JP3423199B2 - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 32
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 29
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- -1 (4-methacryloxytriethoxy) Dipropoxyphenyl Chemical group 0.000 claims description 14
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims description 13
- 239000001294 propane Substances 0.000 claims description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 4
- ZKAIILFLFNFIAR-UHFFFAOYSA-N CCCOC(C(C(C)(C)C(C(OCCC)=C(C(OC(C(C)=C)=O)=C1OCCC)OCCC)=C1OCCCOCC)=C(C(OCCC)=C1OC(C(C)=C)=O)OCCCOCC)=C1OCCC Chemical compound CCCOC(C(C(C)(C)C(C(OCCC)=C(C(OC(C(C)=C)=O)=C1OCCC)OCCC)=C1OCCCOCC)=C(C(OCCC)=C1OC(C(C)=C)=O)OCCCOCC)=C1OCCC ZKAIILFLFNFIAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UUQJMSSFMULZHR-UHFFFAOYSA-N [4,5,5,6,6-pentaethoxy-4-[2-[1,5,5,6,6-pentaethoxy-4-(2-methylprop-2-enoyloxy)cyclohex-2-en-1-yl]propan-2-yl]cyclohex-2-en-1-yl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OC1C(C(C(C=C1)(C(C)(C)C1(C(C(C(C=C1)OC(C(=C)C)=O)(OCC)OCC)(OCC)OCC)OCC)OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC UUQJMSSFMULZHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 2
- 235000008429 bread Nutrition 0.000 claims 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 8
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N acrylic acid methyl ester Natural products COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K potassium phosphate Substances [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(CC)C(CC)=CC=C3SC2=C1 GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylphenyl)-2-hydroxy-2-phenylethanone Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDKSQNHUHMMKPP-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(4-methoxyphenyl)-4-phenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC(OC)=CC=2)N1 MDKSQNHUHMMKPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTWRMVAKUSJNBK-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dimethoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class COC1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 CTWRMVAKUSJNBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class ClC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHRWPYOTGCOJP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-fluorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class FC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 UIHRWPYOTGCOJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHAXDUJFRIRFLY-UHFFFAOYSA-N 2-(3-methoxyphenyl)-1h-imidazole Chemical class COC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 RHAXDUJFRIRFLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNFCQJAJPFWBDJ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 SNFCQJAJPFWBDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZYZPHPDKCTFFH-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylsulfanylphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(SC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 GZYZPHPDKCTFFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004808 2-ethylhexylester Substances 0.000 description 1
- VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(2-methylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-5-ethyl-2-hydroxyphenyl)methyl]-4-ethylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC)=CC(CC=2C(=C(C=C(CC)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- WVNFNUCOLIZMIZ-UHFFFAOYSA-N CCCOC(C(OC(C(C)=C)=O)=C1OCCC)=CC(C(C)(C)C(C=C(C(OC(C(C)=C)=O)=C2OCCC)OCCC)=C2OCCC(OCC)OCC)=C1OCCC(OCC)OCC Chemical compound CCCOC(C(OC(C(C)=C)=O)=C1OCCC)=CC(C(C)(C)C(C=C(C(OC(C(C)=C)=O)=C2OCCC)OCCC)=C2OCCC(OCC)OCC)=C1OCCC(OCC)OCC WVNFNUCOLIZMIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSVAQOPKKQHYSO-UHFFFAOYSA-N CCCOC(C(OCCC(OCC)(OCC)OCC)=C(C(C)(C)C(C=CC(OC(C(C)=C)=O)=C1OCCC)=C1OCCC(OCC)(OCC)OCC)C=C1)=C1OC(C(C)=C)=O Chemical compound CCCOC(C(OCCC(OCC)(OCC)OCC)=C(C(C)(C)C(C=CC(OC(C(C)=C)=O)=C1OCCC)=C1OCCC(OCC)(OCC)OCC)C=C1)=C1OC(C(C)=C)=O SSVAQOPKKQHYSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARNIZPSLPHFDED-UHFFFAOYSA-N [4-(dimethylamino)phenyl]-(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ARNIZPSLPHFDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSPWVOZRHFIFRR-UHFFFAOYSA-N [4-[2-[4-(2-methylprop-2-enoyloxy)-1,5,5,6,6-pentapropoxycyclohex-2-en-1-yl]propan-2-yl]-4,5,5,6,6-pentapropoxycyclohex-2-en-1-yl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC1(C=CC(C(C1(OCCC)OCCC)(OCCC)OCCC)OC(=O)C(=C)C)C(C)(C)C2(C=CC(C(C2(OCCC)OCCC)(OCCC)OCCC)OC(=O)C(=C)C)OCCC LSPWVOZRHFIFRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001251 acridines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000318 alkali metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000010485 coping Effects 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- ZSBOTBREDQGUMM-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCCO.CCC(CO)(CO)CO ZSBOTBREDQGUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORBFAMHUKZLWSD-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1N(C)C ORBFAMHUKZLWSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M sodium bicarbonate Substances [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229940048086 sodium pyrophosphate Drugs 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N tribromomethylsulfonylbenzene Chemical compound BrC(Br)(Br)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
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Description
更に詳しくは、プリント配線板の製造、金属の精密加工
等に用いられるエッチングレジスト又はめっきレジスト
として、特に優れた密着性、解像性及び膜強度を有する
感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメントに
関する。
密加工等の分野において、エッチング、めっき等に用い
られるレジスト材料としては、感光性樹脂組成物及びこ
れを支持体上に製膜し、その上に保護フィルムを設けた
感光性エレメントが広く用いられている。プリント配線
板は、上記感光性樹脂組成物又は感光性エレメントを用
いて銅基板上に感光性フィルム層を形成し、パターン露
光した後、未露光部を現像液で除去し、エッチング又は
めっき処理を施してパターンを形成させた後、硬化部分
を基板上から剥離する方法によって製造されている。
トリウム水溶液等を使用するアルカリ現像型が主流にな
っている。この種の感光性樹脂組成物又は感光性エレメ
ントは、例えば、特公平1−5691号公報、特公昭5
2−94388号公報、特公昭54−25957号公
報、特公昭54−34372号公報に記載されている。
伴い、現像の際に感光性樹脂組成物と基板との密着不足
による欠陥及び解像不足による欠陥が多く発生してい
る。この欠陥の発生を防ぐためには、感光性樹脂組成物
の基板に対する密着性及び解像度を向上させることが必
要である。前記の従来公知の感光性樹脂組成物は、この
ような近年のプリント配線板の高密度化に対応できる密
着性、解像度を有していない。
来技術の問題点を解決するものであり、プリント配線板
の製造、金属の精密加工等に用いられるエッチングレジ
スト又はめっきレジストとして、特に優れた密着性、解
像性及び膜強度を有する感光性樹脂組成物及びこれを用
いた感光性エレメントを提供することを目的とする。
(A)(メタ)アクリル酸 10〜15重量%及び一般
式[I]で表される化合物85〜90重量%を共重合成
分として共重合して得られる重量平均分子量が30,0
00〜70,000、重量平均分子量/数平均分子量の
値(分子量の分散度)が2.0〜3.0のフィルム性付
与ポリマー50〜70重量部、
数1〜12のアルキル基を表す。) (B)一般式[II]で表される少なくとも1種のエチ
レン性不飽和化合物を必須成分として含み、常圧におけ
る沸点が100℃以上のエチレン性不飽和化合物30〜
50重量部(但し、(A)成分と(B)成分との総量が
100重量部となるようにする。)、
ル基を表し、A、B、X及びYはそれぞれ独立に
数を表す。) (C)光重合開始剤を(A)成分と(B)成分の総量1
00重量部に対して0.5〜10重量部及び (D)顔料又は染料を(A)成分と(B)成分の総量1
00重量部に対して0.01〜3.0重量部を含有して
なる感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥して得ら
れる感光性エレメントを提供するものである。
エチレン性不飽和化合物が、2,2−ビス(4−メタク
リロキシペンタエトキシフェニル)プロパン、2,2−
ビス(4−メタクリロキシペンタプロポキシフェニル)
プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキシモノエト
キシテトラプロポキシフェニル)プロパン、2,2−ビ
ス(4−メタクリロキシジエトキシトリプロポキシフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキシト
リエトキシジプロポキシフェニル)プロパン又は2,2
−ビス(4−メタクリロキシテトラエトキシモノプロポ
キシ)プロパンである感光性エレメントを提供するもの
である。
与ポリマー(A)は、(メタ)アクリル酸((メタ)ア
クリル酸とは、アクリル酸及び/又はメタクリル酸を意
味する。以下同じ。)と一般式[I]で表される化合物
との共重合体である。
例えば、(メタ)アクリル酸メチルエステル、(メタ)
アクリル酸エチルエステル、(メタ)アクリル酸プロピ
ルエステル、(メタ)アクリル酸ブチルエステル、(メ
タ)アクリル酸2−エチルヘキシルエステル、(メタ)
アクリル酸アミルエステル、(メタ)アクリル酸ヘキシ
ルエステル、(メタ)アクリル酸オクチルエステル等が
挙げられる。これらは各々単独で用いてもよいし、2種
以上を組み合わせて用いてもよく、その組み合わせにつ
いては特に制限はない。
リ水溶液(例えば、0.5〜2.0重量%の炭酸ナトリ
ウム又は炭酸カリウム水溶液)に可溶又は膨潤可能であ
ることが好ましく、フィルム性付与ポリマーの共重合成
分中の(メタ)アクリル酸の共重合量は10〜15重量
%であり、好ましくは11〜14重量%である。フィル
ム性付与ポリマー中の(メタ)アクリル酸の共重合量が
15重量%を超えると密着性が低下する傾向があり、1
0重量%未満では現像時間が長くなる傾向がある。
分子量は30,000〜70,000であり、好ましく
は40,000〜60,000である。フィルム性付与
ポリマーの重量平均分子量が70,000を超えると現
像時間が長くなるとともに解像性が低下し、30,00
0未満では密着性が低下するとともに膜強度が低下す
る。
分子量/数平均分子量の値(分子量の分散度)は2.0
〜3.0であり、好ましくは2.2〜2.8である。フ
ィルム性付与ポリマーの分子量の分散度が3.0を超え
ると解像性が低下する傾向があり、2.0未満では密着
性が低下する傾向がある。
GPCで測定し、標準ポリスチレンによる検量線を用い
て換算したものである。
(A)成分と(B)成分の総量100重量部に対して5
0〜70重量部、好ましくは55〜67重量部である。
(A)成分の配合量が70重量部を超えると、感光性樹
脂組成物の硬化性が不十分となり、また、現像時間が長
くなる。また50重量部未満では光硬化物が脆くなり易
く、また、感光性樹脂組成物を支持体上に塗布乾燥して
感光性エレメントを作製する際の塗膜性に劣る。
物(B)は、常圧における沸点が100℃以上のもので
あり、また、下記一般式[II]で表されるエチレン性
不飽和化合物(以下、エチレン性不飽和化合物(B1)
と呼ぶ。)の少なくとも1種を必須成分として含む。
ル基を表し、A、B、X及びYはそれぞれ独立に
数を表す。) 本発明に用いられるエチレン性不飽和化合物(B)の沸
点は、100℃以上、好ましくは130〜400℃であ
る。エチレン性不飽和化合物(B)の沸点が100℃未
満であると、感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥
する際、また感光性エレメントを基板上にラミネートす
る際、揮散し、所望の効果が得られないことがある。
としては、例えば、2,2−ビス(4−メタクリロキシ
ペンタエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4
−メタクリロキシペンタプロポキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−メタクリロキシモノエトキシテ
トラプロポキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4
−メタクリロキシジエトキシトリプロポキシフェニル)
プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキシトリエト
キシジプロポキシフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−メタクリロキシテトラエトキシモノプロポキシ)
プロパン等が挙げられる。エチレン性不飽和化合物(B
1)は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合
わせて用いてもよく、その組み合わせについては特に制
限はない。
(B)として用いられる上記エチレン性不飽和(B1)
以外のエチレン性不飽和化合物(以下、エチレン性不飽
和化合物(B2)と呼ぶ。)としては、例えば、多価ア
ルコールにα,β−不飽和カルボン酸を反応させて得ら
れる化合物(ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート(エチレン基の数が2〜14のもの)、トリメチ
ロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロール
プロパンエトキシトリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパンプロポキシトリ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパンエチレングリコール付加物トリ
アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)ア
クリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)ア
クリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート(プロピレン基の数が2〜14のもの)、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等)、
多価カルボン酸(無水フタル酸等)と水酸基及びエチレ
ン性不飽和基を有する化合物(β−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート等)とのエステル化物(γ−クロ
ロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−メタクリロイルオ
キシエチル−o−フタレート等)、(メタ)アクリル酸
のアルキルエステル((メタ)アクリル酸メチルエステ
ル、(メタ)アクリル酸エチルエステル、(メタ)アク
リル酸ブチルエステル、(メタ)アクリル酸2−エチル
ヘキシルエステル等)、ウレタン(メタ)アクリレート
(トリレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリル酸エステルとの反応物、トリメチルヘ
キサメチレンジイソシアネートとシクロヘキサンジメタ
ノールと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリル酸エス
テルとの反応物等)などが挙げられる。これらは単独で
又は2種以上を組み合わせて使用され、その組み合わせ
については特に制限はない。
(A)成分と(B)成分の総量100重量部に対して3
0〜50重量部、好ましくは33〜45重量部とする。
(B)成分の配合量が50重量部を超えると、光硬化物
が脆くなり易く、また感光性樹脂組成物を支持体上に塗
布、乾燥して感光性エレメントを製造する際の塗膜性に
劣る。また30重量部未満では感光性樹脂組成物の硬化
性が不十分となったり、現像時間が長くなったりする。
分として一般式[II]で表されるエチレン性不飽和化
合物(B1)を用いることにより、解像性が向上する。
(B)成分中のエチレン性不飽和化合物(B1)成分の
量は(B)成分中10〜90重量%とすることが好まし
く、20〜80重量%とすることがより好ましい。
(B)成分中のエチレン性不飽和化合物(B1)の割合
が10重量%未満であると、解像性向上の効果が不十分
となることがあり、90重量%を超えると、現像時間が
長くなる傾向がある。
しては、例えば、芳香族ケトン(ベンゾフェノン、N,
N′−テトラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノ
ン(ミヒラーケトン)、N,N′−テトラエチル−4,
4′−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4′−
ジメチルアミノベンゾフェノン、2−エチルアントラキ
ノン、フェナントレンキノン等)、ベンゾイン(ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル、メチ
ルベンゾイン、エチルベンゾイン等)、ベンジル誘導体
(ベンジルジメチルケタール等)、2,4,5−トリア
リールイミダゾール二量体(2−(o−クロロフェニ
ル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−
(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフ
ェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェ
ニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−
(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5
−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4−ビス(p−
メトキシフェニル)−5−フェニルイミダゾール二量
体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジ
フェニルイミダゾール二量体、2−(p−メチルメルカ
プトフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量
体等)、アクリジン誘導体(9−フェニルアクリジン、
1,7−ビス(9,9′−アクリジニル)ヘプタン
等)、キサントン類(チオキサントン、ジエチルチオキ
サントン等)などが挙げられる。これらは単独で又は2
種以上を組み合わせて使用され、その組み合わせについ
ては特に制限はない。また、本発明において、光重合開
始剤(C)は、上記各種の光重合開始剤に加えて、ジメ
チルアミノ安息香酸エチル等の三級アミンなどの光開始
助剤を含有していてもよい。
(A)成分と(B)成分の総量100重量部に対して
0.5〜10重量部、好ましくは1.0〜5.0重量部
とする。(C)成分の配合量が10重量部を超えると、
感光性樹脂組成物の底部硬化性が不十分となり、密着性
が低下し、また0.5重量部未満では硬化時間が長くな
る。
しては、公知の顔料又は染料が使用でき、特にフィルム
性付与ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)
に対する相溶性、目標とする色相、光透過性を考慮して
選択される。
(A)成分と(B)成分の総量100重量部に対して
0.01〜3.0重量部、好ましくは0.05〜2.5
重量部とする。(D)成分の配合量が3.0重量部を超
えると、光透過率が低下し、密着性が低下し、0.01
重量部未満では着色が不十分となる。
−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノー
ル)などの重合禁止剤、トリブロモメチルフェニルスル
ホン、ロイコクリスタルバイオレット等の発色剤、さら
に可塑剤、安定剤、密着性付与剤、香料、消泡剤等の添
加剤を必要に応じて添加してもよい。
を、これを溶解する溶剤、例えば、トルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチル
ケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロ
ホルム、塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、メタノ
ール、エタノール等に溶解することにより、均一な溶液
とすることができる。
体上に塗布、乾燥して感光層を形成し、感光性エレメン
トとして使用することもできる。
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポ
リエチレン等からなるフィルムが用いられ、中でもポリ
エチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
ら除去可能でなくてはならないため、除去が不可能とな
るような表面処理が施されたものであったり、材質であ
ったりしてはならない。また、これらの重合体フィルム
の厚さは、5〜20μmとすることが好ましく、7〜1
6μmとすることがより好ましい。
一枚は感光層の支持体として、他の一つは感光層の保護
フィルムとして感光層の両面に積層してもよい。
レジスト画像を製造するに際しては、前記の保護フィル
ムが存在している場合には、保護フィルムを除去後、感
光層を加熱しながら基板に圧着させることにより積層す
る。積層される表面は、通常金属面であるが、特に制限
はない。
いが、通常、90〜130℃とされる。また、感光層の
加熱圧着の圧力は、特に制限はないが、通常1〜10k
gf/cm2、好ましくは3〜6kgf/cm2とされ
る。
板を予熱処理することは必要でないが、積層性を更に向
上させるために基板の予熱処理を行うこともできる。
で、ネガフィルム又はポジフィルムを用いて活性光によ
り画像的に露光される。この際、感光層上に存在する重
合体フィルムが透明の場合には、そのまま露光してもよ
く、また、不透明の場合には、除去する必要がある。感
光層の保護という点からは、重合体フィルムは透明で、
この重合体フィルムを残存させたまま、それを通して露
光することが好ましい。
ボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアーク等から発
生する光が用いられる。感光層に含まれる光重合開始剤
の感受性は、通常、紫外線領域において最大であるの
で、その場合は活性光源は紫外線を有効に放射するもの
にすべきである。
例えば、9,10−フェナンスレンキノン等である場合
には、活性光としては可視光が用いられ、その光源とし
ては前記のもの以外に写真用フラッド電球、太陽ランプ
等も用いられる。
ム等が存在している場合には、これを除去した後、アル
カリ水溶液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブ
ラッシング、スクラッビング等の公知の方法により未露
光部を除去して現像する。
ば、リチウムの水酸化物、ナトリウムの水酸化物、カリ
ウムの水酸化物等の水酸化アルカリ、リチウムの炭酸塩
又は重炭酸塩、ナトリウムの炭酸塩又は重炭酸塩、カリ
ウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ、リン酸カ
リウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩、
ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカ
リ金属ピロリン酸塩などが用いられ、特に、炭酸ナトリ
ウムが好ましい。
〜11とすることが好ましく、また、その温度は、感光
層の現像性に合わせて調節される。
剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等
を混入させてもよい。
現像されたフォトレジスト画像をマスクとして露光して
いる基板の表面を、エッチング、めっき等の公知の方法
で処理する。次いで、フォトレジスト画像は、通常、現
像に用いたアルカリ水溶液より更に強アルカリ性の水溶
液で剥離される。この強アルカリ性の水溶液としては、
例えば、1〜5重量%の水酸化ナトリウム水溶液等が用
いられる。
詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものでは
ない。
溶液Αとする)104.4gを300mlのフラスコに
入れ85℃に加温する。85℃で30分保温後、メタク
リル酸13.0g、メタクリル酸メチル57.3g、ア
クリル酸エチル29.7g、アゾビスイソブチロニトリ
ル1.3gを溶液Α11.4gに溶解した溶液Bを4時
間でフラスコ内に滴下反応させる。その後2時間保温
し、アゾビスイソブチロニトリル0.15gを溶液Α3
4.2gに溶かした溶液Cに加え、更に5時間保温した
後、冷却し、フィルム性付与ポリマー(a)を得た。得
られたフィルム性付与ポリマー(a)のメタクリル酸共
重合量は13重量%、重量平均分子量は50,000、
分子量の分散度は2.4であった。
メタクリル酸メチル62.3g、アクリル酸エチル2
9.7g、アゾビスイソブチロニトリル1.3gを溶液
Α11.4gに溶解して得た以外はと同様の方法、条
件にてフィルム性付与ポリマー(b)を得た。得られた
フィルム性付与ポリマー(b)のメタクリル酸共重合量
は8重量%、重量平均分子量は51,000、分子量の
分散度は2.3であった。
タクリル酸メチル52.3g、アクリル酸エチル29.
7g、アゾビスイソブチロニトリル1.3gを溶液Α1
1.4gに溶解して得た以外はと同様の方法、条件に
てフィルム性付与ポリマー(c)を得た。得られたフィ
ルム性付与ポリマー(c)のメタクリル酸共重合量は、
18重量%、重量平均分子量は49,000、分子量の
分散度は2.4であった。
g、溶液C中のアゾビスイソブチロニトリル含量を0.
05gとする以外はと同様の方法、条件にてフィルム
性付与ポリマー(d)を得た。得られたフィルム性付与
ポリマー(d)のメタクリル酸共重合量は13重量%、
重量平均分子量は82,000、分子量の分散度は2.
5であった。
g、溶液C中のアゾビスイソブチロニトリル含量を0.
5gとする以外はと同様の方法、条件にてフィルム性
付与ポリマー(e)を得た。得られたフィルム性付与ポ
リマー(e)のメタクリル酸共重合量は13重量%、重
量平均分子量は25,000、分子量の分散度は2.3
であった。
トリル含量を1.0g、溶液C中のアゾビスイソブチロ
ニトリル含量を0.1gとする以外はと同様の方法、
条件にてフィルム性付与ポリマー(f)を得た。得られ
たフィルム性付与ポリマー(f)のメタクリル酸共重合
量は13重量%、重量平均分子量は、51,000、分
子量の分散度は1.7であった。
トリル含量を1.6g、溶液C中のアゾビスイソブチロ
ニトリル含量を0.20gとする以外はと同様の方
法、条件にてフィルム性付与ポリマー(g)を得た。得
られたフィルム性付与ポリマー(g)のメタクリル酸共
重合量は、13重量%、重量平均分子量は50,00
0、分子量の分散度は3.3であった。
16μmを有するポリエチレンテレフタレートフィルム
(東レ(株)製ルミラー(登録商標))に乾燥後膜厚が
30μmとなるように塗工、乾燥し、厚み25μmのポ
リエチレンフィルムで被覆して感光性エレメントを得
た。得られた感光性エレメントからポリエチレンフィル
ムを剥離しながらその感光層面を、スコッチブライト
(登録商標)バフロール(住友3M製)により研磨、乾
燥し洗浄した銅張積層板の銅面上に、日立高温ラミネー
ターを用い連続的に積層して試験片を得た。積層条件を
表3に示す。
密着、解像テストパターンを介し、超高圧水銀灯によ
り、40mJ/cm2で露光した。10分放置後ポリエ
チレンテレフタレートフィルムを剥離し、30℃、1重
量%炭酸ソーダ水溶液で最少現像時間×2.0の現像時
間で現像し、ステップタブレットの硬化段数及びレジス
トの密着性、解像度を読みとった。最小現像時間とは、
未硬化部のレジストを溶解除去するために必要とする最
小の時間を意味する。結果を表4に示す。表4中、Lは
レジストのライン幅を意味し、Sはレジストとレジスト
の間のスペースの幅を意味する。
る銅張積層板に前記同様の方法にて感光性エレメントを
積層し、無色透明の175μmPETフィルムを介し、
前記同様の方法にて露光、現像した。その後2.0mm
φの鋼棒をスルーホール上のフィルム上に押しつけ(変
位速度2cm/分)、フィルムが破断する強度(レジス
トの膜強度)を測定した。その結果を表4に示す。
とのコントラストを目視により判別し、結果を表4に示
した。表4中、○はコントラストが良好、×はコントラ
ストが低く、所望のパターンが所望の位置に正確に形成
されているか否かを確認することが困難であることを意
味する。
びこれを用いた感光性エレメントは他に比較し、特に優
れた密着性、解像性及び膜強度を有する。
属の精密加工等に用いられるエッチングレジスト又はめ
っきレジストとして、特に優れた密着性、解像性及び膜
強度を有する感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性
エレメントが得られた。
Claims (2)
- 【請求項1】 (A)(メタ)アクリル酸 10〜15
重量%及び一般式[I]で表される化合物85〜90重
量%を共重合成分として共重合して得られる重量平均分
子量が30,000〜70,000、重量平均分子量/
数平均分子量の値(分子量の分散度)が2.0〜3.0
のフィルム性付与ポリマー50〜70重量部、 【化1】 (式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素
数1〜12のアルキル基を表す。) (B)一般式[II]で表される少なくとも1種のエチ
レン性不飽和化合物を必須成分として含み、常圧におけ
る沸点が100℃以上のエチレン性不飽和化合物30〜
50重量部(但し、(A)成分と(B)成分との総量が
100重量部となるようにする。)、 【化2】 (式中、R3及びR4はそれぞれ独立に水素原子又はメチ
ル基を表し、A、B、X及びYはそれぞれ独立に 【化3】 を表し、k、l、m及びnはそれぞれ独立に1〜5の整
数を表す。) (C)光重合開始剤を(A)成分と(B)成分の総量1
00重量部に対して0.5〜10重量部及び (D)顔料又は染料を(A)成分と(B)成分の総量1
00重量部に対して0.01〜3.0重量部を含有して
なる感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥し て得ら
れる感光性エレメント。 - 【請求項2】 一般式[II]で表されるエチレン性不
飽和化合物が、2,2−ビス(4−メタクリロキシペン
タエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メ
タクリロキシペンタプロポキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(4−メタクリロキシモノエトキシテトラ
プロポキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メ
タクリロキシジエトキシトリプロポキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(4−メタクリロキシトリエトキシ
ジプロポキシフェニル)プロパン又は2,2−ビス(4
−メタクリロキシテトラエトキシモノプロポキシ)プロ
パンである請求項1に記載の感光性エレメント。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP25114697A JP3423199B2 (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
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JPH1195427A JPH1195427A (ja) | 1999-04-09 |
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JP4517257B2 (ja) * | 2000-04-25 | 2010-08-04 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
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-
1997
- 1997-09-16 JP JP25114697A patent/JP3423199B2/ja not_active Expired - Fee Related
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