JPH07118248A - ナフトチアゾール誘導体及びそれを含む感光性樹脂組成物 - Google Patents
ナフトチアゾール誘導体及びそれを含む感光性樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH07118248A JPH07118248A JP25995893A JP25995893A JPH07118248A JP H07118248 A JPH07118248 A JP H07118248A JP 25995893 A JP25995893 A JP 25995893A JP 25995893 A JP25995893 A JP 25995893A JP H07118248 A JPH07118248 A JP H07118248A
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- Japan
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- photosensitive resin
- derivative
- compound
- resin composition
- naphthothiazole
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 新規な増感剤である（メタ）アクリロイルオ
キシ基を含むナフトチアゾール誘導体及びそれを含む感
光性樹脂組成物を提供する。 【構成】 下記一般式（１）で表される，（メタ）アク
リロイルオキシ基を含むナフトチアゾール誘導体及びそ
れを含有する感光性樹脂組成物。一般式（１） 【化１】 式中、Ｒ1はアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子、メチル
基を表し、ｎは０から１０の整数を表す。Ｘ，Ｙは同一
でも異なってもよく、単結合，−Ｏ−またはエステル基
を表す。
キシ基を含むナフトチアゾール誘導体及びそれを含む感
光性樹脂組成物を提供する。 【構成】 下記一般式（１）で表される，（メタ）アク
リロイルオキシ基を含むナフトチアゾール誘導体及びそ
れを含有する感光性樹脂組成物。一般式（１） 【化１】 式中、Ｒ1はアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子、メチル
基を表し、ｎは０から１０の整数を表す。Ｘ，Ｙは同一
でも異なってもよく、単結合，−Ｏ−またはエステル基
を表す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、感光性の保護膜，印刷
版，フォトレジスト，プルーフ等の記録材料等の分野に
使用される光重合開始剤の増感剤に関するもので、更に
詳しくは、新規な重合性基含有ナフトチアゾール誘導体
及びそれを含む感光性樹脂組成物に関するものである。
版，フォトレジスト，プルーフ等の記録材料等の分野に
使用される光重合開始剤の増感剤に関するもので、更に
詳しくは、新規な重合性基含有ナフトチアゾール誘導体
及びそれを含む感光性樹脂組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光に曝すことにより分解して遊離基を生
成する化合物（遊離基生成剤）はグラフィックアート、
感光性記録材料の分野でよく知られている。それらは光
重合性組成物中の光重合開始剤、遊離基写真組成物中の
光活性剤および光で生じる酸により触媒される反応の光
開始剤として広く用いられている。そのような遊離基生
成剤を用いて印刷、複製、複写およびその他の記録材料
系で有用な種々の感光性材料が作られている。
成する化合物（遊離基生成剤）はグラフィックアート、
感光性記録材料の分野でよく知られている。それらは光
重合性組成物中の光重合開始剤、遊離基写真組成物中の
光活性剤および光で生じる酸により触媒される反応の光
開始剤として広く用いられている。そのような遊離基生
成剤を用いて印刷、複製、複写およびその他の記録材料
系で有用な種々の感光性材料が作られている。
【０００３】これらの開始剤は一般に単独では光に対す
る感度が低く、感度を高めるために増感剤と組み合わせ
ることが提案されてきた。例えば、特公昭６３−２１８
９４４号や米国特許４０６２６８６号，３９２９４８９
号明細書記載の光架橋剤とナフトチアゾール誘導体の組
み合わせ等、ナフトチアゾール誘導体が優れた増感剤で
あることが見出されてきている。
る感度が低く、感度を高めるために増感剤と組み合わせ
ることが提案されてきた。例えば、特公昭６３−２１８
９４４号や米国特許４０６２６８６号，３９２９４８９
号明細書記載の光架橋剤とナフトチアゾール誘導体の組
み合わせ等、ナフトチアゾール誘導体が優れた増感剤で
あることが見出されてきている。
【０００４】しかし、これらナフトチアゾールは一般に
低分子量であるので、例えば基材表面に移行、揮発する
ことがある。ある場合においては、これは不快臭の原因
となり、また作業環境保全の面からも好ましくない。さ
らに、高温下の加熱後の光照射において、増感剤の揮発
による感度の低下の問題を引き起こす。
低分子量であるので、例えば基材表面に移行、揮発する
ことがある。ある場合においては、これは不快臭の原因
となり、また作業環境保全の面からも好ましくない。さ
らに、高温下の加熱後の光照射において、増感剤の揮発
による感度の低下の問題を引き起こす。
【０００５】光重合後の開始剤の移行および揮発を防ぐ
ために、重合性基含有光開始剤の使用が既に提案されて
いる。すなわち、ドイツ連邦共和国特許出願３５３４６
４５号、特開平１−２３０６０３号、特開平２−２３５
９０８号および特開平２−２９２３０７号には重合性基
含有ヒドロキシアルキルフェノン誘導体の使用を記載し
ている。また、特開平２−１４９５７０号には、重合性
基を分子内に有するハロメチル−１，３，５−トリアジ
ン誘導体の使用を記載している。
ために、重合性基含有光開始剤の使用が既に提案されて
いる。すなわち、ドイツ連邦共和国特許出願３５３４６
４５号、特開平１−２３０６０３号、特開平２−２３５
９０８号および特開平２−２９２３０７号には重合性基
含有ヒドロキシアルキルフェノン誘導体の使用を記載し
ている。また、特開平２−１４９５７０号には、重合性
基を分子内に有するハロメチル−１，３，５−トリアジ
ン誘導体の使用を記載している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、新規
な、揮発性の低い重合性基含有ナフトチアゾール誘導体
及びそれを含む感光性樹脂組成物を提供することにあ
る。
な、揮発性の低い重合性基含有ナフトチアゾール誘導体
及びそれを含む感光性樹脂組成物を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記一
般式（１）で表されるナフトチアゾール誘導体及びそれ
を含む感光性樹脂組成物により達成された。一般式
（１）
般式（１）で表されるナフトチアゾール誘導体及びそれ
を含む感光性樹脂組成物により達成された。一般式
（１）
【０００８】
【化２】
【０００９】式中、Ｒ1はアルキル基を表し、Ｒ2は水素
原子、メチル基を表し、ｎは０から１０の整数を表す。
Ｘ，Ｙは同一でも異なってもよく、単結合，−Ｏ−また
はエステル基を表す。
原子、メチル基を表し、ｎは０から１０の整数を表す。
Ｘ，Ｙは同一でも異なってもよく、単結合，−Ｏ−また
はエステル基を表す。
【００１０】一般式（１）に於いて、Ｒ1 で表される基
のうち炭素原子数１から５のアルキル基が好ましく、中
でも、炭素原子数１と２のアルキル基、具体的にはメチ
ル基、エチル基が好ましい。
のうち炭素原子数１から５のアルキル基が好ましく、中
でも、炭素原子数１と２のアルキル基、具体的にはメチ
ル基、エチル基が好ましい。
【００１１】一般式（１）に於いて、ｎで表される整数
のうち０〜５が特に好ましい。
のうち０〜５が特に好ましい。
【００１２】以下に本発明に係るナフトチアゾール誘導
体の具体例を示すが、本発明はこれらによって限定され
るものではない。
体の具体例を示すが、本発明はこれらによって限定され
るものではない。
【００１３】
【化３】
【００１４】
【化４】
【００１５】次に一般式（１）で表される化合物の製造
方法について述べる。一般式（１）で表される化合物
は、例えば次の反応式で示される経路により製造でき
る。
方法について述べる。一般式（１）で表される化合物
は、例えば次の反応式で示される経路により製造でき
る。
【００１６】
【化５】
【００１７】即ち、２−メチルナフトチアゾール（１）
とアルキルトシレート（２）を反応させ（３）とし、
（３）に安息香酸誘導体（４）を反応させ本発明の一般
式（１）で表される化合物を得る。
とアルキルトシレート（２）を反応させ（３）とし、
（３）に安息香酸誘導体（４）を反応させ本発明の一般
式（１）で表される化合物を得る。
【００１８】以下に、実施例により本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００１９】
実施例１：化合物−Ａ01の合成 Ｎ−メチル−２−メチルナフトチアゾリウム トルエン
スルフォネート１．１６ｇ、４−ビニル安息香酸クロラ
イド０．７３ｇ，トリエチルアミン０．５１ｇ，アセト
ニトリル５ｍｌ混合物を７５℃で２時間、加熱撹拌し
た。反応混合物を氷水３０ｍｌにあけ、黄色固体粗生成
物０．８５ｇを得た。これをクロマトグラフィーにて精
製し、黄色固体の化合物−Ａ01を０．７３ｇを得た。以
下にその特性を示す。
スルフォネート１．１６ｇ、４−ビニル安息香酸クロラ
イド０．７３ｇ，トリエチルアミン０．５１ｇ，アセト
ニトリル５ｍｌ混合物を７５℃で２時間、加熱撹拌し
た。反応混合物を氷水３０ｍｌにあけ、黄色固体粗生成
物０．８５ｇを得た。これをクロマトグラフィーにて精
製し、黄色固体の化合物−Ａ01を０．７３ｇを得た。以
下にその特性を示す。
【００２０】1HNMR (CDCl3) δ(TMS,ppm) 8.32(1H,d), 8.00(1H,m), 7.98(1H,m), 7.
75-7.45(5H,m),7.20(2H,d), 6.62(1H,q), 6.58(1H,s),
5.71(1H,d),5.27(1H,d), 3.86(3H,s)
75-7.45(5H,m),7.20(2H,d), 6.62(1H,q), 6.58(1H,s),
5.71(1H,d),5.27(1H,d), 3.86(3H,s)
【００２１】実施例２：化合物−Ａ07の合成 Ｎ−メチル−２−メチルナフトチアゾリウム トルエン
スルフォネート１．１６ｇ、２（２−プロペニルカルボ
ニルオキシエチルオキシカルボニル）安息香酸クロライ
ド１．３４ｇ，トリエチルアミン０．５３ｇ，アセトニ
トリル８ｍｌ混合物を７０℃で３時間、加熱撹拌した。
反応混合物を氷水３０ｍｌにあけ、黄色固体粗生成物
１．２３ｇを得た。これをクロマトグラフィーにて精製
し、黄色固体の化合物−Ａ07を０．９８ｇを得た。以下
にその特性を示す。
スルフォネート１．１６ｇ、２（２−プロペニルカルボ
ニルオキシエチルオキシカルボニル）安息香酸クロライ
ド１．３４ｇ，トリエチルアミン０．５３ｇ，アセトニ
トリル８ｍｌ混合物を７０℃で３時間、加熱撹拌した。
反応混合物を氷水３０ｍｌにあけ、黄色固体粗生成物
１．２３ｇを得た。これをクロマトグラフィーにて精製
し、黄色固体の化合物−Ａ07を０．９８ｇを得た。以下
にその特性を示す。
【００２２】1HNMR (CDCl3) δ(TMS,ppm) 8.47(1H,d), 7.98(1H,d), 7.39(1H,d), 7.
74-7.40(7H,m),6.31(1H,s), 5.98(1H,s), 5.49(1H,s),
4.53(2H,m),4.19(3H,s), 1.58(3H,s)
74-7.40(7H,m),6.31(1H,s), 5.98(1H,s), 5.49(1H,s),
4.53(2H,m),4.19(3H,s), 1.58(3H,s)
【００２３】実施例３ 本発明の化合物が、熱安定性に優れていることを示す。
以下の処方ａからなる感光性塗布液を厚さ１．１ｍｍの
ガラス基板上に乾燥膜厚２μｍになるようにスピンコー
ターで塗布、乾燥させた。
以下の処方ａからなる感光性塗布液を厚さ１．１ｍｍの
ガラス基板上に乾燥膜厚２μｍになるようにスピンコー
ターで塗布、乾燥させた。
【００２４】 ＜処方ａ＞ ・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 （共重合組成比（モル比）＝７３／２７、粘度＝０．１２） ６０部 ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４３．２部 ・実施例１あるいは２の化合物 ２．４部 ・２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体 ２．５部 ・エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート ５６０部 ・メチルエチルケトン ２８０部 さらに以下の処方ｂからなる塗布液を上記の感光層の上
に乾燥膜厚１．５μｍになるようにスピンコーターで塗
布、乾燥させた。
に乾燥膜厚１．５μｍになるようにスピンコーターで塗
布、乾燥させた。
【００２５】 ＜処方ｂ＞ ・ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ＰＶＡ２０５、鹸化率＝８０％） １３０部 ・ポリビニルピロリドン（ＧＡＦコーポレーション社製ＰＶＰ Ｋ−９０） ６０部 ・弗素系界面活性剤（旭硝子（株）社製サーフロンＳ−１３１） １０部 ・蒸留水 ３３５０部 得られた試料に塗布面から所定のフォトマスクを介し
て、２ＫＷ超高圧水銀灯を有する露光機を用いて、５０
ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で露光し、ＣＤ（フジハントエレ
クトロニクステクノロジー社製現像液の商品名）と水の
１：１０混合水溶液でスプレー現像して不要部を除去
し、ガラス基板上に画素パターンを形成した。その後、
２２０℃の熱処理を２０分行い、画素パターンを完全硬
化させた試料も作成した。
て、２ＫＷ超高圧水銀灯を有する露光機を用いて、５０
ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で露光し、ＣＤ（フジハントエレ
クトロニクステクノロジー社製現像液の商品名）と水の
１：１０混合水溶液でスプレー現像して不要部を除去
し、ガラス基板上に画素パターンを形成した。その後、
２２０℃の熱処理を２０分行い、画素パターンを完全硬
化させた試料も作成した。
【００２６】比較例１ 実施例３において実施例１〜２の化合物の代わりに重合
基のない下記化合物Ｂを添加した感光性塗布液処方を用
いた以外は実施例３と同様な工程を行い、ガラス基板上
に画素パターンを作成した。
基のない下記化合物Ｂを添加した感光性塗布液処方を用
いた以外は実施例３と同様な工程を行い、ガラス基板上
に画素パターンを作成した。
【００２７】
【化６】
【００２８】＜評価＞上記により得られた試料を用い
て、熱処理前の３６５ｎｍの吸光度および、熱処理後の
３６５ｎｍの吸光度の評価を行い、残存増感剤率を求め
た。 結果を表１にまとめた。
て、熱処理前の３６５ｎｍの吸光度および、熱処理後の
３６５ｎｍの吸光度の評価を行い、残存増感剤率を求め
た。 結果を表１にまとめた。
【００２９】表１：増感剤残存率 ─────────────────────────
─ Ｎｏ． 増感剤の種類 残存率 ─────────────────────────
─ １ 実施例１の化合物Ａ０１ ○ ２ 実施例２の化合物Ａ０７ ○ ３ 比較例１の化合物Ｂ × ─────────────────────────
─ ○：残存率３０％以上、 ×：残存率３０％未満
─ Ｎｏ． 増感剤の種類 残存率 ─────────────────────────
─ １ 実施例１の化合物Ａ０１ ○ ２ 実施例２の化合物Ａ０７ ○ ３ 比較例１の化合物Ｂ × ─────────────────────────
─ ○：残存率３０％以上、 ×：残存率３０％未満
【００３０】表１から、加熱処理した後でも、本発明に
かかる化合物の残存率が高いことが判る。
かかる化合物の残存率が高いことが判る。
【００３１】
【発明の効果】本発明の化合物は重合基を有するので、
露光によりポリマー鎖を形成し，露光の後の加熱によっ
ても揮発せず、塗膜中に残存する率が高い。従って、露
光加熱後においても増感剤として有効に働く。
露光によりポリマー鎖を形成し，露光の後の加熱によっ
ても揮発せず、塗膜中に残存する率が高い。従って、露
光加熱後においても増感剤として有効に働く。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で表されるナフトチア
ゾール誘導体。一般式（１） 【化１】 式中、Ｒ1はアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子、メチル
基を表し、ｎは０から１０の整数を表す。Ｘ，Ｙは同一
でも異なってもよく、単結合，−Ｏ−またはエステル基
を表す。 - 【請求項２】 請求項１に記載のナフトチアゾール誘導
体を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25995893A JPH07118248A (ja) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | ナフトチアゾール誘導体及びそれを含む感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25995893A JPH07118248A (ja) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | ナフトチアゾール誘導体及びそれを含む感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07118248A true JPH07118248A (ja) | 1995-05-09 |
Family
ID=17341289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25995893A Pending JPH07118248A (ja) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | ナフトチアゾール誘導体及びそれを含む感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07118248A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008015878A1 (fr) * | 2006-08-03 | 2008-02-07 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Matériau de plaque lithographique photosensible |
| JP2008230973A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-02 | Toyo Kasei Kogyo Co Ltd | アクリル（メタクリル）基含有糖誘導体、及びそのアクリル（メタクリル）基含有糖誘導体の製造方法 |
| CN115260122A (zh) * | 2022-08-31 | 2022-11-01 | 陕西科技大学 | 一种萘并噻唑类衍生物及其合成方法 |
-
1993
- 1993-10-18 JP JP25995893A patent/JPH07118248A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008015878A1 (fr) * | 2006-08-03 | 2008-02-07 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Matériau de plaque lithographique photosensible |
| JP2008230973A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-02 | Toyo Kasei Kogyo Co Ltd | アクリル（メタクリル）基含有糖誘導体、及びそのアクリル（メタクリル）基含有糖誘導体の製造方法 |
| CN115260122A (zh) * | 2022-08-31 | 2022-11-01 | 陕西科技大学 | 一种萘并噻唑类衍生物及其合成方法 |
| CN115260122B (zh) * | 2022-08-31 | 2024-05-28 | 陕西科技大学 | 一种萘并噻唑类衍生物及其合成方法 |
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