JPS6035725A - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
- Publication number
- JPS6035725A JPS6035725A JP14529383A JP14529383A JPS6035725A JP S6035725 A JPS6035725 A JP S6035725A JP 14529383 A JP14529383 A JP 14529383A JP 14529383 A JP14529383 A JP 14529383A JP S6035725 A JPS6035725 A JP S6035725A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- photopolymerizable composition
- 100pts
- peroxide
- benzophenone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本元明は新規な組合せの光〒IIT合開始合糸始剤系全
含有重合性組成物に関するものである。更に詳しくは、
平版印刷版、樹脂凸版、プリント基板作成用レジスト又
はフォトマスクなどの用途に好適な、高感度で、優れた
膜強1変の光硬化1換を与える光重合性組成物に関する
ものである。
含有重合性組成物に関するものである。更に詳しくは、
平版印刷版、樹脂凸版、プリント基板作成用レジスト又
はフォトマスクなどの用途に好適な、高感度で、優れた
膜強1変の光硬化1換を与える光重合性組成物に関する
ものである。
光重合性組成物は、基本的に光重合開始剤と多官能モノ
マーから成シ、光音照射すると硬化し、溶媒に不溶化す
る。この性質を利用して写真、印刷、金λ1表面加工、
インキ等に広く利用されている。(J、Iぐosar著
rLight SensitiveSystemsJJ
、Wiley & 5ons、、New York。
マーから成シ、光音照射すると硬化し、溶媒に不溶化す
る。この性質を利用して写真、印刷、金λ1表面加工、
インキ等に広く利用されている。(J、Iぐosar著
rLight SensitiveSystemsJJ
、Wiley & 5ons、、New York。
/り6jの/31〜/り3頁参照)
従来、光重合性組成物の光に対する感度を高める研究が
進められ、多くの光重合開始剤が提案されてきた。例え
ば、米国時♂f、2.4l−1I−ど9gλg号明細件
に記載のベンゾインニーデル功、米国特許λ、7.22
,61.2号明細書記載のベンゾイン類、米国特許3.
0≠7.、/27号明細゛再記載のアンスラキノン類、
特公昭ゲタ−/ / 7 J 6 号明イ…再記載のr
ミノフェニルケトンと活1生メチル又はアミノ比合物、
米国特許3,612.l、≠7号明#lB 書中に記載
のミヒラーズケトンと一2ンゾフエノン、特公昭11g
−3g≠03号明xiu書記載のベンゾフェノンと弘−
N、N−ジメチルアミノベンゾフェノン等である。確か
に、これらの光重合開始剤全使用すると光感度の向上が
認められるが、得られる光岡出物(4′¥に膜状硬rヒ
物)の力学的性質は種々の使用目的に対して必ずしも十
分とは言えなかった。
進められ、多くの光重合開始剤が提案されてきた。例え
ば、米国時♂f、2.4l−1I−ど9gλg号明細件
に記載のベンゾインニーデル功、米国特許λ、7.22
,61.2号明細書記載のベンゾイン類、米国特許3.
0≠7.、/27号明細゛再記載のアンスラキノン類、
特公昭ゲタ−/ / 7 J 6 号明イ…再記載のr
ミノフェニルケトンと活1生メチル又はアミノ比合物、
米国特許3,612.l、≠7号明#lB 書中に記載
のミヒラーズケトンと一2ンゾフエノン、特公昭11g
−3g≠03号明xiu書記載のベンゾフェノンと弘−
N、N−ジメチルアミノベンゾフェノン等である。確か
に、これらの光重合開始剤全使用すると光感度の向上が
認められるが、得られる光岡出物(4′¥に膜状硬rヒ
物)の力学的性質は種々の使用目的に対して必ずしも十
分とは言えなかった。
例えば、プリント配線基板作成時に使用されるドライフ
ィルムレジストとして用いた場合、光硬化後の膜強度が
不十分であった。プリント配線基板作成用のドラ・fフ
ィルムレジストに関して特公昭をタ=、:13.231
号明細?■に記載されており、さらに詳11」uな使用
方法は、fIAJえばW、S、1)eForest著[
Photoresistj Mc Draw−ITi
11New York、/り71./1,3−2/2頁
ニ吉かれている。ドライフィルムレジストの主要な使用
目的はテンティングによるスルホール作成であるが、従
来公知の光重合開始剤音用いた場合はテンテ・インク膜
の強度が不十分のためしばしば、現像、エツチング工程
で膜の破れるという故障を生じた。
ィルムレジストとして用いた場合、光硬化後の膜強度が
不十分であった。プリント配線基板作成用のドラ・fフ
ィルムレジストに関して特公昭をタ=、:13.231
号明細?■に記載されており、さらに詳11」uな使用
方法は、fIAJえばW、S、1)eForest著[
Photoresistj Mc Draw−ITi
11New York、/り71./1,3−2/2頁
ニ吉かれている。ドライフィルムレジストの主要な使用
目的はテンティングによるスルホール作成であるが、従
来公知の光重合開始剤音用いた場合はテンテ・インク膜
の強度が不十分のためしばしば、現像、エツチング工程
で膜の破れるという故障を生じた。
従って本発明の目的は強度の優れた光硬化膜を与える光
重合ift組成物を提供することである。さらに本発明
の目的は光感度が高い光重合性組成物の提供である。ま
た更(lこ他の目的は本発明についての次の説明から明
らかになろう。
重合ift組成物を提供することである。さらに本発明
の目的は光感度が高い光重合性組成物の提供である。ま
た更(lこ他の目的は本発明についての次の説明から明
らかになろう。
本光明者l−i、種々研究?重ねた結果、上記目的を達
成し得る新規な組合せの光重合開始剤全含有する光重合
性組成物を見い出した。
成し得る新規な組合せの光重合開始剤全含有する光重合
性組成物を見い出した。
すなわち本発明の目的(寸“[チレン1生不飽和二重結
合ケ分子内に2個Jメ上含有する付加重合性不飽和fし
金物(多官能性七ツマ−)と光重合開始1)11から成
る光重合性組成物において、光重合開始剤として下記一
般式1で表わされるり、弘′−ビス(ジアルキルアミン
)ベンゾフェノンと芳香族ケトン化合物と有機過酸化物
を含有すること全特徴とする光重合性組成物によシ達成
される。
合ケ分子内に2個Jメ上含有する付加重合性不飽和fし
金物(多官能性七ツマ−)と光重合開始1)11から成
る光重合性組成物において、光重合開始剤として下記一
般式1で表わされるり、弘′−ビス(ジアルキルアミン
)ベンゾフェノンと芳香族ケトン化合物と有機過酸化物
を含有すること全特徴とする光重合性組成物によシ達成
される。
■
式中、R1は炭素fi / −& f1M]のアルキル
、シクロアルキルもしくはヒドロキシアルキル、寸たは
同じ窒素原子に[f7換している11.と共にテトラメ
チレン、ばンタメチレン、オキシビスエチレンをあられ
す。
、シクロアルキルもしくはヒドロキシアルキル、寸たは
同じ窒素原子に[f7換している11.と共にテトラメ
チレン、ばンタメチレン、オキシビスエチレンをあられ
す。
本発明に使用される一般式Iの化合物の好ましい具体1
pjlとしてはり、り′−ビス(ジメチルアミノ)ベン
ゾフェノン、F、4”−ビス(ジアルキルアミン)ベン
ゾフェノン、≠、μ′−ビス(ジシクロヘキシルアミノ
)ベンゾフェノン、4/、、+%’−ビス(ジヒドロキ
シエチルアミノ)へンゾフエノン、4’、//、’−ビ
ス(モルホリノ)ベンゾフェノンがある。また特に好ま
しい化合物としてt。
pjlとしてはり、り′−ビス(ジメチルアミノ)ベン
ゾフェノン、F、4”−ビス(ジアルキルアミン)ベン
ゾフェノン、≠、μ′−ビス(ジシクロヘキシルアミノ
)ベンゾフェノン、4/、、+%’−ビス(ジヒドロキ
シエチルアミノ)へンゾフエノン、4’、//、’−ビ
ス(モルホリノ)ベンゾフェノンがある。また特に好ま
しい化合物としてt。
弘′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノンと≠、弘
′−ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノンが牟げられ
る。
′−ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノンが牟げられ
る。
芳香族ケトン[ヒ合物としては、下記一般式11a又は
nbで表わされる化合物111−より選ばれ/)1シ合
物が好−ましい。
nbで表わされる化合物111−より選ばれ/)1シ合
物が好−ましい。
Ia
()
式中、R11は水素原子、
(It )n
kV+わし、I(、、TL、Fl・ は各々アルキル、
アルコキシ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、アリ
ールオキ7カルボニル、シアン基、ハロケン原子を表わ
す。NXn1は各々異なっていても良く、O,Sの整数
ケ表わし、nはθ〜グの整数を表わす。
アルコキシ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、アリ
ールオキ7カルボニル、シアン基、ハロケン原子を表わ
す。NXn1は各々異なっていても良く、O,Sの整数
ケ表わし、nはθ〜グの整数を表わす。
111〕
式中、Xは弔結自、酸素Jし、子、硫黄原子、置換又は
未j作換の窒素原子又はカルボニル基を表わし、R,1
1,は各々同じか異なってもよいアルキル、アルコキシ
、カルボキシ、アルコキ7カル列ミニル、アリールオキ
7カルボニル基又はハロゲン原子ヲ表わす。まプこp、
qはそれぞれ0 、 <2の整数ヶ表わす。
未j作換の窒素原子又はカルボニル基を表わし、R,1
1,は各々同じか異なってもよいアルキル、アルコキシ
、カルボキシ、アルコキ7カル列ミニル、アリールオキ
7カルボニル基又はハロゲン原子ヲ表わす。まプこp、
qはそれぞれ0 、 <2の整数ヶ表わす。
一般式II aの化合物の具I4例としては、ベンゾフ
ェノン、ユーメナルベンン°フェノン′、クーメチルベ
ンゾフェノン、≠−メトキシベンゾフェノン、j−クロ
ロベンゾフェノン、λ 17 、、z))ロロペンゾフ
エノン、a、ll’−、;クロロベンゾフェノン、p、
4t’−ジメトキシベンゾフェノン、クーブロモベンゾ
フェノン、λ−カルポギシベンゾフエノン、−一エトキ
シ力ルポニルベンゾノエノン、ペンゾフエノンデトラカ
ルボ゛ン酸又はそのデトラメチルエスデル、λ−ベンシ
イルビ′リジン、+−ベンゾイルピリジンが挙げられ、
特に好ましくはヘンシフエノン、グーメト−tジベンゾ
フェノン、グーベンゾイルピリジンが挙げられる。
ェノン、ユーメナルベンン°フェノン′、クーメチルベ
ンゾフェノン、≠−メトキシベンゾフェノン、j−クロ
ロベンゾフェノン、λ 17 、、z))ロロペンゾフ
エノン、a、ll’−、;クロロベンゾフェノン、p、
4t’−ジメトキシベンゾフェノン、クーブロモベンゾ
フェノン、λ−カルポギシベンゾフエノン、−一エトキ
シ力ルポニルベンゾノエノン、ペンゾフエノンデトラカ
ルボ゛ン酸又はそのデトラメチルエスデル、λ−ベンシ
イルビ′リジン、+−ベンゾイルピリジンが挙げられ、
特に好ましくはヘンシフエノン、グーメト−tジベンゾ
フェノン、グーベンゾイルピリジンが挙げられる。
また一般式nbの化合物の具体例としては、フルオレノ
ンキザントン、アオキサントン、!−クロルチオキ」ノ
ントン、!、弘−ジメブールチオキサントン、λ、l/
l−シエチルチオギナントン、N −メチルアクリドン
、アクリドン、λ−t e r t −プチルアントラ
ギノン、ノーメヂルアントラギノン、J−クロルアント
ラギノンが挙げられ、・侍に好ましくは、キザントン、
フルオレノン、!、4/、−ジエチルチオキ゛リーント
ンが挙けられる。
ンキザントン、アオキサントン、!−クロルチオキ」ノ
ントン、!、弘−ジメブールチオキサントン、λ、l/
l−シエチルチオギナントン、N −メチルアクリドン
、アクリドン、λ−t e r t −プチルアントラ
ギノン、ノーメヂルアントラギノン、J−クロルアント
ラギノンが挙げられ、・侍に好ましくは、キザントン、
フルオレノン、!、4/、−ジエチルチオキ゛リーント
ンが挙けられる。
ネジ6明の光重合性組成物に使用される有様過酸化物は
23〜ノア、2°Cの温度において分解して遊離基金形
成する過酸化物は何れも可能である。
23〜ノア、2°Cの温度において分解して遊離基金形
成する過酸化物は何れも可能である。
本発明に従って使用される好ましい有機過酸化物は、ケ
トンノt−オキサイド類、パーオキシケタール類、ハイ
ドロパーオキサイド類、ジアルキルパーオキサイド類、
ジアシルバーオキサイド類、パーオギンジカーボ゛ネー
ト随、7g−オキシエステル類、等から選ばれる。ケト
ンノミ−オキサイド類の具[11としてはメチルエチル
ケトンパーオキサゝ、 イド;シクロヘキサノンパーオキづイド: 3 、3゜
J−)リメチルシクロヘキザノン、o−オキザイド;メ
チルノクロヘキサノンパーオギサイド;アセチルアセト
パーオキザイドが挙げられ、バー7十キシケタール類と
しては、/、/−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,
3,j−)リメチルシクロへキサノン:/、l−ビス(
t−ブチルパーオキシ)/クロヘキサノン;2,2−ビ
ス(t−ブチルパーオキシ)オクタン;n−ブチル−≠
、l−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート;λ1
.2−ビスー(t−フチルバーオキシ)ブタンが挙ケら
れ、ハイドロ/ミーオキサイド類としてはt−ブチルハ
イドロパーオキサイド;クメンハイドロパーオキサイド
;ジ−イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド;
p−メンタンハイドロパーオキサイド、λ、!−ジメチ
ルへキサンλ、j−ジハイドロパーオキザイド、/、/
、3.3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド
が挙げられ、ジアルキルパーオキサイド類どしては、ジ
ーt−プチルパーオキザイド、tert−プチルクミル
パーオキザイド、ジクミルノg−オキザイド、α、α′
−ビス(t−ブチルノミ−オキシイソプロピル)ベンゼ
ン、λ、ま−ジメチルー、2.j−ジ(t−ブチルパー
オキシ)ヘキサン、λ、j−ジメチルー2、’−シ(t
ert−7’チルノミ−オキシ)ヘキシン−3が、Mら
れ、ジアシルバーオ虎ザイドとしてはアセチルパーオキ
サイド、イソブチリル/2−オキ7ドオクタノイルパー
オキザイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパ
ーオキサイド、3、J、j−トリメチルヘキサノイルパ
ーオキサイド、コハク酸パーオキザイド、ペンゾイルパ
−−オキサイド、λ、≠−ジクロロベンソイルパーオキ
サイド、m−トリメイルノg−オキサイド、が挙けられ
、パーオキシカーポ不−ト類としてはジイソプロピルバ
ーオキシンカーボネート、ジーλ−エチルヘニ’tシル
パーオキシジカーボネート、シーn−プロビルノテーオ
キシジカーボ゛イ、−1−、ジーミリスチルパー刊ギ/
ジカーホネ−1・、ジーλ−工l・キシエチルパーオキ
シカー日ソネート、ジメト・Vシイソゾロビルバーオヤ
ーシジカーポネ−ト、ジ(3−メチル−3−メトキシブ
チル)バーオギシシカーホ゛ネー[・が2詐けられ、ペ
ーオギンエステル類としてtま、t−ブチルパーオキシ
アセテート、t−ブチルパーオキシインブチレート、t
−ブチルパーオキ/−ビバレ−1−1t−ブチルパーオ
キシネオデカノエート、クンルパーオキシネオデカネー
ト、t−プチルパーオ乎シーーエブールヘキサノエート
、L−ブチルパーオキシ3.j、3−トリメチルベキザ
ノエート、t−プチルパーオキシラウレ−1・、t−プ
チルパーオキシベンゾエ−1・、ジーt−−fチルノg
−オキシイソフタレート、λ。
トンノt−オキサイド類、パーオキシケタール類、ハイ
ドロパーオキサイド類、ジアルキルパーオキサイド類、
ジアシルバーオキサイド類、パーオギンジカーボ゛ネー
ト随、7g−オキシエステル類、等から選ばれる。ケト
ンノミ−オキサイド類の具[11としてはメチルエチル
ケトンパーオキサゝ、 イド;シクロヘキサノンパーオキづイド: 3 、3゜
J−)リメチルシクロヘキザノン、o−オキザイド;メ
チルノクロヘキサノンパーオギサイド;アセチルアセト
パーオキザイドが挙げられ、バー7十キシケタール類と
しては、/、/−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,
3,j−)リメチルシクロへキサノン:/、l−ビス(
t−ブチルパーオキシ)/クロヘキサノン;2,2−ビ
ス(t−ブチルパーオキシ)オクタン;n−ブチル−≠
、l−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート;λ1
.2−ビスー(t−フチルバーオキシ)ブタンが挙ケら
れ、ハイドロ/ミーオキサイド類としてはt−ブチルハ
イドロパーオキサイド;クメンハイドロパーオキサイド
;ジ−イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド;
p−メンタンハイドロパーオキサイド、λ、!−ジメチ
ルへキサンλ、j−ジハイドロパーオキザイド、/、/
、3.3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド
が挙げられ、ジアルキルパーオキサイド類どしては、ジ
ーt−プチルパーオキザイド、tert−プチルクミル
パーオキザイド、ジクミルノg−オキザイド、α、α′
−ビス(t−ブチルノミ−オキシイソプロピル)ベンゼ
ン、λ、ま−ジメチルー、2.j−ジ(t−ブチルパー
オキシ)ヘキサン、λ、j−ジメチルー2、’−シ(t
ert−7’チルノミ−オキシ)ヘキシン−3が、Mら
れ、ジアシルバーオ虎ザイドとしてはアセチルパーオキ
サイド、イソブチリル/2−オキ7ドオクタノイルパー
オキザイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパ
ーオキサイド、3、J、j−トリメチルヘキサノイルパ
ーオキサイド、コハク酸パーオキザイド、ペンゾイルパ
−−オキサイド、λ、≠−ジクロロベンソイルパーオキ
サイド、m−トリメイルノg−オキサイド、が挙けられ
、パーオキシカーポ不−ト類としてはジイソプロピルバ
ーオキシンカーボネート、ジーλ−エチルヘニ’tシル
パーオキシジカーボネート、シーn−プロビルノテーオ
キシジカーボ゛イ、−1−、ジーミリスチルパー刊ギ/
ジカーホネ−1・、ジーλ−工l・キシエチルパーオキ
シカー日ソネート、ジメト・Vシイソゾロビルバーオヤ
ーシジカーポネ−ト、ジ(3−メチル−3−メトキシブ
チル)バーオギシシカーホ゛ネー[・が2詐けられ、ペ
ーオギンエステル類としてtま、t−ブチルパーオキシ
アセテート、t−ブチルパーオキシインブチレート、t
−ブチルパーオキ/−ビバレ−1−1t−ブチルパーオ
キシネオデカノエート、クンルパーオキシネオデカネー
ト、t−プチルパーオ乎シーーエブールヘキサノエート
、L−ブチルパーオキシ3.j、3−トリメチルベキザ
ノエート、t−プチルパーオキシラウレ−1・、t−プ
チルパーオキシベンゾエ−1・、ジーt−−fチルノg
−オキシイソフタレート、λ。
!−ジメチルーー、j−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘ
キサン、t−ブチルパーオキシマレイン酸、t−−j’
チルノξ−オキーンイソプ′ロビ゛ルカーs= ネート
が挙げられる。
キサン、t−ブチルパーオキシマレイン酸、t−−j’
チルノξ−オキーンイソプ′ロビ゛ルカーs= ネート
が挙げられる。
これらの具1本列のうち勃に好ましい出合I吻(・」−
ジーt−ブチ/l/ジパーオキシイソフクレ−3,2゜
タージメチルヘキサンλ、!−ジヒドロノg−オキーリ
ーイド、ユ、j−ジメ了−ルーコ、5−1しく1− ブ
ーブールバー」ギシ)−\キノン−3、ジクミルノg−
オギシド、2.5−ジメチル−2,!−ジ(ベンゾイル
パ−オキシ)へキリ゛ンである。
ジーt−ブチ/l/ジパーオキシイソフクレ−3,2゜
タージメチルヘキサンλ、!−ジヒドロノg−オキーリ
ーイド、ユ、j−ジメ了−ルーコ、5−1しく1− ブ
ーブールバー」ギシ)−\キノン−3、ジクミルノg−
オギシド、2.5−ジメチル−2,!−ジ(ベンゾイル
パ−オキシ)へキリ゛ンである。
ネ’I(3明のゲ0爪合1牛組成物に+[」いられる好
適な多官能モノマーの代表的な1マ1)は次のとおりで
ある。
適な多官能モノマーの代表的な1マ1)は次のとおりで
ある。
特公昭3j−4073号明h1ロ書、)特公昭3j−/
≠7/り号明卸I杵、特公昭’l11.−217.27
号明卸]書等に記載される、ポリオールのア、りIJ
7し酸又はメタクリル酸エステル、すなわちジエチレン
グリコール′)(メタ)アクリレート、トリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリ
コール′)(メタ)アクリレ−]・、〈]ンクエリスリ
ト−ルトす(メタ)アクリレート、トリメチロールプー
コ/ξントす(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールへキサ(メタ)アクリレ−)・、1.A−ヘキサ
ンジオールジ(メタ)アクリレ−1等、又はメチレンビ
ス(メタ)アクリルアミド、エチレンビス(メタ)゛ア
クリルアミドの如きヒス(ツタ)アクリルアミド類、あ
るいはウレタン基を含有する多官能モノマー、例えばジ
ー(,2−メタクリ[1キン1チル)−2,4/−1−
リレンジウレタン、ノー(2−′アクリ[1キシエチル
)ヘヤリーメチレンジウレタン、又Q51ポリオールと
ジペンタ゛r;r−+・とをPめ反[卜させて得られる
末端イノシ゛)゛ネ−t−IL;合11勿にy」にβ−
ヒドロキシアルギル(メタ)アクリレ−l−*反1もせ
]−7めることでj(Iらhる(メタ)アクリルウレタ
ンオリゴマーが挙げられる。
≠7/り号明卸I杵、特公昭’l11.−217.27
号明卸]書等に記載される、ポリオールのア、りIJ
7し酸又はメタクリル酸エステル、すなわちジエチレン
グリコール′)(メタ)アクリレート、トリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリ
コール′)(メタ)アクリレ−]・、〈]ンクエリスリ
ト−ルトす(メタ)アクリレート、トリメチロールプー
コ/ξントす(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールへキサ(メタ)アクリレ−)・、1.A−ヘキサ
ンジオールジ(メタ)アクリレ−1等、又はメチレンビ
ス(メタ)アクリルアミド、エチレンビス(メタ)゛ア
クリルアミドの如きヒス(ツタ)アクリルアミド類、あ
るいはウレタン基を含有する多官能モノマー、例えばジ
ー(,2−メタクリ[1キン1チル)−2,4/−1−
リレンジウレタン、ノー(2−′アクリ[1キシエチル
)ヘヤリーメチレンジウレタン、又Q51ポリオールと
ジペンタ゛r;r−+・とをPめ反[卜させて得られる
末端イノシ゛)゛ネ−t−IL;合11勿にy」にβ−
ヒドロキシアルギル(メタ)アクリレ−l−*反1もせ
]−7めることでj(Iらhる(メタ)アクリルウレタ
ンオリゴマーが挙げられる。
本完明Vこよる)′0重合1生川成物は、前記の如き、
)′C屯合開始削と多重fjヒモノマーを必須成分とす
るが、必要に応じて、高分子結合ハ11、%′い1合防
止剤、可塑剤、巴素、及色剤、^0記の多官能を、ツマ
−以外のエチレン性不飽和化自f吻、さらに陽極酸化ア
ルミニウム、銅などの表面への密着促進剤およびその他
の助剤4Rk併用し、でもよく、これによって目的とす
る平版印刷版、樹脂凸版、フォトレジスト、フォトマス
ク等ヲ広汎に潤?! L、うる。
)′C屯合開始削と多重fjヒモノマーを必須成分とす
るが、必要に応じて、高分子結合ハ11、%′い1合防
止剤、可塑剤、巴素、及色剤、^0記の多官能を、ツマ
−以外のエチレン性不飽和化自f吻、さらに陽極酸化ア
ルミニウム、銅などの表面への密着促進剤およびその他
の助剤4Rk併用し、でもよく、これによって目的とす
る平版印刷版、樹脂凸版、フォトレジスト、フォトマス
ク等ヲ広汎に潤?! L、うる。
上記高分子結合剤は、印刷適性やレジスト物性の向上ケ
目的として使用されるものであり、例えば、飽和又は不
飽和の変性又は非変性のアルキドないしはポリエステル
舎[脂、ビニル樹脂、アクリル樹脂、エボギシ樹脂、キ
シレン樹脂、芳香族スルホンアミドホルムアルデヒド樹
脂、ケトン樹脂、石油樹脂、ジアリルフタレ−1・樹脂
、メラミン樹脂、ロジン変性フェノール61脂、セルロ
ーズ、又はセルローズ肪導体などの天然樹脂を挙げるこ
とができる。待に好咬L9い例としてはアルコール可4
“汁1:、ナイロン、ポリ(メヂルメタクリl/−ト)
、ポリ(メチルメタクリレートーコーメタクリル酸)等
が挙げられる。
目的として使用されるものであり、例えば、飽和又は不
飽和の変性又は非変性のアルキドないしはポリエステル
舎[脂、ビニル樹脂、アクリル樹脂、エボギシ樹脂、キ
シレン樹脂、芳香族スルホンアミドホルムアルデヒド樹
脂、ケトン樹脂、石油樹脂、ジアリルフタレ−1・樹脂
、メラミン樹脂、ロジン変性フェノール61脂、セルロ
ーズ、又はセルローズ肪導体などの天然樹脂を挙げるこ
とができる。待に好咬L9い例としてはアルコール可4
“汁1:、ナイロン、ポリ(メヂルメタクリl/−ト)
、ポリ(メチルメタクリレートーコーメタクリル酸)等
が挙げられる。
熱重合防止剤は、本発明の光重合a組成物の熱的な重合
又は経時的な重合に防止するために添〃口するもので、
例えば、p−メトギシフェノール、ヒドロキノン、t−
ブチルカテコール、ピロガロール、λ−ヒドロキシベン
ゾフェノン、≠−メトキシー2−ヒドロキシベンゾフェ
ノン、塩1Bml銅、フェノチアジン、クロラニル、ナ
フチルアミン、β−ナフトール、2.6−ジーt−ブチ
ル−p−クレゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼ
ン、ピクリン酸、p−トルイジン等が挙げられる。
又は経時的な重合に防止するために添〃口するもので、
例えば、p−メトギシフェノール、ヒドロキノン、t−
ブチルカテコール、ピロガロール、λ−ヒドロキシベン
ゾフェノン、≠−メトキシー2−ヒドロキシベンゾフェ
ノン、塩1Bml銅、フェノチアジン、クロラニル、ナ
フチルアミン、β−ナフトール、2.6−ジーt−ブチ
ル−p−クレゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼ
ン、ピクリン酸、p−トルイジン等が挙げられる。
可塑剤は、膜物性をコントロールするために添加するも
ので、例えば、ジブチルフタレ−1−、ジアクリルフタ
レート、ジオクチルフタレート、ジアクリルフタレート
等のフタル酸エステル類;トリエチレンク゛リコールジ
アセテ−1・、テトラエチレングリコールジアセテート
等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート
、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;p
−トルエンスルホンアミド、ペンセンスルホンアミド、
N −n−ブチルアセトアミド等のアミド類;ジイソブ
チルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバ
ケー+−、ジオクチルアゼレート、ジブチル7レート等
の脂肪族二り甚些酸エステル類;クエン酸トリエチル、
クエン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル
、ラウリン酸ブチル、≠、タージエボギシンクロへギザ
ノー/。−2−ジカルボン酸ジオクチル等が挙けらf”
1. ル。
ので、例えば、ジブチルフタレ−1−、ジアクリルフタ
レート、ジオクチルフタレート、ジアクリルフタレート
等のフタル酸エステル類;トリエチレンク゛リコールジ
アセテ−1・、テトラエチレングリコールジアセテート
等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート
、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;p
−トルエンスルホンアミド、ペンセンスルホンアミド、
N −n−ブチルアセトアミド等のアミド類;ジイソブ
チルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバ
ケー+−、ジオクチルアゼレート、ジブチル7レート等
の脂肪族二り甚些酸エステル類;クエン酸トリエチル、
クエン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル
、ラウリン酸ブチル、≠、タージエボギシンクロへギザ
ノー/。−2−ジカルボン酸ジオクチル等が挙けらf”
1. ル。
(’21Aの例は、ブリリアントグリーン、エオシン、
エチルバイオレット、エリスロシンF3’、メチルグリ
ーン、クリスタルバイオレット、ペイシノクフクシン、
フェノールフタレイン、113−ジフェニルトリアジン
、アリザリンレッドS1チモールフタレイン、メチルバ
イオレット、2B、キナルジンレッド、ローズベンガル
、メタニル−イエロー、チモールスルホフタレイン、キ
シレノールブルー、メチルオレンジ、オレンジI■、ジ
フェニルチオカルバゾン、!、7−ジクロロフルオレセ
イン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンゾゾル
プリン≠B1 α−ナフチル−レッド、ベンゾゾルプリ
ン4jB、α−ナフチルレッド、ナイルブルーA1フエ
ナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン
、バラツクシン、オイルブルー#t。
エチルバイオレット、エリスロシンF3’、メチルグリ
ーン、クリスタルバイオレット、ペイシノクフクシン、
フェノールフタレイン、113−ジフェニルトリアジン
、アリザリンレッドS1チモールフタレイン、メチルバ
イオレット、2B、キナルジンレッド、ローズベンガル
、メタニル−イエロー、チモールスルホフタレイン、キ
シレノールブルー、メチルオレンジ、オレンジI■、ジ
フェニルチオカルバゾン、!、7−ジクロロフルオレセ
イン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンゾゾル
プリン≠B1 α−ナフチル−レッド、ベンゾゾルプリ
ン4jB、α−ナフチルレッド、ナイルブルーA1フエ
ナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン
、バラツクシン、オイルブルー#t。
3〔オリエント化学工業■裂〕、口〜ダミンB。
ローダミン6qなどである。
変色剤は、露光により可視像全与えることができるよう
に光重合組成物中に添加される。これらの具体例として
、前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルアニリ
ン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェニ
ル−p−フェニレンジアミン、p−トルイジン、+、+
’−ビフェニルジアミン、0−クロロアニリン、p、p
′、p〃−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン
、p、p’−テトラメチルジアミノトリフェニルメタン
、p、p′、p〃−トリアミノトリノェニルヵルビノー
ル、等が挙げられる。
に光重合組成物中に添加される。これらの具体例として
、前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルアニリ
ン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェニ
ル−p−フェニレンジアミン、p−トルイジン、+、+
’−ビフェニルジアミン、0−クロロアニリン、p、p
′、p〃−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン
、p、p’−テトラメチルジアミノトリフェニルメタン
、p、p′、p〃−トリアミノトリノェニルヵルビノー
ル、等が挙げられる。
前記多官能モノマー以外のエチレン注小飽オロ[ヒ合物
々してはエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート
、トリエチレングリコールメチルエーテル(メタ)アク
リレート、エチレングリコールフェニルエーテル(メタ
)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ
)アクリレート、ジアセトンアクリルアミド、(メタ)
アクリルアミド、N−n−ブチル(メタ)アクリルアミ
ド等が具体例である。
々してはエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート
、トリエチレングリコールメチルエーテル(メタ)アク
リレート、エチレングリコールフェニルエーテル(メタ
)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ
)アクリレート、ジアセトンアクリルアミド、(メタ)
アクリルアミド、N−n−ブチル(メタ)アクリルアミ
ド等が具体例である。
密着促進剤の具体レリば、ベンズイミダゾール、ベンズ
チアゾール、ペンズオキサゾール、ベンズトリアゾール
lど特発)+6 r o−2777号に記載のf七合物
、!−メルカプトベンズチアゾール、コーメルカブトベ
ンズイミダゾールなど特開昭j3−702号に記載の七
合物である。
チアゾール、ペンズオキサゾール、ベンズトリアゾール
lど特発)+6 r o−2777号に記載のf七合物
、!−メルカプトベンズチアゾール、コーメルカブトベ
ンズイミダゾールなど特開昭j3−702号に記載の七
合物である。
前述の各構成成分の好ましい比率および%に好寸しい比
率を多蒔能モノマーioo重恒部に対す一般式■の化合
物 一般式II a又はnbの化合物 有機過酸化物 高分子結合剤 熱重合防止剤 可M剤 色素 変色剤 エチレン不飽和化合物 密着促進剤 0 .01−100 (0,/−1o)0 .0/−1
00(0,/−、tθ)0 .0/−/ θ0 (0,
/−夕θ)o−toooo (o−iooo) 0−40 (0−20) o−10oo (o−ioo) 0−100(θ−jo) 0−/ 00 (0−40) 0−10θ0(0−/θ0) o−、to(θ−)〇) 本発明の光重合性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中
に溶解せしめ、所望の支持体上に公知の方法により塗布
して用いられる。その場合に使用される溶媒としてはエ
チレンジクロリド、セノクロルベンゼン、シクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチルセロ
ソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、メチルセロソルブ、
トルエン、キシレンなどの単独、又は混合物である。
率を多蒔能モノマーioo重恒部に対す一般式■の化合
物 一般式II a又はnbの化合物 有機過酸化物 高分子結合剤 熱重合防止剤 可M剤 色素 変色剤 エチレン不飽和化合物 密着促進剤 0 .01−100 (0,/−1o)0 .0/−1
00(0,/−、tθ)0 .0/−/ θ0 (0,
/−夕θ)o−toooo (o−iooo) 0−40 (0−20) o−10oo (o−ioo) 0−100(θ−jo) 0−/ 00 (0−40) 0−10θ0(0−/θ0) o−、to(θ−)〇) 本発明の光重合性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中
に溶解せしめ、所望の支持体上に公知の方法により塗布
して用いられる。その場合に使用される溶媒としてはエ
チレンジクロリド、セノクロルベンゼン、シクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチルセロ
ソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、メチルセロソルブ、
トルエン、キシレンなどの単独、又は混合物である。
本姥明の光重合性組成物は、ドライフィルムレジストの
フ第1・レジスト1蛤として好適である。その場合、フ
ォトレジスト層の厚みとしては。、/μからJ′OOμ
が適当であり、特に好ましくはlμから200μの範囲
である。また本光明の光重合性組成物を用いて感j’a
性平版印刷版全製造する場合、塗布h1は一般的に転塾
時θ、/〜io、。
フ第1・レジスト1蛤として好適である。その場合、フ
ォトレジスト層の厚みとしては。、/μからJ′OOμ
が適当であり、特に好ましくはlμから200μの範囲
である。また本光明の光重合性組成物を用いて感j’a
性平版印刷版全製造する場合、塗布h1は一般的に転塾
時θ、/〜io、。
g / m が適当でありliMに好ましくは。、!r
−4゜0 、!17 / m である。
−4゜0 、!17 / m である。
本情明の光重合性組成物をドライフィルムレジストとし
て1史用する場合、好適な支持体としてポリアミド、ポ
リオレフィン、ポリエステル、ビニル重合体およびセル
ロースエステルなどのフィルムから選ばれ3μから10
0μの厚みを持つものがよい。特に好適な支持体フィル
ムは約、2!μの厚さを持つ透明なポリエチレンテレフ
タレートフィルムである。又この場合好適な保穫フィル
ムとしてはポリオレフィンが挙げられ、特に好ましいも
のとして、20〜itμの厚さのポリエチレンフィルム
を挙げることができる。
て1史用する場合、好適な支持体としてポリアミド、ポ
リオレフィン、ポリエステル、ビニル重合体およびセル
ロースエステルなどのフィルムから選ばれ3μから10
0μの厚みを持つものがよい。特に好適な支持体フィル
ムは約、2!μの厚さを持つ透明なポリエチレンテレフ
タレートフィルムである。又この場合好適な保穫フィル
ムとしてはポリオレフィンが挙げられ、特に好ましいも
のとして、20〜itμの厚さのポリエチレンフィルム
を挙げることができる。
才だ本発明の光重合性組成物全フォトマスク用フィルム
の製造に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニ
ウム、アルミニウム合金やクロム全蒸着させたポリエチ
レンテレフタレートフィルムや着色層ケ設けたポリエチ
レンテレフタレートフィルムを挙げることができる。
の製造に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニ
ウム、アルミニウム合金やクロム全蒸着させたポリエチ
レンテレフタレートフィルムや着色層ケ設けたポリエチ
レンテレフタレートフィルムを挙げることができる。
また本発明の光重合性組成物全感光性平版印刷版の感光
層として部用する場合の好適な支持体としては、親水[
ヒ処理したアルミニウム板、たとえばシリケート処理し
たアルミニウム板、陽極rP/、fヒしたアルミニウム
板、砂目立てしたアルミニウム板、シリケ−ト処理した
アルミニウム板があり、それ以外にも、亜鉛板、ステン
レス板、クローム処理銅板、親水化処理したプラスチッ
クフィルムや紙ケ挙げることができ心。
層として部用する場合の好適な支持体としては、親水[
ヒ処理したアルミニウム板、たとえばシリケート処理し
たアルミニウム板、陽極rP/、fヒしたアルミニウム
板、砂目立てしたアルミニウム板、シリケ−ト処理した
アルミニウム板があり、それ以外にも、亜鉛板、ステン
レス板、クローム処理銅板、親水化処理したプラスチッ
クフィルムや紙ケ挙げることができ心。
また印刷用カラープルーフ、オーバーヘッドプロジェク
タ−用フィルム、第2原図用フィルムの製造に、本発明
の光重合t′A:組成物を用いる場合、これらに適する
支持体としてはポリエチレンテレフタレートフィルム、
三酢酸セルローズフィルム等の透明フィルムや、これら
のプラスチックフィルムの表面ヶ化学的又は物理的にマ
ット1ヒしたものを挙げることができる。
タ−用フィルム、第2原図用フィルムの製造に、本発明
の光重合t′A:組成物を用いる場合、これらに適する
支持体としてはポリエチレンテレフタレートフィルム、
三酢酸セルローズフィルム等の透明フィルムや、これら
のプラスチックフィルムの表面ヶ化学的又は物理的にマ
ット1ヒしたものを挙げることができる。
本発明の三元のゲ0重合開始剤系が、高い感度と高い光
硬化膜強度ケ示すことはノ、育〈べきことである。結果
としてドライフィルムレジストとして用いたときには「
テント」の耐スプレー衝撃性が高められ、「テント」の
信頼度が改善される。捷た平版印刷版とl〜て用いたと
きには、印刷寿命が大rlJに改善され、製版コストが
低下できる。さらにフ第1・マスクやカラーブルーフ用
の感光層として用いた場合には画像の強度が高められる
結果使用寿命が高められる。また従来のように取扱いに
気に使う必要がないので、作?1文効率が向−Lする。
硬化膜強度ケ示すことはノ、育〈べきことである。結果
としてドライフィルムレジストとして用いたときには「
テント」の耐スプレー衝撃性が高められ、「テント」の
信頼度が改善される。捷た平版印刷版とl〜て用いたと
きには、印刷寿命が大rlJに改善され、製版コストが
低下できる。さらにフ第1・マスクやカラーブルーフ用
の感光層として用いた場合には画像の強度が高められる
結果使用寿命が高められる。また従来のように取扱いに
気に使う必要がないので、作?1文効率が向−Lする。
さらに本発明の光重合組成物は現像性に優れているため
スカムゝ、印刷汚れケひき起さない。
スカムゝ、印刷汚れケひき起さない。
寸だ本5ら明のyr:重合性組成物は経時的に安疋であ
るため、ドライブイルノ・レジストヤ、感光性印刷版、
カラープルーフ竹の子め感光性全付与した感光材料とし
て用いた場合、これらの材料の貯蔵寿命は良好であめ。
るため、ドライブイルノ・レジストヤ、感光性印刷版、
カラープルーフ竹の子め感光性全付与した感光材料とし
て用いた場合、これらの材料の貯蔵寿命は良好であめ。
寸だ、本発明の三元の)IL重合開始削系は、同時に添
加されるロイコ染4壮や染料留金光変色する能力も高い
ため、フォトレジスト、感光tit平版印刷版に焼出し
機能ケ与えることもn1能である。
加されるロイコ染4壮や染料留金光変色する能力も高い
ため、フォトレジスト、感光tit平版印刷版に焼出し
機能ケ与えることもn1能である。
次に実施例によって本光明會さらにfP細に説明するが
、本発明はこれらのみに限だされるものではない。
、本発明はこれらのみに限だされるものではない。
実施例1
表1に示される種々の光重合開始剤を含み、他の委素は
共通の次の塗布液′5f:調製した。
共通の次の塗布液′5f:調製した。
ポリ(メチルメタクリレート) 13M(平均分子量/
1lO100O) l・リメプーロールプロノξンドリアク コ。弘gリレ
ート ブトラエチレングリコールジアク t。/、!i+リレ
ート 光重合開始剤系 xg p−メトキシフェノール o、oig p−)ルエンスルホンアミド /、A+2gマラカイト
グリーン O00/jI ノヂルエチルケトン llオy 各々の塗布液をポリエチレンテレフタレートフィルl、
(,24μ厚)に塗布し、1000Cのオーブン中で
2分間乾燥し、約307i厚の塗j摸を得た。
1lO100O) l・リメプーロールプロノξンドリアク コ。弘gリレ
ート ブトラエチレングリコールジアク t。/、!i+リレ
ート 光重合開始剤系 xg p−メトキシフェノール o、oig p−)ルエンスルホンアミド /、A+2gマラカイト
グリーン O00/jI ノヂルエチルケトン llオy 各々の塗布液をポリエチレンテレフタレートフィルl、
(,24μ厚)に塗布し、1000Cのオーブン中で
2分間乾燥し、約307i厚の塗j摸を得た。
銅張積層板上にiao 0Cでラミネートし、)゛C学
一度差が0./!rのステップウェッジを重ね、コKW
超高圧水銀月(オーク社製、ジェットプリンター)で減
圧Fgoカウント光照射した。島光済の積層板からポリ
エチレンテレフタレートフィルム支持1体を剥き取った
後、クロロセン中に6C秒間浸漬し未露光部を溶解した
。得られるステップウェッジの画fZ:から、クリア段
数會読み取り、それを感度の値とした。
一度差が0./!rのステップウェッジを重ね、コKW
超高圧水銀月(オーク社製、ジェットプリンター)で減
圧Fgoカウント光照射した。島光済の積層板からポリ
エチレンテレフタレートフィルム支持1体を剥き取った
後、クロロセン中に6C秒間浸漬し未露光部を溶解した
。得られるステップウェッジの画fZ:から、クリア段
数會読み取り、それを感度の値とした。
一方、未露)°0のポリエチレンテレフタレートフィル
ム上の塗膜に厚さ、2jμのポリエチレンフィルムkm
層した。このサンドインチ状積層物から10mm×70
Bの大きさの切片全切り11L/す1.2KW超高圧水
銀灯(オーク社製、ジェットプリンター)で所定の時間
全面露光した。露光後3o5+以上経過後、この切片か
らポリエチレンフィルムとポリエチレンテレフタレート
フィルムを剥離し光硬化した膜を取り出した。この膜の
引張り強度音調べるため、引張り試験Jilにこの切片
全敗り令Jけ、応カー歪み曲線全測定した。j漠の引張
り強1現をλOカウント露光時の降伏応力で評価しfζ
。
ム上の塗膜に厚さ、2jμのポリエチレンフィルムkm
層した。このサンドインチ状積層物から10mm×70
Bの大きさの切片全切り11L/す1.2KW超高圧水
銀灯(オーク社製、ジェットプリンター)で所定の時間
全面露光した。露光後3o5+以上経過後、この切片か
らポリエチレンフィルムとポリエチレンテレフタレート
フィルムを剥離し光硬化した膜を取り出した。この膜の
引張り強度音調べるため、引張り試験Jilにこの切片
全敗り令Jけ、応カー歪み曲線全測定した。j漠の引張
り強1現をλOカウント露光時の降伏応力で評価しfζ
。
結果を表/に示す。
表/から明らかなように、本発明に従う3元系の光重合
開始剤系(フィルム瓜/)は、感度および一千伏応力の
両方が、各要素の単独を用いた場合(フィルムA52〜
lI)および2元系(フィルム篇j〜7)の場合より優
れている。
開始剤系(フィルム瓜/)は、感度および一千伏応力の
両方が、各要素の単独を用いた場合(フィルムA52〜
lI)および2元系(フィルム篇j〜7)の場合より優
れている。
実施例2
実施ドlllと同様にして、表2に示す光重合開始剤系
を用いて塗膜を作り、感1及と降伏応力を評価した。(
表、2) いづれのレリも本艷明の)゛f;重合開始削糸全用いれ
ば高感度で、かつ降伏応力の大きい塗膜が得られ実Mu
例3 プリント基板の製造 実施例1に記載の方法で得た、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム(λjμ厚)と光重合a層(jOμ厚)と
ポリエチレンフィルム(,2jμ厚)から成るの一す−
ンドイツチ状積層物(フィルム扁/〜7)から、ポリエ
チレンフィルムを剥ぎ取り、整面し乾燥した銅張積12
板(これには直径λ、j配、/ 、j胴、/ 、O咽(
Dスルホール(−レソレ100ケケ持つ)の両面にA−
、zI/−ラミネータケ用い/、200Cで積層した。
を用いて塗膜を作り、感1及と降伏応力を評価した。(
表、2) いづれのレリも本艷明の)゛f;重合開始削糸全用いれ
ば高感度で、かつ降伏応力の大きい塗膜が得られ実Mu
例3 プリント基板の製造 実施例1に記載の方法で得た、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム(λjμ厚)と光重合a層(jOμ厚)と
ポリエチレンフィルム(,2jμ厚)から成るの一す−
ンドイツチ状積層物(フィルム扁/〜7)から、ポリエ
チレンフィルムを剥ぎ取り、整面し乾燥した銅張積12
板(これには直径λ、j配、/ 、j胴、/ 、O咽(
Dスルホール(−レソレ100ケケ持つ)の両面にA−
、zI/−ラミネータケ用い/、200Cで積層した。
通常の方法で、各積層板にランド径3.0mmz λ、
Omm、/。≠胴のフォトマスクを重ね、超高圧水銀灯
で露光しく20カウント)、各スルホールの両面上に光
硬化したレジスト膜を生成させた。ポリエチレンテレフ
タレートフィルム支持体を各板の各面から除去し、そし
てクロロ七ンスプレーによって未露光のレジスト部分を
除去することによって板を現f象したところフィルム屋
λ、3、グ、7以外のレジストでは各スルーホールが光
硬[ヒした膜(「テント」)におおわれていた。すべて
の1テント」には欠陥が認められなかった。次いでこの
現1象した板を高圧熱水スプレー(tv’c)4通過さ
せて「テント」の耐スプレー衝ワ3性ケ試験した。スプ
レーの間に破壊されたテントの割合1表3に示す。
Omm、/。≠胴のフォトマスクを重ね、超高圧水銀灯
で露光しく20カウント)、各スルホールの両面上に光
硬化したレジスト膜を生成させた。ポリエチレンテレフ
タレートフィルム支持体を各板の各面から除去し、そし
てクロロ七ンスプレーによって未露光のレジスト部分を
除去することによって板を現f象したところフィルム屋
λ、3、グ、7以外のレジストでは各スルーホールが光
硬[ヒした膜(「テント」)におおわれていた。すべて
の1テント」には欠陥が認められなかった。次いでこの
現1象した板を高圧熱水スプレー(tv’c)4通過さ
せて「テント」の耐スプレー衝ワ3性ケ試験した。スプ
レーの間に破壊されたテントの割合1表3に示す。
表3
本光明の三元光重合開始系ケ含む組成は高感度であり、
かつ単独系や二元系光重合開始剤の組成より、実質的に
破壊されにくいテントケ与えることが明らかである。
かつ単独系や二元系光重合開始剤の組成より、実質的に
破壊されにくいテントケ与えることが明らかである。
実施例4 ネガ型平版印刷版の製造
表面を砂目立てし陽極酸比した厚さo、is。
のアルミニウム板に次の感光液をホエラーで塗布し70
0°Cにおいて1分間乾・燥を行ない感光性印刷版を作
成した。
0°Cにおいて1分間乾・燥を行ない感光性印刷版を作
成した。
トリメチロールプロフミントリ 0・3ggアクリレー
ト メタクリル酸メチルーメタク 0.t2j;/リル酸(
りOモル/10モ ル)共重合体 ミヒラーズケトン O0opg ベンゾフェノン o 、 o、2g ジ−t−ブチルシバ−オキシ o、o、zgイソフタレ
ート オイルブルー#to3 o、oiog p−メトキシフェノール o、voigロイコクリスタ
ルバイオレット o、ooggメチルセロソルブアセテ
ートタy メチルエチルケトン rg この感光性平版印刷版を画像露光し、苛性ソーダ/+2
j)イソプロピルアルコール3θOml!、水200m
1より成る現像液で未露光部を除去することにより平版
印刷版′(r′得た。
ト メタクリル酸メチルーメタク 0.t2j;/リル酸(
りOモル/10モ ル)共重合体 ミヒラーズケトン O0opg ベンゾフェノン o 、 o、2g ジ−t−ブチルシバ−オキシ o、o、zgイソフタレ
ート オイルブルー#to3 o、oiog p−メトキシフェノール o、voigロイコクリスタ
ルバイオレット o、ooggメチルセロソルブアセテ
ートタy メチルエチルケトン rg この感光性平版印刷版を画像露光し、苛性ソーダ/+2
j)イソプロピルアルコール3θOml!、水200m
1より成る現像液で未露光部を除去することにより平版
印刷版′(r′得た。
こうして得られた印刷版?用い印刷機により印刷したと
ころ35万枚の鮮明な印刷物全組た。
ころ35万枚の鮮明な印刷物全組た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 エチレン性不飽和二重結合を分子内に2個以上含有する
イ」加重合作不飽和rヒ合物と光重合開始剤から成る光
重合性組成物において、光重合開始剤として下記一般式
■で表わされる41 、 lI−/−ビス(ジアルキル
アミノ)ベンゾフェノンと芳香族ケトンイし合物と有機
過酸化物を含有すること全特徴とする光重合性組成物。 ■ 式中、H・は炭素数/〜を個のアルキル、ノクロアルキ
ルもしくはヒドロキシアルキル、または同じ窒素原子に
置換しているB、と共にテトラメチレン、ばンタメチレ
ン、オキシビスエチレンヶあられす。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14529383A JPS6035725A (ja) | 1983-08-09 | 1983-08-09 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14529383A JPS6035725A (ja) | 1983-08-09 | 1983-08-09 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6035725A true JPS6035725A (ja) | 1985-02-23 |
Family
ID=15381787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14529383A Pending JPS6035725A (ja) | 1983-08-09 | 1983-08-09 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6035725A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6224240A (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-02 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 高感度光重合性組成物 |
JPS6281403A (ja) * | 1985-10-04 | 1987-04-14 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 光重合開始剤組成物 |
KR20010011765A (ko) * | 1999-07-30 | 2001-02-15 | 김영환 | 레지스트 수지 및 이 수지를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법 |
-
1983
- 1983-08-09 JP JP14529383A patent/JPS6035725A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6224240A (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-02 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 高感度光重合性組成物 |
JPH0466349B2 (ja) * | 1985-07-25 | 1992-10-22 | Nippon Oils & Fats Co Ltd | |
JPS6281403A (ja) * | 1985-10-04 | 1987-04-14 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 光重合開始剤組成物 |
JPH0583562B2 (ja) * | 1985-10-04 | 1993-11-26 | Nippon Oils & Fats Co Ltd | |
KR20010011765A (ko) * | 1999-07-30 | 2001-02-15 | 김영환 | 레지스트 수지 및 이 수지를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법 |
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