JPH10111573A - 新規な感光性樹脂積層体 - Google Patents
新規な感光性樹脂積層体Info
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- JPH10111573A JPH10111573A JP20737597A JP20737597A JPH10111573A JP H10111573 A JPH10111573 A JP H10111573A JP 20737597 A JP20737597 A JP 20737597A JP 20737597 A JP20737597 A JP 20737597A JP H10111573 A JPH10111573 A JP H10111573A
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- photosensitive resin
- carbon atoms
- meth
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 プリント配線板の製造等、に於いて、解像
性、密着性等、に優れた感光性樹脂積層体を提供する。 【解決手段】 支持体上に第一及び第二の感光性樹脂層
を積層してなる積層体で、第一の感光性樹脂層が、スチ
レン及びスチレン誘導体を含まないアルカリ現像可能な
ビニル共重合体、化学式（１）で示される光重合性モノ
マー、エチレン性不飽和二重結合を２個以上含有する光
重合性モノマー及び、光重合開始剤を含有し、第二の感
光性樹脂層が、スチレン及びスチレン誘導体を共重合成
分とするアルカリ現像可能なビニル共重合体、化学式
（１）で示される光重合性モノマー、エチレン性不飽和
二重結合を２個以上含有する光重合性モノマー及び、光
重合開始剤を含有してなる感光性樹脂積層体。 例フェノキシノニルアクリレート（Ｒ１：水素原子、Ｒ
２：オキシノニル基、Ｒ３：水素原子）
性、密着性等、に優れた感光性樹脂積層体を提供する。 【解決手段】 支持体上に第一及び第二の感光性樹脂層
を積層してなる積層体で、第一の感光性樹脂層が、スチ
レン及びスチレン誘導体を含まないアルカリ現像可能な
ビニル共重合体、化学式（１）で示される光重合性モノ
マー、エチレン性不飽和二重結合を２個以上含有する光
重合性モノマー及び、光重合開始剤を含有し、第二の感
光性樹脂層が、スチレン及びスチレン誘導体を共重合成
分とするアルカリ現像可能なビニル共重合体、化学式
（１）で示される光重合性モノマー、エチレン性不飽和
二重結合を２個以上含有する光重合性モノマー及び、光
重合開始剤を含有してなる感光性樹脂積層体。 例フェノキシノニルアクリレート（Ｒ１：水素原子、Ｒ
２：オキシノニル基、Ｒ３：水素原子）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規な感光性樹脂積
層体に関する。更に詳しくはプリント配線板の製造、金
属の精密加工等に用いられるエッチングレジスト又はメ
ッキレジストとして耐薬品性に優れる感光性樹脂積層体
に関する。
層体に関する。更に詳しくはプリント配線板の製造、金
属の精密加工等に用いられるエッチングレジスト又はメ
ッキレジストとして耐薬品性に優れる感光性樹脂積層体
に関する。
【０００２】
【従来の技術】プリント配線板の製造やリードフレーム
等金属の微細加工に、感光性樹脂積層体を使用すること
は以前より知られている。これらの製造、加工に於いて
は、感光性樹脂層を金属表面に支持体と共に熱圧着（ラ
ミネート）させた後、フォトマスクを介して露光し、支
持体を剥がして現像して、レジストパターンを得た後に
金属をエッチング又はメッキして所望の金属パターンを
形成するのが一般的である。
等金属の微細加工に、感光性樹脂積層体を使用すること
は以前より知られている。これらの製造、加工に於いて
は、感光性樹脂層を金属表面に支持体と共に熱圧着（ラ
ミネート）させた後、フォトマスクを介して露光し、支
持体を剥がして現像して、レジストパターンを得た後に
金属をエッチング又はメッキして所望の金属パターンを
形成するのが一般的である。
【０００３】而して、この分野においても近年の電子機
器の小型、高性能化に対応した解像度に優れる感光性樹
脂組成物が提供されており、それにともなって感光性樹
脂組成物の用途が拡大し、４２アロイ材等の銅以外の金
属の微細加工へ適用が進むとともに感光性樹脂組成物の
金属に対する密着性、耐エッチング性、解像性がますま
す重要となってきている。
器の小型、高性能化に対応した解像度に優れる感光性樹
脂組成物が提供されており、それにともなって感光性樹
脂組成物の用途が拡大し、４２アロイ材等の銅以外の金
属の微細加工へ適用が進むとともに感光性樹脂組成物の
金属に対する密着性、耐エッチング性、解像性がますま
す重要となってきている。
【０００４】それに応じて、これまでにも感光層を多層
化する技術が開発されており、例えば特公昭６０−３２
１７３号公報、特公昭６１−３１８５５号公報、特開昭
５６−２５７３２号公報、特開昭５８−１３６０２７号
公報、特開平０３−１７６５０号公報のような多層化し
た感光性樹脂積層体が知られている。また、特開平４−
３５３８４９号公報や特開平４−３４０５５１号公報に
は耐エッチング性を改良する感光性樹脂組成物も提案さ
れている。
化する技術が開発されており、例えば特公昭６０−３２
１７３号公報、特公昭６１−３１８５５号公報、特開昭
５６−２５７３２号公報、特開昭５８−１３６０２７号
公報、特開平０３−１７６５０号公報のような多層化し
た感光性樹脂積層体が知られている。また、特開平４−
３５３８４９号公報や特開平４−３４０５５１号公報に
は耐エッチング性を改良する感光性樹脂組成物も提案さ
れている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
感光層の多層化によって得られる感光性樹脂積層体は、
耐エッチング性が不十分であり、エッチング液がしみ込
んで金属が変色するという問題点があった。特に、リー
ドフレーム等金属の微細加工に於いては、４２アロイ材
等の銅以外の金属に対する密着性が不十分なためエッチ
ング中にレジストパターンが剥がれるという現象が見ら
れ、これらの感光性樹脂積層体に対して金属に対する良
好な密着性と耐エッチング性が求められていたのであ
る。
感光層の多層化によって得られる感光性樹脂積層体は、
耐エッチング性が不十分であり、エッチング液がしみ込
んで金属が変色するという問題点があった。特に、リー
ドフレーム等金属の微細加工に於いては、４２アロイ材
等の銅以外の金属に対する密着性が不十分なためエッチ
ング中にレジストパターンが剥がれるという現象が見ら
れ、これらの感光性樹脂積層体に対して金属に対する良
好な密着性と耐エッチング性が求められていたのであ
る。
【０００６】一方、耐エッチング性を改良することを目
的とした後者の技術（特開平４−３５３８４９号公報、
特開平４−３４０５５１号公報）によって得られたレジ
ストパターンは、解像度が不十分で、且つ、銅以外の金
属に対する密着性が不十分なため、金属の微細加工には
適用できなかった。また、上記技術を組合せ（感光性樹
脂層の多層化技術と耐エッチング性改良技術）ても、得
られる感光性樹脂積層体の銅以外の金属に対する密着性
と耐エッチング性はやはり不十分であった。
的とした後者の技術（特開平４−３５３８４９号公報、
特開平４−３４０５５１号公報）によって得られたレジ
ストパターンは、解像度が不十分で、且つ、銅以外の金
属に対する密着性が不十分なため、金属の微細加工には
適用できなかった。また、上記技術を組合せ（感光性樹
脂層の多層化技術と耐エッチング性改良技術）ても、得
られる感光性樹脂積層体の銅以外の金属に対する密着性
と耐エッチング性はやはり不十分であった。
【０００７】本発明は、以上説明した従来技術の問題点
を解決し、解像性が優れ、金属に対する密着性がよく、
耐エッチング性に優れた感光性樹脂組成物及びこれを用
いた感光性樹脂積層体の開発を課題とするものである。
を解決し、解像性が優れ、金属に対する密着性がよく、
耐エッチング性に優れた感光性樹脂組成物及びこれを用
いた感光性樹脂積層体の開発を課題とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
上記従来技術の問題点を解決すべく、プリント配線板の
製造や金属の微細加工に好適な感光性樹脂積層体につい
て鋭意研究を重ねるなかで、スチレン及びスチレン誘導
体の中から選ばれる少なくとも１種の単量体を含むビニ
ル共重合体を用いた感光性樹脂組成物が解像性と密着性
が優れること、しかし、該感光性樹脂組成物はまだ支持
体との接着性が低く、感光性樹脂層から支持体が剥がれ
やすいという問題があることを知った。
上記従来技術の問題点を解決すべく、プリント配線板の
製造や金属の微細加工に好適な感光性樹脂積層体につい
て鋭意研究を重ねるなかで、スチレン及びスチレン誘導
体の中から選ばれる少なくとも１種の単量体を含むビニ
ル共重合体を用いた感光性樹脂組成物が解像性と密着性
が優れること、しかし、該感光性樹脂組成物はまだ支持
体との接着性が低く、感光性樹脂層から支持体が剥がれ
やすいという問題があることを知った。
【０００９】そこでさらに研究を重ねた結果、その感光
性樹脂組組成物の層の他に、スチレン及びスチレン誘導
体を含まないビニル共重合体を支持体上の第１の感光性
樹脂組成物の層として用いて、２層の感光性樹脂積層体
とする事で支持体との接着性が向上し、且つ、解像性と
密着性も維持されることを見い出したのである。しか
も、驚くべき事に、上記感光性樹脂組成物に特定のモノ
マーを含有させることで金属に対する密着性と耐エッチ
ング性が飛躍的に向上することがわかり、解像性、密着
性、耐エッチング性に優れた本発明の感光性樹脂積層体
を完成することができたのである。
性樹脂組組成物の層の他に、スチレン及びスチレン誘導
体を含まないビニル共重合体を支持体上の第１の感光性
樹脂組成物の層として用いて、２層の感光性樹脂積層体
とする事で支持体との接着性が向上し、且つ、解像性と
密着性も維持されることを見い出したのである。しか
も、驚くべき事に、上記感光性樹脂組成物に特定のモノ
マーを含有させることで金属に対する密着性と耐エッチ
ング性が飛躍的に向上することがわかり、解像性、密着
性、耐エッチング性に優れた本発明の感光性樹脂積層体
を完成することができたのである。
【００１０】即ち、本発明は、支持体上に第一の感光性
樹脂層及び第二の感光性樹脂層を順次積層してなる感光
性樹脂積層体であって、第一の感光性樹脂層が、（Ａ）
α，β−不飽和カルボン酸の中から選ばれる少なくとも
１種の単量体と、アルキル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシアルキル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリ
ロニトリル、（メタ）アクリルアミドとその窒素上の水
素がアルキル基又はアルコキシ基で置換された化合物、
及びメタクリル酸グリシジルの中から選ばれる少なくと
も１種の単量体を共重合して得られる重量平均分子量３
０，０００から２８０，０００のビニル共重合体、
（Ｂ）下記式（１）で示される分子量が１０００以下の
光重合性モノマー、
樹脂層及び第二の感光性樹脂層を順次積層してなる感光
性樹脂積層体であって、第一の感光性樹脂層が、（Ａ）
α，β−不飽和カルボン酸の中から選ばれる少なくとも
１種の単量体と、アルキル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシアルキル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリ
ロニトリル、（メタ）アクリルアミドとその窒素上の水
素がアルキル基又はアルコキシ基で置換された化合物、
及びメタクリル酸グリシジルの中から選ばれる少なくと
も１種の単量体を共重合して得られる重量平均分子量３
０，０００から２８０，０００のビニル共重合体、
（Ｂ）下記式（１）で示される分子量が１０００以下の
光重合性モノマー、
【００１１】
【化３】 〔式中、φはベンゼン環を表わし、Ｒ1 は水素原子又は
メチル基を表わし、Ｒ2は炭素数６〜１２のオキシアル
キル基、繰り返し単位合計が２〜１５のエチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドの共重合体残基、２−ヒドロキ
シアルキル基（アルキル基は炭素数２〜１２）、ネオペ
ンチルグリコール基、カルボン酸オキシアルキルエステ
ル基（アルキル基は炭素数２〜１２）のいずれかであ
り、Ｒ3 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の
アルキル基、炭素数１〜１２のオキシアルキル基、炭素
数１〜１２のカルボン酸アルキルエステル基、炭素数２
〜１２の２−ヒドロキシアルキルカルボン酸基のいずれ
かであり、ｎは０〜３の整数を表わす。〕
メチル基を表わし、Ｒ2は炭素数６〜１２のオキシアル
キル基、繰り返し単位合計が２〜１５のエチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドの共重合体残基、２−ヒドロキ
シアルキル基（アルキル基は炭素数２〜１２）、ネオペ
ンチルグリコール基、カルボン酸オキシアルキルエステ
ル基（アルキル基は炭素数２〜１２）のいずれかであ
り、Ｒ3 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の
アルキル基、炭素数１〜１２のオキシアルキル基、炭素
数１〜１２のカルボン酸アルキルエステル基、炭素数２
〜１２の２−ヒドロキシアルキルカルボン酸基のいずれ
かであり、ｎは０〜３の整数を表わす。〕
【００１２】（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を２個以
上含有する光重合性モノマー及び、（Ｄ）光重合開始剤
を含有し、第二の感光性樹脂層が、（Ｅ）スチレン及び
スチレン誘導体の中から選ばれる少なくとも１種の単量
体と、α、β−不飽和カルボン酸の中から選ばれる少な
くとも１種の単量体と、アルキル（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、（メ
タ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミドとその
窒素上の水素がアルキル基又はアルコキシ基で置換され
た化合物、及びメタクリル酸グリシジルの中から選ばれ
る少なくとも１種の単量体を共重合して得られる重量平
均分子量３０，０００から１５０，０００のビニル共重
合体、（Ｆ）下記式（１）で示される分子量が１０００
以下の光重合性モノマー、
上含有する光重合性モノマー及び、（Ｄ）光重合開始剤
を含有し、第二の感光性樹脂層が、（Ｅ）スチレン及び
スチレン誘導体の中から選ばれる少なくとも１種の単量
体と、α、β−不飽和カルボン酸の中から選ばれる少な
くとも１種の単量体と、アルキル（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、（メ
タ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミドとその
窒素上の水素がアルキル基又はアルコキシ基で置換され
た化合物、及びメタクリル酸グリシジルの中から選ばれ
る少なくとも１種の単量体を共重合して得られる重量平
均分子量３０，０００から１５０，０００のビニル共重
合体、（Ｆ）下記式（１）で示される分子量が１０００
以下の光重合性モノマー、
【００１３】
【化４】 〔式中、φはベンゼン環を表わし、Ｒ1 は水素原子又は
メチル基を表わし、Ｒ2は炭素数６〜１２のオキシアル
キル基、繰り返し単位合計が２〜１５のエチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドの共重合体残基、２−ヒドロキ
シアルキル基（アルキル基は炭素数２〜１２）、ネオペ
ンチルグリコール基、カルボン酸オキシアルキルエステ
ル基（アルキル基は炭素数２〜１２）のいずれかであ
り、Ｒ3 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の
アルキル基、炭素数１〜１２のオキシアルキル基、炭素
数１〜１２のカルボン酸アルキルエステル基、炭素数２
〜１２の２−ヒドロキシアルキルカルボン酸基のいずれ
かであり、ｎは０〜３の整数を表わす。〕
メチル基を表わし、Ｒ2は炭素数６〜１２のオキシアル
キル基、繰り返し単位合計が２〜１５のエチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドの共重合体残基、２−ヒドロキ
シアルキル基（アルキル基は炭素数２〜１２）、ネオペ
ンチルグリコール基、カルボン酸オキシアルキルエステ
ル基（アルキル基は炭素数２〜１２）のいずれかであ
り、Ｒ3 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の
アルキル基、炭素数１〜１２のオキシアルキル基、炭素
数１〜１２のカルボン酸アルキルエステル基、炭素数２
〜１２の２−ヒドロキシアルキルカルボン酸基のいずれ
かであり、ｎは０〜３の整数を表わす。〕
【００１４】（Ｇ）エチレン性不飽和二重結合を２個以
上含有する光重合性モノマー及び、（Ｈ）光重合開始剤
を含有してなる事を特徴とする感光性樹脂積層体が提供
するものである。
上含有する光重合性モノマー及び、（Ｈ）光重合開始剤
を含有してなる事を特徴とする感光性樹脂積層体が提供
するものである。
【００１５】以下、本発明を詳しく説明する。本発明の
第一の感光性樹脂組成層の（Ａ）成分の共重合に用いら
れるα，β−不飽和カルボン酸の中から選ばれる少なく
とも１種の単量体としてはアクリル酸、メタクリル酸等
が挙げられる。
第一の感光性樹脂組成層の（Ａ）成分の共重合に用いら
れるα，β−不飽和カルボン酸の中から選ばれる少なく
とも１種の単量体としてはアクリル酸、メタクリル酸等
が挙げられる。
【００１６】（Ａ）成分の今一つの単量体であるアルキ
ル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）
アクリレート、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）ア
クリルアミドとその窒素上の水素がアルキル基又はアル
コキシ基で置換された化合物、及びメタクリル酸グリシ
ジルの中から選ばれる少なくとも１種の単量体として
は、例えば、メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−
プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、
シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリ
レート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシル
メタクリレート等が挙げられる。これらは単独で又は２
種以上を組み合わせて用いられる。
ル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）
アクリレート、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）ア
クリルアミドとその窒素上の水素がアルキル基又はアル
コキシ基で置換された化合物、及びメタクリル酸グリシ
ジルの中から選ばれる少なくとも１種の単量体として
は、例えば、メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−
プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、
シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリ
レート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシル
メタクリレート等が挙げられる。これらは単独で又は２
種以上を組み合わせて用いられる。
【００１７】（Ａ）成分の含有量は感光性樹脂組成物の
全重量基準で５〜９０重量％、好ましくは２０〜８５重
量％、より好ましくは４５〜７５重量％である。（Ａ）
成分の使用量が少なすぎると現像性が低下し、多すぎる
と光感度が低下する。
全重量基準で５〜９０重量％、好ましくは２０〜８５重
量％、より好ましくは４５〜７５重量％である。（Ａ）
成分の使用量が少なすぎると現像性が低下し、多すぎる
と光感度が低下する。
【００１８】本発明で用いる（Ｂ）成分は下記式（１）
で示される分子量が１０００以下の光重合性モノマーで
ある。
で示される分子量が１０００以下の光重合性モノマーで
ある。
【００１９】
【化５】 〔式中、φはベンゼン環を表わし、Ｒ1 は水素原子又は
メチル基を表わし、Ｒ2は炭素数６〜１２のオキシアル
キル基、繰り返し単位合計が２〜１５のエチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドの共重合体残基、２−ヒドロキ
シアルキル基（アルキル基は炭素数２〜１２）、ネオペ
ンチルグリコール基、カルボン酸オキシアルキルエステ
ル基（アルキル基は炭素数２〜１２）のいずれかであ
り、Ｒ3 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の
アルキル基、炭素数１〜１２のオキシアルキル基、炭素
数１〜１２のカルボン酸アルキルエステル基、炭素数２
〜１２の２−ヒドロキシアルキルカルボン酸基のいずれ
かであり、ｎは０〜３の整数を表わす。〕
メチル基を表わし、Ｒ2は炭素数６〜１２のオキシアル
キル基、繰り返し単位合計が２〜１５のエチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドの共重合体残基、２−ヒドロキ
シアルキル基（アルキル基は炭素数２〜１２）、ネオペ
ンチルグリコール基、カルボン酸オキシアルキルエステ
ル基（アルキル基は炭素数２〜１２）のいずれかであ
り、Ｒ3 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の
アルキル基、炭素数１〜１２のオキシアルキル基、炭素
数１〜１２のカルボン酸アルキルエステル基、炭素数２
〜１２の２−ヒドロキシアルキルカルボン酸基のいずれ
かであり、ｎは０〜３の整数を表わす。〕
【００２０】Ｒ1 の例としては上記した水素原子、メチ
ル基が挙げられる。Ｒ2 の例としては、オキシノニル
基、エチレンオキシド２単位とプロピレンオキシド５単
位の共重合体残基、エチレンオキシド５単位とプロピレ
ンオキシド２単位の共重合体残基、カルボン酸エチルエ
ステル基、カルボン酸−２−ヒドロキシプロピルエステ
ル基、２−ヒドロキシプロピルオキシ基、ネオペンチル
グリコール基が挙げられる。Ｒ3 の例としては、水素原
子、臭素原子、ノニル基、カルボン酸−２−ヒドロキシ
エチルエステル基が挙げられる。
ル基が挙げられる。Ｒ2 の例としては、オキシノニル
基、エチレンオキシド２単位とプロピレンオキシド５単
位の共重合体残基、エチレンオキシド５単位とプロピレ
ンオキシド２単位の共重合体残基、カルボン酸エチルエ
ステル基、カルボン酸−２−ヒドロキシプロピルエステ
ル基、２−ヒドロキシプロピルオキシ基、ネオペンチル
グリコール基が挙げられる。Ｒ3 の例としては、水素原
子、臭素原子、ノニル基、カルボン酸−２−ヒドロキシ
エチルエステル基が挙げられる。
【００２１】そして（Ｂ）成分の例としては、フェノキ
シノニルアクリレート（Ｒ1 ：水素原子、Ｒ2 ：オキシ
ノニル基、Ｒ3 ：水素原子）、２−ヒドロキシ−３−フ
ェノキシプロピルアクリレート（Ｒ1 ：水素原子、
Ｒ2 ：２−ヒドロキシプロピルオキシド基、Ｒ3 ：水素
原子）、アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプ
ロピルフタレート（Ｒ1 ：水素原子、Ｒ2 ：カルボン酸
エチルエステル基、Ｒ3 ：カルボン酸２−ヒドロキシプ
ロピルエステル基）、ディスパノールＬＳ−１００Ａ
（Ｒ1 ：水素原子、Ｒ2 ：エチレンオキシド２単位とプ
ロピレンオキシド５単位の共重合体残基、Ｒ3 ：ノニル
基）、２−アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシ
エチルフタル酸（Ｒ1 ：水素原子、Ｒ2 ：カルボン酸
エチルエステル基、Ｒ3 ：カルボン酸−２−ヒドロキシ
エチルエステル基）等が挙げられる。
シノニルアクリレート（Ｒ1 ：水素原子、Ｒ2 ：オキシ
ノニル基、Ｒ3 ：水素原子）、２−ヒドロキシ−３−フ
ェノキシプロピルアクリレート（Ｒ1 ：水素原子、
Ｒ2 ：２−ヒドロキシプロピルオキシド基、Ｒ3 ：水素
原子）、アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプ
ロピルフタレート（Ｒ1 ：水素原子、Ｒ2 ：カルボン酸
エチルエステル基、Ｒ3 ：カルボン酸２−ヒドロキシプ
ロピルエステル基）、ディスパノールＬＳ−１００Ａ
（Ｒ1 ：水素原子、Ｒ2 ：エチレンオキシド２単位とプ
ロピレンオキシド５単位の共重合体残基、Ｒ3 ：ノニル
基）、２−アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシ
エチルフタル酸（Ｒ1 ：水素原子、Ｒ2 ：カルボン酸
エチルエステル基、Ｒ3 ：カルボン酸−２−ヒドロキシ
エチルエステル基）等が挙げられる。
【００２２】（Ｂ）成分の含有量は感光性樹脂組成物の
全重量基準で３〜３０重量％、好ましくは５〜３０重量
％、より好ましくは５〜２０重量％である。（Ｂ）成分
の含有量が３重量％未満である場合には耐エッチング性
が不足し、３０重量％を越える場合には光重合した感光
性樹脂組成物から得られるレジストパターンの硬化が不
足する。
全重量基準で３〜３０重量％、好ましくは５〜３０重量
％、より好ましくは５〜２０重量％である。（Ｂ）成分
の含有量が３重量％未満である場合には耐エッチング性
が不足し、３０重量％を越える場合には光重合した感光
性樹脂組成物から得られるレジストパターンの硬化が不
足する。
【００２３】本発明で用いる（Ｃ）及び（Ｇ）成分とし
ては、分子内にエチレン性不飽和二重結合を２個以上含
有する公知の光重合性モノマーを用いることができる。
その例としては、ポリオールのアクリル酸もしくはメタ
クリル酸エステル、ポリアミンより得られるアクリルア
ミド類、ウレタン基を含有する化合物、ポリオールとジ
イソシアネートとを反応させて得られる化合物に更にβ
−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを反応させ
て得られるアクリルウレタンオリゴマー、ビスフェノー
ルＡから変性誘導されたアクリル酸もしくはメタクリル
酸エステル類等の内エチレン性不飽和二重結合を２個以
上含有する物を用いることができる。（Ｃ）及び（Ｇ）
成分の含有量はそれぞれ感光性樹脂組成物の全重量基準
で５〜６０重量％、好ましくは５〜５０重量％、より好
ましくは１０〜３５重量％である。
ては、分子内にエチレン性不飽和二重結合を２個以上含
有する公知の光重合性モノマーを用いることができる。
その例としては、ポリオールのアクリル酸もしくはメタ
クリル酸エステル、ポリアミンより得られるアクリルア
ミド類、ウレタン基を含有する化合物、ポリオールとジ
イソシアネートとを反応させて得られる化合物に更にβ
−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを反応させ
て得られるアクリルウレタンオリゴマー、ビスフェノー
ルＡから変性誘導されたアクリル酸もしくはメタクリル
酸エステル類等の内エチレン性不飽和二重結合を２個以
上含有する物を用いることができる。（Ｃ）及び（Ｇ）
成分の含有量はそれぞれ感光性樹脂組成物の全重量基準
で５〜６０重量％、好ましくは５〜５０重量％、より好
ましくは１０〜３５重量％である。
【００２４】本発明で用いられる光重合性モノマー
（Ｂ）及び（Ｃ）成分の全含有量は感光性樹脂組成物の
全重量基準で８〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重
量％、より好ましくは１５〜５５重量％である。この使
用量が少なすぎると耐現像液性が低下し、多すぎると感
光性樹脂組成物としての粘度が低下し、感光性樹脂積層
体としてロール状に巻いたときに感光性樹脂組成層がは
み出し接着する（エッジフュージョン現象）。
（Ｂ）及び（Ｃ）成分の全含有量は感光性樹脂組成物の
全重量基準で８〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重
量％、より好ましくは１５〜５５重量％である。この使
用量が少なすぎると耐現像液性が低下し、多すぎると感
光性樹脂組成物としての粘度が低下し、感光性樹脂積層
体としてロール状に巻いたときに感光性樹脂組成層がは
み出し接着する（エッジフュージョン現象）。
【００２５】本発明で用いる（Ｄ）及び（Ｈ）成分の光
重合開始剤は、特に限定されるものでなく、公知の光重
合開始剤を用いることができる。好ましい例として、ベ
ンゾフェノン、アンスラキノン、ミヒラーズケトン、４
−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２
−エチルアントラキノン等の芳香族ケトン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル、メチル
ベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン、ベン
ジルジメチルケタールなどのベンジル誘導体、
重合開始剤は、特に限定されるものでなく、公知の光重
合開始剤を用いることができる。好ましい例として、ベ
ンゾフェノン、アンスラキノン、ミヒラーズケトン、４
−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２
−エチルアントラキノン等の芳香族ケトン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル、メチル
ベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン、ベン
ジルジメチルケタールなどのベンジル誘導体、
【００２６】２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ
フェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−
（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５
−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシ
フェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−
（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニ
ルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイ
ミダゾール二量体等のイミダゾール二量体、９−フェニ
ルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニ
ル）ヘプタン等のアクリジン誘導体、
フェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−
（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５
−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシ
フェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−
（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニ
ルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイ
ミダゾール二量体等のイミダゾール二量体、９−フェニ
ルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニ
ル）ヘプタン等のアクリジン誘導体、
【００２７】Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（３−クロロ
フェニル）グリシン、Ｎ−（２，４−ジクロルフェニ
ル）グリシン、Ｎ−（２−ニトロフェニル）グリシン、
Ｎ−（４−アセチルフェニル）グリシン、Ｎ−（４−ニ
トロフェニリル）グリシン、Ｎ−（４−シアノフェニリ
ル）グリシン、Ｎ−（４−クロロフェニル）グリシン、
Ｎ−（２−メチルフェニル）グリシン、Ｎ−（２−メト
キシフェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルグ
リシン、Ｎ−（３−シアノフェニル）グリシン、Ｎ−
（４−カルバモイルフェニル）グリシン、Ｎ−（４−ス
ルファモイルフェニル）グリシン等のフェニルグリシン
誘導体、ジアゾニウム化合物、クロルチオキサントン等
のチオキサントン誘導体等を使用することができる。
フェニル）グリシン、Ｎ−（２，４−ジクロルフェニ
ル）グリシン、Ｎ−（２−ニトロフェニル）グリシン、
Ｎ−（４−アセチルフェニル）グリシン、Ｎ−（４−ニ
トロフェニリル）グリシン、Ｎ−（４−シアノフェニリ
ル）グリシン、Ｎ−（４−クロロフェニル）グリシン、
Ｎ−（２−メチルフェニル）グリシン、Ｎ−（２−メト
キシフェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルグ
リシン、Ｎ−（３−シアノフェニル）グリシン、Ｎ−
（４−カルバモイルフェニル）グリシン、Ｎ−（４−ス
ルファモイルフェニル）グリシン等のフェニルグリシン
誘導体、ジアゾニウム化合物、クロルチオキサントン等
のチオキサントン誘導体等を使用することができる。
【００２８】（Ｄ）及び（Ｈ）成分の含有量はそれぞれ
感光性樹脂組成物の全重量基準で、０．０１〜３０重量
％、好ましくは０．０１〜２０重量％、より好ましくは
０．０５〜１５重量％である。この使用量が少なすぎる
と、十分な光感度が得られない傾向があり、多すぎると
露光の際に感光性樹脂組成の表面での光吸収が増加して
内部の光硬化が不足する傾向がある。
感光性樹脂組成物の全重量基準で、０．０１〜３０重量
％、好ましくは０．０１〜２０重量％、より好ましくは
０．０５〜１５重量％である。この使用量が少なすぎる
と、十分な光感度が得られない傾向があり、多すぎると
露光の際に感光性樹脂組成の表面での光吸収が増加して
内部の光硬化が不足する傾向がある。
【００２９】本発明の第二の感光性樹脂組成層の（Ｅ）
成分の共重合体に用いられるスチレン及びスチレン誘導
体としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチ
ルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−メトキシスチレ
ン、ｐ−エトキシスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−
ブロモスチレン等を挙げることができ、スチレンが好ま
しく用いられる。スチレン及びスチレン誘導体の含有率
は５〜３０％が好ましい。５％より低いと解像性が悪化
し、３０％より多いと現像に要する時間がいちじるしく
長くなる。
成分の共重合体に用いられるスチレン及びスチレン誘導
体としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチ
ルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−メトキシスチレ
ン、ｐ−エトキシスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−
ブロモスチレン等を挙げることができ、スチレンが好ま
しく用いられる。スチレン及びスチレン誘導体の含有率
は５〜３０％が好ましい。５％より低いと解像性が悪化
し、３０％より多いと現像に要する時間がいちじるしく
長くなる。
【００３０】α，β−不飽和カルボン酸の中から選ばれ
る単量体としてはアクリル酸、メタクリル酸等が挙げら
れる。アルキル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロニトリ
ル、（メタ）アクリルアミドとその窒素上の水素がアル
キル基又はアルコキシ基で置換された化合物、及びメタ
クリル酸グリシジルの中から選ばれる少なくとも１種の
単量体としては、例えば、メチルアクリレート、メチル
メタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリ
レート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタ
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキ
シルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタ
クリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エ
チルヘキシルメタクリレートが挙げられ、これらビニル
単量体は任意に用いることがでる。上記（Ｅ）成分のビ
ニル共重合体の含有量は感光性樹脂組成物の全重量基準
で、５〜９０重量％、好ましくは２０〜８５重量％、よ
り好ましくは４５〜７５重量％である。
る単量体としてはアクリル酸、メタクリル酸等が挙げら
れる。アルキル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロニトリ
ル、（メタ）アクリルアミドとその窒素上の水素がアル
キル基又はアルコキシ基で置換された化合物、及びメタ
クリル酸グリシジルの中から選ばれる少なくとも１種の
単量体としては、例えば、メチルアクリレート、メチル
メタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリ
レート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタ
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキ
シルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタ
クリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エ
チルヘキシルメタクリレートが挙げられ、これらビニル
単量体は任意に用いることがでる。上記（Ｅ）成分のビ
ニル共重合体の含有量は感光性樹脂組成物の全重量基準
で、５〜９０重量％、好ましくは２０〜８５重量％、よ
り好ましくは４５〜７５重量％である。
【００３１】本発明に用いられる（Ｆ）成分は、上記し
た（Ｂ）成分と同じ光重合性モノマーが用いられる。
（Ｆ）成分の含有量は感光性樹脂組成物の全重量基準で
３〜３０重量％、好ましくは５〜３０重量％、より好ま
しくは５〜２０重量％である。本発明で用いられる光重
合性モノマー（Ｆ）及び（Ｇ）成分の全含有量は感光性
樹脂組成物の全重量基準で８〜９０重量％、好ましくは
１０〜８０重量％、より好ましくは１５〜５５重量％で
ある。
た（Ｂ）成分と同じ光重合性モノマーが用いられる。
（Ｆ）成分の含有量は感光性樹脂組成物の全重量基準で
３〜３０重量％、好ましくは５〜３０重量％、より好ま
しくは５〜２０重量％である。本発明で用いられる光重
合性モノマー（Ｆ）及び（Ｇ）成分の全含有量は感光性
樹脂組成物の全重量基準で８〜９０重量％、好ましくは
１０〜８０重量％、より好ましくは１５〜５５重量％で
ある。
【００３２】本発明で用いる感光性樹脂組成物には、染
料、顔料などの着色物質を含有させても良い。例えば、
フクシン、オーラミン塩基、カルコキシドグリーンＳ、
パラマジェンタ、クリスタルバイオレット、メチルオレ
ンジ、ナイルブルー２Ｂ、ビクトリアブルー、マラカイ
トグリーン、ベイシックブルー２０、ダイヤモンドグリ
ーンなどを用いることができる。
料、顔料などの着色物質を含有させても良い。例えば、
フクシン、オーラミン塩基、カルコキシドグリーンＳ、
パラマジェンタ、クリスタルバイオレット、メチルオレ
ンジ、ナイルブルー２Ｂ、ビクトリアブルー、マラカイ
トグリーン、ベイシックブルー２０、ダイヤモンドグリ
ーンなどを用いることができる。
【００３３】本発明で用いる感光性樹脂組成物には、光
硬化部分を未硬化部分と区別するために、光照射により
発色する発色系染料を含有させても良い。発色系染料と
しては、ロイコ染料とハロゲン化合物の組み合わせが良
く知られている。ロイコ染料としては、例えばトリス
（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）、トリス
（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）メタン等
が挙げられる。ハロゲン化合物としては、臭化アミル、
臭化イソアミル、臭化イソブチレン、臭化エチレン、臭
化ジフェニルメチル、臭化ベンザル、臭化メチレン、ト
リブロモメチルフェニルスルフォン、４臭化炭素、トリ
ス（２，３−ジブロモプロピル）ホスフェート、トリク
ロロアセトアミド、ヨウ化アミル、ヨウ化イソブチル、
１，１，１−トリクロロ−２，２−ビス（ｐ−クロロフ
ェニル）エタン、ヘキサクロロエタン等が挙げられる。
硬化部分を未硬化部分と区別するために、光照射により
発色する発色系染料を含有させても良い。発色系染料と
しては、ロイコ染料とハロゲン化合物の組み合わせが良
く知られている。ロイコ染料としては、例えばトリス
（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）、トリス
（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）メタン等
が挙げられる。ハロゲン化合物としては、臭化アミル、
臭化イソアミル、臭化イソブチレン、臭化エチレン、臭
化ジフェニルメチル、臭化ベンザル、臭化メチレン、ト
リブロモメチルフェニルスルフォン、４臭化炭素、トリ
ス（２，３−ジブロモプロピル）ホスフェート、トリク
ロロアセトアミド、ヨウ化アミル、ヨウ化イソブチル、
１，１，１−トリクロロ−２，２−ビス（ｐ−クロロフ
ェニル）エタン、ヘキサクロロエタン等が挙げられる。
【００３４】本発明で用いる感光性樹脂組成物には、必
要に応じてラジカル重合禁止剤を含有させ、熱安定性、
保存安定性を向上、調節することができる。ラジカル重
合禁止剤の例としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフ
ェノール、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、ピク
リン酸、ｐ−トルイジン、ニトロソフェニルヒドロキシ
アミンアルミニウム塩等が挙げられる。
要に応じてラジカル重合禁止剤を含有させ、熱安定性、
保存安定性を向上、調節することができる。ラジカル重
合禁止剤の例としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフ
ェノール、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、ピク
リン酸、ｐ−トルイジン、ニトロソフェニルヒドロキシ
アミンアルミニウム塩等が挙げられる。
【００３５】また、本発明で用いる感光性樹脂組成物に
は必要に応じて可塑剤などの添加剤を含有することがで
きる。このような添加剤としては、例えばジエチルフタ
レート等のフタル酸エステル類、ｏ−トルエンスルホン
酸アミド、ｐ−トルエンスルホン酸アミド、クエン酸ト
リブチル、クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリ
エチル、アセチルクエン酸トリ−ｎ−プロピル、アセチ
ルクエン酸トリ−ｎ−ブチル、ポリプロピレングリコー
ル等が挙げられる。
は必要に応じて可塑剤などの添加剤を含有することがで
きる。このような添加剤としては、例えばジエチルフタ
レート等のフタル酸エステル類、ｏ−トルエンスルホン
酸アミド、ｐ−トルエンスルホン酸アミド、クエン酸ト
リブチル、クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリ
エチル、アセチルクエン酸トリ−ｎ−プロピル、アセチ
ルクエン酸トリ−ｎ−ブチル、ポリプロピレングリコー
ル等が挙げられる。
【００３６】本発明で用いる感光性樹脂組成物は、組成
の各成分を、これらを溶解する溶剤、例えば、トルエ
ン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、クロロホルム、塩化メチレン、メチルアルコー
ル、エチルアルコール等に溶解、混合させることにより
均一な溶液とすることができる。
の各成分を、これらを溶解する溶剤、例えば、トルエ
ン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、クロロホルム、塩化メチレン、メチルアルコー
ル、エチルアルコール等に溶解、混合させることにより
均一な溶液とすることができる。
【００３７】本発明の感光性樹脂積層体に用いられる支
持体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ酢
酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
メタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリアクリロニト
リル、スチレン共重合体、ポリアミド、セルロース誘導
体等のフィルムを使用することができる。
持体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ酢
酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
メタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリアクリロニト
リル、スチレン共重合体、ポリアミド、セルロース誘導
体等のフィルムを使用することができる。
【００３８】本発明に於いて、感光性樹脂層の塗設は従
来から採用されている方法で行うことができる。例え
ば、前述の溶剤を用いて溶液とした第一の感光性樹脂層
を支持体上に塗布、乾燥後、第二の感光性樹脂層の溶液
を塗布、乾燥して塗設することができる。また、Ｔダ
イ、キスディッピング等により連続して塗設することも
できる。
来から採用されている方法で行うことができる。例え
ば、前述の溶剤を用いて溶液とした第一の感光性樹脂層
を支持体上に塗布、乾燥後、第二の感光性樹脂層の溶液
を塗布、乾燥して塗設することができる。また、Ｔダ
イ、キスディッピング等により連続して塗設することも
できる。
【００３９】
【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて本発明の実
施の形態を説明するが、本発明はこれら実施例により限
定されない。 ＜感光性樹脂組成物の調製＞表１に示す成分を用いて、
表２〜４に示す配合（単位はグラム）で感光性樹脂組成
物の溶液を調製した。なお、表２〜４に示す組成成分の
略号は、表１に示す通りのものを表わしている。
施の形態を説明するが、本発明はこれら実施例により限
定されない。 ＜感光性樹脂組成物の調製＞表１に示す成分を用いて、
表２〜４に示す配合（単位はグラム）で感光性樹脂組成
物の溶液を調製した。なお、表２〜４に示す組成成分の
略号は、表１に示す通りのものを表わしている。
【００４０】
実施例１〜８及び比較例１〜３ ＜感光性樹脂積層体＞第一の感光性樹脂組成物の溶液を
２０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に
均一に塗布し、対流式乾燥機で８０℃にて約３分間乾燥
させ、厚み３μｍの第一の感光性樹脂組成物からなる感
光性樹脂積層体を得た。次に、第二の感光性樹脂組成物
の溶液を上記積層体の感光性樹脂層面に均一に塗布し、
１００℃で約３分間乾燥させて感光性樹脂層を形成、二
層合わせて厚み３０μｍの第一及び第二の感光性樹脂層
からなる感光性樹脂積層体を得た。
２０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に
均一に塗布し、対流式乾燥機で８０℃にて約３分間乾燥
させ、厚み３μｍの第一の感光性樹脂組成物からなる感
光性樹脂積層体を得た。次に、第二の感光性樹脂組成物
の溶液を上記積層体の感光性樹脂層面に均一に塗布し、
１００℃で約３分間乾燥させて感光性樹脂層を形成、二
層合わせて厚み３０μｍの第一及び第二の感光性樹脂層
からなる感光性樹脂積層体を得た。
【００４１】比較例４、５ 感光性樹脂組成物の溶液を２０μｍ厚のポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に均一に塗布し、１００℃で約
３分間乾燥させて感光性樹脂層を形成し、厚み３０μｍ
の感光性樹脂層からなる感光性樹脂積層体を得た。
レフタレートフィルム上に均一に塗布し、１００℃で約
３分間乾燥させて感光性樹脂層を形成し、厚み３０μｍ
の感光性樹脂層からなる感光性樹脂積層体を得た。
【００４２】＜解像性＞厚み２００μｍの４２アロイ基
板（日立金属（株）製）を１％苛性ソーダ水溶液に１分
間浸漬し、水洗、送風乾燥し得られた基板を６０℃に加
温し、この金属表面に前記感光性樹脂積層体をホットロ
ールラミネーター（旭化成工業（株）製）を用いて１２
０℃に加熱しながらラミネートした。次に、高圧水銀灯
ランプを有する露光機（オーク（株）製）ＨＭＷ−２０
１ＫＢを用いてライン：スペース＝１：１ライン幅２０
〜１００μｍのネガマスクパターンを支持体であるポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に置き、このフィル
ムを介して８０ｍＪ／ｃｍ2 で露光した。次にポリエチ
レンテレフタレートフィルムを剥離し、３０℃１重量％
炭酸ナトリウム水溶液を６０秒間スプレーすることによ
り、未露光部分を除去し解像性を観察した。結果を表
５、６にまとめた。
板（日立金属（株）製）を１％苛性ソーダ水溶液に１分
間浸漬し、水洗、送風乾燥し得られた基板を６０℃に加
温し、この金属表面に前記感光性樹脂積層体をホットロ
ールラミネーター（旭化成工業（株）製）を用いて１２
０℃に加熱しながらラミネートした。次に、高圧水銀灯
ランプを有する露光機（オーク（株）製）ＨＭＷ−２０
１ＫＢを用いてライン：スペース＝１：１ライン幅２０
〜１００μｍのネガマスクパターンを支持体であるポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に置き、このフィル
ムを介して８０ｍＪ／ｃｍ2 で露光した。次にポリエチ
レンテレフタレートフィルムを剥離し、３０℃１重量％
炭酸ナトリウム水溶液を６０秒間スプレーすることによ
り、未露光部分を除去し解像性を観察した。結果を表
５、６にまとめた。
【００４３】＜耐エッチング性＞上記と同様にして、ラ
イン＆スペース５０μｍのネガマスクパターンを用いて
露光、現像した後、スプレーエッチング装置（東京加工
機（株）製）により、塩化第二鉄水溶液（液の比重４７
ボーメ、塩酸濃度０．２％、温度５０℃）をスプレー圧
力２．０ｋｇ／ｃｍ2 で１０分間スプレー、エッチング
し、レジストパターンの剥がれを観察した。その後、レ
ジストを剥離し金属ラインの表面状態を観察した。結果
を表５、６にまとめた。
イン＆スペース５０μｍのネガマスクパターンを用いて
露光、現像した後、スプレーエッチング装置（東京加工
機（株）製）により、塩化第二鉄水溶液（液の比重４７
ボーメ、塩酸濃度０．２％、温度５０℃）をスプレー圧
力２．０ｋｇ／ｃｍ2 で１０分間スプレー、エッチング
し、レジストパターンの剥がれを観察した。その後、レ
ジストを剥離し金属ラインの表面状態を観察した。結果
を表５、６にまとめた。
【００４４】
【表１】
【００４５】
【表２】
【００４６】
【表３】
【００４７】
【表４】
【００４８】
【表５】
【００４９】
【表６】
【００５０】上記表５、表６中の＊、＊＊、＊＊＊の意
味は次の通りである。 ＊市販の引っ張り試験機を用いて支持体を感光性樹脂層
から剥離する時の１８０度ピール強度を測定した。 ○：ピール強度が２ｇｆ／ｃｍ以上で良好な接着性 ×：ピール強度が２ｇｆ／ｃｍ未満で、金属にラミネー
トした場合感光性樹脂層から支持体の一部浮きが認めら
れる ＊＊○：レジストラインの剥がれなし ×：レジストラインの一部剥がれが認められる ＊＊＊○：エッチング液のしみ込み無し △：銅パターン上面のエッヂ部分に一部しみ込みが認め
られる ×：銅パターン上面全体にしみ込みが認められる
味は次の通りである。 ＊市販の引っ張り試験機を用いて支持体を感光性樹脂層
から剥離する時の１８０度ピール強度を測定した。 ○：ピール強度が２ｇｆ／ｃｍ以上で良好な接着性 ×：ピール強度が２ｇｆ／ｃｍ未満で、金属にラミネー
トした場合感光性樹脂層から支持体の一部浮きが認めら
れる ＊＊○：レジストラインの剥がれなし ×：レジストラインの一部剥がれが認められる ＊＊＊○：エッチング液のしみ込み無し △：銅パターン上面のエッヂ部分に一部しみ込みが認め
られる ×：銅パターン上面全体にしみ込みが認められる
【００５１】
【発明の効果】本発明の感光性樹脂積層体は感光性樹脂
層を多層化し特定のモノマーを含有させる事で、解像
性、金属面への密着性、耐エッチング性に優れ、プリン
ト配線板の製造、リードフレーム等金属の微細加工等に
極めて好適に用いる事ができるという効果を有してい
る。
層を多層化し特定のモノマーを含有させる事で、解像
性、金属面への密着性、耐エッチング性に優れ、プリン
ト配線板の製造、リードフレーム等金属の微細加工等に
極めて好適に用いる事ができるという効果を有してい
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/033 Ｇ０３Ｆ 7/033 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｌ 3/18 3/18 Ｄ
Claims (1)
- 【請求項１】 支持体上に第一の感光性樹脂層及び第二
の感光性樹脂層を順次積層してなる感光性樹脂積層体で
あって、第一の感光性樹脂層が、 （Ａ）α，β−不飽和カルボン酸の中から選ばれる少な
くとも１種の単量体と、アルキル（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、（メ
タ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミドとその
窒素上の水素がアルキル基又はアルコキシ基で置換され
た化合物、及びメタクリル酸グリシジルの中から選ばれ
る少なくとも１種の単量体を共重合して得られる重量平
均分子量３０，０００から２８０，０００のビニル共重
合体、 （Ｂ）下記式（１）で示される分子量が１０００以下の
光重合性モノマー、 【化１】 〔式中、φはベンゼン環を表わし、Ｒ1 は水素原子又は
メチル基を表わし、Ｒ2は炭素数６〜１２のオキシアル
キル基、繰り返し単位合計が２〜１５のエチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドの共重合体残基、２−ヒドロキ
シアルキル基（アルキル基は炭素数２〜１２）、ネオペ
ンチルグリコール基、カルボン酸オキシアルキルエステ
ル基（アルキル基は炭素数２〜１２）のいずれかであ
り、Ｒ3 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の
アルキル基、炭素数１〜１２のオキシアルキル基、炭素
数１〜１２のカルボン酸アルキルエステル基、炭素数２
〜１２の２−ヒドロキシアルキルカルボン酸基のいずれ
かであり、ｎは０〜３の整数を表わす。〕 （Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を２個以上含有する光
重合性モノマー及び、 （Ｄ）光重合開始剤を含有し、第二の感光性樹脂層が、 （Ｅ）スチレン及びスチレン誘導体の中から選ばれる少
なくとも１種の単量体と、α，β−不飽和カルボン酸の
中から選ばれる少なくとも１種の単量体と、アルキル
（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）ア
クリレート、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アク
リルアミドとその窒素上の水素がアルキル基又はアルコ
キシ基で置換された化合物、及びメタクリル酸グリシジ
ルの中から選ばれる少なくとも１種の単量体を共重合し
て得られる重量平均分子量３０，０００から１５０，０
００のビニル共重合体、 （Ｆ）下記式（１）で示される分子量が１０００以下の
光重合性モノマー、 【化２】 〔式中、φはベンゼン環を表わし、Ｒ1 は水素原子又は
メチル基を表わし、Ｒ2は炭素数６〜１２のオキシアル
キル基、繰り返し単位合計が２〜１５のエチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドの共重合体残基、２−ヒドロキ
シアルキル基（アルキル基は炭素数２〜１２）、ネオペ
ンチルグリコール基、カルボン酸オキシアルキルエステ
ル基（アルキル基は炭素数２〜１２）のいずれかであ
り、Ｒ3 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の
アルキル基、炭素数１〜１２のオキシアルキル基、炭素
数１〜１２のカルボン酸アルキルエステル基、炭素数２
〜１２の２−ヒドロキシアルキルカルボン酸基のいずれ
かであり、ｎは０〜３の整数を表わす。〕 （Ｇ）エチレン性不飽和二重結合を２個以上含有する光
重合性モノマー及び、 （Ｈ）光重合開始剤を含有してなる事を特徴とする感光
性樹脂積層体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20737597A JP3945864B2 (ja) | 1996-07-31 | 1997-07-17 | 新規な感光性樹脂積層体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-216862 | 1996-07-31 | ||
| JP21686296 | 1996-07-31 | ||
| JP20737597A JP3945864B2 (ja) | 1996-07-31 | 1997-07-17 | 新規な感光性樹脂積層体 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10111573A true JPH10111573A (ja) | 1998-04-28 |
| JP3945864B2 JP3945864B2 (ja) | 2007-07-18 |
Family
ID=26516214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20737597A Expired - Fee Related JP3945864B2 (ja) | 1996-07-31 | 1997-07-17 | 新規な感光性樹脂積層体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3945864B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7288345B2 (en) | 2005-03-31 | 2007-10-30 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Photosensitive colored composition and color filter |
| US7303856B2 (en) * | 2003-06-20 | 2007-12-04 | Fujifilm Corporation | Light-sensitive sheet comprising support, first light-sensitive layer and second light-sensitive layer |
| US10338470B2 (en) | 2014-03-20 | 2019-07-02 | Fujifilm Corporation | Photosensitive laminate, transfer material, patterned photosensitive laminate, method for manufacturing the same, touch panel, and image display device |
| CN112770907A (zh) * | 2018-09-28 | 2021-05-07 | 富士胶片株式会社 | 层叠体、层叠体的制造方法及静电电容型输入装置 |
-
1997
- 1997-07-17 JP JP20737597A patent/JP3945864B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7303856B2 (en) * | 2003-06-20 | 2007-12-04 | Fujifilm Corporation | Light-sensitive sheet comprising support, first light-sensitive layer and second light-sensitive layer |
| US7288345B2 (en) | 2005-03-31 | 2007-10-30 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Photosensitive colored composition and color filter |
| US10338470B2 (en) | 2014-03-20 | 2019-07-02 | Fujifilm Corporation | Photosensitive laminate, transfer material, patterned photosensitive laminate, method for manufacturing the same, touch panel, and image display device |
| CN112770907A (zh) * | 2018-09-28 | 2021-05-07 | 富士胶片株式会社 | 层叠体、层叠体的制造方法及静电电容型输入装置 |
| TWI807093B (zh) * | 2018-09-28 | 2023-07-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 積層體、積層體的製造方法及靜電電容型輸入裝置 |
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| JP3945864B2 (ja) | 2007-07-18 |
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