JP5304970B1 - タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、タッチパネルの製造方法及びタッチパネル用電極の保護膜 - Google Patents

Abstract

本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法は、タッチパネル用電極を有する基材上に、カルボキシル基を有し、酸価が３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、上記光重合性化合物が少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物を含む、感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、当該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に所定部分以外を除去し、上記電極の一部又は全部を被覆する上記感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜を形成することを特徴とする。

Description

本発明は、タッチパネル用電極の保護膜の形成方法に関し、特には静電容量方式タッチパネルの電極の保護に好適な保護膜の形成方法、これに用いる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びにタッチパネルの製造方法及びタッチパネル用電極の保護膜に関する。

パソコンやテレビの大型電子機器からカーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器やＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器には液晶表示素子やタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これら液晶表示素子やタッチパネルには透明導電電極材からなる電極が設けられている。透明導電電極材としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジュウムや酸化スズが知られており、これらの材料は高い可視光透過率を示すことから液晶表示素子用基板等の電極材として主流になっている。

タッチパネルはすでに各種の方式が実用化されているが、近年、静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。静電容量方式タッチパネルでは、導電体である指先がタッチ入力面に接触すると、指先と導電膜との間が静電容量結合し、コンデンサを形成する。このため、静電容量方式タッチパネルは、指先の接触位置における電荷の変化を捉えることによって、その座標を検出している。

特に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備え、その操作性の良さから、携帯電話や携帯型音楽プレーヤなどの小型の表示装置を有する機器における表示面上の入力装置として利用が進んでいる。

一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、当該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造を形成しており、該電極としてはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）が用いられる。

ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために、金属配線が必要となるが、額縁面積の狭小化を図るためには、金属配線の幅を狭くする必要がある。一般的には金属配線には、銅が使用される。

しかしながら、上述のようなタッチパネルは、指先に接触される際に水分や塩分などの腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、金属配線が腐食し、電極と駆動用回路間の電気抵抗の増加や、断線の恐れがあった。

金属配線の腐食を防ぐために、金属上に絶縁層を形成した静電容量方式の投影型タッチパネルが開示されている（例えば、特許文献１）。このタッチパネルでは、二酸化ケイ素層をプラズマ化学気相成長法（プラズマＣＶＤ法）で金属上に形成し、金属の腐食を防いでいる。しかしながら、この手法はプラズマＣＶＤ法を用いるため、高温処理が必要となり基材が限定される問題があった。また、製造コストが高くなる問題もあった。

ところで、必要な箇所にレジスト膜を設ける方法として、所定の基材上に感光性樹脂組成物からなる感光層を設けてこの感光層を露光、現像する方法が知られている（例えば、特許文献２〜４）。

特開２０１１−２８５９４号公報 特開平７−２５３６６６号公報 特開２００５−９９６４７号公報 特開平１１−１３３６１７号公報

感光性樹脂組成物による保護膜の作製は、プラズマＣＶＤ法に比べてコストの削減が期待できる。しかし、タッチパネル用電極上に保護膜を形成する場合、保護膜の厚みが大きいと、膜がある箇所と膜がない箇所とで段差が目立つことがある。そのため、保護膜はできるだけ薄くする必要がある。しかし、厚み１０μｍ以下のレベルにおいて、感光性樹脂組成物から形成される膜の防錆性について検討された例はなかった。

タッチパネルの製造工程においては、タッチパネル自体に負荷がかかることがある。特に、保護膜がフレキシブルディスプレイ基板に設けられるような場合にあっては、基板の湾曲に伴い保護膜への負荷も大きくなり、亀裂が生じやすくなる。

本発明は、所定のタッチパネル用電極上に、薄膜であっても充分な防錆性を有し、耐クラック性に優れた保護膜を形成することができるタッチパネル用電極の保護膜の形成方法、そのような保護膜を形成できる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びにタッチパネルの製造方法及びタッチパネル用電極の保護膜を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、特定のバインダーポリマー、特定の光重合性化合物、及び光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物が充分な現像性を有するとともに、光硬化によって形成した膜が１０μｍ以下の厚みであっても充分な防錆性を示し、銅などの金属の腐食を充分に防止でき、引張試験における弾性率が充分小さい膜となり得ることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明に係るタッチパネル用電極の保護膜の第１の形成方法は、タッチパネル用電極を有する基材上に、カルボキシル基を有し、酸価が３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、上記光重合性化合物が少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物を含む、感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、当該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に所定部分以外を除去し、上記電極の一部又は全部を被覆する上記感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜を形成することを特徴とする。

本発明に係るタッチパネル用電極の保護膜の第１の形成方法によれば、上記特定の感光性樹脂組成物を用いることにより、充分な現像性を確保しつつ、１０μｍ以下の厚みで充分な防錆性を有し、耐クラック性に優れる保護膜を形成することができる。本発明によれば、感光性樹脂組成物を用いて美観、防錆性及び耐クラック性が充分である保護膜を形成できることから、タッチパネルの製造における製造コストの低減を図ることが可能となる。

防錆性と耐クラック性をより向上させる観点から、上記少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物が、アルキレンオキサイド変性ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物、及びアルキレンオキサイド変性グリセリン（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含むことが好ましい。

また本発明に係るタッチパネル用電極の保護膜の第２の形成方法は、タッチパネル用電極を有する基材上に、カルボキシル基を有し、酸価が３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、上記光重合性化合物がウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物を含む、感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、当該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に所定部分以外を除去し、上記電極の一部又は全部を被覆する上記感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜を形成することを特徴とする。

本発明に係るタッチパネル用電極の保護膜の第２の形成方法によれば、上記特定の感光性樹脂組成物を用いることにより、充分な現像性を確保しつつ、１０μｍ以下の厚みで充分な防錆性を有し、耐クラック性に優れる保護膜を形成することができる。本発明によれば、感光性樹脂組成物を用いて美観、防錆性及び耐クラック性が充分である保護膜を形成できることから、タッチパネルの製造における製造コストの低減を図ることが可能となる。

保護膜の電極腐食の抑制力を更に向上させる観点から、上記ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物は、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有することが好ましい。

上記感光性樹脂組成物は、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物以外の第２の光重合性化合物を更に含有することが好ましい。

保護膜の電極腐食の抑制力を更に向上させる観点から、上記第２の光重合性化合物は、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有することが好ましい。

本発明に係るタッチパネル用電極の保護膜の第１及び第２の形成方法において、タッチパネルの視認性を充分に確保する観点から、上記感光層は４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０％以上であることが好ましい。この場合、センシング領域の電極を被覆する保護膜の形成に好適である。

光重合開始剤が、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有することが好ましい。光開始剤として、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有させることにより、感光層が薄い場合であっても、充分な解像度でパターンを形成することができる。

タッチパネルの視認性や美観を考慮すると、保護膜の透明性はより高いことが望ましい。しかし、その一方で、透明性が高い薄膜の感光層をパターニングする場合、解像性が低下する傾向にあることを本発明者らは見出している。この原因について本発明者らは、感光層の厚みが小さくなると、基材からの光散乱の影響を受けやすく、ハレーションが発生するためと考えている。

これに対し、本発明においては上記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有することによって、充分な解像度でパターン形成が可能となる。

なお、上記の効果が得られる理由を、オキシムエステル化合物に含まれるオキシム部位又はホスフィンオキサイド化合物に含まれるホスフィンオキサイド部位が、比較的高い光分解効率を有しつつも僅かな漏れ光では分解しない適度な閾値を有するために、漏れ光による影響が抑制された結果であると、本発明者らは推察する。

本発明に係るタッチパネル用電極の保護膜の第１及び第２の形成方法においては、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、当該感光性エレメントの感光層を上記基材上に転写して上記感光層を設けることができる。この場合、感光性エレメントを用いることにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶媒乾燥工程が短縮できるなど、製造工程の短縮やコスト低減に大きく貢献することができる。

本発明はまた、カルボキシル基を有し、酸価が３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、上記光重合性化合物が少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物を含む、タッチパネル用電極の保護膜形成に用いられる第１の感光性樹脂組成物を提供する。

本発明の第１の感光性樹脂組成物によれば、所定のタッチパネル用電極上に、薄膜であっても充分な防錆性を有し、耐クラック性に優れる保護膜を形成することができる。

防錆性と耐クラック性をより向上させる観点から、前記少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物が、アルキレンオキサイド変性ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物、及びアルキレンオキサイド変性グリセリン（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含むことが好ましい。

本発明はまた、カルボキシル基を有し、酸価が３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、上記光重合性化合物がウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物を含むタッチパネル用電極の保護膜形成に用いられる第２の感光性樹脂組成物を提供する。

本発明の第２の感光性樹脂組成物によれば、所定のタッチパネル用電極上に、薄膜であっても充分な防錆性を有し、耐クラック性に優れる保護膜を形成することができる。

保護膜の電極腐食の抑制力を更に向上させる観点から、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物は、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有することが好ましい。

ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物以外の第２の光重合性化合物を更に有することが好ましい。

保護膜の電極腐食の抑制力を更に向上させる観点から、第２の光重合性化合物は、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有することが好ましい。

タッチパネルの視認性を充分に確保する観点から、本発明の第１及び第２の感光性樹脂組成物は、保護膜を形成したときの可視光線透過率の最小値が９０％以上であることが好ましい。

また、本発明の第１及び第２の感光性樹脂組成物において、上記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有することが好ましい。この場合、充分な解像度を有するパターンで、透明性が高い薄膜の保護膜を形成することが可能となる。

本発明はまた、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記本発明に係る第１又は第２の感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを提供する。

本発明の感光性エレメントによれば、所定のタッチパネル用電極上に、薄膜であっても充分な防錆性を有する保護膜を形成することができる。

上記感光層の厚みは１０μｍ以下とすることができる。

本発明はまた、タッチパネル用電極を有する基材上に、上記本発明に係る保護膜の第１又は第２の形成方法により電極の一部又は全部を被覆する保護膜を形成する工程、を備えるタッチパネルの製造方法を提供する。

本発明はまた、上記本発明の第１又は第２の感光性樹脂組成物の硬化物からなるタッチパネル用電極の保護膜を提供する。なお、本発明の保護膜は、本発明の第１又は第２の感光性樹脂組成物を光及び／又は熱によって硬化させて得ることができる。よって、上記硬化物は、上記第１又は第２の感光性樹脂組成物の反応性基が光及び／又は熱硬化によって、一部又は全て反応によって消失している。

本発明によれば、所定のタッチパネル用電極上に、薄膜であっても充分な防錆性を有し、耐クラック性に優れる保護膜を形成することができるタッチパネル用電極の保護膜の形成方法、そのような保護膜を形成できる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びにタッチパネルの製造方法及びタッチパネル用電極の保護膜を提供することができる。

また、本発明によれば、静電容量式タッチパネルの金属電極を保護することができる。更に、本発明によれば、水分や塩分によって錆が発生しやすい銅などの金属層を形成して導電性を向上させたタッチパネルの額縁領域における電極を保護することができる。

本発明の感光性エレメントの一実施形態を示す模式断面図である。 本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。 静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。 静電容量式のタッチパネルの別の例を示す模式上面図である。 （ａ）は、図３に示されるＣ部分のＶ−Ｖ線に沿った部分断面図であり、（ｂ）は、別の態様を示す部分断面図である。

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。特に、本発明の感光性樹脂組成物は、透明性及び防錆性に優れるものであるため、タッチパネル（タッチセンサー）の電極形成部位を保護する目的であれば、タッチパネルの構成の変化に寄らず好適に用いることができる。具体的には、タッチパネルの構成がカバーガラス、タッチパネル、液晶パネルの３枚構成から、カバーガラス一体型、オンセル型に変更された際にも、タッチパネル（タッチセンサー）の電極形成部位を保護する目的であれば好適に用いることができる。

本明細書においてタッチパネル用電極とは、タッチパネルのセンシング領域にある電極だけでなく額縁領域の金属配線も含まれる。保護膜を設ける電極は、いずれか一方であってもよく、両方であってもよい。

また、本明細書において、透明性に優れるとは、４００〜７００ｎｍの可視光を９０％以上透過することを意味し、光をある程度散乱しても透明の概念に含まれる。

なお、本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味し、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。また、（ポリ）オキシエチレン鎖はオキシエチレン基又はポリオキシエチレン基を意味し、（ポリ）オキシプロピレン鎖はオキシプロピレン基又はポリオキシプロピレン基を意味し、（ポリ）オキシブチレン鎖はオキシブチレン基又はポリオキシブチレン基を意味する。さらに「（ＥＯ）変性」とは、（ポリ）オキシエチレン鎖を有する化合物であることを意味し、「（ＰＯ）変性」とは、（ポリ）オキシプロピレン鎖を有する化合物であることを意味し、「（ＢＯ）変性」とは、（ポリ）オキシブチレン鎖を有する化合物であることを意味する。「（ＥＯ）・（ＰＯ）変性」とは、（ポリ）オキシエチレン鎖及び（ポリ）オキシプロピレン鎖の双方を有する化合物であることを意味し、「（ＥＯ）・（ＢＯ）変性」とは、（ポリ）オキシエチレン鎖及び（ポリ）オキシブチレン鎖の双方を有する化合物であることを意味し、「（ＥＯ）・（ＰＯ）・（ＢＯ）変性」とは、（ポリ）オキシエチレン鎖、（ポリ）オキシプロピレン鎖及び（ポリ）オキシブチレンを有する化合物であることを意味する。

また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。

さらに本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。

図１は、本発明の感光性エレメントの一実施形態を示す模式断面図である。図１に示される感光性エレメント１は、支持フィルム１０と、支持フィルム上に設けられた本発明に係る感光性樹脂組成物からなる感光層２０と、感光層２０の支持フィルム１０とは反対側に設けられた保護フィルム３０とからなる。

本実施形態の感光性エレメントは、タッチパネル用電極の保護膜の形成に好適に用いることができる。

支持フィルム１０としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン等からなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。

支持フィルムの厚さは、被覆性の確保と、支持フィルムを介して露光する際の解像度の低下を抑制する観点から、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましく、１５〜４０μｍであることがさらに好ましく、２０〜３５μｍであることが特に好ましい。

感光層２０を構成する本発明に係る感光性樹脂組成物の第一の実施形態としては、感光性樹脂組成物が、カルボキシル基を有し、酸価が３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）と、を含有し、前記光重合性化合物が少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物（以下、（Ｂ１）成分ともいう）を含む。

また、感光層２０を構成する本発明に係る感光性樹脂組成物の第二の実施形態としては、感光性樹脂組成物が、カルボキシル基を有し、酸価が３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、前記光重合性化合物がウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物（以下、（Ｂ２）成分ともいう）を含む。

まず、第一の実施形態について説明する。

本実施形態においては、酸価が上記範囲内にある（Ａ）成分と、上記条件を満たす（Ｂ１）成分とを組み合わせて用いることにより、現像性及び基材への密着性を確保しつつ、１０μｍ以下の厚みで充分な防錆性を有し、耐クラック性に優れる保護膜を形成することができる。よって、本実施形態に係る感光性樹脂組成物によれば、美観、防錆性及び耐クラック性が充分である保護膜を形成することができる。

膜特性を考慮した従来の感光性エレメントでは、通常１０μｍを超える厚みで感光層が形成され、このときの現像性を確保するために用いる感光性樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーの酸価を調整することが行われる。通常、酸価は１４０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ程度の値に設定される。このような感光性樹脂組成物を用いて、電極上に１０μｍ以下の厚みで保護膜を形成すると、充分な防錆性を得ることができなかった。この原因を本発明者らは、１０μｍ以下の薄膜の場合、水分や塩分などの腐食成分が膜内に含まれやすくなり、さらにこの傾向はバインダーポリマーに含まれるカルボキシル基によって大きくなるためと推察する。酸価が低すぎると、充分な現像性や基材への密着性を確保することが困難となる傾向にあるが、本実施形態においては、適度な酸価を有する上記（Ａ）成分と、防錆性を更に向上させることができ、なおかつ保護膜に靱性を与えることができる上記（Ｂ１）成分とを組み合わせることにより、防錆性、現像性及び耐クラック性とを高水準で両立できたと考えられる。

バインダーポリマーの酸価は、次のようにして測定することができる。すなわち、まず酸価の測定対象であるバインダーポリマー１ｇを精秤する。上記精秤したバインダーポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解する。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行う。そして、次式により酸価を算出する。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定したバインダーポリマーを含有する溶液の重量（ｇ）を示し、Ｉは測定したバインダーポリマーを含有する溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
なお、バインダーポリマーを合成溶媒や希釈溶媒などの揮発分と混合した状態で配合する場合は、精秤前に予め、揮発分の沸点よりも１０℃以上高い温度で１〜４時間加熱し、揮発分を除去してから酸価を測定する。

本実施形態において、（Ａ）成分は、（ａ）（メタ）アクリル酸、及び（ｂ）（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含有する共重合体が好適である。

（ｂ）（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、及び（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステルが挙げられる。

上記共重合体は、更に、上記の（ａ）成分及び／又は（ｂ）成分と共重合しうるその他のモノマーを構成単位に含有していてもよい。

上記の（ａ）成分及び／又は（ｂ）成分と共重合し得るその他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリル、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、スチレン、及びビニルトルエンが挙げられる。（Ａ）成分であるバインダーポリマーを合成する際、上記のモノマーは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（Ａ）成分であるバインダーポリマーの分子量は、特に制限はないが、塗布性及び塗膜強度、現像性の見地から、通常、重量平均分子量が１０，０００〜２００，０００であることが好ましく、３０，０００〜１５０，０００であることがより好ましく、５０，０００〜１００，０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量の測定条件は本願明細書の実施例と同一の測定条件とする。

（Ａ）成分であるバインダーポリマーの酸価は、現像工程により感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程において、公知の各種現像液により現像可能となり、且つ、電極の保護膜として機能させる際に水分や塩分などの腐食成分への耐性を向上させる観点から、３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲としている。

また、バインダーポリマーの酸価を、３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることにより、水と、アルカリ金属塩と、界面活性剤とを含むアルカリ水溶液を用いて現像することができる。バインダーポリマーの酸価が、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることにより、現像性を十分得ることができ、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることにより、水分や塩分などの腐食成分への耐性を向上させることができる。

また、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン等のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を５０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることがより好ましい。現像性に優れる点では、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが更に好ましい。また、タッチパネル用電極を保護する際、水分や塩分などの腐食成分から電極を保護する観点からは、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが特に好ましい。

（Ｂ１）成分である、少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物としては、電極腐食の抑制力及び現像容易性の観点から、アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性テトラメチロールメタン（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性グリセリン（メタ）アクリレート化合物、及びアルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、から選択される少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物及びアルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むことがより好ましい。

上記少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物としては、例えば、アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性グリセリン（メタ）アクリレート化合物等の多価アルコールにα，β−不飽和飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物；アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレート等のグリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物などが挙げられる。

上記アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物とは、アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味する。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が３である化合物が含有されておれば良く、エステル結合の数が１〜２の化合物が混合していてもよい。

また、アルキレンオキサイド変性ペンタエリスリトール（メタ）アクリレートとは、アルキレンオキサイド変性ペンタエリスリトールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味する。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が４であることが好ましいが、エステル結合の数が２又は３の化合物が混合していてもよい。

また、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレートとは、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味する。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が６であることが好ましいが、エステル結合の数が３〜５の化合物が混合していてもよい。

上記少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物は、オキシアルキレン鎖の構造単位数が、３〜２０であることが好ましく、５〜２０であることがより好ましく、９〜２０であることが更に好ましい。耐クラック性を向上させる観点からは、５〜２０が好ましく、９〜２０であることがより好ましい。

本実施形態においては、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＰＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート等を好ましく用いることができる。エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートは、ＳＲ４５４（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製、商品名）、ＳＲ４９９（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製、商品名）、ＳＲ５０２（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製、商品名）、ＳＲ４１５（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製、商品名）として入手可能である。エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートは、ＤＰＥＡ−１２（日本化薬（株）製、商品名）として入手可能である。ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートは、ＲＰ−１０４０（日本化薬（株）製、商品名）、ＡＴＭ−４Ｅ（新中村化学工業（株）製、商品名）として入手可能である。ＰＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートは、ＡＴＭ−４Ｐ（新中村化学工業（株）製、商品名）として入手可能である。

上記少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する光重合性化合物は、防錆性に優れる点では、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。

上記の化合物は、１種を単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。

少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物を用いることで耐クラック性が向上できる理由は明らかではないが、本発明者らは、（Ｂ１）成分として、アルキレンオキサイド変性した化合物を使用すると光重合性化合物の分子鎖が長くなるため、架橋点間距離が長くなり硬化後の架橋構造がゆるくなることで樹脂の靭性が高くなり耐クラック性が向上できると考えている。

本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ａ）成分及び（Ｂ１）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が４０〜８０質量部、（Ｂ１）成分が２０〜６０質量部であることが好ましく、（Ａ）成分が５０〜７０質量部、（Ｂ１）成分が３０〜５０質量部であることがより好ましく、（Ａ）成分が５５〜６５質量部、（Ｂ１）成分が３５〜４５質量部であることが更に好ましい。

（Ａ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、塗布性あるいは感光性エレメントでのフィルム性を充分に確保しつつ、充分な感度が得られ、光硬化性、現像性、及び電極腐食の抑制力を充分に確保することができる。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、上記（Ｂ１）成分以外の光重合性化合物を含有することができる。光重合性化合物として、例えば、上記（Ｂ１）成分と、一官能モノマー及び二官能モノマーのうちの一種以上とを組み合わせて用いることができる。一官能モノマーとしては、例えば、上記（Ａ）成分のバインダーポリマーの合成に用いられる好適なモノマーとして例示した（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及びそれらと共重合可能なモノマーが挙げられる。

二官能ビニルモノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリオキシエチレンポリオキシプロピレンジ（メタ）アクリレート（即ち、２，２−ビス（４−アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート等；多価カルボン酸（無水フタル酸等）と水酸基及びエチレン性不飽和基を有する物質（β−ヒドロキシエチルアクリレート、β−ヒドロキシエチルメタクリレート等）とのエステル化物が挙げられる。

（Ｂ１）成分である少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物と、一官能ビニルモノマーや二官能ビニルモノマーを組み合わせて用いる場合、これらのモノマーの配合割合に特に制限はないが、光硬化性及び電極腐食の抑制力を得る観点から、（Ｂ１）成分である少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物１００質量部に対し、１００質量部以下であることが好ましく、５０質量部以下であることがより好ましく、２５質量部以下であることが更に好ましい。

（Ｃ）成分である光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体；Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体；クマリン化合物；オキサゾール化合物が挙げられる。

これらの中でも、形成する保護膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物が好ましい。オキシムエステル化合物としては、下記一般式（Ｃ−１）及び一般式（Ｃ−２）で表される化合物が挙げられるが、速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物が好ましい。

上記一般式（Ｃ−１）中、Ｒ^１は、炭素数１〜１２のアルキル基、又は炭素数３〜２０のシクロアルキル基を示す。なお、本発明の効果を阻害しない限り、上記一般式（Ｃ−１）中の芳香環上に置換基を有していてもよい。

上記一般式（Ｃ−１）中、Ｒ^１は、炭素数３〜１０のアルキル基、又は炭素数４〜１５のシクロアルキル基であることが好ましく、炭素数４〜８のアルキル基、又は炭素数４〜１０のシクロアルキル基であることがより好ましい。

上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｒ^３は、炭素数１〜１２のアルキル基、又は炭素数３〜２０のシクロアルキル基を示し、Ｒ^４は炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｒ^５は、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。ｐ１は０〜３の整数を示す。なお、ｐ１が２以上である場合、複数存在するＲ^４はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。なお、カルバゾール上には本発明の効果を阻害しない範囲で置換基を有していてもよい。

上記一般式（Ｃ−２）中、炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく、エチル基であることが更に好ましい。

上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ^３は炭素数１〜８のアルキル基、又は炭素数４〜１５のシクロアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、又は炭素数４〜１０のシクロアルキル基であることがより好ましい。

上記一般式（Ｃ−１）で表される化合物としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］等が挙げられる。上記一般式（Ｃ−２）で表される化合物としては、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１（ＢＡＳＦ（株）製、商品名）として入手可能である。また、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２（ＢＡＳＦ（株）製、商品名）として商業的に入手可能である。これらは単独で、又は２種類以上を組み合わせて使用される。

上記一般式（Ｃ−１）の中でも、特に１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］が極めて好ましい。上記一般式（Ｃ−２）の中でも、特にエタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）が極めて好ましい。

上記ホスフィンオキサイド化合物としては、下記一般式（Ｃ−３）及び一般式（Ｃ−４）で表される化合物が挙げられる。速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−３）で表される化合物が好ましい。

上記一般式（Ｃ−３）中、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。一般式（Ｃ−４）中、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。

上記一般式（Ｃ−３）におけるＲ^６、Ｒ^７又はＲ^８が炭素数１〜２０のアルキル基の場合、及び、上記一般式（Ｃ−４）におけるＲ^９、Ｒ^１０又はＲ^１１が、炭素数１〜２０のアルキル基の場合、該アルキル基は直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、また該アルキル基の炭素数は５〜１０であることがより好ましい。

上記一般式（Ｃ−３）におけるＲ^６、Ｒ^７又はＲ^８がアリール基の場合、及び、上記一般式（Ｃ−４）におけるＲ^９、Ｒ^１０又はＲ^１１がアリール基の場合、該アリール基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基を挙げることができる。

これらの中でも、上記一般式（Ｃ−３）は、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８がアリール基であることが好ましい。また、上記一般式（Ｃ−４）は、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１が、アリール基であることが好ましい。

上記一般式（Ｃ−３）で表わされる化合物としては、形成する保護膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドが好ましい。２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドは、例えば、ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ（株）社製、商品名）として商業的に入手可能である。

（Ｃ）成分である光重合開始剤の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜２０質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましく、２〜５質量部であることが更に好ましい。

（Ｃ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、光感度が充分となるとともに、露光の際に組成物の表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となることや可視光透過率が低下するなどの不具合を抑制することができる。

次に、第二の実施形態について説明する。第二の実施形態における（Ａ）成分及び（Ｃ）成分については、第一の実施形態について上述したものと同様である。（Ｂ２）成分について以下に説明する。

（Ｂ２）成分である、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ウレタンジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート、ポリエステルポリオールに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレート、ポリカーボネートに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレートが挙げられる。

（Ｂ２）成分は、アルキレンオキサイド基を有することが好ましい。アルキレンオキサイド基及びウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＢＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ・ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ・ＢＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ・ＰＯ・ＢＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート、ＰＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート、ＢＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート、ＥＯ・ＰＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート、ＥＯ・ＢＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート及びＥＯ・ＰＯ・ＢＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド基を含むポリエステルポリオールに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド基を含むポリカーボネートに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレートが挙げられる。

上記の中でも、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物としては、ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ・ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート、ＰＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート、ＥＯ・ＰＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート、ポリエステルポリオールに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレート又はポリカーボネートに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレートを含有することが好ましく、ＥＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート、ポリエステルポリオールに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレート又はポリカーボネートに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレートを含有することがより好ましく、ポリエステルポリオールに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレート又はポリカーボネートに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレートを含有することが更に好ましい。

また、上記ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物の重量平均分子量は、防錆性と耐クラック性を両立する観点から、１００〜２００００であることが好ましく、３００〜２００００であることがより好ましく、５００〜２００００であることが更に好ましく、１０００〜１５０００であることが特に好ましく、１５００〜１５０００であるとことが極めて好ましい。なお、重量平均分子量の測定条件は本願明細書の実施例と同一の測定条件とする。

ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ・ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート、ＰＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレート、ＥＯ・ＰＯ変性イソシアヌレート誘導（メタ）アクリレートは、下記一般式（１）又は（２）で表わされる化合物を用いることができる。

上記一般式（１）中、Ｑは炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜１０のシクロアルキレン基又はフェニレン基を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｌ^１、Ｌ^２及びＬ^３はそれぞれ独立に炭素数２〜４のアルキレン基を示す。ｒ１及びｒ２は、それぞれ独立に１〜４０の整数を示し、ｓ１、ｓ２、ｔ１及びｔ２はそれぞれ独立に０〜４０の整数を示す。ただし、ｓ１、ｓ２、ｔ１及びｔ２が０の場合、Ｌ^１はエチレン基を示す。ｒ１、ｒ２、ｓ１、ｓ２、ｔ１又はｔ２が２以上の場合、複数存在する−Ｌ^１−Ｏ−、−Ｌ^２−Ｏ−又は−Ｌ^３−Ｏ−で表される構造単位はランダムに存在してもブロックを形成してもよい。なお、ｒ１、ｒ２、ｓ１、ｓ２、ｔ１及びｔ２は、各構造単位の数を示す。従って、単一の分子においては上記の様に整数値を示し、複数種の分子の集合体としては平均値である有理数を示す。以下、構造単位の数については同様である。

上記一般式（２）中、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ独立に炭素数１〜２０のアルキレン基を示し、Ｒ^８、Ｒ^９及びＲ^１０はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｌ^１、Ｌ^２及びＬ^３はそれぞれ独立に炭素数２〜４のアルキレン基を示す。ｒ３、ｒ４及びｒ５はそれぞれ独立に１〜４０の整数を示し、ｓ３、ｓ４、ｓ５、ｔ３、ｔ４及びｔ５はそれぞれ独立に０〜４０の整数を示す。ただし、ｓ３、ｓ４、ｓ５、ｔ３、ｔ４及びｔ５が０の場合、Ｌ^１はエチレン基を示し、ｒ３、ｒ４、ｒ５、ｓ３、ｓ４、ｓ５、ｔ３、ｔ４又はｔ５が２以上の場合、複数存在する−Ｌ^１−Ｏ−、−Ｌ^２−Ｏ−又は−Ｌ^３−Ｏ−で表される構造単位はランダムに存在してもブロックを形成してもよい。

上記一般式（１）及び（２）中、−Ｌ^１−Ｏ−がエチレンオキサイドであり、−Ｌ^２−Ｏ−がプロピレンオキサイドであり、−Ｌ^３−Ｏ−がブチレンオキサイドであることが好ましい。なお、−Ｌ^１−Ｏ−、−Ｌ^２−Ｏ−及び−Ｌ^３−Ｏ−で表される構造単位の配列順序は、特に限定されず、上記一般式（１）及び（２）における記載の配列と異なっていてもよい。

上記一般式（１）において、解像性をより良好にする観点から、Ｑは、炭素数１〜１８のアルキレン基、炭素数１〜８のシクロアルキレン基又はフェニレン基であることが好ましく、炭素数１〜１５のアルキレン基、炭素数１〜７のシクロアルキレン基又はフェニレン基であることがより好ましく、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数１〜６のシクロアルキレン基又はフェニレン基であることが更に好ましい。

上記一般式（１）において、−Ｌ^１−Ｏ−がエチレンオキサイドであり、−Ｌ^２−Ｏ−がプロピレンオキサイドであり、−Ｌ^３−Ｏ−がブチレンオキサイドである場合、ｒ１及びｒ２は、現像性、剥離性をより良好にする観点から、それぞれ独立に１〜３５であることが好ましく、１〜３０であることが好ましく、１〜２５であることが更に好ましい。また、ｓ１及びｓ２は、解像性をより良好にする観点から、それぞれ独立に０〜３０であることが好ましく、０〜２５であることが好ましく、０〜２０であることが更に好ましい。さらに、ｔ１及びｔ２は、解像性をより良好にする観点から、それぞれ独立に０〜２５であることが好ましく、０〜２０であることが好ましく、０〜１５であることが更に好ましい。

上記一般式（１）で表される化合物は、市販のものを使用してもよいし、合成したものを使用してもよい。これらは単独で又は２種類以上を任意に組み合わせて使用することができる。

上記一般式（１）で表される化合物として、下記式（３）で表されるＥＯ変性ウレタンジメタクリレート（日立化成工業（株）製、サンプル名「ＵＡ−１１」：エチレンオキサイド平均１０ｍｏｌ付加物）及び下記式（４）で表されるＥＯ変性ウレタンジメタクリレート（日立化成工業（株）製、サンプル名「ＵＡ−１３」：エチレンオキサイド平均２ｍｏｌ及びプロピレンオキサイド平均１８ｍｏｌ付加物）が、商業的に入手可能である。

上記一般式（２）において、解像性をより良好にする観点から、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に炭素数１〜１８のアルキレン基であることが好ましく、炭素数１〜１５のアルレン基であることがより好ましく、炭素数１〜１０のアルキレン基であることが更に好ましい。

上記一般式（２）において、−Ｌ^１−Ｏ−がエチレンオキサイドであり、−Ｌ^２−Ｏ−がプロピレンオキサイドであり、−Ｌ^３−Ｏ−がブチレンオキサイドである場合、現像性、剥離性をより良好にする観点から、ｒ３、ｒ４及びｒ５は、それぞれ独立に１〜３５であることが好ましく、１〜３０であることが好ましく、１〜２５であることが更に好ましい。また、解像性をより良好にする観点から、ｓ３、ｓ４及びｓ５は、それぞれ独立にそれぞれ０〜３０であることが好ましく、０〜２５であることが好ましく、０〜２０であることが更に好ましい。さらに、解像性をより良好にする観点から、ｔ３、ｔ４及びｔ５は、それぞれ独立に０〜３０であることが好ましく、０〜２５であることが好ましく、０〜２０であることが更に好ましい。

上記一般式（２）で表される化合物は市販のものを使用してもよいし、合成したものを使用してもよい。これらは単独で又は２種類以上を任意に組み合わせて使用することができる。

上記一般式（２）で表される化合物として、下記式（５）で表されるＥＯ変性イソシアヌレート誘導トリメタクリレート（新中村化学工業（株）製、製品名「ＵＡ−７１００」：エチレンオキサイド平均２７ｍｏｌ付加物）及び下記式（６）で表されるＥＯ変性イソシアヌレート誘導トリメタクリレート（新中村化学工業（株）製、製品名「ＵＡ−２１」：エチレンオキサイド平均１２ｍｏｌ付加物）が、商業的に入手可能である。

ポリカーボネートに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレート又はポリエステルポリオールに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレートは、特に制限無く用いることができる。

ポリカーボネートに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサメチレンジイソアネート、イソホロンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物と、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート等のヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基を有る化合物と、ヒドロキシル基を有するポリカーボネートと、を付加反応させることにより得ることができる。市販品としては、例えば、ＵＦ−８００１、ＵＦ−８００３（共栄社化学株式会社、商品名）等がある。上記の化合物は、単一の化合物として用いてもよいが、２種以上の化合物の混合物として用いてもよい。

ポリエステルポリオールに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサメチレンジイソアネート、イソホロンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物と、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート等のヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物と、ポリエステルポリオールと、を付加反応させることにより得ることができる。市販品としては、例えば、ＵＸ−３２０４（日本化薬株式会社製、商品名）等がある。上記ポリエステルポリオールに基づく構造単位を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物は、単一の化合物として用いてもよいが、２種以上の化合物の混合物として用いてもよい。

（Ｂ２）成分としては、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有することが、電極腐食の抑制力を更に向上させる観点からより好ましい。このような化合物としては、例えば、上記一般式（５）及び（６）で表される化合物が挙げられる。また、市販品としては、ＵＸ−５０００、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（いずれも日本化薬株式会社製、多官能ウレタンアクリレート）が挙げられる。

本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ａ）成分及び（Ｂ２）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ２）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が７５〜９９質量部、（Ｂ２）成分が１〜２５質量部であることが好ましく、（Ａ）成分が８０〜９７質量部、（Ｂ２）成分が３〜２０質量部であることがより好ましく、（Ａ）成分が８５〜９５質量部、（Ｂ２）成分が５〜１５質量部であることが更に好ましい。

本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、上記ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物以外の第２の光重合性化合物を更に含むことが好ましい。

第２の光重合性化合物としては、上述した（Ｂ１）成分として使用することが可能な化合物及び（Ｂ１）成分と併用することが可能な化合物を使用することができる。

第２の光重合性化合物を含有させる場合は、（Ｂ２）成分であるウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物１００質量部に対し、２０００質量部以下であることが好ましく、１０００質量部以下であることがより好ましく、７００質量部以下であることが更に好ましい。

本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ａ）成分の含有量、及び（Ｂ２）成分を含む（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分、及び（Ｂ２）成分を含む（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、それぞれ（Ａ）成分が４０〜８０質量部、（Ｂ２）成分を含む（Ｂ）成分が２０〜６０質量部であることが好ましく、（Ａ）成分が５０〜７０質量部、（Ｂ２）成分を含む（Ｂ）成分が３０〜５０質量部であることがより好ましく、（Ａ）成分が５５〜６５質量部、（Ｂ２）成分を含む（Ｂ）成分が３５〜４５質量部であることが更に好ましい。

第一及び第二の実施形態に係る感光性樹脂組成物には、必要に応じて、防錆剤、シランカップリング剤等の密着性付与剤、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤などを（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、各々０．０１〜２０質量部程度含有させることができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。

第一及び第二の実施形態に係る感光性樹脂組成物は、４００〜７００ｎｍにおける可視光線透過率の最小値が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。

ここで、感光性樹脂組成物の可視光透過率は以下のようにして求められる。まず、支持フィルム上に感光性樹脂組成物を含有する塗布液を、乾燥後の厚みが１０μｍ以下となるように塗布し、これを乾燥することにより、感光性樹脂組成物層（感光層）を形成する。次に、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層が接するようにラミネータを用いてラミネートする。こうして、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層及び支持フィルムが積層された測定用試料を得る。次に、得られた測定用試料に紫外線を照射して感光性樹脂組成物層を光硬化した後、紫外可視分光光度計を用いて、測定波長域４００〜７００ｎｍにおける透過率を測定する。

一般的な可視光波長域の光線である４００〜７００ｎｍの波長域における透過率が９０％以上であれば、例えば、タッチパネル（タッチセンサー）のセンシング領域の透明電極を保護する場合や、タッチパネル（タッチセンサー）の額縁領域の金属層（例えば、ＩＴＯ電極上に銅層を形成した層など）を保護したときにセンシング領域の端部から保護膜が見える場合において、センシング領域での画像表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。

第一及び第二の実施形態に係る感光性樹脂組成物は、基材上に感光層を形成するために用いることができる。例えば、感光性樹脂組成物を溶媒に均一に溶解又は分散させて得ることのできる塗布液を調製し、基材上に塗布することで塗膜を形成し、乾燥により溶媒を除去することで感光層を形成することができる。

溶媒としては、各成分の溶解性、塗膜形成のし易さ等の点から、ケトン、芳香族炭化水素、アルコール、グリコールエーテル、グリコールアルキルエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、エステル、又はジエチレングリコールを用いることができる。これらの溶媒は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の溶媒からなる混合溶媒として用いてもよい。

上記溶媒の中でも、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等を用いることが好ましい。

第一及び第二の実施形態に係る感光性樹脂組成物は、本実施形態の感光性エレメントのように、感光性フィルムに製膜して用いることが好ましい。感光性フィルムを、タッパネル用電極を有する基材上に積層することにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶媒乾燥工程が短縮できるなど、製造工程の短縮やコスト低減に大きく貢献することができる。

感光性エレメント１の感光層２０は、第一及び第二の実施形態に係る感光性樹脂組成物を含有する塗布液を調製し、これを支持体フィルム上に塗布、乾燥することにより形成できる。塗布液は、上述した第一及び第二の実施形態に係る感光性樹脂組成物を構成する各成分を溶媒に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。

溶媒としては、特に制限はなく、公知のものが使用でき、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム及び塩化メチレンが挙げられる。これら溶媒は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の溶媒からなる混合溶媒として用いてもよい。

塗布方法としては、例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。

乾燥条件に特に制限はないが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、３０秒〜３０分とすることが好ましい。

感光層の厚みは、電極保護に充分な効果を発揮し、かつ部分的な電極保護膜形成により生じるタッチパネル（タッチセンサー）表面の段差が極力小さくなるよう、乾燥後の厚みで１μｍ以上９μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上８μｍ以下であることがより好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが更に好ましいく、３μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。

感光層２０は、可視光透過率が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。

感光層２０の粘度は、感光性エレメントをロール状とした場合に、感光性エレメントの端面から感光性樹脂組成物がしみ出すことを１カ月以上防止する点及び感光性エレメントを切断する際に感光性樹脂組成物の破片が基板に付着して引き起こされる活性光線を照射する際の露光不良や現像残り等を防止する点から、３０℃において、１５〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２０〜９０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、２５〜８０ｍＰａ・ｓであることが更に好ましい。

なお、上記の粘度は、感光性樹脂組成物から形成される直径７ｍｍ、厚さ２ｍｍの円形の膜を測定用試料とし、この試料の厚さ方向に、３０℃及び８０℃で１．９６×１０^−２Ｎの荷重を加えたときの厚さの変化速度を測定し、この変化速度からニュートン流体を仮定して粘度に換算した値である。

保護フィルム３０（カバーフィルム）としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、及びポリエチレン−酢酸ビニル共重合体とポリエチレンの積層フィルム等からなるフィルムが挙げられる。

保護フィルム３０の厚さは、５〜１００μｍ程度が好ましいが、ロール状に巻いて保管する観点から、７０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましく、４０μｍ以下であることが特に好ましい。

感光性エレメント１は、ロール状に巻いて保管し、あるいは使用できる。

本発明においては、上述した第一及び第二の実施形態に係る感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する塗布液を、タッチパネル用電極を有する基材上に塗布し、乾燥して、感光性樹脂組成物からなる感光層を設けてもよい。この用途の場合においても、感光層は上述した、膜厚、可視光線透過率の条件を満たすことが好ましい。

次に、本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法について説明する。図２は、本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。

本実施形態のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法は、タッチパネル用電極１１０及び１２０を有する基材１００上に、上記の本実施形態に係る感光性樹脂組成物からなる感光層２０を設ける第１工程と、感光層２０の所定部分を紫外線を含む活性光線の照射により硬化させる第２工程と、活性光線の照射後に所定部分以外の感光層（感光層の活性光線が照射されていない部分）を除去し、電極の一部又は全部を被覆する感光性樹脂組成物の硬化膜パターンからなる保護膜２２を形成する第３工程と、を備える。こうして、タッチ入力シートである保護膜付きタッチパネル（タッチセンサー）２００が得られる。

本実施形態で使用される基材１００としては、一般にタッチパネル（タッチセンサー）用として用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基板が挙げられる。基材１００の厚みは、使用の目的に応じて適宜選択することができ、フィルム状の基板を用いてもよい。フィルム状の基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムが挙げられる。この基板上には、保護膜を形成する対象となるタッチパネル用電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ等の電極、ＴＦＴ等が挙げられる。また、基板上には、基板と電極との間に絶縁層が設けられていてもよい。

図２に示されるタッチパネル用電極１１０及び１２０を有する基材１００は、例えば、以下の手順で得ることができる。ＰＥＴフィルムなどの基材１００上に、ＩＴＯ、Ｃｕの順にスパッタより金属膜を形成した後、金属膜上にエッチング用感光性フィルムを貼り付け、所望のレジストパターンを形成し、不要なＣｕを塩化鉄水溶液等のエッチング液で除去した後、レジストパターンをはく離除去する。

本実施形態の第１工程では、本実施形態の感光性エレメント１の保護フィルム３０を除去した後、感光性エレメントを加熱しながら、基材１００のタッチパネル用電極１１０及び１２０が設けられている表面に感光層２０を圧着することにより転写し、積層する（図２の（ａ）を参照）。

圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。

加熱圧着する場合の加熱温度は、感光層と基材との密着性、並びに、感光層２０とタッチパネル用電極１１０及び１２０との密着性を充分確保しながら、感光層の構成成分が熱硬化あるいは熱分解されにくいよう、１０〜１８０℃とすることが好ましく、２０〜１６０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることが更に好ましい。

また、加熱圧着時の圧着圧力は、感光層と基材との密着性を充分確保しながら、基材の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０^５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０^２〜５×１０^４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０^２〜４×１０^４Ｎ／ｍとすることが更に好ましい。

感光性エレメント１を上記のように加熱すれば、基材を予熱処理することは必要ではないが、感光層と基材との密着性を更に向上させる点から、基材を予熱処理することが好ましい。このときの予熱温度は、３０〜１８０℃とすることが好ましい。

本実施形態においては、感光性エレメントを用いる代わりに、本実施形態の感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する塗布液を調製して基材１００のタッチパネル用電極１１０及び１２０が設けられている表面に塗布し、乾燥して感光層２０を形成することができる。

感光層２０は、上述した膜厚、可視光線透過率の条件を満たすことが好ましい。

本実施形態の第２工程では、感光層２０の所定部分に、フォトマスク１３０を介して、活性光線Ｌをパターン状に照射する（図２の（ｂ）を参照）。

活性光線を照射する際、感光層２０上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には除去してから活性光線を照射する。感光層の保護という点からは、支持フィルム１０として透明な重合体フィルムを用い、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通して活性光線を照射することが好ましい。

活性光線を照射に用いられる活性光線の光源としては、公知の活性光源が使用でき、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯及びキセノンランプが挙げられ、紫外線を有効に放射するものであれば特に制限されない。

このときの、活性光線の照射量は、通常、１×１０^２〜１×１０^４Ｊ／ｍ^２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線照射量が、１×１０^２Ｊ／ｍ^２未満では、光硬化の効果が不充分となる傾向があり、１×１０^４Ｊ／ｍ^２を超えると、感光層が変色する傾向がある。

本実施形態の第３工程では、活性光線を照射後の感光層を現像液で現像して活性光線が照射されていない部分（すなわち、感光層の所定部分以外）を除去し、電極の一部又は全部を被覆する本実施形態の感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜２２を形成する（図２の（ｃ）を参照）。形成される保護膜２２は所定のパターンを有することができる。

なお、活性光線の照射後、感光層に支持フィルムが積層されている場合にはそれを除去した後、現像液による活性光線が照射されていない部分を除去する現像が行われる。

現像方法としては、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶媒等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げられ、中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いることが好ましい。

アルカリ水溶液の中でも炭酸ナトリウムの水溶液が好ましい。例えば、２０〜５０℃の炭酸ナトリウムの希薄溶液（０．５〜５質量％水溶液）が好適に用いられる。

現像温度及び時間は、本実施形態の感光性樹脂組成物の現像性に合わせて調整することができる。

また、アルカリ水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶媒等を混入させることができる。

また、現像後、光硬化後の感光層に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機酸又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により酸処理（中和処理）することができる。

さらに、酸処理（中和処理）の後、水洗する工程を行うこともできる。

現像後、必要に応じて、活性光線の照射（例えば、５×１０^３〜２×１０^４Ｊ／ｍ^２）により、硬化物を更に硬化させてもよい。なお、本実施形態の感光性樹脂組成物は、現像後の加熱工程なしでも金属に対して優れた密着性を示すが、必要に応じて、現像後の活性光線の照射の代わりに、又は活性光線の照射と合わせて、加熱処理（８０〜２５０℃）を施してもよい。

上述のように、本実施形態の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、タッチパネル用電極の保護膜を形成するための使用に好適である。感光性樹脂組成物の上記使用については溶媒と混合した塗布液を用いて保護膜を形成することができる。

また、本発明は、本発明に係る感光性樹脂組成物を含む保護膜の形成材料を提供することができる。この保護膜の形成材料は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を含むことができ、更に上述した溶媒を含有する塗布液であることが好ましい。

次に、図３、図４及び図５を用いて、本発明の保護膜の使用箇所の一例を説明する。図３は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。図３に示されるタッチパネルは、透明基板１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が基板１０１上に設けられている。透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置のＸ座標及びＹ座標を検出する。

透明基板１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線１０５が設けられている。また、引き出し配線１０５と透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、引き出し配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。本発明の感光性樹脂組成物は、引き出し配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７の保護膜１２２としての樹脂硬化膜パターンを形成するために好適に用いることができる。この際に、センシング領域にある電極を同時に保護することもできる。図３では、保護膜１２２により、引き出し配線１０５、接続電極１０６、センシング領域の一部電極及び接続端子１０７の一部を保護しているが、保護膜を設ける箇所は適宜変更してもよい。例えば、図４に示すように、タッチ画面１０２を全て保護するように保護膜１２３を設けてもよい。

図５を用いて、図３に示したタッチパネルにおいて、透明電極と引き出し配線の接続部の断面構造を説明する。図５は、図３に示されるＣ部分のＶ−Ｖ線に沿った部分断面図であり、透明電極１０４と引き出し配線１０５の接続部を説明するための図である。図５の（ａ）に示すように、透明電極１０４と引き出し配線１０５とは、接続電極１０６を介して電気的に接続されている。図５の（ａ）に示すように、透明電極１０４の一部、並びに、引き出し配線１０５及び接続電極１０６の全部が、保護膜１２２としての樹脂硬化膜パターンで覆われている。同様に、透明電極１０３と引き出し配線１０５とは、接続電極１０６を介して電気的に接続されている。なお、図５の（ｂ）に示すように、透明電極１０４と引き出し配線１０５とが直接、電気的に接続されていてもよい。本発明の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、上記構造部分の保護膜としての樹脂硬化膜パターンの形成のための使用に好適である。

本実施形態のおける、タッチパネルの製造方法について説明する。まず、基材１００上に設けられた透明電極１０１上に、透明電極（Ｘ位置座標）１０３を形成する。続いて、透明電極（Ｙ位置座標）１０４を形成する。透明電極１０３及び透明電極１０４の形成は、透明基材１００上に形成した透明電極層を、エッチングする方法などを用いることができる。

次に、透明基板１０１の表面に、外部回路と接続するための引き出し配線１０５と、この引き出し配線と透明電極１０３及び透明電極１０４を接続する接続電極１０６を形成する。引き出し配線１０５及び接続電極１０６は、透明電極１０３及び透明電極１０４の形成後に形成しても、各透明電極形成時に同時に形成してもよい。引き出し配線１０５及び接続電極１０６の形成は、金属スパッタリング後、エッチング法などを用いることができる。引き出し配線１０５は、例えば、フレーク状の銀を含有する導電ペースト材料を使って、スクリーン印刷法を用いて、接続電極１０６を形成するのと同時に形成することができる。次に、引き出し配線１０５と外部回路とを接続するための接続端子１０７を形成する。

上記工程により形成された透明電極１０３及び透明電極１０４、引き出し配線１０５、接続電極１０６、並びに、接続端子１０７を覆うように、本実施形態に係る感光性エレメント１を圧着し、上記電極上に感光層２０を設ける。次に、転写した感光層２０に対し、所望の形状にフォトマスクを介してパターン状に活性光線Ｌを照射する。活性光線Ｌを照射した後、現像を行い、感光層２０の所定部分以外を除去することで、感光層２０の所定部分の硬化物からなる保護膜１２２を形成する。このようにして、保護膜１２２を備えるタッチパネルを製造することができる。

以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製］
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が約６５，０００、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ１）を得た。

［バインダーポリマー溶液（Ａ２）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量が約８０，０００、酸価が１１５ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ２）を得た。

［バインダーポリマー溶液（Ａ３）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量が約３５，０００、酸価が１５６ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ３）を得た。

［バインダーポリマー溶液（Ａ４）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量が約４５，０００、酸価が１９５ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ４）を得た。

なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
ＧＰＣ条件
ポンプ：日立 Ｌ−６０００型（（株）日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成工業（株）製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立 Ｌ−３３００型ＲＩ（（株）日立製作所製、製品名）

［酸価の測定方法］
酸価は、次のようにして測定した。まず、バインダーポリマーの溶液を、１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、酸価の測定対象であるバインダーポリマー１ｇを精秤した後、このバインダーポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の重量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。

（実施例１）
［感光性樹脂組成物を含有する塗布液（Ｖ−１）の作製］
表２に示す材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、保護膜を形成するための感光性樹脂組成物を含有する塗布液（Ｖ−１）を作製した。

［感光性エレメント（Ｅ−１）の作製］
支持フィルムとして厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、感光性樹脂組成物（Ｖ−１）を支持フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶媒を除去し、感光性樹脂組成物からなる感光層（感光性樹脂組成物層）を形成した。得られた感光層の厚さは５μｍであった。

次いで、得られた感光層の上に、さらに、２５μｍの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィルムとして張り合わせて、感光性エレメント（Ｅ−１）を作製した。

［保護膜の透過率の測定］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ１ｍｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、このときの線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。

次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、厚さ５．０μｍの保護膜（感光性樹脂組成物が光硬化した硬化膜）を有する透過率測定用試料を得た。

次いで、得られた試料を日立製作所製、紫外可視分光光度計（Ｕ−３３１０）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光線透過率を測定した。得られた保護膜の波長４００ｎｍにおける透過率は、波長７００ｎｍにおいて９７％、波長５５０ｎｍにおいて９６％、波長４００ｎｍにおいて９４％であり、４００〜７００ｎｍにおける透過率の最小値は９４％であり、良好な透過率を確保できていた。

［保護膜の塩水噴霧試験（人工汗液耐性評価試験）］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のポリエチレンフィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工（株）製）上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。

次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光側上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０^４Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ５．０μｍの保護膜（感光性樹脂組成物が光硬化した硬化膜）を有する人工汗液耐性評価用試料を得た。

次いで、ＪＩＳ規格（Ｚ ２３７１）を参考に、塩水噴霧試験機（スガ試験機（株）製ＳＴＰ−９０Ｖ２）を用いて、試験槽内に前述の試料を載置し、濃度５０ｇ／Ｌの塩水（ｐＨ＝６．７）を試験槽温度３５℃、噴霧量１．５ｍＬ／ｈで４８時間噴霧した。噴霧終了後、塩水を拭き取って、評価用試料の表面状態を観察し、以下の評点に従って評価した。
Ａ ： 保護膜表面に全く変化なし。
Ｂ ： 保護膜表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｃ ： 保護膜表面に痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｄ ： 保護膜表面に痕跡があり、かつ銅が変色する。
評価用試料の表面状態を観察したところ、保護膜表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なく評価はＢであった。

［感光層の現像残渣試験］
得られた感光性エレメントのポリエチレンフィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工（株）製）上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。

上記で得られた積層体を作製後、２３℃、６０％の条件で２４時間保管した後、活性光線透過部と活性光線遮光部が交互にパターニングされた、ライン／スペースが３００μｍ／３００μｍのフォトマスクを用い、支持フィルム上にフォトマスクを載置し、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、フォトマスク面垂直上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を像的に照射した。

次いで、感光層上に積層されている支持フィルムを除去し、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で４０秒間スプレー現像して、感光層を選択的に除去し、保護膜パターンを形成した。得られた保護膜パターン付き基板の、選択的に感光層を除去した部分の基材表面状態を顕微鏡で観察し、以下の評点に従って現像残渣を評価した。
Ａ ： 基材表面に全く変化なし。
Ｂ ： 基材表面の銅がわずかに変色するが、現像残渣はない。
Ｃ ： 基材表面の銅がわずかに変色し、現像残渣がわずかに発生する。
Ｄ ： 現像残渣が発生する。
評価用試料の表面状態を観察したところ、基材表面に変化は見られず、評価はＡであった。

［保護膜の引張り試験］
得られた感光性フィルムのエレメント（感光層厚４０μｍ）を１０ｍｍ×５０ｍｍのサンプル片に切り出し、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量１×１０^４Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、支持フィルム側から紫外線を照射した。その後、支持フィルム及びポリエチレンフィルムを除去し、厚さ４０．０μｍの保護膜（感光性樹脂組成物が光硬化した硬化膜）を有する引張り試験用試料を得た。

次いで、ＪＩＳ規格（Ｋ７１２７）を参考に、引張り試験を実施した。島津製作所製（オートグラフＡＧＳ−５ｋＮＧ）試験機で、上記で得られた引張り試験用試料をつかみ間距離２０ｍｍでセットして５ｍｍ／ｍｉｎの速度で引張り試験をおこない、以下の評点に従って保護膜の弾性率と伸びを評価した。
Ａ ： 弾性率が１．０ＧＰａ未満
Ｂ ： 弾性率が１．０ＧＰａ以上１．５ＧＰａ未満
Ｃ ： 弾性率が１．５ＧＰａ以上２．０ＧＰａ未満
Ｄ ： 弾性率が２．０ＧＰａ以上
評価用試料に対する引張り試験結果から、弾性率は１．４８９ＧＰａであり、評価はＢであった。

（実施例２〜１３、比較例１〜４）
表２〜４（表中の数値の単位は質量部）に示す感光性樹脂組成物溶液を用いた以外は、実施例１と同様に感光性エレメントを作製し、透過率の測定、塩水噴霧試験、現像残渣試験、保護膜の引張り試験を行った。表５〜７に示すように、比較例１〜４に比べ、実施例１〜１３は、透過率の測定、塩水噴霧耐性評価、耐クラック性のいずれも良好な結果であった。

表２〜表４の成分の記号は以下の意味を示す。
（Ａ）成分
（Ａ１）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量６５，０００、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ２）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１７．５／５２．５／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量８０，０００、酸価１１５ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ３）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／メタクリル酸ブチル＝２４／４３．５／１５／１７．５（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量３５，０００、酸価１５６ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ４）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチル＝３０／３５／３５（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量４５，０００、酸価１９５ｍｇＫＯＨ／ｇ

（Ｂ）成分
ＳＲ４５４：エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイドの平均値が３（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製）
ＳＲ４９９：エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイドの平均値が６（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製）
ＳＲ５０２：エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイドの平均値が９（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製）
ＳＲ４１５：エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイドの平均値が２０（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製）
ＳＲ３１５Ｓ：トリメチロールプロパントリアクリレート（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製）
ＤＰＥＡ−１２：エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エチレンオキサイドの平均値が６（日本化薬（株）製）
ＲＰ−１０４０：ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチレンオキサイドの平均値が４、（日本化薬（株）製）
ＡＴＭ−４Ｅ：ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチレンオキサイドの平均値が４（新中村化学工業（株）製）
ＡＴＭ−４Ｐ：ＰＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロピレンオキサイドの平均値が４（新中村化学工業（株）製）
ＵＸ−３２０４：ポリエステルポリオールに基づく構造単位とヘキサメチレンジイソシアネートに基づく構造単位とを有するウレタンアクリレート（日本化薬株式会社製、商品名、重量平均分子量１３０００）
ＵＦ−８００１：ポリカーボネートに基づく構造単位とジメチルイソホロンジイソシアネートに基づく構造単位とを有するウレタンアクリレート（共栄社化学株式会社製、商品名、重量平均分子量４５００）
ＵＦ−８００３：ポリカーボネートに基づく構造単位とジメチルイソホロンジイソシアネートに基づく構造単位とを有するウレタンアクリレート（共栄社化学株式会社製、商品名、重量平均分子量１４２００）
ＵＡ−２１：トリス（メタクリロイルオキシテトラエチレングリコールイソシアネートヘキサメチレン）イソシアヌレート（新中村化学工業（株）製、商品名、重量平均分子量１２９０）
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製）
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート（日本化薬（株）製）
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）
ＢＰＥ−５００：エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート（新中村化学工業（株）製）
９Ｇ：ポリエチレングリコール＃４００ジメタクリレート（新中村化学工業（株）製）

（Ｃ）成分
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１：１，２−オクタンジオン，１−［（４−フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ（株）製）
その他の成分
Ａｎｔａｇｅ Ｗ−５００：２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（川口化学（株）製）
メチルエチルケトン：東燃化学（株）製

実施例１〜１３は、充分な現像性を有するとともに、光硬化によって形成した膜が１０μｍ以下の厚みであっても充分な防錆性を示し、引張試験における弾性率が充分小さい膜を形成できることが確認された。

１…感光性エレメント、１０…支持フィルム、２０…感光層、２２…保護膜、３０…保護フィルム、１００…基材、１０１…透明基板、１０２…タッチ画面、１０３…透明電極（Ｘ位置座標）、１０４…透明電極（Ｙ位置座標）、１０５…引き出し配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１１０，１２０…タッチパネル用電極、１２２，１２３…保護膜、１３０…フォトマスク、２００…タッチパネル。

Claims (21)

1. タッチパネル用電極を有する基材上に、カルボキシル基を有し、酸価が３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、前記光重合性化合物が少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物を含む、感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、当該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記所定部分以外を除去し、前記電極の一部又は全部を被覆する前記感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜を形成する、タッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
2. 前記少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物が、アルキレンオキサイド変性ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物、及びアルキレンオキサイド変性グリセリン（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む、請求項１に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
3. タッチパネル用電極を有する基材上に、カルボキシル基を有し、酸価が３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、前記光重合性化合物がウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物を含む、感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、当該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記所定部分以外を除去し、前記電極の一部又は全部を被覆する前記感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜を形成する、タッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
4. 前記ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物は、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する、請求項３に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
5. 前記感光性樹脂組成物は、前記ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物以外の第２の光重合性化合物を更に含有する、請求項３又は４に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
6. 前記第２の光重合性化合物は、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する、請求項５に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
7. 前記感光層は、４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０％以上である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
8. 前記光重合開始剤が、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
9. 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた前記感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、当該感光性エレメントの感光層を前記基材上に転写して前記感光層を設ける、請求項１〜８のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
10. カルボキシル基を有し、酸価が３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、前記光重合性化合物が少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物を含む、タッチパネル用電極の保護膜形成に用いられる、感光性樹脂組成物。
11. 前記少なくとも３つのエチレン性不飽和基及びアルキレンオキサイド基を有する化合物が、アルキレンオキサイド変性ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物、及びアルキレンオキサイド変性グリセリン（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む、請求項１０の感光性樹脂組成物。
12. カルボキシル基を有し、酸価が３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、前記光重合性化合物がウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物を含む、タッチパネル用電極の保護膜形成に用いられる、感光性樹脂組成物。
13. 前記ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物は、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する、請求項１２に記載の感光性樹脂組成物。
14. 前記ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物以外の第２の光重合性化合物を更に有する、請求項１２又は１３に記載の感光性樹脂組成物。
15. 前記第２の光重合性化合物は、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する、請求項１４に記載の感光性樹脂組成物。
16. 保護膜を形成したときの可視光線透過率の最小値が９０％以上である、請求項１０〜１５のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
17. 前記光重合開始剤が、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項１０〜１６のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
18. 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた請求項１０〜１７のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える、感光性エレメント。
19. 前記感光層の厚みが１０μｍ以下である、請求項１８に記載の感光性エレメント。
20. タッチパネル用電極を有する基材上に、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法により前記電極の一部又は全部を被覆する保護膜を形成する工程、を備える、タッチパネルの製造方法。
21. 請求項１０〜１７のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物の硬化物からなるタッチパネル用電極の保護膜。

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