JPH07146550A - 感光性樹脂組成物および画像形成方法 - Google Patents

感光性樹脂組成物および画像形成方法

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JPH07146550A
JPH07146550A JP29550593A JP29550593A JPH07146550A JP H07146550 A JPH07146550 A JP H07146550A JP 29550593 A JP29550593 A JP 29550593A JP 29550593 A JP29550593 A JP 29550593A JP H07146550 A JPH07146550 A JP H07146550A
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JP
Japan
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group
photosensitive resin
resin composition
meth
image forming
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JP29550593A
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English (en)
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Takahiro Ishizuka
孝宏 石塚
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 安定性の優れた高分子量ナフトチアゾール誘
導体を増感剤に用いた感光性樹脂組成物及びそれを用い
た画像形成方法を提供する。 【構成】 (1)光重合開始剤もしくは光重合開始系、
(2)エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性モ
ノマー、(3)アルカリ性水溶液に可溶かつ水不溶性の
高分子結合剤、及び下記一般式(I)で表されるナフト
チアゾール誘導体一般式(I) 【化1】 (式中、R1 は炭素数1〜6のアルキル基を、pは0も
しくは1〜2の整数を、nは2〜5の整数を、mは2〜
20の整数を、R2 は炭素数1〜5のアルキル基を表
す)を少なくとも1種を含むことを特徴とする感光性樹
脂組成物及びそれを用いた画像形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アルカリ水溶液で現像
が可能な感光性樹脂組成物に関する。更に詳しくは紫外
線での画像形成性に優れ、かつ画像形成後の紫外線吸光
度の高い組成物およびこれを用いた画像形成法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】光に曝すことにより分解して遊離基を生
成する化合物(遊離基生成剤)はグラフィックアート、
感光性記録材料の分野でよく知られている。それらは光
重合性組成物中の光重合開始剤、遊離基写真組成物中の
光活性剤および光で生じる酸により触媒される反応の光
開始剤として広く用いられている。そのような遊離基生
成剤を用いて印刷、複製、複写およびその他の記録材料
系で有用な種々の感光性樹脂組成物が知られている。
【0003】これらに用いられる開始剤は一般に単独で
は光に対する感度が低く、感度を高めるために増感剤と
組み合わせることが提案されてきた。例えば、特公昭6
3−218944号や米国特許4062686号,39
29489号明細書記載の光架橋剤とナフトチアゾール
誘導体の組み合わせ等、ナフトチアゾール誘導体が優れ
た増感剤であることが見出されてきている。
【0004】しかし、これらナフトチアゾールは一般に
低分子量であるので、例えば基材表面に移行、揮発する
ことがある。ある場合においては、これは不快臭の原因
となり、また作業環境保全の面からも好ましくない。さ
らに、高温下の加熱後の光照射において、増感剤の揮発
による感度の低下の問題を引き起こす。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、アル
カリ水溶液で現像が可能であり、紫外線によるパターン
露光時には十分な画像形成能を有し、かつ画像形成後は
十分な紫外線吸収能を有し、得られた画像の色調に問題
が無く、かつ通常の工程を変更する事なく画像形成が可
能な感光性樹脂組成物を提供する事にある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討し
た結果、本発明の目的が、(1)光重合開始剤もしくは
光重合開始系、(2)エチレン性不飽和二重結合を有す
る付加重合性モノマー、(3)アルカリ性水溶液に可溶
かつ水不溶性の高分子結合剤、及び下記一般式(I)で
表されるナフトチアゾール誘導体 一般式(I)
【0007】
【化2】
【0008】(式中、R1 は炭素数1〜6のアルキル基
を、pは0,1もしくは2を、nは2〜5の整数を、m
は2〜20の整数を、R2 は炭素数1〜5のアルキル基
を表す。)を少なくとも1種を含むことを特徴とする感
光性樹脂組成物を用いることにより達成されることを見
いだした。
【0009】これらの組成物に着色材料を含有すること
により、1色以上の色を有する画像形成が可能である。
またこれらの組成物を用い、画像状に紫外線照射の後、
アルカリ性水溶液で現像し、必要に応じて更に後加熱す
る工程を含むことにより画像形成能を低下させる事な
く、目的とする十分な紫外線吸光度を有する画像形成が
可能である。また少なくとも一つの上記の画像を透明基
板上に形成した場合には、この画像の上に更に別の感光
性樹脂組成物からなる第二の層を設け、透明基板の前記
画像の形成されていない側から全面、或いは部分的に露
光し、該第二の層の内で、全面的に露光した場合には先
に画像の形成されていた部分の上、部分的に露光した場
合には先に画像の形成されていた部分の上と未露光部
(実質的に感光していない部分)とを現像除去する工程
を含む画像形成方法、即ち先に形成した画像自身を遮光
パターンとして利用する所謂セルフアライメント露光方
式による画像形成も可能である。以下、本発明を詳細に
説明する。
【0010】本発明に用いられる光重合開始剤もしくは
光重合開始剤系としては、実質的に既知の全ての化合物
を使用する事ができる。例えば、6−(p−メトキシフ
ェニル)−2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、6−〔p−(N,N−ビス(エトキシカルボ
ニルメチル)アミノ)フェニル〕−2,4−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、9−フェニルアクリ
ジン、9,10−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラー
ズケトン、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフ
ェニルイミダゾール2量体などである。光重合開始剤は
2種以上混合して用いてもよく、光重合開始剤の添加量
は全固形分の0.1重量%から20重量%、特に好まし
くは0.5重量%から10重量%である。0.1重量%
未満では組成物の光硬化の効率が低いので露光に長時間
がかかり、20重量%を越えると、形成された画像の下
部の削れが生じやすく不適となる。
【0011】本発明に用いられるエチレン性不飽和二重
結合を有する付加重合性モノマーとしては下記の化合物
を単独でまたは他のモノマーとの組み合わせて使用する
ことができる。具体的には、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、2−エチル−2−ブチル−プロパン
ジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ(メタ)アクリレート、ポリオキシエチル化トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1,4−
ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ジヒドロキシベン
ゼンジ(メタ)アクリレート、デカメチレングリコール
ジ(メタ)アクリレートなどである。これらの内、特に
好ましいのはペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートであ
る。
【0012】光重合性組成物中におけるモノマーの全量
は、組成物の全成分に対して5重量%から80重量%で
あり、特に好ましくは10重量%から70重量%であ
る。5重量%未満では組成物の露光部のアルカリ現像液
への耐性が劣り、80重量%を越えると感光性層のタッ
キネスが増加してしまい取り扱い性に劣る。
【0013】本発明に用いられるアルカリ性水溶液に可
溶、かつ水不溶性の高分子結合剤としては例えば分子中
に1つ以上の酸性基と1つ以上の重合可能な不飽和結合
を有する重合性化合物の単独重合または二種以上の共重
合、およびこれらの化合物と共重合可能な1つ以上の不
飽和結合を含有し、かつ酸性基を含まない重合性化合物
の一種以上との共重合体が挙げられる。この様な高分子
化合物は例えば公知の重合開始剤を用いて適当な溶媒中
で、分子中に1つ以上の酸性基と1つ以上の重合可能な
不飽和結合を有する低分子化合物の単独または二種以
上、およびこれらの化合物と共重合可能な1つ以上の不
飽和結合を含有し、かつ酸性基を含まない重合性化合物
の一種以上との共重合をさせる事により得られる。酸性
基の例としては−COOH基、−SO3H基、フェノー
ル性水酸基、−SO2NH−基などが挙げられる。これ
らの内、特にCOOH基を有する高分子化合物を用いる
事が好ましい。
【0014】分子中に1つ以上の酸性基と1つ以上の重
合可能な不飽和結合を有する重合性化合物の例としては
以下の物が挙げられる。分子中に1つ以上の−COOH
基と1つ以上の重合可能な不飽和結合を有する重合性化
合物の例としてはアクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸、マレイン酸、ビニル安息香酸、桂皮酸等が挙げられ
る。分子中に1つ以上の−SO3H基 と1つ以上の重合
可能な不飽和結合を有する重合性化合物の例としてはビ
ニルベンゼンスルホン酸、2−(メタ)アクリルアミド
−2−メチルプロパンスルホン酸等が挙げられる。分子
中に1つ以上の−SO2NHCO−基と 1つ以上の重合
可能な不飽和結合を有する重合性化合物の例としてはN
−メチルスルホニル(メタ)アクリルアミド、N−エチ
ルスルホニル(メタ)アクリルアミド、N−フェニルス
ルホニル(メタ)アクリルアミド、N−(p−メチルフ
ェニルスルホニル(メタ)アクリルアミド等が挙げられ
る。
【0015】分子中に1つ以上のフェノール性水酸基と
1つ以上の重合可能な不飽和結合を有する重合性化合物
としては、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミ
ド、ジヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、ヒ
ドロキシフェニルカルボニルオキシエチル(メタ)アク
リレート、ヒドロキシフェニルオキシエチル(メタ)ア
クリレート、ヒドロキシフェニルチオエチル(メタ)ア
クリレート、ジヒドロキシフェニルカルボニルオキシエ
チル(メタ)アクリレート、ジヒドロキシフェニルオキ
シエチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
【0016】これらの化合物と共重合可能な1つ以上の
不飽和結合を含有し、かつ酸性基を含まない重合性化合
物の例としては(メタ)アクリル酸エステル類、(メ
タ)アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエ−テル
類、ビニルエスエル類、スチレン類、クロトン酸エステ
ル類などから選ばれる重合性不飽和結合を有する化合物
が挙げられる。具体的には、例えばアルキル(メタ)ア
クリレ−ト(アルキル基としては例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ヘキシル基、2−エチルヘキシル基
など)、置換アルキル(メタ)アクリレ−ト(置換アル
キル基としては例えばクロロエチル基、2−ヒドロキシ
エチル基、ベンジル基、フェニチル基など)、フェニル
(メタ)アクリレ−ト、クレジル(メタ)アクリレ−
ト、(メタ)アクリルアミド、Nに1つもしくは2つの
置換基を有する(メタ)アクリルアミド(置換基として
はアルキル基やアリール基、置換アルキル基、置換アリ
ール基があり、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、フェニル基、ヒドロキシエチル基、フェニチル基、
ベンジル基、トリル基、ヒドロキシフェニル基など)、
アリル化合物(例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、
ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリ
ル、乳酸アリル、アリルオキシエタノ−ルなど)、ビニ
ルエ−テル類(例えばオクチルビニルエ−テル、ベンジ
ルビニルエーテル、ビニルフェニルエーテルなど)など
である。
【0017】これらの高分子結合剤の重量平均分子量は
3千〜100万が好ましく、より好ましくは5千〜40
万である。重量平均分子量が3千未満の共重合体は製造
が難しく、100万を越えると、感光性層のアルカリ現
像性が劣るとともに、耐現像液性も劣る。すなわち、ア
ルカリ現像性が劣るので長時間現像液に浸漬することに
なり、露光部も膨潤しやすくなるので良質な画像が得ら
れない。またこれらの高分子化合物は単独で、又は2種
以上混合して用いてもよく、感光性樹脂組成物の固形分
中の含有量は10〜95重量%が好ましく、より好まし
くは15〜90重量%である。10重量%未満では感光
性樹脂層の粘着性が高すぎ、95重量%を越えると形成
される画像の強度及び光感度の点で劣る。
【0018】一般式(I)の化合物としては、R1 とし
てはメチル基またはエチル基がより好ましく、特に好ま
しくはメチル基である。nは2または3が好ましい。R
2 としてはメチル基またはエチル基がより好ましい。次
に、一般式(I)の具体例を示すが、本発明はこれらに
よって限定されるものではない。
【0019】
【化3】
【0020】
【化4】
【0021】次に一般式(1)で表される化合物の製造
方法について述べる。一般式(1)で表される化合物
は、例えば次の反応式で示される経路により製造でき
る。
【0022】
【化5】
【0023】即ち、2−メチルナフトチアゾール(1)
とアルキルトシレート(2)を反応させて(3)とし、
(3)に安息香酸誘導体(4)を反応させ本発明の一般
式(I)で表される化合物を得る。
【0024】以下に、本発明を実施例により更に詳細に
説明するが、本発明はこれらによって限定されるもので
はない。
【0025】
【実施例】
実施例1 化合物−A01の合成
【0026】N−メチル−2−メチルナフトチアゾリウ
ム トルエンスルフォネート1.54g、4−(2,
5,8,11−テトラオキサテトラデシル)安息香酸ク
ロライド1.33g,トリエチルアミン1ml,アセト
ニトリル8ml混合物を80℃で3時間、加熱撹拌し
た。反応終了後アセトンを加え不溶物を除去し、溶媒留
去しシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、
黄色固体の化合物−A01を1.92gを得た。化合物−
A01の融点は55℃であった。
【0027】1HNMR (CDCl3) δ(TMS,ppm) 8.46(1H,d), 8.06(2H,d), 7.96(1H,d), 7.
72-7.50(4H,m),7.43(2H,d), 6.68(1H,s), 4.64(2H,s),
4.23(3H,d),3.75-3.48(14H,m), 1.25(3H,t)
【0028】実施例2 本発明の化合物が、熱安定性に優れていることを示す。
以下の処方aからなる感光性塗布液を厚さ1.1mmの
ガラス基板上に乾燥膜厚2μmになるようにスピンコー
ターで塗布、乾燥させた。 <処方a> ・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 (共重合組成比(モル比)=73/27、粘度=0.12) 60部 ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート 43.2部 ・実施例1の化合物 2.4部 ・2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体 2.5部 ・エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート 560部 ・メチルエチルケトン 280部 さらに以下の処方bからなる塗布液を上記の感光層の上
に乾燥膜厚1.5μmになるようにスピンコーターで塗
布し乾燥させた。
【0029】 <処方b> ・ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA205、鹸化率=80%) 130部 ・ポリビニルピロリドン(GAFコーポレーション社製PVP K−90) 60部 ・弗素系界面活性剤(旭硝子(株)社製サーフロンS−131) 10部 ・蒸留水 3350部 得られた試料に塗布面から所定のフォトマスクを介し
て、2KW超高圧水銀灯を有する露光機を用いて、50
mJ/cm2 の露光量で露光し、CD(フジハントエレ
クトロニクステクノロジー社製現像液の商品名)と水の
1:10混合水溶液でスプレー現像して不要部を除去
し、ガラス基板上に画素パターンを形成した。その後、
220℃の熱処理を20分行い、画素パターンを完全硬
化させた試料も作成した。
【0030】比較例1 実施例2において実施例1の化合物の代わりに、以下に
示す重合基のない化合物Bを添加した感光性塗布液処方
を用いた以外は実施例2と同様な工程を行い、ガラス基
板上に画素パターンを作成した。
【0031】
【化6】
【0032】<評価>上記により得られた試料を用い
て、熱処理前の365nmの吸光度および、熱処理後の
365nmの吸光度の評価を行い、残存増感剤率(=熱
処理後の365nmの吸光度/熱処理前の365nmの
吸光度)を求めたところ、化合物B(比較例1)の残存
率が30%未満であったのに対し、化合物−A01(実施
例2)の残存率は40%を示し、加熱処理した後でも使
用したナフトチアゾール誘導体の残存率が高いことが判
った。
【0033】
【発明の効果】本発明により、露光の後の加熱によって
も増感剤が揮発しにくく、露光加熱後においても感度の
高い感光性樹脂組成物が得られる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (1)光重合開始剤もしくは光重合開始
    系、(2)エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合
    性モノマー、(3)アルカリ性水溶液に可溶かつ水不溶
    性の高分子結合剤、及び下記一般式(I)で表されるナ
    フトチアゾール誘導体 一般式(I) 【化1】 (式中、R1 は炭素数1〜6のアルキル基を、pは0,
    1もしくは2を、nは2〜5の整数を、mは2〜20の
    整数を、R2 は炭素数1〜5のアルキル基を表す)を少
    なくとも1種含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の感光性樹脂組成物を基
    板上に設け、画像状に紫外線照射後アルカリ性水溶液で
    現像して画像を形成する画像形成方法。
JP29550593A 1993-11-25 1993-11-25 感光性樹脂組成物および画像形成方法 Pending JPH07146550A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997023809A1 (en) * 1995-12-21 1997-07-03 Kolon Industries, Inc. Photosensitive resin composition
WO2008015878A1 (fr) * 2006-08-03 2008-02-07 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Matériau de plaque lithographique photosensible

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