JPS6221141A - 光重合性組成物 - Google Patents

光重合性組成物

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JPS6221141A
JPS6221141A JP16145885A JP16145885A JPS6221141A JP S6221141 A JPS6221141 A JP S6221141A JP 16145885 A JP16145885 A JP 16145885A JP 16145885 A JP16145885 A JP 16145885A JP S6221141 A JPS6221141 A JP S6221141A
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JP
Japan
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allyl
acid
molecule
acrylate
photopolymerizable composition
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Pending
Application number
JP16145885A
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English (en)
Inventor
Masayuki Iwasaki
政幸 岩崎
Minoru Maeda
稔 前田
Sadao Fujikura
藤倉 貞雄
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6221141A publication Critical patent/JPS6221141A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、少なくとも7個のアリル基を分子中に含有す
る低分子量化合物を含有することを%徴とする新規な光
重合性組成物に関するものである。
更に詳しくは、平版印刷版、樹脂凸版、プリント配線基
板作成用ドライフィルムフォトレジスト又はフォトマス
クなどの用途に好適な、高感度で、強度の優れた、可撓
性に富みしかも容易にレジスト剥離が可能な光硬化膜を
与えるアルカリ現像型の光重合性組成物に関するもので
ある。
「従来の技術」 アルカリ現像型の光重合性組成物は基本的に光重合開始
剤と多官能モノマーとカルボン酸基含有バインダーポリ
マーから成り、光を照射すると硬化するとともに希薄弱
アルカリ水溶液に不溶化する。この性質を利用して印刷
版、金属表面加工用フォトレジスト等に広く利用されて
いる。また従来の溶剤現像盤光重合性組成物に比べてよ
シ安全で、安価なアルカリ水溶液で現像できることから
、産業上ますます重要となっている。
しかしながら、アルカリ現像を光重合性組成物の重要な
応用分野の一つであるプリント配線基板作成に使用され
るドライフィルムフォトレジストとして用いた場合種々
の問題点があった。プリント配線基板作成用のドライフ
ィルムフォトレジストに関しては、特公昭ダ!−λj2
3/号公報に記載されており、さらに詳細な使用方法は
、例えばフォトレジスト(「PhotoresistJ
 W、S。
De Forest著、McGr ow−Hi 11 
、 NewYork)/り2!、/43−2/2頁に書
かれている。
ドライフィルムフォトレジストは通常、銅張積層板上に
、配線パターンを持ったフォトマスクに応じたレジスト
パターンを形成し、その後エツチング法(スルーホール
を持つ場合はテンティング法)、メッキ法により銅箔を
加工するために用いられる。テンティング法に用rた場
合従米公矧のトリメテロールプロノ署ントリアクリレー
トのような多官能上ツマ−を含む光重合組成物では、テ
ント膜の伸びが不十分のためしばしば、現像、エツチン
グ工程でテント膜が破れる故障を生じた。さらにこれを
各種プロセスに用いた場合においても硬化後のレジスト
が脆いため、しばしば粉末状のくずとなり、作業場に飛
散して、ラミネーション故障や現像不良、ノ9ターンの
欠陥等の故障の原因となった。またこの問題解決のため
ポリエチレングリコールCアクリレートのよりなコ官能
でアクリル基間の連結基が柔軟な化合物を用いると、確
かに光硬化後のレジストは柔軟性を有するようになるが
、他方で耐アルカリ性の劣化とレジストの剥離スピード
の低下が生じる点で実用には耐えられないことが判った
「本発明が解決しようとする問題点」 従って本発明の目的は光硬化後のレジストが十分な可撓
性を有しているような光重合性組成物を提供することで
ある。さらに本発明の目的は高感度で、現像性が良好で
現像後のレジストの形状が優れており、高解像力であり
、しかもメッキ法においても十分メッキ前処理液、メッ
キa等に耐えられるレジストを与える光重合性組成物の
提供である。また本発明の目的はこれらの目的に達成し
なおかつ硬化レジストが通常用いられる苛性ソーダや苛
性カリのようなアルカリの希薄水溶液で容易に剥離でき
る光重合性組成物の提供である。また他の目的は本発明
についての次の説明から明らかになろう。
「目的を解決するための手段」 本発明者等は種々研究を重ねた結果、上記目的を達成し
うる新規なアルカリ現像型光重合性組成物を見出した。
すなわち本発明の目的は、分子中に2個以上のエチレン
不飽和基を含有する化合物と光重合開始剤トカルボン酸
基含有バインダーポリマー’x 含trアルカリ現像可
能な光重合性組成物において、さらに分子中に少なくと
も7個のアリル基を含有する沸点が7J01aHg下に
おいて10θ℃以上の有機アリル化合物を含有すること
を特徴とするアルカリ現像可能な光重合性組成物によV
達成された。
本発明の有機アリル化合物の例としては下記一般式(1
)〜(Vl )で示される分子量が/θ0θ以下のもの
を挙げることができる。
一般式(1) %式%) Bl 、  炭素数2から/7までの/価〜乙価の炭化
水素基; R2:  アリル基、炭素数/〜/2のアルキル、アラ
ルキル基炭素゛数6〜/2のアリール基;!=θ〜!の
整数 一般式(I[) R,a ;H,炭素数/〜/2のアルキル、アラルキル
炭素数6〜/2のアリール基; R,4:炭素数2〜/2の/価〜乙価の炭化水素基; m:0〜!の整数 一般式(I[) R5、几6:同じか異なってよい、木葉原子、アリル又
は炭素数/〜/2のアルキル、アラルキル基炭素数6〜
/コの了り−ル基。
R/INYぺCH2−CH=CH2 R7、R8:同シか異なってよい、水素原子、アリル又
は炭素数/〜/2のアルキル、アラルキル基、炭素数6
〜/コのアリール基。
一般式(1 %式% 几9、RIO,:  同しか異なってよい、アリル又は
炭素数/〜/2のアルキル、アラルキル基、炭素数6〜
12のアリール基。
一般式(Vl) R1”−+NHCOOCH2−CH=CH2)nR11
:炭素数2〜/3までの7価〜6価の炭化水素基、ポリ
オールとポリイソシアネートの反応生成物残基 n:/〜6 一般式(1)の化合物のうち好、適な具体例を以下に掲
げる。
n−酪酸アリルエステル、n−カプロン酸アリルエステ
ル、n−カプリル酸アリルエステル、n−カプリン酸ア
リルエステル、ラウリン酸アリルエステル、安息香酸ア
リルエステル、n−吉草酸アリルエステル、マレイン咳
アリルn−ブチルエステル、マレイン酸アリルλ−エチ
ルヘギシルエステル、フタル酸アリルn−ブチルエステ
ル、コハク酸ジアリルエステル、マレイン酸ジアリルエ
ステル、フタル酸ジアリルエステル、トリメリット醸ト
リアリルエステル、p−フタルぼジアリルエステル、m
−フタル酸ジアリルエステル、フタル酸アリルベンジル
エステル、ピロメリットldテトラアリルエステル、ナ
フタレン−/、’I、j。
?−テトラカルホン酸テトラアリルエステル、アジピン
酸ジアリルエステル、スペリン酸ジアリルエステル、セ
バシン酸ジアリルエステル、/、2゜3−プロパントリ
カルボン威トリアリルエステル、グルタル酸ジアリルエ
ステル、ジアリルクロレンデート。
一般式(U)の化合物のうち好適な具体例を以下に掲げ
る。
n−酪酸ジアリルアミド、n−カプリン酸ジアリルアミ
ド、フタル酸ジアリルジアミド、アジピン酸ジアリルジ
アミド。
一般式(I[)の化合物のうち好適な具体例としては、 シアヌル岐トリアリルエステル、シアヌル酸ジアリルn
−ブチルエステル、シアヌル酸ジアリルエステル、シア
ヌル酸アリルジベンジルエステルを挙げることができる
一般式(IV)の化合物のうち好適な具体例としては、 イブシアヌル酸トリアリルエステル、インシアヌル酸ジ
アリルエステル、インシアヌル酸アリルジn−ブチルエ
ステルを挙げることができる。
一般式(V)の化合物のうち好適な具体例としては、 リン酸トリアリルエステル、リン酸アリルジフェニルエ
ステル、リン酸ジアリルトリルエステルを挙げることが
できる。
一般式(Vl)の化合物のうち好適な具体例を次に掲げ
る。
N−フェニルカルバミン酸アリルエステル、トリレン−
2,クージカルバミン酸ジアリルエステル、/、6−ヘ
キサンージカルバミン酸ジアリルエステル、メチレンビ
スフェニレン−カプリン酸アリルエステル、トリメチロ
ールプロパン1モルトトリレン−x、4t−ジインシア
イ;−トj%ルの反応生成物の1モルに対し3モルのア
リルアルコールを反応した生成物。ポリエチレングリコ
ール1モルと/、≦−ヘキサンジイソシアネートλモル
との反応生成物1モルに対し2モルのアリルアルコール
を反応した生成物。ジペンタエリスリトール1モルとメ
チレンビスフェニレンインシアネート6モルの反応生成
物1モルに対し3モルのアリルアルコールを反応した生
成物。
これらの有機アリル化合物は分子中に少なくとも2個の
エチレン不飽和基金含有する化合物と光重合開始剤とカ
ルボン酸基含有バインダーポリマーを含む光重合性組成
物中に添加されるが、その際の添加量としては光重合性
組成物の合計/θθ重量部に対し/〜!θ重量部が好ま
しく、4t〜30重量部が特に好ましい。約7重量部以
下ではレジストの軟質化およびレジストの剥離速度向上
の効果がなく、約!θ重量部以上では光重合性組成物の
耐アルカリ現像液性や、光感度が劣化する。
本発明の分子内に少なくとも一個のエチレン不飽和基を
含有する化合物としては、公知のポリオールのアクリレ
ート又はメタクリレート類が好適である。その具体例と
して次に示すものから選ぶことができる。
エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレー
ト、ペンタエチレングリコールジアクリレート、インタ
エチレングリコールジメタクリレート、ヘキサエチレン
グリコールジアクリレート、ヘキサエチレングリコール
ジメタクリレート、ヘプタエチレングリコールジアクリ
レート、ヘプタエチレングリコールジメタクリレート、
オクタエチレングリコールジアクリレート、オクタエチ
レングリコールジアクリレート、ノナエチレングリコー
ルジアクリレート、ノナエチレングリコールジメタクリ
レート、デカエチレングリコールジアクリレート、デカ
エチレングリコールジメタクリレート、ウンデカエチレ
ングリコールジアクリレート、ウンデカエチレングリコ
ールジメタクリレート、ドデカエチレングリコールジア
クリレート、ドデカエチレングリコールジメタクリレー
ト、トリデカエチレングリコールジアクリレート、テト
ラデカエチレングリコールジアクリレート、テトラデカ
エチレングリコールジメタクリレート、平均分子量が2
00、りθ0又は6θOのポリエチレングリコールのジ
アクリレート、平均分子量が200.4tθθ、又は6
0θのポリエチレングリコールのジメタクリレート、ジ
プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレング
リコールジメタクリレート、トリプロピレングリコール
ジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリ
レート、平均分子量がグθ0のポリプロピレングリコー
ルのジアクリレート、又はジメタクリレート、平均分子
量が/!0のポリテトラメチレングリコールのジアクリ
レート又はジメタクリレート、/、3−ブチレングリコ
ールジアクリレート、/、3−ブチレングリコールジメ
タクリレート、/、4t−ブチレングリコールジアクリ
レート、/、4t−ブチレングリコールジメタクリレー
ト、/、コーヘキサングリコールジアクリレート、/、
ご−一\キサングリコールジメタクリレート、ネオペン
チルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジメタクリレート、λ、2′  ビス(4t−アクリ
ロキシプロポキシフェニル)プロパン、+24 +!′
ビス(4t−メタクリロキシプロポキシフェニル)プロ
パン、λ、2′  −ビス(4t−アクリロキシエトキ
シフェニル)ブロノセン、2.2’ −ビス(4t−)
タフe)ロキシエトキシフェニル)プロパン、2 、.
2’  −ビス(4t−アクリロキシジェトキシフェニ
ル)プロパン、コ、2′ −ビス(ターメタクリロキシ
ジェトキシフェニル)プロパン、2.2’−ヒス(4t
−アクリロキシトリエトキシフェニル)プロパン、コ、
λ′ −ビス(グーメタクリロキシトリエトキシフェニ
ル)プロパン、λ、−′ −ビス(4t−アクリロキシ
ジプロポキシフェニル)プロパン、λ、2′ −ビス(
クーメタクリロキシジプロポキシフェニル)プロパン、
2.2’ −ビス(4t−アクリロキシトリプロポキシ
フェニル)フC1/ξン、λ2.2′ −ビス(4cm
メタクリロキシトリフロボキシフェニル)フロパン、ト
リメチロールプロ/センジアクリレート、トリメチロー
ルプロノンジメタクリレート、ジアクリロキシジエトキ
シフェニルスルホン、ステアリン酸ノハンタエリスリト
ールモノエステルトリオールのジアクリレート、無水マ
レイン酸とエチレングリコールからのオリゴエステルジ
オールのジアクリレート、無水7タル酸とエチレングリ
コールからのオリゴエステルジオールのジアクリレート
、ジ(λ−メタクリロキシエチル)−2,≠−トリレン
ジウレタン、ジー(2−アクリロキシエテル)へキサメ
チレンジウレタン、又はポリオールとジイソシアネート
とを予め反応させて得られる末端イソシアネート化合物
)に更にβ−ヒドロキシアルキルアクリレートを反応せ
しめることで得られるアクリルウレタンオリゴマー、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、インタエリスリトール
トリアクリレート、インタエリスリトールトリメタクリ
レート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレート、/、J。
!−トリ(アクリロキシエチル)トリアジントリオン、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジはンタエ
リスリトールはンタアクリレート、ジペンタエリスリト
ールへキサアクリレートグリセリンへのプロピレンオキ
シド付加物のトリアクリレート、トリメチロールプロパ
ンへのプロピレンオキシド付加物のトリアクリレートを
挙げることができる。
これらの分子内に少なくとも2個のエチレン不飽和基を
含有する化合物は単独又はλ種以上混合して用いること
ができる。これらの光重合性組成物中の含有量は、光重
合性組成物の全量/θOX量部当り、コO−?0重量部
が好ましく、特に30〜7ON童部が好ましい。
また特開昭60−//ざダθ号明細杏に書かれているよ
うに種々の目的で、これらの化合物とともに分子内にエ
チレン不飽和基を7個含有する化合物を添加することも
知られている。
分子内にエチレン不飽才11基を7個含有する化合物の
具体例としては、 テトラエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリ
レート、テトラエチレングリコールモノp−ノニルフェ
ニルエーテルアクリレート、テトラプロピレングリコー
ルモノp−ノニルフェニルエーテルアクリレート、ノー
ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、フ
タル酸モノアクリロキシエテルエステル、コハク酸モノ
アクリロキシエチルエステルを挙げることができる。
本発明に添加してもよい分子内にエチレン不飽和基を/
個有する化合物は、光重合性組成物の700重量部に対
し10重量部以下が好ましい。
光重合開始剤の好ましい具体例として、次の化合物を挙
げることができる。芳香族ケトン類、例エバベンゾフェ
ノン、a、4t’ −ヒス(ジメチルアミン)ベンゾフ
ェノン、p、4t’  −ビス(ジエチルアミノ)ベン
ゾフェノン、弘−メトキシーヌ′−ジメチルアミノベン
ゾフェノン、g 、 4t’  −ジメトキシベンゾフ
ェノン、弘−ジメチルアミノベンゾフェノン、ダージメ
チルアミノアセトフエノン、ベンジル、アントラキノン
、2−tert−ブチルアントラキノン、コーメチルア
ントラキノン、フエナントラキノン、キサントン、チオ
キサントン、コークロルーテオキサントン1.2,1l
t−ジメチルチオキサントン、コ、弘−ジエチルチオキ
サントン、フルオレノン、アクリドンおよヒヘンゾイン
、(ンゾインエーテル類、例えばベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエテルエーテル、ベンゾインプロピル
エーテル、ベンゾインイソフロビルエーテル、ベンゾイ
ンフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタールおよび
2,4t、j−トリアリールイミダゾール二量体類、例
えば、2−(o−クロロフェニル)−ttt、r−シフ
ェニルイミダゾールニ量体、2−(o−クロロフェニル
)−41,j−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾー
ルニ童体1,2−(o−フルオロフェニル)−グ。
!−ジフェニルイミダゾールニ量体、λ−(0−メトキ
シフェニル)−41,j−ジフェニルイミダゾールニを
体、z−<p−メトキシフェニル)−ダ、j−ジフェニ
ルイミダゾールニ量体、およびポリハロゲン化合物、例
えは四臭化炭素、フェニルトリフロモメチルスルホン、
フェニルトリクロロメチルケトン、および特開昭3.3
−/33¥−?号、特公昭67−/r/り号、特公昭!
7−60デ乙号、米国特許第3≦/!4ttj号各公報
類に開示されている化合物。二種以上の組合せ、例えば
λ、グ、r−トリアリールイミダゾールニ量体とコーメ
ルカブトベンズオキサゾール又はロイコクリスタルパイ
オレツ+4との組合せ、また米国特許第34t27/4
/号明細書に記載のダ、4t′−ヒス(ジメチルアば)
)ベンゾフェノンとベンゾフェノン又はベンゾインメチ
ルエーテルとの組合せおよび米国特許第4tコ3976
θ号明細書に記載のペンゾイルーヘーメチルナフトウー
アゾリンと2.ダービス(トリクロロメテル) −6−
’il−メトキシフェニルトリアゾールのm1合せ、ま
た特開昭j7−.2jjθコ号公報に記載のジメチルチ
オキサントンとダージアル子ルアミノ安息−1iiF酸
エステルの組合せが挙げらルる。
光重合−始剤又は光重合開始剤系の含有量は好ましくは
光重合性組成物の合計ioo重澁部当り約O0/〜10
貞ik部そしてより好舊しくは約θ、−2〜6重蓋部で
ある。
本発明のカルボン酸基含有バインダーポリマーとはアク
リル酸エステル類、メタクリル醒エステル類、スチレン
類、酢酸ビニル、アクリロニトリルの詳(非酸性七ツマ
−)から遣らばれた少なくとも7種とカルどン酸含有単
量体(酸性モノマー)から選らばれた少なくとも/fi
lとの2元又はそれ以上の共重合体である。アクリル酸
又はメタクリル酸エステルとしては、例えば(メタ)ア
クリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)
アクリル1!5!2n−プロピル、(メタ)アクリル酸
イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ
)アクリル酸S e C−ブチル、(メタ)アクリル酸
イソブナル、(メタ)アクリル酸t e r t−ブチ
ル、(メタ)アクリル酸n   Oブチル、(メタ)ア
クリル酸ネオペンチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシ
ル、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アクリ
ル酸n−オクチル、(メタ)アクリルCtl−エチルヘ
ギシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリ
ル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸ヘキサデシル、
(メタ)アクリル酸シクロペンチル、(メタ)アクリル
酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ホルニル、(メ
タ)アクリル酸アリル、(メタ)アクリル酸λ−ヒドロ
キシエチル、(メタ)アクリル酸λ−ヒドロキシプロピ
ル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸
フェネチル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)ア
クリル酸トリル、(メタ)アクリル8に2−クロロエチ
ル、(メタ)アクリル酸コークロロープロビル、(メタ
)アクリル酸コ、3−ジブロモプロピノベ (メタ)ア
クIJ/14コ、3−エポキシプロビル、(メタ)アク
リル酸テトラヒドロフルフリル等が挙げられる。
スチレン類としてはスチレン、p−メチルスチレン、m
−メチルスチレン、O−メチルスチレン、p−クロロ−
スチレン、m−クロロステンン、〇−クロロスチレン、
p−クロロメチルスチレン、m −クロロメチルスチレ
ン、0−クロロメチルスチレン、p−ヒドロキシスチレ
ン、p−アセチルスチレン、α−メチルスチレンが挙げ
られる。カルボン酸基含有単量体としては、アクリル酸
、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、
p−ビニル安息香酸マレイン酸モノn−ブチルエステル
、マレイン酸モノメチルエステル、マレイン酸モノエチ
ルエステル、マレイン酸モノn−プロピルエステル、フ
マルen−ブチルエステル等が挙げられる。
これらの共重合体の公知文献としては、特公昭33−−
/弘06!号公報、特公昭グj−327/ダ号公報、特
公昭jグー34t3.2フ号公報、特公昭jj−3/9
≦7号公報、特公昭J−4−33弘73号公報、特公昭
j%−26デ!7号公報、特開昭!コータワlio号公
報、特公昭よ/−/2j77号公報、特公昭よ!−6.
2/θ号公報、特開昭!グー92フ23号公報、/#開
昭jグーデタ4t/♂号公報、特開昭jグー/320♂
!号公報を挙げることができる。
また荷に耐コールドフロー性、可81!注、基体への接
着性が優れ、現像スピードが大でかつ露光現像後のレジ
スト像の耐アルカリ水膨潤性がシれているだけでなく、
レジストのアルカリ水による剥離も容易なドライフィル
ムレジスト用感光層’&与える下記一般式(■)〜(X
)の共重合体が特に好ましい。
一般式(■) 一般式(■) 一般式(W) c=o     c=o     c=o     c
=。
0      0     0HOH CH2R r 一般式(■)〜(11()の共重合体はrずれもアルカ
リ現像型トライブイ゛ルムレジストの製造に好適で、特
に前記特徴のために、7fj3解像度で可撓性に富んだ
レジスト像の形成が可能である。
本発明に用いられるカル本ン酸含有バインダーポリマー
の含有量は、光重合性組成物の合計10Q重量部当り、
20=r01fLjjk部が好ましく、特に30〜70
!量部が好ましい。
本発明の光重合性組成物は、前記の如く、分子内に少な
くとも一個のエチレン不飽和基’?!−宮有する化合物
と光重合開始剤と、カルホン酸基含有バインダーポリマ
ーと分子内に少なくとも7個のアリル基を含有する沸点
が2乙θfiIIfiHg下において/ o o 0C
以上の有機アリル化合物を必須成分として含むが、必要
に応じて熱重合防止剤、可塑剤、色素、変色剤、さらに
基体への密着促進剤およびその他の助剤類を併用しても
よく、これによって目的とする性能をもつドライフィル
ムレジスト、平版印刷版、フォトマスクを広汎に調整し
うる。
熱重合防止剤は、本発明の光重合性組成物の熱的な重合
又は経時的な重合を防止するために添加するもので、例
えは、p−メトキ゛ジフェノール、ヒドロキノン、t−
ブチルカテコール、ピロガロール、λ−ヒドロキシベン
ゾフェノン、ダーメトキシーコーヒドロキシベンゾフエ
ノン、塩化第7銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフ
チルアミン、β−ナフトール、−96−ジーt−ブチル
−p−クレゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン
、ピクリン酸、p−)ルイジン等が挙げられる。
可塑剤は、膜物性をコントロールするために添加するも
ので、例えば、ジブチルフタレート、ジアリルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ジアリルフタレート等の7
タル酸エステル類;トリエチレングリコールジアセテー
ト、テトラエチレングリコールジアセテート等のグリコ
ールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェ
ニルホスフェート等のリン酸エステル類;p−トルエン
スルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、N−n−ブ
チルアセトアミド等のアミド類;ジイソブチルアジペー
ト、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジオ
クチルアゼレート、ジブチルマレート等の脂肪族二塩基
酸エステル類;クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチ
ル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチ
ル、弘。
!−ジェポキシシクロヘキサンー/、2−ジカルメン酸
ジオクチル等が挙げられる。
色素の例は、ブリリアントグリーン、エオシン、エチル
バイオレット、エリスロシンB、メチルグリーン、クリ
スタルバイオレット、ペイシックツクシン、フェノール
フタレイン、/、3−ジフェニルトリアジン、アリザリ
ンレッドS1チモールフタレイン、メチルバイオレット
2B、キナルジンレッド、ローズベンカル、メタニル−
イエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブ
ルー、メチルオレンジ、オレンジ■、ジフェニルチオカ
ルハソン、コ、7−ジクロロフルオレセイン、ノqラメ
チルレッド、コンゴーレッド、ベンゾブルーリン4tf
3.α−ナフチル−レッド、ペンゾブルプ1JypB1
α−ナフチルレッド、ナイルブル−A。
7エナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリ
ーン、バラ7グシン、オイルブルー#t。
3〔オリエント化学工業■製〕、ローダミンB10−ダ
ミン6Gなどである。
変色剤は、露光によシ可視像を与えることができるよう
に光重合組成物中に添加される。これらの具体例として
、前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルアニリ
ン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェニ
ル−p−7二二レンジytン、1)−)ルイジン、x、
g’ −ビフェニルジアミン、O−クロロアニリン、p
、p、p−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン
、pt I” −テトラメチルジアミノトリフェニルメ
タン、p、p 、p −トリアミノトリフェニルカルビ
ノール、等が挙げられる。
密着促進剤の具体例は、ベンズイミダゾール、ベンズチ
アゾール、ベンズオキサゾール、ベンズトリアゾールな
ど特公昭!θ−デ/72号に記載の化合物、コーメルカ
ブトベンズチアソール、λ−メルカプトベンズイミダゾ
ールなど特開昭j3−702号に記載の化合物である。
本発明の光重合性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中
に溶解せしめ、所望の支持体上に公知の方法により塗布
して用いられる。その場合に使用される溶媒どしてはエ
チレンジクロリド、モノクロルベンゼン、シクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチルセロ
ソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、メチルセロソルブ、
/−メトキシ−λ−プロノぞン、トルエン、キシレンナ
トの単独、又は混合物である。
本発明の光重合性組成物は、ドライフィルムフォトレジ
ストのフォトレジスト層として好適である。その場合、
フォトレジストHの厚みとしては0、/μから!00μ
が適当であシ、特に好ましくは7μから、200μの範
囲である。また本発明の光重合性組成物を用いて感光性
平版印刷版を製造する場合、塗布量は一般的に乾燥時o
、i〜10、of/m2が適当+あり特に好ましくは□
!〜J−、Of/m2である。
本発明の光重合性組成物をドライフィルムフォトレジス
トとして使用する場合、好適な支持体としてポリアミド
、ポリオレフィン、ポリエステル、ビニル重合体および
セルロースエステルなどのフィルムから選ばれ3μから
!00μの厚みを持つものがよい。特に好適々支持体フ
ィルムは約、2夕μの厚さを持つ透明なポリエチレンテ
レフタレートフィルムである。又この場合好適な保護フ
ィルムとしてはポリオレフィンが挙げられ、特に好まし
いものとしてはコθ〜コ!μの厚さのポリエチレンフィ
ルムを挙げることができる。
また本発明の光重合性組成物をフォトマスク用フィルム
の製造に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニ
ウム、アルミニウム合金やクロムを蒸着させたポリエチ
レンテレフタレートフィルムや着色層を設けたポリエチ
レンテレフタレートフィルムを挙げることができる。
また本発明の光重合性組成物を感光性平版印刷版の感光
層として使用する場合の好適な支持体としては、親水化
処理したアルミニウム板、九とえばシリケート処理した
アルミニウム板、陽極酸化したアルミニウム板、砂目立
てしたアルミニウム板、シリケート電着したアルミニウ
ム板があり、それ以外にも、亜鉛板、ステンレス板、ク
ローム処理銅板、親水化処理したプラスチックフィルム
や紙を挙げることができる。
また印刷用カラーゾル−7、オーバーヘッドプロジェク
タ−用フィルム、第2原図用フィルムの製造に、本発明
の光重合性組成物を用いる場合、これらに適する支持体
としてはポリエチレンテレフタレートフィルム、三酢酸
セルローズフィルム等の透明フィルムや、これらのプラ
スチックフィルムの表面を化学的又は物理的にマット化
したものを挙げることができる。
本発明の光重合性組成物は、弱アルカリ水溶液によって
現像できる。また水と混和性の有機溶剤を少量(約20
重量%以下)含んだ弱アルカリ水溶液も使用可能である
添加する適当な塩基としてはアルカリ金属又はアンモニ
ウム、Z級アンモニウムの水酸化物炭酸塩、重炭酸塩、
ケイ酸塩、リン酸塩、ビロリン酸塩、酢酸塩及びアミン
類から選ばれる。それらの具体的な例としては、水酸化
リチウム、水酸化ナトリウム、水散化カリウム、水酸化
アンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロ
キシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、リン酸
ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、
酢酸ナトリウム、ジェタノールアミン、トリエタノール
アミンが挙げられる。Wl二炭酸ナトリウムのl−2チ
水溶液が好ましい。
本発明の光重合性組成物が耐アルカリ性に富み、軟質で
脆くない光硬化物を与えることば篇〈べきことである。
ま九フィルム形成時の可撓性および基体との密着性に優
れ容易なレジスト剥離性を有し、しかも原稿画像の忠実
な再現性および高い解像力を与えることは驚くべきこと
である。結果として、高精度で基体の加工が可能となる
さらに本発明の光重合性組成物を感光性ドライフィルム
レジスト材料に用いたときには耐コールドフロー性が優
れて論て、表面の粘着性の低いフォトレジスト表面を与
える。また基体への密着性が優れているため通常の塩化
第二鉄水溶液、過硫酸アンモニウム水溶液等のエツテン
ダ液?二対してもまたハンダメツギ、ピロリン酸鋼メッ
キ、硫酸鋼メッキfその他の通常のメッキ処理中におい
ても十分なレジスト性を有している。
「実施例/〜り」 下記に示す如く添加艦の異なるアクリルエステルと種々
の有機アリル化合物を含み、他の成分は共通の感光液を
調製し、これ′t−2rμ厚のポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上にバーコートシ、/θθ0Cのオーブン
中で!分間乾燥することによう、!θμの厚みの感光j
φを持つ感光性フィルム(/16/〜/2)tl−得た
ベンジルメタクリレート30モル   /!?襲、メタ
クリル酸3!モルチ、°アク リル酸/!モルチからのラジカル共 重合体(重量平均分子量りj、0θ0)ホIJ(エチレ
ングリコール#60θ)    XPジアクリレート(
新中村化学!1INKエステルA−,<00) ポリ(プロピレングリコール      Yf#、4t
θθ)ジメタクリレート (新中村化学fi NKエステルαPG)有機アリル化
合物           Z12.4t−ジエチルチ
オキサントン  0.2?p−N、N−ジメチルアミノ
安息  θ、37香酸エテル フェニルトリブロモメチルスルホン  0,4tf/−
フェニル−3−モル示すノメ θ、θり?チル−7、!
、4t−トリアゾールー ツーテオン コーメチルチオー!−メルカプト 0.09f−/、!
、4t−チアジアゾール ロイコクリスタルバイオレット   0./fビクトリ
アピュアーブルーBOHo、otyN 、 N 、 N
’ 、 N’−テトラブチルチ 0.00/ fウラム
ジスルフイド /−メトキシーーープロAノール /4.Ifメチルエ
チルケトン        タ、6?36μ厚の銅箔を
積層したり0個のコ、夕■φの大きさのスルーホールを
有するガラスエポキシ樹脂板の表面に前記感光性フィル
ムの感光層が直接、接するように、熱ローラーを用いて
/、10℃でfi層した。スルーホール部およびその周
囲が透明でそれ以外は不透明なIII像を有するフォト
ツールを重ね、jKW超高圧水銀灯を備えた露光機(オ
ーク社HMW−4N屋)でt OmJ 7cm2ノ露光
を与えlj仕分間室温下に放置した。
続いて、ポリエチレンテレフタレートを剥ぎ取った後で
、3θOCで/clI炭酸ナトリウム水溶液をスプレー
することにより、感光層の未露光部を除去した。スルー
ホール上にテントが得られた。
インストロン装置により、このテント上に0.6鮨φの
針を圧しつけ、荷重を加えてテントが破断するまでの応
カー歪典線を測定した。テントの軟らかさを破断伸びで
評価した。一方、同じテントの表面を顕微鏡で観察し、
テントの表面が白化しているかどうかで、耐アルカリ性
を評価した。またto”cの3%水酸化カリウム水溶液
中に前記テントを有する積り板を浸漬し、テントを含め
レジストのすべてが銅表面から剥れるまでの時間を測定
すること儂;工)、レジスト剥離スピードを測定した。
@/表にその結果を示す。
「発明の効果」 第1表よシ明らかなように、本発明に従う有機アリル化
合物を含有°する感光性フィルムにおいては、有機アリ
ル化合物を含まない場合より、テントの破断伸びが大き
く、耐アルカリ性が優れかつレジストの剥離に必要な時
間が短かい。つまシ本発明の有機アリル化合物は軟質で
脆くなく耐アルカリ性の優れているだけでなく、剥離ス
ピードの大なる光硬化物を与えることが明らかである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 分子中に少なくとも2個のエチレン不飽和基を含有する
    化合物と光重合開始剤と、カルボン酸基含有バインダー
    ポリマーを含むアルカリ現像可能な光重合性組成物にお
    いて、さらに分子中に少なくとも1個のアリル基を含有
    する沸点が760mmHg下において、100℃以上の
    有機アリル化合物を含有することを特徴とするアルカリ
    現像可能な光重合性組成物。
JP16145885A 1985-07-22 1985-07-22 光重合性組成物 Pending JPS6221141A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102234829A (zh) * 2010-04-23 2011-11-09 立督科技股份有限公司 阳极氧化多重染色制程
JP5260745B2 (ja) * 2009-07-29 2013-08-14 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体及びレジストパターン形成方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5260745B2 (ja) * 2009-07-29 2013-08-14 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体及びレジストパターン形成方法
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