CN101384961A - 感光性树脂组合物、抗蚀图案的形成方法、印刷电路板的制造方法以及等离子显示屏用基板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种感光性树脂组合物，其特征在于，含有(A)重均分子量为35000～65000的粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、以及(C)光聚合引发剂，(B)成分含有(B1)具有一个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(B2)具有两个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、以及(B3)具有三个以上乙烯性不饱和键的光聚合性化合物，(B3)成分相对于(B)成分总量的比率为15～30质量％。

Description

感光性树脂组合物、抗蚀图案的形成方法、印刷电路板的制造方法以及等离子显示屏用基板的制造方法

技术领域

本发明涉及感光性树脂组合物、抗蚀图案的形成方法、印刷电路板的制造方法以及等离子显示屏用基板的制造方法。

背景技术

在印刷电路板的制造中进行蚀刻或镀覆等时，使用抗蚀图案作为掩模，作为用于形成所述抗蚀图案的抗蚀材料，使用感光性树脂组合物。感光性树脂组合物以将由感光性树脂组合物构成的层(以下，称为“感光层”)形成于支撑膜上的感光性元件的方式被广泛应用。

以往，在使用感光性元件的印刷电路板的制造中，在镀铜膜层叠板等电路形成用基板上，边加热边压焊感光性元件，使得感光层密合于电路形成用基板上，隔着掩模薄膜等对感光层进行图案曝光。曝光后，通过使未曝光部溶解或分散于显影液来将其除去，从而形成抗蚀图案。通过将形成的抗蚀图案用作掩模进行蚀刻或镀覆来形成导体图案。形成导体图案后，通常，抗蚀图案最终是被除去的。

通过蚀刻形成导体图案时，例如，利用蚀刻除去未被抗蚀图案披覆部分的铜箔，然后，剥离抗蚀图案。通过镀覆形成导体图案时，例如，在未被抗蚀图案披覆部分的铜箔上，通过镀覆形成铜、焊锡等层，然后，除去抗蚀图案，通过蚀刻除去被抗蚀图案披覆部分的铜箔。

可是，在平板显示器(以下，称为“FPD”)领域中，与液晶屏相比，由于可以高速显示，并且容易实现大型化，所以等离子显示屏(以下，称为“PDP”)渗透进OA设备、广告显示装置等领域中。进而，在高品位电视领域等中，非常期待PDP的进展。伴随着这样的用途扩大，具有微细且多个显示单元的彩色PDP受到了关注。

PDP是，通过在形成于玻璃基板与背面玻璃基板之间的放电空间内，在电极间生成等离子放电，将由封入在放电空间内的气体产生的紫外线照射于放电空间内的荧光体，从而进行显示。为了将放电广度抑制在一定区域的同时，又可确保均匀的放电空间，而通过隔壁(以下，称为“阻隔壁(rib)”)来隔开放电空间。阻隔壁具有大致宽20～80μm、高度60～200μm的形状。

作为形成这种阻隔壁的方法，已知有喷砂法、丝网印刷法、感光性糊剂法、光铸法、模转印法等。此外，在SID(Society for Information Display)中，由Photonics Systems公司、杜邦公司、LG麦可龙公司提倡的湿式蚀刻工艺作为新方法受到了关注。在这些阻隔壁的形成中，大部分的时候，采取对感光性树脂组合物进行图案曝光的工序。

关于图案曝光，有人提出了这样的技术:使用滤光器将由水银灯光源发出的光之中波长365nm以下的光过滤99.5％以上，将由此得到的活性光线用于图案曝光。另外，近年，由于激发出波长405nm的光的、长寿命且高输出的氮化镓系蓝色激光光源变得能够廉价地购入，因此有人提出了将其也用作图案曝光的光源的技术。

图案曝光在以往通常是以水银灯用作光源，隔着光掩模来进行，但近年，有人提出了DLP(Digital Light Processing:数字光处理)曝光法这种直接描绘法(例如，参照非专利文献1)。该曝光法中，有时也利用使用滤光器将由水银灯光源发出的光之中波长365nm以下的光过滤掉99.5％以上的活性光线、或蓝色激光光源。

非专利文献1:エレクトロニクス実装技術(电子学安装技术)2002年6月号、p.74～79

发明内容

发明要解决的问题

要想提高生产的生产能力，适宜缩短曝光时间。为此，就要求感光性树脂组合物具有高的感光度。特别是直接描绘法由于与以往的使用光掩模的图案曝光相比，难以确保高的照度，因此，具有需要更长曝光时间的倾向。

通过适当地组合光引发剂与增感剂，也可以实现感光性树脂组合物的高感光度。但是，此时，分辨率降低，或者形成的抗蚀图案的形状紊乱，而倾向于难以形成抗蚀图案的截面形状整齐的矩形。因此，以往的感光性树脂组合物的场合中，不能同时获得高感光度与高分辨率以及形状良好的抗蚀图案。

因此，本发明的目的是提供一种具有高感光度、并可以形成高分辨率且形状良好的抗蚀图案的感光性树脂组合物。

解决问题的方法

本发明人等为了解决上述课题，着眼于粘合剂聚合物与光聚合性化合物的组成进行了潜心研究，结果发现，通过使用具有特定范围的重均分子量的粘合剂聚合物，再对其组合特定组成的光聚合性化合物，就可以得到具有高感光度、并可以形成高分辨率且形状良好的抗蚀图案的感光性树脂组合物，从而完成了本发明。

即，本发明提供一种感光性树脂聚合物，其特征在于，含有(A)重均分子量为35000～65000的粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、以及(C)光聚合引发剂，(B)成分含有(B1)具有一个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(B2)具有两个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、以及(B3)具有三个以上乙烯性不饱和键的光聚合性化合物，(B3)成分相对于(B)成分全体的比率为15～30质量％。

(B2)成分相对于(B)成分总量的比率优选为40～70质量％。(B2)成分的比率不在这个范围内时，具有提高分辨率的效果降低的倾向。

(B1)成分相对于(B)成分总量的比率优选为15～30质量％。(B1)成分的比率不在这个范围内时，具有容易产生显影残渣、提高分辨率的效果降低的倾向。

(C)成分优选包含2，4，5-三芳基咪唑二聚物。这样，可以进一步改善感光性树脂组合物的密合性和感光度。

上述感光性树脂组合物优选进一步含有作为(D)成分的增感色素。这样，可以进一步提高感光性树脂组合物的感光度。

在本发明涉及的抗蚀图案的形成方法中，向由上述感光性树脂组合物构成的感光层照射活性光线后，除去一部分感光层来形成抗蚀图案。

本发明涉及的印刷电路板的制造方法，具备:通过上述本发明涉及的抗蚀图案的形成方法来形成抗蚀图案的工序；将形成的抗蚀图案用作掩模进行蚀刻或镀覆来形成导体图案的工序。

本发明还提供一种等离子显示屏用基板的制造方法，其为具有基板和形成于该基板上的阻隔壁的等离子显示屏用基板的制造方法，包括:通过上述本发明涉及的抗蚀图案的形成方法来形成抗蚀图案的工序；将形成的抗蚀图案用作掩模，除去一部分阻隔壁前体膜使其图案化的工序；由被图案化的阻隔壁前体膜形成阻隔壁的工序。

本发明涉及的感光性树脂组合物与用于等离子显示屏的阻隔壁材料的密合性良好，在等离子显示屏的制造中，可以同时获得高水平的密合性与分辨率。此外，从阻隔壁材料的剥离性也良好。即，本发明涉及的感光性树脂组合物在用于制造具有阻隔壁的等离子显示屏用基板时，是非常有用的组合物。

发明效果

根据本发明，提供一种具有高感光度、同时可形成高分辨率且形状良好的抗蚀图案的感光性树脂组合物。

根据本发明涉及的抗蚀图案的形成方法，可以在短的曝光时间内形成高分辨率且形状良好的抗蚀图案。

根据本发明涉及的印刷电路板的制造方法，可以以高生产能力制造具有高密度图案化的导体图案的印刷电路板。

根据本发明涉及的等离子显示屏用基板的制造方法，可以以高生产能力制造具有高密度图案化的阻隔壁的等离子显示屏用基板。

附图说明

图1是表示本发明涉及的抗蚀图案的形成方法的一个实施方式的示意剖视图。

图2是表示本发明涉及的印刷电路板的制造方法的一个实施方式的示意剖视图。

图3是表示本发明涉及的等离子显示屏用基板的制造方法的一个实施方式的示意剖视图。

符号说明

1:感光层，2:抗蚀图案；3:电路形成用基板，5:表面树脂层，7:支撑膜，11:基板，12:基板，15:感光性元件，20:导体层，25:导体图案，30:阻隔壁前体膜，35:阻隔壁，100:层叠基板，200:印刷电路板，300:等离子显示屏用基板。

具体实施方式

以下，对本发明适宜的实施方式进行详细说明。但是，本发明不限于以下实施方式。在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”意味着丙烯酸或甲基丙烯酸，“(甲基)丙烯酸酯”意味着丙烯酸酯或与其对应的甲基丙烯酸酯，“(甲基)丙烯酰基”意味着丙烯酰基或甲基丙烯酰基。

本实施方式涉及的感光性树脂组合物，至少含有(A)重均分子量为35000～65000的粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、以及(C)光聚合引发剂。该感光性树脂聚合物适合用作感光性元件的构成感光层的树脂，所述感光性元件具有支撑膜和形成于该支撑膜上的感光层。此时，感光层的与支撑膜相反侧的面通常是被树脂制的保护膜所覆盖。保护膜在形成抗蚀图案等时候被适当地剥离。

作为(A)成分的粘合剂聚合物，使用能够将光聚合性化合物等其他成分溶解或分散的聚合物。粘合剂聚合物可以由1种聚合物构成，也可以由2种以上的聚合物的组合来构成。组合2种以上的聚合物时，例如，可以应用共聚成分、重均分子量或分散度互不相同的聚合物的组合。另外，也可以使用如在日本特开平11-327137号公报记载的具有多模分子量分布的聚合物。

粘合剂聚合物的重均分子量(Mw)为35000～65000。如果Mw小于35000，则感光层的曝光部分的一部分在显影时被除去，容易缺少抗蚀图案的底部。另一方面，如果Mw超过65000，则抗蚀图案容易形成在其底部扩大宽度的形状。这样，如果抗蚀图案的截面形状不是规整的矩形，则将抗蚀图案用作掩模的蚀刻或镀覆等工序的精度就会降低。从同样的角度考虑，粘合剂聚合物的重均分子量更优选为40000～60000，进一步优选为45000～56000。

粘合剂聚合物的分散度(Mw/Mn)优选为1.0～3.0，更优选为1.0～2.0。如果分散度超过3.0，则具有感光性树脂聚合物的密合性和分辨率降低的倾向。

粘合剂聚合物的重均分子量(Mw)与数均分子量(Mn)，是通过凝胶渗透色谱(GPC)，作为利用使用标准聚苯乙烯的标准曲线得到的换算值来求出。

作为粘合剂聚合物，可以举出例如丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、环氧系树脂、酰胺系树脂、酰胺环氧系树脂、醇酸系树脂、酚系树脂等。从碱显影性的角度考虑，优选含有(甲基)丙烯酸酯作为共聚成分的丙烯酸系树脂。这些可以单独使用，也可以组合2种以上来使用。

粘合剂聚合物优选具有来自于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单体单位。通过含有这些单体单位，使得感光层对于电路形成用基板等具有良好的密合性及剥离特性。这里，所说的“苯乙烯衍生物”是指苯乙烯的氢原子被取代基(例如，烷基等有机基或卤原子)取代的化合物。作为苯乙烯衍生物的具体例子，有乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯。

从与上述同样的角度考虑，来自于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单体单位的比例，以聚合物的全部质量为基准，优选为3～30质量％，更优选为4～28质量％，特别优选为5～27质量％。如果该比率小于3质量％，则具有密合性降低的倾向，如果超过30质量％，则具有剥离特性降低的倾向。

另外，从密合性与剥离特性的角度考虑，粘合剂聚合物优选具有来自于甲基丙烯酸的单体单位。特别是，使甲基丙烯酸、甲基丙烯酸烷基酯以及苯乙烯进行共聚的共聚物适合用作粘合剂聚合物。

粘合剂聚合物，例如可以通过使聚合性单体进行自由基聚合来制造。作为聚合性单体，可以使用苯乙烯、苯乙烯衍生物、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸等。

作为其他的聚合性单体，可以举出双丙酮丙烯酰胺等丙烯酰胺、丙烯腈、乙烯基正丁醚等乙烯醇的酯类、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、2，2，2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2，2，3，3-四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、α-溴(甲基)丙烯酸、α-氯(甲基)丙烯酸、β-呋喃基(甲基)丙烯酸、β-苯乙烯基(甲基)丙烯酸、马来酸、马来酸酐、马来酸单甲酯、马来酸单乙酯以及马来酸单异丙酯等马来酸单酯、富马酸、肉桂酸、α-氰基肉桂酸、衣康酸、巴豆酸、丙炔酸。这些可以单独使用，或者将2种以上进行任意组合来使用。

(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可以用下述通式(I)表示。式(I)中，R³表示氢原子或甲基，R⁴表示碳原子数1～12的烷基。R⁴也可以被羟基、环氧基、卤原子等取代。

(化学式1)

CH₂＝C(R³)—COOR⁴         (I)

作为用式(I)中的R⁴表示的碳原子数1～12的烷基，可以举出例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基以及它们的结构异构体。

作为用式(I)表示的(甲基)丙烯酸烷基酯的合适的具体例子，可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯。这些可以单独使用，或者将2种以上进行任意组合来使用。

为了让使用碱溶液进行碱显影时的显影性良好，粘合剂聚合物优选含有具有羧基的聚合物。具有羧基的聚合物，例如可以通过使具有羧基的聚合性单体与其他的聚合性单体进行自由基聚合来制造。

粘合剂聚合物含有具有羧基的聚合物时，粘合剂聚合物的酸值优选为30～200mgKOH/g，更优选为45～150mgKOH/g。如果该酸值小于30mgKOH/g，则具有显影时间变长的倾向，如果超过200mgKOH/g，则具有光固化后的抗蚀剂的耐显影液性降低的倾向。

将有机溶剂用作显影液时，优选降低粘合剂聚合物中具有羧基的聚合性单体的比例。

粘合剂聚合物可以含有具有对波长350～440nm的光具有感光性的官能团的聚合物。

(B)成分的光聚合性化合物包含至少具有一个光聚合性的乙烯性不饱和键的多个光聚合性化合物。作为光聚合性化合物，可以举出例如多元醇与α，β-不饱和羧酸的酯、双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物、使α，β-不饱和羧酸与含有缩水甘油基的化合物进行反应而得的化合物、在分子内具有氨酯键的(甲基)丙烯酸酯化合物等氨酯单体、壬基苯氧基聚乙烯氧基丙烯酸酯、苯二甲酸系化合物、(甲基)丙烯酸烷基酯等。这些可以单独使用，或者组合2种以上来使用。

光聚合性化合物包含(B1)具有一个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(B2)具有两个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(B3)具有三个以上乙烯性不饱和键的光聚合性化合物。(B3)成分所具有的乙烯性不饱和键的数量的上限优选为8左右。

作为(B1)成分，可以举出例如2-乙基己基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、戊基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、异戊基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、新戊基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、己基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、庚基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、辛基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、壬基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、癸基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、十一烷基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、十二烷基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、十三烷基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、十四烷基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、十五烷基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、十六烷基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、十七烷基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、十八烷基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、十九烷基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、二十烷基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、环丙基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、环丁基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、环戊基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、环己基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、环己基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、环辛基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、环壬基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、环癸基聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙烯氧基(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙烯氧基-聚丙烯氧基(甲基)丙烯酸酯、辛基苯氧基六乙烯氧基(甲基)丙烯酸酯、辛基苯氧基七乙烯氧基(甲基)丙烯酸酯、辛基苯氧基八乙烯氧基(甲基)丙烯酸酯、辛基苯氧基九乙烯氧基(甲基)丙烯酸酯、辛基苯氧基十乙烯氧基(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚乙烯氧基(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚乙烯氧基-聚丙烯氧基(甲基)丙烯酸酯、具有(甲基)丙烯酸基的苯二甲酸衍生物。这些可以单独使用，或者组合2种以上来使用。其中，特别优选壬基苯氧基聚乙烯氧基(甲基)丙烯酸酯或具有(甲基)丙烯酸基的苯二甲酸衍生物。

作为壬基苯氧基聚乙烯氧基(甲基)丙烯酸酯，可以举出例如壬基苯氧基四乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基五乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基六乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基七乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基八乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基九乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基十乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基十一乙烯氧基丙烯酸酯。这些可以单独使用，或者将2种以上进行任意组合来使用。

作为具有(甲基)丙烯酸基的苯二甲酸衍生物，可以举出γ-氯-β-羟丙基-β’-(甲基)丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸酯、β-羟基烷基-β’-(甲基)丙烯酰氧基烷基邻苯二甲酸酯。这些可以单独使用，或者将2种以上进行任意组合来使用。

作为(B2)成分，可以举出例如二(甲基)丙烯酸1，6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸1，4-己二醇酯、亚乙基的数为2～14的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、亚丙基的数为2～14的聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、亚乙基的数为2～14且亚丙基的数为2～14的聚乙二醇·聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A系二(甲基)丙烯酸酯、在分子内具有氨酯键的二(甲基)丙烯酸酯、双(丙烯酰氧基乙基)羟基乙基异氰尿酸酯、双酚A二缩水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、苯二甲酸缩水甘油酯的(甲基)丙烯酸加成物。这些可以单独使用，或者将2种以上进行任意组合来使用。

作为双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物，可以举出2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丁氧基)苯基)丙烷、2，2-(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷。

作为2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷，可以举出例如2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基三乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基四乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基六乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基七乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基八乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基九乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十一乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十二乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十三乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十四乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十六乙氧基)苯基)丙烷。

2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷，作为BPE-500(新中村化学工业(株)制造，制品名)可以商业地购入，2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷，作为BPE-1300(新中村化学工业(株)制造，制品名)可以商业地购入。上述2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷的一个分子内的环氧乙烷基的数优选为4～20，更优选为8～15。这些可以单独使用，或将2种以上进行任意组合来使用。

作为分子内具有氨酯键的二(甲基)丙烯酸酯化合物，可以举出例如在β位具有OH基的(甲基)丙烯酸系单体与二异氰酸酯化合物(异佛尔酮二异氰酸酯、2，6-甲苯二异氰酸酯、2，4-甲苯二异氰酸酯、1，6-六亚甲基二异氰酸酯等)的加成反应物、三((甲基)丙烯酰氧基四乙二醇异氰酸酯)六亚甲基氰尿酸酯、EO改性氨酯二(甲基)丙烯酸酯、EO及PO改性氨酯二(甲基)丙烯酸酯。

作为EO改性氨酯二(甲基)丙烯酸酯，可以举出例如UA-11(新中村化学工业(株)制造，制品名)。

另外，作为EO与PO改性氨酯二(甲基)丙烯酸酯，可以举出例如UA-13(新中村化学工业(株)制造，制品名)。这些可以单独使用，或组合2种以上来使用。

作为(B3)成分，可以举出例如三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO及PO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、异氰尿酸的乙烯氧基改性三(甲基)丙烯酸酯、由异氰尿酸衍生的具有氨酯键的三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。这些可以单独使用，或组合2种以上来使用。

作为由异氰尿酸衍生的具有氨酯键的三(甲基)丙烯酸酯化合物，可以商业地购入例如UA-21、UA-41、UA-42(均由新中村化学工业(株)制造，商品名)。

这里，“EO”表示环氧乙烷，EO改性的化合物具有环氧乙烷基的嵌段结构。另外，“PO”表示环氧丙烷，PO改性的化合物具有环氧丙烷基的嵌段结构。

作为(C)成分的光聚合引发剂，可以举出例如，4，4’-(二乙基氨基)二苯甲酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-酮-1，2-甲基-1-(4-(硫代甲基)苯基)-2-吗啉代-丙酮-1等芳香族酮；烷基蒽醌等醌类；苯偶因烷醚等苯偶因醚化合物；苯偶因、烷基苯偶因等苯偶因化合物；联苯酰缩二甲醇等联苯酰衍生物；2-(邻氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚物、2-(邻氯苯基)-4，5-(甲氧基苯基)咪唑二聚物、2-(邻氟苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚物、2-(邻甲氧基苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚物、2-(对甲氧基苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚物等2，4，5-三芳基咪唑二聚物；9-苯基吖啶、1，7-(9，9’-吖啶基)庚烷等吖啶衍生物。

其中，为了进一步改善密合性与感光度，特别优选2，4，5-三芳基咪唑二聚物。就2，4，5-三芳基咪唑二聚物而言，结合于各咪唑环的芳基的取代基可以相同，也可以不同。

感光性树脂组合物可以含有作为(D)成分的增感色素。作为增感色素，可以举出例如吡唑啉类、蒽类、香豆素类、呫吨酮吨酮类、噁唑类、苯并噁唑类、噻唑类、苯并噻唑类、三唑类、芪类、三嗪类、噻吩类、萘二甲酰亚胺类。这些可以分别单独使用，或组合两种以上来使用。

(A)成分的含量相对于(A)成分与(B)成分的合计量100质量份，优选为40～80质量份，更优选为45～65质量份。如果该含量小于40质量份，则光固化物容易变脆，用作感光性元件时，具有涂膜性变差的倾向，如果超过80质量份，则具有感光度降低的倾向。

(B)成分的含量相对于(A)成分与(B)成分的合计量100质量份，优选为20～60质量份，更优选为35～55质量份。如果该含量小于20质量份，则具有感光度降低的倾向，如果超过60质量份，则具有光固化物变脆的倾向。

(B1)成分的比率相对于(B)成分总量为15～30质量％。该比率优选为17～27质量％，更优选为20～25质量％。

(B2)成分的比率相对于(B)成分总量优选为40～70质量％，更优选为45～65质量％，进一步优选为50～60质量％。

(B3)成分的比率相对于(B)成分总量优选为15～30质量％，更优选为17～27质量％，进一步优选为20～25质量％。

光聚合引发剂的含量相对于(A)成分与(B)成分的合计量100质量份，优选为0.1～10.0质量份，更优选为0.5～6.0质量份，进一步优选为1～4质量份。如果该比率小于0.1质量份，则具有感光度降低的倾向，如果超过10.0质量份，则具有抗蚀层底部的固化性降低、且容易产生浮渣的倾向。

增感色素的含量相对于(A)成分与(B)成分的合计量100质量份，优选为0.01～10.0质量份，更优选为0.05～5质量份，进一步优选为0.1～2质量份。如果该含量小于0.01质量份，则具有难以得到良好的感光度或分辨率的倾向，如果超过10质量份，则具有难以形成形状良好的抗蚀图案的倾向。

除了上述成分以外，感光性树脂组合物中还可以含有具有至少一个可进行阳离子聚合的环状醚基的光聚合性化合物(氧杂环丁烷化合物等)、阳离子聚合引发剂、孔雀绿等染料、三溴苯砜、隐色结晶紫等光显色剂、热显色防止剂、对甲苯磺酰胺等增塑剂、颜料、填充剂、消泡剂、阻燃剂、稳定剂、密合性赋予剂、流平剂、剥离促进剂、抗氧化剂、香料、成像剂、热交联剂等。这些含量相对于(A)成分与(B)成分的合计量100质量份，优选分别是0.01～20质量份左右。这些可以单独使用，或者组合2种以上来使用。

感光性树脂组合物可以溶解于甲醇、乙醇、丙酮、甲基乙基酮、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、甲苯、N，N-二甲基甲酰胺、丙二醇单甲基醚等溶剂或它们的混合溶剂中，作为固体成分30～60质量％左右的溶液来使用。该溶液是作为用于形成感光性元件的感光层的涂布液来使用。或者，也可以将该溶液作为液态抗蚀剂涂布于例如金属板的表面、如铜、铜系合金、镍、铬、铁、不锈钢等铁系合金，优选铜、铜系合金、铁系合金的表面上。

感光性元件具有支撑膜、形成于该支撑体上的感光层、覆盖感光层的与支撑体相反侧的面的保护膜。

作为支撑膜，可以使用例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、聚酯等具有耐热性以及耐溶剂性的聚合物膜。支撑膜的厚度优选为1～100μm，更优选为10～50μm，进一步优选为15～30μm。如果该厚度小于1μm，则在显影前剥离支撑膜时，具有支撑膜容易被破坏的倾向，如果超过100μm，则具有分辨率降低的倾向。

例如，通过将使上述感光性树脂组合物溶解于溶剂的固体成分30～60质量％左右的溶液(涂布液)涂布于支撑膜上，干燥支撑膜上的溶液，从而形成感光层。

涂布可以用例如辊涂机、逗号涂布机、凹版涂布机、气刀涂布机、模涂机(die coater)、棒涂机等公知的方法来进行。干燥可以通过在70～150℃加热5～30分钟左右来进行。

为了防止有机溶剂在后续工序中扩散，残留于感光层中的有机溶剂量优选为2质量％以下。

感光层的厚度根据用途而异，但干燥后的厚度优选为1～100μm，更优选为1～50μm。如果该厚度小于1μm，则具有工业涂布困难的倾向，如果超过100μm，则具有粘接力或分辨率降低的倾向。

感光层对波长365nm的紫外线的透过率优选为5～75％，更优选为7～60％，进一步优选为10～40％。如果该透过率小于5％，则具有密合性降低的倾向，如果超过75％，则具有分辨率降低的倾向。透过率可以通过UV分光计来测定。作为UV分光计，可以举出(株)日立制作所制造的228A型W光束分光光度计。

保护膜优选为如下的保护膜:感光层与保护膜的粘接力比感光层与支撑体之间的粘接力小。另外，优选低鱼眼的膜。所说的“鱼眼”是指，在通过热熔融、混炼、挤出、双轴延伸、浇铸法等将材料制造成膜时，材料的异物、未熔化物、氧化劣化物等被带到膜中的物质。

作为保护膜，可以使用例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、聚酯等具有耐热性与耐溶剂性的聚合物膜。作为市售产品，可以举出例如王子制纸(株)制造的商品名ALPHAN MA-410、E-200C；信越膜(株)制造的聚丙烯膜；帝人(株)制造的PS-25等PS系列等聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。

保护膜的厚度优选为1～100μm，更优选为5～50μm，进一步优选为5～30μm。如果该厚度小于1μm，则具有在层叠时保护膜容易破坏的倾向，如果超过100μm，则具有高价的倾向。

感光性元件可以进一步具有缓冲层、粘接层、光吸收层、气体阻挡层这样的中间层等。

图1是表示本发明涉及的抗蚀图案的形成方法的一个实施方式的示意剖视图。本实施方式具备:在层叠基板100上形成感光层1的工序；对感光层1照射活性光线的工序；除去一部分照射过活性光线的感光层1，形成抗蚀图案2的工序。

图1(a)所示的层叠基板100是由具有基板11以及形成于基板11上的导体层20的电路形成用基板3、形成于电路形成用基板3的导体层20侧的面上的表面树脂层5构成。导体层20被图案化成形成有规定的图案。表面树脂层5被图案化成形成有露出导体层20的表面S的开口部5a。

将具有支撑膜7与形成于支撑膜7上的感光层1的感光性元件15，以使感光层1密合于层叠基板100的表面树脂层5侧的方式进行层叠，从而在层叠基板100上形成感光层1(图1的(b))。当感光性元件具有保护膜时，在层叠前将保护膜从感光层上剥离。感光性元件15优选通过边加热边压焊来进行层叠。更具体地讲，层叠时，优选将感光性元件15和/或层叠基板100加热至70～130℃，优选加压至0.098～0.98MPa左右(1～10kgf/cm²左右)。压焊前也可以预先余热层叠基板100。但是，这些条件并没有特别限制。为了使感光层1对层叠基板100的密合性与追随性良好，优选在减压下进行层叠。

接着，对形成于层叠基板100上的感光层1，通过掩模图案90以图像状照射活性光线(图1的(C))。通过照射活性光线，感光层1中曝光于活性光线的部分，其感光性树脂组合物发生固化，而形成固化层1a。作为活性光线92的光源，可以使用公知的光源，例如碳弧灯、水银蒸气弧灯、高压水银灯、氙灯等可有效地放射紫外线、可见光等的光源。掩模图案90是被称作原图的负片或正片掩模图案，具有屏蔽活性光线92的屏蔽部90a与透过活性光线92的透明部90b。

当支撑膜7对活性光线透明时，可以以层叠有支撑膜7的状态照射活性光线。当支撑膜7为蔽光性时，将其除去后对感光层1照射活性光线。

代替如上所述的使用掩模的方法，还可以采用通过激光器直接描绘曝光法或DLP(Digital Light Processing)曝光法等直接描绘法，图像状地照射活性光线的方法。

照射活性光线后，除去感光层1中的固化层1a以外的部分，就形成抗蚀图案2。作为除去固化层1a以外的部分的方法，可以举出在除去支撑膜7之后，用湿式显像、干式显像等进行现象的方法。湿式显像是采用显影液，通过喷雾、摇动浸渍、涂刷、刮等公知的方法来进行。考虑到感光性树脂组合物的溶解性，可以从碱性水溶液、水系显影液、有机溶剂系显影液等中，适当地选择显影液。

作为显影液，优选碱性水溶液。作为碱性水溶液的碱，可以使用例如氢氧化碱(锂、钠或钾的氢氧化物等)、碳酸碱(锂、钠、钾或铵的碳酸盐或碳酸氢盐等)、碱金属磷酸盐(磷酸钾、磷酸钠等)、碱金属焦磷酸盐(焦磷酸钠、焦磷酸钾等)。

作为碱性水溶液的合适的具体例子，可以举出0.1～5质量％碳酸钠的稀溶液、0.1～5质量％碳酸钾的稀溶液、0.1～5质量％氢氧化钠的稀溶液、0.1～5质量％四硼酸钠的稀溶液。

碱性水溶液的pH优选为9～11的范围，其温度根据感光层1的显影性进行适当的调节。

碱性水溶液可以含有表面活性剂、消泡剂、少量的用于促进显影的有机溶剂等。

作为水系显影液，可以举出由水或碱水溶液与一种以上的有机溶剂构成的显影液。这里，作为碱性水溶液的碱，除了前述的物质以外，还可以举出例如硼砂或偏硅酸钠、四甲基氢氧化铵、乙醇胺、乙二胺、二乙三胺、2-氨基-2-羟基甲基-1，3-丙二醇、1，3-二氨基丙醇-2、吗啉。

水系显影液的pH，在抗蚀剂的显影可充分进行的范围内优选尽可能的小。具体来讲，水系显影液优选pH为8～12，更优选pH为9～10。

作为水系显影液中的有机溶剂，可以举出例如丙酮、乙酸乙酯、具有碳原子数1～4的烷氧基的烷氧基乙醇、乙醇、异丙醇、丁醇、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇单丁基醚等。这些可以单独使用，或者组合2种以上进行使用。

有机溶剂的浓度通常优选为2～90质量％，其温度根据感光层1的显影性进行适当的调节。

水系显影液可以含有少量的表面活性剂、消泡剂等。

作为有机溶剂系显影液，可以举出例如1，1，1-三氯乙烷、N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺、环己酮、甲基异丁基酮、Y-丁内酯等。为了防止着火，这些有机溶剂优选在1～20质量％的范围内含有水。

可以根据需要并用2种以上的显影方法。显影的方式有浸渍方式、搅拌方式、喷雾方式、涂刷、刮等，为了提高分辨率而最适合采用高压喷雾方式。

显影后，可以根据需要进行60～250℃左右的加热或0.2～10J/cm²左右的曝光，来进行抗蚀图案的进一步固化。

图2是表示本发明涉及的印刷电路板的制造方法的一个实施方式的示意剖视图。本实施方式具备:通过上述的抗蚀图案的形成方法来形成抗蚀图案2的工序；将形成的抗蚀图案2用作掩模进行镀覆，来形成导体图案25的工序(图2的(e))；除去抗蚀图案2的工序(图2的(f))。

作为镀覆方法，可以举出例如硫酸铜镀覆、焦磷酸铜镀覆等镀铜法、高均一焊料镀覆等镀焊料法、瓦特浴(硫酸镍-氯化镍)镀覆、氨基磺酸镍等镀镍法、镀硬金、镀软金等镀金法。

代替本实施方式所述的利用镀覆在图案化的导体层上形成导体图案，也可以通过将抗蚀图案用作掩模的蚀刻，除去导体层的一部分来形成导体图案。

此时，作为蚀刻液，优选使用氯化铜溶液、氯化铁溶液、碱性蚀刻溶液、过氧化氢蚀刻液。其中，从蚀刻因子良好的角度考虑，优选使用氯化铁溶液。

形成导体图案25后，除去抗蚀图案2，得到印刷电路板200。抗蚀图案2是，例如通过用比用于显影的碱性水溶液碱性更强的水溶液进行剥离而被除去。作为该强碱性水溶液，可以使用例如1～10质量％氢氧化钠水溶液、1～10质量％氢氧化钾水溶液。

作为剥离的方式，可以举出例如浸渍方式、喷雾方式。浸渍方式与喷雾方式可以单独使用也可以并用。

本发明涉及的制造方法还适宜用作多层印刷电路板或小径通孔的制造方法。

图3是表示本发明涉及的等离子显示屏用基板的制造方法的一个实施方式的示意剖视图。本实施方式具备:在形成于基板12上的阻隔壁前体膜30上形成抗蚀图案2的工序；将抗蚀图案2用作掩模，除去阻隔壁前体膜30的一部分，将其图案化的工序；除去抗蚀图案2的工序；由图案化后的阻隔壁前

体膜30a形成阻隔壁35的工序。

在本实施方式中，首先，在基板12上形成阻隔壁前体膜30(图3的(a))。作为基板12，使用玻璃基板等透明基板。阻隔壁前体膜30是通过将利用烧成等生成阻隔壁材料的阻隔壁前体进行成膜来形成。阻隔壁前体是从通常在等离子显示屏制造领域中用来形成阻隔壁的材料中适当选择。作为阻隔壁前体的具体例子，可以举出GLASS PASTE PD200(旭硝子公司制造)等含有玻璃粒子的糊剂。

在阻隔壁前体膜30上形成感光层1(图3的(b))，通过与上述抗蚀图案2的形成方法同样的方法，形成抗蚀图案2(图3的(c))。

接着，通过将抗蚀图案2用作掩模的蚀刻，除去未被抗蚀图案2覆盖部分的阻隔壁前体膜30(图3的(d))。这样，形成图案化后的阻隔壁前体膜30a。

作为蚀刻的方法，可以举出喷砂法、湿式蚀刻工艺。在使用喷砂法时，例如通过将二氧化硅、氧化铝等切削粒子喷吹于阻隔壁前体膜30来进行蚀刻。在使用湿式蚀刻工艺时，利用硝酸等酸溶液进行蚀刻。

蚀刻后，除去抗蚀图案2。抗蚀图案2的除去可以用与上述印刷电路板的制造方法相同的方法进行。

进一步，烧成图案化后的阻隔壁前体膜30a，形成阻隔壁35。通过如上操作，得到具有基板12与形成于基板12上的阻隔壁35的等离子显示屏用基板300。等离子显示屏用基板300适合用作等离子显示屏的背面基板。

实施例

以下，举出实施例对本发明进行更具体的说明。但是，本发明不限于以下实施例。

1.原料

(A)粘合剂聚合物

分别合成粘合剂聚合物，使其重均分子量(Mw)＝34000、38000、46200、50500、55000、64000或67000。粘合剂聚合物的共聚比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸丁酯/苯乙烯＝25/45/5/25(质量比)(酸值:160mgKOH/g)。将得到的粘合剂聚合物溶解于甲基溶纤剂/甲苯＝3/2(质量比)的混合溶剂中，将得到的粘合剂聚合物溶液用于感光性树脂组合物的调制。

粘合剂聚合物的重均分子量(Mw)，是通过下述条件的凝胶渗透色谱(GPC)，作为由使用标准聚苯乙烯的标准曲线换算的换算值来进行测定。

GPC条件

泵:日立L-6000型((株)日立制作所制造)

色谱柱:Gelpack GL-R420+Gelpack GL-R430+Gelpack GL-R440(共计3根)(均由日立化成工业(株)制造，商品名)

洗脱液:四氢呋喃

测定温度:室温

流量:2.05mL/分钟

检测器:日立L-3300型RI((株)日立制作所制造)

(B)光聚合性化合物

(B1)

“轻丙烯酸酯(light acrylate)NP-8EA”(商品名，共荣社化学制造):用下述化学式(1a)表示的壬基苯氧基聚乙二醇丙烯酸酯

“FA-MECH”(商品名，日立化成工业株式会社制造):用下述化学式(1b)表示的2-((2-甲基-1-氧代烯丙基)氧基)乙基-3-氯-2-羟基丙基邻苯二甲酸

(化学式2)

(B2)

“FA-321M”(商品名，日立化成工业株式会社制造):用下述化学式(2a)表示、m+n的平均值为10的乙氧基化双酚二甲基丙烯酸酯。

“DA-721”(商品名，长濑公司制造):用下述化学式(2b)表示的邻苯二甲酸衍生物环氧基丙烯酸酯

(化学式3)

(式(2a)中，m和n表示正整数。)

(B3)

“TMPT21”(商品名，日立化成工业株式会社制造):用下述化学式(3a)表示的聚羟基乙基醚化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯

“NK低聚UA-21”(商品名，新中村化学工业株式会社制造):用下述化学式(3b)表示的异氰酸酯·甲基丙烯酸酯酯

(化学式4)

(C)光聚合引发剂

“BCIM”:2，2’-双(2-氯苯基)-4，4’5，5’-四苯基双咪唑

(其他)

增感色素·“PIR1”:1-苯基-3-(4-叔丁基苯乙烯基)-5-(4-叔丁基苯基)-吡唑啉

显色剂

·隐色结晶紫

染料

·孔雀绿

溶剂

·混合了丙酮9g、甲苯5g以及甲醇5的混合溶剂

2.感光性树脂组合物的调制

将粘合剂聚合物溶液113g(固体成分54g)、光聚合引发剂3.7g、增感色素0.25g、显色剂0.25g以及染料0.03g、与表2所示的种类以及量的光聚合性化合物溶解于上述混合溶剂中，调制出感光性树脂组合物的溶液。

3.感光性元件的制作

将上述调制的感光性树脂组合物的溶液均匀地涂布于支撑膜(聚对苯二甲酸乙二醇酯，厚度16μm，商品名“HTF01”，帝人株式会社制造)，用70℃和110℃的热风对流式干燥器进行干燥，形成由感光性树脂组合物构成的感光层。然后，贴附用来覆盖感光层的保护膜，得到感光性元件。感光层的膜厚为25μm。

采用UV分光计((株)日立制作所制造，商品名“U-3310分光光度计”)测定得到的各感光性元件的感光层的吸光度(OD值)。OD值的测定是，将除去了保护膜的感光性元件配置于测定侧，将支撑膜配置于参照侧，由吸光度模式连续测定600～300nm的范围来进行。

4.感光性元件的评价

(1)感光度

采用装有#600相当的法兰的研磨机(三啓(株)制造)，对在玻璃环氧材料的两面层叠铜箔(厚度35μm)的镀铜膜层叠板(日立化成工业(株)制造，制品名MCL-E-67)的铜箔表面进行研磨，水洗后，用空气流进行干燥。

将研磨后的镀铜膜层叠板加温至80℃之后，将感光性元件一边除去保护膜一边层叠于镀铜膜层叠板上，使得感光层密合于镀铜膜层叠板的表面。层叠是一边将感光性元件和镀铜膜层叠板加热至120℃，一边将整体加压至0.392MPa(4kgf/cm²)来进行的。

将层叠有感光性元件的镀铜膜层叠板冷却，在达到23℃的时刻，将浓度区域0～2.00、浓度阶段0.05、曝光表大小20mm×187mm、各阶段大小3mm×12mm的41段格阶段式曝光表，以及作为分辨率评价用负片的具有线宽/间隔宽度为6/6～35/35(单位:mm)的配线图案的光工具密合于支撑膜上。

接着，放置405nm曝光用西格玛光机(株)制造的锐截止滤波器SCF-100S-39L，采用以5kw短弧灯作为光源的平行光曝光机((株)ORC制作所制造，制品名EXM-1201)，以41段格阶段式曝光表显影后的残留阶段段格数成为17段格的曝光量进行曝光。

这里，将41段格阶段式曝光表显影后的残留阶段段格数成为17段格的曝光量作为感光层的感光度。采用应用405nm对应探头的紫外线照度计(优志旺(USHIO)电机(株)制造，商品名“UIT-150”+“UVD-S405”(受光部))测定照度，照度×曝光时间＝曝光量。

进行直描曝光时，采用例如日立维亚机械(株)制造的DE-lAH进行同样的曝光。此时，由于直接曝光而不需要光工具。另外，由于光源是405nm的LD(激光二极管)，因此不需要锐截止滤波器。

曝光后，剥离支撑膜，用1质量％碳酸钠水溶液在30℃下喷雾24秒钟，除去未曝光部分。

(2)剥离性

在用上述方法形成为40微米间距(L/S＝20/20μm)的抗蚀图案的镀铜膜层叠板的铜箔上，通过表1所示的条件的电解镀铜形成厚度20μm的镀铜膜。然后，采用30wt％氢氧化钠水溶液，用表1所示的条件剥离抗蚀图案。然后，用金属显微镜观察未被剥离而残留的抗蚀图案，评价剥离性。

表1

 

工艺	条件
		电解镀铜	浸渍法、空气搅拌6wt％硫酸铜水溶液/10vol％硫酸1.6A/dm2，25min，25℃
剥离	剥离液，(液温:50℃，喷雾压力:0.20MPa，剥离时间:60秒)

(3)分辨率

在可以通过显影处理完全除去未曝光部，并且所生成的线未发生蛇形、缺损情况的部分的线宽/间隔宽(L/S)之中，将最小值作为指标来评价分辨率。该值越小分辨率越优异。

(4)抗蚀形状

采用日立扫描电子显微镜S-500A，观察显影后的抗蚀图案的形状。显影后的抗蚀图案的截面形状希望近似于矩形。如果发生在抗蚀图案的底部抗蚀图案被部分地削去的“底部侵蚀”的现象；或在未曝光部残留有一部分抗蚀剂的现象；或者抗蚀图案的底部未被除去的“底部残渣”这样的现象，则抗蚀图案的截面形状就不能成为规整的矩形。

表2

^*相对于(B)成分总量的比率

表3

^*相对于(B)成分总量的比率

如表2所示，实施例1～10为，分辨率和抗蚀形状都非常优异。与此相对，粘合剂聚合物的重均分子量不在35000～65000的范围内的比较例1与4、以及(B3)成分的比率不在15～30质量％的范围内的比较例2和3为，分辨率与抗蚀形状中的至少一项比实施例差。即，证明了根据本发明，可以提供一种能充分维持高感光度、并能同时改善分辨率和抗蚀形状的感光性树脂组合物。

Claims (8)

1.一种感光性树脂组合物，其特征在于，含有(A)重均分子量为35000～65000的粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、以及(C)光聚合引发剂，所述(B)成分含有(B1)具有一个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(B2)具有两个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、以及(B3)具有三个以上乙烯性不饱和键的光聚合性化合物，所述(B3)成分相对于所述(B)成分总量的比率为15～30质量％。

2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，所述(B2)成分相对于所述(B)成分总量的比率为40～70质量％。

3.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，所述(B1)成分相对于所述(B)成分总量的比率为15～30质量％。

4.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，所述(C)成分含有2，4，5-三芳基咪唑二聚物。

5.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，进一步含有(D)增感色素。

6.一种抗蚀图案的形成方法，其特征在于，对由权利要求1～5中任一项所述的感光性树脂组合物形成的感光层照射活性光线后，除去所述感光层的一部分，来形成抗蚀图案。

7.一种印刷电路板的制造方法，其特征在于，具备:通过权利要求6所述的抗蚀图案的形成方法来形成抗蚀图案的工序；将所述抗蚀图案用作掩模进行蚀刻或镀覆来形成导体图案的工序。

8.一种具有基板和形成于该基板上的阻隔壁的等离子显示屏用基板的制造方法，其特征在于，具备:通过权利要求6所述的抗蚀图案的形成方法，在形成于基板上的阻隔壁前体膜上形成抗蚀图案的工序；将所述抗蚀图案用作掩模，除去所述阻隔壁前体膜的一部分，将其图案化的工序；由被图案化的所述阻隔壁前体膜形成阻隔壁的工序。

Images