JP4244255B2 - ネガ型光画像形成性組成物 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ネガ型光画像形成性組成物に関する。さらに詳しくは、たとえばプリント回路基板の作製に用いられるフォトレジスト、とくに一次光画像形成レジストとして好適に使用し得るほか、はんだマスクなどの形成に充分な程度に硬化し得るネガ型光画像形成性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、種々の光画像形成性組成物が開発されてきており、これらの光画像形成性組成物は、通常、たとえば主にプリント回路基板作製時のフォトレジストとして用いられる。
【０００３】
前記のごときフォトレジストに使用する光画像形成性組成物には、通常基板との密着性にすぐれることや、フォトレジストとして用いた際のテント膜強度が高いことなどが要求される。さらには、さらなる高感度化の研究も進められている。
【０００４】
たとえば、従来トリフェニルホスフィンを光開始剤として用い、感度を高めることが試みられてきた。しかしながら、かかるトリフェニルホスフィンを用いた場合、確かに感度は高くなるものの、同時にその他の特性、たとえば銅基板への密着性やテント膜強度が低下するほか、長期安定性をも低下させてしまい、組成物の有効期間が短くなって利用価値が小さくなるという欠点があった。
【０００５】
また、前記トリフェニルホスフィンのかわりにｎ−フェニルグリシンを光開始剤として用い、感度を高めることも試みられてきた。しかしながら、かかるｎ−フェニルグリシンも、感度は向上させ得るが、同時にやはり細線密着性やテント膜強度をいちじるしく低下させるものであり、プリント回路基板の欠陥を増大させる大きな原因となってしまう。
【０００６】
さらに、前記のごとき光画像形成性組成物には、露光後に濃く着色するように色素が用いられている。かかる色素により、フォトレジストにおいて露光部分と未露光部分とのあいだにコントラストが生じる。このことにより、実際のところ、使用者は露光フォトレジスト部分を知ることになる。
【０００７】
また、最近の産業規模での要求は、たとえばフォトツール上の汚れなどの、パネルの明らかな欠陥についての検査に要する時間を短縮することである。
【０００８】
前記トリフェニルホスフィンは、感度を高めることができる光開始剤であるが、色素による着色を妨げる傾向があるため、前記コントラストが小さくなり、露光フォトレジスト層を検査することが困難となってしまう。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は前記従来技術に鑑みてなされたものであり、高テント膜強度、すぐれた密着性などが維持されたまま、感度が高く安定しており、しかも露光部分と未露光部分とのあいだのコントラストが大きく、フォトレジストとして好適に使用することができるネガ型光画像形成性組成物を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、（Ａ）組成物をアルカリ水溶液中で現像可能にし得る充分な酸基を有するバインダーポリマー、
（Ｂ）ラジカル重合により高分子ポリマーを形成し得る付加重合性α，β−エチレン性不飽和化合物および
（Ｃ）光開始剤からなり、
（Ａ）バインダーポリマーの量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の３０〜８０重量％、
（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の２０〜７０重量％、ならびに
（Ｃ）光開始剤の量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の０．１〜２０重量％であり、
前記（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の５０重量％以上がメタクリレート成分であり、
前記（Ｃ）光開始剤が
トリフェニルホスフィンおよび
ｎ−フェニルグリシンからなり、
トリフェニルホスフィンの量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の０．００５〜３重量％、ならびに
ｎ−フェニルグリシンの量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の０．００５〜２重量％であるネガ型光画像形成性組成物に関する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明のネガ型光画像形成性組成物の必須構成成分は、バインダーポリマー（有機高分子バインダー）（Ａ）、光重合性α，β−エチレン性不飽和化合物（付加重合性成分）（Ｂ）および光開始剤（有機放射線感応性フリーラジカル生成化合物）（Ｃ）である。バインダーポリマー（Ａ）は、充分な酸基、通常カルボン酸基を有し、このバインダーポリマー（Ａ）がアルカリ水溶液に溶解し得ることから、本発明のネガ型光画像形成性組成物は、アルカリ水溶液中で現像可能なのである。付加重合性成分（Ｂ）はラジカル重合により高分子ポリマーを形成し得るエチレン性不飽和化合物である。光開始剤（Ｃ）は活性光線にて活性化され、付加重合性成分（Ｂ）の連鎖成長付加重合を開始させる成分である。
【００１２】
ここで、成分（Ａ）（バインダーポリマー（Ａ））および成分（Ｂ）（光（付加）重合性成分（Ｂ））は全体で１００重量％とし、たとえば成分（Ｃ）（光開始剤（Ｃ））などの他の成分は、成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量１００重量部（以下、部という）に対する量（部）として計算される。
【００１３】
本発明のネガ型光画像形成性組成物は、前記したように、アルカリ水溶液中で現像可能であり、したがって、実質的に酸基を有する。このように本発明のネガ型光画像形成性組成物が実質的に酸基を有するのは、酸基を有するバインダーポリマー（Ａ）が用いられているからである。かかるバインダーポリマー（Ａ）としては、酸価が約８０以上、好ましくは約１００以上、さらに好ましくは約１３０以上であり、また約２５０以下であるものが望ましい。前記酸基とは、通常カルボン酸基であるが、たとえばスルホン酸基、リン酸基なども考えられる。前記バインダーポリマー（Ａ）は、通常重量平均分子量が約２００００〜約２０００００、なかんづく約６００００以上であるものが好ましい。
【００１４】
バインダーポリマー（Ａ）は、通常酸基を有するモノマーと酸基を有しないモノマーとを共重合させて得られる。かかる酸基を有するモノマーの好ましい例としては、たとえばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、２−ヒドロキシプロピルアクリロイルホスフェート、２−ヒドロキシ−α−アクリロイルホスフェートなどがあげられ、これらのなかから１種またはそれ以上のモノマーを用い、バインダーポリマー（Ａ）を得ることができる。
【００１５】
また、かかる酸基を有しないモノマーとしては、たとえばメチルアクリレート、メチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ブチルメタクリレート、オクチルアクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレート、デカメチレングリコールジアクリレート、デカメチレングリコールジメタクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、プロピレングリコールモノメタクリレート、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチル−２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリレート、１，３−プロパンジオールジメタクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリメタクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、１−フェニルエチレン−１，２−ジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレート、１，４−ベンゼンジオールジメタクリレートなどのアクリル酸またはメタクリル酸のエステル；スチレンや、２−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの置換スチレン；ビニルアクリレート、ビニルメタクリレートなどのビニルエステルがあげられる。
【００１６】
バインダーポリマー（Ａ）の量は広範囲にわたっていてもよいが、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約３０重量％以上、好ましくは約４０重量％以上であり、また約８０重量％以下、好ましくは約７０重量％以下である。
【００１７】
前記のごときバインダーポリマー（Ａ）およびこれを用いた光画像形成性組成物の例は、たとえば以下の米国特許第３，９５３，３０９号、第４，００３，８７７号、第４，６１０，９５１号および第４，６９５，５２７号明細書に記載されている。
【００１８】
光重合性化合物（Ｂ）は、通常エチレン性不飽和結合、とくにα，β−エチレン性不飽和結合を有するモノマー、ダイマーまたは短鎖オリゴマーであり、かかる光重合性化合物（Ｂ）には、単官能化合物およびα，β−エチレン性不飽和基を２またはそれ以上有する化合物も含まれる。通常、単官能化合物および多官能化合物の混合物を用いることが好ましい。光重合性化合物（Ｂ）としては、好ましくは、たとえば前記バインダーポリマー（Ａ）を得る際に好適に用いられるモノマーとして例示されたモノマー、とくに酸基を有しないモノマーがあげられるが、これらに限定されるものではない。
【００１９】
光重合性化合物（Ｂ）の量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約２０重量％以上、好ましくは約３０重量％以上であり、また約７０重量％以下、好ましくは約６０重量％以下である。
【００２０】
なお、本発明において、後述する光開始剤（Ｃ）はメタクリル酸および／またはそのエステル官能基にとくに効果的であるので、光重合性化合物（Ｂ）のα，β−エチレン性不飽和化合物の５０重量％以上、好ましくは６５重量％以上がメタクリレート成分またはメタクリル酸成分であり、とくにメタクリレート成分である。
【００２１】
活性光線を照射してモノマーの重合を開始させるために、光画像形成性組成物には光開始剤（Ｃ）が含まれる。該光開始剤（Ｃ）は、活性光線により活性化し得る有機放射線感応性フリーラジカル生成化合物や、α，β−エチレン性不飽和基のフリーラジカル重合を促進する触媒、増感剤であり、光重合性化合物（Ｂ）の連鎖成長付加重合を開始させる。
【００２２】
光開始剤（Ｃ）の量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約０．１重量％以上、好ましくは約０．５重量％以上であり、また約２０重量％以下、好ましくは約１５重量％以下である。
【００２３】
本発明において、前記光開始剤（Ｃ）はトリフェニルホスフィン（以下、ＴＰＰＮという）およびｎ−フェニルグリシン（以下、ＮＰＧという）の混合物からなる。このＴＰＰＮおよびＮＰＧは、いずれか一方では有用ではなく、ＴＰＰＮとＮＰＧとの組合わせが本発明の特徴の１つである。かかる特定の組合わせにより、一方の化合物のみの場合の欠点が現れることなく、感度を上昇させることが可能である。すなわち、密着性、テント膜強度または安定性に悪影響を与えずに、よりすぐれた感度が付与され得る。
【００２４】
ＴＰＰＮの量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約０．００５重量％以上、好ましくは約０．０２重量％以上であり、また約３重量％以下、好ましくは約１．５重量％以下である。さらにＮＰＧの量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約０．００５重量％以上、好ましくは約０．０１５重量％以上であり、また約２重量％以下、好ましくは約１重量％以下である。
【００２５】
前記ＴＰＰＮおよびＮＰＧに加え、その他の光開始剤を光開始剤（Ｃ）の一部として併用してもよい。
【００２６】
その他の光開始剤としては、たとえばベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン［ミヒラーケトン］、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、アントラキノン、２−エチルアントラキノン、ナフトキノン、フェナントレンキノンなどの芳香族ケトン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン類；ジベンジル、ベンジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケタールなどのベンジル誘導体；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタンなどのアクリジン誘導体；２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類；１，１−ジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン，２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノンなどのアセトフェノン類などがあげられる。
【００２７】
その他の光開始剤の量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約０．１〜約２０重量％、なかんづく約１．５〜約６重量％であることが好ましい。
【００２８】
さらに本発明においては、前記光開始剤（Ｃ）には、ロフィン二量体（イミダゾール二量体）が含有されていることが好ましい。
【００２９】
ロフィン二量体としては、たとえばトリフェニルビイミダゾール類、とくに２，４，５−トリフェニルイミダゾール二量体として、たとえば２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラキス（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｐ−カルボキシフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｐ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラキス（ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２′−ジ−ｏ−トリル−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ジ−ｐ−トリル−４，４′−ジ−ｏ−トリル−５，５′−ジフェニルビイミダゾールなどがあげられ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３０】
ロフィン二量体の量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約０．５重量％以上、好ましくは約２重量％以上であることが望ましく、また約６重量％以下、好ましくは約５重量％以下であることが望ましい。
【００３１】
本発明において、可塑剤を用いた場合には、光画像形成性組成物の柔軟性が向上する。
【００３２】
可塑剤としては、たとえばジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジアリルフタレートなどのフタル酸エステル類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのグリコール類；トリエチレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールジベンゾエートなどのグリコールエステル類；トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェートなどのリン酸エステル類；ｐ−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミドなどのアミド類;アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸ジオクチル、セバシン酸ジメチル、アゼライン酸ジオクチル、リンゴ酸ジブチル、クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、クエン酸トリエチルアセチル、クエン酸トリｎ−プロピルアセチル、クエン酸トリｎ−ブチルアセチル、ラウリン酸ブチル、ジオクチル−４，５−ジエポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボキシレートなどの脂肪酸二塩基酸エステル；グリセリントリアセチルエステル類などがあげられ、これらは単独でまたは２種以上を組合わせて用いることができる。
【００３３】
可塑剤を用いる場合、その量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の好ましくは約０．５重量％以上、さらに好ましくは約１．５重量％以上であり、また好ましくは約１０重量％以下、さらに好ましくは約７重量％以下である。
【００３４】
前記したように、本発明の光画像形成性組成物には、たとえばフォトレジストにおいて露光部分と未露光部分とのあいだにコントラストが生じるということから、色素を含有させることが好ましい。本発明では、光開始剤（Ｃ）としてＴＰＰＮとＮＰＧとが組合わせて用いられるので、ＮＰＧなしでＴＰＰＮのみが用いられた場合に生じるコントラストの低下を抑制することが可能である。
【００３５】
色素としては、たとえばジフェニルアミン、ジベンジルアニリン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、ｐ−トルイジン、４，４′−ビフェニルジアミン、ｏ−クロロアニリンなどのほか、ロイコクリスタルバイオレット、ロイコマラカイトグリーンなどがあげられ、これらは単独でまたは２種以上を組合わせて用いることができる。
【００３６】
色素を用いる場合、その量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の好ましくは約０．１重量％以上、さらに好ましくは約０．２重量％以上であり、また好ましくは約１重量％以下、さらに好ましくは約０．６重量％以下である。
【００３７】
さらに、本発明の光画像形成性組成物には、たとえばその他のポリマー、塗料、安定剤、柔軟剤、充填剤などの既知の種々の添加成分が含有されていてもよい。
【００３８】
本発明の光画像形成性組成物を用いる工程は従来のとおりである。代表的な手法では、液体状組成物から形成させるかまたは乾燥フィルムから層として転移させた光画像形成性組成物層を銅張積層板の銅表面にラミネートする。この光画像形成性組成物層に適切な装置にて活性光線を照射させる。活性光線の照射により光照射域のモノマーが重合し、その結果、現像液に対する耐性を有する架橋構造が形成される。つぎに、組成物をたとえば１％炭酸ナトリウム水溶液などの希アルカリ水溶液中で現像する。このアルカリ水溶液がバインダーポリマー（Ａ）のカルボキシル基と塩を形成するようになり、バインダーポリマー（Ａ）が可溶で除去し得るものとなる。現像ののち、レジストが除去された部分から銅を除去するために、エッチング液を用いてもよく、これによりプリント回路が形成される。残ったレジストは、こののち適切な剥離液を用いて除去される。
【００３９】
本発明により、銅表面に充分に密着し得る精密な（７５μｍ未満の）レジストパターンが形成される。
【００４０】
【実施例】
つぎに、本発明のネガ型光画像形成性組成物を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
【００４１】
実施例１〜３（１〜２は比較例）
まず、以下に示す組成となるように光画像形成性組成物を調製した。
【００４２】
なお、前記換算量は、ポリマー、重合性モノマーおよび重合性オリゴマー（成分（Ａ）と成分（Ｂ））を合計１００重量％としたときの標準値である。
【００４３】
前記光画像形成組成物には、０．５重量％のＮＰＧ（実施例１（比較例））、０．３重量％のＴＰＰＮ（実施例２（比較例））または０．１重量％のＮＰＧと０．２重量％のＴＰＰＮとの混合物（実施例３）を混合した。これらＮＰＧおよびＴＰＰＮの量は、１．０９４倍した標準値である。
【００４４】
組成物は、いずれも２−ブタノン／２−プロパノール混合溶媒（重量比：７／１）中、固形分濃度約５０重量％に調製した。得られた混合溶液をポリエステルフィルムに塗布し、残留溶媒が約１重量％またはそれ未満となるように乾燥させた。ついで塗工乾燥物（膜厚：４０μｍ）を、銅張積層板（銅厚：３５μｍ）上に、ホットロールラミネーターを用いて温度１１０℃、速度２ｍ／分、圧力３ｋｇ／ｃｍ2でラミネートした。
【００４５】
つぎに、露光量を４０ｍＪに調整し、適切なフォトツールを用いて画像形成した。ついで、チャンバー長の４０〜５０％の部分にブレイクポイントが現れるように滞留時間を調整し、スプレー現像を行ない（３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液で４０秒）、水洗した。
【００４６】
エッチングは、２Ｎの塩化銅（II）／塩酸水溶液を用いて４８℃で行なった。ついで、３％水酸化ナトリウム水溶液中、５０℃で、画像形成、現像およびエッチングされたフォトレジストをエッチングボードから剥離し、さらに水洗した。
【００４７】
かかる実施例での試験は、前記工程を通して種々の時点で行なわれた。これらの結果（各特性）を表１に示す。また、表１中には各特性における目標値もあわせて示す。
【００４８】
なお、前記各特性は以下の方法にしたがって調べた。
【００４９】
（１）感度
ＵＶ照射装置（オーク社製、ＨＭＷ−５３２）による露光で、ストウファー（Ｓｔｏｕｆｆｅｒ、登録商標）の２１ステップウェッジで露光量が４０ｍＪのときの残存ステップ数である。
【００５０】
（２）カラーコントラスト
色差計（日本電色工業（株）製、Ｚ−１００１ＤＰ）を用い、露光前の色彩と、４０ｍＪの露光量で露光したのち、１５分間後の色彩とを比較してカラーコントラスト（％）を測定した。
【００５１】
（３）感度の安定性
安定性は、固形分濃度約５０重量％に調製した前記組成物を１日間保持したのちにフィルムの感度測定を行ない、さらに５日間保持したのちに同様に測定して評価した。
【００５２】
前記保持期間ののち感度の変化が小さい場合、感度の安定性にすぐれるといえる。（ストウファーの４１ステップウェッジを用いて試験した。）
【００５３】
（４）細線密着性
ライン／スペース＝３０／４００〜２５０／４００（μｍ）のパターンマスクを用いて４０ｍＪの露光量でフォトレジストの露光を行ない、ブレイクポイントの４倍の現像時間で現像した。こののち、剥離せずに残存して独立細線で密着しているレジストのもっとも細いライン幅（μｍ）を測定した。
【００５４】
（５）テント膜強度
テント膜強度は、露光および現像後のレジストの柔軟性を示すものである。
【００５５】
６ｍｍφの孔の両側にフォトレジストをラミネートし、ついで４０ｍＪの露光量で露光して３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液で現像した。つぎに、テンションゲージで孔のテント膜を押し、テント膜が破裂した時点の力（ｇ）を測定した。
【００５６】
測定値が大きいほど、柔軟性にすぐれるといえる。
【００５７】
【表１】
【００５８】
表１に示された結果から、本発明のネガ型光画像形成性組成物をフォトレジストとして用いた実施例３では、いずれの測定値も好ましい値であり、テント膜強度が高く、密着性にすぐれ、感度が高く安定しており、しかもカラーコントラストが大きいことから、このネガ型光画像形成性組成物がすぐれた特性を兼備したものであることがわかる。
【００５９】
【発明の効果】
本発明のネガ型光画像形成性組成物は、高テント膜強度、すぐれた密着性が維持されたまま、感度が高く安定しており、しかも露光部分と未露光部分とのあいだのコントラストが大きく、アルカリ水溶液中で現像可能な組成物であるので、たとえばフォトレジストとして好適に使用することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、ネガ型光画像形成性組成物に関する。さらに詳しくは、たとえばプリント回路基板の作製に用いられるフォトレジスト、とくに一次光画像形成レジストとして好適に使用し得るほか、はんだマスクなどの形成に充分な程度に硬化し得るネガ型光画像形成性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、種々の光画像形成性組成物が開発されてきており、これらの光画像形成性組成物は、通常、たとえば主にプリント回路基板作製時のフォトレジストとして用いられる。
【０００３】
前記のごときフォトレジストに使用する光画像形成性組成物には、通常基板との密着性にすぐれることや、フォトレジストとして用いた際のテント膜強度が高いことなどが要求される。さらには、さらなる高感度化の研究も進められている。
【０００４】
たとえば、従来トリフェニルホスフィンを光開始剤として用い、感度を高めることが試みられてきた。しかしながら、かかるトリフェニルホスフィンを用いた場合、確かに感度は高くなるものの、同時にその他の特性、たとえば銅基板への密着性やテント膜強度が低下するほか、長期安定性をも低下させてしまい、組成物の有効期間が短くなって利用価値が小さくなるという欠点があった。
【０００５】
また、前記トリフェニルホスフィンのかわりにｎ−フェニルグリシンを光開始剤として用い、感度を高めることも試みられてきた。しかしながら、かかるｎ−フェニルグリシンも、感度は向上させ得るが、同時にやはり細線密着性やテント膜強度をいちじるしく低下させるものであり、プリント回路基板の欠陥を増大させる大きな原因となってしまう。
【０００６】
さらに、前記のごとき光画像形成性組成物には、露光後に濃く着色するように色素が用いられている。かかる色素により、フォトレジストにおいて露光部分と未露光部分とのあいだにコントラストが生じる。このことにより、実際のところ、使用者は露光フォトレジスト部分を知ることになる。
【０００７】
また、最近の産業規模での要求は、たとえばフォトツール上の汚れなどの、パネルの明らかな欠陥についての検査に要する時間を短縮することである。
【０００８】
前記トリフェニルホスフィンは、感度を高めることができる光開始剤であるが、色素による着色を妨げる傾向があるため、前記コントラストが小さくなり、露光フォトレジスト層を検査することが困難となってしまう。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は前記従来技術に鑑みてなされたものであり、高テント膜強度、すぐれた密着性などが維持されたまま、感度が高く安定しており、しかも露光部分と未露光部分とのあいだのコントラストが大きく、フォトレジストとして好適に使用することができるネガ型光画像形成性組成物を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、（Ａ）組成物をアルカリ水溶液中で現像可能にし得る充分な酸基を有するバインダーポリマー、
（Ｂ）ラジカル重合により高分子ポリマーを形成し得る付加重合性α，β−エチレン性不飽和化合物および
（Ｃ）光開始剤からなり、
（Ａ）バインダーポリマーの量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の３０〜８０重量％、
（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の２０〜７０重量％、ならびに
（Ｃ）光開始剤の量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の０．１〜２０重量％であり、
前記（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の５０重量％以上がメタクリレート成分であり、
前記（Ｃ）光開始剤が
トリフェニルホスフィンおよび
ｎ−フェニルグリシンからなり、
トリフェニルホスフィンの量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の０．００５〜３重量％、ならびに
ｎ−フェニルグリシンの量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の０．００５〜２重量％であるネガ型光画像形成性組成物に関する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明のネガ型光画像形成性組成物の必須構成成分は、バインダーポリマー（有機高分子バインダー）（Ａ）、光重合性α，β−エチレン性不飽和化合物（付加重合性成分）（Ｂ）および光開始剤（有機放射線感応性フリーラジカル生成化合物）（Ｃ）である。バインダーポリマー（Ａ）は、充分な酸基、通常カルボン酸基を有し、このバインダーポリマー（Ａ）がアルカリ水溶液に溶解し得ることから、本発明のネガ型光画像形成性組成物は、アルカリ水溶液中で現像可能なのである。付加重合性成分（Ｂ）はラジカル重合により高分子ポリマーを形成し得るエチレン性不飽和化合物である。光開始剤（Ｃ）は活性光線にて活性化され、付加重合性成分（Ｂ）の連鎖成長付加重合を開始させる成分である。
【００１２】
ここで、成分（Ａ）（バインダーポリマー（Ａ））および成分（Ｂ）（光（付加）重合性成分（Ｂ））は全体で１００重量％とし、たとえば成分（Ｃ）（光開始剤（Ｃ））などの他の成分は、成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量１００重量部（以下、部という）に対する量（部）として計算される。
【００１３】
本発明のネガ型光画像形成性組成物は、前記したように、アルカリ水溶液中で現像可能であり、したがって、実質的に酸基を有する。このように本発明のネガ型光画像形成性組成物が実質的に酸基を有するのは、酸基を有するバインダーポリマー（Ａ）が用いられているからである。かかるバインダーポリマー（Ａ）としては、酸価が約８０以上、好ましくは約１００以上、さらに好ましくは約１３０以上であり、また約２５０以下であるものが望ましい。前記酸基とは、通常カルボン酸基であるが、たとえばスルホン酸基、リン酸基なども考えられる。前記バインダーポリマー（Ａ）は、通常重量平均分子量が約２００００〜約２０００００、なかんづく約６００００以上であるものが好ましい。
【００１４】
バインダーポリマー（Ａ）は、通常酸基を有するモノマーと酸基を有しないモノマーとを共重合させて得られる。かかる酸基を有するモノマーの好ましい例としては、たとえばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、２−ヒドロキシプロピルアクリロイルホスフェート、２−ヒドロキシ−α−アクリロイルホスフェートなどがあげられ、これらのなかから１種またはそれ以上のモノマーを用い、バインダーポリマー（Ａ）を得ることができる。
【００１５】
また、かかる酸基を有しないモノマーとしては、たとえばメチルアクリレート、メチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ブチルメタクリレート、オクチルアクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレート、デカメチレングリコールジアクリレート、デカメチレングリコールジメタクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、プロピレングリコールモノメタクリレート、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチル−２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリレート、１，３−プロパンジオールジメタクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリメタクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、１−フェニルエチレン−１，２−ジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレート、１，４−ベンゼンジオールジメタクリレートなどのアクリル酸またはメタクリル酸のエステル；スチレンや、２−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの置換スチレン；ビニルアクリレート、ビニルメタクリレートなどのビニルエステルがあげられる。
【００１６】
バインダーポリマー（Ａ）の量は広範囲にわたっていてもよいが、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約３０重量％以上、好ましくは約４０重量％以上であり、また約８０重量％以下、好ましくは約７０重量％以下である。
【００１７】
前記のごときバインダーポリマー（Ａ）およびこれを用いた光画像形成性組成物の例は、たとえば以下の米国特許第３，９５３，３０９号、第４，００３，８７７号、第４，６１０，９５１号および第４，６９５，５２７号明細書に記載されている。
【００１８】
光重合性化合物（Ｂ）は、通常エチレン性不飽和結合、とくにα，β−エチレン性不飽和結合を有するモノマー、ダイマーまたは短鎖オリゴマーであり、かかる光重合性化合物（Ｂ）には、単官能化合物およびα，β−エチレン性不飽和基を２またはそれ以上有する化合物も含まれる。通常、単官能化合物および多官能化合物の混合物を用いることが好ましい。光重合性化合物（Ｂ）としては、好ましくは、たとえば前記バインダーポリマー（Ａ）を得る際に好適に用いられるモノマーとして例示されたモノマー、とくに酸基を有しないモノマーがあげられるが、これらに限定されるものではない。
【００１９】
光重合性化合物（Ｂ）の量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約２０重量％以上、好ましくは約３０重量％以上であり、また約７０重量％以下、好ましくは約６０重量％以下である。
【００２０】
なお、本発明において、後述する光開始剤（Ｃ）はメタクリル酸および／またはそのエステル官能基にとくに効果的であるので、光重合性化合物（Ｂ）のα，β−エチレン性不飽和化合物の５０重量％以上、好ましくは６５重量％以上がメタクリレート成分またはメタクリル酸成分であり、とくにメタクリレート成分である。
【００２１】
活性光線を照射してモノマーの重合を開始させるために、光画像形成性組成物には光開始剤（Ｃ）が含まれる。該光開始剤（Ｃ）は、活性光線により活性化し得る有機放射線感応性フリーラジカル生成化合物や、α，β−エチレン性不飽和基のフリーラジカル重合を促進する触媒、増感剤であり、光重合性化合物（Ｂ）の連鎖成長付加重合を開始させる。
【００２２】
光開始剤（Ｃ）の量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約０．１重量％以上、好ましくは約０．５重量％以上であり、また約２０重量％以下、好ましくは約１５重量％以下である。
【００２３】
本発明において、前記光開始剤（Ｃ）はトリフェニルホスフィン（以下、ＴＰＰＮという）およびｎ−フェニルグリシン（以下、ＮＰＧという）の混合物からなる。このＴＰＰＮおよびＮＰＧは、いずれか一方では有用ではなく、ＴＰＰＮとＮＰＧとの組合わせが本発明の特徴の１つである。かかる特定の組合わせにより、一方の化合物のみの場合の欠点が現れることなく、感度を上昇させることが可能である。すなわち、密着性、テント膜強度または安定性に悪影響を与えずに、よりすぐれた感度が付与され得る。
【００２４】
ＴＰＰＮの量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約０．００５重量％以上、好ましくは約０．０２重量％以上であり、また約３重量％以下、好ましくは約１．５重量％以下である。さらにＮＰＧの量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約０．００５重量％以上、好ましくは約０．０１５重量％以上であり、また約２重量％以下、好ましくは約１重量％以下である。
【００２５】
前記ＴＰＰＮおよびＮＰＧに加え、その他の光開始剤を光開始剤（Ｃ）の一部として併用してもよい。
【００２６】
その他の光開始剤としては、たとえばベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン［ミヒラーケトン］、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、アントラキノン、２−エチルアントラキノン、ナフトキノン、フェナントレンキノンなどの芳香族ケトン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン類；ジベンジル、ベンジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケタールなどのベンジル誘導体；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタンなどのアクリジン誘導体；２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類；１，１−ジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン，２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノンなどのアセトフェノン類などがあげられる。
【００２７】
その他の光開始剤の量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約０．１〜約２０重量％、なかんづく約１．５〜約６重量％であることが好ましい。
【００２８】
さらに本発明においては、前記光開始剤（Ｃ）には、ロフィン二量体（イミダゾール二量体）が含有されていることが好ましい。
【００２９】
ロフィン二量体としては、たとえばトリフェニルビイミダゾール類、とくに２，４，５−トリフェニルイミダゾール二量体として、たとえば２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラキス（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｐ−カルボキシフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｐ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラキス（ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２′−ジ−ｏ−トリル−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ジ−ｐ−トリル−４，４′−ジ−ｏ−トリル−５，５′−ジフェニルビイミダゾールなどがあげられ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３０】
ロフィン二量体の量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の約０．５重量％以上、好ましくは約２重量％以上であることが望ましく、また約６重量％以下、好ましくは約５重量％以下であることが望ましい。
【００３１】
本発明において、可塑剤を用いた場合には、光画像形成性組成物の柔軟性が向上する。
【００３２】
可塑剤としては、たとえばジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジアリルフタレートなどのフタル酸エステル類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのグリコール類；トリエチレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールジベンゾエートなどのグリコールエステル類；トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェートなどのリン酸エステル類；ｐ−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミドなどのアミド類;アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸ジオクチル、セバシン酸ジメチル、アゼライン酸ジオクチル、リンゴ酸ジブチル、クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、クエン酸トリエチルアセチル、クエン酸トリｎ−プロピルアセチル、クエン酸トリｎ−ブチルアセチル、ラウリン酸ブチル、ジオクチル−４，５−ジエポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボキシレートなどの脂肪酸二塩基酸エステル；グリセリントリアセチルエステル類などがあげられ、これらは単独でまたは２種以上を組合わせて用いることができる。
【００３３】
可塑剤を用いる場合、その量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の好ましくは約０．５重量％以上、さらに好ましくは約１．５重量％以上であり、また好ましくは約１０重量％以下、さらに好ましくは約７重量％以下である。
【００３４】
前記したように、本発明の光画像形成性組成物には、たとえばフォトレジストにおいて露光部分と未露光部分とのあいだにコントラストが生じるということから、色素を含有させることが好ましい。本発明では、光開始剤（Ｃ）としてＴＰＰＮとＮＰＧとが組合わせて用いられるので、ＮＰＧなしでＴＰＰＮのみが用いられた場合に生じるコントラストの低下を抑制することが可能である。
【００３５】
色素としては、たとえばジフェニルアミン、ジベンジルアニリン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、ｐ−トルイジン、４，４′−ビフェニルジアミン、ｏ−クロロアニリンなどのほか、ロイコクリスタルバイオレット、ロイコマラカイトグリーンなどがあげられ、これらは単独でまたは２種以上を組合わせて用いることができる。
【００３６】
色素を用いる場合、その量は、通常成分（Ａ）および成分（Ｂ）の全量の好ましくは約０．１重量％以上、さらに好ましくは約０．２重量％以上であり、また好ましくは約１重量％以下、さらに好ましくは約０．６重量％以下である。
【００３７】
さらに、本発明の光画像形成性組成物には、たとえばその他のポリマー、塗料、安定剤、柔軟剤、充填剤などの既知の種々の添加成分が含有されていてもよい。
【００３８】
本発明の光画像形成性組成物を用いる工程は従来のとおりである。代表的な手法では、液体状組成物から形成させるかまたは乾燥フィルムから層として転移させた光画像形成性組成物層を銅張積層板の銅表面にラミネートする。この光画像形成性組成物層に適切な装置にて活性光線を照射させる。活性光線の照射により光照射域のモノマーが重合し、その結果、現像液に対する耐性を有する架橋構造が形成される。つぎに、組成物をたとえば１％炭酸ナトリウム水溶液などの希アルカリ水溶液中で現像する。このアルカリ水溶液がバインダーポリマー（Ａ）のカルボキシル基と塩を形成するようになり、バインダーポリマー（Ａ）が可溶で除去し得るものとなる。現像ののち、レジストが除去された部分から銅を除去するために、エッチング液を用いてもよく、これによりプリント回路が形成される。残ったレジストは、こののち適切な剥離液を用いて除去される。
【００３９】
本発明により、銅表面に充分に密着し得る精密な（７５μｍ未満の）レジストパターンが形成される。
【００４０】
【実施例】
つぎに、本発明のネガ型光画像形成性組成物を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
【００４１】
実施例１〜３（１〜２は比較例）
まず、以下に示す組成となるように光画像形成性組成物を調製した。
【００４２】
【００４３】
前記光画像形成組成物には、０．５重量％のＮＰＧ（実施例１（比較例））、０．３重量％のＴＰＰＮ（実施例２（比較例））または０．１重量％のＮＰＧと０．２重量％のＴＰＰＮとの混合物（実施例３）を混合した。これらＮＰＧおよびＴＰＰＮの量は、１．０９４倍した標準値である。
【００４４】
組成物は、いずれも２−ブタノン／２−プロパノール混合溶媒（重量比：７／１）中、固形分濃度約５０重量％に調製した。得られた混合溶液をポリエステルフィルムに塗布し、残留溶媒が約１重量％またはそれ未満となるように乾燥させた。ついで塗工乾燥物（膜厚：４０μｍ）を、銅張積層板（銅厚：３５μｍ）上に、ホットロールラミネーターを用いて温度１１０℃、速度２ｍ／分、圧力３ｋｇ／ｃｍ2でラミネートした。
【００４５】
つぎに、露光量を４０ｍＪに調整し、適切なフォトツールを用いて画像形成した。ついで、チャンバー長の４０〜５０％の部分にブレイクポイントが現れるように滞留時間を調整し、スプレー現像を行ない（３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液で４０秒）、水洗した。
【００４６】
エッチングは、２Ｎの塩化銅（II）／塩酸水溶液を用いて４８℃で行なった。ついで、３％水酸化ナトリウム水溶液中、５０℃で、画像形成、現像およびエッチングされたフォトレジストをエッチングボードから剥離し、さらに水洗した。
【００４７】
かかる実施例での試験は、前記工程を通して種々の時点で行なわれた。これらの結果（各特性）を表１に示す。また、表１中には各特性における目標値もあわせて示す。
【００４８】
なお、前記各特性は以下の方法にしたがって調べた。
【００４９】
（１）感度
ＵＶ照射装置（オーク社製、ＨＭＷ−５３２）による露光で、ストウファー（Ｓｔｏｕｆｆｅｒ、登録商標）の２１ステップウェッジで露光量が４０ｍＪのときの残存ステップ数である。
【００５０】
（２）カラーコントラスト
色差計（日本電色工業（株）製、Ｚ−１００１ＤＰ）を用い、露光前の色彩と、４０ｍＪの露光量で露光したのち、１５分間後の色彩とを比較してカラーコントラスト（％）を測定した。
【００５１】
（３）感度の安定性
安定性は、固形分濃度約５０重量％に調製した前記組成物を１日間保持したのちにフィルムの感度測定を行ない、さらに５日間保持したのちに同様に測定して評価した。
【００５２】
前記保持期間ののち感度の変化が小さい場合、感度の安定性にすぐれるといえる。（ストウファーの４１ステップウェッジを用いて試験した。）
【００５３】
（４）細線密着性
ライン／スペース＝３０／４００〜２５０／４００（μｍ）のパターンマスクを用いて４０ｍＪの露光量でフォトレジストの露光を行ない、ブレイクポイントの４倍の現像時間で現像した。こののち、剥離せずに残存して独立細線で密着しているレジストのもっとも細いライン幅（μｍ）を測定した。
【００５４】
（５）テント膜強度
テント膜強度は、露光および現像後のレジストの柔軟性を示すものである。
【００５５】
６ｍｍφの孔の両側にフォトレジストをラミネートし、ついで４０ｍＪの露光量で露光して３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液で現像した。つぎに、テンションゲージで孔のテント膜を押し、テント膜が破裂した時点の力（ｇ）を測定した。
【００５６】
測定値が大きいほど、柔軟性にすぐれるといえる。
【００５７】
【表１】
表１に示された結果から、本発明のネガ型光画像形成性組成物をフォトレジストとして用いた実施例３では、いずれの測定値も好ましい値であり、テント膜強度が高く、密着性にすぐれ、感度が高く安定しており、しかもカラーコントラストが大きいことから、このネガ型光画像形成性組成物がすぐれた特性を兼備したものであることがわかる。
【００５９】
【発明の効果】
本発明のネガ型光画像形成性組成物は、高テント膜強度、すぐれた密着性が維持されたまま、感度が高く安定しており、しかも露光部分と未露光部分とのあいだのコントラストが大きく、アルカリ水溶液中で現像可能な組成物であるので、たとえばフォトレジストとして好適に使用することができる。
Claims (3)
- （Ａ）組成物をアルカリ水溶液中で現像可能にし得る充分な酸基を有するバインダーポリマー、
（Ｂ）ラジカル重合により高分子ポリマーを形成し得る付加重合性α，β−エチレン性不飽和化合物および
（Ｃ）光開始剤からなり、
（Ａ）バインダーポリマーの量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の３０〜８０重量％、
（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の２０〜７０重量％、ならびに
（Ｃ）光開始剤の量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の０．１〜２０重量％であり、
前記（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の５０重量％以上がメタクリレート成分であり、
前記（Ｃ）光開始剤が
トリフェニルホスフィンおよび
ｎ−フェニルグリシンからなり、
トリフェニルホスフィンの量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の０．００５〜３重量％、ならびに
ｎ−フェニルグリシンの量が（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の０．００５〜２重量％であるネガ型光画像形成性組成物。 - 色素を（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の０．１〜１重量％含有してなる請求項１記載のネガ型光画像形成性組成物。
- ロフィン二量体を（Ａ）バインダーポリマーおよび（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物の全量の０．５〜６重量％含有してなる請求項１記載のネガ型光画像形成性組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/088,561 US5939238A (en) | 1998-06-02 | 1998-06-02 | Photoimageable composition having improved photoinitiator system |
| US09/088561 | 1998-06-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000003035A JP2000003035A (ja) | 2000-01-07 |
| JP4244255B2 true JP4244255B2 (ja) | 2009-03-25 |
Family
ID=22212088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12921999A Expired - Lifetime JP4244255B2 (ja) | 1998-06-02 | 1999-05-10 | ネガ型光画像形成性組成物 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5939238A (ja) |
| EP (1) | EP0962827A3 (ja) |
| JP (1) | JP4244255B2 (ja) |
| KR (1) | KR100302049B1 (ja) |
| CN (1) | CN1103065C (ja) |
| CA (1) | CA2266607C (ja) |
| SG (1) | SG80032A1 (ja) |
| TW (1) | TW562996B (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11167203A (ja) * | 1997-12-01 | 1999-06-22 | Nichigoo Mooton Kk | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント |
| US6004725A (en) * | 1997-12-01 | 1999-12-21 | Morton International, Inc. | Photoimageable compositions |
| EP1117698B1 (en) * | 1998-09-28 | 2006-04-19 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Chelates comprising chinoid groups as photoinitiators |
| JP5129680B2 (ja) * | 2008-07-29 | 2013-01-30 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、並びに感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
| JP5393092B2 (ja) * | 2008-09-30 | 2014-01-22 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| JP2011105804A (ja) * | 2009-11-13 | 2011-06-02 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | （メタ）アクリル系硬化性組成物、（メタ）アクリル系複合シート、ならびに（メタ）アクリル系硬化物およびその製造方法 |
| EP2950144B1 (en) | 2014-05-31 | 2016-12-14 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Imaging process on substrates with aqueous alkaline soluble uv blocking compositions and aqueous soluble uv transparent films |
| US20160327861A1 (en) * | 2015-05-05 | 2016-11-10 | E I Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive dry film compositions |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3953309A (en) * | 1972-12-14 | 1976-04-27 | Dynachem Corporation | Polymerization compositions and processes having polymeric binding agents |
| US4003877A (en) * | 1974-05-24 | 1977-01-18 | Dynachem Corporation | Photopolymerizable screen printing inks for permanent coatings prepared from aryloxyalkyl compositions |
| US4245030A (en) * | 1979-05-23 | 1981-01-13 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture containing improved plasticizer |
| US4414312A (en) * | 1980-09-03 | 1983-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Photopolymerizable polyamide ester resin compositions containing an oxygen scavenger |
| DE3136818C2 (de) * | 1980-09-19 | 1990-08-02 | Hitachi Chemical Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Verwendung eines lichtempfindlichen Gemisches und eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Bildung einer Lötmaske |
| US4610951A (en) * | 1983-06-06 | 1986-09-09 | Dynachem Corporation | Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition |
| DE3412992A1 (de) * | 1984-04-06 | 1985-10-24 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und verfahren zum aufbringen von markierungen auf eine loetstopresistschicht |
| US4876175A (en) * | 1988-05-09 | 1989-10-24 | Eastman Kodak Company | Dye sensitized photographic imaging systems |
| US5217845A (en) * | 1988-12-22 | 1993-06-08 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material containing same |
| US5310862A (en) * | 1991-08-20 | 1994-05-10 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive polyimide precursor compositions and process for preparing same |
| JP3220498B2 (ja) * | 1992-03-06 | 2001-10-22 | 岡本化学工業株式会社 | 光重合性組成物 |
| TW424172B (en) * | 1995-04-19 | 2001-03-01 | Hitachi Chemical Co Ltd | Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same |
| EP0801328A1 (en) * | 1996-04-09 | 1997-10-15 | Morton International, Inc. | Photoimageable composition having an acrylic-functional UV stabilizer |
| AU707217B1 (en) * | 1997-12-01 | 1999-07-08 | Nichigo Morton Co., Ltd. | Photoimageable compositions |
-
1998
- 1998-06-02 US US09/088,561 patent/US5939238A/en not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-03-16 TW TW088104038A patent/TW562996B/zh active
- 1999-03-19 CA CA002266607A patent/CA2266607C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-05-10 JP JP12921999A patent/JP4244255B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-20 SG SG9902520A patent/SG80032A1/en unknown
- 1999-05-27 KR KR1019990019154A patent/KR100302049B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-05-28 EP EP99304213A patent/EP0962827A3/en not_active Withdrawn
- 1999-06-02 CN CN99108303A patent/CN1103065C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SG80032A1 (en) | 2001-04-17 |
| EP0962827A2 (en) | 1999-12-08 |
| US5939238A (en) | 1999-08-17 |
| CA2266607A1 (en) | 1999-12-02 |
| KR20000005718A (ko) | 2000-01-25 |
| JP2000003035A (ja) | 2000-01-07 |
| CN1103065C (zh) | 2003-03-12 |
| TW562996B (en) | 2003-11-21 |
| CA2266607C (en) | 2002-02-26 |
| KR100302049B1 (ko) | 2001-10-18 |
| CN1237720A (zh) | 1999-12-08 |
| EP0962827A3 (en) | 2000-06-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081226 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130116 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130116 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130116 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140116 Year of fee payment: 5 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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