KR0150344B1 - 감광성 수지 조성물 - Google Patents

감광성 수지 조성물

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KR0150344B1
KR0150344B1 KR1019950053460A KR19950053460A KR0150344B1 KR 0150344 B1 KR0150344 B1 KR 0150344B1 KR 1019950053460 A KR1019950053460 A KR 1019950053460A KR 19950053460 A KR19950053460 A KR 19950053460A KR 0150344 B1 KR0150344 B1 KR 0150344B1
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Abstract

본 발명은 인쇄회로기판(printed circuit board)의 회로설계용 드라이필름 포토레지스트(photo-resist)의 제조에 사용되는 감광성(photo-sensitive) 수지조성물에 관한 것으로, 본 발명의 감광성 수지조성물은 광중합성 단량체로서 부가중합이 가능한 불포화 반응기를 2개 이상 가지는 적어도 1종의 수용성 단량체(water soluble monomer)와 적어도 1종의 수불용성 단량체(water insoluble monomer)를 함유하며, 수용성 단량체의 함량이 고형분 기준으로 3∼15%이고, 광중합성 단량체의 반응기의 총량(#M)이 고형분 1㎏중 0.5∼1.5몰(mole)인 것을 특징으로 하며, 상기한 특징의 본 발명에 의하면 빠른 현상속도, 노광막의 유연성 및 도금약품에 대한 내약품성이 우수한 포토레지스트를 제공할 수 있게 된다.

Description

감광성 수지조성물
본 발명은 감광성(photosensitive) 수지조성물에 관한 것이다. 일반적으로 감광성 수지 조성물은 예를 들어 인쇄회로기판(printed circuit board) 제조시 회로설계용 드라이필름 포토레지스트(photoresist)로 만들어져 사용될 수 있다. 이러한 드라이필름 포토레지스트에 필요한 주요 특성으로서는 빠른 현상속도, 노광막의 유연성 및 도금약품에 대한 내약품성이 있다.
감광성 수지 조성물 중 광중합성 단량체는 이 특성들에 매우큰 영향을 미치므로 그 선정에 매우 유의해야 한다. 일반적으로 내약품성을 좋게 하기 위해서는 단량체의분자량이 작은 것을 많이 사용하여 경화도를 올리거나 페닐기를 가지고 있는 단량체를 사용하면 효과가 있는 것으로 알려져 있다. 분자량이 작은 단량체로는 에틸렌글리콜디아(메타)크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아(메타)크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아(메타)크릴레이트, 에톡시레이티드트리메틸올프로판트리아(메타)크릴레이트, 프로폭시레이티드트리메틸올프로판트리아(메타)크릴레이트, 하이드록시디아(메타)크릴옥시프로판과 같은 것이 있다. 분자량이작은 단량체를 많이 사용하게 되면 감광성 조성물내의 단량체의 말단기의 증가에 의한 빈공간(free volume)이 많아져 현상액의 침투가 용이해져 현상속도는 빨라지지만 반응성 말단기의 증가에 의한 경화밀도가 높아져 막은 부서지기 쉬운 상태로 되어 막의 유연성이 크게 떨어진다. 페닐기를 가지고있는 단량체로는 2,2-비스[(4-아크릴록시디에톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[(4-메타크릴록시디에톡시)페닐]프로판과 같이 비스페놀A를 분자중에 가지고 있는 것으로 이를 많이 사용하는 경우 약알칼리 수용액의 침투를 느리게하여 현상성(현상속도)이 매우 저하된다.
현상속도를 빠르게 하기위해서는 친수성기로서 에틸렌글리콜의 반복단위를 포함하고 있는 광중합성 단량체를 사용하면 효과가 있다. 그러나 앞서 언급한 바와 같이분자량이 작은 경우에는 막이 부서지기 쉽게 된다. 에틸렌글리콜의 반복단위가 큰, 즉 분자량이높은 광중합성 단량체의 경우 물에 용해되는 특성을 갖게 되며 따라서 현상속도를 빠르게 하고 경화밀도도 적정수준을 유지해서 노광후 막의 강인성을 높일 수 있으나, 내도금약품성이 현저히 떨어지는 특성이 관찰된다. 이러한 특성은 에틸렌글리콜과 비스페놀A를 포함시킨 광중합성 단량체를 사용하면 내도금 약품성이 개선 될 수 있지만, 단독성분만으로는 충분하지 않다.
논광후 막의 유연성은 경화도 및 단량체의 구조에 크게 좌우된다. 즉, 경화할 수 있는 단량체가 조성물 중에 많아서 경화가 많이 일어나면 막의 유연성은 감소되며 단량체의 양이 적어서 경화도가 적으면 유연성이 증가하나, 단량체가 많아도 경화가 적게 일어나면 상대적으로 노광된 막은 유연하지만 이렇게 형성된 회로의 도금약품성은 현저히 감소된다. 노광후 경화된 막의 유연성은 인쇄회로기판제조시 현상후에 경화막이 홀을 막아주는 능력, 즉 텐팅능력을 크게 좌우하는 것으로 막의 유연성이 크면 텐팅능력이 커져 생산수율을 크게 향상시킨다.
본 발명자들은 감광성 수지 조성물에 있어서 광중합성 단량체의 선택에 따라 이러한 상반된 특성이 발현되므로 이를 최적화하는 조성을 개발하였으며, 이러한 개발에 기초한 본발명에 의하면 과중합성 단량체, 결합제인 열가소성 고분자 및 광개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물에 있어서, 광중합성 단량체가 부가중합이 가능한 불포화 반응기를 2개 이상 가지는 적어도 1종의 수용성 단량체(water soluble monomer)와 적어도 1종의 수불용성 단량체( water insoluble monomer)를 함유하며, 수용성 단량체의 함량이 조성물의 고형분 기준으로 3∼15%이고, 상기 고형분 1㎏에 포함되는 광중합성 단량체의 반응기의 총몰수가 0.5∼1.5몰인 것을 특징으로 하는 감광성 수지조성물이 제공된다.
본 조성물에 있어서, 특별히 제한하기 위한 것은 아니지만 수용성 광중합성 단량체로는 에틸렌글리콜 반복단위가 25∼40인 2,2-비스[(4-아클리록시폴리에톡시)페닐]프로판 및 2,2-비스[(4-메타클릴록시폴리에톡시)페닐]프로판과; 에틸렌글리콜 반복단위가 8∼15인 폴리에틸렌글리콜디아(메타)크릴레이트가 좋은 특성을 보인다. 에틸렌글리콜 반복단위가 이보다 크면 수용성이지만 도금약품성이 저하되며 에틸렌글리콜 반복단위가 이보다 작으면 도금약품성은 좋아지나 현상성 및 유연성이 떨어지게 된다.
수불용성 광중합성 단량체의 예로는 엘틸렌글리콜디아(메타)크릴레이트, 디에틸렌클리콜디아(메타)크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아(메타)크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아(메타)크릴레이트, 펜타에틸렌트리톨트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아(메타)크릴레이트, 에톡실레이티드 트리메틸올프로판트리아(메타)크릴레이트, 프로폭실레이티드 트리메틸올프로판트리아(메타)크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디아(메타)크릴레이트, 하이드록시디아(메타)크릴레이트, 2,2-비스[(4-아크릴록시디에톡시)]페닐]프로판, 2,2-비스[(4-아크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[(4-메타크릴록시디에톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[(4-메나크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판, 또는 이들중 2종이상의 혼합물을 들 수있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 조성물에 있어서, 막의 유연성을 높이기 위해서는 광중합성 단량체로서 선택된 2종이상에서 전체 반응성 말단기의 양을 특정한 범위로 조절하는 것이 요구된다. 즉, 본 조성물의 고형분 1 1㎏중에 포함되는 모든 광중합성 단량체들의 반응기의 총몰수(#M)는 바람직하게 0.5몰∼1.5몰, 보다 바람직하게 0.8몰∼1.2몰을 만족하여야 한다. #M은 하기 식I로부터 구할 수 있다.
위식에서,
Mi은 고형분 기준으로 조성물 1㎏에 포함된 광중합성 단량체 i의 몰수이고,
Ni는 광중합성 단량체 i의 반응기수이며,
k는 조성물중 광중합성 단량체의 가지수임.
조성물의 고형분 1 1㎏ 중에 모든 광중합성 단량체들의 반응기의 총몰수(#M)가 0.5몰 미만의 경우에는 내약품성이 매우 떨어지며, 1.5몰을 초과하는 경우에는 경화막의 유연성이 작아져 텐팅능력이 떨어지게 된다.
드라이필름 포토레지스트의 감광성 수지 조성물로 사용되기 위해서는 광중합성 단량체 이외에 결합제 고분자와 광개시제 성분이 반드시 필요하며 밀착촉진제, 열중합금지제, 염료 등이 첨가되어 사용 될 수 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에서 결합제 고분자로는 중량평균분자량()이 10,000∼400,000 사이이고 유리전이온도가 40∼80℃ 사이인 열가소성 선상고분자가 적합하며, 그 바람직한 함량은 감광성 수지 조성물의고형분 중 50∼80%이다.
결합제 고분자를 제조하기 위해 사용할 수 있는 부가중합성 단량체는 메틸아크릴산, 부틸아크릴산, 메틸메타크릴산과 같은 알킬아크릴산, 아킬메타크릴산 종류와 스티렌 및 스티렌유도체, 여러종류의 아크릴산에스테르, 메타크릴산에스테르를 사용할 수 있으며, 알칼리수용액으로 현상되기 위해서는 산성성분을 첨가해야 하는데 산성성분으로서 아크릴산, 메타크릴산, 말레인산, 크로토닉산등이 있다.
본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 광중합개시제로는 치환 또는 비치환의 다핵퀴논류로서 예컨대 2-에틸안트라퀴논, 2-티-부틸아트라퀴논, 옥타메틸아트라퀴논, 1,2-벤즈아트라퀴논, 2.3-벤즈안트라퀴논, 2-페닐안트라퀴논, 2,3-디페닐안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 2-메틸안트라퀴논, 1,4-나프타퀴논, 9,10-페난트라퀴논, 1,2-디메틸안트라퀴논; 방향족케톤류로서 예컨대, 벤조페논, 미히러케톤(4,4-비스디메틸아미노벤조페논),4,4-비스디에틸아미노벤조페논, 4-메톡시-4-비스디메틸아미노벤조페논; 벤조인류 및 벤조인에테르류로서 예컨대 벤조메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인페닐에테르, 메틸벤조인, 에틸벤조인; 2,4,5-트리아릴이미다졸 이량체를 사용할 수 있다. 추가적으로 치환 또는 비치환의 티옥산톤류로서 2-클로로티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤; 지방족 도는 방향족의 제3급 아민류로서 메틸디에탄올아민등도 사용될 수 있다.
빛에 의해 활성화되는 이러한 광개시제는 단독으로 또는2종이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이러한 광개시제는 포토레지스트의 성분중 0.5 ∼ 10중량%를 넣어주는 것이 좋다. 0.5중량%미만에서는 빛에 의해 충분히 경화가 일어나지 않으며, 10중량% 초과에서는 빛에 너무 민감하게 되어 작업하기가 곤란하게 된다.
이외에 드라이 필름포토레지스트로서 사용되는 감광성 수지 조성물에 첨가할 수 있는 것으로 동판과의 밀착력을 증가시키는 밀착촉진제, 염료, 열중합금지제가 있다. 밀착촉진제로는 벤조트라이졸등을 사용할 수 있으며, 염료로는 빅토리아블루, 메틸렌블루, 크리스탈바이올렛, 마라카이트그린들을 사용할 수 있고, 열중합금지제로는 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 티-부틸카테콜등을 사용할 수 있다.
통상적으로 드라이필름 포토레지스트는 유기용제와 혼합된 감광성 수지 조성물을 베이스 필름위에 코팅한 후 건조하고, 건조된 포토레지스트층위에 보호필름을 적층하여 만들어진다. 일반적으로 사용할 수 있는 베이스 필름은 폴리에스터필름, 나일론필름, 폴리이미드필름, 폴리카보네이트필름 등으로 사용온도가 100℃이상이며, 투명한 필름이면 어느 것이나 가능하나, 이중에서도 특히 폴리에틸렌테리프탈레이트 필름이 바람직하다. 보호필름은 포토레지스트 층을 이물로부터 보호하고 드라이필름 포토레지스트가 롤 상태로 제조될 때 각각의 층이 붙지 않도록 하기 위해 사용되는 것으로 주로 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌과 같은 폴리올레핀계통의 필름이 사용된다.
드라이필름 포토레지스트는 인쇄회로기판 제조시 동판(혹은 동박을 피복한 에폭시적층판)에 라미네이터를 사용하여 균일하게 적층할 수 있다. 이 때 카바필름은 제거되고 베이스필름과 함께 포토레지스트층이 동판에 붙어있게 된다. 베이스필름위에 원하는 회로(포토툴)를 놓고 밀착시킨 후 자외선을 조사하면 빚을 받는 부분(노광부)은 경화되고 그렇지 않은 부분은 미경화 상태로 남아있게 된다. 이로부터 베이스필름을 제거한 후 현상액을 기판위에 분사하면 미경화된 부분이 현상액에 의해 제거되고 경화된 부위는 그대로 기판위에 남아있게 되어 회로가 형성되게 된다. 트라이필름 포토레지스트는 현상공정에서 사용되는 약품이 1,1,1-트리클로로에탄 등의 유기용제를 사용하는 경우와 탄산나트륨 수용액과 같응 수용성 용제를 사용하는 것으로 구분할 수 있다. 근래에 환경문제 및 제조비용면에서 문제 때문에 주로 수용성용제로 현상 가능한 드라이필름 포토레지스트를 사용하는 것이 일반적이다. 회로가 형성된 기판은 이후 도금 또는 에칭, 박리 공정을 거쳐 인쇄회로기판이 만들어지게 된다. 약알칼리수용액으로 현상가능한 감광성 수지 조성물을 일반적인 산성동도금액에서의내도금약품성은 양호하지만 솔더도금액에서의 내약품성은 조성에 따라 큰 영향을 받는다.
이하, 본 발명을 비한정적인 실시예의 방법으로 보다 상세하게 설명하기로 한다. 하기 실시예 및 비교예의 조성성분중에서 표시 *는 수용성 광중합성 단량체를, 표시 **는 수불용성 광중합성 단량체를 각각 나타낸 것이다.
[실시예 1 : 감광성 수지 조성물 성분]
결합제고분자로서 중량평균분자량()이 70,000인 메틸메타크릴산(50%)/에틸아크릴산(30%)/메타크릴산(20%) 공중합체 65중량부, 광중합성 단량체로서 분자량 1,684, 분자당 평균 에틸렌글리콜 반복단위 개수(이하, 이를라 약함) 30인 *2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 12중량부, 분자량 330인 **테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트 8중량부, 및 분자량 428인 **에톡시레이티드트리메틸올프로판트리아크릴레이트 7중량부, 그리고 벤조페논 4중량부, 미히러케톤 0.5중량부, 빅토리아블루 0.05중량부, 하이드로퀴논모노메틸에테르 0.05중량부, 벤조트리아졸 0.5중량부, 메틸에틸케톤 100중량부를 함유하며, 조성물의 고형분 1 1㎏ 중에 포함되는 모든 광중합성 단량체들의 반응기의 총몰수(이하, #M이라 함.)가 1.15몰인 감광성 수지 조성물을 만들어 균일하게 혼합하였다.
이때 결합제고분자의 분자량은 GPC(waters, column : Shodex KF Series, 표준시료 : standard polystyrene사용, RI검출기사용)를 사용하여 측정한 값이다.
상기 조성물을 두께 25㎛의 폴리에틸렌글리콜테레프탈레이트필름 지지체위에 도포하고 80℃에서 건조하여 감광성 필름을 얻었다. 이때 감광층의 두께는 40㎛이었으며, 감광층을 보호하기 위해 30㎛의 폴리에틸렌필름을 고무롤을 사용하여 감광층위에 적층하였다.
[비교예 1 및 비교예 2]
감광성 수지 조성물의 성분 중 광중합성 단량체를 다음과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정을 반복하였다.
[비교예 1 : 광중합성 단량체 조성]
*2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 5중량부 (분자량 = 1,684,= 30 )
**테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트 (분자량 = 330) 7중량부
**에톡시레이티드트리메틸올프로판트리아크릴레이트 15중량부 (분자량 = 428)
#M 1,58몰
[비교예 2 : 광중합성 단량체 조성]
*2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 15중량부 (분자량 = 1,684,)
**2,2-비스[(4-메타크릴로시폴리에톡시)페닐]프로판 12중량부 (분자량 = 804,)
**폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트 (분자량 = 808) 7중량부
#M 0.4몰
[실시예 2]
감광성 수지조성물로서50,000인 메틸메타크릴산 (40%)/2-에틸헥실아크릴산(20%)/스티렌(20%)/메타크릴산(10%)/아크릴산(10%) 공중합체 65중량부, 분자량 1,684,30인 *2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 8중량부, 분자량 804,10인 **2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 8중량부, 분자량 536의 **폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트 8중량부, **하이드록시디아(메타)크릴옥시프로판 3중량부, 벤조페논 4중량부, 미히러케톤 0.5중량부, 빅토리아블루 0.05중량부, 벤조트리아졸 0.5중량부, 하이드로퀴논모노메틸에테르 0.05중량부, 및 메틸에틸케톤 100중량부를 함유하며, #M이 0.88몰인 감광성 수지 조성물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 절차를 반복하였다.
[비교예 3]
감광성 수지 조성물의 성분 중 광중합성 단량체를 다음과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 2와 동일한 과정을 반복하였다.
[비교예 3 : 광중합성 단량체 조성]
*2,2비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 2중량부
(분자량 1,684,30 )
**2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시페닐]프로판 10중량부
(분자량 804,10 )
**에톡시레이티드트리메틸올프로판트리아크릴레이트 8중량부
(분자량 428)
**폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트 (분자량 808) 7중량부
#M 1.04몰
[실시예 3]
감광성 수지 조성물의 조성을 다음과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 2와 동일한 과정을 반복하였다.
[실시예 3 : 감광성 수지 조성]
메틸메타크릴산(40%)/페녹시에틸아크릴산(40%)/ 65 중량부
메타크릴산(10%)/아크릴산(10%) 공중합체(80,000)
*2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 8중량부
(분자량 1,684,30)
*폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트 5중량부
(분자량 536,9)
*2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 7중량부
(분자량 804,10 )
**폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트(분자량 536) 5중량부
**에톡시레이티드트리메틸올프로판트리아크릴레이트 2중량부
(분자량 428)
벤조페논 4중량부
미히러케톤 0.5중량부
다이아몬드 그린 GH 0.05중량부
벤조트리아졸 0.5중량부
하이드로퀴논모노메틸에테르 0.05중량부
메틸에틸케톤 100중량부
#M 0.81몰
[실시예 4 내지 5 및 비교예 4 내지 5]
감광성 수지 조성물의 성분 중 광중합성 단량체를 다음과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 3과 동일한 과정을 반복하였다.
[실시예 4 : 광중합성 단량체 조성]
*폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트 12중량부
(분자량 536,9)
**폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트(분자량 536) 8중량부
**에톡시레이티드트리메틸올프로판트리아크릴레이트 7중량부
(분자량 428)
#M 0.81몰
[실시예 5 : 광중합성 단량체 조성]
*폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트 10중량부
(분자량 73614)
**프로폭시레이티드트리메틸올프로판트리아크릴레이트 7중량부
(분자량 : 470)
**2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 10중량부
(분자량 : 804)
#M 1.0몰
[비교예 4 : 광중합성 단량체 조성]
**2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 12중량부
(분자량 804,10)
**테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트(분자량 330) 5중량부
**프로폭시레이티드트리메틸올프로판트리아크릴레이트 10중량부
#M 1.28몰
[비교예 5 : 광중합성 단량체 조성]
*2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 7중량부
(분자량 1,684,30)
*폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트 7중량부
(분자량 736,14)
**트리메틸올프로판트리아크릴레이트 8중량부
(분자량 : 296)
**1,6-헥산디올디메타크릴레이트 5중량부
(분자량 : 254)
#M 1.52몰
[평가]
상기 실시예 및 비교예의 조성물에 대해서 현상속도, 텐팅성 및 내도금약품성을 다음과 같은 방법으로 측정하였다. 측정결과는 하기 표 1에 지시된다.
※현상속도 … 브러쉬로 연마한 동판에 라미네이터를 사용하여 100℃, 1기압의 압력 및 분당 1m의 속도로 감광필름을 적층하였다. 이것을 15분간 상온에서 유지하여 표면온도가 상온으로 된 뒤에 현상기를 사용하여 현상시간을 측정하였다. 사용된 라미네이터는 웨스턴매그넘사(Western Magnum, XRL 240)제품이며 현상기는 켐컷사(Chemcut. Model 413W)제품이었다. 사용한 현상액은 탄산나트륨 1%수용액이고 현상액의 온도는 30℃이었으며, 분사노즐의 압력은 1.5기압이었다.
※텐팅성 … 막의 유연성의 척도인 텐팅성을 시험하기 위해 크기가 1, 2, 3, 4, 5, 6, 6.3㎜ 크기의 정공 홀이 각각 48개씩 있는 동판에 라미네이터를 사용하여 양면으로 드라이필름을 적층하였다. 하나의 샘플당 10개의 동판을 사용했다. 동판을 상온으로 식힌 후에 노광기에서 15초간 노광했다. 사용한 노광기는 코라이트(Colight)DMVL 1330이었다. 노광후 앞서 측정한 현상시간의 2배의 시간동안 현상을 2회 반복한 후 터진 홀의 개수를 세었다.
※내도금약품성 … 텐팅성측정시와 동일한 방법으로 0.3㎜간격의 회로를 동판에 형성시킨 후 다음과 같이 처리하여 마지막 액(4번액)내에서 동판에서 박리되는 시간을 관찰하였다.
① 황산처리 : 10% 황산수용액, 상온에서 30분간 침지(沈漬)
② 수세 : 상온, 10초씩 5회 세척
③ 붕불산 20% 수용액 30초간 침지, 상온
④ 붕불산 40%, 붕산 3% 수용액에서 침지, 상온
상기 표 1로부터 알수 있는 바와 같이, 실시예 1과 비교예 1 및 비교예 2의 현상속도는 유사하였으나, 실시예 1의 경우 텐팅성 평가에서 터진홀이 없었는 데 비해 비교예 1의 조성은 전체 홀중에서 5%의 홀이 터졌으며, 비교예 2는 내도금약품성 평가에서 15분간만에 동박으로부터 박리되었다.
실시예 2와 비교예 3의 비교에서, 실시예 2는 실시예 1과 큰 차이가 없었으나 비교예 3은 현상속도가 실시예 2에 비해 50% 떨어졌으며 텐팅홀의 파괴율도 4%나 되었다.
실시예 3, 4, 5 와 비교예 4, 5의 비교예서 실시예 3의 경우에 매우 양호하고 실시예 4 및 5의 경우에도 대체로 양호하였으나, 비교예 4의 경우에는 현상성이 불량하고 텐팅성이 부족하였으며, 비교예 5의 경우에는 텐탱성이 극히 불량하였다.

Claims (4)

  1. 광중합성 단량체, 결합제인 열가소성 고분자 및 광개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물에 있어서, 광중합성 단량체가 부가중합이 가능한 불포화 반응기를 2개 이상 가지는 적어도 1종의 수용성 단량체와 적어도 1종의 수불용성 단량체를 함유하며, 수용성 단량체의 함량이 상기 조성물의 고형분 기준으로 3∼15%이고, 상기 고형분 1㎏에 대하여 하기 식(I)로 계산한 전체 광중합성 단량체의 반응기의 총몰수(#M)가 0.5∼1.5몰인 것을 특징으로 하는 감광성 수지조성물:
    위 식에서, Mi은 상기 고형분 1㎏에 포함된 광중합성 단량체 i의 몰수이고, Ni는 광중합성 단량체 i의 반응기수이며, k는 광중합성 단량체의 총수임.
  2. 제1항에 있어서, 상기 수용성 광중합성 단량체가 에틸렌그리콜 총수 25 ∼ 40인 2,2-비스[(4-아크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판, 또는 2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 임을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 수용성 광중합성 단량체가 에틸렌글로콜 총수 25 ∼ 40인 2,2-비스[(4-아크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 또는 2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판과 에틸렌글리콜 총수 8 ∼ 15인 폴리에틸렌글리콜디아클릴레이트 또는 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트의 혼합물임을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 수불용성 광중합성 단량체가 에틸렌글리콜디아(메타)크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아(메타)크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아(메타)크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아(메타)크릴레이트, 펜타에리트리톨트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아(메타)크릴레이트, 에톡시레이티드 트리메틸올프로판트리아(메타)크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디아(메타)크릴레이트, 하이드록시디아(메타)크릴옥시프로판, 2,2-비스[(4-아크릴록시디에톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[(4-아크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[(4-메타크릴록시디에톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[(4-메타크릴록시폴리에톡시)페닐]프로판 또는 이들중 2종이상의 혼합물임을 특징으로 감광성 주지조성물.
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