JPS61213213A - 光重合性組成物 - Google Patents

光重合性組成物

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JPS61213213A
JPS61213213A JP5488285A JP5488285A JPS61213213A JP S61213213 A JPS61213213 A JP S61213213A JP 5488285 A JP5488285 A JP 5488285A JP 5488285 A JP5488285 A JP 5488285A JP S61213213 A JPS61213213 A JP S61213213A
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JP
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polymerizable
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compound
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Application number
JP5488285A
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English (en)
Inventor
Kazuo Maemoto
一夫 前本
Masayuki Iwasaki
政幸 岩崎
Minoru Maeda
稔 前田
Sadao Fujikura
藤倉 貞雄
Norimasa Aotani
青谷 能昌
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は新規な光重合性組成物に関するものであり、更
に詳しくは、有機溶剤を含有しない弱アルカリ水溶液に
よって現像できる改善された光重合性組成物に関する。
「従来の技術」 従来、光重合性組成物の現像液として有機溶剤が使用さ
れてきたが有機溶剤は一般に高価で、有毒であり、かつ
可燃性でもある。その上使用に当っては労働衛生対策お
よび公害対策設備等に多額の費用全必要とする。そのた
め、このような有機溶剤を使用しないで現像できる光重
合性組成物が長い間熱型されてきた。一般に光重合性組
成物の溶解性およびその他の性質を決定するのは光重合
性組成物の結合剤成分である。
アルカリ水溶液で現像可能な光重合性組成物に関する文
献の代表的なものには、次のようなものがある。特公昭
3!−/ダobs号(結合剤は側鎖酸素識含有重合体で
ある)、特公昭4I6−.7コツ/4I号(結合剤は例
えばメタクリル酸メチル/メタクリル酸共重合体である
)、特公昭5ダ一3ダ327号(結合剤は例えばメタク
リル酸メチル/メタクリル酸−2−エチルヘキシル/メ
タクリル酸の三元共重合体である)、特公昭j−j−−
31961号(結合剤は例えばスチレン/マレイン酸モ
ノn−ブチルエステル共重合体である)、特公昭!14
−、I、lll1J号(結合剤は例えばメタクリル酸エ
チル/アクリル酸エチル/メタクリル酸の三元共重合体
である)、特公昭54I−23957号(結合剤は例え
ばスチレン/メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/
メタクリル酸の四元共重合体である)、特開昭3コ一9
9110号(結合剤は例えばメタクリル酸ベンジル/メ
タクリル酸共重合体である)、特公昭!lag−/2に
77号(結合剤は例えばアクリロニトリル/メタクリル
酸−2−エチルヘキシル/メタクリル酸の三元共重合体
である)および特公昭j?!−4210号(結合剤は例
えばメタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/アクリル
酸三元共重合体とイソプロパツールチ一部分エステル化
したスチレン/マレイン歳無水物共重合体のコ種である
)。
しかしこれら参考文献に記載されている組成物は、ある
用途においては利点があるが、しかし特にフォトレジス
トとして使用された場合にはある種の欠点を示すのであ
る。通常は銅である金属箔を積層した基体を用いてプリ
ント配線基板を作成するに際し、その基体上に感光性の
固体フィルムを圧着積層する工@を含むいわゆるドライ
フィルムレジスト法については特公昭ll5−xsas
i号に記載されている。この方法に適合しうる光重合性
組成物は例えば現像性および剥膜性(ただし重合された
状態においてはエツチング又はメッキ溶液に対する抵抗
性)、低い粘着性、基体に対する高い接着性および可撓
性が適当にバランスしていることが必要である。
従来公知のアルカリ水溶液で現像可能な光重合性組成物
は、それらが粘着性でありすぎるか又は脆すぎること、
または高分解能の画僚を与えるには不十分な基体への接
着性と耐膨潤性を有していること、またはそれがアルカ
リ水溶液で現像できるとしても現像時間がかかりすぎる
というような、一つまたはそれ以上の不利な点を有して
いる@また特に近年、プリント配線の高密度化が望まれ
、そのために原稿に忠実で高解偉力のレジスト画線像を
与えるドライフィルムレジストが必要となってきた。
「本発明が解決しようとする問題点」 従来公知のアルカリ水溶液で現像可能な光重合性組成物
は、この目的に対し不十分であった。こ  −れは主と
してフォトレジスト層の現像液に対する耐膨潤性および
基板への接着性の欠除に基づくものである。
能な光重合性組成物の不利な点を克服することにある0
すなわち目的とする組成物は、短時間で弱アルカリ水溶
液で現像でき、ドライフィルムとして基体く積層するに
十分な可撓性金持ち、そして基体に対して高度の接着性
を有し、そして表面の粘着性は少なく、また保存時にコ
ールドクローを起すほどには軟質でなく、そしてlii
儂露光露光って重合した部分の現像液への耐膨潤性が優
れているが、さらに有機溶剤を含有しない強アルカリの
希薄水溶液で処理することにより剥膜が可能である。さ
らに本発明の目的は原稿に対する忠実な画線像の再現で
あり、高解偉力の発現である。
本発明者等は、次のような光重合性組成物を用いること
でこれらの目的が達成されることを見出し本出願に到っ
た。
「問題点を解決するための手段」 不発明の光重合性組成物は、以下の通りである。
すなわち、分子中に少なくとも一個のエチレン性不飽和
二重結合を含有する付加重合性不飽和化合性組成物にお
いて、前記結合剤が次の(A)、(B)。
(C)の各群より少なくとも7種ずつ選ばれた重合性物
質を共重合させたものであり、重量平均分子量が5oo
o〜7000,000の多元共重合体であること全特徴
とする光重合性組成物である。
(A)  下記一般式CI)で表わされる重合性物質H
2−Ar (ただし、式中Arは置換もしくは無置換の7二二ル基
) (B)  下記一般式(…)で表わされる重合性物質C
H2=CCH3 C=0     (I) 言 R+ (ただし、式中R#i炭素数/−4のアルキル基)(C
)  α、β−不飽和カルボン酸である重合性物本発明
に用いる(A) 、 (B) 、 (C)の重合性物質
よりなる共重合体は感光層中の他成分の結合剤として使
用されるものであり、感光性ドライフィルムレジストの
主要な性能を決定する。
(A)の重合性物質である一般式(I)において人rの
具体例として、フェニル、p−メチル7エ二ル、m−メ
チルフェニル、0−メチルフェニル。
p−エチルフェニル、0−エチルフェニル、p−イソプ
ロピルフェニル、p−メトキシフェニル。
p−クロロフェニル、m−クロルフェニル、o−クロル
フェニルtp−7’ロモフェニル、2,4cmジメチル
フェニル、5−a−ジメチルフェニル、 j、4!−ジ
メトキシフェニル基を挙げることができ、特に好ましい
のはフェニル基である。
(B)の重合性物質である一般式(I)において凡の具
体例として、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、5ec−ブチル、イソブチル、te
rt−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、シクロヘ
キシル、シクロインチル基t−挙ケることかでき、l!
!#り好ましいのはメチル基、エチル基、n−プロピル
基である。
(C)の重合性物質であるα、β不飽和カルボン酸の具
体例として、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、
フマル酸、イタコン酸、マレイン酸モノメチルエステル
、マレイン酸モノエチルエステル、マレイン酸モノメチ
ルエステル、マレイン酸モノベンジルエステル、イタコ
ン酸モノメチルエステル、イタコン酸モノブチルエステ
ルを挙げることができ、特に好ましいのは、アクリル酸
とメタクリル酸である。
本発明釦用いる多元共重合体において(A)の第一重合
性物質は約−θ〜約約7壬 約−〇モルチ以下ではレジストの密着性が劣り約7θモ
ルチ以上では感光層の現像性が劣る、特に好ましいのは
約ダO〜約33モルチである。
(B)の第二重合性物質は約3〜約70モルチが好まし
く、約3モルチ以下ではレジストの剥膜性が劣り、約7
0%ルー以上ではレジストのアルカリm**耐性に欠け
る、特に好ましいのは約3〜約70モルチである。
(C) (t)第三重合性物質は約−3〜約70−Eニ
ル−が好ましく約23モルチ以下では現像性が不良で約
70%ルー以上ではレジストの耐アルカリ現儂液性が劣
る。
本発明に用いる多元共重合体の重量平均分子量は、約よ
000から約tooaooo が適当であり、約s.o
oo以下ではテントの強度が劣り、約tooa000以
上では現像性が劣る。#KtH−ましくは、約2QOO
Oから約コkQOOOである。
好ましい共重合体の具体例を第1表に示すが、これのみ
に限定されるものではない。これらの共重合体は当業者
には公知の任意の重合技術により製造することができる
本発明の光重合性組成物に好適に用いられる、重合性不
飽和化合物は、分子中に少なくとも2個のエチレン不飽
和二重結合を含有するものであり付加重合しうるもので
あればよい。そして1種又は2種以上の化合物を存在さ
せることができる。
好ましい具体例としては、特公昭3!r−1093号、
特公昭J!r−/弘’119号、特公昭リグ−λg72
7号の各明細書に記載されている、ポリオールのアクリ
ル酸又はメタクリル醗エステル類、すなワチジエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(
メタ)アクリレート、トリメチロールプロノQントリ(
メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ
)アクリレート、インタエリスリトールテトラ(メタ)
アクリレート、ジにンタエリスリトールベンタ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)
アクリレート、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)ア
クリレート等、又はビス(メタ)アクリルアミド類、す
なわちメチレンビス(メタ)アクリルアミド、エチレン
ビス(メタ)アクリルアミド、m−キシリレンビス(メ
タ)アクリルアミド等、あるいはウレタン基を含有する
化合物、すなわち、ジ(−一メタクリロ牛ジエチル)コ
、lI−トリレンジウレタン、ジー(コーアクリロキシ
エチル)へキサメチレンジウレタン、又はポリオールと
ジイソシアネートとを予め反応させて得られる末端イソ
シアネート化  ゛合物に更にβ−ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートを反応せしめることで得られる(
メタ)アクリルウレタンオリゴマー、例えばすなわち、
コ、タートリレンジイソシアネートヲタモルとエチレン
グリコールを3モルとの反応生成物に7モルのβ−ヒド
ロキシエチルアクリレ−1t−反応して得られるオリゴ
マー又は2.2−ビス(ヒドロキシフェニル)−フロノ
ξン、λ、2−ビス(ヒドロキシエトキシフェニル)プ
ロパン、コ9,2−ビス(ヒドロキシエトキシエトキシ
フェニル)プロパン等のジアクリレート等が挙げられる
重合性不飽和化合物の含有量は光重合性組成物の全重量
基準で、好ましくは約7.y−63重量%、そしてより
好ましくは約13〜4!、を重量−である。
本発明の光重合性組成物に好適に用いられる光重合開始
剤としては、前記重合性不飽和化合物の重合を開始させ
うる単一の化合物、または二種以上の化合物の組合せた
光重合開始剤系はすべて用いることができる。好ましく
は、この光重合開始剤又は光重合開始剤系は約3000
〜toooh。
好ましくfi3300−!000にの範囲内に少なくと
も約goの分子吸光係数を有する成分を少なくとも一種
含有している。
光重合開始剤の好ましい具体例として、次の化合物を挙
げることができる。芳香族ケトン類、例えばベンゾフェ
ノン、$、!’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノ
ン、p、4<’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ン、ダーメトキシーダ′−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、p、4I’−ジメトキシインシフエノン、ダージメ
チルアミノベンゾ7二ノン、ダージメチルアミノアセト
フェノン、ベンジル、アントラキノン、2−tert 
−ブチルアントラキノン、コーメチルアントラキノン、
7エナントラキノン、キサントン、チオキサントン、λ
−クロルーチオキサントン、コ、lI−ジエチルチオキ
サントン、フルオレノン、アクリドンおよびベンゾイン
、ベンゾインエーテル類、例エハヘンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタールおよび
コ、り。
3−トリアリールイミダゾール二量体類、例えばコー(
0−/ロロフェニル)−a、s−ジフェニルイミダゾー
ルニ量体、コー(0−クロロ7エ二ル)−+、、1−ジ
(m−メトキシフェニル)イミタソールニ量体、コー(
o−フルオロフェニル)−タ、ヨージフェニルイミダゾ
ールニ量体、コー(0−メトキシフェニル)−#、s−
ジフェニルイミダゾールニ量体、λ−(p−メトキシ7
エ二ル)−〇、j′−ジフェニルイミダゾールニ量体、
およびポリハロゲン化合物、例えば四臭化炭素フェニル
トリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチル
ケトン、および特開昭!J−7.7.7’721号、特
公昭zy−itiq号、特公昭37−boqb号、米国
特許第、y6is;弘jj号各公報類に開示されている
化合物。二種以上の組合せ、例えばコe4’*j  )
!Jアリールイミダゾールニ量体とλ−メルカプトベン
ズオキサゾール又はロイコクリスタルバイオレット等と
の組合せ、また米国特許第J’127/l、/号明細書
く記載のり、lIl ++ビス(ジメチルアミノ)ベン
ゾフェノンとベンゾフェノン又はベンゾインメチルエー
テルとの組合せおよび米国特許第1I2391!;0号
明細書に記載の、ベンゾイル−N−メチルナフトチアゾ
リンと2.ダービス(トリクロロメチル)−ルー弘−メ
トキシフェニルトリアゾールの組合せ、また特開昭57
一−3402号公報に記載のジメチルチオキサントンと
ダージアルキルアミノ安息香酸エステルの組合せが挙げ
られる。
光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は好ましくけ
光重合性組成物の総重量基準で約0.1〜70重量%そ
してより好ましくは約0.2〜6重量−である。
本発明の光重合性組成物は、光重合開始剤とエチレン不
飽和化合物と結合剤を必須成分とするが、必要に応じて
熱重合防止剤、可塑剤、色素、変色剤、単官能エチレン
不飽和化合物、さらに基体表面への密着促進剤およびそ
の他の助剤類を併用してもよく、これによって目的とす
る感光層の写真性、焼出し性、膜物性等の性質を調節す
ることができる。
熱重合防止剤は、本発明の光重合性組成物の熱的な重合
又は経時的な重合を防止するために添加するもので、例
えば、p−メトキシフェノール、ヒドロキノン、t−ブ
チルカテコール、ピロガロール、コーヒドロキシベンゾ
フエノン、グーメトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、塩化第1銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチ
ルアミン、β−ナフトール、コ、6−ジーt−ブチルー
p−クレゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンイン、
ピクリン酸、p−トルイジン等が挙げられる0 2可塑剤は、感光層およびレジスト像の膜物性をコント
ロールするために添加するもので、例えば1ジブチルフ
タレート、ジアリルフタレート、ジオクチルフタレート
、ジアリルフタレート等の7タル酸エステル類;トリエ
チレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコ
ールジアセテート等のグリコールエステル類;トリクレ
ジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン
酸エステル1lyp−)ルエンスルホンアミド、ベンゼ
ンスルホンアミド、N−n−ブチルアセトアミド等のア
ミド類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジは一
ト、ジメチルセパケート、ジオクチルアゼレート、ジブ
チルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類;クエン酸
トリエチル、クエン酸トリブチル、グリセリントリアセ
チルエステル、ラウリン酸ブチル、4t、!−ジェポキ
シシクロヘキサンー1.コージカルボン酸ジオクチル等
が挙げられる。
色素の例は、ブリリアントグリーン、エオシン、エチル
バイオレット、エリスロシンB1メチルグリーン、クリ
スタルバイオレット、ペイシックツクシン、フェノール
フタレイン、7.3−ジフェニルトリアジン、了りザリ
ンレッドS1チ七−ル7タレイン、メチルバイオレット
2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニル−
イエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブ
ルー、メチルオレンジ、オレンジN1ジフェニルチオカ
ルバゾン、コ、クージクロロフルオレセイン、ノラメチ
ルレツド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン参B1α
−す7チルーレツド、ベンゾプルプリン#B、α−ナフ
チルレッド、ナイルブルーA17エナセタリン、メチル
バイオレット、マラカイトグリーン、バラツクシン、オ
イルブルー=b。
3〔オリエント化学工業■製〕、ビクトリアピュアブル
ーBOH,スピロンブル一〇N(保士谷化学工業■製〕
、ローダミンB10−ダミン6Gなどである@ 変色剤は、露光により可視儂を与えることができるよう
に光重合性組成物に添加される。これらの具体例として
、前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルアニリ
ン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェニ
ル−p−7二二レンジアミン、p−トルイジン、ダ、4
!′−ヒフェニルジアミン、0−クロロアニリン、p、
 p’ 、 p” −ヘキサメチルトリアミノトリフェ
ニルメタン、p。
p′−テトラメチルジアミノトリフェニルメタン、p、
p’、p”−トリアミノトリフェニルカルビノール、ロ
イコメチルバイオレッ′ト等が挙げられる。
密着促進剤の具体例としては、ベンズイミダゾール、ベ
ンズチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンズトリアゾ
ールなど特公昭!0−9/77号に記載の化合物、コー
メルカブトベンズチアゾール、−一メルカブトベンズイ
ミダゾールなど特開昭j−、7−70:1号忙記載の化
合物等が挙げられる。
本発明の光重合性組成物は、前述の各種構成成分を溶媒
中に溶解せしめ、所望の支持体上に公知の方法により塗
布して用いられる。その場合に使用される溶媒としては
エチレンジクロリド、モノクロルベンゼン、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチルセ
ロソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、メタノール、エタ
ノール1n−プロノノール、インプロパツール、n−ブ
タノール、l−メトキシーコープロAノール、コーメト
キシー7−プロAノール、l−メトキシーコーアセトキ
シプロパン、−一メトキシー/−アセトキシプロ/qン
、メチルセロソルブ、トルエン、キシレンなどの単独、
又は混合物である。
本発明の光重合性組成物は、ドライフィルムレジストの
フォトレジスト層として好適である。その場合、フォト
レジスト層の厚みとしては 0.7μから500μが適
当であり、特に好ましくはlμから200μの範囲であ
る。また本発明の光重合性組成物を用いて感光性平版印
刷版を製造する場合、塗布量は一般的に乾燥時0./ 
−10,0?/m2  が適当であ04IIC好まL 
< ff:、0. !r 〜!r、0?/m2 である
本発明の光重合性組成物をドライフィルムレジストとし
て使用する場合、好適な支持体としてポリアミド、ポリ
オレフィン、ポリエステル、ビニル重合体およびセルロ
ースエステルなどのフィルムから選ばれ3μから700
μの厚みを持つものがよい。特に好適な支持体フィルム
は約23μの厚さを持つ透明なポリエチレンテレフタレ
ートフィルムである。又この場合好適な保護フィルムと
してはポリオレフィンが挙げられ、特に好ましいものと
して20〜2jμの厚さのポリエチレンフィルムを挙げ
ることができる。
また本発明の光重合性組成物上フォトマスク用フィルム
の製造に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニ
ウム、アルミニウム合金やクロムを蒸着させたポリエチ
レンテレフタレートフィルムや着色層を設けたポリエチ
レンテレ7タレートフイルムを挙げることができる。
また本発明の光重合性組成物を感光性平版印刷版の感光
層として使用する場合の好適な支持体としては、親水化
処理したアルミニウム板、たとえばシリケート処理した
アルミニウム板、陽極酸化したアルミニウム板、砂目立
てしたアルミニウム板、シリケート電着したアルミニウ
ム板があり、それ以外にも、亜鉛板、ステンレス板、ク
ローム処理鋼板、親水化処理したプラスチックフィルム
や紙を挙げることができる。
また印刷用カラープルーフ、オーバーヘッドプロジェク
タ−用フィルム、第一原図用フィルムの製造忙、本発明
の光重合性組成物を用いる場合、これらに適する支持体
としてはポリエチレンテレ7タレートフイルム、三酢酸
セルa−ズフイルム等の透明フィルムや、これらのプラ
スチックフィルムの表面を化学的又は物理的にマット化
したもot−挙げることができる。
本発明の光重合性組成物は、弱アルカリ水溶液によって
fi儂できる。また水と混和性の有機溶剤を少量(約2
0重量%以下)含んでいてt屯い。
添加する適轟な塩基としてはアルカリ金属又はアンモニ
ウム、ダ級アンモニクムの水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩
、ケイ酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、酢酸塩及びアミ
ン類から選はれる。それらの具体的な例としては、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化アンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウムヒド
ロキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、リン
酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム
、酢酸ナトリウム、ジェタノールアミン、トリエタノー
ルアミンが挙げられる。特に炭酸ナトリウムのl−コチ
水溶液が好ましい。
本発明の結合剤を含む光重合性組成物が、フィルム形成
時の可撓性、基体との密着性に優れ容易なレジスト剥膜
性を有し、しかも原稿画像の忠実な再現性および高い解
儂力を与えることは驚くべきことである。結果として、
高精度で基体の加工が可能となる。
さらに本発明の光重合性組成物は耐コールドフロー性が
優れていて、表面の粘着性の低いフォトレジスト表面を
与える。iた基体への密着性が優れているため通常の塩
化第二鉄水溶液、過硫酸アンモニウム水溶液等のエツチ
ング液に対してもまたハンダメッキ、ピロリン酸鋼メッ
キ、硫酸銅メッキやその他の通常のメッキ処理中におい
ても十分なレジスト性を有している。
本発明の組成はフォトレジストに特に好ましく適用でき
るが、別の用途にも有利である。例えば、本発明の組成
物は、予め感光性を付与した平版印刷版CF2版)の製
造にも使用することができる◎「実施例」 実施例/−/3 本発明の第1表に記載した共重合体あるいは比較のため
に第2表に記載した比軟用共重合体を含み、他の要素は
同一の下記感光液を調製し、ロッドコーターで、−3μ
厚のポリエチレンテレ7タレートフイルムに乾燥膜厚が
約30μになるように塗布し、lQOoCのオーブン中
で3分間乾燥した。
結合剤(第1表及び第2表記載)の  ’I!?f33
重量%溶液 J、l−ジメチルチオキサントン   0.3fp−ジ
メチルアミノ安息香酸エテル 0.3J ?トリフロモ
メチルフェニルスルホン     o、IIyトリメゾ
ロールプロパン)97     s、Ofクリレート トリメチロールプロパンシフ/     !r、Ofリ
レート テトラエテレングリコールジア    コ、oy−クリ
レート ロイコメチルバイオレット     o、oty/−フ
ェニル−3−モルホリノ   o、oqy−メチル−/
、3.lI−トリア ゾール−コーチオン ビクトリアピュアブルーBOHO,0/ ?メチルセロ
ソルブ           10y−整面し、乾燥し
た鋼張積層板上に、上記塗膜面が銅表面に接触するよう
に、AコlImラミネーター(DuPont社製)を用
いて720°(4”ラミネートした。配線パターン(導
体パターン(線幅100μ)が不透明背景上に透明部分
として現れている高コントラスト透明体画像)Ik通し
て露光した(コKW超高圧水銀灯ニジエツトライト(オ
ーク■製)t−使用)。−ポ、リエテレンテレフタレ−
トフイルムを剥ぎ取t)、UO″Co/重量%炭酸ナト
リウム水溶液を/ 、 !r kf/ cm2で6θ秒
間スプレーするととにより未露光部を除去した。得られ
るレジスト像の画像の形成状況や画線の切れ全観察し、
更に画線幅の太りを測定した。次に配線パターンの代9
に解像力チャートを焼きつけて、上記と同様に未露光部
を除去してレジスト像が判別できる線幅を観察して解像
力とした。また、内径コ、j11mlのスルホール10
0個を有する両面鋼張積層板の両側に、同様圧してレジ
ストフィルムをラミネー)t、、JKW超高超高圧水銀
灯両面同時1装光装置H−b−N型(オーク■製)K:
!り、スルホール上にランド径J、91111の円形ノ
ターンを焼きつけて上記と同様に未露光部を除去してテ
ントを形成した。テントの強度を評価するため、この板
t−34A0Cでzkp/em2r)熱水スプレーヲ通
過させた後で破れないで残っているテントの数を数えて
、テントの残存率(チ)を求めた。
導体ノにターンを焼き付は現像した銅張積層板を塩化第
一鉄の3!チ水溶液のスプレー(ダ0°C1/ 、 s
 kg/cm2)でエツチングした。エツチングはレジ
スト画線に覆われていない部分の銅が完全に溶解するま
で実施した。エツチングした板を水洗し、乾燥して未だ
レジストで被覆されている銅の導体パターンを得た。と
のレジス)i4L<7°Cのタチ水酸化ナトリウム水溶
液で1分間スプレーして銅の表面から剥膜して剥膜性を
調べた◇これらの結果を第3表に示す。
第3表の結果より明らかなように、本発明の重合体を用
い九場合には、レジスト画線の質が良好で、画線幅の再
現性に優れかつ、高解像力が得られる。またテントの強
度も高く、剥膜性も良好である。
実施例 /4I 下記組成の感光液を調製し、ロッドコーターで、15μ
厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに乾燥膜厚が
約50μになるように塗布し、lOOoCのオーブン中
でS分間乾燥して、感光層を形成した。
2、ダージメテルテオキサントン  0.3を亭−N、
N−ジメチルアミノ安息  0.3y−香酸エテル トリメデロールプロノ2ンジアクリ  4t、Ofレー
ト トリメテロールプαノ破ントリアク  λ、41?リレ
ート コ、−一ビス(アクリロイルオキ  !、6?ジェトキ
シエトキシフェニル) 一ブーツにン ロイコメチルバイオレット     0.Otfトリフ
ロモメチルフェニルスル   O,ダ?ホン /−7二二ルー3−モルホリ/   0.Ogfメチル
−/、J、ダートリア ゾールーコーテオ/ ビクトリアビニアープルーBOHo、oot )共重合
体(第1表の番号l)の    ダj?メチルセロソル
ブ/メチルエ チルケトン(/’//)33重 量−溶液 メテルセロノルブ           10fこの感
光性ドライフィルムレジスト材料ヲ実施゛例1と同様に
して銅張積層板上にラミネートした。
光学濃度差0.1!のステップウェッジを重ね、ジェッ
トライト(オーク■製)で20カウント露光した。ポリ
エチレンテレフタレートフィルムを剥ぎ取った後で、ダ
06Coi−炭酸ナトリウム水溶液t−60秒間スプレ
ーすることで未露光部を溶解した。こうして得られるス
テップウェッジの画僚の段数を読みとったところ、tw
itまで硬化していた。
また本組成物を用いて得られた配fsノターンのレジス
ト像は30μの解像力を持ち原稿の忠実な線幅の再現を
示した。また、塩化第二鉄のエツチング液、硫酸鋼メッ
キ液、ピロ銅メッキ液、ハンダメッキ液に十分耐えるも
のであつ九。
そして、得られたレジストを剥離するKは、IIOoC
で1Iqb水酸化ナトリウム水溶液を八!rkp/el
12でコ分間吹きつけることにより可能であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和二重結合を
    含有する付加重合性不飽和化合物と光重合開始剤および
    結合剤を含有する光重合性組成物において、前記結合剤
    が次の(A)、(B)、(C)の各群より少なくとも1
    種ずつ選ばれた重合性物質を共重合させたものであり、
    重量平均分子量が5,000〜1,000,000の多
    元共重合体であることを特徴とする光重合性組成物。 (A)下記一般式( I )で表わされる重合性物質▲数
    式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、式中Arは置換もしくは無置換のフェニル基
    ) (B)下記一般式(II)で表わされる重合性物質▲数式
    、化学式、表等があります▼(II) (ただし、式中Rは炭素数1〜6のアルキル基) (C)α,β−不飽和カルボン酸である重合性物質
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01227141A (ja) * 1988-02-26 1989-09-11 Hercules Inc 光重合可能な組成物
JPH01263645A (ja) * 1988-04-15 1989-10-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 光重合性組成物
US5919603A (en) * 1992-08-28 1999-07-06 Hitachi, Ltd. Process for producing printed wiring board
JP2007034286A (ja) * 2005-07-01 2007-02-08 Eternal Chemical Co Ltd フォトイメージャブル組成物
JP2007041497A (ja) * 2005-06-28 2007-02-15 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 感光性樹脂組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体
JP2012229421A (ja) * 2011-04-26 2012-11-22 Korea Kumho Petrochemical Co Ltd 有機反射防止膜用共重合体、単量体、及びその共重合体を含む組成物
KR20140116021A (ko) 2013-03-21 2014-10-01 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 절연막용 감광성 수지 조성물 및 경화물
US9557444B2 (en) 2013-08-29 2017-01-31 Chi Mei Corporation Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition, color filter, method for manufacturing the same, and liquid crystal display apparatus
US10088612B2 (en) 2014-11-18 2018-10-02 Chi Mei Corporation Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition for color filter containing the same and uses thereof
US10495919B2 (en) 2017-08-14 2019-12-03 Chi Mei Corporation Photosensitive resin composition and manufacturing method of the same, black matrix, pixel layer, protection film, color filter, and liquid crystal display apparatus
KR20200135969A (ko) 2018-03-27 2020-12-04 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지, 그것을 필수 성분으로 하는 감광성 수지 조성물 및 그 경화물
KR20210034525A (ko) 2019-09-20 2021-03-30 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 에폭시아크릴레이트 수지, 알칼리 가용성 수지, 그 제조 방법, 그것을 포함하는 수지 조성물 및 그 경화물
KR20210122191A (ko) 2020-03-31 2021-10-08 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 중합성 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지, 그것을 필수 성분으로 하는 감광성 수지 조성물 및 당해 조성물의 경화물
KR20230007429A (ko) 2020-05-19 2023-01-12 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 중합성 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지 및 그 제조 방법, 및 감광성 수지 조성물 및 그 경화물

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01227141A (ja) * 1988-02-26 1989-09-11 Hercules Inc 光重合可能な組成物
JPH01263645A (ja) * 1988-04-15 1989-10-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 光重合性組成物
US5919603A (en) * 1992-08-28 1999-07-06 Hitachi, Ltd. Process for producing printed wiring board
JP2007041497A (ja) * 2005-06-28 2007-02-15 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 感光性樹脂組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体
JP2007034286A (ja) * 2005-07-01 2007-02-08 Eternal Chemical Co Ltd フォトイメージャブル組成物
JP2012229421A (ja) * 2011-04-26 2012-11-22 Korea Kumho Petrochemical Co Ltd 有機反射防止膜用共重合体、単量体、及びその共重合体を含む組成物
KR20140116021A (ko) 2013-03-21 2014-10-01 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 절연막용 감광성 수지 조성물 및 경화물
US9557444B2 (en) 2013-08-29 2017-01-31 Chi Mei Corporation Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition, color filter, method for manufacturing the same, and liquid crystal display apparatus
US10088612B2 (en) 2014-11-18 2018-10-02 Chi Mei Corporation Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition for color filter containing the same and uses thereof
US10495919B2 (en) 2017-08-14 2019-12-03 Chi Mei Corporation Photosensitive resin composition and manufacturing method of the same, black matrix, pixel layer, protection film, color filter, and liquid crystal display apparatus
KR20200135969A (ko) 2018-03-27 2020-12-04 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지, 그것을 필수 성분으로 하는 감광성 수지 조성물 및 그 경화물
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