JPS61228007A - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
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- JPS61228007A JPS61228007A JP6887285A JP6887285A JPS61228007A JP S61228007 A JPS61228007 A JP S61228007A JP 6887285 A JP6887285 A JP 6887285A JP 6887285 A JP6887285 A JP 6887285A JP S61228007 A JPS61228007 A JP S61228007A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glycol
- diacrylate
- photo
- tetramethylene glycol
- dimethacrylate
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- Pending
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は新規々エチレン性不飽和二重結合を分子内に2
個以上含有する付加重合性不飽和化合物(以下、多官能
モノマーと称す)を含有する光重合性組成物に関するも
のである。更に詳しくは、平版印刷版、樹脂凸版、プリ
ント配線基板作成用フォトレジスト、又はフォトマスク
などの用途に好適な、高感度で、強度の優れた、可撓性
の光硬化膜を与える光重合性組成物に関するものである
。
個以上含有する付加重合性不飽和化合物(以下、多官能
モノマーと称す)を含有する光重合性組成物に関するも
のである。更に詳しくは、平版印刷版、樹脂凸版、プリ
ント配線基板作成用フォトレジスト、又はフォトマスク
などの用途に好適な、高感度で、強度の優れた、可撓性
の光硬化膜を与える光重合性組成物に関するものである
。
「従来の技術」
光重合性組成物は、基本的に光重合開始剤と多官能モノ
マーから成シ、光を照射する硬化するとともに溶媒に離
溶化又は不溶化する。この性質をサンズ インク
ニューヨーク 5ons Inc、、New York 、/りAt
/!1−/り3頁参照) しかしながら、光重合性組成物の重要な応用分野の一つ
であるプリント配線基板作成に使用されるドライフィル
ムフォトレジストとして用いた場合、従来の光硬化物の
力学的性質は必ずしも十分とは言えなかった。プリント
配線基板作成用のドライフィルムレジストに関しては、
特公昭≠!−2!23/号明細書に記載されており、さ
らに詳かれている。
マーから成シ、光を照射する硬化するとともに溶媒に離
溶化又は不溶化する。この性質をサンズ インク
ニューヨーク 5ons Inc、、New York 、/りAt
/!1−/り3頁参照) しかしながら、光重合性組成物の重要な応用分野の一つ
であるプリント配線基板作成に使用されるドライフィル
ムフォトレジストとして用いた場合、従来の光硬化物の
力学的性質は必ずしも十分とは言えなかった。プリント
配線基板作成用のドライフィルムレジストに関しては、
特公昭≠!−2!23/号明細書に記載されており、さ
らに詳かれている。
ドライフィルムレジストの主要な使用目的は、テンティ
ング法によるスルーホール作成である。
ング法によるスルーホール作成である。
従来公知の多官能モノマーを用いた場合はテント膜の伸
びが不十分のためしばしば、現像、エツチング工程でテ
ント膜が破れる故障を生じた。ま九テンティングプロセ
スだけでなく通常のエツチングプロセスやメッキプロセ
スに用いた場合でも硬化後のレジストが脆いため、しば
しば粉末状のくずとなυ、作業環境に飛散して、ラミネ
ーション故障の原因となった。
びが不十分のためしばしば、現像、エツチング工程でテ
ント膜が破れる故障を生じた。ま九テンティングプロセ
スだけでなく通常のエツチングプロセスやメッキプロセ
スに用いた場合でも硬化後のレジストが脆いため、しば
しば粉末状のくずとなυ、作業環境に飛散して、ラミネ
ーション故障の原因となった。
「本発明が解決しようとする問題点」
従って本発明の目的は光硬化後のレジストが十分な可撓
性を有しているような光重合性組成物を提供することで
ある。さらに本発明の目的は現像後のレジストの形状が
優れておシ、高解儂力で、しかもメッキプロセスにおい
て十分使用に耐えられるレジストを与える光重合性組成
物の提供である。つまり耐アルカリ性、耐メツキ薬品性
の優れたレジストを与える光重合性組成物の提供である
。
性を有しているような光重合性組成物を提供することで
ある。さらに本発明の目的は現像後のレジストの形状が
優れておシ、高解儂力で、しかもメッキプロセスにおい
て十分使用に耐えられるレジストを与える光重合性組成
物の提供である。つまり耐アルカリ性、耐メツキ薬品性
の優れたレジストを与える光重合性組成物の提供である
。
また他の目的は本発明についての次の説明から明らかに
なろう。
なろう。
「問題点を解決するための手段」
本発明者は種々研究を重ねた結果、上記目的を達成し得
る新規な多官能モノマーを含有する光重合性組成物を見
出した。
る新規な多官能モノマーを含有する光重合性組成物を見
出した。
すなわち本発明の目的は、付加重合性不飽和化合物と光
重合開始剤を含む光重合性組成物において、該付加重合
性不飽和化合物として下記一般式lで表わされるポリ(
テトラメチレングリコールンのジアクリル酸エステル又
はジメタクリル酸エステルを含有することを特徴とする
光重合性組成物により達成され友。
重合開始剤を含む光重合性組成物において、該付加重合
性不飽和化合物として下記一般式lで表わされるポリ(
テトラメチレングリコールンのジアクリル酸エステル又
はジメタクリル酸エステルを含有することを特徴とする
光重合性組成物により達成され友。
一般式■
式中、Rは水素原子又はメチル基を表わし、nは2から
!Oの整数を表わす。
!Oの整数を表わす。
本発明に使用される一般式Iの化合物の好ましい具体例
としては、ジ(テトラメチレングリコール)ジアクリレ
ート、ジ(テトラメチレングリコール)ジメタクリレー
ト、トリ(テトラメチレングリコール)ジアクリレート
、トリ(テトラメチレングリコール)ジメタクリレート
、テトラ(テトラメチレングリコール)ジアクリレート
、テトラ(テトラメチレングリコールフジメタクリレー
ト、ペンタ(テトラメチレングリコール)ジアクリレー
ト、ペンタ(テトラメチレングリコール)ジメタクリレ
ート、ヘキサ(テトラメチレングリコール)ジアクリレ
ート、ヘキサ(テトラメチレングリコール)ジメタクリ
レ−1−、ヘプタ(テトラメチレングリコール)ジアク
リレート、ハプタ(テトラメチレングリコール)ジメタ
クリレート、オクタ(テトラメチレングリコール)ジア
クリレート、オクタ(テトラメチレングリコールフジメ
タクリレート、ノナ(テトラメチレングリコール)ジア
クリレート、ノナ(テトラメチレングリコール)ジメタ
クリレート、デカ(テトラメチレングリコール)ジアク
リレート、デカ(テトラメチレングリコールンジメタク
リレート、ウンデカ(テトラメチレングリコール)ジア
クリレート、ウンデカ(テトラメチレングリコール)ジ
メタクリレート、ドデカ(テトラメチレングリコールフ
ジアクリレート、ドデカ(テトラメチレングリコール)
ジメタクリレート、トリデカ(テトラメチレングリコー
ル)ジアクリレート、トリデカ(テトラメチレングリコ
ールフジメタクリレート、テトラデカ(テトラメチレン
グリコール)ジアクリレート、テトラデカ(テトラメチ
レングリコール)ジメタクリレート、ペンタデカ(テト
ラメチレングリコール)ジアクリレート、ペンタデカ(
テトラメチレングリコール)ジメタクリレート、ヘキサ
デカ(テトラメチレングリコール)ジアクリレート、ヘ
キサデカ(テトラメチレングリコール)ジメタクリレー
ト、ヘプタデカ(テトラメチレングリコール]ジアク′
リレート、ヘプタデカ(テトラメチレングリコールンジ
メタクリレート、オクタデカ(テトラメチレングリコー
ル)ジアクリレート、ノナデカ(テトラメチレングリコ
ール)ジアクリレート、エイコサ(テトラメチレングリ
コール)ジアクリレート等およびこれらの2種又はそれ
以上の混合物を挙げることができる。特に好ましい具体
例としてはポリ(テトラメチレングリコール)ジアクリ
レートおよびポリ(テトラメチレングリコール)ジアク
リレートおよびポリ(テトラメチレングリコール)ジメ
タクリレートで、それぞれご般式IKおけるnとして3
〜4cOの化合物を含む混合物であシ、平均値としての
nがlI−〜30を示すものである。
としては、ジ(テトラメチレングリコール)ジアクリレ
ート、ジ(テトラメチレングリコール)ジメタクリレー
ト、トリ(テトラメチレングリコール)ジアクリレート
、トリ(テトラメチレングリコール)ジメタクリレート
、テトラ(テトラメチレングリコール)ジアクリレート
、テトラ(テトラメチレングリコールフジメタクリレー
ト、ペンタ(テトラメチレングリコール)ジアクリレー
ト、ペンタ(テトラメチレングリコール)ジメタクリレ
ート、ヘキサ(テトラメチレングリコール)ジアクリレ
ート、ヘキサ(テトラメチレングリコール)ジメタクリ
レ−1−、ヘプタ(テトラメチレングリコール)ジアク
リレート、ハプタ(テトラメチレングリコール)ジメタ
クリレート、オクタ(テトラメチレングリコール)ジア
クリレート、オクタ(テトラメチレングリコールフジメ
タクリレート、ノナ(テトラメチレングリコール)ジア
クリレート、ノナ(テトラメチレングリコール)ジメタ
クリレート、デカ(テトラメチレングリコール)ジアク
リレート、デカ(テトラメチレングリコールンジメタク
リレート、ウンデカ(テトラメチレングリコール)ジア
クリレート、ウンデカ(テトラメチレングリコール)ジ
メタクリレート、ドデカ(テトラメチレングリコールフ
ジアクリレート、ドデカ(テトラメチレングリコール)
ジメタクリレート、トリデカ(テトラメチレングリコー
ル)ジアクリレート、トリデカ(テトラメチレングリコ
ールフジメタクリレート、テトラデカ(テトラメチレン
グリコール)ジアクリレート、テトラデカ(テトラメチ
レングリコール)ジメタクリレート、ペンタデカ(テト
ラメチレングリコール)ジアクリレート、ペンタデカ(
テトラメチレングリコール)ジメタクリレート、ヘキサ
デカ(テトラメチレングリコール)ジアクリレート、ヘ
キサデカ(テトラメチレングリコール)ジメタクリレー
ト、ヘプタデカ(テトラメチレングリコール]ジアク′
リレート、ヘプタデカ(テトラメチレングリコールンジ
メタクリレート、オクタデカ(テトラメチレングリコー
ル)ジアクリレート、ノナデカ(テトラメチレングリコ
ール)ジアクリレート、エイコサ(テトラメチレングリ
コール)ジアクリレート等およびこれらの2種又はそれ
以上の混合物を挙げることができる。特に好ましい具体
例としてはポリ(テトラメチレングリコール)ジアクリ
レートおよびポリ(テトラメチレングリコール)ジアク
リレートおよびポリ(テトラメチレングリコール)ジメ
タクリレートで、それぞれご般式IKおけるnとして3
〜4cOの化合物を含む混合物であシ、平均値としての
nがlI−〜30を示すものである。
これらは例えば日本ポリウレタン工業株式会社よシ市販
されている゛ポリテトラメチレングリコールエーテルP
TG−100、PTG−コO0、PTG−JOOlPT
G−4!oO,PTG−t。
されている゛ポリテトラメチレングリコールエーテルP
TG−100、PTG−コO0、PTG−JOOlPT
G−4!oO,PTG−t。
Oから公知の方法で誘導される。
本発明の一般式■の化合物は単独で用いてもよいが、さ
らに種々の目的で他の1種以上の多官能モノマー又はエ
チレン不飽和二重結合を分子内に1個含有する付加重合
性不飽和化合物(単官能モノマー)と混合して用いるこ
ともできる。該多官能モノマーの具体例としては、エチ
レングリコールジアクリレート、エチレングリコールジ
メタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート
、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、トリエチレングリコール
メタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレ
ート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ペ
ンタエチレングリコールジアクリレート、ば/タエチレ
ングリコールソメタクリレート、ヘキサエチレングリコ
ールジアクリレート、ヘキサエチレングリコールジメタ
クリレート、ヘプタエチレングリコールジアクリレート
、ヘプタエチレングリコールジメタクリレート、オクタ
エチレングリコールジアクリレート、オクタエチレング
リコールジメタクリレート、ノナエチレングリコールジ
アクリレート、ノナエチレングリコールジメタクリレー
ト、デカエチレングリコールジ1クリレート、テトエチ
レングリコールジアクリレート、ウンデカエチレングリ
コールジアクリレート、ウンデカエチレングリコールジ
メタクリレート、ドデカエチレングリコールジアクリレ
ート、ドデカエチレングリコールジメタクリレート、ト
リデカエチレングリコールジアクリレート、テトラデカ
エチレングリコールジアクリレート、テトラデカエチレ
ングリコールジメタクリレート、平均分子量がλQO1
≠00又は600のポリエチレングリコールのジアクリ
レート、平均分子量が−00,弘00.又は100のポ
リエチレングリコールのジメタクリレート、ジプロピレ
ングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコール
ジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリ
レート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、
平均分子量が4cOOのポリプロピレングリコニルのジ
アクリレート、又はジアクリレートステルJ−ブチレン
グリコールジアクリレート、l、3−ブチレングリコー
ルジメタクリレート、’l≠lブーレングリコールジア
クリレート、/、≠−ブチレングリコールジメタクリレ
ート、/、6−ヘキサンゲリコールジアクリレー)、/
、j−ヘキサングリコールジメタクリレート、ネオはン
チルグリ、コールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジメタクリレート、λ、λ′ ビス(弘−アクリ
ロキシプロポキシフェニル)フロノセン、コ、λ′ ビ
ス(弘−メタクリロキシプロポキシフェニル)プロノン
、2.λ′−ビス(≠−アクリロキシエトキシフェニル
ンプロノン、J、J’ −ビス(≠−メタクリロキシエ
トキシフェニル)フロパン、2.2′−ビス(弘−アク
リロキシジェトキシフェニル)プロ/ξン、λ。
らに種々の目的で他の1種以上の多官能モノマー又はエ
チレン不飽和二重結合を分子内に1個含有する付加重合
性不飽和化合物(単官能モノマー)と混合して用いるこ
ともできる。該多官能モノマーの具体例としては、エチ
レングリコールジアクリレート、エチレングリコールジ
メタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート
、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、トリエチレングリコール
メタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレ
ート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ペ
ンタエチレングリコールジアクリレート、ば/タエチレ
ングリコールソメタクリレート、ヘキサエチレングリコ
ールジアクリレート、ヘキサエチレングリコールジメタ
クリレート、ヘプタエチレングリコールジアクリレート
、ヘプタエチレングリコールジメタクリレート、オクタ
エチレングリコールジアクリレート、オクタエチレング
リコールジメタクリレート、ノナエチレングリコールジ
アクリレート、ノナエチレングリコールジメタクリレー
ト、デカエチレングリコールジ1クリレート、テトエチ
レングリコールジアクリレート、ウンデカエチレングリ
コールジアクリレート、ウンデカエチレングリコールジ
メタクリレート、ドデカエチレングリコールジアクリレ
ート、ドデカエチレングリコールジメタクリレート、ト
リデカエチレングリコールジアクリレート、テトラデカ
エチレングリコールジアクリレート、テトラデカエチレ
ングリコールジメタクリレート、平均分子量がλQO1
≠00又は600のポリエチレングリコールのジアクリ
レート、平均分子量が−00,弘00.又は100のポ
リエチレングリコールのジメタクリレート、ジプロピレ
ングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコール
ジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリ
レート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、
平均分子量が4cOOのポリプロピレングリコニルのジ
アクリレート、又はジアクリレートステルJ−ブチレン
グリコールジアクリレート、l、3−ブチレングリコー
ルジメタクリレート、’l≠lブーレングリコールジア
クリレート、/、≠−ブチレングリコールジメタクリレ
ート、/、6−ヘキサンゲリコールジアクリレー)、/
、j−ヘキサングリコールジメタクリレート、ネオはン
チルグリ、コールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジメタクリレート、λ、λ′ ビス(弘−アクリ
ロキシプロポキシフェニル)フロノセン、コ、λ′ ビ
ス(弘−メタクリロキシプロポキシフェニル)プロノン
、2.λ′−ビス(≠−アクリロキシエトキシフェニル
ンプロノン、J、J’ −ビス(≠−メタクリロキシエ
トキシフェニル)フロパン、2.2′−ビス(弘−アク
リロキシジェトキシフェニル)プロ/ξン、λ。
λ′−ヒス(4t−メタクリロキシジェトキシフェニル
)プロ/ξン、λ、λ′−ヒス(≠−アクリロキシトリ
エトキシフェニル)プロノξン、コ、コl−ビス(弘−
メタクリロキシトリエトキシフェニル]プロパン、2.
コ′−ビス(弘−アクリロキシジプロポキシフェニル]
プロパン、コ、2′−ビス(弘−メタクリロキシジプロ
ポキシフェニル)プロノ々ン、λ、−′−ビス(p−ア
クリロキシトリプロポキシフェール)プロパン、J、J
’−ビス(+−メタクリロキシトリプロポキシフェニル
)フロノqン、トリメチロールプロパンジアクリレート
、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ジアクリ
ロキシジエトキシフェニルスルホン、ステアリン酸のペ
ンタエリスリトールモノエステルトリオールのジアクリ
レート、無水マレイン酸とエチレングリコールからのオ
リゴエステルジオールのジアクリレート、無水フタル酸
とエチレングリコールからのオリゴエステルジオールの
ジアクリレート、ジ(2−メタクリロキシエチル)−一
。
)プロ/ξン、λ、λ′−ヒス(≠−アクリロキシトリ
エトキシフェニル)プロノξン、コ、コl−ビス(弘−
メタクリロキシトリエトキシフェニル]プロパン、2.
コ′−ビス(弘−アクリロキシジプロポキシフェニル]
プロパン、コ、2′−ビス(弘−メタクリロキシジプロ
ポキシフェニル)プロノ々ン、λ、−′−ビス(p−ア
クリロキシトリプロポキシフェール)プロパン、J、J
’−ビス(+−メタクリロキシトリプロポキシフェニル
)フロノqン、トリメチロールプロパンジアクリレート
、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ジアクリ
ロキシジエトキシフェニルスルホン、ステアリン酸のペ
ンタエリスリトールモノエステルトリオールのジアクリ
レート、無水マレイン酸とエチレングリコールからのオ
リゴエステルジオールのジアクリレート、無水フタル酸
とエチレングリコールからのオリゴエステルジオールの
ジアクリレート、ジ(2−メタクリロキシエチル)−一
。
≠−トリレンジウレタン、ジー(λ−アクリロキシエテ
ル]ヘキサメチレンジウレタン、又はポリオールとジイ
ソシアネートとを予め反応させて得られる末端イソ7ア
ネート化合物)に更にβ−ヒドロキシアルキルアクリレ
ートを反応せしめることで得られるアクリルウレタンオ
リゴマー、トリメチロールプロパントリアクリレート、
トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、はンタエリスリトール
トリメタクリレート、トリメチロールエタントリアクリ
レート、トリメチロールエタントリメタクリレート、/
、J、j−)す(アクリロキシエチル)トリアジントリ
オン、はンタエリスリトールテトラアクリレート、ジは
ンタエリスリトールベンタアクリレート、ジはンタエリ
スリトールへキサアクリレートグリセリンへのプロピレ
ンオキシド付加物のトリアクリレート、トリメチロール
プロパンへのプロピレンオキシド付加物のトリアクリレ
ートを挙げることができる。
ル]ヘキサメチレンジウレタン、又はポリオールとジイ
ソシアネートとを予め反応させて得られる末端イソ7ア
ネート化合物)に更にβ−ヒドロキシアルキルアクリレ
ートを反応せしめることで得られるアクリルウレタンオ
リゴマー、トリメチロールプロパントリアクリレート、
トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、はンタエリスリトール
トリメタクリレート、トリメチロールエタントリアクリ
レート、トリメチロールエタントリメタクリレート、/
、J、j−)す(アクリロキシエチル)トリアジントリ
オン、はンタエリスリトールテトラアクリレート、ジは
ンタエリスリトールベンタアクリレート、ジはンタエリ
スリトールへキサアクリレートグリセリンへのプロピレ
ンオキシド付加物のトリアクリレート、トリメチロール
プロパンへのプロピレンオキシド付加物のトリアクリレ
ートを挙げることができる。
該単官能モノマーの具体例としては、テトラエチレング
リコールモノフェニルエーテルアクリレート、テトラエ
チレングリコールモノp−ノニルフェニルエーテルアク
リレート、テトラプロピレングリコールモノp−ノニル
フェニルエーテルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−
フェノキシプロピルアクリレート、フタル酸モノアクリ
ロキシエチルエステル、コハク酸モノアクリロキシエチ
ルエステルを挙げることができる。。
リコールモノフェニルエーテルアクリレート、テトラエ
チレングリコールモノp−ノニルフェニルエーテルアク
リレート、テトラプロピレングリコールモノp−ノニル
フェニルエーテルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−
フェノキシプロピルアクリレート、フタル酸モノアクリ
ロキシエチルエステル、コハク酸モノアクリロキシエチ
ルエステルを挙げることができる。。
本発明に用φられる光重合開始剤としては、公知の光重
合開始剤やそれらの2種以上の混合物の系で、有機溶剤
、又は水に可溶なものであれば何でもよい。
合開始剤やそれらの2種以上の混合物の系で、有機溶剤
、又は水に可溶なものであれば何でもよい。
本発明の光重合性組成物において用いられる好適な光重
合開始剤又は光重合開始剤を組み合せた光重合開始剤系
の例として、次の一般式(Ila)〜(iIe)の化合
物およびこれらのコ種以上の組合せを挙げることができ
る。
合開始剤又は光重合開始剤を組み合せた光重合開始剤系
の例として、次の一般式(Ila)〜(iIe)の化合
物およびこれらのコ種以上の組合せを挙げることができ
る。
一般式(lla)
ここで、Xi、X2は同じか異なってもよく、水素原子
、炭素数7〜6個のアルキル基、炭素数7〜6個のアル
コキシカルボキシ基、炭素数l〜を個のアルコキシカル
ボキシ基、炭素数7〜6個のアルキルジ置換アミノ基又
はハロゲン原子を表わす。Ylは単結合又は−c−6表
わす。
、炭素数7〜6個のアルキル基、炭素数7〜6個のアル
コキシカルボキシ基、炭素数l〜を個のアルコキシカル
ボキシ基、炭素数7〜6個のアルキルジ置換アミノ基又
はハロゲン原子を表わす。Ylは単結合又は−c−6表
わす。
R2
R1は水素原子又は0R2t−1R”は水素原子又は炭
素数/−j個のアルキル基を表わす。
素数/−j個のアルキル基を表わす。
一般式(nb)
ここでX 〜X は同じか異なってよく、水素原子、炭
素数l−6個のアルキル基、炭素数/〜を個のアルコキ
シ基、カルボキシ基、炭素数/〜を個のアルコキシカル
ボニル基、炭素数6〜12のアリールオキシカルボニル
基又はハロゲン原子を表わす。
素数l−6個のアルキル基、炭素数/〜を個のアルコキ
シ基、カルボキシ基、炭素数/〜を個のアルコキシカル
ボニル基、炭素数6〜12のアリールオキシカルボニル
基又はハロゲン原子を表わす。
Y2は単結合、酸素原子、硫黄原子、炭素数l〜を個の
アルキル基で置換されてもよいアミノ基又はカルボニル
基を表わす。
アルキル基で置換されてもよいアミノ基又はカルボニル
基を表わす。
一般式(Ilc)
R3は炭素数l−を個のアルキル又はアルコキシ基、シ
アノ基、ハロゲン原子、メチレンジオキシ基で核置換さ
れてもよいフェニル基、ナフチル基、スチリル基、スチ
リルフェニル基を表わす。
アノ基、ハロゲン原子、メチレンジオキシ基で核置換さ
れてもよいフェニル基、ナフチル基、スチリル基、スチ
リルフェニル基を表わす。
Zlはハロゲン原子を表わす。
一般式(nd)
R4およびz2は一般式(Inc)のR3およびZlと
それぞれ同一の基又は原子管表わす。
それぞれ同一の基又は原子管表わす。
一般式(u e ) R’ 5O2CZ3R’は炭
素数/〜を個のアルキル、又はアルコキシ基、ハロゲン
原子、シアノ基で置換されてもよいフェニル基又はナフ
チル基を表わす。Z3はハロゲン原子を表わす。
素数/〜を個のアルキル、又はアルコキシ基、ハロゲン
原子、シアノ基で置換されてもよいフェニル基又はナフ
チル基を表わす。Z3はハロゲン原子を表わす。
本発明における光重合開始剤または光重合開始剤系の例
として以下に示す。一般式(na)の化合物の具体例と
して、ベンゾフェノン、参−クロルベンゾフェノン、コ
、タージクロルベンゾフェノン、コーエトキシカルボニ
ルベンゾフエノン、ペンゾフエノンーコーカルボン酸、
≠−メチルベンゾフェノン、p、l−ジメトキシベンゾ
フェノン、≠、参′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフ
ェノン、≠、参′−ビス(ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、参−ジメチルアミノベンゾフェノン、≠−ジメチル
アミノアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベン
ゾイン7エ二ルエーテル、ベンジルジメチルケタール、
J、!’−ジメトキシベンゾイン、を挙げることができ
る。
として以下に示す。一般式(na)の化合物の具体例と
して、ベンゾフェノン、参−クロルベンゾフェノン、コ
、タージクロルベンゾフェノン、コーエトキシカルボニ
ルベンゾフエノン、ペンゾフエノンーコーカルボン酸、
≠−メチルベンゾフェノン、p、l−ジメトキシベンゾ
フェノン、≠、参′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフ
ェノン、≠、参′−ビス(ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、参−ジメチルアミノベンゾフェノン、≠−ジメチル
アミノアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベン
ゾイン7エ二ルエーテル、ベンジルジメチルケタール、
J、!’−ジメトキシベンゾイン、を挙げることができ
る。
また一般式(nbJの化合物の具体例として、フルオレ
ノン、キサントン、チオキサントン、コークロルチオキ
サントン、コ、4I−ジクロルチオキサントン、コーイ
ノプロビルチオキサントン、コ、4C−ジメチルチオキ
サントン、!、4’−ジエチルチオキサントン、J、4
C−ジイソプロピルチオキサントン、コーメチルーを一
エトキシカルボニルチオキサントン、アントラキノン、
λ−1crt−ブチルアントラキノン、−一メチルアン
トラキノン、λ−クロルアントラキノン、アクリドン、
N−エチルアクリドンを挙げることができる。
ノン、キサントン、チオキサントン、コークロルチオキ
サントン、コ、4I−ジクロルチオキサントン、コーイ
ノプロビルチオキサントン、コ、4C−ジメチルチオキ
サントン、!、4’−ジエチルチオキサントン、J、4
C−ジイソプロピルチオキサントン、コーメチルーを一
エトキシカルボニルチオキサントン、アントラキノン、
λ−1crt−ブチルアントラキノン、−一メチルアン
トラキノン、λ−クロルアントラキノン、アクリドン、
N−エチルアクリドンを挙げることができる。
ま次一般式(Ilc)の化合物の具体例としては、−2
−トリクロロメチル−!−フェニルーl、3゜≠−オキ
サジアゾール、コートリクロロメチルー!−(弘−クロ
ロフェニル)−/、J、弘−オキサジアゾール、λ−ト
リクロロメチルーよ−(l−す7チル)−i、3,4c
mオキサジアゾール、λ−トリクロロメチルーよ−(2
−す7チル)−/ 、j 、4C−オキサジアゾール、
λ−トリブロモメチルーよ一フェニルー/、J、Ifi
−オキサジアゾール、λ−トリブロモメチルーj−(λ
−ナフチル) −/ 、 J 、弘−オキサジアゾール
、λ−トリクロロメチルー!−スチリル−1,3,≠−
オキサジアゾール、コートリクロロメチル−!−(弘−
クロルスチリル)−i、3.a−オキサジアゾール、J
−)ジクロロメチル−!−(≠−メトキシスチリル)−
/、!、4I−オキサジアゾール%” )ジクロロメ
チルーj−(/−ナフチル)−/、J、≠−オキサジア
ゾール、λ−トリクロロメチルーj −(u −n−7
’トキシスチリル)−/、J、1fi−オキサジアゾー
ル、λ−トリブロモメチルー!−スチリル−1,3,≠
−オキサジアゾール、が挙げらnる。
−トリクロロメチル−!−フェニルーl、3゜≠−オキ
サジアゾール、コートリクロロメチルー!−(弘−クロ
ロフェニル)−/、J、弘−オキサジアゾール、λ−ト
リクロロメチルーよ−(l−す7チル)−i、3,4c
mオキサジアゾール、λ−トリクロロメチルーよ−(2
−す7チル)−/ 、j 、4C−オキサジアゾール、
λ−トリブロモメチルーよ一フェニルー/、J、Ifi
−オキサジアゾール、λ−トリブロモメチルーj−(λ
−ナフチル) −/ 、 J 、弘−オキサジアゾール
、λ−トリクロロメチルー!−スチリル−1,3,≠−
オキサジアゾール、コートリクロロメチル−!−(弘−
クロルスチリル)−i、3.a−オキサジアゾール、J
−)ジクロロメチル−!−(≠−メトキシスチリル)−
/、!、4I−オキサジアゾール%” )ジクロロメ
チルーj−(/−ナフチル)−/、J、≠−オキサジア
ゾール、λ−トリクロロメチルーj −(u −n−7
’トキシスチリル)−/、J、1fi−オキサジアゾー
ル、λ−トリブロモメチルー!−スチリル−1,3,≠
−オキサジアゾール、が挙げらnる。
ま几一般式(IId)の化合物の具体例としては、λ、
4C,J−トリス(トリクロロメチル)−3−トリアジ
ン、2−フェニル−≠、t−ビス() IJジクロロチ
ル) −S −)リアジン、コー(4’−メトキシフェ
ニル]−μ、ぶ−ビス() 17 /ロロメf k )
−s −) IJ 7 )ン、λ−(≠−クロロ7エ
二ル)−≠、6−ビス(トリブロモメチルツー3−トリ
アジン、29μmビス(トリクロロメチル)−4−(4
C−メトキシスチリル)−i、3.≠−5−)リアジン
を挙げることができる。
4C,J−トリス(トリクロロメチル)−3−トリアジ
ン、2−フェニル−≠、t−ビス() IJジクロロチ
ル) −S −)リアジン、コー(4’−メトキシフェ
ニル]−μ、ぶ−ビス() 17 /ロロメf k )
−s −) IJ 7 )ン、λ−(≠−クロロ7エ
二ル)−≠、6−ビス(トリブロモメチルツー3−トリ
アジン、29μmビス(トリクロロメチル)−4−(4
C−メトキシスチリル)−i、3.≠−5−)リアジン
を挙げることができる。
また一般式(IIe)の化合物の具体例は、フェニルト
リブロモメチルスルホン、p−ニトロ7二二ルトリブロ
モメチルスルホン、p−クロルフェニルトリブロモメチ
ルスルホンが挙げられる。
リブロモメチルスルホン、p−ニトロ7二二ルトリブロ
モメチルスルホン、p−クロルフェニルトリブロモメチ
ルスルホンが挙げられる。
本発明による光重合性組成物は、前記の如き、光重合開
始剤又は光重合開始剤系と新規な多官能モノマーを必須
成分とするが、必要に応じて、高分子結合剤、熱重合防
止剤、可塑剤、色素、変色剤、さらに陽極酸化アルミニ
ウム、銅などの表面への密着促進剤およびその他の助剤
類を併用してもよく、これによって目的とする平版印刷
版、樹脂凸版、フォトレジスト、フォトマスク等を広汎
に調整しうる。
始剤又は光重合開始剤系と新規な多官能モノマーを必須
成分とするが、必要に応じて、高分子結合剤、熱重合防
止剤、可塑剤、色素、変色剤、さらに陽極酸化アルミニ
ウム、銅などの表面への密着促進剤およびその他の助剤
類を併用してもよく、これによって目的とする平版印刷
版、樹脂凸版、フォトレジスト、フォトマスク等を広汎
に調整しうる。
上記高分子結合剤は、印刷適性やレジスト物性の向上を
目的として使用されるものであり、例えば、飽和又は不
飽和の変性又は非変性のアルキドないしはポリエステル
樹脂、ビニル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、キシ
レン樹脂、芳香族スルホンアミドホルムアルデヒド樹脂
、ケトン樹脂、石油樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メ
ラミン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、セルローズ、
又はセルローズ誘導体などの天然樹脂を挙げることがで
きる。特に好ましい例としてはアルコール可溶性ナイロ
ン、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(メチルメタ
クリレートーゴーメタクリル酸)、ポリ(ペンジルメタ
クリレートーゴーメタクリル酸−ゴーアクリル酸)等が
挙げられる。
目的として使用されるものであり、例えば、飽和又は不
飽和の変性又は非変性のアルキドないしはポリエステル
樹脂、ビニル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、キシ
レン樹脂、芳香族スルホンアミドホルムアルデヒド樹脂
、ケトン樹脂、石油樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メ
ラミン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、セルローズ、
又はセルローズ誘導体などの天然樹脂を挙げることがで
きる。特に好ましい例としてはアルコール可溶性ナイロ
ン、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(メチルメタ
クリレートーゴーメタクリル酸)、ポリ(ペンジルメタ
クリレートーゴーメタクリル酸−ゴーアクリル酸)等が
挙げられる。
熱重合防止剤は、本発明の光重合性組成物の熱的な重合
又は経時的な重合を防止するために添加するもので、例
えば、p−メトキシフェノール、ヒドロキノン、t−i
チルカテコール、ピロガロール、2−ヒドロキシベンゾ
フェノン、弘−メトキシーゴーヒドロキシベンゾフエノ
ン、塩化第1銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチ
ルアミン、β−ナフトール、2.6−ジーt−ブチル−
p−ルゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ピ
クリン酸、p−トルイジン等が挙げられる。
又は経時的な重合を防止するために添加するもので、例
えば、p−メトキシフェノール、ヒドロキノン、t−i
チルカテコール、ピロガロール、2−ヒドロキシベンゾ
フェノン、弘−メトキシーゴーヒドロキシベンゾフエノ
ン、塩化第1銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチ
ルアミン、β−ナフトール、2.6−ジーt−ブチル−
p−ルゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ピ
クリン酸、p−トルイジン等が挙げられる。
可塑剤は、膜物性をコントロールするために添加するも
ので、例えば、ジブチル7タレート、ジアリルフタレー
ト、ジオクチル7タレート、ジアリルフタレート等の7
タル酸エステル類;トリエチレングリコールジアヤテー
ト、テトラエチレングリコールジアセテート等のグリコ
ールエステル[: ) +7タレジルホスフエート、ト
リフェニルホスフェート等のリン酸エステル類; p
)ルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、
N−n−ブチルアセトアミド等のアミド類;ジイソブチ
ルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセパケ
ート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等の脂
肪族二塩基酸エステル類;クエン酸トリエチル、クエン
酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウ
リン酸ブチル、参。
ので、例えば、ジブチル7タレート、ジアリルフタレー
ト、ジオクチル7タレート、ジアリルフタレート等の7
タル酸エステル類;トリエチレングリコールジアヤテー
ト、テトラエチレングリコールジアセテート等のグリコ
ールエステル[: ) +7タレジルホスフエート、ト
リフェニルホスフェート等のリン酸エステル類; p
)ルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、
N−n−ブチルアセトアミド等のアミド類;ジイソブチ
ルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセパケ
ート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等の脂
肪族二塩基酸エステル類;クエン酸トリエチル、クエン
酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウ
リン酸ブチル、参。
!−ジェポキシシクロヘキサン−7,ゴージカルボン酸
ジオクチル等が挙げられる。
ジオクチル等が挙げられる。
色素の例は、ブリリアントグリーン、エオシン、エチル
バイオレット、エリスロシンB1メチルグリーン、クリ
スタルバイオレット、ペイシックツクシン、フェノール
フタレイン、l、3−ジフェニルトリアジン、アリザリ
ンレッドS、チモールフタレイン、メチルバイオレット
2B、キナルジンレット、ローズベンカル、メタニル−
イエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブ
ルー、メチルオレンジ、オレンジ■、ジフェニルチオカ
ルバゾン、2.7−ジクロロフルオレセイン、パラメチ
ルレッド、フンゴーレッド、ベンゾブルーリン4CB、
α−す7チルーレツド、ベンゾプルプリン参B1α−ナ
フチルレッド、ナイルブルーA17エナセタリン、メチ
ルバイオレット、マラカイトグリーン、ノ叱うフクシン
、オイルブルー#tO3〔オリエント化学工業■製〕、
ローダミンB。
バイオレット、エリスロシンB1メチルグリーン、クリ
スタルバイオレット、ペイシックツクシン、フェノール
フタレイン、l、3−ジフェニルトリアジン、アリザリ
ンレッドS、チモールフタレイン、メチルバイオレット
2B、キナルジンレット、ローズベンカル、メタニル−
イエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブ
ルー、メチルオレンジ、オレンジ■、ジフェニルチオカ
ルバゾン、2.7−ジクロロフルオレセイン、パラメチ
ルレッド、フンゴーレッド、ベンゾブルーリン4CB、
α−す7チルーレツド、ベンゾプルプリン参B1α−ナ
フチルレッド、ナイルブルーA17エナセタリン、メチ
ルバイオレット、マラカイトグリーン、ノ叱うフクシン
、オイルブルー#tO3〔オリエント化学工業■製〕、
ローダミンB。
ローダミン6Gなどである。
変色剤は、露光により可視像を与えることができるよう
に光重合組成物中に添加される。これらの具体例として
、前記色素の他にジフェニルアミン、シヘンジルアニリ
ン%)Uフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェニ
ル−p−フェニレンジアミン、p )ルイジン、≠、φ
′−ビフェニルジアミン、O−クロロアニリン、pI
1)’ * p”−ヘキサメチルトリアミノトリフェ
ニルメタン、pI I)’ −テトラメチルジアミノト
リフェニルメタン、p、p’、p“−トリアミノトリフ
ェニルカルビノール、等が挙げられる。
に光重合組成物中に添加される。これらの具体例として
、前記色素の他にジフェニルアミン、シヘンジルアニリ
ン%)Uフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェニ
ル−p−フェニレンジアミン、p )ルイジン、≠、φ
′−ビフェニルジアミン、O−クロロアニリン、pI
1)’ * p”−ヘキサメチルトリアミノトリフェ
ニルメタン、pI I)’ −テトラメチルジアミノト
リフェニルメタン、p、p’、p“−トリアミノトリフ
ェニルカルビノール、等が挙げられる。
密着促進剤の具体例は、ベンズイミダゾール、ベンズチ
アゾール、ベンズオキサゾール、ベンメト1ルアゾール
など特公昭jO−タ/77号に記載の化合物、λ−メル
カブトベ/ズテアゾール、λ−メルカプトベンズイミダ
ゾールなど特開昭33−70λ号に記載の化合物である
。
アゾール、ベンズオキサゾール、ベンメト1ルアゾール
など特公昭jO−タ/77号に記載の化合物、λ−メル
カブトベ/ズテアゾール、λ−メルカプトベンズイミダ
ゾールなど特開昭33−70λ号に記載の化合物である
。
本発明の光重合性組成物の各構成成分の好ましい比率と
特に好ましい比率を本発明の一般式■の多官能モノマー
100重量部に対する重量部で表わす。
特に好ましい比率を本発明の一般式■の多官能モノマー
100重量部に対する重量部で表わす。
光重合開始剤又は 0./−/θ0 (/〜to
)光重合開始剤系 高分子結合剤 o−1oooo (o〜i o
o o )熱重合防止剤 0−10(0−一〇
)可塑剤 0−1000 (0−10
0)色素 0−100 (0−40)変色剤
0−100 (0−!tO)一般式■以
外(D o−1ooo ((7−100J多官
能モノマー 単官能モノ−r −0−1000(0−100)密着促
進剤 o−jo(o−一〇 )本発明の光重合
性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中に溶解せしめ、
所望の支持体上に公知の方法により塗布して用いられる
。その場合に使用される溶媒としてはエチレンジクロリ
ド、モノクロルベンゼン、シクロヘキサノン、メチルエ
チルケトン、アセトン、酢酸メチルセロソルブ、酢酸エ
チル、酢酸メチル、メチルセロソルブ、トルエン、Φシ
レンなどの単独、又は混合物である。
)光重合開始剤系 高分子結合剤 o−1oooo (o〜i o
o o )熱重合防止剤 0−10(0−一〇
)可塑剤 0−1000 (0−10
0)色素 0−100 (0−40)変色剤
0−100 (0−!tO)一般式■以
外(D o−1ooo ((7−100J多官
能モノマー 単官能モノ−r −0−1000(0−100)密着促
進剤 o−jo(o−一〇 )本発明の光重合
性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中に溶解せしめ、
所望の支持体上に公知の方法により塗布して用いられる
。その場合に使用される溶媒としてはエチレンジクロリ
ド、モノクロルベンゼン、シクロヘキサノン、メチルエ
チルケトン、アセトン、酢酸メチルセロソルブ、酢酸エ
チル、酢酸メチル、メチルセロソルブ、トルエン、Φシ
レンなどの単独、又は混合物である。
本発明の光重合性組成物は、ドライフィルムレジストの
フォトレジスト層として好適である。その場合、フォト
レジスト層の厚みとしてはQ、lμから200μが適当
であり、特に好ましくはlμから200μの範囲である
。また本発明の光重合性組成物を用いて感光性平版印刷
版を製造する場合、塗布量は一般的に乾燥時0./−1
0,Of / m ”が適当であ!l特に好ましくはO
0!〜!。
フォトレジスト層として好適である。その場合、フォト
レジスト層の厚みとしてはQ、lμから200μが適当
であり、特に好ましくはlμから200μの範囲である
。また本発明の光重合性組成物を用いて感光性平版印刷
版を製造する場合、塗布量は一般的に乾燥時0./−1
0,Of / m ”が適当であ!l特に好ましくはO
0!〜!。
Of/m である。
本発明の光重合性組成物をドライフィルムレジストとし
て使用する場合、好適な支持体としてポリアミド、ポリ
オレフィン、ポリエステル、ビニル重合体およびセルロ
ースエステルなどのフィルムから選ばれ3μから100
μの厚みを持つものがよい。特に好適な支持体フィルム
は約2!μの厚さを持つ透明なポリエチレンテレフタレ
ートフィルムである。又この場合好適な保護フィルムと
してはポリオレフィンが挙げられ、特に好ましいものと
して20−Jよμの厚さのポリエチレンフィルムを挙げ
ることができる。
て使用する場合、好適な支持体としてポリアミド、ポリ
オレフィン、ポリエステル、ビニル重合体およびセルロ
ースエステルなどのフィルムから選ばれ3μから100
μの厚みを持つものがよい。特に好適な支持体フィルム
は約2!μの厚さを持つ透明なポリエチレンテレフタレ
ートフィルムである。又この場合好適な保護フィルムと
してはポリオレフィンが挙げられ、特に好ましいものと
して20−Jよμの厚さのポリエチレンフィルムを挙げ
ることができる。
また本発明の光重合性組成物をフォトマスク用フィルム
の製造に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニ
ウム、アルミニウム合金やクロムを蒸着゛させたポリエ
チレンテレフタレートフィルムや着色層を設は次ポリエ
チレンテレフタレートフィルムを挙げることができる。
の製造に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニ
ウム、アルミニウム合金やクロムを蒸着゛させたポリエ
チレンテレフタレートフィルムや着色層を設は次ポリエ
チレンテレフタレートフィルムを挙げることができる。
また本発明の光重合性組成物を感光性平版印刷版の感光
層として使用する場合の好適な支持体としては、親水化
処理したアルミニウム板、たとえばシリケート処理し次
アルミニウム板、陽極酸化し次アルミニウム板、砂目立
てし次アルミニウム板、シリケート電着し次アルミニウ
ム板があ夛、それ以外にも、亜鉛板、ステンレス板、ク
ローム処理銅板、親水化処理したプラスチックフィルム
や紙を挙げることができる。
層として使用する場合の好適な支持体としては、親水化
処理したアルミニウム板、たとえばシリケート処理し次
アルミニウム板、陽極酸化し次アルミニウム板、砂目立
てし次アルミニウム板、シリケート電着し次アルミニウ
ム板があ夛、それ以外にも、亜鉛板、ステンレス板、ク
ローム処理銅板、親水化処理したプラスチックフィルム
や紙を挙げることができる。
te印刷用カラープルーフ、オーバーヘッドプロジェク
タ−用フィルム、第2原図用フィルムの製造に、本発明
の光重合性組成物を用いる場合、これらに適する支持体
としてはポリエチレンテレフタレートフィルム、三酢酸
セルローズフィルム等の透明フィルムや、これらのプラ
スチックフィルムの表面を化学的又は物理的にマット化
したものを挙げることができる。
タ−用フィルム、第2原図用フィルムの製造に、本発明
の光重合性組成物を用いる場合、これらに適する支持体
としてはポリエチレンテレフタレートフィルム、三酢酸
セルローズフィルム等の透明フィルムや、これらのプラ
スチックフィルムの表面を化学的又は物理的にマット化
したものを挙げることができる。
本発明の光重合性組成物は、使用する結合剤により有機
溶剤や弱アルカリ水溶液によって現像できる。また水と
混和性の有機溶剤を少量(約20重量%以下ン含んだ弱
アルカリ水溶液も使用可能である。
溶剤や弱アルカリ水溶液によって現像できる。また水と
混和性の有機溶剤を少量(約20重量%以下ン含んだ弱
アルカリ水溶液も使用可能である。
現像に用いられる有機溶剤としては/、/、/−トIJ
/ロロエタン、l、コージクロルエタン、テトラクロ
ルエチレン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、工チレングリコールモノブ
チルエーテル等から選ばれるが/、/、/−)リクロロ
エタンが特に好ましい。添加する適当な塩基としてはア
ルカリ金属又ハアンモニウム、仏縁アンモニウムの水l
化物炭酸塩、重炭酸塩、ケイ酸塩、リン酸塩、ピH17
ン酸塩、酢酸塩及びアミン類から選ばれる。それらの具
体的な例としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、トリメチルベ
ンジルアンモニウムヒドロキシド、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、
ケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム
、ピロリン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、ジェタノー
ルアミン、トリエタノールアミンが挙げらnる。特に炭
酸ナトリウムのl−コチ水溶液が好ましい。
/ロロエタン、l、コージクロルエタン、テトラクロ
ルエチレン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、工チレングリコールモノブ
チルエーテル等から選ばれるが/、/、/−)リクロロ
エタンが特に好ましい。添加する適当な塩基としてはア
ルカリ金属又ハアンモニウム、仏縁アンモニウムの水l
化物炭酸塩、重炭酸塩、ケイ酸塩、リン酸塩、ピH17
ン酸塩、酢酸塩及びアミン類から選ばれる。それらの具
体的な例としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、トリメチルベ
ンジルアンモニウムヒドロキシド、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、
ケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム
、ピロリン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、ジェタノー
ルアミン、トリエタノールアミンが挙げらnる。特に炭
酸ナトリウムのl−コチ水溶液が好ましい。
本発明の光重合性組成物が耐アルカリ性に富み、軟質で
脆くなめ光硬化物を与えることは驚くべきことである。
脆くなめ光硬化物を与えることは驚くべきことである。
ま九フィルム形成時の可撓性および基体との密着性に優
れ容易なレジスト剥展性を有し、しかも原稿画像の忠実
な再現性および高−解偉力を与えることは驚くべきこと
である。結果として、高精度で基体の加工が可能となる
。
れ容易なレジスト剥展性を有し、しかも原稿画像の忠実
な再現性および高−解偉力を与えることは驚くべきこと
である。結果として、高精度で基体の加工が可能となる
。
さらに本発明の光重合性組成物を感光性ドライフィルム
レジスト材料に用いたときには耐コールドフロー性が優
れていて、表面の粘着性の低いフォトレジスト表面を与
える。″1九基体への密着性が優れているため通常の塩
化第二鉄水溶液、過流酸アンモニウム水溶液等のエツチ
ング液に対してもまたハンダメッキ、ピロリン酸鋼メッ
キ、硫酸鋼メッキやその他の通常のメッキ処理中におい
ても十分なレジスト性を有している。
レジスト材料に用いたときには耐コールドフロー性が優
れていて、表面の粘着性の低いフォトレジスト表面を与
える。″1九基体への密着性が優れているため通常の塩
化第二鉄水溶液、過流酸アンモニウム水溶液等のエツチ
ング液に対してもまたハンダメッキ、ピロリン酸鋼メッ
キ、硫酸鋼メッキやその他の通常のメッキ処理中におい
ても十分なレジスト性を有している。
「実施例」
合成例1
トルエンjOOd中にポリテトラメチレングリコールエ
ーテルPTG−100(日本ホリウレタン工業株式会社
製、平均分子量110)f/70f(O,コモル]、ア
クリル酸をJlf(0,jλモル]、p−トルエンスル
ホン酸t−jr%p−メトキシフェノールt−0,02
?溶解し、ioo等に加熱し、生成する水を除去しなが
ら2時間放流した。冷却後トルエンおよび未反応のアク
リル酸を除去して目的のジアクリレー)(M−10oと
略称)202ft−得九。
ーテルPTG−100(日本ホリウレタン工業株式会社
製、平均分子量110)f/70f(O,コモル]、ア
クリル酸をJlf(0,jλモル]、p−トルエンスル
ホン酸t−jr%p−メトキシフェノールt−0,02
?溶解し、ioo等に加熱し、生成する水を除去しなが
ら2時間放流した。冷却後トルエンおよび未反応のアク
リル酸を除去して目的のジアクリレー)(M−10oと
略称)202ft−得九。
合成例2〜5
合成例1のPTG−10oの代シにPTG−λoo、P
TG−soo、PTG−ダoo%PTG−200(日本
ポリウレタン工業株式会社製、平均分子量各k / /
、20%/ 2 f O,/ j J O%J1o0
1”r、用いて、同様にしてジアクリレート、(各々M
−200,、M−J 00、M−弘oo、M−200と
略称)を得九。
TG−soo、PTG−ダoo%PTG−200(日本
ポリウレタン工業株式会社製、平均分子量各k / /
、20%/ 2 f O,/ j J O%J1o0
1”r、用いて、同様にしてジアクリレート、(各々M
−200,、M−J 00、M−弘oo、M−200と
略称)を得九。
実施例1〜lOおよび比較例
種々の多官能モノマーを含有し、他成分は同一の下記組
成の感光液をλjμ厚のポリエチレンテレツクレートフ
ィルムにバーコードし、ioo℃のオーブン中で3分間
乾燥することにより、jQμ厚の感光層を持つ感光性フ
ィルムを得た。
成の感光液をλjμ厚のポリエチレンテレツクレートフ
ィルムにバーコードし、ioo℃のオーブン中で3分間
乾燥することにより、jQμ厚の感光層を持つ感光性フ
ィルムを得た。
ベンジルメタクリレート !θモルチ、メタクリル酸3
!モルチ、アクリル 酸/jモルチからのラジカル共重合体 (重量平均分子量りr、ooo) izt多官能モ
ノマー xfλ、≠−ジエチ
ルチオキサン 0.2tP−N、N−ジエチル安
息香酸 エチル o、syフェニル
トリブロモメチルスルホン o、4Ay/−フェニル−
3−モルホリノメチ ル−/、3.μ−トリアゾールー コーチオン 0.02tロイコク
リスタルバイオレツト θ、/fビクトリアピュア
ブルーBOHO,0/fN、N、N’ 、N’ −テ
トラブ チルチウラムジスルフィド 0.000/13−メト
キシ−コープロバノール It、Itメチルエチルケト
ン j、JP36μ厚の銅箔を積層した
100個の2.−tjlllφの大きさのスルーホール
を有するガラスエポキシ樹脂板の銅表面に、前記感光性
フィルムの感光層が接するように、熱ローラーを用いて
積層し友。
!モルチ、アクリル 酸/jモルチからのラジカル共重合体 (重量平均分子量りr、ooo) izt多官能モ
ノマー xfλ、≠−ジエチ
ルチオキサン 0.2tP−N、N−ジエチル安
息香酸 エチル o、syフェニル
トリブロモメチルスルホン o、4Ay/−フェニル−
3−モルホリノメチ ル−/、3.μ−トリアゾールー コーチオン 0.02tロイコク
リスタルバイオレツト θ、/fビクトリアピュア
ブルーBOHO,0/fN、N、N’ 、N’ −テ
トラブ チルチウラムジスルフィド 0.000/13−メト
キシ−コープロバノール It、Itメチルエチルケト
ン j、JP36μ厚の銅箔を積層した
100個の2.−tjlllφの大きさのスルーホール
を有するガラスエポキシ樹脂板の銅表面に、前記感光性
フィルムの感光層が接するように、熱ローラーを用いて
積層し友。
スルーホール部およびその周囲が透明でそれ以外は不透
明な画偉を有する7オトツールを重ね、3klF超高圧
水銀灯(オーク社HMW型)で100mJ/crrL2
の露光を与え友。
明な画偉を有する7オトツールを重ね、3klF超高圧
水銀灯(オーク社HMW型)で100mJ/crrL2
の露光を与え友。
続いて、ポリエステルフィルムを除去後、参00〇″c
/*炭酸ソーダ水溶液をスプレーして未露光部を除去し
た。j00個のスルーホール上のテントが得られた。イ
ンストロン装置を用いてテント上に0 、 jfiφの
針を圧しつけ、テントが破断するまでの応カー歪曲at
測定した。テントの軟らかさt破断伸びで評価した。一
方、同じ感光性フィルム金銅箔積層板にラミネートシ次
ものに/段車シの光学濃度差が0.11のステップウェ
ッジを重ねて前記と同様に露光、現偉し、得られるレジ
ストのIO段目の表面を顕微鏡で観察し、レジストの表
面が白化しているかどうかで耐アルカリ性を評価した。
/*炭酸ソーダ水溶液をスプレーして未露光部を除去し
た。j00個のスルーホール上のテントが得られた。イ
ンストロン装置を用いてテント上に0 、 jfiφの
針を圧しつけ、テントが破断するまでの応カー歪曲at
測定した。テントの軟らかさt破断伸びで評価した。一
方、同じ感光性フィルム金銅箔積層板にラミネートシ次
ものに/段車シの光学濃度差が0.11のステップウェ
ッジを重ねて前記と同様に露光、現偉し、得られるレジ
ストのIO段目の表面を顕微鏡で観察し、レジストの表
面が白化しているかどうかで耐アルカリ性を評価した。
第7表にその結果を示す。
「発明の効果」
第1表よシ明らかなように本発明の多官能モノマーを用
いれば、公知の多官能上ツマ−を用いた場合に比べてテ
ントの破断伸びが大きいのみならず、耐アルカリ性にも
富んでいる。っま9本発明の多官能モノマーは、軟質で
脆くなく、耐アルカリ性に優れている光硬化物を与える
ことが明らかになった。
いれば、公知の多官能上ツマ−を用いた場合に比べてテ
ントの破断伸びが大きいのみならず、耐アルカリ性にも
富んでいる。っま9本発明の多官能モノマーは、軟質で
脆くなく、耐アルカリ性に優れている光硬化物を与える
ことが明らかになった。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書
昭和60年2月に一日
0工あ、ウ 回
1、事件の表示 昭和t0年特願第6117−号
2、発明の名称 光重合性組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人連絡先 〒10
6東京都港区西麻布2丁目26番30号表 補正の対象
明細書の「発明の詳細な説明」の欄 & 補正の内容 明細書を次の通り補正する。
2、発明の名称 光重合性組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人連絡先 〒10
6東京都港区西麻布2丁目26番30号表 補正の対象
明細書の「発明の詳細な説明」の欄 & 補正の内容 明細書を次の通り補正する。
l)λ頁7行目の
「照射する硬化すると」を
「照射すると硬化すると」
と補正する。
コ)コ頁/I〜lり行目の
「ドライフィルムレジスト」を
「ドライフィルムフォトレジスト」
と補正する。
3)3頁コ行目の
rPhotoresit J f
「Photoresist J
と補正する。
4A)3頁!行目の
「ドライフィルムレジスト」を
「ドライフィルムフォトレジスト」
と補正する。
t) r頁7〜r行目の
「トリエチレングリコールメタクリレート」を
「トリエチレングリコールジメタクリレート」
と補正する。
6)コμ頁り〜to行目の
「ドライフィルムレジスト」を
「ドライフィルムフォトレジスト」
と補正する。
7)λμ頁/I−V/P行目の
「ドライフィルムレジスト」を
「ドライフィルムフォトレジスト」
と補正する。
te2を頁7〜r行目の
「過流酸アンモニウム」を
[過硫酸アンモニウム]
と補正する。
り)30頁3行目の
「29μmジエチルチオキサン」ヲ
「λ、4A−ジエチルチオキサントン」と補正する。
10)30頁参〜!行目の
rP−N、N−ジエチル安息香酸エチル」を
rp−N、N−ジエ、チルアミノ安息香酸エチル」
と補正する。
/1)30頁頁44行目の
「3−メトキシ−コープロバノール」ヲ「l−メトキシ
−コープロバノール」 と補正する。
−コープロバノール」 と補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 付加重合性不飽和化合物と光重合開始剤を含む光重合性
組成物において、該付加重合性不飽和化合物として下記
一般式 I で表わされるポリ(テトラメチレングリコー
ル)のジアクリル酸エステル又はジメタクリル酸エステ
ルを含有することを特徴とする光重合性組成物。 一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Rは水素原子又はメチル基を表わし、nは2から
50の整数を表わす。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6887285A JPS61228007A (ja) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6887285A JPS61228007A (ja) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61228007A true JPS61228007A (ja) | 1986-10-11 |
Family
ID=13386185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6887285A Pending JPS61228007A (ja) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61228007A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0411415A2 (de) * | 1989-07-29 | 1991-02-06 | BASF Aktiengesellschaft | Polyethercarbonsäureester und ihre Herstellung |
EP0430209A2 (en) * | 1989-11-29 | 1991-06-05 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Resin composition for cast polymerization |
EP0441383A2 (en) * | 1990-02-08 | 1991-08-14 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Use of a copolymer for the making of contact lenses |
US5247038A (en) * | 1989-11-29 | 1993-09-21 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Polybutylene glycol dimethacrylate and resin composition for cast polymerization |
US5593079A (en) * | 1994-03-11 | 1997-01-14 | Makita Corporation | Nailing machine |
WO1997023809A1 (en) * | 1995-12-21 | 1997-07-03 | Kolon Industries, Inc. | Photosensitive resin composition |
JP2013195681A (ja) * | 2012-03-19 | 2013-09-30 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び有機elディスプレイ |
EP3418782B1 (en) * | 2016-12-26 | 2023-05-03 | LG Chem, Ltd. | Polarizer protection film, polarizing plate comprising the same, liquid crystal display comprising the polarizing plate, and coating composition for polarizer protecting film |
-
1985
- 1985-04-01 JP JP6887285A patent/JPS61228007A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0411415A2 (de) * | 1989-07-29 | 1991-02-06 | BASF Aktiengesellschaft | Polyethercarbonsäureester und ihre Herstellung |
EP0430209A2 (en) * | 1989-11-29 | 1991-06-05 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Resin composition for cast polymerization |
US5247038A (en) * | 1989-11-29 | 1993-09-21 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Polybutylene glycol dimethacrylate and resin composition for cast polymerization |
EP0441383A2 (en) * | 1990-02-08 | 1991-08-14 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Use of a copolymer for the making of contact lenses |
US5183870A (en) * | 1990-02-08 | 1993-02-02 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd | Composition for plastic lenses |
US5593079A (en) * | 1994-03-11 | 1997-01-14 | Makita Corporation | Nailing machine |
WO1997023809A1 (en) * | 1995-12-21 | 1997-07-03 | Kolon Industries, Inc. | Photosensitive resin composition |
JP2013195681A (ja) * | 2012-03-19 | 2013-09-30 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び有機elディスプレイ |
EP3418782B1 (en) * | 2016-12-26 | 2023-05-03 | LG Chem, Ltd. | Polarizer protection film, polarizing plate comprising the same, liquid crystal display comprising the polarizing plate, and coating composition for polarizer protecting film |
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