JPH0329948A - 上層に開始剤を含有する高速度光重合性印刷版 - Google Patents

上層に開始剤を含有する高速度光重合性印刷版

Info

Publication number
JPH0329948A
JPH0329948A JP2139563A JP13956390A JPH0329948A JP H0329948 A JPH0329948 A JP H0329948A JP 2139563 A JP2139563 A JP 2139563A JP 13956390 A JP13956390 A JP 13956390A JP H0329948 A JPH0329948 A JP H0329948A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carbon atoms
photoinitiator
group
aryl
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2139563A
Other languages
English (en)
Inventor
M Zaki Ali
モハマッド ザキ アリ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Co
Original Assignee
Minnesota Mining and Manufacturing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minnesota Mining and Manufacturing Co filed Critical Minnesota Mining and Manufacturing Co
Publication of JPH0329948A publication Critical patent/JPH0329948A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
    • G03F7/0955Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer one of the photosensitive systems comprising a non-macromolecular photopolymerisable compound having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/162Protective or antiabrasion layer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔関連出願への言及〕 1988年2月3日に出願し、[照射によシ架橋可能な
組成物」という名称の米国特許出願第151,879号
(発明者はクルン、アリかよびロピンス)はポリ(エチ
レン性不飽和)基を含有する成分と、水性溶媒に分散性
で、現象可能なカルボキシル基を含む、架橋可能なポリ
マーとオリゴマーに関する。それらは印刷版に有用であ
ると述べられている。
付加重合用の感光性ヨードニウム塩に関する1987年
4月2日出鵬の米国特許出願第3 4.0 6 5号は
P一置換アリールジアルキルアミンを含む電子供与化合
物の存在下に、ジュレロ・リディニル部分(Julol
idinyl moiet.ies)を含むケトンであ
る増感剤の使用を開示し、かつフレムしている。発明者
はユーペル、オクスマン、パラゾット、カよびアリであ
る。トリアゾン開始剤F N 4 3 1 9 9 U
SA 4 Aと同等の分野を包含する出願である米国特
許出願第2 7 2,5 2 0号が、1988年11
月17日に出願された;発明者はアリ、バスマン訃よび
ユーペルである。
1988年11月23日に出願された米国特許出願第2
 7 5,5 1 5号は印刷版への応用のための、高
速の分光的に増感された光開始剤組或物を開示している
1988年11月26日に出願された米国特許出願第2
 7 5,5 1 6号は、米国特許出願第2 7 5
,5 1 5号の感光性開始剤系を加えた光重合性組成
物と、当該組成物の有利な併用を示す印刷版を開示する
〔産業上の利用分野〕
本発明は光重合8E組成物に関し、詳しくは光重合性印
刷版組成分に関し、更に詳しくは可視光に対し高感度を
有し、かつ良好な貯蔵寿命を有する印刷版組成物に関す
るものである。
〔従来の技術〕
光重合性組成物は印刷版のような感光性のエレメントに
長年用いられて来た。先行技術の最も代表的なものは米
国特許第5j2 1 8,1 6 7号、同第3,8 
8 7,4 5 0号に開示されている。しかしながら
これ等の組成物は比較的重今が遅く、筐た酸素不存在下
で露光しなければならない。酸素に不感受性で照射に鋭
敏なエレメントは、アメリカ特許第3,8 9 5,9
 4 9号に開示されている様に、酸素ハリャー層でエ
レメントを被覆することによシ製造されている。これ等
のエレメントはしかし、比較的重合が遅く、版の密着印
刷( con tac t printing)と比較
的長時間の露光が許される場合にのみ満足な結来が得ら
れる。
高感度を有する光重合組成物は投影(proj ec 
Lion)印刷版やレーザーアドレサプ/I/ (ad
dressable)な印刷版のような応用に必要とな
る。これ等の応用、特にレーザーアドレサゾルな印刷版
に訃いて、高速性は、露光時間を短縮し、低強度のレー
ザーを使用できるようにするために必須である。低強度
レーザーは低コストであシ、高強レーサ゛一よシ信頼性
が高い。これ等の理由により、光重合性組成物の感度を
改良するため様々な努力がなされて来た。高速度光重合
性組成物を開示する代表的な特許のいくつかを挙げると
、米国特許第4,2 2 8,2 3 2号(スリーエ
ム)、同4,594,3)0号(三菱化成工業)、同4
,2 5 9,4 3 2号(富士写真フィルム)、同
4,1 6 2,1 6 2号、同3,8 7 1,8
 8 5号、同4,5 5 5,4 7 5号(デュポ
ン)、同4,1 4 7,5 5 2号(イーストマン
コダック)、ヨーロッパ特許第1 0 9,2 9 1
号(富士写真フィルム)、同1 9 6,5 6 1号
(日本油脂)およびベルギニ特許8 9 7.6 9 
4号(日本油脂)がある。
しかしながら通常、感度の改良は貯蔵安定性の悪化(感
度の損失卦よび/又はぐも勺発生)金岸うことが見出さ
れている。たとえばベルとノ・ウエルによって記述され
た、いわゆるIカメラスビド」の光重合性組或物([ア
ンコンベンショナルイメージングプロセス」E.ゾリン
クマン等、フォーカルプレスニューヨーク、1978,
85ペジ;「イメージングシステムJ K.I.ヤコプ
ン7等、ジョンウイリーアンドサンズ、1982年、2
41ページ)は非常に速い光重合速度を持つが、貯蔵寿
命安定性は良くない。
光重合性組成物の貯蔵安定性を改良するために、いくつ
かの熱重合禁止剤が用いられている。これ等の熱重合禁
止剤は従来技術にかいてよく知られ、多くの特許訃よび
文献、例えば米国特許第4,1 6 8,9 8 2号
、同4,3 6 1.6 4 0号、同4,1 9 8
,2 4 2号、同4,1 4 8.6 5 8号に記
載されている。熱重合禁止剤は光重合性組成物の貯蔵安
定性を増すけれども、これ等の化合物を用いることの一
つの大きな欠点は、これ等の化合物によつて、光に対す
る感度が減少することである。この感度の減少は投影露
光画像(Projecbion expo−sure 
imaging)やレーザーi[!Ii像(Iaser
 imaging)のような高感度が要求される応用へ
の司能性に対する大きな障害となる。
酸素が存在するとフリーラジカル重合が禁止され、この
ため酸素量は、高速度光重合系を確保するために、照射
中最小にすべきであるということは、当該技術にかいて
は全くよく知られている。
米国特許第5,4 5 8.3) 1号は酸素パリャー
最上被覆層で光重合組成物を被覆することが有効である
ことを教示する。典型的な酸素バリヤー最上被覆層はポ
リビニルアルコール又はゼ2チンであり、その被覆層は
通常、重合可能な感光性の層の、最上部にかいて、水溶
液を用いて被覆する。鋸光後これ等のバリヤー層は、現
像中又は現像前に、水溶液による洗浄で除く。
酸素バリヤー層は、他の添加物、例えばポリビニルビロ
リドン/酢酸ビニル共重合体、ボリトリメチルプロパン
トリメタクリレートのような分離した内部粒子又はビー
ズ(米国特許第 4,5 9 9,2 9 9号)を含んでいてもよい。
剥離できる酸素バリヤー層も又先行技術において知られ
ている。米国特許第4,4 5 4,2 1 8号、同
3,6 5 2,2 7 5号、同4,1 4 8.6
 5 8号は光重合鳩へポリエチレンテレフタレートフ
ィルムをラミネートすることを教示する。露光後カバー
シ一トを除去する。
P−置換一N一二置換アニリンを含むトリアルキルアミ
ン、アリールアルキルアミンは先行技術にかいてよく知
られている。これ等の化合物は光重合促進剤として作用
することが知られている。
米国特許第4,3 6 6,2 2 8号は数個のP一
置換一N一二置換アニリンを、光活性化剤として、ケト
クマリン化合物と共に掲げている。これ等の化合物も他
のケト化合物、例えばチオキサントン、フルオレノン(
「ポリメリゼーションオゾサーフェスコーティングJ 
C.G.ロフエイ、ウイリーインターサイエンスパプリ
ケーション、1982)j,−よび1,2−ジカルボニ
ル化合物(米国特許第3,7 5 6,8 2 7号、
Re28,789、同4,072,424号)、と共に
活性化剤として働く。
多くの一級アミン釦よびいくつかのヒンダード(hin
der8d)二級アミンは熱重合禁止剤および光安定剤
として知られている。ナフチルアミン訃よびフエノチア
ゾンは熱重合禁止剤の代表的な例であb(米国特許第4
,3 6 1.6 4 0号)、一方ヒンダード(bi
ndered)ビペリジン類はボリマーに対する光安定
剤の例である。
従来技術に釦いて知られている他の適尚な熱重合禁止剤
は、P−メトキシフェノール、2.6−シーber b
−ゾチルーp−クレゾール、ヒドロキノン、アルキルp
よびアリール置換ヒドロキノン、1,er b−プチル
ーカテコール、ビロガロール、βーナフトール、P−ペ
ンゾキノン、P一トルキノン、クロラニル、ニトロベン
ゼン、シニトロベンゼン、シシクロペンタージエニリロ
ン、チアゾン染料例えばチオニン、チオニンプル−01
メチレンプルーB1 トルイジンプル一01訃よび1,
4.4−トリメチル−2.5−ジアザビシクロC5.2
.2]11 ノンー2−エンーN,N−ジオキサイド(米国特許第4
.3 6 1.6 4 0号)である。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は改良された貯蔵性を持つ、高感度の光重合性層
の集合体の提供に関するものである。
本発明は1た、エチレン性不飽和の重合性化合物と、フ
リーラジカルを生戒する光開始剤組或物、からなる光重
合性の層集合体の重合速度を高めることに関するもので
ある。
本発明のもう一つの側面は、良好な貯蔵寿命を持ちつつ
、高い露光速度を持ち、水溶性アルカリ液で現像できる
感光性印刷版を提供することである。
〔課題を解決するための手段〕
高感度で、貯蔵安定性の良い光重合性の層の集合体が、
酸素バリヤーである最上層中に、光開始剤を加えること
によって製造できることが見出された。
それ故、本発明は基材の一つの表面に、少くとも二つの
層を持つ基材よツなる層集合を提供する。
12 下層(すなわち基材に最も近い)は、少くとも一つの重
合可能なエチレン性不飽和二重精合(これはモノマーと
オリゴマーを含む)t−持つ少くとも一つの重合可能な
化合物と、任意的に、フリーラジカルを作る光重合の光
開始剤組成物を含む光重合性組成物からなる。最上層は
酸素バリヤー被覆であって、当該パリャー層に可溶な光
開始剤を含む。従来技術に訃いて光開始剤として知られ
ている広範囲な化合物が適切であるが、本発明に好!し
い化合物は、ジアリールヨードニウム塩、トリハロメチ
ルーS−トリアゾン、かよび従来技術にかいてフリーラ
ジカル重合を起すことが知られている他のハロゲン化炭
化水素(例えば光解離性の・・ロケ9ンを持つ炭化水素
基)である。下層にP−置換一N一二置換アニリンを加
えると、貯蔵寿命はさらに改良される。
従来技術は、ポリビニルビロリドン/酢酸ビニル共重合
体や、ボリートリメチルプロパントリアクリレートのよ
うな分離した不活性な、粒子又はビーズの如き添加物を
加えた最上層を持つ光重合性層を教示するが、フリーラ
ジカルを生成する光開始剤を酸素バリアーである最上鳩
に加えることは教示していない。さらに、酸素パリャー
層に光開始剤金加えることによって、良好な貯蔵性と共
に、よシ高い感度が得られるということは篤くべきこと
である。酸素バリヤー層に光開始剤を加えることは、光
重合性組成物の表面近傍で高濃度の光開始剤を供給し、
このことが酸素による抑制という有害な効果(酸素譲度
は光重合性組成物の表面近くでは高いらしい)を克服す
るのを助けるという解釈が、本発明を限定することはな
いか、なされるこれ等光重合性組成物中にP一置換−N
−二置換−アニリンを加えることによって起こされる、
感光速度を低下させることなく、貯蔵安定性を改良でき
るのは篤〈べきことである。米国特許第4,3 6 6
,2 2 8号は増感剤の存在下であるが、他の光開始
剤の不存在下にかいて、これ等の化合物がフリーラジカ
ル重合用の活性化剤として有用であることを教示する。
高度の貯蔵安定性を付与するという、篤〈ぺき機能は開
示されていない。
前述した出願中の米国特許出願第3 4,0 6 5号
(出願日1987年4月4日)かよび同272,520
号(出願日88年11月17日)は、ドナーとして作用
する成分の選択が、P一置換一N一二置換−アニリンを
含むような三成分の光開始剤系を開示している。
本発明によれば、改良した光重合性層集合体は、基材の
一つの表面上の少くとも二つの層から或る。
基材に隣接する下層と、下層と大気の間にある最上層が
存在する。
下層は (a)  少くとも一つの、フリーラジカル重合可能な
、エチレン性不飽和七ノマー オリゴマー又は共重合体 訃よび選択的に (b)  フィルム形成性の高分子バインダ(c)  
第一番目の光開始剤 (d)増感剤、及び (e)  イメージングアデンダ(imaging a
ddenda)(例えば溶媒、静電防止剤、被覆助剤、
染料、15 安定化剤、フィラー等) から或る。
最上層は酸素バリヤー層であって (1)公知技術にpいて酸素バリヤーを供給するものと
して知られているものから選ばれるバリヤー高分子結合
剤(例えばポリビニルアルコール、ゼラチン、ポリビニ
ルビロリトン) (II)  2番目の光開始剤、下層に用いられたもの
と同じか又は異るもの 訃よび選択的に (lft)  増感剤 から成る。
集合体の貯蔵寿命を改良するためのもう一つのオプショ
ンとして、下層はP一置換一N一二置換アニリンから選
ばれる一つの化合物を含んでいてもよい。
集合体中に存在する光開始化合物の全モルのうち、下層
は0〜80モル%を含有し、最上層は100〜20モル
多の光開始剤を含有する。好筐しくは、下層は集合体中
の光開始剤の5口〜7016 モル%を、最上層は50〜3口モル条を含有する(少(
とも二つの被覆層)。
集合体中に存在する光開始剤の全量は、下層訃よび最上
層の全乾燥重量の1〜2口重M%である。
P一置換一N一二置換アニリンの下層中にかける量は、
下層の乾燥重量の0.2〜10重被φである。
下層の乾燥塗布重量は0.3 g/ m2〜9 g/ 
m2好!シ〈は0.5 g/ FW” 〜3.3 g/
 m2であシ、最上層の乾燥塗布重量は0.5 g/ 
Fig”〜3.3 .!i’ /扉2である。
増感剤は下層にのみ存在するか、又は存在する光開始剤
に対し、いろいろな割合で下層と最上層に分割される。
最上層は印刷版の現像中に除去するので、最上層中に全
ての増感剤を置くこと(すべての光開始剤が最上層にあ
る場合)は、すべての又は少くともほとんどの着色物質
が現像板から除かれるという利点がある。
下層中の光開始剤と異った光開始剤の最上層での選択は
、一つの層又は他の層のボリマ〜と光開始剤とのよシよ
い相溶性(例えば溶解性又は分散性)に基づいてなされ
る。
光開始剤は化学線の放射(act:.inic rad
iation)に対する露光で、もし必要なら増感剤の
存在下で、フリーラジカル金発生するような化合物から
選ぶ。
そのようなフリーラジカル光開始剤は公知技術、例えば
1′フリーラジカルケミストリーj D.C./ンヘー
ペル、J.C.ウアルトン:スニパーシティプレスC1
974)、で知られている物質である。特に適したフリ
ーラジカル光開始剤は例えば、有機過酸化物、アゾ化合
物、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳
香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、キノン、
ペンゾフエノン、ニトロン化合物、アシルハラ1゛ド、
アリールハライド、ヒドロアゾノ、メルカプト化合物、
ピリリウム化合物、トリアリールイミダゾール、ビイミ
ダゾール、ハロアルキルトリアジン等を含む、多くの分
類の有機化合物から選ぶことができる。これ等の物賀は
一般には、これ等と共に光開始系を形成する光増感剤を
持たなければならない。光増感剤は従来技術にpいてよ
く知られている。
エチレン性不飽和化合物に対するフリーラジカル光開始
剤系に関する従来技術の文献を更にあげれば、米国特許
第3,8 8 7,4 5 0号(例えば4欄)、同ろ
,8 9 5,9 4 9号(例えば7欄)、同4,0
43,810号がある。米国特許第3.7 2 9.5
 1 3号、同4,0 5 8,4 0 0号、同4,
0 5 8,4 0 1号に開示されている好筐しい光
開始剤はオニウム塩である。
他の望オしい光開始剤は米I5J特許第3,775,1
13号に開示されているノ・ロトリアジン、トよび米国
特許第4,0 9 0,8 7 7号に開示されている
ピイミダゾールである。これ等の文献はその中に増感剤
をも開示している。光重合開始剤系対する他の良い文献
は「ライト センシテイプシステムJ J.コサジンに
対する特に好捷しい増感剤は米国特許出願第2 7 5
,5 1 6号(出願日1988年11月23日)に開
示されている。
好筐しい光開始剤化合物は芳香族ヨードニウム19 20 塩、トリクロロメチルーS一トリアジン、訃よび他のハ
ロデン化炭化水素化合物でるる。
光開始剤として適しておシ、酸素バリヤー層にも加えら
れる芳香族ヨードニウム塩は、上述の酸素パリャー層に
可溶であるか又は分散可能である、米国特許第4,2 
5 0,0 5 3号からの化合物を含む。
好1しいヨードニウム塩の一般的な構造はであり、〔式
中 Ar1とAr2は4〜2口の炭素原子を有する芳香族基
であシ、好捷し〈は、フエニル、ナンチル、チェニル、
フラニル、pよびビラゾリル基よシ選ばれ、 ==N − R13、訃よびーCR 11 R12よシ
選ばれ、ここでRl3は炭素数6〜2口のアリール、炭
素数2〜2口のアシルであシ BIN $,よびHl2
は水素、炭素数1〜4のアルキル基から選ばれ、 Qはアニオン、例えば酸アニオンであシ、好オしくはテ
トラボレート、ハロゲン含有コンブレックスアニオンか
ら選ばれ、よシ好筐し(はヘキサフルオロホスフエート
、ヘキサ7ルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチ
モネートから選ばれる〕。
好普しいヨードニウム塩はジフエニルヨードニウムへキ
サフルオロホスフエート、シフェニルヨドニウムクロラ
イド、P−メトキシジフエニルヨードニウムアセテート
である。
光開始剤として有用であシ、酸素バリヤー層中にも加え
られるトリアジン類を含むハロゲン化炭化水素化合物は
、上述の酸素バυヤー層に可溶である、米国特許第3,
61 7,2 8 8号訃よび4,5 0 5,7 9
 5号からの化合物を含む。好オしい化合物は次の一般
式を持つハロデン化トリアジンである。
式中、 シ、ここでRl5は炭素数1〜4のアルキル基、又は炭
素数6〜10のアリール基であシ、R16はーCX3、
炭素i1〜12のアルキル基、炭素数6〜12のアリー
ル基、炭素数2〜12のアルケニル基、又は炭素数8〜
2口のアラルケニル基である。
最上層は、実質的に酸素不透過で、水透過性であるよう
に選ばれる酸素バリヤー層であう、約20〜50℃の間
で水、又は水を少くとも50容童優含む、水と、水と混
合可能な有機溶媒との混合物に可溶な高分子量の有機ポ
リマー又はポリマー混合物から選ばれる、上述のバリヤ
ー高分子結合剤を含む。
上に述べた特性を持つ有用な高分子量有機ポリマーは米
国特許第3,4 5 8,3 1 1号に記載されて訃
シ、ポリビニルアルコール、訃よび水への溶解性を持つ
ような実質的な量の未置換ビニルアルコル単位を持つ、
ポリビニルアルコールの部分エステル、エーテル、訃よ
びアセタールを含む。適切なボリマーは88〜99%加
水分解されたポリビニル酢酸を含む。他の有用なポリマ
ーは、ゼラチン、アラビアゴム、ビニルエーテルと無水
マレイン酸共重合体、ポリビニルビロリドン、平均分子
量約i o o,o o o〜3,0 0 0,0 0
口又はそれ以上の高分子量で、水浴性のエチレンオキサ
イドのポリマー、又はこれらのポリマーの混合物を含む
好ましい酸素バリヤー層ボリマーはポリビニルアルコー
ル、カルポキシメチルセルロース、又ハそれらの混合物
である。バリヤー層との相溶性を得るための、光開始剤
の選択は下層の光重合層のために選ばれた選択とは異る
少くとも一つが下層に用いられるフリーラジカル重合可
能な化合物とは、少くとも一つのエチレン性不飽和二重
結合を持ったものであb1モノマフ0レポリマー、すな
わちダイマー トリマ他のオリゴマー、それらの混合物
、又は共重合体である。適切な例は米国特許第4,2 
2 8j2 5 2号、同4,4 7 6.2 1 5
号に記載されている好捷しいモ23 24 ノマーである。フリーラジカル的に重合する化合物が七
ノマーであるならそれらは好筐し〈は2から4のエチレ
ン性不飽和基、例えばアクリロイル、メタアクリロイル
、ビニルpよびアリル、を持つ複数のアクリロイル訃よ
びメタアクリロイル基を持つ化合物が好!しい。例えば
トリメテロールプロパニトリアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、トリアクリレート等の
ような低分子蛍のポリオールのアクリル酸エステルであ
る。これ等のモノマーは好!シ(は、分子量は2,0 
0 0以下でありより好咬し〈はi,000以下である
。本発明の組成物にかいて有用な、他の適切な、フリー
ラジカル重合可能なモノマーはよく知られてカシ、多く
の特許、例えば米国特許第3,8 9 5,9 4 9
号、同4,0 3 7,0 2 1号に記載されている
。好捷しいモノマーはアルカンポリオールのポリアクリ
ル酸エステル及びポリメタクリレートエステルであシ、
例えばペンタエリスリトルテトラアクリレート、トリス
(2−アクリルオキシエチル)一インシアヌレート、2
−アセトオキシエチルメタアクリレート、テトラヒドロ
ンルフリルメタアクリレート、1−アず−5−アクリロ
キシメチル−3,7−ジオキサピンクロ〔5.○.O〕
オクタン(ADOz)、ビス〔4−(2−アクリルオキ
シエチル)フエニル〕ジメチルメタンゾアセトンアクリ
ルアミド、アクリルアミドエチルメタアクリレートであ
る。
ペンダントなカルボキシル基を持つフリーラジカル重合
可能なオリゴマーは従来技術で知られている。これ等は
アルカリ性水性現像液への分散性を与えるという利点が
ある。いくつかの代表的な例は米国特許第3,8 8 
7,4 5 0号、同3,448,[189号、同4,
1 6 2.2 7 4号、同4,2 2 8,2 3
 2号、米国特許出願第151,879号(出願日19
88年2月6日)である。最も好オしいオリゴマーは後
の2つの文献に見出される。オリゴマー中の酸基の数を
調節することは、光開始反応の後に、基材への組成物の
接着性を調節するのに有効な方法である。酸濃度を増加
させるにしたがって、組成物はよシ容易に現像中に除去
される。広範囲な酸含量が、最終製品に望寸れる特性に
基づいて使用される。
フィルム形成能のある高分子結合剤を下層の組成物に桧
加してもよく、たいていの場合添加するのが望捷しい。
フリーラジカル的に重合する化合物が、べとついたり、
自由な流動性がある場合には、高分子結合剤を加えるこ
とは必須である。広範囲な適当な結合剤が、光重合性組
成物の技術において知られてpシ、適切な例は米国特許
第4,2 2 8j2 3 2号、同4,4 7 6.
2 1 5号に見出され、ポリビニルアセタール、ポリ
ビニルゾチラル、ポリ(ビニルメチルエーテル)、ポリ
ビニルアルコール、ヒドロキシアルキルセルロース、ホ
リアミド、ポリビニルアセテート、ポリビニルアセテー
トーポリ塩化ビニル共重合体、ポリエチレンオキサイド
、ポリアクリレート釦よびボリメタクリレートを含む。
適切な増感剤は次の範峙の化合物を含む。ケトン、クマ
リン染料(例えばケトクマリン)、キサンテン染料、3
H−キサンテンー3一オン染料、アクリジン染料、チア
ゾール染料、チアジン染料、オキサジン染科、アジン染
料、アミノケトン染科、メチン訃よびボリメチン、ポル
フイリン、芳香族多環性炭化水素、P−置換アミノスチ
リルケトン化合物、アミノトリアリールメタン、メロン
アニン、スクアリリウム染料及びビリジニウム染料。
ケトン(例えばモノケトン又はα−ジケトン)、ケトク
マリン、アミノアリールケトン、P−jd換アミノスチ
リルケトン化合物、メロシアニン、および芳香族多環炭
化水素け好オしい増感剤である。
強いキュアを要求する応用(たとえは高度に充たされた
複合物のキュア)には、光重合のための望オしい照射波
長にかいて、吸光係数が望斗しくは約1000以下の、
よシ好玄し(は約II][1以下の増感剤を用いるのが
よい。
例として、好1しい極類のケトン増感剤は次の式を有す
る AC○(X)bB 〔式中、XはC○又はCRIR2、ここでR1訃よびR
2は同一又は相異り、水素、アルキル、アルカリル、2
7 又はアラルキルであシ、bはO又は1、A釦よびBは同
一又は相異ジ、置換(一又は一以上の非妨害性置換基を
有する)又は非置挑アリール、アルキル、アルカリル又
はアラルキル糸であシ、又はAとBはーしよになって置
換又は未置換の脂環的、アロマテイツク、ヘテロア口マ
ティック、又は縮合アロマテイックな環である環状構造
を形成する〕。
上記式の適切なケトンは2j2−  4,’m又は2j
4−ジヒドロキシベンゾ7エノン、ジー2−ビリゾルケ
トン、ジー2−ンラニルケトン、ゾー2−チオフエニル
ケトン、ベンゾイン、フルオレノン、チャルコン(ch
alcone) 、ミヒラーのケトン、2−7ルオロ−
9−7ルオレノン、2−クロロチオキサントン、アセト
フエノン、ペンゾフエノン、1一又は2−アセトナフト
ン、9−アセチルアンスラセン、2−  3−、又は9
−アセチルフエナンスレン、4−7セチルビフエニル、
プロビオンエノン、n−プチロフエノン、バレロフエノ
ン、2−3−、又は4−アセチルビリジン、3−アセチ
ルクマリン等のモノケトン(b−口)を28 含む。適切なゾケトンはアンズラキノン、7エナンスレ
ンキノン Q −   −  p − シアセチm ルベンゼン、1.3−  1.4−  1.5−1.6
−  1,7訃よび1,8−ゾアセチルナフタレン、1
.5−  1.8一釦よび9,1口−ジアセチルアンス
ラセン等のようなアラルキルジケトンを含む。適切なβ
−ゾケトン(b−1でX=CO)は2j3−7”タンジ
オン、2.3−ペンタンジオン、2,3−ヘキサンシオ
ン、3.4−ヘキサンジオン、2,3−へゾタンジオン
、5,4−へゾタンジオン、2j3−オクタンシオン、
4.5−オクタンジオン、ベンゾル2 . 2’−  
3 . 3’−訃よび4,4′−ジヒドロキシベンジル
、フリル、ジ−3.3’lントリルエタンジオン、2.
3−ボランジオン(カンホールキノン)、ビアセチル、
1,2−シクロヘキサンジオン、1,2−ナフトキノン
、アセナフタキノン等を含む。
好筐しいケトクマリンとP一置換アミノスチリルケトン
化合物は出願中の米国特許出願第3 4,0 6 5号
の表■に載せてある。好オしいメロシアニン染料は米国
特許第3,7 2 9,3 1 3号に記載してある。
本発明の組或物は露光し、それによって様々な方法を用
いてキュアする。クォーツノ・ロゲンランプ、タングス
テンーノ・ロケ9ンランプ、水銀ランプ、キセノン釦よ
び水銀/キセノンランプ、プラズマアーク、発光性ダイ
オード嘔よびレーずーのような、紫外光又は可視光を放
射する光源を用いるのが便オリである。一般に熱はキュ
アを促進する。
貯蔵寿命をさらに改良するために、下層に加えるP −
 jfi:換−N一二置換アニリンは次の一般式を持つ
ものから選ばれる。
L式中、R1とR2は同一又は相異シ、それぞれ炭素数
1〜12のアルキルであシ、又は窒素原子と一緒になっ
て5〜10の有核原子を持つ、一又は一以上のヘテロサ
イクリツクな環を形威し、R3は一〇〇OR4基又は−
(C一〇)一R5基であシ、R4は水素、アルキル、ヒ
ドロキシアルキル、カルボキシアルキル、アラルキル又
はアリールであシ、ここでアルキルは1〜15の炭素原
子を持ち、アリールはフエニル又はナフチルであシ、R
5は水素、又は1〜4の炭素原子を持つアノレキル、フ
エニル基、又はナフチル基であり、R6 、R7 、R
8 、R9は独立に水素、アルキル基、ヒドロキシ、ア
ルコキシ基、ハロゲン、シアノであり、又はR6とR7
がいっしょになって、又はR8とR9がーしよになって
独立に8迄の環原子を含む環構造を形威する〕。
上述のエチレン性化合物pよび光増感剤一光開始剤系を
含む本発明の光重合性組成物はさらに、必要ならば熱重
合禁止剤、可塑剤、着色剤、釦よび表面潤滑剤(米国特
許第4,2 2 8,2 3 2号)等の公知の添加物
を加えてもよい。
層集合体用の基材は、光重合層集合体の最終目的に従っ
て、広範囲の材料から選択する。かくて印刷版としては
、粗面化(grained) Lかつ陽極酸3) 32 化したアルミニウムシートを用いるだろう。カラプルー
7イング(color proofing)な材料用に
は、透明なボリマー基材會用いるだろう。一般に酸素不
透性であるとして選ばれる基材は例えば金属、ボリマー
、かよび処理紙が好玄しい。
本発明の重合性組成物は、前増感された(prese−
nsi bi/ed)印刷版訃よびカラープルーフイン
グ系に特に有用である。本組成物の高速性pよび高度の
貯蔵安定性は、投影露光画像(projection 
ax−posure imaging)システムpよび
特にレーず一走査技術による露光に基づく画像(ima
ging)システムの商業化に非常に望1しい。
〔実施例〕
実施例1 この実施例は、異った増感剤と安定剤の存在下での、最
上層中に光開始剤のあることの利点を示す。
次のストック液を調製した。
1, 共沸混合物(72%U−プロパノール、28多水
 重量/重童)        27.6 g2.ペン
タエリスリトールテトラアクリレート(SR−295サ
ルトーマ−(株)製)   1.0gろ. カルボキシ
ル置撫ウレタンオリゴマ(メチルエチルケトン中61%
)(夾質的に米国特許第4,228,232号のP−1
1)1.4g4.トリエチルアミン 0.07 g 5.クルーセルM(共沸混合物中1.5%)ヒトロ−3
r−シ−fロビルセルロース(ノ\キュレス(株)製)
          12.3g6. ミルベース(サ
ンファーストブルふ・よびフォームパー12/85、1
:2;共沸混合物中13.7%固形分)       
2.0 gカルボキシル置換ウレタンオリゴマ−は、米
国特許第4,2 2 8,2 3 2号に開示されたオ
リゴマP−11と同じであり、同じ製造過程で製造した
本実施例中のオリゴマーは、分子4f4,300、カル
ボキ当量重量1100、アクリレート当量重量70口を
持つものとして特徴づけられる。トリエチルアミンの量
はウレタンオリゴマー中のカルポキシ基を中和するのに
ちょうど十分な量である。
ストック液5gに5又は6 1n9(上に示したように
)の増感剤、2口即のph2■+pF,; z−よび揚
合によっては6m&の安定剤を加えた。その溶液を次に
粗面化しかつ陽極酸化したアルミニウム上に巻線棒を用
いて、鉦塗布M量1 00− 200■/fシ2( 1
.0 7 5 − 2.1 5g/m2)で、塗布し、
150’F’ ( 6 5.6℃)で2分間乾燥させた
当該アルミ板を二層コートする実施例では、5多のポリ
ビニルアルコール水溶液を用い、第1表に示すように、
0.25%のPh2I+PF6−と、塗布助剤として少
量の、化学作用を起さない界面活性剤(}!JトンX−
100ロームアンドハース1+[、0.03%)を含む
該溶液を、乾燥冷布重量100−  20oTv/ f
b2 (  1.075−  2.1  5  g /
m2)  で、塗布した。乾燥した試料は16.0 0
 07−トキャンドル( 1 7 2,2 2 4ルク
ス)タンクステン光源を用いて、12インチ(2EII
)で、2秒間、hトランスミッションファクター( e
ransmi s.9j onfacbor incr
ement) 2 1ステツプストワファ−感度ガイ 
ド(step s シouffer seusi t;
ivj t+y gujde)を辿して、露光した(ス
リーエムモデル7口光源)。
照射した板を、4優のn−プロパノール、2%のメタケ
イ酸ソーダ、0.06%のダウファックス(登録商標)
2A1界面活性剤(ダウケミカル製)の水尋液で現像し
た。第1表は露光と現像後の、ステップの数に応じて保
持されるボリマーを示す。
ステップ値(ンリツド) (s tep value)
(so工jd)は現像された画像密度がバッククラウン
ドからもはや区別できず、望捷しい水準にキュアされた
と信じられる露光水準を示す。試料のいくつかの絶対感
度しきい値も、波長4 8 8 nmの単色光源で露光
することによって測定した。第2表はこれらの結果を示
す。ランプ出力は放射計により測定した。
老化促進試験のために、コートした板を黒色の紙で覆い
、オープンセット中で、140°F(60°C)で、3
日間放置した。室温まで冷却した後、試料を上述と同様
に露光し,、現像した。
第1表中に訃いて試料1.t,−よび2は、従来の最上
層を使用し、安定剤を使用しない場合に得られた結果を
示す。試料3〜5は、速度を増加し又はこれら物質を安
定化するために従来技術にかいて一般的に用いられてい
る酸化防止剤は、小実上我35 36 我の物質の安定性を悪化させることを示している。
しかしP一置換アリールジアルキルアミンを用いた試料
6〜9は若干の改良を与える。試料10〜12に訃いて
、最上層中にPh2I+P1j’6−の使用すると、安
定剤の使用以上の改良がなされる。試料13と14に訃
いて、そのような最上層を安定剤と共K用いることは、
速度の増加と共に安定性の劇的な改良をもたらすことが
示される。
第1表 11 12 ■ ■ 無 ■ E 腹無 [E PVA PVA PVA PVA PVA PVA PVA PVA PVA +X PvA +X PVA +X PvA PvA +X 12 12 1口 11 PVA−ポリビニルアルコール X = Ph2I”PF−6,  式中ph= 7’ 
x = #第 2 表 1               3200−4000
14                  80口−1
0口0増感剤と安定剤: 安定剤 A  SnC12 B  トリフエニルホスノイン 実施例2 本実施例は主層と最上層間の光開始剤の分配の割合の影
響を示す。
実施例1のストック液5gに、6m9の実施例1の増感
剤を加えた。
二層コーティングを実施例1で記載し/こ粗面化し陽極
酸化しプとアルミニウムに行ったが、二つの層に対して
、第3表に示すように、光開始剤を添加した。試験も実
施例1と同様に行った。
6 9 4 0 開始剤: 第 3 X=Ph2I”PF6” 、Y 表 Ph2I+C1− 同様に有効であり(試料18、19)、異った挙BJJ
Jを持つ2番目の開始剤は、最上層への添加による改良
と同様の改良を示すことがわかる。
15 ;1;lノシ?/g 0 16  6rnl;//g0 6m97g 0 17 1日 19 2口 21 22 0 O 0 0 3〃タ/g 0 0 51l!9/jj 0 0 X 2.5I呪/β X 2.5■/g X 5.0M97g 無 Y 2.5In97g Y 2.5■/g 9 1口 1口 8 9 7 23 3m97g 3〃覗/g 無 8 6

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基材表面に少くとも二層を有する基材からなる光
    重合性集合体であつて前記二層のうち下層は少くとも一
    つのエチレン性不飽和二重結合を有するフリーラジカル
    的に重合可能な化合物を含み、最上層はバリヤーである
    高分子バインダーとフリーラジカル重合のための一番目
    の光開始剤を含むことを特徴とする前記光重合性集合体
  2. (2)前記最上層がさらに光開始剤のための増感剤を含
    むことを特徴とする請求項(1)記載の集合体。
  3. (3)前記下層がさらにフリーラジカル重合のための、
    二番目の光開始剤を含むことを特徴とする請求項(1)
    記載の集合体。
  4. (4)前記下層がさらにフィルム形成性の高分子バイン
    ダーを含むことを特徴とする請求項(1)、(2)およ
    び(3)記載の集合体。
  5. (5)前記下層がさらに増感剤を含むことを特徴とする
    請求項(3)記載の集合体。
  6. (6)前記2番目の光開始剤が、第1番目の光開始剤の
    、少くとも25モル%存在することを特徴とする請求項
    (3)記載の集合体。
  7. (7)前記1番目の光開始剤が、有機過酸化物、アゾ化
    合物、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、
    芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、キノン
    、ベンゾフェノン、ニトロソ化合物、アシルハライド、
    アリールハライド、ヒドロアゾン、メルカプト化合物、
    ピリリウム化合物、トリアリールイミダゾール、ビイミ
    ダゾール、及びハロアルキル−トリアジンから成る群よ
    り選ばれることを特徴とする請求項(1)、(2)及び
    (3)記載の集合体。
  8. (8)前記1番目の光開始剤が、次の一般式で表される
    芳香族ヨードニウム塩から選ばれる ▲数式、化学式、表等があります▼and▲数式、化学
    式、表等があります▼ 〔式中Ar^1およびAr^2は炭素数4〜20の芳香
    族基であり、好ましくはフェニル、ナフチル、チエニル
    、フラニルおよびピラゾリル基から選ばれるWは単結合
    、=O、=S、=S=O、=C=O、▲数式、化学式、
    表等があります▼、および=N−R^1^3、=CR^
    1^4R^1^5から選択される。ここでR^1^3は
    炭素数6〜20のアリール、炭素数2〜20のアシルで
    あり、R^1^1およびR^1^2は水素、炭素数1〜
    4のアルキル基から選ばれる。 Qはアニオンである〕 ことを特徴とする請求項(1)、(2)及び(3)記載
    の集合体。
  9. (9)前記1番目の光開始剤が次の一般式を持つ化合物
    から選ばれるハロアルキルトリアジンである▲数式、化
    学式、表等があります▼ 〔式中Xはハロゲン原子(好ましくは塩素又は臭素)で
    ある。 Yは−CX_3、−NH_2、−NHR^1^5、−N
    P_2^1^5又はOR^1^5である。ここでR^1
    ^5は炭素数1〜4のアルキル基、又は炭素数6〜10
    のアリール基である。 R^1^6は−CX_3、炭素数1〜12のアルキル基
    、炭素数6〜20のアリール基、炭素数2〜12のアル
    ケニル基、又は炭素数8〜20のアラルケニル基である
    〕 ことを特徴とする請求項(1)、(2)又は(3)記載
    の集合体。
  10. (10)前記下層が更に、次の一般式を持つP−置換−
    N−二置換−アニリンを含む ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1とR^2は同一又は相異り、それぞれ炭
    素数1〜12のアルキル基であるか、又は一個の窒素原
    子と共に5〜10の有核原子を有する1又は2以上のヘ
    テロサイクリック環を形成する。 R^3は−COOR^4基又は−(C=O)−R^5基
    である。 R^4は水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、カルボ
    キシアルキル、アラルキル、又はアリールであり、ここ
    でアルキルは1〜15の炭素数を有し、アリールはフェ
    ニル又はナフチルである。 R^5は水素、炭素数1〜4のアルキル、フェニル又は
    ナフチルである。 R^6、R^7、R^8、R^9は独立に水素、アルキ
    ル、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロゲン、シアノ、又は
    R^6とR^7若しくはR^6′とR^7′が一緒にな
    つて、8までの環原子を有する環状化合物を独立に形成
    する〕ことを特徴とする請求項(2)記載の集合体。
JP2139563A 1989-05-30 1990-05-29 上層に開始剤を含有する高速度光重合性印刷版 Pending JPH0329948A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/357,908 US4988607A (en) 1989-05-30 1989-05-30 High speed photopolymerizable element with initiator in a topcoat
US357908 1989-05-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0329948A true JPH0329948A (ja) 1991-02-07

Family

ID=23407523

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2139563A Pending JPH0329948A (ja) 1989-05-30 1990-05-29 上層に開始剤を含有する高速度光重合性印刷版

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4988607A (ja)
EP (1) EP0403096B1 (ja)
JP (1) JPH0329948A (ja)
KR (1) KR910020499A (ja)
CA (1) CA2015852A1 (ja)
DE (1) DE69028044T2 (ja)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5273862A (en) * 1988-07-29 1993-12-28 Hoechst Aktiengesellschaft Photopolymerizable recording material comprising a cover layer substantially impermeable to oxygen, binds oxygen and is soluble in water at 20°C.
GB2237023B (en) * 1989-10-06 1993-09-29 Toa Gosei Chem Ind A catalytic composition for photopolymerization and a photopolymerizable composition containing the same
US5254437A (en) * 1990-06-18 1993-10-19 Nippon Paint Co., Ltd. Photosensitive resin composition for flexographic printing
EP0465034B1 (en) * 1990-06-18 1996-08-14 Nippon Paint Co., Ltd. Photosensitive resin composition for flexographic printing
US5639802A (en) * 1991-05-20 1997-06-17 Spectra Group Limited, Inc. Cationic polymerization
JP3141517B2 (ja) * 1992-05-14 2001-03-05 ブラザー工業株式会社 光硬化型組成物
JP2956387B2 (ja) * 1992-05-25 1999-10-04 三菱電機株式会社 レジスト被覆膜材料、その形成方法とそれを用いたパターン形成方法および半導体装置
US5395862A (en) * 1992-12-09 1995-03-07 Spectra Group Limited, Inc. Photooxidizable initiator composition and photosensitive materials containing the same
US5821030A (en) * 1995-07-20 1998-10-13 Kodak Polychrome Graphics Lithographic printing plates having a photopolymerizable imaging layer overcoated with an oxygen barrier layer
FR2752582B1 (fr) * 1996-08-21 2003-06-13 Rhone Poulenc Chimie Compositions a base de polyorganosiloxanes a groupements fonctionnels reticulables et leur utilisation pour la realisation de revetements anti-adherents
US5973020A (en) * 1998-01-06 1999-10-26 Rhodia Inc. Photoinitiator composition including hindered amine stabilizer
US6458865B2 (en) * 1999-01-15 2002-10-01 Curators Of The University Of Missouri Photopolymerizable vinyl ether based monomeric formulations and polymerizable compositions which may include certain novel spiroorthocarbonates
DE10022786B4 (de) 1999-05-12 2008-04-10 Kodak Graphic Communications Gmbh Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte
US6610759B1 (en) 2000-03-06 2003-08-26 Curators Of The University Of Missouri Cationically polymerizable adhesive composition containing an acidic component and methods and materials employing same
US6537309B2 (en) * 2001-03-26 2003-03-25 Council Of Scientific And Industrial Research Reusable heat pack, method of manufacture thereof, mixture for use in a reusable heatpack and process for the preparation thereof
US7087194B2 (en) * 2002-04-04 2006-08-08 3M Innovative Properties Company K-type polarizer and preparation thereof
US6949207B2 (en) * 2002-04-04 2005-09-27 3M Innovative Properties Company K-type polarizer and preparation thereof
KR20100014830A (ko) * 2007-02-26 2010-02-11 제이에스알 가부시끼가이샤 미세 패턴 형성용 수지 조성물 및 미세 패턴 형성 방법
EP2194429A1 (en) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
EP2196851A1 (en) 2008-12-12 2010-06-16 Eastman Kodak Company Negative working lithographic printing plate precursors comprising a reactive binder containing aliphatic bi- or polycyclic moieties
US8034538B2 (en) 2009-02-13 2011-10-11 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US20100215919A1 (en) 2009-02-20 2010-08-26 Ting Tao On-press developable imageable elements
US8247163B2 (en) 2009-06-12 2012-08-21 Eastman Kodak Company Preparing lithographic printing plates with enhanced contrast
US8257907B2 (en) 2009-06-12 2012-09-04 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
ATE555904T1 (de) 2009-08-10 2012-05-15 Eastman Kodak Co Lithografische druckplattenvorläufer mit betahydroxy-alkylamid-vernetzern
EP2293144B1 (en) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing
EP2735903B1 (en) 2012-11-22 2019-02-27 Eastman Kodak Company Negative working lithographic printing plate precursors comprising a hyperbranched binder material
EP2778782B1 (en) 2013-03-13 2015-12-30 Kodak Graphic Communications GmbH Negative working radiation-sensitive elements
AT527021A1 (de) * 2023-02-28 2024-09-15 Univ Wien Tech Photobasen

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2011100B (en) * 1977-12-21 1982-05-26 Letraset International Ltd Production of transfer materials
GB2023861A (en) * 1978-06-14 1980-01-03 Polychrome Corp Dry processable printing plate having both photopolymer and diazo layering
US4250053A (en) * 1979-05-21 1981-02-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Sensitized aromatic iodonium or aromatic sulfonium salt photoinitiator systems
US4332873A (en) * 1979-08-22 1982-06-01 Hercules Incorporated Multilayer printing plates and process for making same
US4366218A (en) * 1981-07-13 1982-12-28 Eastman Kodak Company Photographic products and processes employing novel nondiffusible bridged azdaminophenol magenta dye-releasing compounds and precursors thereof
US4599299A (en) * 1982-04-22 1986-07-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing overcoated photohardenable element having surface protuberances
CA1323949C (en) * 1987-04-02 1993-11-02 Michael C. Palazzotto Ternary photoinitiator system for addition polymerization

Also Published As

Publication number Publication date
DE69028044D1 (de) 1996-09-19
CA2015852A1 (en) 1990-11-30
EP0403096A3 (en) 1991-11-21
EP0403096A2 (en) 1990-12-19
EP0403096B1 (en) 1996-08-14
US4988607A (en) 1991-01-29
DE69028044T2 (de) 1997-03-06
KR910020499A (ko) 1991-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0329948A (ja) 上層に開始剤を含有する高速度光重合性印刷版
EP0107792B1 (en) Photopolymerizable compositions
US4258123A (en) Photosensitive resin composition
US3479185A (en) Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers
JPH0544459B2 (ja)
EP0014012A1 (en) Photosensitive composition containing an ethylenically unsaturated compound, initiator and sensitizer
US4966830A (en) Photopolymerizable composition
JPH01287105A (ja) 光重合性組成物
JPH0151823B2 (ja)
US5112721A (en) Photopolymerizable compositions containing sensitizer mixtures
EP0704764A1 (en) Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate
JPS5819315A (ja) 光重合性組成物
US5219709A (en) Photopolymerizable composition
JP2897375B2 (ja) 光重合性組成物
US20100068480A1 (en) Negative-working photosensitive resin composition and photosensitive resin plate using the same
JPS63137226A (ja) 光重合性組成物
JP3220498B2 (ja) 光重合性組成物
JP3385421B2 (ja) 光重合可能な組成物
CA1288629C (en) Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording materialcontaining said composition
JP3414863B2 (ja) 感光性トリハロメチル−s−トリアジン化合物およびそれを含有する光重合性組成物
JPH0588243B2 (ja)
CA1331533C (en) Photopolymerizable composition
JPH0474172A (ja) 新規増感剤
JPH1020494A (ja) 光重合性組成物、それを用いた感光性原版およびその露光方法
JP2990830B2 (ja) 光重合性組成物