)]。此时,1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)]在针对由本实施方式的树脂组合物形成的保护膜进行热裂解气相色谱质谱分析时，会检测到庚腈以及苯甲酸。另外，此时所得保护膜的热裂解气相色谱质谱分析中的苯甲酸的检测峰面积相对于庚腈的检测峰面积优选为1～10％、更优选为1～9％、进一步优选为1～7％、特别优选为1～6％。苯甲酸的检测峰面积为1～10％时，可以更可靠地获得具有所希望的形状、透明性优异、并且即使是薄的膜也具有充分的防锈性这一本发明的效果。
(C)成分还可以并用使用除肟酯化合物以外的光聚合引发剂。作为除肟酯化合物以外的光聚合引发剂，例如可以举出二苯甲酮、4-甲氧基-4’-二甲基氨基二苯甲酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗啉代-丙酮-1等芳香族酮；苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻苯基醚等苯偶姻醚化合物、苯偶姻、甲基苯偶姻、乙基苯偶姻等苯偶姻化合物；苄基二甲基缩酮等苄基衍生物；9-苯基吖啶、1,7-双(9,9’-吖啶基)庚烷等吖啶衍生物；N-苯基甘氨酸、N-苯基甘氨酸衍生物；香豆素系化合物；噁唑系化合物。另外，还可以像二乙基噻吨酮和二甲基氨基苯甲酸的组合那样将噻吨酮系化合物和叔胺化合物组合。
作为(C)成分的光聚合引发剂的含量相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份优选为0.1～20质量份、更优选为1～10质量份、进一步优选为2～5质量份。
(C)成分的含量从光感度以及分辨率优异的方面出发，优选为0.1质量份以上，从可见光透射率优异的方面出发，优选为20质量份以下。
本实施方式的感光性树脂组合物从进一步提高保护膜的防锈性的观点出发，优选进一步含有选自具有巯基的三唑化合物、具有巯基的四唑化合物、具有巯基的噻二唑化合物、具有氨基的三唑化合物或者具有氨基的四唑化合物(以下也称为(D)成分)。作为具有巯基的三唑化合物，例如可以举出3-巯基-三唑(和光纯药株式会社制、商品名：3MT)。另外，作为具有巯基的噻二唑化合物，例如可以举出2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑(和光纯药株式会社制、商品名：ATT)。
作为上述具有氨基的三唑化合物，可以举出苯并三唑、1H-苯并三唑-1-乙腈、苯并三唑-5-羧酸、1H-苯并三唑-1-甲醇、羧基苯并三唑等上经氨基取代的化合物、3-巯基三唑、5-巯基三唑等含巯基的三唑化合物上经氨基取代的化合物。
其中，从可以进一步减少显影残渣的观点出发，优选含有含巯基的三唑化合物上经氨基取代的化合物。具体地例如可举出3-氨基-5-巯基三唑(BASF株式会社公司制、商品名：AMT)。
作为上述具有氨基的四唑化合物，可以举出下述通式(D-1)所示的化合物。
上述通式(D-1)中的R11及R12各自独立地表示氢、碳数为1～20的烷基、氨基、巯基或者羧基甲基，R11以及R12中的至少一个具有氨基。
作为烷基，可以举出甲基、乙基、丙基等。
上述通式(D-1)所示的四唑化合物中，优选5-氨基-1H-四唑、1-甲基-5-氨基-四唑、1-甲基-5-巯基-1H-四唑或者1-羧基甲基-5-氨基-四唑。
上述通式(D-1)所示的四唑化合物即使是其水溶性盐也是优选的。作为具体例，可以举出1-甲基-5-氨基-四唑的钠、钾、锂等碱金属盐等。
其中，从电极腐蚀的抑制力、与金属电极的密合性、显影容易性、透明性的观点出发，特别优选5-氨基-1H-四唑、1-甲基-5-巯基-1H-四唑。
这些四唑化合物及其水溶性盐可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
另外，从进一步提高要设置保护膜的电极表面具有铜、铜合金、镍合金等金属时的防锈性的观点出发，感光性树脂组合物优选进一步含有具有氨基的四唑化合物或者含巯基的三唑化合物上经氨基取代的化合物。此时，可以减少显影残渣，以良好的图案形成保护膜变得容易。作为其理由，可以认为是体现了表面的适度密合性。
含有具有氨基的四唑化合物或者含巯基的三唑化合物上经氨基取代的化合物时，从获得上述效果的方面出发，本实施方式的感光性树脂组合物以及感光性元件适合于用于保护形成铜等金属层以提高了导电性的触摸面板的边框区域上的电极的保护膜的形成。
本实施方式的感光性树脂组合物中的(D)成分的含量相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份优选为0.05～10.0质量份、更优选为0.1～2.0质量份、进一步优选为0.2～1.0质量份。
但是，在触摸面板的ITO电极上的一部分上设置保护膜时，例如在传感区域不形成保护膜、而在边框区域的ITO电极以及ITO电极上形成铜等金属层的部分上设置保护膜时，可以在整体上设置感光层后进行曝光、显影而除去不需要的部分。此时，感光层要求充分具有对所保护的电极的密合性、并且在不需要的部分上不产生显影残余那样良好的显影性。从兼顾这时的密合性和显影性的观点出发，本发明的感光性树脂组合物优选含有包含光聚合性不饱和键的磷酸酯(以下也称为(E)成分)。
作为(E)成分的包含光聚合性不饱和键的磷酸酯，从充分确保所形成的保护膜的防锈性、并且以高的水准兼顾对ITO电极的密合性和显影性的观点出发，优选使用具有下述结构的化合物作为磷酸酯。该化合物可以 获得PM21(日本化药株式会社制)等市售品。
本实施方式的感光性树脂组合物中，除了上述成分以外，还可以根据需要含有相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份各自为0.01～20质量份左右的硅烷偶联剂等密合性赋予剂、流平剂、增塑剂、填充剂、消泡剂、阻燃剂、稳定剂、抗氧化剂、香料、热交联剂、阻聚剂等。它们可以单独使用或组合使用2种以上。
这里，感光性树脂组合物的可见光透射率如下求得。首先，在支撑膜上按照干燥后的厚度达到10μm以下的方式涂布含有感光性树脂组合物的涂布液，通过将其干燥，形成感光性树脂组合物层(感光层)。接着，按照感光性树脂组合物层(感光层)与玻璃基板接触的方式使用层压机进行层压。这样，获得在玻璃基板上层叠有感光性树脂组合物层以及支撑膜的测定用试样。接着，对所得的测定用试样照射紫外线，将感光性树脂组合物层光固化后，使用紫外可见分光光度计对测定波长区域400～700nm下的透射率进行测定。
另外，上述的优选的透射率是指上述波长区域下的透射率的最小值。
如果在通常的可见光波长区域的光线即400～700nm的波长区域下的透射率为90％以上，则例如在保护触摸面板(触摸传感器)的传感区域的透明电极时、或者在保护触摸面板(触摸传感器)的边框区域的金属层(例如ITO电极上形成了铜层的层等)时从传感区域的端部可见保护膜时，可以充分抑制传感区域上的画像显示品质、色调、亮度的降低。
本实施方式的感光性树脂组合物可以用于在基材上形成感光层。例如可以制备能使感光性树脂组合物均匀地溶解或分散于溶剂中获得的涂布液，通过将其涂布在基材上而形成涂膜，通过干燥除去溶剂而形成感光层。
作为溶剂，从各成分的溶解性、涂膜形成的容易性等方面出发，可以使用酮、芳香族烃、醇、二醇醚、二醇烷基醚、二醇烷基醚醋酸酯、酯或二乙二醇。这些溶剂可以单独使用1种，也可以制成由2种以上的溶剂构 成的混合溶剂来使用。
上述溶剂中，优选使用乙二醇单丁基醚醋酸酯、二乙二醇单乙基醚醋酸酯、二乙二醇二乙醚、二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二甲基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚醋酸酯等。
本实施方式的感光性树脂组合物优选像感光性元件1那样制成感光性膜来使用。通过将感光性膜层叠在具有触摸面板用电极的基材上，可以容易地实现卷对卷工艺、可以缩短溶剂干燥工序等对制造工序的短缩和成本降低作出大的贡献。
感光性元件1的感光层20可以通过制备含有本实施方式的感光性树脂组合物的涂布液、将其涂布在支撑膜10上并进行干燥来形成。涂布液可以通过将上述的构成本实施方式的感光性树脂组合物的各成分均匀地溶解或分散在溶剂中来获得。
作为溶剂，没有特别限制，可以使用公知的溶剂，例如可以举出丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、甲苯、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、甲二醇、乙二醇、丙二醇、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇单甲基醚、乙二醇单丁基醚醋酸酯、二乙二醇单乙基醚醋酸酯、丙二醇单甲基醚醋酸酯、氯仿、二氯甲烷。这些溶剂可以单独使用1种，也可以制成由2种以上的溶剂构成的混合溶剂来使用。
作为涂布方法，例如可以举出刮刀涂布法、线棒涂布法、辊涂布、丝网涂布法、旋涂法、喷墨涂布法、喷涂法、浸涂法、凹版涂布法、帘涂法、模涂法。
对干燥条件没有特别限制，干燥温度优选设为60～130℃，干燥时间优选设为0.5～30分钟。
为了发挥对电极保护的充分效果、且尽可能减小由局部的电极保护膜形成所产生的触摸面板(触摸传感器)表面的高度差，感光层的厚度以干燥后的厚度计优选为1μm以上且9μm以下，更优选为1μm以上且8μm以下，进一步优选为2μm以上且8μm以下，特别优选为3μm以上且8μm以下。
本实施方式中，感光层20优选可见光线透射率的最小值为90％以上、更优选为92％以上、进一步优选为95％以上。
关于感光层20的粘度，在将感光性元件制成卷状时，从防止感光性树脂组合物从感光性元件1的端面渗出达1个月以上的方面以及防止在将感光性元件1切断时由于感光性树脂组合物的碎片附着于基板所引起的照射活性光线时的曝光不良或显影残余等的方面出发，在30℃下优选为15～100mPa·s、更优选为20～90mPa·s、进一步优选为25～80mPa·s。
另外，上述的粘度是如下得到的值：将由感光性树脂组合物形成的直径为7mm、厚度为2mm的圆形膜作为测定用试样，测定沿该试样的厚度方向、在30℃以及80℃下施加1.96×10-2N的负荷时的厚度的变化速度，由该变化速度假定牛顿流体而换算成粘度。
作为保护膜30(覆膜)，例如可以举出由聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯-醋酸乙烯酯共聚物以及聚乙烯-醋酸乙烯酯共聚物与聚乙烯的层叠膜等构成的膜。
保护膜30的厚度优选为5～100μm左右，但从卷成卷状进行保管的观点出发，优选为70μm以下、更优选为60μm以下、进一步优选为50μm以下、特别优选为40μm以下。
感光性元件1可以卷成卷状来进行保管或使用。
本实施方式中，还可以将含有上述的本实施方式的感光性树脂组合物以及溶剂的涂布液涂布在具有触摸面板用电极的基材上并干燥来设置由感光性树脂组合物构成的感光层20。在该用途时，感光层也优选满足上述的膜厚、可见光线透射率。
下面，对本发明的触摸面板用电极的保护膜的形成方法进行说明。图2是用于说明本发明的触摸面板用电极的保护膜的形成方法的一例的示意截面图。
本实施方式的触摸面板用电极的保护膜的形成方法具备：在具有触摸面板用电极110及120的基材100上设置由上述的本实施方式的感光性树脂组合物构成的感光层20的第1工序；通过包含紫外线的活性光线的照射使感光层20的规定部分固化的第2工序；以及在活性光线的照射后除去规定部分以外的感光层、形成覆盖电极的一部分或全部的由感光性树脂组合物的固化膜图案构成的保护膜22的第3工序。这样，可以获得作为触摸输入片材的带有保护膜的触摸面板(触摸传感器)200。
作为本实施方式中使用的基材100，可以举出通常作为触摸面板(触 摸传感器)用使用的玻璃板、塑料板、陶瓷板等基板。在该基板上设置作为形成树脂固化膜作为保护膜的对象的触摸面板用电极。作为电极，可以举出ITO、Cu、Al、Mo等电极、TFT等。另外，在基板上还可以在基板与电极之间设置有绝缘层。
图2所示的具有触摸面板用电极110及120的基材100例如可以按照以下步骤获得。在PET膜等基材100上按照ITO、Cu的顺序通过溅射形成金属膜后，在金属膜上粘贴蚀刻用感光性膜，形成所希望的抗蚀图案，将不需要的Cu用氯化铁水溶液等蚀刻液除去后，剥离除去抗蚀图案。
上述第1工序中，将本实施方式的感光性元件1的保护膜30除去后，一边加热感光性元件，一边将感光层20压接在基材100的设有触摸面板用电极110及120的表面上，由此进行转印、层叠(参照图2的(a))。
作为压接手段，可以举出压接辊。压接辊还可以具备加热手段以能够加热压接。
为了充分确保感光层20与基材100的密合性、以及感光层20与触摸面板用电极110及120的密合性、并且使感光层20的构成成分难以发生热固化或热裂解，加热压接时的加热温度优选设为10～160℃、更优选设为20～150℃、进一步优选设为30～150℃。
另外，加热压接时的压接压力从充分确保感光层20与基材100的密合性、并且抑制基材100的变形的观点出发，以线压计优选设为50～1×105N/m、更优选设为2.5×102～5×104N/m、进一步优选设为5×102～4×104N/m。
如果将感光性元件1如上述那样进行加热，则无需对基材进行预热处理，但从进一步提高感光层20与基材100的密合性的方面出发，优选将基材100进行预热处理。此时的预热温度优选设为30～150℃。
本实施方式的方法中，可以不使用感光性元件而如下形成感光层20：制备含有本实施方式的感光性树脂组合物以及溶剂的涂布液，将其涂布在基材100的设有触摸面板用电极110及120的表面上并进行干燥，从而形成感光层20。
感光层20优选满足上述的膜厚、可见光线透射率的条件。
上述第2工序中，对感光层20的规定部分隔着光掩模130以图案状照射活性光线L(参照图2的(b))。
照射活性光线时，在感光层20上的支撑膜10为透明时，可以直接照射活性光线，在支撑膜10为不透明时将其除去后照射活性光线。从感光层20的保护的方面出发，优选使用透明的聚合物膜作为支撑膜10、在残留该聚合物膜的情况下透过其照射活性光线。
作为活性光线L的照射中使用的活性光线的光源，可以使用公知的活性光源，例如可以举出碳弧灯、超高压汞灯、高压汞灯、氙灯等，只要是有效放射紫外线的光源，则没有特别限制。
此时的活性光线L的照射量通常为1×102～1×104J/m2，照射时也可以伴有加热。该活性光线照射量低于1×102J/m2时，有光固化的效果变得不充分的倾向，超过1×104J/m2时，有感光层20变色的倾向。
本实施方式的第3工序中，将活性光线照射后的感光层用显影液进行显影，除去未被照射活性光线的部分(即感光层的规定部分以外的部分)，形成覆盖电极的一部分或全部的厚度为10μm以下的由本实施方式的感光性树脂组合物的固化膜图案构成的保护膜22(参照图2的(c))。所形成的保护膜22可以具有规定的图案。
此外，活性光线照射后，在感光层20上层叠有支撑膜10时将其除去后利用显影液进行除去未被照射活性光线的部分的显影。
作为显影方法，可以举出使用碱水溶液、水系显影液、有机溶剂等公知的显影液、通过喷雾、淋浴、摇动浸渍、刷洗、擦洗等公知的方法进行显影以除去不需要的部分的方法等，其中，从环境、安全性的观点出发，可以举出使用碱水溶液作为优选的方法。
作为碱水溶液的碱，可以举出氢氧化碱(锂、钠或者钾的氢氧化物等)、碳酸碱(锂、钠或者钾的碳酸盐或碳酸氢盐等)、碱金属磷酸盐(磷酸钾、磷酸钠等)、碱金属焦磷酸盐(焦磷酸钠、焦磷酸钾等)、氢氧化四甲基铵、三乙醇胺等，其中可以举出氢氧化四甲基铵等作为优选的碱。
另外，还优选使用碳酸钠的水溶液。例如优选使用20～50℃的碳酸钠的稀溶液(0.5～5质量％水溶液)。
显影温度以及时间可以根据本实施方式的感光性树脂组合物的显影性进行调整。
另外，碱水溶液中可以混入表面活性剂、消泡剂、用于促进显影的少量有机溶剂等。
另外，显影后，可以将光固化后的感光层20上残存的碱水溶液的碱利用有机酸、无机酸或者这些酸的水溶液、通过喷雾、摇动浸渍、刷洗、擦洗等公知方法进行酸处理(中和处理)。
还可以进一步在酸处理(中和处理)后进行实施水洗的工序。
显影后，根据需要可以通过活性光线的照射(例如5×103～2×104J/m2)使固化膜图案进一步固化。此外，本实施方式的感光性树脂组合物在没有显影后的加热工序的情况下也会显示出对金属的优异密合性，但也可以根据需要代替显影后的活性光线的照射而实施加热处理(80～160℃)、或者与活性光线照射一起实施加热处理(80～160℃)。
如上所述，可以形成本发明的触摸面板用电极的保护膜。
作为通过保护膜的热裂解气相色谱质谱分析会检测到庚腈以及苯甲酸的例子，可以举出如上所述那样构成感光层的感光性树脂组合物含有1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)]作为(C)成分的情形。
接着，使用图3、图4以及图5来说明本发明的保护膜的使用位置的一例。图3为表示静电电容式的触摸面板的一例的示意俯视图。图3所示的触摸面板在透明基板101的单面上具有用于检测触摸位置坐标的触摸画面102，用于检测该区域的静电电容变化的透明电极103及透明电极104设置在基板101上。透明电极103及透明电极104分别检测触摸位置的X位置坐标以及Y位置坐标。
透明基板101上设有用于将触摸位置的检测信号从透明电极103及透明电极104传送到外部电路的引出配线105。另外，引出配线105与透明电极103及透明电极104通过设置在透明电极103及透明电极104上的连接电极106连接。另外，在引出配线105的与透明电极103及透明电极104的连接部的相反侧的端部上设有与外部电路连接的连接端子107。本发明的感光性树脂组合物可以优选用于形成引出配线105、连接电极106以及连接端子107的保护膜122。此时，还可以同时保护位于传感区域的电极。图3中，通过保护膜122保护引出配线105、连接电极106、传感区域的一部分电极以及连接端子107的一部分，但也可以适当变更设置保护膜的位置。例如如图4所示，可以按照保护整个触摸画面102的方式来设置保护膜123。
使用图5来说明图3所示的触摸面板中透明电极与引出配线的连接部的截面结构。图5是图3所示的C部分的沿V-V线的部分截面图，是用于说明透明电极104与引出配线105的连接部的图。如图5(a)所示，透明电极104与引出配线105介由连接电极106电连接。如图5(a)所示，透明电极104的一部分、以及引出配线105及连接电极106的全部被保护膜122覆盖。同样地，透明电极103与引出配线105介由连接电极106电连接。此外，如图5的(b)所示，透明电极104与引出配线105还可以直接电连接。上述的本实施方式的感光性树脂组合物以及感光性元件优选用于形成作为上述结构部分的保护膜的树脂固化膜图案。
对本实施方式的触摸面板的制造方法进行说明。首先，在设于基材100上的透明电极101上形成透明电极(X位置坐标)103。接着，形成透明电极(Y位置坐标)104。透明电极103以及透明电极104的形成可以使用将形成在基材100上的透明电极层进行蚀刻的方法等。
接着，在透明基板101的表面上形成用于与外部电路连接的引出配线105、连接该引出配线与透明电极103及透明电极104的连接电极106。引出配线105以及连接电极106可以在形成透明电极103及透明电极104之后形成，也可以在各透明电极形成时同时地形成。引出配线105以及连接电极106的形成可以在金属溅射后使用蚀刻法等。引出配线105例如可以使用含有片状的银的导电糊剂材料、利用丝网印刷法在形成连接电极106的同时来形成。接着，形成用于连接引出配线105与外部电路的连接端子107。
按照覆盖通过上述工序形成的透明电极103以及透明电极104、引出配线105、连接电极106、以及连接端子107的方式压接本实施方式的感光性元件1，在上述电极上设置感光层20。接着，对转印来的感光层20以所希望的形状隔着光掩模以图案状照射活性光线L。照射活性光线L后进行显影以除去感光层20的规定部分以外的部分，由此形成由感光层20的规定部分的固化物构成的保护膜122。这样，可以制造具备保护膜122的触摸面板。
实施例
以下举出实施例来对本发明进一步具体地说明。但本发明并不限于以下的实施例。
[粘合剂聚合物溶液(A1)的制作]
在具备搅拌器、回流冷却机、不活泼性气体导入口以及温度计的烧瓶 内装入表1所示的(1)，在氮气气氛下升温至80℃，在将反应温度保持在80℃±2℃的同时用4小时的时间均匀地滴加表1所示的(2)。滴加(2)后在80℃±2℃下持续搅拌6小时，获得重均分子量为约65,000、酸值为78mgKOH/g、羟值为2mgKOH/g的粘合剂聚合物的溶液(固体成分为45质量％)(A1)。
表1
此外，重均分子量(Mw)通过利用凝胶渗透色谱法(GPC)进行测定、使用标准聚苯乙烯的标准曲线进行换算而导出。以下示出GPC的条件。
GPC条件
泵：日立L-6000型(株式会社日立制作所制、产品名)
色谱柱：Gelpack GL-R420、Gelpack GL-R430、Gelpack GL-R440(以上为日立化成工业株式会社制、产品名)
洗脱液：四氢呋喃
测定温度：40℃
流量：2.05mL/分钟
检测器：日立L-3300型RI(株式会社日立制作所制、产品名)
[酸值的测定方法]
另外，酸值如下测定。首先，将粘合剂聚合物溶液在130℃下加热1小时，除去挥发成分，获得固体成分。然后，精密称取要测定酸值的聚合物1g后，在该聚合物中添加丙酮30g，将其均匀溶解。接着，在该溶液中适量添加作为指示剂的酚酞，使用0.1N的KOH水溶液进行滴定。然后，由下式算出酸值。
酸值＝0.1×Vf×56.1/(Wp×I/100)
式中，Vf表示KOH水溶液的滴定量(mL)，Wp表示测得的树脂溶液的重量(g)，I表示测得的树脂溶液中的不挥发成分的比例(质量％)。
[羟值的测定方法]
羟值如下测定。首先，将粘合剂聚合物的溶液在130℃下加热1小时，除去挥发成分，获得固体成分。然后，精密称取要测定羟值的聚合物1g后，将精密称取的感光性树脂组合物放入三角烧瓶中，添加10质量％的醋酸酐吡啶溶液10mL，将其均匀溶解，在100℃下加热1小时。加热后，加入水10mL和吡啶10mL，在100℃下加热10分钟后，使用自动滴定机(平沼产业株式会社制“COM-1700”)，利用0.5mol/L的氢氧化钾的乙醇溶液进行中和滴定。然后，由下式算出羟值。
羟值＝(A-B)×f×28.05/试样(g)+酸值
式中，A表示空白试验中使用的0.5mol/L氢氧化钾乙醇溶液的量(mL)，B表示滴定中使用的0.5mol/L氢氧化钾乙醇溶液的量(mL)，f表示因数。
(实施例1～8、比较例1～8)
[含有感光性树脂组合物的涂布液的制作]
将表2所示的材料使用搅拌器混合15分钟，制作用于形成保护膜的含有感光性树脂组合物的涂布液。
[感光性元件的制作]
作为支撑膜，使用厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，将上述制作的含有感光性树脂组合物以及溶剂的涂布液利用缺角轮涂布机均匀地涂布在支撑膜上，用100℃的热风对流式干燥机干燥3分钟以除去溶剂，形成由感光性树脂组合物构成的感光层(感光性树脂组合物层)。所得感光层的厚度为5μm。
接着，在所得的感光层上进一步贴合25μm厚度的聚乙烯膜作为覆膜， 制作了用于形成保护膜的感光性元件。
[保护膜的透射率的测定]
一边剥离所得感光性元件的作为覆膜的聚乙烯膜，一边按照感光层与厚度为1mm的玻璃基板接触的方式使用层压机(日立化成工业株式会社制、商品名HLM-3000型)、在辊温度为120℃、基板传送速度为1m/分钟、压接压力(滚筒压力)为4×105Pa(由于使用了厚度为1mm、长10cm×宽10cm的基板，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下进行层压，制作了在玻璃基板上层叠有感光层以及支撑膜的层叠体。
接着，对所得的层叠体的感光层用平行光线曝光机(Orc制作所株式会社制、EXM1201)由感光层侧上方以曝光量5×102J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线后，除去支撑膜，在加热至140℃的箱型干燥机(三菱电机株式会社制，型号：NV50-CA)内静置30分钟，获得具有厚度为5μm的保护膜的透射率测定用试样。
接着，将所得的试样用株式会社日立High Technologies制的紫外可见分光光度计(U-3310)在测定波长区域400～700nm下测定可见光线透射率，算出最小值。表4和表5中示出测定结果。
[保护膜的盐水喷雾试验(人工汗液耐受性评价试验)]
一边剥离所得感光性元件的聚乙烯膜，一边按照感光层与带有溅射铜的聚酰亚胺膜(Toray Film加工株式会社制)接触的方式使用层压机(日立化成工业株式会社制、商品名HLM-3000型)、在辊温度为120℃、基板传送速度为1m/分钟、压接压力(滚筒压力)为4×105Pa(由于使用了厚度为1mm、长10cm×宽10cm的基板，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下进行层压，制作了在溅射铜上层叠有感光层以及支撑膜的层叠体。
接着，对所得层叠体的感光层使用平行光线曝光机(Orc制作所株式会社制、EXM1201)由感光侧上方以曝光量5×102J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线后，除去支撑膜，再由感光层侧上方以曝光量1×104J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线，在加热至140℃的箱型干燥机(三菱电极株式会社制、型号：NV50-CA)内静置30分钟。获得形成了厚度为5.0μm的保护膜的人工汗液耐受性评价用试样。
接着，以JIS标准(Z2371)为参考，使用盐水喷雾试验机(Suga试验机株式会社制STP-90V2)，在试验槽内放置前述的试样，将浓度为50g/L 的盐水(pH＝6.7)在试验槽温度为35℃下以1.5mL/小时的喷雾量喷雾48小时。喷雾结束后，擦去盐水，观察评价用试样的表面状态，按照以下的评分进行评价。表4及表5中示出测定结果。
A：保护膜表面上完全没有变化。
B：保护膜表面上可见极少的痕迹，但铜无变化。
C：保护膜表面上可见痕迹，但铜无变化。
D：保护膜表面上有痕迹，且铜发生变色。
[140℃、30分加热后的产生气体测定(热裂解气相色谱质谱分析)]
一边剥离所得感光性元件的聚乙烯膜，一边按照感光层与聚四氟乙烯片材(日东电工株式会社制、产品名：NITOFLON FILM No.900U)接触的方式使用层压机(日立化成工业株式会社制、商品名HLM-3000型)、在辊温度为120℃、基板传送速度为1m/分钟、压接压力(滚筒压力)为4×105Pa的条件下进行层压。
接着，对所得层叠体的感光层使用平行光线曝光机(Orc制作所株式会社制、EXM1201)由感光侧上方以曝光量5×102J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线后，除去支撑膜，再由感光层侧上方以曝光量1×104J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线，获得热裂解气相色谱质谱分析用的测定样品。
对测定样品使用Tekmar7000HT顶空采样器、将在140℃下加热30min后产生的气体导入到GC/MS(岛津制作所制、型号：GC/MS QP-2010、载气：氦,1.0mL/min、色谱柱：HP-5MS、烘箱：40℃下加热5分钟后、以15℃/min的比例升温至300℃，接口温度：280℃、离子源温度：250℃、样品注入量：0.1mL)进行分析。表4及表5中示出测定结果。另外，将对实施例6中获得的保护膜进行热裂解气相色谱质谱分析时的气相色谱图示于图6。图6中，A表示苯甲酸的检测峰、B表示庚腈的检测峰。
表2
*1：表示除去了溶剂后的粘合剂聚合物的质量份。
表3
*1：表示除去了溶剂后的粘合剂聚合物的质量份。
表2及表3的成分的符号表示以下的意思。
(A)成分
(A1)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯＝12/58/30(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为65,000、酸值为78mgKOH/g、羟值为2mgKOH/g、Tg为60℃
(B)成分
A-TMMT：季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制)
DPHA：二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制)
TMPTA：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(日本化药株式会社制)
UX-3204：原料成分中含有丙烯酸羟基乙酯、聚酯二醇和六亚甲基二异氰酸酯的氨基甲酸酯丙烯酸酯(日本化药株式会社制)
PET-30：季戊四醇三丙烯酸酯(日本化药株式会社制)
(C)成分
IRGACURE OXE01：1,2-辛二酮,1-[(4-苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)](BASF株式会社制)
IRGACURE184：1-羟基-环己基-苯基-酮(BASF株式会社制)
IRGACURE651：2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮(BASF株式会社制)
IRGACURE369：2-苄基-2-二甲基氨基-1-(吗啉代苯基)-丁酮-1(BASF株式会社制)
IRGACURE907：2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮(BASF株式会社制)
IRGACURE2959：1-[4-(2-羟基乙氧基)-苯基]-2-羟基-2-甲基-1-丙烷-1-酮(BASF株式会社制)
DETX：2,4-二乙基噻吨酮(日本化药株式会社制)
N-1717：1,7-双(9-吖啶基)庚烷(株式会社ADEKA制)
EAB：4,4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮(保土ヶ谷化学株式会社制)
(D)成分
HAT：5-氨基-1H-四唑(东洋纺织株式会社制)
AMT：3-氨基-5-巯基三唑(和光纯药株式会社制)
ATT：2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑(和光纯药株式会社制)
其它成分
Antage W-500：2,2’-亚甲基-双(4-乙基-6-叔丁基苯酚)(川口化学株式会社制)
PM-21：包含光聚合性不饱和键的磷酸酯(日本化药株式会社制)
SH-30：八甲基环四硅氧烷(Dow Corning Toray株式会社制)
甲乙酮：东燃化学株式会社制
符号说明
1感光性元件、10支撑膜、20感光层、22保护膜、30保护膜、100基材、101透明基板、102触摸画面、103透明电极(X位置坐标)、104透明电极(Y位置坐标)、105引出配线、106连接电极、107连接端子、110、120触摸面板用电极、122、123保护膜、130光掩模、200触摸面板。

Claims (7)

1.通过使由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂、以及具有下述结构的化合物的感光性树脂组合物构成的感光层的规定部分固化而获得的固化物的作为用于含有铜的触摸面板用电极的防锈的保护膜的用途，其中，所述固化物通过热裂解气相色谱质谱分析会检测到庚腈以及苯甲酸，
2.根据权利要求1所述的固化物的用途，其中，所述分析中的所述苯甲酸的检测峰面积相对于所述庚腈的检测峰面积为1～10％。
3.根据权利要求1或2所述的固化物的用途，其中，所述固化物在400～700nm下的可见光透射率的最小值为90％以上。
4.根据权利要求1或2所述的固化物的用途，其中，所述粘合剂聚合物具有羧基且酸值为75mgKOH/g以上。
5.根据权利要求1或2所述的固化物的用途，其中，所述粘合剂聚合物的羟值为50mgKOH/g以下。
6.根据权利要求1或2所述的固化物的用途，其中，所述固化物的厚度为10μm以下。
7.一种触摸面板，其具有利用权利要求1～6中任一项所述的用途设置的保护膜。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013084282A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
WO2013084283A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
KR102119603B1 (ko) * 2013-09-06 2020-06-08 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우 및 이를 포함하는 디스플레이
JP2015129992A (ja) * 2014-01-06 2015-07-16 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ及びタッチパネルセンサの製造方法
JP2016021170A (ja) * 2014-07-15 2016-02-04 日立化成株式会社 静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置
JP6173988B2 (ja) * 2014-08-28 2017-08-02 株式会社ジャパンディスプレイ 電極基板の製造方法、電極基板、表示装置および入力装置
US10040967B2 (en) 2015-11-06 2018-08-07 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive film, photosensitive element, cured product and touch panel
JP6551277B2 (ja) * 2016-03-24 2019-07-31 日立化成株式会社 硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法、それに用いる感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びタッチパネル
KR102139407B1 (ko) 2017-09-13 2020-07-29 주식회사 엘지화학 감광재 바인더의 모노머 정량분석방법
JP6662491B1 (ja) * 2018-04-19 2020-03-11 東レ株式会社 感光性導電ペーストおよびそれを用いたパターン形成グリーンシートの製造方法
KR20210009714A (ko) 2019-07-17 2021-01-27 제이에스알 가부시끼가이샤 경화성 수지 조성물 및 그것을 이용한 유기 el 소자용 보호막과 그의 형성 방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1940724A (zh) * 2005-09-26 2007-04-04 Jsr株式会社 光敏性树脂组合物、液晶显示面板的保护膜及分隔物、它们的形成方法及液晶显示面板
WO2011129210A1 (ja) * 2010-04-14 2011-10-20 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、それを用いた保護膜およびタッチパネル部材

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3380616B2 (ja) 1994-03-16 2003-02-24 日立化成工業株式会社 カバーレイ形成用感光性樹脂組成物、感光性フィルム、カバーレイの製造方法及びカバーレイ
JPH11133617A (ja) 1997-10-28 1999-05-21 Hitachi Chem Co Ltd ケミカルミーリング用感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
KR100761184B1 (ko) * 2000-04-20 2007-10-04 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. 경화성 수지 조성물, 경화 필름 및 복합 제품
TW200401949A (en) * 2002-07-05 2004-02-01 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
JP3779260B2 (ja) * 2002-11-26 2006-05-24 京都エレックス株式会社 アルカリ現像型感光性樹脂組成物
JP4449402B2 (ja) 2003-08-25 2010-04-14 日立化成工業株式会社 永久レジスト用感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板
JP2006085116A (ja) * 2004-08-17 2006-03-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料並びにパターン形成方法及びパターン
JP4586919B2 (ja) * 2006-04-18 2010-11-24 日立化成工業株式会社 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP5201066B2 (ja) * 2008-06-19 2013-06-05 Ｊｓｒ株式会社 タッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物とその形成方法
JP5446203B2 (ja) * 2008-10-15 2014-03-19 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたパターン硬化膜の製造方法及び電子部品
KR101339568B1 (ko) * 2009-02-26 2013-12-10 히타치가세이가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 및 이것을 이용한 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법
JP2011028594A (ja) * 2009-07-28 2011-02-10 Toshiba Mobile Display Co Ltd タッチパネル
CN102576581B (zh) * 2009-10-15 2015-07-22 东洋纺织株式会社 导电性膏、导电性膜、触摸面板以及导电性薄膜的制造方法
JP5617329B2 (ja) * 2010-04-28 2014-11-05 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性樹脂組成物およびタッチパネル用絶縁膜
JP5304971B1 (ja) * 2011-12-05 2013-10-02 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜及びタッチパネル

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1940724A (zh) * 2005-09-26 2007-04-04 Jsr株式会社 光敏性树脂组合物、液晶显示面板的保护膜及分隔物、它们的形成方法及液晶显示面板
WO2011129210A1 (ja) * 2010-04-14 2011-10-20 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、それを用いた保護膜およびタッチパネル部材

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