CN102662306B - 感光性元件、抗蚀图案形成方法及印刷电路板的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种顺次层叠支持体、感光层、保护膜而成的感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷电路板的制造方法，所述感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及最大吸收波长为370~420nm的化合物的感光性树脂组合物形成，所述保护膜是以聚丙烯为主要成分。

Description

感光性元件、抗蚀图案形成方法及印刷电路板的制造方法
本申请是原申请的申请日为2007年4月13日，申请号为200780013593.3，发明名称为《感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷电路板的制造方法》的中国专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷电路板的制造方法。
背景技术
以往，在印刷电路板的制造领域中，作为用于蚀刻或镀覆等的抗蚀材料，广泛使用感光性元件。感光性元件通常是通过在支持体上形成由感光性树脂组合物构成的感光层后，在该感光层上形成保护膜来得到。感光性元件可以进行如下操作形成抗蚀图案。首先，剥离感光性元件的保护膜后，将感光层层压到基板(铜基板)上。接着，将制作有图案的光工具(phototool)密合于支持体上，照射(曝光)紫外线等活性光线后，喷雾显影液除去未曝光部。
近年来，随着印刷电路板的高密度化和高精细化，对感光性元件要求高析像度和高密合性化。另外，为了提高印刷电路板的生产率，要求感光性元件的高灵敏度化。为了迎合这些要求，进行过旨在改善感光性树脂组合物的特性的试验(参照专利文献1)。
另一方面，作为抗蚀图案的形成方法，不使用光工具而直接描绘的所谓直接描绘曝光法受到了人们的注目。认为通过该直接描绘曝光法，可以实现高生产率且高析像度的抗蚀图案的形成。直接描绘曝光法可以举出激光直接描绘曝光法和DLP(DigitalLightProcessing：数字光处理)曝光法等。激光直接描绘曝光法中，可以实际利用激发出波长405nm的激光的，长寿命且高输出的氮化镓系蓝色激光器光源。在直接描绘曝光法中通过利用这种短波长的激光，有望实现对于以往来说制造困难的高密度抗蚀图案的形成。另外，DLP曝光法是应用了由德州仪器公司提倡的DLP系统的方法，已由Ball半导体公司提出，并已开始了应用该方法的曝光装置的实用化。
专利文献1中记载的感光性元件是针对以波长365nm的光为中心的水银灯光源的全波长曝光来设计的。因此，对于直接描绘曝光法的曝光光(例如以波长405nm的光为中心的蓝紫色半导体激光)的感光性元件的灵敏度低，难以充分提高生产率。因此，提出了含有六芳基二咪唑化合物和二茂钛(titanocene)化合物作为自由基产生剂，并且含有二烷基氨基苯化合物作为增感色素的感光性元件(参照专利文献2)。
专利文献1：日本特开平10-110008号公报
专利文献2：日本特开2002-296764号公报
发明内容
发明要解决的问题
可是，即使是专利文献2中记载的感光性元件，也不能说对直接描绘曝光法的曝光光具有充分的灵敏度。
本发明的目的是提供对在390nm～440nm的波长范围内具有峰的光具有充分高的灵敏度的感光性元件。
解决问题的方案
本发明的感光性元件是顺次层叠支持体、感光层、保护膜而成，感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及最大吸收波长为370～420nm的化合物的感光性树脂组合物形成，保护膜的主要成分是聚丙烯。
另外，本发明的感光性元件是顺次层叠支持体、感光层、保护膜而成，感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂、以及下述通式(1)、(2)和/或(3)所示的增感剂的感光性树脂组合物形成，保护膜的主要成分是聚丙烯。
[化学式1]
式(1)中，R各自独立地表示碳原子数4～12的烷基；a、b和c各自独立地表示使a、b和c的总和成为1～6的选自0～2的整数。式(2)中，R1和R2各自独立地表示碳原子数1～20的烷基、碳原子数5～12的环烷基、苯基、苄基、碳原子数2～12的烷酰基或苯甲酰基；R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10(以下叫做“R3～R10”)各自独立地表示氢原子、碳原子数1～12的烷基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数2～6的烷氧基羰基或苯甲酰基。碳原子数1～20的烷基为，当烷基的碳原子数为2～12时，在主链碳原子间可以具有氧原子，也可以被羟基取代。碳原子数5～12的环烷基为，在环之中可以具有氧原子，也可以被羟基取代。R1和R2中的苯基可以被从碳原子数1～6的烷基、羟基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数1～6的烷氧基、苯氧基和碳原子数2～6的烷氧基羰基所组成的组中选出的一种以上基团和/或原子取代。苄基可以被从碳原子数1～6的烷基、羟基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数1～6的烷氧基、苯氧基和碳原子数2～6的烷氧基羰基所组成的组中选出的一种以上基团和/或原子取代。R1和R2中的苯甲酰基可以被从碳原子数1～6的烷基、羟基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数1～6的烷氧基、苯氧基和碳原子数2～6的烷氧基羰基所组成的组中选出的一种以上基团和/或原子取代。式(3)中，R16和R17各自独立地表示氢原子或碳原子数1～3的烷基；R11、R12、R13、R14和R15各自独立地表示可以具有取代基的碳原子数1～3的烷基、氢原子、三氟甲基、羧基、羧酸酯基、羟基或硫醇基；R11、R12、R13、R14、R15、R16和R17(以下叫做“R12～R17”)也可以相互结合而形成环状结构。
本发明的感光性元件，通过具有如上所述的特定组合，可以对在390nm～440nm的波长范围内具有峰的光具有非常高的灵敏度。在直接描绘曝光法中就是使用在390nm～440nm的波长范围内具有峰的光来作为活性光线。
至于能够获得上述效果的理由并不是十分明确，但本发明人等推测如下。以往的感光性树脂组合物的最大吸收波长是在365nm附近，所以在390nm～440nm的波长范围内具有峰的光就会位于感光性树脂组合物的吸光度峰的接近峰底的部分。因此，如果照射的光的波长偏离数nm左右，其灵敏度就变化较大。另一方面，上述通式(1)、(2)或(3)所示的增感剂的最大吸收波长都在370nm～420nm的波长范围内，所以即使对于照射光波长的数nm左右的偏离，也能够更好地对应。另外，还考虑到，根据本发明的保护膜，充分抑制氧气向感光层的透过，充分防止氧对光聚合引发剂的氧阻碍也是一个因素。但并不限定于这些因素。
本发明的感光性元件优选组合上述通式(1)、(2)和/或(3)所示的增感剂、作为光聚合引发剂的2,4,5-三芳基咪唑二聚物、以聚丙烯为主要成分的保护膜来使用。通过这样的组合，即使是将蓝色激光等激光用作为活性光线的情况，也能够以充分高的灵敏度形成具有高密度性的抗蚀图案。从而，即使是直接描绘曝光法，也能够以良好的成品率制造高密度化和高精细化的印刷电路板。
上述通式(1)中的R优选分别独立地为从正丁基、叔丁基、叔辛基和十二烷基所组成的组中选出的一种以上。另外，上述通式(1)所示的化合物更优选为1-苯基-3-(4-叔丁基苯乙烯基)-5-(4-叔丁基苯基)吡唑啉。通过使用上述化合物作为通式(1)所示的增感剂，可以进一步提高感光性元件的灵敏度。
优选上述通式(2)中的R1和R2各自独立地为碳原子数1～4的烷基，R3～R10为氢原子。另外，上述通式(2)所示的化合物更优选为9,10-二丁氧基蒽。通过使用上述化合物作为通式(2)所示的增感剂，可以进一步提高感光性元件的灵敏度。
上述通式(3)所示的化合物优选为7-二乙氨基-4-甲基香豆素。通过使用上述化合物作为通式(3)所示的增感剂，可以进一步提高感光性元件的灵敏度。
作为光聚合引发剂，从提高密合性与灵敏度的角度考虑，优选使用2,4,5-三芳基咪唑二聚物。
保护膜中的直径在80μm以上的鱼眼的存在密度优选为5个/m2以下。如果直径在80μm以上的鱼眼的存在密度超过5个/m2，则存在感光层的灵敏度下降或者抗蚀图案的密合性下降的倾向。这里，鱼眼的存在密度是指保护膜的每单位面积(1m2)中存在的鱼眼状异物的个数。
另外，保护膜的厚度优选为5～50μm。如果保护膜的厚度小于5μm，则存在感光层的灵敏度下降或者抗蚀图案的密合性下降的倾向，并且，在使用感光性元件时的剥离保护膜时，存在保护膜容易破裂的倾向。另一方面，如果厚度超过50μm，则存在感光性元件的价格提高的倾向。
本发明的抗蚀图案的形成方法具备：边从感光层上剥离感光性元件的保护膜，边将感光层层叠在电路形成用基板上的层叠工序；对于被层叠的感光层的规定部分照射活性光线的曝光工序；对照射活性光线后的感光层进行显影来形成抗蚀图案的显影工序。
根据本发明的抗蚀图案的形成方法，可以在电路形成用基板上以高的生产率形成高密度的抗蚀图案。
本发明的印刷电路板的制造方法具备：边从感光层上剥离感光性元件的保护膜，边将感光层层叠在电路形成用基板上的层叠工序；对于被层叠的感光层的规定部分照射活性光线的曝光工序；对照射活性光线后的感光层进行显影来形成抗蚀图案的显影工序；将形成有抗蚀图案的电路形成用基板通过蚀刻或镀覆来形成导体图案的导体图案形成工序。
根据本发明的印刷电路板的制造方法，可以在电路形成用基板上以高的生产率形成高密度的导体图案。
发明效果
根据本发明，可以提供对于直接描绘曝光法的曝光光，也能够在不损害析像度和密合性的条件下具有充分高的灵敏度的感光性元件。
附图说明
图1是表示本发明的感光性元件的适宜的实施方式的示意剖视图。
符号说明
1是感光性元件，10是支持体，20是感光层，30是保护膜。
具体实施方式
以下，根据需要参照附图对本发明的实施方式进行详细说明。这里，在附图中，对于相同构件采用相同符号，省略重复性说明。另外，上下左右等位置关系，如果没有特殊说明，则按照附图所示的位置关系。进而，附图的尺寸比例并不限于图中所示的比例。另外，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是指“丙烯酸”及与其对应的“甲基丙烯酸”，“(甲基)丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”及与其对应的“甲基丙烯酸酯”，“(甲基)丙烯酰氧基”是指“丙烯酰基”及与其对应的“甲基丙烯酰氧基”，“(甲基)丙烯酰基”是指“丙烯酰基”及与其对应的“甲基丙烯酰基”。
本发明的感光性元件是顺次层叠支持体、感光层、保护膜而成，感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及上述通式(1)、(2)和/或(3)所示的增感剂的感光性树脂组合物形成，保护膜的主要成分是聚丙烯。
本发明的感光性元件，优选用于被在390nm～440nm的波长范围内具有峰的光曝光而形成抗蚀图案的用途。根据使用在390nm～440nm的波长范围内具有峰的光来作为活性光线的直接描绘曝光法等，可以容易地形成高密度的抗蚀图案，本发明的感光性元件对于通过这种特定波长的光形成抗蚀图案来说是具有充分高的灵敏度的。
图1是表示本发明的感光性元件的适宜的实施方式的示意剖视图。图1的感光性元件1是顺次层叠支持体10、感光层20、保护膜30而成。下面，顺次说明感光层20、保护膜30和支持体10。
感光层20是由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂和增感剂的感光性树脂组合物形成的层。
作为粘合剂聚合物，可以举出例如丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、环氧系树脂、酰胺系树脂、酰胺环氧系树脂、醇酸系树脂及酚系树脂等。这些可以单独使用或者组合2种以上来使用。其中，从碱显影性优异的角度考虑，优选丙烯酸系树脂。
粘合剂聚合物例如可以通过使聚合性单体进行自由基聚合来制造。作为该聚合性单体，可以举出例如苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯等在α-位或芳香环上被取代的能够聚合的苯乙烯衍生物、双丙酮丙烯酰胺等丙烯酰胺，丙烯腈、乙烯基正丁基醚等乙烯醇酯类、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸二甲氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,3,3-四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、α-溴(甲基)丙烯酸、α-氯(甲基)丙烯酸、β-呋喃基(甲基)丙烯酸、β-苯乙烯基(甲基)丙烯酸、马来酸、马来酸酐、马来酸单甲酯、马来酸单乙酯以及马来酸单异丙酯等马来酸单酯、富马酸、肉桂酸、α-氰基肉桂酸、衣康酸、巴豆酸、丙炔酸等。这些聚合性单体可以单独使用，或者组合2种以上来使用。
作为上述(甲基)丙烯酸烷基酯，可以举出例如下述通式(4)所示的化合物、这些化合物的烷基上取代有羟基、环氧基或卤素基团等的化合物等。
[化学式2]
通式(4)中，R18表示氢原子或甲基，R19表示碳原子数1～12的烷基。作为碳原子数1～12的烷基，可以举出例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基及它们的结构异构体。
作为上述通式(4)所示的化合物，具体地，可以举出例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯等。这些可以单独使用或者将2种以上组合来使用。
为了使碱显影性更加良好，粘合剂聚合物优选含有羧基。例如通过使具有羧基的聚合性单体与其它的聚合性单体进行自由基聚合就可以得到粘合剂聚合物。另外，从进一步提高挠性的角度考虑，粘合剂聚合物优选含有苯乙烯或苯乙烯衍生物作为聚合性单体。
使用苯乙烯或苯乙烯衍生物作为共聚成分时，为了使密合性和剥离特性都良好，则苯乙烯或苯乙烯衍生物的含量，以共聚成分总量为基准，优选为0.1～30质量％，更优选为1～28质量％，进一步优选为1.5～27质量％。如果该含量小于0.1质量％，则具有密合性降低的倾向，如果超过30质量％，则具有剥离片增大、剥离时间变长的倾向。
粘合剂聚合物优选分散度(重均分子量/数均分子量)为1.0～6.0，更优选为1.0～3.0。如果分散度超过6.0，则具有密合性与析像度下降的倾向。这里，本发明的重均分子量和数均分子量是通过凝胶渗透色谱(GPC)测定的、使用将标准聚苯乙烯作为标准试样进行换算的值的数值。
粘合剂聚合物的重均分子量(通过凝胶渗透色谱(GPC)测定的标准聚苯乙烯换算值)优选为20000～300000，更优选为40000～150000，特别优选为40000～80000。如果重均分子量小于20000，则具有耐显影液性降低的倾向，如果超过300000，则具有显影时间变长的倾向。
粘合剂聚合物可以单独使用1种聚合物，或者组合2种以上聚合物来使用。组合2种以上聚合物时，可以举出例如共聚成分互不相同的2种以上的共聚物、重均分子量互不相同的2种以上的聚合物、分散度互不相同的2种以上的聚合物等的组合。
粘合剂聚合物的酸值优选为100～500mgKOH/g，更优选为100～300mgKOH/g。如果酸值小于100mgKOH/g，则具有显影时间变长的倾向，如果超过500mgKOH/g，则具有光固化后的感光层的耐显影液性降低的倾向。
光聚合性化合物，只要是具有一个以上的乙烯性不饱和键的化合物即可，例如可以举出双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物。作为双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物，例如优选举出下述通式(5)所示的化合物。
[化学式3]
式(5)中，R20和R21各自独立地表示氢原子或甲基。X和Y各自独立地表示碳原子数2～6的亚烷基。作为碳原子数2～6的亚烷基(alkylene)，可以举出1,2-亚乙基、1,3-亚丙基、亚异丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基等。其中，优选X和Y各自独立地为1,2-亚乙基或1,3-亚丙基，更优选都是1,2-亚乙基。p和q是按照使(p+q)成为4～40的条件选出的正整数，优选为6～34，更优选为8～30，进一步优选为8～28，特别优选为8～20，非常优选为8～16，极其优选为8～12。如果(p+q)小于4，则会有与粘合剂聚合物相溶性降低的倾向，如果(p+q)超过40，则亲水性增加而会有固化膜的吸水率增高的倾向。Z1和Z2可以各自独立地举出卤原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～10的环烷基、碳原子数6～18的芳基、苯甲酰甲基、氨基、烷基的碳原子数为1～20的单烷基氨基或二烷基氨基、硝基、氰基、羰基、硫醇基、碳原子数1～10的烷基硫醇基、烯丙基、羟基、碳原子数1～20的羟基烷基、羧基、烷基的碳原子数为1～10的羧基烷基、烷基的碳原子数为1～10的酰基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的烷氧基羰基、碳原子数2～10的烷基羰基、碳原子数2～10的烯基、碳原子数2～10的N-烷基氨基甲酰基或含有杂环的基团和被这些取代基取代了的芳基等。上述取代基也可以形成缩环。另外，这些取代基中的氢原子也可以被卤原子等上述取代基等所取代。另外，当取代基的数目分别为2以上时，2个以上的取代基可以各自相同或不同。s和t各自独立地表示0～4的整数。
作为上述通式(5)所示的化合物，可以举出例如2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丁氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷等双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物等。这些可以单独或组合2种以上来使用。
作为上述2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷，可以举出例如2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基三乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基四乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基六乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基七乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基八乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基九乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十一乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十二乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十三乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十四乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十六乙氧基)苯基)丙烷等。这些可以单独使用1种或组合2种以上来使用。
其中，2,2-双(4-(甲基丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷，作为BPE-500(新中村化学工业株式会社制造，制品名)可以商业地购入，2,2-双(4-(甲基丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷，作为BPE-1300(新中村化学工业株式会社制造，制品名)可以商业地购入。这些可以单独使用1种或组合2种以上来使用。
作为上述2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷，可以举出例如2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基二丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基三丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基四丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基五丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基六丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基七丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基八丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基九丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十一丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十二丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十三丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十四丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十五丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十六丙氧基)苯基)丙烷等。这些可以单独使用1种或组合2种以上来使用。
作为上述2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷，可以举出例如2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基二乙氧基八丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基四乙氧基四丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基六乙氧基六丙氧基)苯基)丙烷等。这些可以单独使用1种或组合2种以上来使用。
作为上述双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物，还可以使用其衍生物。作为所述的衍生物，可以举出对双酚A的二环氧化物加成了丙烯酸的化合物。作为商品可以商业地购入Biscoat#540(大阪有机化学工业株式会社制造，制品名)。这些可以单独使用1种或组合2种以上来使用。
作为双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物以外的光聚合性化合物，还可以举出例如对多元醇反应α,β-不饱和羧酸而得到的化合物、对含有缩水甘油基的化合物反应α,β-不饱和羧酸而得到的化合物、具有氨酯键的(甲基)丙烯酸酯化合物等氨酯单体、壬基苯基二环氧乙烯(甲基)丙烯酸酯、γ-氯-β-羟基丙基-β’-(甲基)丙烯酰氧乙基邻苯二甲酸酯、β-羟基乙基-β’-(甲基)丙烯酰氧乙基邻苯二甲酸酯、β-羟基丙基-β’-(甲基)丙烯酰氧乙基邻苯二甲酸酯、(甲基)丙烯酸烷基酯和EO改性壬基苯基(甲基)丙烯酸酯等。这些可以单独使用，或者组合2种以上来使用。作为光聚合性化合物，优选并用这些化合物。
作为上述α,β-不饱和羧酸，可以举出(甲基)丙烯酸等。
作为上述含有缩水甘油基的化合物，可以举出例如三羟甲基丙烷三缩水甘油醚三(甲基)丙烯酸酯、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧-2-羟基-丙基氧)苯基等。这些可以单独使用，或者组合2种以上来使用。
作为上述氨酯单体，可以举出例如在β位具有OH基的(甲基)丙烯酸系单体与异佛尔酮二异氰酸酯、2,6-甲苯二异氰酸酯、2,4-甲苯二异氰酸酯、1,6-六亚甲基二异氰酸酯等二异氰酸酯化合物的加成反应物，三((甲基)丙烯酰氧基四乙二醇异氰酸酯)六亚甲基异氰尿酸酯，EO改性氨酯二(甲基)丙烯酸酯，EO、PO改性氨酯二(甲基)丙烯酸酯等。这里，EO表示表示环氧乙烷，EO改性的化合物具有环氧乙烷基的嵌段结构。另外，PO表示环氧丙烷，PO改性的化合物具有环氧丙烷基的嵌段结构。作为EO改性氨酯二(甲基)丙烯酸酯，可以举出例如新中村化学工业株式会社制造的制品名UA-11等。另外，作为EO、PO改性氨酯二(甲基)丙烯酸酯，可以举出例如新中村化学工业株式会社制造的制品名UA-13等。
作为上述(甲基)丙烯酸烷基酯，可以举出例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯和(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等。这些可以单独使用或者将2种以上组合来使用。
作为上述的对多元醇反应α,β-不饱和羧酸而得到的化合物，可以举出例如1,2-亚乙基数为2～14的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-亚丙基数为2～14的聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷四乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷五乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、1,3-亚丙基数为2～14的聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯和二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。这些可以单独使用或者将2种以上组合来使用。
光聚合引发剂只要是引发或加速光聚合性化合物的光聚合的化合物即可。作为光聚合引发剂，可以举出例如4,4’-双(二乙基胺)二苯甲酮、二苯甲酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代-丙酮-1等芳香族酮；烷基蒽醌等醌类；苯偶因、烷基苯偶因等苯偶因化合物；苯偶因烷基醚等苯偶因醚化合物；联苯酰缩二甲醇等联苯酰衍生物；2-(邻氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(邻氯苯基)-4,5-二(甲氧基苯基)咪唑二聚物、2-(邻氟苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(邻甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(对甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物等2,4,5-三芳基咪唑二聚物；9-苯基吖啶、1,7-双(9,9’-吖啶基)庚烷等吖啶衍生物；N-苯基甘氨酸、N-苯基甘氨酸衍生物等。2,4,5-三芳基咪唑的两个芳基取代基可以相同而成为对称的化合物，也可以不同而成为非对称的化合物。这些光聚合引发剂可以单独或组合2种以上来使用。
作为光聚合引发剂，从密合性与灵敏度的角度考虑，更优选2,4,5-三芳基咪唑二聚物。
增感剂是可以有效利用所使用的活性光线的吸收波长的物质。作为增感剂，优选最大吸收波长为370nm～420nm的化合物。在本发明中，通过使用这种增感剂，对于直接描绘曝光法的曝光光能够具有充分高的灵敏度。如果增感剂的最大吸收波长小于370nm，则具有对直接描绘曝光光的灵敏度下降的倾向，如果在420nm以上，则具有即使在黄色光环境下稳定性也下降的倾向。
作为增感剂，可以举出噻吨酮系化合物、下述通式(1)、(2)或(3)所示的化合物。这些可以单独使用或组合2种以上来使用。
[化学式4]
式(1)中，R各自独立地表示碳原子数4～12的烷基；a、b和c各自独立地表示使a、b和c的总和成为1～6的选自0～2的整数。同一分子中的多个R可以各自相同或不同。碳原子数4～12的烷基可以是直链状也可以是支链状，优选为正丁基(以下有时也叫做“丁基”)、叔丁基、叔辛基和十二烷基。
作为通式(1)所示的化合物的具体例，可以举出1-(4-叔丁基-苯基)-3-苯乙烯基-5-苯基-吡唑啉、1-苯基-3-(4-叔丁基-苯乙烯基)-5-(4-叔丁基-苯基)-吡唑啉、1,5-双-(4-叔丁基-苯基)-3-(4-叔丁基-苯乙烯基)-吡唑啉、1-(4-叔辛基-苯基)-3-苯乙烯基-5-苯基-吡唑啉、1-苯基-3-(4-叔辛基-苯乙烯基)-5-(4-叔辛基-苯基)-吡唑啉、1,5-双-(4-叔辛基-苯基)-3-(4-叔辛基-苯乙烯基)-吡唑啉、1-(4-十二烷基-苯基)-3-苯乙烯基-5-苯基-吡唑啉、1-苯基-3-(4-十二烷基-苯乙烯基)-5-(4-十二烷基-苯基)-吡唑啉、1-(4-十二烷基-苯基)-3-(4-十二烷基-苯乙烯基)-5-(4-十二烷基-苯基)-吡唑啉、1-(4-叔辛基-苯基)-3-(4-叔丁基-苯乙烯基)-5-(4-叔丁基-苯基)-吡唑啉、1-(4-叔丁基-苯基)-3-(4-叔辛基-苯乙烯基)-5-(4-叔辛基-苯基)-吡唑啉、1-(4-十二烷基-苯基)-3-(4-叔丁基-苯乙烯基)-5-(4-叔丁基-苯基)-吡唑啉、1-(4-叔丁基-苯基)-3-(4-十二烷基-苯乙烯基)-5-(4-十二烷基-苯基)-吡唑啉、1-(4-十二烷基-苯基)-3-(4-叔辛基-苯乙烯基)-5-(4-叔辛基-苯基)-吡唑啉、1-(4-叔辛基-苯基)-3-(4-十二烷基-苯乙烯基)-5-(4-十二烷基-苯基)-吡唑啉、1-(2,4-二正丁基-苯基)-3-(4-十二烷基-苯乙烯基)-5-(4-十二烷基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(3,5-二叔丁基-苯乙烯基)-5-(3,5-二叔丁基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(2,6-二叔丁基-苯乙烯基)-5-(2,6-二叔丁基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(2,5-二叔丁基-苯乙烯基)-5-(2,5-二叔丁基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(2,6-二正丁基-苯乙烯基)-5-(2,6-二正丁基-苯基)-吡唑啉、1-(3,4-二叔丁基-苯基)-3-苯乙烯基-5-苯基-吡唑啉、1-(3,5-二叔丁基-苯基)-3-苯乙烯基-5-苯基-吡唑啉、1-(4-叔丁基-苯基)-3-(3,5-二叔丁基-苯乙烯基)-5-(3,5-二叔丁基-苯基)-吡唑啉和1-(3,5-二叔丁基-苯基)-3-(3,5-二叔丁基-苯乙烯基)-5-(3,5-二叔丁基-苯基)-吡唑啉。这些可以单独或组合2种以上来使用。
[化合物5]
式(2)中，R1和R2各自独立地表示碳原子数1～20的烷基、碳原子数5～12的环烷基、苯基、苄基、碳原子数2～12的烷酰基或苯甲酰基；R3～R10各自独立地表示氢原子、碳原子数1～12的烷基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数2～6的烷氧基羰基或苯甲酰基。
碳原子数1～20的烷基为，当烷基的碳原子数为2～12时，在主链碳原子间可以具有氧原子，也可以被羟基取代。碳原子数5～12的环烷基为，在环之中可以具有氧原子，也可以被羟基取代。R1和R2中的苯基也可以被从碳原子数1～6的烷基、羟基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数1～6的烷氧基、苯氧基和碳原子数2～6的烷氧基羰基所组成的组中选出的一种以上基团和/或原子取代。苄基也可以被从碳原子数1～6的烷基、羟基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数1～6的烷氧基、苯氧基、碳原子数2～6的烷氧基羰基所组成的组中选出的一种以上基团和/或原子取代。R1和R2中的苯甲酰基也可以被从碳原子数1～6的烷基、羟基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数1～6的烷氧基、苯氧基、碳原子数2～6的烷氧基羰基所组成的组中选出的一种以上基团和/或原子取代。
作为R1和R2，适宜举出例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基和己基等。作为R1和R2的组合，可以举出例如乙基之间的组合、丙基之间的组合、丁基之间的组合。
作为R3～R10，适宜举出例如氢原子、甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羟基乙氧基羰基或苯氧基等。作为R3～R10的组合，可以举出其全部为氢原子；其中的任一个为甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羟基乙氧基羰基或苯氧基而其余全部为氢原子；其中的任意2个为甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羟基乙氧基羰基、苯氧基或这些的组合而其余全部为氢原子等。
作为通式(2)所示的化合物的具体例，可以举出9,10-二甲氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽、9,10-二丁氧基蒽、9,10-二甲氧基-2-乙基蒽。其中，从能够进一步提高感光性元件的灵敏度的角度考虑，适宜举出9,10-二甲氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽和9,10-二丁氧基蒽。
[化学式6]
式(3)中，R16和R17各自独立地表示氢原子或碳原子数1～3的烷基；R11、R12、R13、R14和R15各自独立地表示可以具有取代基的碳原子数1～3的烷基、氢原子、三氟甲基、羧基、羧酸酯基、羟基或硫醇基；R11、R12、R13、R14、R15、R16和R17也可以相互结合而形成环状结构。
作为通式(3)所示的化合物的具体例，可以举出7-氨基-4-甲基香豆素、7-二甲氨基-4-甲基香豆素、7-二甲氨基-4-三氟甲基香豆素、7-甲氨基-4-甲基香豆素、7-二乙氨基-4-甲基香豆素、7-乙氨基-4-甲基香豆素、4,6-二甲基-7-乙氨基香豆素、4,6-二甲基-7-乙氨基香豆素、4,6-二甲基-7-二乙氨基香豆素、4,6-二甲基-7-二甲氨基香豆素、4,6-二乙基-7-二乙氨基香豆素、4,6-二乙基-7-二甲氨基香豆素、7-二甲氨基环五[c]香豆素、7-氨基环五[c]香豆素、7-二乙氨基环五[c]香豆素、2,3,6,7,10,11-六酐-1H,5H-环五[3,4][1]苯并吡喃[6,7,8-ij]喹嗪12(9H)-酮、7-二乙氨基-5’,7’-二甲氧基-3,3’-羰基双香豆素、3,3’-羰基双[7-(二乙氨基)香豆素]、7-二乙氨基-3-噻吩并氧基(チエノキシル)香豆素等。其中，从能够进一步提高感光性元件的灵敏度的角度考虑，适宜举出7-二乙氨基-4-甲基香豆素等。这些可以单独或组合2种以上来使用。
从能够进一步提高灵敏度的角度考虑，上述增感剂优选与作为光聚合引发剂的2,4,5-三芳基咪唑二聚物组合使用。
粘合剂聚合物的配合量，相对于粘合剂聚合物和光聚合性化合物的总量100质量份，优选为40～80质量份，更优选为45～70质量份。如果该配合量小于40质量份，则光固化物容易变脆，当用作感光性元件时，会有涂膜性变差的倾向。另一方面，如果超过80质量份，则会有光敏度不充分的倾向。
光聚合性化合物的配合量，相对于粘合剂聚合物和光聚合性化合物的总量100质量份，优选为20～60质量份，更优选为30～60质量份。如果该配合量小于20质量份，则会有掩蔽性不充分的倾向，如果超过60质量份，则会有光固化物变脆的倾向。
光聚合引发剂的配合量，相对于粘合剂聚合物和光聚合性化合物的总量100质量份，优选为0.5～20质量份，更优选为1.0～10质量份，特别优选为1.5～7质量份。如果该配合量小于0.5质量份，则会有光敏度不充分的倾向，如果超过20质量份，则在曝光时，具有在组合物的表面的吸收增大、内部的光固化不充分的倾向。
增感剂的配合量，相对于粘合剂聚合物和光聚合性化合物的总量100质量份，优选为0.01～5质量份，更优选为0.0.3～3质量份，特别优选为0.05～2质量份。如果该配合量小于0.01质量份，则会有光敏度不充分的倾向，如果超过5质量份，则会有析像度不充分的倾向。
感光性树脂组合物中，根据需要可以含有孔雀绿等染料、三溴苯砜、隐色结晶紫等光显色剂、热显色防止剂、对甲苯磺酰胺等增塑剂、颜料、填充剂、消泡剂、阻燃剂、稳定剂、密合性赋予剂、流平剂、剥离促进剂、抗氧化剂、香料、成像剂、热交联剂等。这些的配合量，相对于粘合剂聚合物和光聚合性化合物的总量100质量份，优选各自含有0.01～20质量份左右。这些可以单独使用1种或组合2种以上来使用。
上述感光性树脂组合物的各成分及其配合量，调节成能够通过在390nm～440nm的波长范围内具有峰的活性光线进行固化即可。具备由这种感光性树脂组合物构成的感光层20的感光性元件1，能够通过在390nm～440nm的波长范围内具有峰的活性光线容易地形成高密度的抗蚀图案。
感光层20的厚度可以根据用途来适当设定，例如优选使干燥后的厚度成为1～100μm，更优选1～50μm。如果该厚度小于1μm，则会有难以涂布成期望厚度的倾向，另一方面，如果超过100μm，会有抗蚀图案的密合性和析像度下降的倾向。
感光层20对波长365nm的紫外线的光透过率优选为5～75％，更优选为7～60％，特别优选为10～40％。如果该透过率小于5％，则具有抗蚀图案的密合性下降的倾向；如果超过75％，则具有抗蚀图案的析像度下降的倾向。上述光透过率可以使用UV分光计来测定，作为UV分光计可以举出例如日立制作所株式会社制造的228A型W光束分光光度计等。
作为支持体10，可以举出例如铜、铜系合金、镍、铬、铁、不锈钢等铁系合金等(优选铜、铜系合金、铁系合金)的金属板，或者，聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、聚酯等具有耐热性和耐溶剂性的聚合物膜等。
支持体10的厚度优选为5～25μm，更优选为8～20μm，特别优选为10～16μm。如果该厚度小于5μm，则在显影前剥离支持体时，具有支持体容易破裂的倾向，另一方面，如果超过25μm，则具有抗蚀图案的析像度降低的倾向。
支持体10的雾度优选为0.001～5.0，更优选为0.001～2.0，特别优选为0.01～1.8。如果该雾度超过5.0，则具有抗蚀图案的析像度降低的倾向。上述雾度可以采用按照JISK7105测定的值，可以用例如NDH-1001DP(日本电色工业株式会社制造，商品名)等市售的浊度计等测定。
保护膜30是以聚丙烯为主要成分的膜，优选为聚丙烯膜，更优选为双轴取向性的聚丙烯膜。作为这种聚丙烯膜，可以商业地购入例如“PP型PT”(信越薄膜公司制造)、“特雷凡(トレファン)YK57”(东丽株式会社制造)、“阿鲁凡(アルファン)E200系列”(王子制纸株式会社制造)等。
保护膜中的直径在80μm以上的鱼眼的数目优选为5个/m2以下。这里，鱼眼是指，在将膜材料热熔融、混炼、挤出，通过延伸法或浇铸法制造成膜时，材料的未熔化物和劣化物等被带到膜中的物质。另外，鱼眼的存在和大小可以用例如光学显微镜、接触型表面粗糙度仪或扫描电子显微镜确认。这里，鱼眼的直径(ф)是指最大直径。
通常，鱼眼的大小为，直径为约10μm～1mm，从膜表面的高度为约1～50μm。通过使用直径在80μm以上的鱼眼的存在密度为5个/m2以下的膜，能够将感光层的灵敏度更确实地保持在充分的水平上。另外，能够更确实且更容易地形成具有充分的密合性的抗蚀图案。如果鱼眼的存在密度超过5个/m2，则具有感光层的灵敏度下降或抗蚀图案的密合性下降的倾向。这种保护膜可以通过例如在制造膜时，设置热熔融原料树脂后将其过滤的工序等方法来制造。
另外，保护膜的在膜长度方向上的拉伸强度优选为13MPa以上，更优选为13～100MPa，特别优选为14～100MPa，非常优选为15～100MPa，极其优选为16～100MPa。如果该拉伸强度小于13MPa，则在层压时具有保护膜容易破裂的倾向。另外，膜宽度方向上的拉伸强度优选为9MPa以上，更优选为9～100MPa，特别优选为10～100MPa，非常优选为11～100MPa，极其优选为12～100MPa。如果该拉伸强度小于9MPa，则在层压时具有保护膜容易破裂的倾向。
上述拉伸强度可以按照JISC2318-1997(5.3.3)测定，可以用例如天喜隆(TENSILON)(东洋宝德温(Baldwin)株式会社制造，商品名)等市售的拉伸强度试验机等测定。
保护膜的厚度优选为5～50μm。如果该厚度小于5μm，则具有感光层的灵敏度下降或抗蚀图案的密合性降低的倾向，并且在使用感光性元件时的剥离保护膜时，具有保护膜容易破裂的倾向。另一方面如果超过50μm，则具有感光性元件的价格增高的倾向。
支持体10及保护膜30，也可以根据需要实施表面处理。但是，在使用感光性元件1时，支持体10及保护膜30需要能够从感光层20上除去，所以优选不至于使除去变得困难的程度的表面处理。
另外，支持体10及保护膜30，也可以根据需要实施防静电处理。
感光性元件1，例如可以直接以平板状的形态储存，或者也可以卷绕到圆筒状等的卷芯上，以卷状的形态储存。作为卷芯，只要是以往使用的物质即可，并无特别限制，可以举出例如聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚氯乙烯树脂、ABS树脂(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物)等塑料等。在储存时，优选卷绕成支持体10在最外侧。另外，在被卷绕成卷状的感光性元件1(感光性元件卷)的端面，出于保护端面的目的，优选设置端面隔板，进而从耐熔边的观点考虑，优选设置防湿端面隔板。另外，在捆包感光性元件1时，优选用透湿性小的黑色薄片包覆来包装。
作为制造感光性元件1的方法，可以举出例如在支持体10上涂布将感光性树脂组合物溶解到规定的溶剂而得到的涂布液后，除去溶剂来形成感光层20，接着在感光层20上层叠上述的保护膜30的方法。
作为上述溶剂，可以举出例如甲醇、乙醇、丙酮、甲基乙基酮、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、丙二醇单甲基醚等溶剂或它们的混合溶剂。另外，涂布液是，优选按照使固体成分成为30～60质量％的方式来将感光性树脂组合物溶解在上述溶剂中。
作为涂布方法，可以举出例如辊涂、逗号涂布、凹版涂布、气刀涂布、模涂和棒涂等方法。另外，溶剂的除去是例如可以通过加热来进行，此时的加热温度优选为约70～150℃，加热时间优选为约5～30分钟。
作为在感光层20上层叠保护膜30的方法，可以举出例如边在感光层20上供给聚丙烯膜边用辊加压的方法。
接着，说明本实施方式的抗蚀图案的形成方法。
本实施方式的抗蚀图案的形成方法具备：边从感光层上剥离感光性元件的保护膜，边将感光层层叠在电路形成用基板上的层叠工序；对于被层叠的感光层的规定部分照射活性光线的曝光工序；对照射活性光线后的感光层进行显影来形成抗蚀图案的显影工序。这里，“电路形成用基板”是指具备绝缘层和形成于该绝缘层上的导体层的基板。
作为在电路形成用基板上层叠感光层的方法，可以举出例如在除去聚丙烯膜后，边加热感光层边压接到电路形成用基板上来进行层叠的方法等。另外，从提高密合性和跟随性的角度考虑，优选在减压下层叠。
感光层的加热温度优选为70～130℃，压接压力优选为0.1～1.0MPa左右(1～10kgf/cm2左右)，但这些条件并无特别限制。另外，如果将感光层加热至70～130℃，则没有必要预先对电路形成用基板进行预热处理，但是为了进一步提高层叠性，也可以进行电路形成用基板的预热处理。
作为对感光层的规定部分照射活性光线将曝光部光固化的方法，可以举出例如对于在电路形成用基板上完成层叠的感光层，通过被称作原图的负片或正片掩模图案来图像状地照射活性光线，将曝光部光固化的方法。此时，存在于感光层上的支持体为透明时，可以直接照射活性光线，当支持体对于活性光线显示蔽光性时，则在除去支持体之后对感光层照射活性光线。
作为活性光线的光源，可以使用公知的光源，例如碳弧灯、水银蒸气弧灯、超高压水银灯、高压水银灯、氙灯等可有效地放射紫外线的光源。另外，也可以使用照相用散光灯、太阳灯等可有效放射可见光的光源。
除了如上所述通过掩模图案进行的掩模曝光法以外，还可以通过激光直接描绘曝光法和DLP曝光法等直接描绘曝光法对感光层的规定部分照射活性光线将曝光部光固化。在本实施方式中，从析像度等方面考虑，优选使用直接描绘曝光法。
在直接描绘曝光法中使用的活性光线，是在390nm～440nm的波长范围内具有峰的光。作为其光源可以举出激发出在390nm～440nm的波长范围内具有峰的激光的半导体激光器。半导体激光器从容易形成抗蚀图案的角度考虑是适宜使用的。作为这种半导体激光器，可以举出氮化镓系的蓝色激光器。
或者，也可以将以高压水银灯等水银灯为光源的光之中波长365nm以下的光过滤掉99.5％以上的活性光线，用作为在390nm～440nm的波长范围内具有峰的光。作为用于过滤波长365nm以下的光的滤波器，可以举出西格玛光机株式会社制造的锐截止滤波器“SCF-100S-39L”(制品名)、朝日分光株式会社制造的分光滤波器“HG0405”(制品名)等。
曝光后，除去感光层上的支持体，然后，用湿式显影、干式显影等来除去未曝光部，来形成抗蚀图案。在湿式显影时，可以采用碱性水溶液、水系显影液、有机溶剂等显影液。其中，特别优选碱性水溶液，因为安全且稳定、操作性良好。
作为碱性水溶液显影液的碱，可以举出例如锂、钠或钾的氢氧化物等氢氧化碱；锂、钠、钾或铵的碳酸盐或碳酸氢盐等碳酸碱；磷酸钾、磷酸钠等碱金属磷酸盐；焦磷酸钠、焦磷酸钾等碱金属焦磷酸盐等。另外，作为碱性水溶液显影液，更优选使用0.1～5质量％碳酸钠的稀溶液、0.1～5质量％碳酸钾的稀溶液、0.1～5质量％氢氧化钠的稀溶液、0.1～5质量％四硼酸钠的稀溶液等。进而，碱性水溶液的pH优选为9～11的范围，其温度可以根据感光层的显影性进行调节。另外，碱性水溶液中还可以添加表面活性剂、消泡剂、少量的用于促进显影的有机溶剂等。
作为水系显影液，可以举出包含水或碱性水溶液与一种以上的有机溶剂的显影液。这里，作为碱性水溶液的碱，除了上述的碱以外，还可以举出例如硼砂或偏硅酸钠、四甲基氢氧化铵、乙醇胺、乙二胺、二乙三胺、2-氨基-2-羟基甲基-1,3-丙二醇、1,3-二氨基丙醇-2、吗啉等。作为上述有机溶剂，可以举出例如三丙酮醇、丙酮、乙酸乙酯、具有碳原子数1～4的烷氧基的烷氧基乙醇、乙醇、异丙醇、丁醇、二甘醇单甲基醚、二甘醇单乙基醚和二甘醇单丁基醚等。这些可以单独使用1种或者组合使用2种以上。
水系显影液为，优选将有机溶剂的浓度控制在2～90质量％，其温度可以根据感光层的显影性进行调节。进而，水系显影液的pH为，在能够充分进行抗蚀剂的显影的范围内优选尽可能小，具体地优选pH为8～12，更优选pH为9～10。另外，水系显影液中也可以添加少量的表面活性剂、消泡剂等。
作为有机溶剂系显影液，可以举出例如1,1,1-三氯乙烷、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、环己酮、甲基异丁基酮、γ-丁内酯等。为了防止着火，这些有机溶剂优选以1～20质量％的范围来添加水。
在本实施方式中，也可以根据需要将上述显影方式中的两种以上显影方式并用。显影方式中有浸渍方式、搅拌方式、喷雾方式、刷涂、刮涂等，从提高析像度的角度考虑最适合采用高压喷雾方式。
作为显影后的处理，可以根据需要通过进行60～250℃左右的加热或0.2～10mJ/cm2左右的曝光，来进一步固化抗蚀图案。
接着，说明本实施方式的印刷电路板的制造方法。
本实施方式的印刷电路板的制造方法具备：边从感光层上剥离感光性元件的保护膜，边将感光层层叠在电路形成用基板上的层叠工序；对于被层叠的感光层的规定部分照射活性光线的曝光工序；对照射活性光线后的感光层进行显影来形成抗蚀图案的显影工序；将形成有抗蚀图案的电路形成用基板通过蚀刻或镀覆来形成导体图案的导体图案形成工序。层叠工序、曝光工序及显影工序也可以与抗蚀图案的形成方法同样地进行。
电路形成用基板的蚀刻和镀覆，是以形成的抗蚀图案作为掩模对电路形成用基板的导体层进行的。作为用于蚀刻的蚀刻液，可以使用氯化铜溶液、氯化铁溶液、碱性蚀刻溶液、过氧化氢系蚀刻液。从蚀刻因子良好的角度考虑，优选使用氯化铁溶液。另外，作为进行镀覆时的镀覆法，可以举出例如硫酸铜镀覆、焦磷酸铜镀覆等镀铜、高均一焊料镀覆等镀焊料、瓦特浴(硫酸镍-氯化镍)镀覆、氨基磺酸镍镀覆等镀镍、镀硬金、镀软金等镀金等。
蚀刻或镀覆结束后，例如可以采用碱性比用于显影的碱性水溶液更强的强碱性水溶液来剥离抗蚀图案。作为该强碱性水溶液，可以使用例如1～10质量％氢氧化钠水溶液、1～10质量％氢氧化钾水溶液等。作为剥离方式，可以举出例如浸渍方式、喷雾方式等。这些剥离方式可以单独使用也可以并用。
通过上述操作可以得到印刷电路板，就本实施方式的印刷电路板的制造方法来说，不仅适用于单层印刷电路板的制造，还适用于多层印刷电路板的制造。
上面是对本发明的适宜的实施方式进行了说明，但本发明并不限于上述实施方式。
实施例
以下，通过实施例更详细地说明本发明，但本发明不限于这些实施例。
实施例1～5以及比较例1～4
首先，按照表1所示的量(g)混合各成分，得到溶液S。
表1
*1：下述通式(6)所示的EO改性双酚A二甲基丙烯酸酯(日立化成工业株式会社制造，商品名“FA-321M”)。在通式(6)中，m+n＝10(平均值)。
[化学式7]
在通过表1得到的溶液S中，按照表2所示的量(g)溶解增感剂NF-EO、DBA、C1、EAB，分别得到感光性树脂组合物A、B、C、D的溶液。这里，NF-EO、DBA、C1、EAB分别是如下的化合物。
NF-EO：1-苯基-3-(4-叔丁基苯乙烯基)-5-(4-叔丁基苯基)吡唑啉(日本化学工业株式会社制造，商品名“NF-EO”，最大吸收波长[λmax]＝387nm)
DBA：9,10-二丁氧基蒽(川崎化成工业株式会社制造，表示吸收极大的波长[λn]＝368nm、388nm、410nm)
C1：7-二乙氨基-4-甲基香豆素(日本化学工业株式会社制造，最大吸收波长[λmax]＝374nm)
EAB：4,4’-双(二乙氨基)二苯甲酮(保土谷化学株式会社制造，最大吸收波长[λmax]＝365nm)
表2
实施例1
将所得的感光性树脂组合物A均匀地涂布到16μm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(商品名“GS-16”，帝人株式会社制造，雾度：1.7％)上。然后，用热风对流式干燥机在100℃干燥10分钟，形成干燥后的膜厚为20μm的感光层。接着，在感光层上采用辊加压层叠保护膜，得到实施例1的感光性元件。这里，作为保护膜是使用聚丙烯膜(膜厚：20μm，膜长度方向上的拉伸强度：15MPa以上，膜宽度方向上的拉伸强度：10MPa以上，商品名“E-200C”，王子制纸株式会社制造)。聚丙烯膜中的直径在80μm以上的鱼眼的存在密度为5个/m2以下)。
实施例2
除了使用感光性树脂组合物B来代替感光性树脂组合物A以外，与实施例1同样地操作，得到实施例2的感光性元件。
实施例3
除了使用感光性树脂组合物C来代替感光性树脂组合物A以外，与实施例1同样地操作，得到实施例3的感光性元件。
实施例4
除了使用聚丙烯膜YK57(膜厚：15μm，商品名“YK57”，东丽株式会社制造)来代替聚丙烯膜E-200C作为保护膜以外，与实施例1同样地操作，得到实施例4的感光性元件。此时，聚丙烯膜中的直径在80μm以上的鱼眼的存在密度为5个/m2以下。
实施例5
除了使用聚丙烯膜YK57(膜厚：15μm，商品名“YK57”，东丽株式会社制造)来代替聚丙烯膜E-200C作为保护膜以外，与实施例2同样地，得到实施例5的感光性元件。此时，聚丙烯膜中的直径在80μm以上的鱼眼的存在密度为5个/m2以下。
比较例1
除了使用聚乙烯膜(膜厚：22μm，膜长度方向上的拉伸强度：16MPa，膜宽度方向上的拉伸强度：12MPa，商品名“NF-15”，Tamapoly株式会社制造)来代替聚丙烯膜E-200C作为保护膜以外，与实施例1同样地操作，得到比较例1的感光性元件。此时，聚乙烯膜中的直径在80μm以上的鱼眼的存在密度为10个/m2。
比较例2
除了使用聚乙烯膜(膜厚：22μm，膜长度方向上的拉伸强度：16MPa，膜宽度方向上的拉伸强度：12MPa，商品名“NF-15”，Tamapoly株式会社制造)来代替聚丙烯膜E-200C作为保护膜以外，与实施例2同样地，得到比较例2的感光性元件。此时，聚乙烯膜中的直径在80μm以上的鱼眼的存在密度为10个/m2。
比较例3
除了使用感光性树脂组合物D来代替感光性树脂组合物A以外，与实施例1同样地操作，得到比较例3的感光性元件。
比较例4
除了使用溶液S来代替感光性树脂组合物A以外，与实施例1同样地操作，得到比较例4的感光性元件。
对于得到的各感光性元件，按照以下方法分别在镀铜膜层叠板上层压感光层，得到层叠体。即，对于将铜箔(厚度35μm)层叠于两面的玻璃环氧材料即镀铜膜层叠板(日立化成工业株式会社制造，商品名“MCL-E-67”)的铜表面，使用具有相当#600的刷子的研磨机(三启株式会社制造)进行研磨并水洗后，用空气流干燥。然后，将得到的镀铜膜层叠板加温至80℃，一边从感光层剥离感光性元件的保护膜，一边在120℃、0.4MPa压力下将感光层层压在上述镀铜膜层叠板上，来得到层叠体。
<光敏度和析像度试验>
将上述层叠体冷却至23℃，在位于上述层叠体的最外层的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，顺次层叠具有浓度区域0.00～2.00、浓度阶段0.05、曝光表(矩形)大小20mm×187mm、各阶段(矩形)大小3mm×12mm的41段格阶段式曝光表的光工具，以及具有作为析像度评价用负片的线宽/间隔宽度为6/6～35/35(单位：mm)的配线图案的光工具。进而在其上放置用于将波长365nm以下的光过滤掉99.5％以上的西格玛光机株式会社制造的锐截止滤波器SCF-100S-39L(制品名)。
在该状态下，使用将5kw短弧灯作为光源的平行光曝光机(ORC制作所制造，制品名“EXM-1201”)，以41段格阶段式曝光表显影后的残留阶段段格数成为17段格的曝光量进行曝光，将该曝光量作为灵敏度。另外，至于照度的测定是，对于透过锐截止滤波器的光，采用应用了405nm对应探测器的紫外线照度计(优志旺电机株式会社制造，“UIT-101”(制品名))来进行，将照度与曝光时间的乘积作为曝光量。将其结果示于表3。
接着，剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，在30℃喷雾24秒钟的1质量％碳酸钠水溶液，来除去未曝光部分。至于析像度是，根据能够通过显影处理干净地除去未曝光部分，并且所生成的线未发生蛇形、缺损情况的线宽之间的间隔宽的最小值来评价的。析像度的评价是，数值越小越好。将其结果示于表3。
表3
产业上的可应用性
根据本发明，可以提供对于直接描绘曝光法的曝光光，也能够在不损害析像度和密合性的条件下具有充分高的灵敏度的感光性元件。

Claims (82)

1.一种感光性元件，其特征在于，顺次层叠支持体、感光层、保护膜而成，所述感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及下述通式(1)、(2)和/或(3)所示的增感剂的感光性树脂组合物形成，
相对于所述粘合剂聚合物和所述光聚合性化合物的总量100质量份，所述粘合剂聚合物的配合量为40～80质量份，所述光聚合性化合物的配合量为20～60质量份，所述光聚合引发剂的配合量为0.5～20质量份，所述增感剂的配合量为0.01～5质量份，
所述粘合剂聚合物含有基于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单元作为共聚成分，所述基于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单元的含量以构成所述粘合剂聚合物的共聚成分总量为基准，为0.1～30质量％，
所述保护膜以聚丙烯为主要成分，所述保护膜的厚度为5～50μm，所述保护膜中的直径在80μm以上的鱼眼的存在密度为5个/m2以下，
式(1)中，R各自独立地表示碳原子数4～12的烷基；a、b和c各自独立地表示0～2的整数，并且a、b和c的总和为1～6；
式(2)中，R1和R2各自独立地表示甲基、乙基、丙基、丁基、戊基或己基；R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10各自独立地表示氢原子、甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羟基乙氧基羰基或苯氧基；
式(3)表示的化合物表示选自7-氨基-4-甲基香豆素、7-二甲氨基-4-甲基香豆素、7-二甲氨基-4-三氟甲基香豆素、7-甲氨基-4-甲基香豆素、7-二乙氨基-4-甲基香豆素、7-乙氨基-4-甲基香豆素、4，6-二甲基-7-乙氨基香豆素、4，6-二甲基-7-二乙氨基香豆素、4，6-二甲基-7-二甲氨基香豆素、4，6-二乙基-7-二乙氨基香豆素、4，6-二乙基-7-二甲氨基香豆素、7-二甲氨基环五[c]香豆素、7-氨基环五[c]香豆素、7-二乙氨基环五[c]香豆素、2，3，6，7，10，11-六酐-1H，5H-环五[3，4][1]苯并吡喃[6，7，8-ij]喹嗪12(9H)-酮、7-二乙氨基-5’，7’-二甲氧基-3，3’-羰基双香豆素、3，3’-羰基双[7-(二乙氨基)香豆素]和7-二乙氨基-3-噻吩并氧基香豆素中的至少一种化合物。
2.根据权利要求1所述的感光性元件，其中，所述R各自独立地为从正丁基、叔丁基、叔辛基和十二烷基所组成的组中选出的基团。
3.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述通式(1)所示的化合物为1-苯基-3-(4-叔丁基苯乙烯基)-5-(4-叔丁基苯基)吡唑啉。
4.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述R1和R2各自独立地为碳原子数1～4的烷基，所述R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10为氢原子。
5.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述通式(2)所示的化合物为9，10-二丁氧基蒽。
6.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述通式(3)所示的化合物为7-二乙氨基-4-甲基香豆素。
7.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述光聚合引发剂为2，4，5-三芳基咪唑二聚物。
8.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述粘合剂聚合物包含丙烯酸系树脂。
9.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述粘合剂聚合物具有羧基。
10.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述基于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单元的含量以构成所述粘合剂聚合物的共聚成分总量为基准，为1～28质量％。
11.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述基于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单元的含量以构成所述粘合剂聚合物的共聚成分总量为基准，为1.5～27质量％。
12.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述粘合剂聚合物的重均分子量为20000～300000。
13.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述粘合剂聚合物的重均分子量为40000～150000。
14.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述粘合剂聚合物的重均分子量为40000～80000。
15.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述光聚合性化合物包含双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物。
16.根据权利要求15所述的感光性元件，其中，所述双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物包含下述通式(5)表示的化合物，
式(5)中，R20和R21各自独立地表示氢原子或甲基，X和Y各自独立地表示碳原子数2～6的亚烷基，p和q是按照使(p+q)成为4～40的条件选出的正整数，Z1和Z2可以各自独立地为如下基团或者被这些基团取代了的芳基：卤原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～10的环烷基、碳原子数6～18的芳基、苯甲酰甲基、氨基、烷基的碳原子数为1～20的单烷基氨基或二烷基氨基、硝基、氰基、羰基、硫醇基、碳原子数1～10的烷基硫醇基、烯丙基、羟基、碳原子数1～20的羟基烷基、羧基、烷基的碳原子数为1～10的羧基烷基、烷基的碳原子数为1～10的酰基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的烷氧基羰基、碳原子数2～10的烷基羰基、碳原子数2～10的烯基、碳原子数2～10的N-烷基氨基甲酰基，所述芳基中的所述基团也可以形成缩环，所述芳基中的所述基团中的氢原子可以被卤原子取代，当取代基的数目分别为2以上时，2个以上的取代基可以各自相同或不同，s和t各自独立地表示0～4的整数。
17.根据权利要求15所述的感光性元件，其中，所述双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物包含选自2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丁氧基)苯基)丙烷以及2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷中的至少一种化合物。
18.根据权利要求15所述的感光性元件，其中，所述双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物包含2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷。
19.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有45～70质量份的所述粘合剂聚合物。
20.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有30～60质量份的所述光聚合性化合物。
21.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有1.0～10质量份的所述光聚合引发剂。
22.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有1.5～7质量份的所述光聚合引发剂。
23.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有0.03～3质量份的所述增感剂。
24.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有0.05～2质量份的所述增感剂。
25.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述感光层的厚度为1～100μm。
26.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述感光层的厚度为1～50μm。
27.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述保护膜为双轴取向性的聚丙烯膜。
28.一种感光性元件卷，其为将顺次层叠支持体、感光层、保护膜而成的感光性元件卷状地卷绕到卷芯上而成的感光性元件卷，
所述感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及下述通式(1)、(2)和/或(3)所示的增感剂的感光性树脂组合物形成，
相对于所述粘合剂聚合物和所述光聚合性化合物的总量100质量份，所述粘合剂聚合物的配合量为40～80质量份，所述光聚合性化合物的配合量为20～60质量份，所述光聚合引发剂的配合量为0.5～20质量份，所述增感剂的配合量为0.01～5质量份，
所述粘合剂聚合物含有基于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单元作为共聚成分，所述基于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单元的含量以构成所述粘合剂聚合物的共聚成分总量为基准，为0.1～30质量％，
所述保护膜以聚丙烯为主要成分，所述保护膜的厚度为5～50μm，所述保护膜中的直径在80μm以上的鱼眼的存在密度为5个/m2以下，
式(1)中，R各自独立地表示碳原子数4～12的烷基；a、b和c各自独立地表示0～2的整数，并且a、b和c的总和为1～6；
式(2)中，R1和R2各自独立地表示甲基、乙基、丙基、丁基、戊基或己基；R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10各自独立地表示氢原子、甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羟基乙氧基羰基或苯氧基；
式(3)表示的化合物表示选自7-氨基-4-甲基香豆素、7-二甲氨基-4-甲基香豆素、7-二甲氨基-4-三氟甲基香豆素、7-甲氨基-4-甲基香豆素、7-二乙氨基-4-甲基香豆素、7-乙氨基-4-甲基香豆素、4，6-二甲基-7-乙氨基香豆素、4，6-二甲基-7-二乙氨基香豆素、4，6-二甲基-7-二甲氨基香豆素、4，6-二乙基-7-二乙氨基香豆素、4，6-二乙基-7-二甲氨基香豆素、7-二甲氨基环五[c]香豆素、7-氨基环五[c]香豆素、7-二乙氨基环五[c]香豆素、2，3，6，7，10，11-六酐-1H，5H-环五[3，4][1]苯并吡喃[6，7，8-ij]喹嗪12(9H)-酮、7-二乙氨基-5’，7’-二甲氧基-3，3’-羰基双香豆素、3，3’-羰基双[7-(二乙氨基)香豆素]和7-二乙氨基-3-噻吩并氧基香豆素中的至少一种化合物。
29.根据权利要求28所述的感光性元件卷，其中，所述R各自独立地为从正丁基、叔丁基、叔辛基和十二烷基所组成的组中选出的基团。
30.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述通式(1)所示的化合物为1-苯基-3-(4-叔丁基苯乙烯基)-5-(4-叔丁基苯基)吡唑啉。
31.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述R1和R2各自独立地为碳原子数1～4的烷基，所述R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10为氢原子。
32.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述通式(2)所示的化合物为9，10-二丁氧基蒽。
33.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述通式(3)所示的化合物为7-二乙氨基-4-甲基香豆素。
34.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述光聚合引发剂为2，4，5-三芳基咪唑二聚物。
35.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述粘合剂聚合物包含丙烯酸系树脂。
36.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述粘合剂聚合物具有羧基。
37.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述基于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单元的含量以构成所述粘合剂聚合物的共聚成分总量为基准，为1～28质量％。
38.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述基于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单元的含量以构成所述粘合剂聚合物的共聚成分总量为基准，为1.5～27质量％。
39.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述粘合剂聚合物的重均分子量为20000～300000。
40.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述粘合剂聚合物的重均分子量为40000～150000。
41.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述粘合剂聚合物的重均分子量为40000～80000。
42.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述光聚合性化合物包含双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物。
43.根据权利要求42所述的感光性元件卷，其中，所述双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物包含下述通式(5)表示的化合物，
式(5)中，R20和R21各自独立地表示氢原子或甲基，X和Y各自独立地表示碳原子数2～6的亚烷基，p和q是按照使(p+q)成为4～40的条件选出的正整数，Z1和Z2可以各自独立地为如下基团或者被这些基团取代了的芳基：卤原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～10的环烷基、碳原子数6～18的芳基、苯甲酰甲基、氨基、烷基的碳原子数为1～20的单烷基氨基或二烷基氨基、硝基、氰基、羰基、硫醇基、碳原子数1～10的烷基硫醇基、烯丙基、羟基、碳原子数1～20的羟基烷基、羧基、烷基的碳原子数为1～10的羧基烷基、烷基的碳原子数为1～10的酰基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的烷氧基羰基、碳原子数2～10的烷基羰基、碳原子数2～10的烯基、碳原子数2～10的N-烷基氨基甲酰基，所述芳基中的所述基团也可以形成缩环，所述芳基中的所述基团中的氢原子可以被卤原子取代，当取代基的数目分别为2以上时，2个以上的取代基可以各自相同或不同，s和t各自独立地表示0～4的整数。
44.根据权利要求42所述的感光性元件卷，其中，所述双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物包含选自2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丁氧基)苯基)丙烷以及2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷中的至少一种化合物。
45.根据权利要求42所述的感光性元件卷，其中，所述双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物包含2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷。
46.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有45～70质量份的所述粘合剂聚合物。
47.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有30～60质量份的所述光聚合性化合物。
48.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有1.0～10质量份的所述光聚合引发剂。
49.根据权利要求28或290所述的感光性元件卷，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有1.5～7质量份的所述光聚合引发剂。
50.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有0.03～3质量份的所述增感剂。
51.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有0.05～2质量份的所述增感剂。
52.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述感光层的厚度为1～100μm。
53.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述感光层的厚度为1～50μm。
54.根据权利要求28或29所述的感光性元件卷，其中，所述保护膜为双轴取向性的聚丙烯膜。
55.一种抗蚀图案的形成方法，其特征在于，具备：边从感光层上剥离顺次层叠支持体、所述感光层、保护膜而成感光性元件的保护膜，边将所述感光层层叠在电路形成用基板上的层叠工序；对于被层叠的所述感光层的规定部分照射活性光线的曝光工序；对所述照射活性光线后的所述感光层进行显影来形成抗蚀图案的显影工序，
所述感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及下述通式(1)、(2)和/或(3)所示的增感剂的感光性树脂组合物形成，
相对于所述粘合剂聚合物和所述光聚合性化合物的总量100质量份，所述粘合剂聚合物的配合量为40～80质量份，所述光聚合性化合物的配合量为20～60质量份，所述光聚合引发剂的配合量为0.5～20质量份，所述增感剂的配合量为0.01～5质量份，
所述粘合剂聚合物含有基于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单元作为共聚成分，所述基于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单元的含量以构成所述粘合剂聚合物的共聚成分总量为基准，为0.1～30质量％，
所述保护膜以聚丙烯为主要成分，所述保护膜的厚度为5～50μm，所述保护膜中的直径在80μm以上的鱼眼的存在密度为5个/m2以下，
式(1)中，R各自独立地表示碳原子数4～12的烷基；a、b和c各自独立地表示0～2的整数，并且a、b和c的总和为1～6；
式(2)中，R1和R2各自独立地表示甲基、乙基、丙基、丁基、戊基或己基；R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10各自独立地表示氢原子、甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羟基乙氧基羰基或苯氧基；
式(3)表示的化合物表示选自7-氨基-4-甲基香豆素、7-二甲氨基-4-甲基香豆素、7-二甲氨基-4-三氟甲基香豆素、7-甲氨基-4-甲基香豆素、7-二乙氨基-4-甲基香豆素、7-乙氨基-4-甲基香豆素、4，6-二甲基-7-乙氨基香豆素、4，6-二甲基-7-二乙氨基香豆素、4，6-二甲基-7-二甲氨基香豆素、4，6-二乙基-7-二乙氨基香豆素、4，6-二乙基-7-二甲氨基香豆素、7-二甲氨基环五[c]香豆素、7-氨基环五[c]香豆素、7-二乙氨基环五[c]香豆素、2，3，6，7，10，11-六酐-1H，5H-环五[3，4][1]苯并吡喃[6，7，8-ij]喹嗪12(9H)-酮、7-二乙氨基-5’，7’-二甲氧基-3，3’-羰基双香豆素、3，3’-羰基双[7-(二乙氨基)香豆素]和7-二乙氨基-3-噻吩并氧基香豆素中的至少一种化合物。
56.根据权利要求55所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述R各自独立地为从正丁基、叔丁基、叔辛基和十二烷基所组成的组中选出的基团。
57.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述通式(1)所示的化合物为1-苯基-3-(4-叔丁基苯乙烯基)-5-(4-叔丁基苯基)吡唑啉。
58.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述R1和R2各自独立地为碳原子数1～4的烷基，所述R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10为氢原子。
59.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述通式(2)所示的化合物为9，10-二丁氧基蒽。
60.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述通式(3)所示的化合物为7-二乙氨基-4-甲基香豆素。
61.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述光聚合引发剂为2，4，5-三芳基咪唑二聚物。
62.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述粘合剂聚合物包含丙烯酸系树脂。
63.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述粘合剂聚合物具有羧基。
64.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述基于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单元的含量以构成所述粘合剂聚合物的共聚成分总量为基准，为1～28质量％。
65.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述基于苯乙烯或苯乙烯衍生物的单元的含量以构成所述粘合剂聚合物的共聚成分总量为基准，为1.5～27质量％。
66.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述粘合剂聚合物的重均分子量为20000～300000。
67.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述粘合剂聚合物的重均分子量为40000～150000。
68.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述粘合剂聚合物的重均分子量为40000～80000。
69.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述光聚合性化合物包含双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物。
70.根据权利要求69所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物包含下述通式(5)表示的化合物，
式(5)中，R20和R21各自独立地表示氢原子或甲基，X和Y各自独立地表示碳原子数2～6的亚烷基，p和q是按照使(p+q)成为4～40的条件选出的正整数，Z1和Z2可以各自独立地为如下基团或者被这些基团取代了的芳基：卤原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～10的环烷基、碳原子数6～18的芳基、苯甲酰甲基、氨基、烷基的碳原子数为1～20的单烷基氨基或二烷基氨基、硝基、氰基、羰基、硫醇基、碳原子数1～10的烷基硫醇基、烯丙基、羟基、碳原子数1～20的羟基烷基、羧基、烷基的碳原子数为1～10的羧基烷基、烷基的碳原子数为1～10的酰基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的烷氧基羰基、碳原子数2～10的烷基羰基、碳原子数2～10的烯基、碳原子数2～10的N-烷基氨基甲酰基，所述芳基中的所述基团也可以形成缩环，所述芳基中的所述基团中的氢原子可以被卤原子取代，当取代基的数目分别为2以上时，2个以上的取代基可以各自相同或不同，s和t各自独立地表示0～4的整数。
71.根据权利要求69所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物包含选自2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丁氧基)苯基)丙烷以及2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷中的至少一种。
72.根据权利要求69所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物包含2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷。
73.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有45～70质量份的所述粘合剂聚合物。
74.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有30～60质量份的所述光聚合性化合物。
75.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有1.0～10质量份的所述光聚合引发剂。
76.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有1.5～7质量份的所述光聚合引发剂。
77.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有0.03～3质量份的所述增感剂。
78.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述感光性树脂组合物相对于所述粘合剂聚合物以及所述光聚合性化合物的总量100质量份，含有0.05～2质量份的所述增感剂。
79.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述感光层的厚度为1～100μm。
80.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述感光层的厚度为1～50μm。
81.根据权利要求55或56所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述保护膜为双轴取向性的聚丙烯膜。
82.一种印刷电路板的制造方法，其特征在于，具备：边从感光层上剥离权利要求1～27中的任一项所述的感光性元件的保护膜，边将所述感光层层叠在电路形成用基板上的层叠工序；对于被层叠的所述感光层的规定部分照射活性光线的曝光工序；对所述照射活性光线后的所述感光层进行显影来形成抗蚀图案的显影工序；对所述形成有抗蚀图案的所述电路形成用基板进行蚀刻或镀覆来形成导体图案的导体图案形成工序。
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