KR101453573B1 - 페이지 소거를 갖는 비휘발성 반도체 메모리 - Google Patents
페이지 소거를 갖는 비휘발성 반도체 메모리 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101453573B1 KR101453573B1 KR1020087026506A KR20087026506A KR101453573B1 KR 101453573 B1 KR101453573 B1 KR 101453573B1 KR 1020087026506 A KR1020087026506 A KR 1020087026506A KR 20087026506 A KR20087026506 A KR 20087026506A KR 101453573 B1 KR101453573 B1 KR 101453573B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- voltage
- word line
- erase
- page
- block
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 128
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims abstract description 111
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 40
- 230000004044 response Effects 0.000 claims 2
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 56
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 40
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 36
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 32
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 19
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 19
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 19
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 11
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 9
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 5
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 5
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000005689 Fowler Nordheim tunneling Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000010893 electron trap Methods 0.000 description 1
- 239000002784 hot electron Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- PWPJGUXAGUPAHP-UHFFFAOYSA-N lufenuron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(C(F)(F)F)F)=CC(Cl)=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F PWPJGUXAGUPAHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 208000024891 symptom Diseases 0.000 description 1
- 238000010200 validation analysis Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
- G11C16/14—Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
- G11C16/16—Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits for erasing blocks, e.g. arrays, words, groups
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/08—Word line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, for word lines
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/04—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/04—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
- G11C16/0483—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells having several storage transistors connected in series
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
- G11C16/14—Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/34—Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/34—Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
- G11C16/3436—Arrangements for verifying correct programming or erasure
- G11C16/344—Arrangements for verifying correct erasure or for detecting overerased cells
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/34—Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
- G11C16/3436—Arrangements for verifying correct programming or erasure
- G11C16/344—Arrangements for verifying correct erasure or for detecting overerased cells
- G11C16/3445—Circuits or methods to verify correct erasure of nonvolatile memory cells
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/20—Memory cell initialisation circuits, e.g. when powering up or down, memory clear, latent image memory
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
Abstract
비휘발성 메모리에서는, 전체 미만의 블록이 하나 이상의 페이지로서 소거될 수 있다. 선택 전압이 패스 트랜지스터를 통해 복수의 선택된 워드라인의 각각에 인가되고, 비선택 전압이 패스 트랜지스터를 통해 선택된 블록의 복수의 선택되지 않은 워드라인의 각각에 인가된다. 기판 전압이 선택된 블록의 기판에 인가된다. 공통 선택 전압이 각 선택된 워드라인에 인가될 수 있고, 공통 비선택 전압이 각 선택되지 않은 워드라인에 인가될 수도 있다. 선택 및 비선택 전압은 선택 블록의 워드라인 중 어느 것에 인가될 수 있다. 페이지 소거 검증 동작이 복수의 소거된 페이지 및 복수의 소거되지 않은 페이지를 갖는 블록에 적용될 수 있다.
Description
이 출원은 2006년 3월 29일에 출원된 미국 가출원 제60/786,897호, 2006년 9월 11일에 출원된 미국 가출원 제60/843,593호 및 2007년 3월 8일에 출원된 미국 특허 출원 제11/715,838호의 이점을 청구한다. 상기 출원의 전체 개시내용은 참고로 본 명세서에 통합되어 있다.
디지털 카메라, 휴대용 개인 디지털 단말, 휴대용 오디오/비디오 플레이어 및 이동 단말과 같은 이동식 전자 장치는 대용량 저장 메모리, 바람직하게는, 더 증가하는 용량 및 속도 성능을 갖는 비휘발성 메모리를 계속적으로 필요로 한다. 예를 들어, 현재 시판되고 있는 오디오 플레이어는 오디오/비디오 데이터를 저장하기 위한 256Mbytes 내지 40 Gigabytes 사이의 메모리를 가질 수 있다. 플래시 메모리 및 하드-디스크 드라이브와 같은 비휘발성 메모리는 전력이 없이 데이터가 유지되기 때문에, 선호된다.
현재, 고밀도를 갖는 하드 디스크 드라이브는 40 내지 500 Gigabytes를 저장할 수 있지만, 부피가 크다. 그러나, 고체 드라이브로도 알려진 플래시 메모리는 그 고밀도, 비휘발성 및 하드 디스크 드라이브에 비해 작은 사이즈로 인해 인기가 있다. 플래시 메모리 기술은 EPROM 및 EEPROM 기술에 의거한다. 용어 "플래시"는 다수의 메모리 셀이 EEPROM과 구별되는 것으로서 한번에 소거될 수 있기 때문에 선택되었으며, 각 바이트가 개별적으로 소거되었다. 당업자는 플래시 메모리가 그 더욱 컴팩트한 메모리 어레이 구성으로 인해, 주어진 면적당 더 높은 밀도를 갖는 NAND 플래시를 갖는, NOR, NAND 또는 다른 플래시로서 구성될 수 있음을 이해할 것이다. 더욱 논의할 목적으로, 플래시 메모리에 대한 참조들은 어떤 유형의 플래시 메모리인 것으로 이해되어야 한다.
NAND 플래시 메모리의 셀 어레이 구조는 n개의 소거 가능한 블록으로 이루어진다. 각 블록은 n개의 소거 가능한 블록으로 이루어지는 일례의 NAND 플래시 메모리의 셀 어레이 구조를 나타내는 m개의 프로그램 가능한 페이지로 세분할된다. 이 예에서, n=2048이다. 각 블록은 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이 m개의 프로그램 가능한 페이지로 세분할되며, 여기에서 m=64이다.
각 페이지는 도 3에 도시된 바와 같이 (j+k)바이트(x8b)로 이루어진다. 이 예에서는, j=2048 및 k=64이다. 페이지들은 별개의 k-바이트 영역(예비 필드)을 갖는 j-바이트 데이터 저장 영역(데이터 필드)으로 더욱 분할된다. k-바이트 영역은 일반적으로 에러 관리 기능을 위해 사용된다.
· 1 페이지 = (j+k) 바이트.
· 1 블록 = m 페이지 = (j+k) 바이트*m.
· 총 메모리 어레이 사이즈 = n 블록 = (j+k) 바이트*m*n.
종래의 NAND 플래시 장치에서는, 판독 및 프로그램 동작이 페이지 페이지 베 이스로 실행되는 한편, 소거 동작은 블록 베이스로 실행된다. 모든 동작은 명령들에 의해 구동된다(전체 내용이 본 명세서에 통합되어 있는 삼성의 2Gb NAND 플래시 사양: ds_k9f2gxxu0m_rev10을 참조하라).
내부 메모리 어레이는 페이지 베이스로 액세스된다. 판독 동작은 READ 명령을 기록한 후에 개시하여 장치로의 공통 I/O 핀(I/O 0 내지 I/O 7)을 통한 어드레스가 이어진다. 선택된 페이지 내의 2,112 바이트의 데이터가 도 4에 도시된 tR(플래시 어레이로부터 페이지 레지스터로의 데이터 전송 시간) 미만으로 페이지 레지스터로 감지되어 전송된다. 2,112 바이트의 데이터가 셀 어레이 내의 선택된 페이지로부터 데이터 레지스터로 감지되어 전송되면, 데이터 레지스터 내의 데이터는 예컨대, 8 비트 또는 16 비트 사이클로 장치로부터 순차적으로 판독될 수 있다.
종래의 메모리 어레이는 페이지 베이스로 프로그램된다. 프로그램 동작을 위해, 2,112 바이트의 어드레스 및 입력 데이터가 이어지는 PROGRAM 명령이 공통 I/O 핀(I/O 0 내지 I/O 7)을 통해 장치에 발행된다. 2,112 바이트의 데이터가 입력 데이터 로딩 사이클 동안 데이터 레지스터에 전송되어, 최종적으로 도 5에 도시된 바와 같이 tPROG(페이지 프로그램 시간) 미만에 셀 어레이의 선택된 페이지에 프로그램된다.
메모리 어레이는 블록 베이스로 소거된다. 블록 소거 동작을 위해, 블록 어드레스가 이어지는 BLOCK ERASE 명령이 공통 I/O 핀(I/O 0 내지 I/O 7)을 통해 장치에 발행된다. 128Kbytes의 데이터가 도 6에 도시된 바와 같이 tBERS(블록 소거 시간) 미만에 소거된다. 상세한 장치 동작에 대해서는 NAND 플래시 사양(삼성의 2Gb NAND: ds_k9f2gxxu0m_rev10)을 참조하라.
NAND 셀 열은 일반적으로 도 7에 도시된 바와 같이 직렬로 접속되는 1열 셀렉터 트랜지스터(71), i 메모리 셀(72) 및 하나의 접지 선택 트랜지스터(73)로 이루어진다. 열당 셀의 수(i)는 처리 기술에 의해 예컨대, 열당 8 셀 또는 열당 16 세 또는 열당 32 셀로 변경될 수 있다. 열당 32 메모리 셀이 현재의 90㎚ 및 70㎚ 기술에서 일반적이다. 이하, '32'가 도 7에 도시된 바와 같이 i에 대해 사용된다.
메모리 셀 게이트는 워드라인 0 내지 31(W/L 0 내지 W/L 31)에 대응한다. 열 선택 트랜지스터의 게이트는 열 선택 라인(SSL)에 접속되는 한편, 열 선택 트랜지스터의 드레인은 비트라인(B/L)에 접속된다. 접지 선택 트랜지스터의 게이트는 접지 선택 라인(GSL)에 접속되는 한편, 접지 선택 트랜지스터의 소스는 공통 소스 라인(CSL)에 접속된다. 각 워드라인은 페이지에 대응하고, 각 열은 블록에 대응한다.
도 8 및 도 9는 NAND 셀 열당 32 셀을 갖는 블록의 물리적인 구성을 도시한다. 도 8에 도시된 바와 같이, 한 블록 내에는 (j+k)*8 NAND 열이 존재한다. 따라서, 단위 블록은 총 (j+k)*8*32 셀을 갖는다. 각 워드라인은 단위 페이지로서 정의된다. 도 9는 n 블록을 도시한다.
일반적으로, 플래시 메모리 셀은 파울러-노다임(F-N: Fowler-Nordheim) 터널링 또는 열 전자 주입 중 어느 하나에 의해 프로그래밍 및 소거된다. NAND 플래시 메모리에서, 소거 및 프로그램의 양자는 F-N 터널링에 의해 관리된다. 아래의 소거 및 프로그램 동작은 NAND 플래시 메모리에 의거한다.
소거 동작 중에, 셀의 상부 폴리(top poly)(즉, 상부 게이트)는 Vss(접지)로 바이어스되는 한편, 셀의 기판은 소거 전압 Vers(예컨대, 대략 20v, 소스 및 드레인은 P-기판으로부터 n+ 소스/드레인으로의 접합-순방향-바이어스로 인해 자동으로 Vers로 바이어스된다)로 바이어스된다. 이 소거 바이어스 조건에 의해, 부동 폴리(floating poly)(즉, 부동 게이트)에 트랩된 전자(전하)가 도 10A에 도시된 바와 같이 터널 산화물을 통해 기판으로 방출된다. 소거된 셀의 셀 Vth는 도 10B에 도시된 바와 같이 음의 값이다. 바꿔 말하면, 소거된 셀은 (통상적으로 0V의 게이트 바이어스에 의해 턴-온하는) 온-트랜지스터이다.
반대로, 프로그램 동작 중에, 셀의 상부 폴리(top poly)(즉, 상부 게이트)는 프로그램 전압 Vpgm(예컨대, 대략 18V)로 바이어스되는 한편, 셀의 기판, 소스 및 드레인은 Vss(접지)로 바이어스된다. 이 프로그램 바이어스 조건에 의해, 기판 내의 전자(전하)가 도 11A에 도시된 바와 같이 터널 산화물을 통해 기판으로 주입된다. 프로그램된 셀의 셀 Vth는 도 11B에 도시된 바와 같이 양의 값이다. 바꿔 말하면, 프로그램된 셀은 (통상적으로 0V의 게이트 바이어스에 의해 턴-오프하는) 오프-트랜지스터이다.
따라서, NAND 플래시는 양방향(즉, 대칭형) F-N 터널링 메커니즘에 의해 소거 및 프로그램된다.
하나의 공지된 소거 스킴(scheme)은 도 12 및 도 13에 도시된다. 도 12는 소거 동작 중의 바이어스 조건을 도시한다. p-웰 기판이 소거 전압 Vers로 바이어스되는 한편, 선택된 블록 내의 비트라인 및 공통 소스 라인(CSL)은 SSL 및 GSL 트 랜지스터의 S/D 다이오드를 통해 Vers-0.6v에 클램프(clamped)된다. 동시에, 선택된 블록 내의 모든 워드라인은 0V로 바이어스되는 한편, 열 선택 라인(SSL) 및 접지 선택 라인(GSL)은 소거 전압 Vers로 바이어스된다. 따라서, 선택된 블록 내의 전체 셀이 상술한 바와 같은 F-N 터널링에 의해 소거된다.
블록 베이스의 소거 동작으로 인해, 동일한 p-웰 기판을 갖는 선택되지 않은 블록 내의 메모리 셀의 소거가 방지되어야 한다(즉, 소거 금지). 도 13은 선택되지 않은 블록에 대한 소거 금지 스킴을 도시한다:
· 선택된 블록 내의 모든 워드라인이 0V로 바이어스된다.
· 선택되지 않은 블록 내의 모든 워드라인이 기판으로부터의 Vers에 의해 전계를 보상하기 위해 Vers로 바이어스된다.
표 1은 소거 동작 중에 종래 기술 1에 의해 선택된 블록과 선택되지 않은 블록에 대한 바이어스 조건을 도시한다.
표 1. 소거 중의 바이어스 조건 - 종래 기술 1
이 소거 금지 스킴을 이용하면, 선택되지 않은 블록 내의 모든 워드라인을 소거 전압 Vers로 충전하는 데 매우 긴 총 소거 시간을 필요로 한다. 동시에, 선택되지 않은 블록 내의 전체 워드라인을 충전 및 방전하기 때문에, 전력 소비가 매우 높다. 또한, 메모리 밀도가 증가함에 따라, 소거 시간이 매우 길어지고, 소거 동작 중의 전력 소비가 매우 높아진다.
상기 방법에서의 문제점을 해결하기 위해, 셀프-부스팅(self-boosting) 소거 금지 스킴(미국 특허 #5,473,563호)이 제안되어 있고 NAND 플래시 메모리에 널리 사용되고 있다.
선택된 블록에 대해서, 소거 바이어스 조건은 SSL 및 GSL이 도 14에 도시된 바와 같이, Vers로 바이어스되는 대신에 부동으로 되는 것을 제외하고, 상기와 실 질적으로 동일하다.
선택되지 않은 블록 내의 메모리 셀의 소거를 방지하기 위해, 선택되지 않은 블록 내의 모든 워드라인이 도 15에 도시된 바와 같이 소거 동작 중에 부동한다. 따라서, 선택되지 않은 블록 내의 부동하는 워드라인은 소거 전압 Vers를 기판에 인가할 때 선택되지 않은 블록 내의 기판과 워드라인 사이의 용량성 결합에 의해 거의 소거 전압 Vers로 부스트된다. (부동하는 워드라인은 셀 어레이의 기판이 Vers로 될 때 Vers의 약 90%로 부스트되지만, 부동하는 워드라인 상의 부스트된 전압 레벨은 기판과 워드라인 사이의 결합비에 의해 결정된다.) 선택되지 않은 블록 내의 워드라인 상의 부스트된 전압은 기판과 워드라인 사이의 전계를 감소시키며, 그 결과, 선택되지 않은 블록 내의 메모리 셀의 소거가 방지된다.
· 선택된 블록 내의 모든 워드라인이 0V로 바이어스된다.
· 선택되지 않은 블록 내의 모든 워드라인이 부동으로 된다.
표 2는 이 방법에 의한 소거 중의 바이어스 조건을 도시한다. 선택되지 않은 블록 내의 전체 워드라인이 Vers로 바이어스될 필요가 없기 때문에, 선택되지 않은 블록 내의 워드라인에 소거 전압 Vers를 인가할 필요가 없어, 소거 중에 전력 소비를 감소시키고 소거 시간을 감소시킨다.
표 2. 소거 중의 바이어스 조건 - 종래 기술 2
셀의 기판이 소건 전압 Vers로 바이어스되고 선택된 블록 내의 셀의 소스/드레인/기판이 전기적으로 접속되기 때문에, 소거 동작은 블록 베이스로 발생해야 한다. 바꿔 말하면, 최소 소거 가능한 어레이 크기가 블록이다.
상술한 플래시 메모리에는 세 가지 제한이 가해진다. 먼저, 비트는 목표 메모리 어레이를 소거한 후에만 프로그램될 수 있다. 둘째로, 각 셀은 제한된 수의 소거를 유지할 수만 있고, 그 후에 데이터를 더 이상 신뢰할 수 있게 저장할 수 없다. 바꿔 말하면, 셀에 대한 소거 및 프로그램 사이클의 수에 제한이 있다(즉, 내구성, 일반적으로 10,000∼100,000 사이클). 셋째로, 최소 소거 가능한 어레이 크기는 최소 프로그램 가능한 어레이 크기보다 매우 더 크다. 이들 제한으로 인해, 복잡한 데이터 구조 및 알고리즘이 플래시 메모리를 효율적으로 사용하는 데 필요 하다. (예컨대, 미국 특허 5,937,425호, 6,732,221호 및 6,594,183호를 참조하라.)
페이지 베이스의 메모리 셀의 소거는 미국 특허 5,995,417호 및 특허 출원 US 2006/0050594호에 제안되어 있다.
여기에는 특별한 애플리케이션 NAND 플래시 메모리를 갖는 비휘발성 메모리에서 새로운 페이지 베이스의 소거 방법의 기술적인 상세사항이 여기에 제공된다. 페이지 베이스의 소거 방법은 NAND 플래시 메모리를 사용하여 설명되지만, 당업자에 의해서 다른 플래시 메모리 장치에 더욱 일반적으로 적용될 수도 있다.
NAND 플래시 메모리와 같은 비휘발성 메모리 어레이는 기판 상의 복수의 메모리 셀의 열, 메모리 셀들의 페이지들까지 상기 열들을 가로지르는 워드라인들 및 각 워드라인에 전압을 인가하는 패스 트랜지스터를 갖는다. 페이지를 소거하는 방법에서, 선택된 블록 내의 각 패스 트랜지스터는 예컨대, 블록 디코더를 통해 작동된다. 워드라인 디코더는 선택된 블록의 복수의 선택된 워드라인의 각각에서 선택 전압이 패스 트랜지스터에, 그리고 선택된 블록의 복수의 선택되지 않은 워드라인의 각각에서 비선택 전압이 패스 트랜지스터에 인가되게 할 수 있다. 기판 전압은 선택된 블록의 기판에 인가된다. 상기 기판 전압과 각 선택된 워드라인의 결과적인 전압 사이의 전압차가 상기 선택된 워드라인의 메모리 셀들의 상기 페이지를 소거시키고, 상기 기판 전압과 각 선택되지 않은 워드라인의 결과적인 전압 사이의 전압차는 상기 선택되지 않은 워드라인의 메모리 셀들의 상기 페이지를 소거하는 것 미만이다.
특정 실시예에서, 공통 선택 전압이 각 선택된 워드라인에 인가되고, 공통 비선택 전압이 각 선택되지 않은 워드라인에 인가된다. 선택 전압 및 비선택 전압이 선택된 블록의 워드라인들 중 어느 하나에 인가될 수 있다.
선택된 블록의 워드라인들 중 어느 하나에 선택 및 비선택 전압의 인가에 의해, 선택된 워드라인이 적어도 하나의 선택되지 않은 워드라인에 의해 분리될 수 있고, 선택되지 않은 워드라인이 적어도 하나의 선택된 워드라인에 의해 분리될 수 있다. 워드라인의 부스팅이 의존하는, 선택되지 않은 라인들에 인접한 선택된 라인들에 의해, 그 부스팅을 초래하는 용량성 결합이 감소될 수 있다. 그 결과, 비선택 전압으로부터 인가되는 더 높은 초기 전압이 바람직하다. 2개의 선택된 메모리 셀에 인접한 선택되지 않은 메모리 셀이 소거되지 않는 것을 보증하기 위해, 비선택 전압이 선택 전압에 보다는 인가된 기판 전압에 더 가까운 것이 바람직하다.
일 실시예에서, 각 선택된 워드라인의 상기 결과적인 전압은 상기 선택 전압과 실질적으로 동일하고, 각 선택되지 않은 워드라인의 상기 결과적인 전압은 상기 비선택 전압으로부터 상기 기판 전압을 향해 결합되는 부동 전압이다. 선택된 블록의 각 패스 트랜지스터에 인가되는 공통 게이트 신호는 값 V2를 갖고, 상기 비선택 전압은 V2 보다 크며, 상기 선택되지 않은 워드라인은 V2-Vtn으로 프리차지(precharge)된다. V2는 실질적으로 상기 인가된 기판 전압 미만이지만, 바람직하게는, 상기 인가된 기판 전압의 적어도 50%이다. 그 자체로, 선택된 블록 내의 비선택 전압이 선택되지 않은 블록 내의 패스 트랜지스터에 일반적으로 인가되는 전압보다 더 크다.
다른 실시예에서는, 각 선택된 워드라인의 상기 결과적인 전압은 상기 선택 전압과 실질적으로 동일하고, 각 선택되지 않은 워드라인의 상기 결과적인 전압은 상기 비선택 전압과 실질적으로 동일하다. 예를 들어, 선택 전압은 약 0V일 수 있고, 비선택 전압은 인가된 기판 전압과 대략 동일할 수 있다.
소거 검증 동작에서, 선택 검증 전압이 선택된 블록 내의 복수의 소거된 페이지의 각 워드라인에 인가될 수 있고, 비선택 검증 전압이 선택된 블록 내의 복수의 소거되지 않은 페이지의 각 워드라인에 인가될 수 있다. 각 열은 종단 전압, 특히 소스 전압에 접속된다. 종단 전압의 레벨은 선택된 워드 라인들의 수에 의존하는 복수의 전압 레벨 중 하나에서 선택될 수 있다.
이상은, 다른 도면들에 걸쳐 같은 참조 문자가 동일한 부분을 나타내는 첨부한 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 예시적인 실시예의 아래의 더욱 특별한 설명으로부터 명백해진다. 도면은 본 발명의 실시예들을 예시할 때 배치하는 대신에 반드시 확대, 강조할 필요는 없다.
도 1은 NAND 플래시 셀 어레이 구성을 도시하는 도면이다.
도 2는 NAND 플래시 블록 구성을 도시하는 도면이다.
도 3은 NAND 플래시 페이지 구성을 도시하는 도면이다.
도 4는 NAND 플래시에서의 페이지 베이스의 판독 동작을 도시하는 도면이다.
도 5는 NAND 플래시에서의 페이지 베이스의 프로그램 동작을 도시하는 도면 이다.
도 6은 NAND 플래시에서의 페이지 베이스의 소거 동작을 도시하는 도면이다.
도 7은 32개의 셀을 갖는 NAND 셀 열을 도시하는 도면이다.
도 8은 NAND 플래시에서의 블록 및 페이지 정의를 도시하는 도면이다.
도 9는 NAND 플래시에서의 다수의 블록을 도시하는 도면이다.
도 10A는 파울러-노다임(F-N) 터널링에 의한 소거 동작을 도시하는 도면이다.
도 10B는 파울러-노다임(F-N) 터널링에 의한 소거 동작을 도시하는 도면이다.
도 11A는 파울러-노다임(F-N) 터널링에 의한 프로그램 동작을 도시하는 도면이다.
도 11B는 파울러-노다임(F-N) 터널링에 의한 프로그램 동작을 도시하는 도면이다.
도 12는 소거 중에 선택된 블록에 대한 바이어스 조건 - 종래 기술 1을 도시하는 도면이다.
도 13은 블록 소거 및 정적 소거 금지 스킴 - 종래 기술 1을 도시하는 도면이다.
도 14는 소거 중에 선택된 블록에 대한 바이어스 조건 - 종래 기술 2를 도시하는 도면이다.
도 15는 블록 소거 및 셀프-부스팅 소거 금지 스킴 - 종래 기술 2를 도시하 는 도면이다.
도 16은 페이지 또는 페이지의 일부를 변경하기 위한 블록 복사 프로세스를 도시하는 도면이다.
도 17은 소거 중에 선택된 블록에 대한 바이어스 조건 - 페이지 소거 스킴 1을 도시하는 도면이다.
도 18은 페이지 소거 및 소거 금지 - 페이지 소거 스킴 1을 도시하는 도면이다.
도 19는 페이지 소거 바이어스 조건 - 페이지 소거 스킴 2A를 도시하는 도면이다.
도 20은 페이지 소거 및 소거 금지 - 페이지 소거 스킴 2A를 도시하는 도면이다.
도 21은 페이지 소거 바이어스 조건 - 페이지 소거 스킴 2B를 도시하는 도면이다.
도 22는 페이지 소거 및 소거 금지 - 페이지 소거 스킴 2B를 도시하는 도면이다.
도 23은 다수의 페이지 소거 - 페이지 소거 스킴 1을 도시하는 도면이다.
도 24는 다수의 페이지 소거 - 페이지 소거 스킴 2A를 도시하는 도면이다.
도 25는 다수의 페이지 소거 - 페이지 소거 스킴 2B를 도시하는 도면이다.
도 26은 블록 소거 - 페이지 소거 스킴 2A를 도시하는 도면이다.
도 27은 블록 소거 - 페이지 소거 스킴 2B를 도시하는 도면이다.
도 28은 소스 바이어스 없는 페이지 소거 검증을 도시하는 도면이다.
도 29는 소스 바이어스 있는 페이지 소거 검증을 도시하는 도면이다.
도 30은 블록 소거 검증을 도시하는 도면이다.
도 31은 페이지 소거 흐름 - 단일 소거 및 소거 검증 사이클을 도시하는 도면이다.
도 32는 페이지 소거 흐름 - 다수의 소거 및 소거 검증 사이클을 도시하는 도면이다.
도 33은 NAND 플래시 코어의 간략화된 블록도이다.
도 34는 페이지 소거 스킴 1의 블록 디코더 개략도이다.
도 35는 페이지 소거 스킴 2A 및 2B의 블록 디코더 개략도이다.
도 36은 페이지 버퍼 및 칼럼 셀렉터 - 예를 도시하는 도면이다.
도 37은 페이지 소거/다수의 페이지 소거 타이밍 - 페이지 소거 스킴 1을 도시하는 도면이다.
도 38은 페이지 소거/다수의 페이지 소거 타이밍 - 페이지 소거 스킴 2A를 도시하는 도면이다.
도 39는 페이지 소거/다수의 페이지 소거 타이밍 - 페이지 소거 스킴 2B를 도시하는 도면이다.
도 40은 블록 소거 타이밍 - 페이지 소거 스킴 2A를 도시하는 도면이다.
도 41은 블록 소거 타이밍 - 페이지 소거 스킴 2B를 도시하는 도면이다.
도 42는 소스 바이어스를 갖는 페이지 소거 스킴 1에 대한 페이지 소거 검증 타이밍을 도시하는 도면이다.
도 43은 페이지 소거 스킴 1에 대한 블록 소거 검증 타이밍을 도시하는 도면이다.
도 44는 페이지 소거 스킴 2A 및 2B에 대한 페이지 소거 검증 타이밍을 도시하는 도면이다.
도 45는 페이지 소거 스킴 2A 및 2B에 대한 블록 소거 검증 타이밍을 도시하는 도면이다.
도 46은 소거 중에 선택된 블록에 대한 바이어스 조건 - 페이지 소거 스킴 3을 도시하는 도면이다.
도 47은 소거 중에 선택된 블록에 대한 바이어스 조건 - 페이지 소거 스킴 3을 도시하는 도면이다.
도 48은 페이지 소거 및 소거 금지 - 페이지 소거 스킴 3을 도시하는 도면이다.
도 49는 다수의 페이지 소거 및 소거 금지 - 페이지 소거 스킴 3을 도시하는 도면이다.
도 50은 페이지 소거 스킴 3 중의 기생 용량을 도시하는 도면이다.
도 51은 페이지 소거/다수의 페이지 소거 타이밍 - 페이지 소거 스킴 3을 도시하는 도면이다.
본 발명의 예시적인 실시예를 아래에 설명한다.
여기에서 인용된 모든 특허, 공개된 출원 및 참조문헌의 개시내용은 참고로 전체적으로 통합되어 있다.
플래시 메모리 특히, NAND 플래시 장치에서, 판독 및 프로그램 동작은 페이지 베이스로 실행되는 한편, 소거 동작은 블록 베이스로 실행된다. 일반적으로, 페이지 크기는 512 바이트, 2048 바이트 또는 4096 바이트인 한편, 블록 크기는 16 페이지, 32 페이지, 도는 64 페이지이다. 따라서, 최소 소거 가능한 블록 크기는 페이지 크기보다 적어도 16배 더 크다. 또한, 이러한 최소 크기의 소거 가능한 블록(즉, 단위 소거 블록)은 칩 크기가 증가함에 따라 더 커진다.
프로그램/판독과 소거 사이의 어레이 크기 불일치는 플래시 파일 시스템에서의 시스템 성능 저하 및 장치 신뢰도(즉, 장치 수명)의 2개의 중요한 문제점을 도입한다.
하드 디스크(HDD)와 달리, 플래시 메모리 장치 내의 메모리 셀은 입력 데이터에 의해 프로그램되기 전에 소거되어야 한다. 데이터 기록 동작은 시스템 내의 CPU나 플래시 제어기가 프로그램 명령을 발행하면 즉시 실행되어야 한다. 따라서, 프로그램 전 소거는 전체 시스템 성능을 저하시킨다. 이 문제점을 극복하기 위해, 플래시 제어기는 일반적으로 미리 비어 있는 소거된 블록을 준비한다(즉, 소거-유닛 교정(reclamation)). 이 교정은 백그라운드 시에(CPU가 유휴 상태일 때) 또는 프리 스페이스(free space)의 크기가 소정의 임계값 아래로 떨어질 때 요구 시에 중 어느 하나에 발생할 수 있다.
플래시 제어기가 페이지의 작은 부분에조차 데이터 기입 또는 데이터 변경을 요구할 때, 일반적으로 변경될 페이지를 포함하는 블록은 소거-유닛 교정에 의해 교정된 프리(비어 있는) 블록 중 하나에 재기록될 것이다. 이 경우에, 원래의 블록 내에 원래의 데이터를 포함하는 유효 페이지가 도 16에 도시된 바와 같이 선택된 프리 블록에 복사되어야 한다. 변경된 페이지가 판독, 변경되어 새로운 블록에 복사된 후에, 한 페이지에 변경된 데이터와 함께 페이지의 나머지에 원래의 데이터를 갖는 새로운 블록이 플래시 제어기 내의 가상 매핑 시스템에 의해 유효 블록 어드레스에 리매핑된다. (가상 매핑 시스템은 플래시 제어기에 의해 액세스되는 논리 어드레스와 플래시 메모리 내의 물리 어드레스 사이의 어드레스 해석 시스템이다.) 원래의 블록은 현재 사용하지 않고, 소거-유닛 교정 프로세스에 의해 프리 블록으로 교정될 것이다. (플래시 메모리의 데이터 구조 및 알고리즘에 대해, 참고로 전체적으로 여기에 통합되어 있는, 2005년 6월의 Eran Gal, Sivan Toledo의 "Algorithms and Data Structures for Flash Memories," ACM Computing Surveys, Vol. 37, No. 2, pp. 138∼163을 참조하라.) 상술한 블록 복사 동작으로 인한 성능 저하를 최소화화기 위해, 일반적으로 NAND 플래시 장치는 플래시 장치와 플래시 제어기 사이의 외부 트랜잭션(transaction) 없이 페이지 복사 기능을 지원한다. 그럼에도 불구하고, 프로그램/판독 및 소거 동작 사이의 어레이 크기 불일치가 큰 시스템 오버헤드 및 복잡성을 도입한다.
플래시 메모리 셀은 파울러-노다임 터널링이나 열 전자 주입(hot electron injection) 중 어느 하나에 의해 프로그래밍 및 소거된다. 프로그램 또는 소거 동작 동안, 부동 게이트를 둘러싸는 유전체를 통해 부동 게이트로부터 또는 부동 게 이트로 전하가 전송된다. 이러한 빈번한 전하 전송이 부동 게이트와 유전체에서 전자가 트랩되게 하여, 셀의 프로그램 및 소거 특성을 저하시킨다. 후속하는 셀들은 증가한 수의 소거-프로그램 사이클에 의한 이러한 전자 트래핑으로 인해 점진적으로 더 높은 프로그램 전압 및 소거 전압을 필요로 하며, 그 결과, 셀 상의 소거-프로그램 사이클의 수가 제한된다. 일반적으로, 소거-프로그램 사이클의 최대수(즉, 셀 내구성)는 10,000과 100,000 사이이다.
제한된 수의 소거-프로그램 사이클(내구력)은 플래시 장치의 수명을 제한한다. 가능한 한 긴 수명을 갖는 것이 바람직하며, 이것은 플래시 장치로의 액세스의 패턴에 의존한다. 단일 셀 또는 소수의 셀들로의 반복적이고 빈번한 재기록은 고장의 징후를 빨리 초래하고, 장치의 유용한 수명을 빨리 종료시킨다.
또한, 다수의 플래시 장치를 갖는 플래시 메모리 시스템에서는, 플래시 메모리 시스템 내의 장치들 간에 명백히 불균일한 사용이 있으면, 하나의 장치는 수명이 다하는 반면, 나머지 장치들은 그들의 수명이 상당히 남는다. 하나의 장치가 수명이 다할 때, 전체 메모리 시스템이 교체되어야 할 수 있고, 이것은 플래시 메모리 시스템의 수명을 크게 감소시킨다.
재기록이 장치의 모든 셀에 균일하게 분배될 수 있으면, 각 셀은 자신이 허용 가능한 최대수의 소거에 근접하게 경험할 것이며, 그래서 고장의 징후가 가능한 많이 지연될 것이므로, 장치의 수명을 최대화시킨다. 장치의 모든 셀 전반에 걸쳐 균일한 사용에 의해 장치 수명을 연장하기 위해, 다수의 소거 횟수 평준화(wear-leveling) 기술 및 알고리즘이 플레시 메모리 시스템에 제안되어 실현되어 왔다.
앞 단락에서 설명한 판독/프로그램 및 소거 사이의 어레이 크기 불일치로 인한 블록 복사 동작은, 블록의 페이지 내의 영향을 받지 않는 데이터가 변경된 데이터로 새로운 블록에 재기록(복사)되어야 하기 때문에 불필요한 재기록을 도입한다. 따라서, 최소 소거 가능한 어레이 크기가 블록(즉, 블록 베이스의 소거) 대신에 페이지(즉, 페이지 베이스의 소거)이면, 재기록될 페이지만 소거될 필요가 있으므로, 장치 수명을 극적으로 연장시킬 수 있다. 또한, 블록 복사 동작의 수는 페이지 베이스의 소거에 의해 크게 감소될 것이다.
NAND 플래시 메모리 내의 각 NAND 셀 열은, 셀 기판이 장치의 NAND 셀 열 전반체 걸쳐 공통이더라도, 독립적으로 제어될 수 있다. 소거 동작 동안 블록 내의 모든 워드라인이 일반적인 NAND 플래시 장치에서의 동일한 전압 조건으로 바이어스된다. 이것이, 최소 소거 가능한 어레이 크기가 NAND 플래시 메모리 내에서 한 블록인 이유이다.
페이지 베이스로 플래시 메모리 셀을 소거하기 위해, NAND 셀 열의 페이지에 대응하는 각 워드라인은 별개로 및 독립적으로 제어되어야 한다.
페이지 소거 스킴 1
표 3 및 도 17은 페이지 소거 스킴 1에 따르는 페이지 소거 중의 바이어스 조건(예컨대, 워드라인 27의 소거)을 도시한다. 페이지 소거 스킴 1을 이용하면, 선택되지 않은 워드라인이 선택되지 않은 페이지(들)이 소거되는 것을 방지하기 위한 전압 예컨대, Vers로 바이어스되는 한편, 선택된 워드라인(들)은 선택된 페이지(들)을 소거하기 위한 다른 전압 예컨대, 0V로 바이어스된다.
도 17에 도시된 바와 같이, 선택된 블록 내에서,
· 선택된 블록 내의 선택된 워드라인(들)이 소거를 위해 0V로 바이어스되고,
· 선택된 블록 내의 선택되지 않은 워드라인(들)은 소거 금지를 위해 Vers로 바이어스된다.
선택되지 않은 블록 내의 메모리 셀의 소거를 방지하기 위해, 선택되지 않은 블록 내의 모든 워드라인들이 종래 기술 2와 동일하게, 소거 동작 중에 부동하는 한편, 표 3에 도시된 바이어스 조건이 도 18에 도시된 바와 같이 선택된 블록에 적용된다. 따라서, 선택되지 않은 블록 내의 부동하는 워드라인은 소거 전압(Vers)을 기판에 인가하고 있을 때 선택되지 않은 블록 내의 워드라인과 기판 사이의 용량성 결합에 의해 거의 소거 전압(Vers)으로 부스트된다. (셀 어레이의 기판이 Vers로 진행할 때 워드라인은 약 90%로 부스트되지만, 부동하는 워드라인의 부스트된 전압 레벨은 기판과 워드라인 사이의 결합비에 의해 결정된다.) 선택되지 않은 블록 내의 워드라인 상에서의 부스트된 전압은 기판과 워드라인 사이의 전계를 감소시키며, 그 결과, 선택되지 않은 블록 내의 메모리 셀의 소거가 방지된다.
· 선택되지 않은 블록 내의 모든 워드라인은 부동한다.
표 3. 페이지 소거 중의 바이어스 조건 - 페이지 소거
스킴
1
페이지 소거
스킴
2A 및 2B
페이지 소거 스킴 2A 및 2B에 대한 바이어스 조건은 아래와 같다:
· 셀 게이트(워드라인)이 음의 전압-V1(제1 레벨 전압)으로 바이어스된다.
· 셀 기판이 제2 레벨 전압으로 바이어스된다.
· 셀 게이트와 기판 사이의 전계가 셀의 터널 산화물을 통해 F-N 터널링을 초래하기 위한 요건을 충족해야 한다.
· 셀의 부동 폴리(즉, 부동 게이트) 내에 트랩된 전자(전하)가 터널 산화물을 기판에 방출된다.
· 0V의 셀 게이트 전압을 갖는 제2 레벨 전압의 최대는 선택되지 않은 이웃 하는 페이지 상에 셀 소거 방해(예컨대, 시프트하는 임계 전압 또는 소프트-소거)를 도입하지 않아야 한다.
· -V1 및 제2 레벨 전압이 프로세스 기술 및 셀 특성에 따라 변화될 수 있다.
도 19는 소거 동작 중에 선택된 블록 내의 선택된 페이지(이 예에서는 워드라인 27)에 대해 페이지 소거 스킴 2A를 갖는 전압 바이어스 조건을 도시한다. 선택된 워드라인 27(페이지)은 음의 전압 -18V(-V1)인 한편, 선택되지 않은 워드라인은 0V로 바이어스된다. 셀 어레이의 기판은 0V(V2=0V)로 바이어스된다. 또한, 전압은, 도 21 및 22와 표 5와 관련하여 아래에 설명하는 프로세스 기술 및 셀 특성에 따라 변화될 수 있다. 새로운 소거 조건에 의해, 선택된 페이지 내의 모든 셀들이 소거되는 한편, 선택되지 않은 페이지의 모든 셀은 셀 게이트와 기판 사이의 전계의 효과적이지 못한 크기로 인해 소거되지 않는다.
표 4와 도 20은 선택되 블록과 선택되지 않은 블록에 대한 바이어스 조건을 도시한다. 선택되지 않은 블록의 모든 워드라인은 소거 중에 부동하고, 따라서 기판이 0V로 바이어스되기 때문에 모든 워드라인의 전위는 0V로 유지되며, 선택되지 않은 블록의 모든 워드라인은 소거를 위해 부동하기 전에 0V로 방전된다.
표 4. 소거 중의 바이어스 조건 - 페이지 소거
스킴
2A
도 21은 소거 동작 중에 선택된 블록 내의 선택된 페이지(이 예에서는 워드라인 27)에 대한 페이지 소거 스킴 2B를 갖는 전압 바이어스 조건을 도시한다. 선택된 워드라인 27(페이지)은 음의 전압 -13V(-V1)로 바이어스되는 한편, 선택되지 않은 워드라인은 0V로 바이어스된다. 셀 어레이의 기판은 5V로 바이어스된다. 셀의 기판과 게이트 사이의 총 전계는 제1 예의 것과 동일하다. 기판으로의 전압은 동일한 NAND 셀 열에서의 선택되지 않은 워드라인(페이지) 상의 셀에 소거 방해(즉, 소프트-소거)를 도입하지 않도록 결정되어야 한다.
표 5 및 도 22는 선택된 블록 및 선택되지 않은 블록에 대한 바이어스 조건을 도시한다. 선택되지 않은 블록의 모든 워드라인은 소거 동작 중에는 부동하고, 선택되지 않은 블록의 모든 워드라인은 기판에 전압을 인가하고 있을 때 선택되지 않은 블록 내의 워드라인과 기판 사이의 용량성 결합에 의해 거의 기판 전압으로 부스트된다. (부스트된 전압은 기판 전압의 약 90%이지만, 부동하는 워드라인 상에서의 부스트된 전압 레벨은 워드라인과 기판 사이의 결합비에 의해 결정된다.) 선택되지 않은 블록 내의 워드라인 상의 부스트된 전압은 워드라인과 기판 사이의 전계를 감소시키며, 그 결과, 선택되지 않은 메모리 셀의 소거가 방지된다.
표 5. 소거 중의 바이어스 조건 - 페이지 소거
스킴
2B
다수 페이지 소거 및 블록 소거
새로운 페이지 소거 개념에 의해, 선택된 블록 내의 다수의 페이지(워드라인)가 소거될 수 있다. 실제로, 워드라인 전압의 선택적인 제어에 의해, 선택된 블록의 어느 하나 이상의 페이지가 소거될 수 있다. 또한, 선택된 블록의 전체 페 이지가 또한 소거될 수 있으며, 이것이 기본적으로 블록 소거이다.
도 23은 페이지 소거 스킴 1의 바이어스 조건을 사용하여 동시에 소거되는 선택된 블록 내의 3개의 페이지(워드라인 1, 27, 29)를 도시한다.
도 24는 페이지 소거 스킴 2A의 바이어스 조건을 사용하여 동시에 소거되는 선택된 블록 내의 3개의 페이지(워드라인 1, 27, 29)를 도시한다.
도 25는 페이지 소거 스킴 2B의 바이어스 조건을 사용하여 동시에 소거되는 선택된 블록 내의 3개의 페이지(워드라인 1, 27, 29)를 도시한다.
도 26은 블록 소거인 페이지 소거 스킴 2A의 바이어스 조건을 사용하여 동시에 소거되는 선택된 블록 내의 모든 페이지를 도시한다.
도 27은 블록 소거인 페이지 소거 스킴 2B의 바이어스 조건을 사용하여 동시에 소거되는 선택된 블록 내의 모든 페이지를 도시한다.
소거 검증
선택된 블록 내의 단일 페이지 또는 다수의 페이지 또는 모든 페이지를 소거한 후에, 소거된 셀이 판독되기에 적절한 임계 전압 마진을 갖는 것을 보증하도록 소거 검증이 실행되어야 한다. 이 소거 검증은 아래에 설명되는 페이지 버퍼에 의해 실행된다. 도 28, 도 29, 도 30, 및 표 6은 페이지 소거 검증 및 블록 소거 검증 중의 전압 바이어스 조건을 도시한다. 다수 페이지 검증을 위해, 각 선택된 페이지는 아마도 소거 후에 연속적으로(순차적으로) 검증되지만, 바람직한 방법에서는, 모두 한번에 검증된다. 표 6에서의 전압 수들(numbers)(즉, Vread, Versvf, Vcslevf 및 Vbersvf)은 프로세스 기술 및 셀 특성에 따라 변화될 수 있다.
도 28은 소스 바이어스 없는 단일 페이지 소거 검증을 도시하고, 도 29는 CSL로부터의 소스 바이어스를 갖는 단일 페이지 소거 검증을 도시한다. 도 30은 블록 소거 검증을 도시한다.
표 6. 소거 검증 중의 바이어스 조건
표 6의 최종 칼럼은 모든 워드라인이 선택되는 블록 소거 검증을 도시한다. 그들 조건은 종래의 블록 소거 검증과 비교될 수 있다. 0 볼트, 또는 덜 관용적인 검증에 있어서는, -1.5V와 같은 마이너스 전압이 각 워드라인에 인가된다. 도 10B를 참조함으로써 알 수 있는 바와 같이, 적절하게 소거된 메모리 셀은 워드라인에 인가된 0 볼트로 통전할 것이다. 그러나, 메모리 셀이 완전히 소거되지 않은 경우, 메모리 셀은 덜 또는 전혀 통전하지 않는다. 블록 소거 검증 시에, 완전히 통전하는 데 실패한 메모리 셀 중 어느 하나가 완전히 소거하는 데 실패한 것으로서 감지될 수 있는 비트라인 상에 더 높은 전압을 결과로서 생성한다.
그 페이지만이 소거된 단일 선택된 페이지에 의한 소거 검증의 경우에는, 열의 다른 메모리 셀의 각각이 온 상태나 오프 상태 중 어느 하나에 있을 수 있다. 그것을 설명하기 위해, 예컨대, 4∼5V의 고전압이 각각의 선택되지 않은 셀의 워드라인에 인가된다. 그 전압은 셀이 도 11B에 도시된 바와 같이 오프 상태로 프로그램되었을 때에도 임계 전압보다 더 높다. 따라서, 셀은 그것이 오프 상태로 프로그램된 경우에도 통전할 것이고, 모든 선택되지 않은 메모리 셀이 통전할 것이다. 선택된 워드라인을 0 볼트로 설정하면 바로 선택된 워드라인을 검증할 수 있게 된다.
열 내의 모든 선택되지 않은 셀의 높은 통전에 의해, 검증 동작 중에 일반적인 것보다 비트 라인 상에서 더 낮은 전압이 기대된다. 선택되지 않은 메모리 셀의 그 증가된 통전을 오프셋하기 위해, 표 6의 두 번째 칼럼에서의 -1.5V와 같은 음의 전압이 선택된 워드라인에 인가될 수 있거나, 표 6의 칼럼 1에 도시된 0.4V와 같은 0 볼트보다 더 큰 전압이 공통 소스 라인에 인가될 수 있다. 그 결과, 검증을 위해, 선택된 메모리 셀은 선택되지 않은 셀의 더 높은 컨덕턴스를 오프셋하도록 검증을 위해 더욱 도전성이어야 한다.
일반적으로 음의 전압보다는 양의 바이어스 전압을 생성하는 것이 바람직하 므로, 양의 공통 소스 바이어스에 의한 페이지 소거 검증이 일반적으로 바람직하다. 공통 소스 라인의 적절한 전압은 예를 들면, 단일 페이지에 대해 0.3V∼0.5V의 범위로 될 수 있다. 전체 블록 미만의 다수의 페이지 소거 검증을 위해서는, 더 낮은 전압이 적절하다. 예를 들면, 전체 블록 소거 검증을 위한 0V 공통 소스 전압 및 1 페이지 검증을 위한 0.5V에 의해, 첫 번째 페이지와 동시에 검증되는 각각의 부가적인 페이지에 대해 0.5/32의 증분만큼 0.5V로부터 소스 전압을 감소시키는 것이 적절할 수 있다. 그러한 소스 전압의 미세 제어는 불필요하다. 그러나, 0.5V의 소스 전압은 예를 들면, 한번에 0 내지 8의 선택된 워드라인의 검증에 사용될 수 있고, 0.4V는 9 내지 16의 선택 워드라인의 검증에 사용될 수 있으며, 0.3V는 17∼24 워드라인용으로, 그리고 0V는 25∼32 워드라인용으로 사용될 수 있다.
페이지 소거 흐름
프로그램 동작과 달리, 일반적으로 소거 동작은, 단일 소거 및 소거 검증 사이클 후에 셀의 임계 전압이 목표값으로 정확하게 분배되므로, 다수의 소거 및 소거 검증 사이클을 필요로 하지 않는다. 그러나, 다수의 소거 및 소거 검증 사이클이 또한 소거된 셀의 목표 임계 전압을 보증하기 위해 적용될 수도 있다.
도 31은 단일 소거 및 소거 검증 사이클을 사용하는 페이지 소거 흐름을 도시하는 한편, 도 32는 다수의 소거 및 소거 검증 사이클을 사용하는 페이지 소거 흐름을 도시한다. 다수의 소거 및 소거 검증 사이클 방법을 위한 소거 및 소거 검증 사이클의 최대수는 미리 정해지고, 프로세스 방법 및 셀 특성에 따라 변화된다. 이 페이지 소거 알고리즘(흐름)은 플래시 메모리 장치에서의 페이지 소거 명령을 발행한 후에 자동으로 실행된다.
도 31의 311에서, 전체 블록을 포함하여 전체 블록까지 하나 이상의 선택된 페이지가 소거된다. 312에서, 그 하나 이상의 페이지가 소거되었는지 검증된다. 313으로부터, 메모리가 검증을 패스하면, 상태 레지스터가 314에서 패스로 업데이트되고, 그렇지 않으면, 상태 레지스터가 315에서 실패로 업데이트된다.
이와 달리, 도 32에 도시된 바와 같이, 값 ERS_loop가 320에서 1로 설정된다. 313에서 패스하지 못한 경우에, ERS_loop 값은 321에서 최대값과 비교된다. 최대값이 도달되지 못한 경우, 322에서 그 값이 증가되어, 소거 및 검증 절차가 반복된다. 루프의 최대수에 도달되었으면, 315에서 레지스터에 실패가 나타난다.
이와 달리, 다수의 페이지 소거 후에, 각 선택된 페이지가 개별적으로 검증될 수도 있다. 개별 페이지의 순차적인 검증에 의해, 다수의 페이지 소거가 어느 한 페이지의 실패 후에 반복될 수 있거나, 실패한 페이지만 다시 소거될 수도 있다.
회로 실시의 예
도 33은 NAND 플래시 코어의 간략화된 블록도를 도시한다. NAND 셀 어레이(331)는 종래의 NAND 플래시처럼 n개의 블록(332)을 포함한다. 페이지 버퍼 회로(333)가 판독, 프로그램 검증 및 소거 검증 중에 셀 데이터를 감지하여 래치(latch)한다. 또한, 페이지 버퍼 회로는 입력 데이터를 일시적으로 보유하고, 프로그램 동작 중에 입력 데이터에 따라 비트라인의 전압을 결정한다. NAND 셀 어레이로부터의 모든 (j+k)*8 비트라인이 페이지 버퍼 회로에 접속된다. 각 NAND 셀 블록에 대응하는 블록 디코더(334)는 신호를 SSL(열 선택 라인), 워드라인 0(WL0) 내지 31(WL31) 및 GSL(접지 선택 라인)로서 제공한다. 블록 디코더는 로우 프리디코더(335)로부터의 로우 프리디코드된 어드레스 신호 Xp/Xq/Xr/Xt와, 공통 워드라인 디코더(336)로부터의 열 선택 신호 SS, 접지 선택 신호 GS 및 공통 열 디코드 신호 S0 내지 S31에 의해 구동된다. 기판 전압이 차지 펌프(337)로부터 PP-웰에 인가된다.
이 문서에서는, 입력 및 출력 회로, 제어 회로, 로우 및 칼럼 프리디코더 회로, 내부 고전압 발생기에 대해, 이들이 다수의 공개된 논문 및 특허에 잘 설명되어 있으므로, 설명하지 않는다. 참고로 전체적인 내용이 통합되어 있는 참조 문헌 Kang-Deog Suh 등의 1995년 4월의 "A 3.3 V 32 Mb NAND Flash Memory with Incremental Step Pulse Programming Scheme," IEEE J Solid-State Circuits, vol. 30, no. 11, pp.1149-1156, Jin-Ki Kim 등의, 1997년 4월의 "A 120-mm 64-Mb NAND Flash Memory Achieving 180 ns/Byte Effective Program Speed," IEEE J Solid-State Circuits, vol. 32, no. 5, pp. 670-680, Ken Takeuchi 등의, 2006년 2월의 "A 56nm CMOS 99mm2 8Gb Multi-level NAND Flash Memory with 10MB/s Program Throughput," ISSCC Dig. Tech. Paper, pp. 144-145, 및 June Lee 등의, 2003년 11월의 "A 90-nm CMOS 1.8-V 2-Gb NAND Flash Memory for Mass Storage Applications," IEEE J Solid- State Circuits, vol. 38, no. 11, pp. 1934-1942를 참조하라.
도 9의 종래의 플래시 장치에서와 같이, NAND 셀 어레이는 n개의 블록으로 이루어지고, 각 블록은 32(m)개의 소거 가능한 및 프로그램 가능한 페이지(즉, 워드라인)으로 세분할된다. NAND 셀 어레이 내에는 (j+k)*8개의 비트라인이 존재한다. 블록의 수 n, 페이지의 수 m 및(j+k)*8의 수는 변화될 수 있다는 점에 주의하라.
도 34는 본 발명에 대해 특히, 페이지 소거 스킴 1에 대해 가능한 예 중의 하나인 블록 디코더의 회로 개략도를 도시한다. 블록 디코더에 대한 회로 실시의 다수의 변형이 존재하는 것에 주의하라. 블록 디코더의 총 수는 n이다.
열 선택 라인 SSL, 워드라인 WL0 내지 WL31 및 접지 선택 라인 GSL은 블록 디코더의 출력 신호 BD_out에 의해 공통으로 제어되는 패스 트랜지스터 TSS, TS0 내지 TS31 및 TGS를 통해 SS, S0 내지 S31 및 GS의 공통 신호에 의해 구동된다.
로컬 차지 펌프(341)는 프로그램 전압(Vpgm), 패스 전압(Vpass), 판독 전압(Vread7), 및 소거 전압(Vers)을 제공하기 위한 고전압 스위칭 회로이다. 그 펌프는 인핸스먼트(enhancement) NMOS 트랜지스터(ENH), 디플리션(depletion) NMOS 트랜지스터(DEP), 네이티브(native) NMOS 트랜지스터(NAT) 및 2-입력 NAND 게이트(G1)로 이루어진다. 블록 디코더의 출력 신호 BD_out은 블록 디코더 래치 출력BDLCH_out이 Vdd이고, HVenb가 0V이며, OSC가 발진될 때 Vhv로 상승한다(주의: 로컬 차지 램프는 잘 알려진 회로 기술이다).
BDLCH_out은 블록 디코드 리셋 트랜지스터로의 RST_BD가 높을(실제로 단펄스) 때 0V로 리셋되고, 블록 디코드 인에이블 트랜지스터로의 LCHBD 입력이 NAND 게이트(G2)로의 Xp, Xq, Xr 및 Xt의 유효 로우 프리디코드된 어드레스 신호에 의해 높을(실제로 단펄스) 때 래치된다. BDLCH_out은 인버터(I1 및 I2)에 의해 래치된다.
도 35는 페이지 소거 스킴 2A 및 2B용의 블록 디코더의 회로 개략도를 도시한다. 블록 디코더에 대한 회로 실시의 다수의 변형이 존재하는 것에 주의하라. 블록 디코더의 총 수는 n이다.
열 선택 라인 SSL, 워드라인 WL0 내지 WL31 및 접지 선택 라인 GSL은 블록 디코더의 출력 신호 BD_out에 의해 공통으로 제어되는 패스 트랜지스터 TSS, TS0 내지 TS31 및 TGS를 통해 SS, S0 내지 S31 및 GS의 공통 신호에 의해 구동된다. 패스 트랜지스터 TSS, TS0 내지 TS31 및 TGS의 기판은 음의 고전압 Vnhv에 의해 제어된다.
고전압 레벨 시프터(351)는 양의 고전압 Vhv 및 음의 고전압 Vnhv를 제공하기 위한 고전압 스위칭 회로이다. 레벨 시프터 회로는 교차 결합되는 p-채널 트랜지스터(Q1 및 Q2)와 n-채널 풀 다운 장치(Q3 및 Q4)를 포함한다. Q3으로의 입력 및 I3이 높을 때, BD_out은 Vhv가 Q1을 통해 인가되고 있을 때 높아지고, 낮아질 때 Bd_out은 Q4를 통해 Vnhv로 낮아진다.
BD_out은 RST_BD가 높을(실제로 단펄스) 때 0V로 리셋되고, LCHBD가 게이트(G2)로의 Xp, Xq, Xr 및 Xt의 유효 로우 프리디코드된 어드레스 신호에 의해 높을(실제로 단펄스) 때 인버터(I1 및 I2)에 의해 래치된다.
표 7은 다양한 동작 모드에 대한 Vhv 및 Vnhv의 일례를 도시한다. 모든 전압 수들은 변경될 수 있다.
표 7.
Vhv
및
Vnhv
조건 - 페이지 소거
스킴
2A 및 2B
페이지 버퍼 및 칼럼 셀렉터 회로는 도 36에 도시된 바와 같이, 종래의 NAND 플래시에서와 동일하다. 또한 도 36에 도시된 페이지 버퍼 및 칼럼 셀렉터 회로는 이 발명에 대한 가능한 예들 중 하나이다.
하나의 페이지 버퍼는 하나의 비트라인에 대응한다. 그러나, 페이지 버퍼는 어레이 밀도가 증가할 때 다수의 비트라인에 의해 공유될 수 있다(그 전체 내용이 참고로 통합되어 있는 참조문헌 June Lee 등의, 2003년 11월의 "A 90-nm CMOS 1.8-V 2-Gb NAND Flash Memory for Mass Storage Applications," IEEE J Solid- State Circuits, vol. 38, no. 11, pp. 1934-1942를 참조하라.)
도 36의 페이지 버퍼 및 칼럼 셀렉터 회로는 판독, 프로그램 검증 및 소거 검증 동작에 사용된다. 소거 검증 동작에서, 래치는 노드 B를 높게 래치하도록 LCHDA에 의해 리셋된다. 비트라인 BL은 Vcc로 프리차지된다. 모든 선택된 메모리 셀이 적절히 소거되면, 메모리 셀의 열은 소거 검증 동작 중에 통전할 것이므로, 비트라인 및 노드 PBSO를 낮게 한다. 비트라인 분리 트랜지스터는 오프로 유지한다. 약 0.5v 미만의 PBSO에 의해, 래치 아래의 감지 트랜지스터가 턴 온하지 않 아, 노드 B가 높은 상태로 유지된다. B 노드 상의 고전압은 패스/실패 p-채널 감지 트랜지스터를 오프로 유지한다. 그 결과, 그 감지 트랜지스터는 초기에 접지된 라인 PASSb를 충전하지 않는다. 모든 열이 적절히 소거되면, 라인 PASSb가 낮은 상태로 유지되고, "패스"가 그 라인으로부터 감지된다.
반면에, 어떤 열이 완전히 소거되지 않았다면, 노드 PBSO 상의 전압은 LCHDB가 어써트되고(asserted) 있을 때 감지 트랜지스터를 턴 온시키기에 충분히 높게 유지된다. 그 결과, 노드 B가 낮아진다. 선택된 블록 내의 페이지 버퍼들 중 어느 하나 상에서 노드 B가 낮으면, 패스/실패 감지 트랜지스터는 턴 온하여 PASSb를 높은 레벨로 상승시킨다. 그 높은 레벨은 "실패"를 나타내도록 감지된다.
동작 시에:
· W/L0 내지 W/L31이 NAND 셀 열 내의 32개의 워드라인이다. SSL은 열 선택 라인이고 GSL은 접지 선택 라인이다. CSL은 공통 소스 라인이고 DL/DLb는 차이를 나타내는 데이터라인이다.
· CSL은 판독 동작 중에 0V로 바이어스되는 한편, CSL은 프로그램 중에 Vdd로 바이어스된다.
· YAh 및 YBi는 각각 칼럼 선택 신호의 제1 레벨 및 칼럼 선택 신호의 제2 레벨이다.
· 비트라인(BL)은 DCB가 높을 때 0V로 방전된다.
· PBSO는 페이지 버퍼의 감지 노드이다.
· PREBLb는 비트라인을 프리차지하기 위한 인에이블 신호이다.
· LCHDA 및 LCHDB는 PBSO 노드가 비트라인을 감지한 후 차이를 나타내는 충분한 전압을 가질 때, 데이터 래치 제어 신호이다. 또한, LCHDA 및 LCHDB는 페이지 버퍼 내에서 감지된 데이터의 극성(즉, 노드 A 및 노드 B)을 제어한다. 판독 및 프로그램 검증 중의 페이지 버퍼 상의 노드 A 및 B는 PBSO를 감지할 때 소거 검증 및 복사를 위한 판독 중의 노드 A 및 B와 반대이다.
· 페이지 버퍼 내의 래치는 비트라인 프리차지 트랜지스터에 의해 높은(Vdd) PBSO 노드와 함께 LCHDA 또는 LCHDB 중 어느 하나에 의해 리셋된다.
· ISOPBb는 비트라인으로부터 페이지 버퍼를 분리하기 위한 BL 분리 트랜지스터로의 제어 신호이다.
· PASSb는 프로그램 완료를 검출하기 위한 공통 감지 노드이다. 입력 데이터가 프로그램을 사용하는 내부 프로그램 알고리즘에 의해 셀에 성공적으로 기록되고 프로그램이 검증할 때, 모든 페이지 버퍼 내의 노드 B가 Vdd로 된다. 따라서, PASSb가 0V로 되어 감지 증폭기에 의해 감지된다. 유사하게, 모든 페이지 버퍼 내의 노드 B는 소거 중에 선택된 블록 내의 모든 열들이 성공적으로 소거되었는지를 검증하는 Vdd로 된다. 판독 사이클 중에, PASSb는 사용되지 않고, PASSb 상에서 감지 증폭기는 디스에이블된다.
소거 동작
도 37은 페이지 소거 스킴 1에 의한 페이지 소거 또는 다수의 페이지 소거의 코어 타이밍을 도시한다.
기본적으로, 소거 동작은 도 37에 도시된 소거 설정(t1 내지 t2), 소거(t2 내지 t3) 및 소거 복구(t3 내지 t4)와 같은 3개의 서브-기간으로 이루어진다.
소거 설정(
t1
내지
t2
):
· 블록 디코더는 RST_BD 펄스에 의해 리셋되고, 블록 디코더 내의 래치의 BDLCH_out은 0V로 된다.
· 블록 디코더의 래치 인에이블 신호 LCHBD는 로우 프리디코드된 신호 Xp/Xq/Xr/Xt가 유효이면 펄스화된다.
· 래치의 BDLCH_out은 로우 프리디코드된 신호 Xp/Xq/Xr/Xt가 일치할 때(Vhv가 소거 중에 Vers로 설정될 때) Vdd로 설정된다.
· 블록 디코더의 출력 신호 BD_out은 HVneb가 0V이고 OSC가 발진될 때 로컬 차지 펌프에 의해 (Vers+Vth)로 상승한다.
· 선택되지 않은 블록의 BD_out은 0V로 설정된다. 그 결과, 선택되지 않은 블록 내의 모든 워드라인들 SSL, GSL, CSL이 부동한다.
소거(
t2
내지
t3
):
· 이 기간 동안, 셀 기판(포켓 p-웰)이 Vers로 상승한다.
· 단일 페이지 소거를 위해 선택된 워드라인 또는 다수의 페이지 소거를 위해 선택된 워드라인들이 0V로 바이어스되는 한편, 선택되지 않은 워드라인들은 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31을 통해 S0 내지 S31의 공통 신호에 의해 Vers로 구동된다.
· 열 선택 라인 SSL, 접지 선택 라인 GSL 및 공통 선택 라인 CSL이 부동한다. SSL 및 GSL은 셀 기판이 Vers로 진행할 때 기판과 SSL/GSL 사이의 용량성 결 합에 의해 Vers의 거의 90%까지 부스트된다. CLS는 기판(PP-웰)으로부터 소스(n+)로의 접합 순방향 바이어스로 인해 Vers로 된다.
· 이 기간 동안, 선택된 페이지(페이지들) 상의 모든 셀들이 소거된다. 선택된 블록 내의 선택되지 않은 워드라인들 내의 메모리 셀들의 소거는 0 전계(즉, 워드라인 = Vers & 셀 기판 = Vers)에 의해 방지된다.
· 선택되지 않은 블록들 내의 모든 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31은 선택되지 않은 블록 디코더의 출력 BD_out에 의해 턴 오프된다. 그래서, 선택되지 않은 블록들 내의 모든 워드라인이 부동하여, 셀 기판과 워드라인 사이의 용량성 분리에 의해 거의 90%까지 부스트된다.
소거 복구(
t3
내지
t4
):
· 이 기간 동안, 셀 기판, 선택되지 않은 선택된 워드라인 SSL, GSL 및 CSL 상의 모든 고전압이 초기 상태(OV)로 방전된다.
도 38은 페이지 소거 스킴 2A에 의한 페이지 소거 또는 다수의 페이지 소거의 코어 타이밍을 도시한다.
소거 설정(t1 내지 t2):
· 블록 디코더는 RST_BD 펄스에 의해 리셋되고, 블록 디코더의 BD_out은 0V로 된다.
· 블록 디코더의 래치 인에이블 신호 LCHBD는 로우 프리디코드된 신호 Xp/Xq/Xr/Xt가 유효이면 펄스화된다.
· 블록 디코더의 BD_out은 로우 프리디코드된 신호 Xp/Xq/Xr/Xt가 일치할 때(Vhv가 소거 중에 Vdd로 설정될 때) Vdd로 설정된다.
· 선택되지 않은 블록의 BD_out은 Vnhv로 설정된다.
소거(
t2
내지
t3
):
· 패스 트랜지스터 TS, TS0 내지 TS31 및 TG의 기판이 음의 전압 -V1(-18V)를 패스하기 위해 Vnhv에 의해 -V1(-18V)로 바이어스된다.
· 이 기간 동안, 단일 페이지 소거를 위해 선택된 워드라인 또는 다수의 페이지 소거를 위해 선택된 워드라인들은 -V1(-18V)로 구동되는 한편, 선택되지 않은 워드라인들은 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31을 통해 S0 내지 S31의 공통 신호에 의해 0V로 바이어스된다.
· 열 선택 라인 SSL 및 접지 선택 라인 GSL이 0V로 바이어스된다.
· 선택되지 않은 블록 내의 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31의 게이트가 소거 설정 기간 동안 Vnhv로 바이어스되고, 이 기간 동안 Vnhv는 -V1(-18)로 된다. 따라서, 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31이 턴 오프되고 선택되지 않은 블록들 내의 모든 워드라인들이 부동한다.
· 이 기간 동안, 선택된 페이지(또는 페이지들) 상의 모든 셀들이 소거된다.
소거 복구(
t3
내지
t4
):
· 이 기간 동안, 선택된 워드라인 및 패스 트랜지스터의 기판 상의 음의 전압이 초기 상태(OV)로 복귀한다.
도 39는 -13V의 -V1 및 5V의 V2를 갖는 페이지 소거 스킴 2B를 사용하는 페 이지 소거 또는 다수의 페이지 소거의 코어 타이밍을 도시한다.
소거 설정(
t1
내지
t2
):
· 블록 디코더는 RST_BD 펄스에 의해 리셋되고, 블록 디코더의 BD_out은 0V로 된다.
· 블록 디코더의 래치 인에이블 신호 LCHBD는 로우 프리디코드된 신호 Xp/Xq/Xr/Xt가 유효이면 펄스화된다.
· 블록 디코더의 BD_out은 로우 프리디코드된 신호 Xp/Xq/Xr/Xt가 일치할 때(Vhv가 소거 중에 Vdd로 설정될 때) Vdd로 설정된다.
· 선택되지 않은 블록의 BD_out은 Vnhv로 설정된다.
소거(
t2
내지
t3
):
· 패스 트랜지스터 TS, TS0 내지 TS31 및 TG의 기판이 음의 전압 -V1(-13V)를 패스하기 위해 Vnhv에 의해 -V1(-13V)로 바이어스된다.
· 셀 어레이의 기판은 V2(5V)로 바이어스된다.
· 이 기간 동안, 단일 페이지 소거를 위해 선택된 워드라인 또는 다수의 페이지 소거를 위해 선택된 워드라인들은 -V1(-13V)로 구동되는 한편, 선택되지 않은 워드라인들은 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31을 통해 S0 내지 S31의 공통 신호에 의해 0V로 바이어스된다.
· 열 선택 라인 SSL 및 접지 선택 라인 GSL은 부동하여, 셀 어레이의 기판으로부터의 용량성 결합으로 인해 V2(5V)의 90%로 부스트된다.
· 공통 소스 라인 CSL 및 비트라인들은 셀 어레이의 기판으로부터의 순방향 접합 바이어스로 인해 V2(5V)이다.
· 선택되지 않은 블록 내의 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31의 게이트가 소거 설정 기간 동안 바이어스되고, 이 기간 동안 Vnhv는 -V1(-13)로 된다. 따라서, 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31이 턴 오프되고 선택되지 않은 블록들의 모든 워드라인들이 부동한다.
· 이 기간 동안, 선택된 페이지(또는 페이지들) 상의 모든 셀들이 소거된다.
소거 복구(
t3
내지
t4
):
· 이 기간 동안, 선택된 워드라인 및 패스 트랜지스터의 기판 상의 음의 전압이 초기 상태(OV)로 복귀한다.
· 셀 어레이, SSL, GSL, CSL의 기판 상의 전압이 초기 상태(0V)로 복귀한다.
페이지 소거 스킴 1을 사용한 블록 소거의 코어 타이밍은 참고로 그 전체 내용이 여기에 통합되어 있는 종래의 특허 5,472,563호의 것과 동일하다.
도 40은 -13V의 -V1 및 5V의 V2를 갖는 페이지 소거 스킴 2B를 사용하는 페이지 소거 또는 다수의 페이지 소거의 코어 타이밍을 도시한다.
소거 설정(
t1
내지
t2
):
· 블록 디코더는 RST_BD 펄스에 의해 리셋되고, 블록 디코더의 BD_out은 0V로 된다.
· 블록 디코더의 래치 인에이블 신호 LCHBD는 로우 프리디코드된 신호 Xp/Xq/Xr/Xt가 유효이면 펄스화된다.
· 블록 디코더의 BD_out은 로우 프리디코드된 신호 Xp/Xq/Xr/Xt가 일치할 때(Vhv가 소거 중에 Vdd로 설정될 때) Vdd로 설정된다.
· 선택되지 않은 블록의 BD_out은 Vnhv로 설정된다.
소거(
t2
내지
t3
):
· 패스 트랜지스터 TS, TS0 내지 TS31 및 TG의 기판이 음의 전압 -V1(-18V)를 패스하기 위해 Vnhv에 의해 -V1(-18V)로 바이어스된다.
· 이 기간 동안, 선택된 블록 내의 모든 워드라인은 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31을 통해 S0 내지 S31의 공통 신호에 의해 -V1(-18V)로 구동된다.
· 열 선택 라인 SSL 및 접지 선택 라인 GSL은 0V로 바이어스된다.
· 선택되지 않은 블록 내의 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31의 게이트가 소거 설정 기간 동안 Vnhv로 바이어스되고, 이 기간 동안 Vnhv는 -V1(-18)로 된다. 따라서, 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31이 턴 오프되고 선택되지 않은 블록들 내의 모든 워드라인들이 부동한다.
· 이 기간 동안, 선택된 페이지(또는 페이지들) 상의 모든 셀들이 소거된다.
소거 복구(
t3
내지
t4
):
· 이 기간 동안, 선택된 블록의 모든 워드라인 및 패스 트랜지스터의 기판 상의 음의 전압이 초기 상태(OV)로 복귀한다.
도 41은 -13V의 -V1 및 5V의 V2를 갖는 페이지 소거 스킴 2B를 사용하는 블 록 소거의 코어 타이밍을 도시한다.
소거 설정(
t1
내지
t2
):
· 블록 디코더는 RST_BD 펄스에 의해 리셋되고, 블록 디코더의 BD_out은 0V로 된다.
· 블록 디코더의 래치 인에이블 신호 LCHBD는 로우 프리디코드된 신호 Xp/Xq/Xr/Xt가 유효이면 펄스화된다.
· 블록 디코더의 BD_out은 로우 프리디코드된 신호 Xp/Xq/Xr/Xt가 일치할 때(Vhv가 소거 중에 Vdd로 설정될 때) Vdd로 설정된다.
· 선택되지 않은 블록의 BD_out은 Vnhv로 설정된다.
소거(
t2
내지
t3
):
· 패스 트랜지스터 TS, TS0 내지 TS31 및 TG의 기판이 음의 전압 -V1(-13V)를 패스하기 위해 Vwpt에 의해 -V1(-13V)로 바이어스된다.
· 셀 어레이의 기판은 V2(5V)로 바이어스된다.
· 이 기간 동안, 선택된 블록 내의 모든 워드라인은 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31을 통해 S0 내지 S31의 공통 신호에 의해 -V1(-13V)로 구동된다.
· 열 선택 라인 SSL 및 접지 선택 라인 GSL은 부동하여, 셀 어레이의 기판으로부터의 용량성 결합으로 인해 V2(5V)의 90%로 부스트된다.
· 공통 소스 라인 CSL은 셀 어레이의 기판으로부터의 접합 순방향 바이어스로 인해 V2(5V)이다.
· 선택되지 않은 블록 내의 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31의 게이트가 소 거 설정 기간 동안 바이어스되고, 이 기간 동안 Vnhv는 -V1(-13)로 된다. 따라서, 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31이 턴 오프되고 선택되지 않은 블록들의 모든 워드라인들이 부동한다.
· 이 기간 동안, 선택된 페이지(또는 페이지들) 상의 모든 셀들이 소거된다.
소거 복구(
t3
내지
t4
):
· 이 기간 동안, 선택된 블록의 모든 워드라인 및 패스 트랜지스터의 기판 상의 음의 전압이 초기 상태(OV)로 복귀한다.
· 셀 어레이, SSL, GSL, CSL의 기판 상의 전압이 초기 상태(0V)로 복귀한다.
소거 검증 동작
소거 검증 동작은 도 42, 도 43, 도 44 및 도 45에 도시된 소거 검증 설정(t1 내지 t2), BL 프리차지(t2 내지 t3), BL 감지(t3 내지 t4), 데이터 래치(t4 내지 t5) 및 소거 검증 복구(t5 내지 t6)와 같은 5개의 서브-기간으로 이루어진다.
도 42는 페이지 소거 스킴 1에 대한 페이지 소거 검증의 코어 타이밍을 도시한다. 여기에서 설명하는 전압원의 전압 레벨은 가능한 예이고 변경될 수도 있다.
페이지 소거 검증 설정(
t1
내지
t2
)
· 블록 디코더의 BD_out이 이전의 소거 동작 시에 Vdd로 설정된다(Vhv가 소거 검증 중에 Vdd로 설정된다).
· 선택되지 않은 블록의 BD_out은 이전의 소거 동작 시에 0V로 설정된다.
· 비트라인을 DCB 펄스에 의해 접지로 방전한다.
· 페이지 버퍼 내의 래치가 PREBLb 펄스와 함께 LCHDA 펄스에 의해 리셋된다. 이 짧은 펄스 기간 동안, PBSO 노드는 BL 프리차지 트랜지스터에 의해 Vdd이다. 노드 A 및 B는 각각 0V 및 Vdd로 리셋된다.
· PBSO 노드가 래치를 리셋한 후에, SELBL에 의해 0V로 방전된다.
BL
프리차지(
t2
내지
t3
)
· 블록 디코더의 BD_out은 HVneb가 0V이고 OSC가 발진될 때 로컬 차지 펌프에 의해 Vread7(∼7V)로 된다. 따라서, 선택된 블록 내의 패스 트랜지스터 TS, TS0 내지 TS31 및 TGS의 게이트가 Vread7(∼7V)로 상승한다.
· SSL, 선택되지 않은 워드라인 및 GSL은 SS, 선택되지 않은 S 및 GS에 의해 Vread(4∼5V)로 충전된다.
· 선택된 워드라인은 선택된 S에 의해 0V로 바이어스되는 한편, 선택된 블록의 CSL은 선택된 페이지의 음의 셀 Vth를 갖는 소거된 셀을 검증하기 위해 Vxslevf(∼0.4V)로 바이어스된다(즉, 음의 셀 Vth를 갖는 셀에 대한 소스 바이어스 감지 스킴).
· 비트라인은 PREBLb가 '저(Low)'로 될 때 소정의 프리차지 레벨(∼1.3V)로 프리차지된다. SELBL은 BL 선택 트랜지스터를 사용하여 비트라인 프리차지 레벨을 결정하는 Vblpre(∼2.3V)로 된다.
BL
감지(
t3
내지
t4
)
· 비트라인들은 BL 선택 트랜지스터를 디스에이블시킴(SELBL=0V)으로써 페 이지 버퍼로부터 분리되고, BL 프리차지 트랜지스터가 턴 오프된다.
· 프리차지된 비트라인의 레벨은 셀 상태에 의거하여 나타난다. 각 비트라인은, 셀이 여전히 오프-셀이고 프리차지된 비트라인 전압을 방전할 수 없기 때문에 그 셀이 완전히 소거되지 않으면 프리차지된 전압 레벨을 유지한다. 반면에, 셀이 완전히 소거되면, 셀은 온-셀이고 이 기간 동안 프리차지된 비트라인을 방전한다.
데이터 래치(
t4
내지
t5
)
· 이 기간 동안, SELBL이 비트라인과 PBSO 사이에서 용량성 분리를 가능하게 하는 Vbldcpl(∼1.3V)로 바이어스된다.
· 용량성 분리 감지 스킴에 의해, 소거된 셀(온-셀)의 비트라인에 대응하는 PBSO 노드 상의 전압이 선택된 비트라인에 비해 비교적 매우 작은 기생 용량을 갖는 감지 노드 PBSO와 비트라인 사이에서 공유하는 전하에 의해 빠르게 강하한다.
· 비트라인이 비트라인과 PBSO 노드 사이의 용량성 분리 동작에 의해 충분한 전압 레벨을 나타내면, 데이터 래칭 동작이 LCHDB 신호를 인에이블시킴으로써 실행한다.
· NAND 열 상의 불완전하게 소거된 셀로 인한 PBSO 노드에서의 Vdd의 전압은 페이지 버퍼 내의 감지 트랜지스터를 턴 온시킨다. 그 결과, 노드 A는 LCHDB가 인가되자마자 Vdd로부터 0V로 플립된다(노드 B는 0V로부터 Vdd로 플립된다).
· NAND 열 상의 소거된 셀(온-셀)로 인한 PBSO 노드에서의 저전압(0.3∼0.4V)은 페이지 버퍼 데이터에 영향을 주지 않는다. 따라서, 페이지 버퍼는 초기 상태를 유지한다(즉, 노드 A가 Vdd이고 노드 B가 0V이다).
· NAND 열 상의 선택된 셀이 성공적으로 소거되면, 노드 A와 노드 B는 소거 검증 중의 BL 감지 및 래치 동작 후에 각각 0V와 Vdd이다.
· NAND 열 상의 선택된 셀이 불완전하게 소거되면, 노드 A와 노드 B는 소거 검증 중의 BL 감지 및 래치 동작 후에 각각 Vdd와 0V이다.
페이지 소거 검증 복구(
t5
내지
t6
)
· 이 기간 동안, 모든 비트라인은, 페이지 버퍼 내의 모든 래치가 감지된 데이터를 유지하면서, DCB에 의해 방전된다.
· SSL, 선택되지 않은 워드라인들, GSL 및 CSL은 이 기간 동안 0V로 방전된다. 선택된 워드라인 및 패스 트랜지스터 TSS, TS0 내지 TS31 및 TGS의 기판도 또한 소거 검증 전압 Versvf로부터 0V로 복귀한다.
· 선택된 워드라인(페이지) 상의 모든 셀들이 성공적으로 소거되면, 모든 페이지 버퍼 내의 래치의 노드 A 및 노드 B가 각각 0V 및 Vdd로 설정된다. 따라서, PASSb 상의 모든 풀-업 PMOS 트랜지스터(패스/실패 감지 트랜지스터)가 각 PMOS 트랜지스터의 게이트가 래치의 노드 B에 접속되기 때문에 디스에이블된다. 마지막으로, PASSb가 소거 패스/실패 플래그를 생성하기 위한 검출 회로 내의 감지 증폭기에 의해 감지될 수 있다. PASSb를 감지하기 위한 감지 증폭기는 설명하지 않지만, 잘 알려진 간단한 감지 증폭기에 의해 실시될 수 있다.
다수의 페이지 소거 검증을 위해, 선택된 페이지들이 순차적으로 검증된다(즉, 페이지 베이스의 소거 검증).
도 43은 페이지 소거 스킴 1에 의한 블록 소거 검증의 코어 타이밍을 도시한다. 블록 소거 검증의 코어 신호 타이밍은 기본적으로 페이지 소거 검증의 것과 동일하다. 그러나, 차이점은:
· 선택된 블록(즉, NAND 셀 열)의 모든 셀이 도 43에 도시된 바와 같이 동시에 검증된다.
· 선택된 블록의 모든 워드라인이 소스 바이어스 없이 0V로(즉, CSL=0V) 또는 소스 바이어스로(즉, CSL=Vcslevf) 바이어스된다.
도 44는 페이지 소거 스킴 2A 및 2B에 대한 블록 소거 검증의 코어 타이밍을 도시한다. 여기에서 설명하는 전압원의 전압 레벨은 가능한 예이고 변경될 수 있다.
페이지 소거 검증 설정(
t1
내지
t2
)
· 블록 디코더의 BD_out이 이전의 소거 동작 시에 Vdd로 설정된다(Vhv가 소거 검증 중에 Vdd로 설정된다).
· 선택되지 않은 블록의 BD_out은 이전의 소거 동작 시에 Vnhv로 설정된다.
· 비트라인을 DCB 펄스에 의해 접지로 방전한다.
· 페이지 버퍼 내의 래치가 PREBLb 펄스와 함께 LCHDA 펄스에 의해 리셋된다. 이 짧은 펄스 기간 동안, PBSO 노드는 BL 프리차지 트랜지스터에 의해 Vdd이다. 노드 A 및 B는 각각 0V 및 Vdd로 리셋된다.
· PBSO 노드가 래치를 리셋한 후에, SELBL에 의해 0V로 방전된다.
BL
프리차지(
t2
내지
t3
)
· 이 기간 동안, Vhv는 Vread7(∼7V)로 되는 한편, Vnhv는 Versvf(∼-1.5V)로 된다. 따라서, 선택된 블록 내의 패스 트랜지스터 TS, TS0 내지 TS31 및 TGS의 게이트가 Vread7(∼7V)로 상승한다. 또한, 패스 트랜지스터의 기판은 Vnhv에 의해 Versvf(∼-1.5V)로 바이어스된다.
· SSL, 선택되지 않은 워드라인 및 GSL은 SS, 선택되지 않은 S 및 GS에 의해 Vread(4∼5V)로 충전된다.
· 선택된 워드라인은 선택된 S에 의해 소거 검증 전압 Versvf(∼-1.5V)로 바이어스된다.
· 비트라인은 PREBLb가 '저'로 될 때 소정의 프리차지 레벨로 프리차지된다. SELBL은 BL 선택 트랜지스터를 사용하여 비트라인 프리차지 레벨을 결정하는 Vblpre(∼2.1V)로 된다.
BL
감지(
t3
내지
t4
)
· 비트라인들은 BL 선택 트랜지스터를 디스에이블시킴(SELBL=0V)으로써 페이지 버퍼로부터 분리되고, BL 프리차지 트랜지스터가 턴 오프된다.
· 프리차지된 비트라인의 레벨은 셀 상태에 의거하여 나타난다. 각 비트라인은, 셀이 여전히 오프-셀이고 프리차지된 비트라인 전압을 방전할 수 없기 때문에 그 셀이 완전히 소거되지 않으면 프리차지된 전압 레벨을 유지한다. 반면에, 셀이 완전히 소거되면, 셀은 온-셀이고 이 기간 동안 프리차지된 비트라인을 방전한다.
데이터 래치(
t4
내지
t5
)
· 이 기간 동안, SELBL이 비트라인과 PBSO 사이에서 용량성 분리를 가능하게 하는 Vbldcpl(∼1.3V)로 바이어스된다.
· 용량성 분리 감지 스킴에 의해, 소거된 셀(온-셀)의 비트라인에 대응하는 PBSO 노드 상의 전압이 선택된 비트라인에 비해 비교적 매우 작은 기생 용량을 갖는 감지 노드 PBSO와 비트라인 사이에서 공유하는 전하에 의해 빠르게 강하한다.
· 비트라인이 비트라인과 PBSO 노드 사이의 용량성 분리 동작에 의해 충분한 전압 레벨을 나타내면, 데이터 래칭 동작이 LCHDB 신호를 인에이블시킴으로써 실행한다.
· NAND 열 상의 불완전하게 소거된 셀로 인한 PBSO 노드에서의 Vdd의 전압은 페이지 버퍼 내의 감지 트랜지스터를 턴 온시킨다. 그 결과, 노드 A는 LCHDB가 인가되자마자 Vdd로부터 0V로 플립된다(노드 B는 0V로부터 Vdd로 플립된다).
· NAND 열 상의 소거된 셀(온-셀)로 인한 PBSO 노드에서의 저전압(0.3∼0.4V)은 페이지 버퍼 데이터에 영향을 주지 않는다. 따라서, 페이지 버퍼는 초기 상태를 유지한다(즉, 노드 A가 Vdd이고 노드 B가 0V이다).
· NAND 열 상의 선택된 셀이 성공적으로 소거되면, 노드 A와 노드 B는 소거 검증 중의 BL 감지 및 래치 동작 후에 각각 0V와 Vdd이다.
· NAND 열 상의 선택된 셀이 불완전하게 소거되면, 노드 A와 노드 B는 소거 검증 중의 BL 감지 및 래치 동작 후에 각각 Vdd와 0V이다.
페이지 소거 검증 복구(
t5
내지
t6
)
· 이 기간 동안, 모든 비트라인은, 페이지 버퍼 내의 모든 래치가 감지된 데이터를 유지하면서, DCB에 의해 방전된다.
· SSL, 선택되지 않은 워드라인들, GSL 및 CSL은 이 기간 동안 0V로 방전된다. 선택된 워드라인 및 패스 트랜지스터 TSS, TS0 내지 TS31 및 TGS의 기판도 또한 소거 검증 전압 Versvf로부터 0V로 복귀한다.
· 선택된 워드라인(페이지) 상의 모든 셀들이 성공적으로 소거되면, 모든 페이지 버퍼 내의 래치의 노드 A 및 노드 B가 각각 0V 및 Vdd로 설정된다. 따라서, PASSb 상의 모든 풀-업 PMOS 트랜지스터(패스/실패 감지 트랜지스터)가 각 PMOS 트랜지스터의 게이트가 래치의 노드 B에 접속되기 때문에 디스에이블된다. 마지막으로, PASSb가 소거 패스/실패 플래그를 생성하기 위한 검출 회로 내의 감지 증폭기에 의해 감지될 수 있다. PASSb를 감지하기 위한 감지 증폭기는 설명하지 않지만, 잘 알려진 간단한 감지 증폭기에 의해 실시될 수 있다.
다수의 페이지 소거 검증을 위해, 선택된 페이지들이 순차적으로 검증된다(즉, 페이지 베이스의 소거 검증).
도 45는 블록 소거 검증의 코어 타이밍을 도시한다. 블록 소거 검증의 코어 신호 타이밍은 기본적으로 페이지 소거 검증의 것과 동일하다. 그러나, 차이점은:
· 선택된 블록(즉, NAND 셀 열)의 모든 셀이 도 45에 도시된 바와 같이 동시에 검증된다.
· 소거 검증 전압 Vbersvf가 소거된 셀 상의 임계 전압의 적절한 마진을 보증하도록 0V 또는 음의 전압일 수 있다.
· 소거 검증 전압 Vbersvf가 음의 전압이면, 패스 트랜지스터 TSS, TS0 내 지 TS31 및 TGS의 기판이 페이지 소거 검증의 조건과 유사한, Vnhv에 의해 Vbersvf로 바이어스될 것이다.
페이지 소거
스킴
3
표 8과 도 46 및 47은 페이지 소거 스킴 3에 따른 페이지 소거 중의 바이어스 조건을 도시한다. 페이지 소거 스킴 3에 의해, 선택되지 않은 워드라인들이 선택되지 않은 페이지(들)가 소거되는 것을 방지하기 위해 거의 소거 전압 Vers(셀 어레이의 기판이 Vers가 될 때 Vers의 %, =기판과 워드라인 사이의 결합비)로 부스트되는 한편, 선택된 워드라인(들)은 선택된 페이지(들)를 소거하기 위한 다른 전압 예컨대, 0V로 바이어스된다.
도 46 및 47에 도시된 바와 같이, 선택된 블록 내에서,
· 선택된 블록 내의 선택된 워드라인(들)은 소거를 위해 0V로 바이어스된다.
· 선택된 블록 내의 선택되지 않은 워드라인(들)은 소거 금지를 위해 Vers의 %로 프리차지되어 부스트된다(부동하는 워드라인 상의 부스트된 전압 레벨은 기판과 워드라인 사이의 결합비 에 의해 결정된다, ∼90%).
선택되지 않은 블록 내의 메모리 셀의 소거를 방지하기 위해, 선택되지 않은 블록 내의 모든 워드라인은 소거 동작 중에 부동하며, 그것은 특허 5,473,563호의 종래 기술과 같다. 따라서, 선택되지 않은 블록 내의 부동하는 워드라인은 소거 전압 Vers가 기판에 인가될 때 선택되지 않은 블록 내의 워드라인과 기판 사이의 용량성 결합에 의해 거의 소거 전압 Vers로 부스트된다. (워드라인들은 셀 어레이의 기판이 Vers로 될 때 Vers의 %로 부스트되지만, 부동하는 워드라인 상의 부스트된 전압 레벨은 기판과 워드라인 사이의 결합비에 의해 결정된다.) 선택되지 않은 블록 내의 워드라인 상의 부스트된 전압은 기판과 워드라인 사이의 전계를 감소시키며, 그 결과, 선택되지 않은 블록 내의 메모리 셀의 소거가 방지된다.
· 선택되지 않은 블록 내의 모든 워드라인이 부동한다.
표 8. 페이지/멀티페이지 소거 중의 바이어스 조건 - 페이지 소거
스킴
3
도 48 및 49는 선택되지 않은 블록, 및 선택된 블록 내의 선택된 페이지와 선택되지 않은 페이지에 대한 페이지 소거 조건을 도시한다.
· 열 선택 라인 SSL, 워드라인 WL0 내지 WL31 및 접지 선택 라인 GSL이 블 록 프리-디코더의 출력 신호 BD_out에 의해 공통으로 제어되는 패스 트랜지스터 TSS, TS0 내지 TS31 및 TGS를 통해 SS, S0 내지 S31 및 GS의 공통 신호에 의해 구동된다.
· SS, S0 내지 S31 및 GS의 공통 신호는 전체 블록의 패스 트랜지스터 TSS, TS0 내지 TS31 및 TGS의 드레인에 접속된다.
· 공통 소스 라인 CSL은 전체 블록을 가로질러 접속된다.
· 선택된 페이지에 대응하는 선택된 공통 신호 S(이 예에서는 S27)은 0V로 바이어스되는 한편, 선택되지 않은 공통 신호들 S(S0∼S26 및 S28∼S31), SS 및 GS는 V1로 바이어스된다. 공통 소스 라인 CSL은 부동한다.
· 모든 패스 트랜지스터 TSS, TS0 내지 TS31 및 TGS의 게이트에 접속되는 선택되지 않은 블록 프리-디코더의 선택되지 않은 출력 신호 BD_out n-1은 0V이다. 따라서, 선택되지 않은 블록 내의 열 선택 라인 SSL, 워드라인 WL0 내지 WL31 및 접지 선택 라인 GSL이 초기에 부동하여, 셀 기판(포켓 p-웰)이 Vers로 상승할 때 셀 기판과 워드라인 사이의 용량성 결합에 의해 소거 전압 Vers의 거의 90%()까지 부스트된다. 선택되지 않은 블록 내의 모든 워드라인 상의 이 부스트된 전압이 셀 소거를 방지한다.
· 모든 패스 트랜지스터 TSS, TS0 내지 TS31 및 TGS의 게이트에 접속되는 선택된 블록 프리-디코더의 출력 신호 BD_out은 V2이다. 따라서, 선택된 워드라인(이 예에서는 W/L27)은, 선택된 페이지 상의 셀을 소거하는 패스 트랜지스터 TS27을 통해 공통 신호 S27에 의해 구동되는 0V로 바이어스된다.
· 선택된 블록 내의 선택되지 않은 워드라인(W/L0∼W/L26 및 W/L28∼W/L31)은 초기에 패스 트랜지스터 TS0∼TS26 및 TS28∼TS31을 통해 공통 신호 S0∼S26 및 S28∼S31에 의해 V2-Vtn(Vtn: 패스 트랜지스터 TS0 내지 TS31의 임계 전압)으로 바이이어스된다(즉, 패스 트랜지스터 드레인=V1, 게이트=V2, 소스=V2-Vtn 및 V1≥V2). 그 후에, 선택되지 않은 워드라인이, 셀 기판(포켓 p-웰)이 Vers로 상승할 때 셀 기판과 워드라인 사이의 용량성 결합에 의해 부스트된다. 선택되지 않은 워드라인(즉, 패스 트랜지스터의 소스)가 부스트될 때, 패스 트랜지스터(TS0∼TS26 및 TS28∼TS31)가 패스 트랜지스터 상의 바이어스 조건: Vers(부스트된 전압)의 드레인=V1, 게이트=V2, 및 소스=()로 인해 완전히 차단(shut off)된다. 따라서, 선택되지 않은 블록 내의 선택되지 않은 워드라인 상의 부스트된 고전압이 소거 중에 유지되어 셀 소거를 방지한다.
· V1은 패스 트랜지스터를 통해 부스트된 전압의 누설을 방지하고, 워드라인이 부스트할 수 있게 하기 위해 V2 이상이어야 한다.
V1 및 V2를 선택할 때, 용량성 결합 계수 가 개별 워드라인 선택에 의존하는 것이 실현되어야 한다. 반면에, 선택되지 않은 블록에서는, 는 각 워드라인에서 대략 90%이고, 는 선택된 워드라인에 인접하게 감소될 수 있다. 결합은 회로 특성에 의존하지만, 도 50에 도시된 바와 같이 를 50%까지 감소시킬 수도 있다. 감소된 결합이 주어지면, 워드라인의 초기 전압은 워드라인이 소거를 방지하는 레벨로 부동하는 것을 보증하기 위해 더 높아져야 한다.
부동을 가능하게 하기 위해, 패스 트랜지스터 내의 드레인에 인가되는 V1은 게이트에 인가되는 V2보다 더 커야 한다. 따라서:
V1≥V2,
Vers≥V2>Vcc
V2가 Vcc와 동일하기만 했다면, 워드라인 WL28(선택된 페이지에 인접함) 및 워드라인 WL27(선택된 페이지로부터 떨어짐)의 아래의 부스트된 전압은 결과를 생성할 수 있다:
Vtn=0.8V, Vcc=2.5V, Vers=20V 및 V2=Vcc=2.5V이면
(2.5V-0.8V)+0.5*(20V-1.7V)=10.85V
(2.5V-0.8V)+0.9*(20V-1.7V)=18.17V
WL27은 Vers에 가깝게 부스트되고, 따라서 불의의 소거를 방지하는 것을 알 수 있다. 그러나, 워드라인 WL28은 워드라인과 기판 전압 Vers 사이에 >9볼트 차를 초래하는 <11볼트로만 상승된다. 그 결과, WL28의 불의의 소거가 있음직하다. 소거를 안전하게 방지하기 위해, 워드라인은 적어도 약 70% Vers 또는 이 예에서는 14볼트로 되어야 한다.
게이트 전압 V2를 상승시키고 그에 따라 드레인 전압 V1을 상승시킴으로써, 워드라인 상의 초기 전압이 더 높으며, 따라서 부스트된 전압이 의 감소에도 불구하고 더 높다. 10볼트의 더 높은 전압 V2에 의해, 이 예에서는 아래의 결과를 생성한다:
Vtn=0.8V, Vcc=2.5V, Vers=20V 및 V2=10V이면
(10V-0.8V)+0.5*(20V-9.2V)=14.6V
(10V-0.8V)+0.9*(20V-9.2V)=18.92V
이 경우에, 인접한 워드라인 WL28 상의 부스트된 전압은 14.6v에서 충분히 높다. 의 감소된 값 및 워드라인과 기판 사이의 허용 가능한 전압차는 변화하며, 따라서 V2의 허용 가능한 레벨을 변화시킨다. 그러나, 일반적으로, V2는 적어도 약 50% Vers이어야 한다. 더욱 일반적으로는, V2 및 그에 따라 V1이 선택된 워드라인의 패스 트랜지스터에 인가되는 선택 전압에 보다는 기판 전압에 더 가까워야 한다.
도 49는 페이지 소거 스킴 3의 바이어스 조건을 사용하여 동시에 선택된 블록내의 다수의 페이지들(워드라인들 1, 27, 29)이 소거되는 것을 도시한다.
앞서 설명한 도 34는 V1>V2이면서 페이지 소거 스킴 3에 대한 가능한 예 중 하나인 블록 디코더의 회로 개략도를 도시한다.
BDLCH_out은 RST_BD가 높을 때(실제로 단펄스일 때) 0V로 리셋되고, Xp, Xq, Xr 및 Xt의 유효 로우 프리디코드된 어드레스 신호에 의해 LCHBD가 높을 때(실제로 단펄스일 때) 래치된다.
블록 프리-디코더의 최종 출력 신호 BD_out은 모든 패스 트랜지스터 TSS, TS0 내지 TS31 및 TGS의 게이트에 공통으로 접속된다. 열 선택 라인 SSL, 워드라인 WL0 내지 WL31 및 접지 선택 라인 GSL은 블록 프리-디코더의 출력 신호 BD_out에 의해 공통으로 제어되는 패스 트랜지스터를 통해 SS, S0 내지 S31 및 GS의 공통 신호에 의해 구동된다.
로컬 차지 펌프는 블록 디코더의 출력 신호 BD_out에 V2를 제공하기 위한 고전압 스위칭 수단이다. 그 펌프는 인핸스먼트 NMOS 트랜지스터, 디플리션 NMOS 트랜지스터(DEP), 네이티브 NMOS 트랜지스터(NAT) 및 2-입력 NAND 게이트로 이루어진다. 블록 디코더의 출력 신호 BD_out은 블록 디코더 래치 출력 BDLCH_out이 Vdd이고, HVenb가 0V이며, OSC가 발진될 때, Vhv(=V2)로 상승한다.
도 51은 페이지 소거 스킴 3에 의한 페이지 소거 또는 다수의 페이지 소거의 코어 타이밍을 도시한다.
기본적으로, 소거 동작은 도 51에 도시된 소거 설정(t1 내지 t2), 소거(t2 내지 t3) 및 소거 복구(t3 내지 t4)와 같은 3개의 서브-기간으로 이루어진다.
소거 설정(t1 내지 t2):
· 블록 디코더 래치는 RST_BD 펄스에 의해 리셋되고, 블록 디코더 내의 래치의 BDLCH_out은 0V로 된다.
· 블록 디코더의 래치 인에이블 신호 LCHBD는 로우 프리디코드된 신호 Xp/Xq/Xr/Xt가 유효이면 펄스화된다.
· 래치의 BDLCH_out은 로우 프리디코드된 신호 Xp/Xq/Xr/Xt가 일치할 때(즉, 선택될 때) Vdd로 설정된다.
· 블록 프리-디코더의 출력 신호 BD_out은 V2이다.
· 선택된 페이지에 대응하는 선택된 공통 신호 S는 0V로 설정되는 한편, 선택되지 않은 공통 신호들 S, SS 및 GS는 V1로 설정된다. 공통 소스 라인 CSL은 부동한다.
· 선택되지 않은 블록의 BD_out은 0V로 설정된다. 그 결과, 선택되지 않은 블록 내의 모든 워드라인들 SSL, GSL, CSL이 부동한다.
· 선택된 블록의 BD_out은 V2로 설정되고, 모든 패스 트랜지스터 SST, TS0 내지 TS31, GST는 턴 온된다. 따라서, 선택된 워드라인(들)은 0V로 바이어스되는 한편 선택되지 않은 워드라인 SSL, GSL은 V2-Vtn(Vtn: 패스 트랜지스터의 임계 전압)으로 프리차지된다.
소거(t2 내지 t3):
· 이 기간 동안, 셀 기판(포켓 p-웰)이 소거 전압 Vers로 상승한다.
· 선택된 블록 내에서 단일 페이지 소거를 위해 선택된 워드라인 또는 다수의 페이지 소거를 위해 선택된 워드라인들이 0V로 바이어스된다.
· 선택된 블록 내의 열 선택 라인 SSL, 접지 선택 라인 GSL 및 공통 선택 라인 CSL이 초기에 V2-Vtn으로 프리차지된 후, SSL 및 GSL은 셀 기판이 Vers로 될 때 SSL/GSL 및 기판과 워드라인 사이의 용량성 결합에 의해 Vers의 %까지 부스트 된다(부동하는 워드라인 상의 부스트된 전압 레벨은 기판과 워드라인 사이의 결합비()에 의해 결정된다).
· CLS 및 모든 비트라인(BLS)은 기판(PP-웰)으로부터 소스(n+)로의 접합 순방향 바이어스로 인해 Vers로 된다.
· 이 기간 동안, 선택된 페이지(페이지들) 상의 모든 셀들이 소거된다. 선택된 블록 내의 선택되지 않은 워드라인들 내의 메모리 셀들의 소거는 부스트된 워드라인 전압에 의해 방지된다.
· 선택되지 않은 블록들 내의 모든 워드라인들 SSL, GSL, CSL은 셀 기판이 Vers로 될 때 SSL/GSL 및 기판과 워드라인 사이의 용량성 결합에 의해 Vers의 %까지 부스트된다.
· 선택되지 않은 워드라인들(즉, 패스 트랜지스터들의 드레인)이 부스트될 때(즉, 패스 트랜지스터의 소스>V2-Vtn), 패스 트랜지스터들(TS0∼TS26 및 TS28∼TS31)은 패스 트랜지스터들 상의 바이어스 조건으로 인해 완전히 차단된다: 드레인=V1≥V2, 게이트=V2, 및 소스=Vers(부스트된 전압). 따라서, 선택되지 않은 블록들 내의 선택되지 않은 워드라인 상의 부스트된 고전압이 소거 중에 유지되어, 셀 소거를 방지한다.
소거 복구(t3 내지 t4):
· 이 기간 동안, 셀 기판, 선택되지 않은 선택된 워드라인 SSL, GSL 및 CSL 상의 모든 고전압이 초기 상태(OV)로 방전된다.
본 발명은 특히 그 예시적인 실시예를 참조하여 도시 및 설명되었지만, 당업자라면 첨부된 청구항들에 포함되는 발명의 범위로부터 벗어남 없이 형태 및 세부사항의 다양한 변경이 이루어질 수 있음을 이해할 것이다.
Claims (60)
- 기판 상의 복수의 메모리 셀의 열들, 메모리 셀들의 페이지들까지 상기 열들을 가로지르는 워드라인들 및 각 워드라인에 전압을 인가하는 패스 트랜지스터를 갖는 비휘발성 메모리 어레이 내에서 페이지를 소거하는 방법으로서,선택된 블록의 각 패스 트랜지스터를 작동시키는 단계;상기 선택된 블록의 복수의 선택된 워드라인의 각각에서, 상기 패스 트랜지스터에 공통 선택 전압을 인가하는 단계;상기 선택된 블록의 복수의 선택되지 않은 워드라인의 각각에서, 상기 패스 트랜지스터에 공통 비선택 전압을 인가하는 단계; 및상기 선택된 블록의 상기 기판에 기판 전압을 인가하는 단계를 포함하며,상기 기판 전압과 각 선택된 워드라인의 전압 사이의 전압차가 상기 선택된 워드라인의 메모리 셀들의 상기 페이지를 소거시키고,상기 기판 전압과 각 선택되지 않은 워드라인의 전압 사이의 전압차는 상기 선택되지 않은 워드라인의 메모리 셀들의 상기 페이지를 소거하는 전압차 미만인, 페이지 소거 방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 선택 전압 및 상기 비선택 전압은, 상기 비선택 전압이 어떤 다른 패스 트랜지스터에 인가될 때, 상기 패스 트랜지스터들 중 어느 것에 상기 선택 전압을 인가하기 위한 워드라인 디코더를 통해 상기 선택된 블록의 상기 패스 트랜지스터들에 인가되는, 페이지 소거 방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 선택된 워드라인들은 적어도 하나의 선택되지 않은 워드라인에 의해 분리되는 선택된 워드라인들을 포함하는, 페이지 소거 방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 선택되지 않은 워드라인들은 적어도 하나의 선택된 워드라인에 의해 분리되는 선택되지 않은 워드라인들을 포함하는, 페이지 소거 방법.
- 청구항 1에 있어서, 각 선택된 워드라인의 전압은 상기 선택 전압과 동일하고, 각 선택되지 않은 워드라인의 전압은 상기 비선택 전압과 동일한, 페이지 소거 방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 선택 전압은 0V이고, 상기 비선택 전압은 상기 인가된 기판 전압과 동일한, 페이지 소거 방법.
- 청구항 1에 있어서, 각 선택된 워드라인의 전압은 상기 선택 전압과 동일하고, 각 선택되지 않은 워드라인은, 각 선택되지 않은 워드라인의 전압이 상기 비선택 전압 및 상기 기판 전압 사이의 전압이 되도록, 부동(float)하는, 페이지 소거 방법.
- 청구항 7에 있어서, 상기 선택된 블록의 각 패스 트랜지스터로의 공통 게이트 신호는 값 V2를 갖고, 상기 비선택 전압은 V2 보다 크며, 상기 선택되지 않은 워드라인은 V2-Vtn으로 프리차지(precharge)되고, V2는 상기 인가된 기판 전압보다 작은, 페이지 소거 방법.
- 청구항 8에 있어서, V2는 상기 인가된 기판 전압의 적어도 50%인, 페이지 소거 방법.
- 청구항 8에 있어서, 선택되지 않은 블록 내에서, 워드라인들로의 모든 패스 트랜지스터들은, 상기 비선택 전압 미만의 전압이 각 패스 트랜지스터에 인가된 후에 게이트 오프(gated off)되고, 상기 워드라인들은 소거를 방지하기 위해 부동(float)하는, 페이지 소거 방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 비선택 전압은 상기 선택 전압에 보다는 상기 기판에 인가되는 전압에 더 가까운, 페이지 소거 방법.
- 기판 상의 복수의 메모리 셀의 열들, 메모리 셀들의 페이지들까지 상기 열들을 가로지르는 워드라인들 및 각 워드라인에 전압을 인가하는 패스 트랜지스터를 갖는 비휘발성 메모리 어레이 내에서 페이지를 소거하는 방법으로서,선택된 블록의 각 패스 트랜지스터를 작동시키는 단계;상기 선택된 블록의 적어도 하나의 선택된 워드라인의 각각에서, 상기 패스 트랜지스터에 선택 전압을 인가하는 단계;상기 선택된 블록의 적어도 하나의 선택되지 않은 워드라인의 각각에서, 상기 패스 트랜지스터에 비선택 전압을 인가하는 단계; 및상기 선택된 블록의 상기 기판에 기판 전압을 인가하는 단계를 포함하며,상기 비선택 전압은 상기 선택 전압에 보다는 상기 인가된 기판 전압에 더 가깝고, 상기 기판 전압과 각 선택된 워드라인의 전압 사이의 전압차가 상기 선택된 워드라인의 메모리 셀들의 상기 페이지를 소거시키고,상기 기판 전압과 각 선택되지 않은 워드라인의 전압 사이의 전압차는 상기 선택되지 않은 워드라인의 메모리 셀들의 상기 페이지를 소거하는 전압차 미만인, 페이지 소거 방법.
- 청구항 12에 있어서, 상기 선택 전압 및 상기 비선택 전압은, 상기 비선택 전압이 어떤 다른 패스 트랜지스터에 인가될 때, 상기 패스 트랜지스터들 중 어느 것에 상기 선택 전압을 인가하기 위한 워드라인 디코더를 통해 상기 선택된 블록의 상기 패스 트랜지스터들에 인가되는, 페이지 소거 방법.
- 청구항 12에 있어서, 상기 선택된 워드라인들은 적어도 하나의 선택되지 않은 워드라인에 의해 분리되는 선택된 워드라인들을 포함하는, 페이지 소거 방법.
- 청구항 12에 있어서, 상기 선택되지 않은 워드라인들은 적어도 하나의 선택된 워드라인에 의해 분리되는 선택되지 않은 워드라인들을 포함하는, 페이지 소거 방법.
- 기판 상의 복수의 메모리 셀의 열들, 메모리 셀들의 페이지들까지 상기 열들을 가로지르는 워드라인들 및 각 워드라인에 전압을 인가하는 패스 트랜지스터를 갖는 비휘발성 메모리 어레이 내에서 페이지를 소거하는 방법으로서,선택된 블록의 각 패스 트랜지스터를 작동시키는 단계;상기 패스 트랜지스터들 중 어느 것에 상기 선택 전압을 인가하고, 상기 패스 트랜지스터들 중 어느 다른 것에 선택되지 않은 전압을 인가하기 위한 워드라인 디코더를 통해:상기 선택된 블록의 복수의 선택된 워드라인의 각각에서, 상기 패스 트랜지스터에 선택 전압을 인가하고;상기 선택된 블록의 복수의 선택되지 않은 워드라인의 각각에서, 상기 패스 트랜지스터에 비선택 전압을 인가하는 단계; 및상기 선택된 블록의 상기 기판에 기판 전압을 인가하는 단계를 포함하며,상기 기판 전압과 각 선택된 워드라인의 전압 사이의 전압차가 상기 선택된 워드라인의 메모리 셀들의 상기 페이지를 소거시키고,상기 기판 전압과 각 선택되지 않은 워드라인의 전압 사이의 전압차는 상기 선택되지 않은 워드라인의 메모리 셀들의 상기 페이지를 소거하는 전압차 미만인, 페이지 소거 방법.
- 청구항 16에 있어서, 상기 선택된 워드라인들은 적어도 하나의 선택되지 않은 워드라인에 의해 분리되는 선택된 워드라인들을 포함하는, 페이지 소거 방법.
- 청구항 16에 있어서, 상기 선택되지 않은 워드라인들은 적어도 하나의 선택된 워드라인에 의해 분리되는 선택되지 않은 워드라인들을 포함하는, 페이지 소거 방법.
- 청구항 16에 있어서, 상기 비선택 전압은 상기 선택 전압에 보다는 상기 기판에 인가되는 전압에 더 가까운, 페이지 소거 방법.
- 기판 상의 복수의 메모리 셀의 열들, 메모리 셀들의 페이지들까지 상기 열들을 가로지르는 워드라인들을 포함하는 메모리 어레이;각 워드라인으로의 패스 트랜지스터;소거 동작 중에 선택된 블록 내의 각 패스 트랜지스터를 작동시키는 블록 디코더;상기 소거 동작 중에 상기 기판에 소거 전압을 인가하는 기판 전압원; 및상기 선택된 블록 내의 소거될 페이지의 각 패스 트랜지스터에 공통 선택 전압을, 그리고 상기 선택된 블록 내의 각 다른 페이지의 각 워드라인에 공통 비선택 전압을 인가하는 워드라인 디코더를 포함하며, 상기 워드라인 디코더는 어드레스 명령들에 응답하여 상기 선택된 블록의 복수의 워드라인에 상기 선택 전압을 인가하고 상기 선택된 블록의 복수의 워드라인에 상기 비선택 전압을 인가하는, 비휘발성 메모리.
- 청구항 20에 있어서, 상기 워드라인 디코더는 상기 워드라인들 중 어느 것에 상기 선택 전압을 인가하고, 상기 워드라인들 중 어느 것에 상기 비선택 전압을 인가하기 위한 것인, 비휘발성 메모리.
- 청구항 20에 있어서, 상기 비선택 전압은 상기 선택 전압에 보다는 상기 기판에 인가되는 소거 전압에 더 가까운, 비휘발성 메모리.
- 기판 상의 복수의 메모리 셀의 열들, 메모리 셀들의 페이지들까지 상기 열들을 가로지르는 워드라인들을 포함하는 메모리 어레이;각 워드라인으로의 패스 트랜지스터;소거 동작 중에 선택된 블록 내의 각 패스 트랜지스터를 작동시키는 블록 디코더;상기 소거 동작 중에 상기 기판에 소거 전압을 인가하는 기판 전압원; 및상기 선택된 블록 내의 소거될 페이지의 각 패스 트랜지스터에 선택 전압을, 그리고 상기 선택된 블록 내의 각 다른 페이지의 각 워드라인에 비선택 전압을 인가하는 워드라인 디코더를 포함하며, 상기 비선택 전압은 상기 선택 전압에 보다는 상기 소거 전압에 더 가까운, 비휘발성 메모리.
- 청구항 23에 있어서, 상기 워드라인 디코더는 상기 워드라인들 중 어느 것에 상기 선택 전압을 인가하고, 상기 워드라인들 중 어느 것에 상기 비선택 전압을 인가하기 위한 것인, 비휘발성 메모리.
- 청구항 23에 있어서, 각 선택된 워드라인의 전압은 상기 선택 전압과 동일하고, 각 선택되지 않은 워드라인의 전압은 상기 비선택 전압과 동일한, 비휘발성 메모리.
- 청구항 23에 있어서, 각 선택된 워드라인의 전압은 상기 선택 전압과 동일하고, 각 선택되지 않은 워드라인은, 각 선택되지 않은 워드라인의 전압이 상기 비선택 전압 및 상기 기판 전압 사이의 전압이 되도록, 부동(float)하는, 비휘발성 메모리.
- 청구항 26에 있어서, 상기 선택된 블록의 각 패스 트랜지스터로의 공통 게이트 신호는 값 V2를 갖고, 상기 비선택 전압은 V2 보다 크며, 상기 선택되지 않은 워드라인은 V2-Vtn으로 프리차지되고, V2는 상기 인가된 기판 전압보다 작은, 비휘발성 메모리.
- 기판 상의 복수의 메모리 셀의 열들, 메모리 셀들의 페이지들까지 상기 열들을 가로지르는 워드라인들을 포함하는 메모리 어레이;각 워드라인으로의 패스 트랜지스터;소거 동작 중에 선택된 블록 내의 각 패스 트랜지스터를 작동시키는 블록 디코더;상기 소거 동작 중에 상기 기판에 소거 전압을 인가하는 기판 전압원; 및상기 선택된 블록 내의 소거될 어느 것의 페이지의 각 패스 트랜지스터에 선택 전압을, 그리고 상기 선택된 블록 내의 각 다른 페이지의 어느 것의 워드라인에 공통 비선택 전압을 인가하는 워드라인 디코더를 포함하며, 상기 워드라인 디코더는 어드레스 명령들에 응답하여 상기 선택된 블록의 복수의 워드라인에 상기 선택 전압을 인가하고 상기 선택된 블록의 복수의 워드라인에 상기 비선택 전압을 인가하는, 비휘발성 메모리.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US78689706P | 2006-03-29 | 2006-03-29 | |
US60/786,897 | 2006-03-29 | ||
US84359306P | 2006-09-11 | 2006-09-11 | |
US60/843,593 | 2006-09-11 | ||
US11/715,838 US7551492B2 (en) | 2006-03-29 | 2007-03-08 | Non-volatile semiconductor memory with page erase |
US11/715,838 | 2007-03-08 | ||
PCT/CA2007/000478 WO2007109883A1 (en) | 2006-03-29 | 2007-03-26 | Non- volatile semiconductor memory with page erase |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020127005864A Division KR101466454B1 (ko) | 2006-03-29 | 2007-03-26 | 페이지 소거를 갖는 비휘발성 반도체 메모리 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090008297A KR20090008297A (ko) | 2009-01-21 |
KR101453573B1 true KR101453573B1 (ko) | 2014-10-23 |
Family
ID=38540746
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020087026506A KR101453573B1 (ko) | 2006-03-29 | 2007-03-26 | 페이지 소거를 갖는 비휘발성 반도체 메모리 |
KR1020127005864A KR101466454B1 (ko) | 2006-03-29 | 2007-03-26 | 페이지 소거를 갖는 비휘발성 반도체 메모리 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020127005864A KR101466454B1 (ko) | 2006-03-29 | 2007-03-26 | 페이지 소거를 갖는 비휘발성 반도체 메모리 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (6) | US7551492B2 (ko) |
EP (2) | EP2211351A1 (ko) |
JP (4) | JP5528798B2 (ko) |
KR (2) | KR101453573B1 (ko) |
CN (2) | CN101461008B (ko) |
CA (1) | CA2644493A1 (ko) |
TW (2) | TW201434047A (ko) |
WO (1) | WO2007109883A1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160057539A (ko) * | 2014-11-13 | 2016-05-24 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치, 그것의 소거 방법, 및 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
Families Citing this family (192)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7769944B2 (en) * | 2004-10-01 | 2010-08-03 | Supertalent Electronics, Inc. | Partial-write-collector algorithm for multi level cell (MLC) flash |
EP1855694B1 (en) * | 2005-02-09 | 2020-12-02 | Sarepta Therapeutics, Inc. | Antisense composition for treating muscle atrophy |
KR101178122B1 (ko) * | 2006-02-22 | 2012-08-29 | 삼성전자주식회사 | 플래시 메모리 장치, 플래시 메모리 장치를 소거하는 방법,그리고 그 장치를 포함한 메모리 시스템 |
US7551492B2 (en) * | 2006-03-29 | 2009-06-23 | Mosaid Technologies, Inc. | Non-volatile semiconductor memory with page erase |
CN103258572B (zh) | 2006-05-12 | 2016-12-07 | 苹果公司 | 存储设备中的失真估计和消除 |
WO2007132456A2 (en) | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Anobit Technologies Ltd. | Memory device with adaptive capacity |
KR100739256B1 (ko) * | 2006-05-12 | 2007-07-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | 소거 동작시 메모리 셀 블록의 크기를 선택적으로 변경하는기능을 가지는 플래시 메모리 장치 및 그 소거 동작 방법 |
US8156403B2 (en) | 2006-05-12 | 2012-04-10 | Anobit Technologies Ltd. | Combined distortion estimation and error correction coding for memory devices |
WO2008026203A2 (en) | 2006-08-27 | 2008-03-06 | Anobit Technologies | Estimation of non-linear distortion in memory devices |
US7975192B2 (en) * | 2006-10-30 | 2011-07-05 | Anobit Technologies Ltd. | Reading memory cells using multiple thresholds |
US7924648B2 (en) * | 2006-11-28 | 2011-04-12 | Anobit Technologies Ltd. | Memory power and performance management |
WO2008068747A2 (en) | 2006-12-03 | 2008-06-12 | Anobit Technologies Ltd. | Automatic defect management in memory devices |
US8706968B2 (en) | 2007-12-06 | 2014-04-22 | Fusion-Io, Inc. | Apparatus, system, and method for redundant write caching |
CN101715575A (zh) | 2006-12-06 | 2010-05-26 | 弗森多系统公司(dba弗森-艾奥) | 采用数据管道管理数据的装置、系统和方法 |
US8489817B2 (en) | 2007-12-06 | 2013-07-16 | Fusion-Io, Inc. | Apparatus, system, and method for caching data |
US9104599B2 (en) | 2007-12-06 | 2015-08-11 | Intelligent Intellectual Property Holdings 2 Llc | Apparatus, system, and method for destaging cached data |
US8443134B2 (en) | 2006-12-06 | 2013-05-14 | Fusion-Io, Inc. | Apparatus, system, and method for graceful cache device degradation |
US7900102B2 (en) | 2006-12-17 | 2011-03-01 | Anobit Technologies Ltd. | High-speed programming of memory devices |
US7751240B2 (en) | 2007-01-24 | 2010-07-06 | Anobit Technologies Ltd. | Memory device with negative thresholds |
US8151166B2 (en) | 2007-01-24 | 2012-04-03 | Anobit Technologies Ltd. | Reduction of back pattern dependency effects in memory devices |
KR100923810B1 (ko) * | 2007-02-22 | 2009-10-27 | 주식회사 하이닉스반도체 | 메모리 소자와 그 동작 방법 |
WO2008111058A2 (en) | 2007-03-12 | 2008-09-18 | Anobit Technologies Ltd. | Adaptive estimation of memory cell read thresholds |
US8001320B2 (en) | 2007-04-22 | 2011-08-16 | Anobit Technologies Ltd. | Command interface for memory devices |
US8234545B2 (en) | 2007-05-12 | 2012-07-31 | Apple Inc. | Data storage with incremental redundancy |
US8429493B2 (en) * | 2007-05-12 | 2013-04-23 | Apple Inc. | Memory device with internal signap processing unit |
KR101348173B1 (ko) * | 2007-05-25 | 2014-01-08 | 삼성전자주식회사 | 플래시 메모리 장치, 그것의 소거 및 프로그램 방법들,그리고 그것을 포함한 메모리 시스템 |
US7545678B2 (en) * | 2007-06-29 | 2009-06-09 | Sandisk Corporation | Non-volatile storage with source bias all bit line sensing |
KR20090002636A (ko) * | 2007-07-02 | 2009-01-09 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치 및 그것의 소거 방법 |
US7925936B1 (en) | 2007-07-13 | 2011-04-12 | Anobit Technologies Ltd. | Memory device with non-uniform programming levels |
US8259497B2 (en) | 2007-08-06 | 2012-09-04 | Apple Inc. | Programming schemes for multi-level analog memory cells |
US8174905B2 (en) | 2007-09-19 | 2012-05-08 | Anobit Technologies Ltd. | Programming orders for reducing distortion in arrays of multi-level analog memory cells |
US7593284B2 (en) * | 2007-10-17 | 2009-09-22 | Unity Semiconductor Corporation | Memory emulation using resistivity-sensitive memory |
US8068360B2 (en) | 2007-10-19 | 2011-11-29 | Anobit Technologies Ltd. | Reading analog memory cells using built-in multi-threshold commands |
US8527819B2 (en) | 2007-10-19 | 2013-09-03 | Apple Inc. | Data storage in analog memory cell arrays having erase failures |
US8000141B1 (en) | 2007-10-19 | 2011-08-16 | Anobit Technologies Ltd. | Compensation for voltage drifts in analog memory cells |
US8270246B2 (en) | 2007-11-13 | 2012-09-18 | Apple Inc. | Optimized selection of memory chips in multi-chips memory devices |
US8225181B2 (en) | 2007-11-30 | 2012-07-17 | Apple Inc. | Efficient re-read operations from memory devices |
US7836226B2 (en) | 2007-12-06 | 2010-11-16 | Fusion-Io, Inc. | Apparatus, system, and method for coordinating storage requests in a multi-processor/multi-thread environment |
US9519540B2 (en) | 2007-12-06 | 2016-12-13 | Sandisk Technologies Llc | Apparatus, system, and method for destaging cached data |
KR20090061344A (ko) * | 2007-12-11 | 2009-06-16 | 삼성전자주식회사 | 매트 구조를 가지는 반도체 메모리 장치 |
US8209588B2 (en) | 2007-12-12 | 2012-06-26 | Anobit Technologies Ltd. | Efficient interference cancellation in analog memory cell arrays |
US7751221B2 (en) * | 2007-12-21 | 2010-07-06 | Unity Semiconductor Corporation | Media player with non-volatile memory |
US7978518B2 (en) * | 2007-12-21 | 2011-07-12 | Mosaid Technologies Incorporated | Hierarchical common source line structure in NAND flash memory |
US8085586B2 (en) | 2007-12-27 | 2011-12-27 | Anobit Technologies Ltd. | Wear level estimation in analog memory cells |
US8156398B2 (en) | 2008-02-05 | 2012-04-10 | Anobit Technologies Ltd. | Parameter estimation based on error correction code parity check equations |
US7990762B2 (en) * | 2008-02-06 | 2011-08-02 | Unity Semiconductor Corporation | Integrated circuits to control access to multiple layers of memory |
US7924587B2 (en) | 2008-02-21 | 2011-04-12 | Anobit Technologies Ltd. | Programming of analog memory cells using a single programming pulse per state transition |
US7864573B2 (en) * | 2008-02-24 | 2011-01-04 | Anobit Technologies Ltd. | Programming analog memory cells for reduced variance after retention |
US8060658B2 (en) * | 2008-03-06 | 2011-11-15 | Siemens Industry, Inc. | Auto addressing devices on a common power and communication bus structure and method therefor |
US8230300B2 (en) | 2008-03-07 | 2012-07-24 | Apple Inc. | Efficient readout from analog memory cells using data compression |
KR100938094B1 (ko) * | 2008-03-14 | 2010-01-21 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 소자 및 이의 소거 방법 |
US8400858B2 (en) | 2008-03-18 | 2013-03-19 | Apple Inc. | Memory device with reduced sense time readout |
US8059457B2 (en) | 2008-03-18 | 2011-11-15 | Anobit Technologies Ltd. | Memory device with multiple-accuracy read commands |
JP2009230818A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
KR101422705B1 (ko) * | 2008-04-30 | 2014-07-25 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법 |
KR100960448B1 (ko) * | 2008-05-13 | 2010-05-28 | 주식회사 하이닉스반도체 | 불휘발성 메모리 장치의 프로그램 검증 방법 |
US7852683B2 (en) | 2008-07-02 | 2010-12-14 | Sandisk Corporation | Correcting for over programming non-volatile storage |
US8014209B2 (en) | 2008-07-02 | 2011-09-06 | Sandisk Technologies Inc. | Programming and selectively erasing non-volatile storage |
KR101076072B1 (ko) * | 2008-08-01 | 2011-10-21 | 주식회사 하이닉스반도체 | 플래시 소자의 소거 동작 방법 |
US7995388B1 (en) | 2008-08-05 | 2011-08-09 | Anobit Technologies Ltd. | Data storage using modified voltages |
US7924613B1 (en) | 2008-08-05 | 2011-04-12 | Anobit Technologies Ltd. | Data storage in analog memory cells with protection against programming interruption |
US8169825B1 (en) | 2008-09-02 | 2012-05-01 | Anobit Technologies Ltd. | Reliable data storage in analog memory cells subjected to long retention periods |
US8949684B1 (en) | 2008-09-02 | 2015-02-03 | Apple Inc. | Segmented data storage |
US8000135B1 (en) | 2008-09-14 | 2011-08-16 | Anobit Technologies Ltd. | Estimation of memory cell read thresholds by sampling inside programming level distribution intervals |
US8482978B1 (en) | 2008-09-14 | 2013-07-09 | Apple Inc. | Estimation of memory cell read thresholds by sampling inside programming level distribution intervals |
JP2010073246A (ja) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
US8239734B1 (en) | 2008-10-15 | 2012-08-07 | Apple Inc. | Efficient data storage in storage device arrays |
US8713330B1 (en) | 2008-10-30 | 2014-04-29 | Apple Inc. | Data scrambling in memory devices |
US8208304B2 (en) | 2008-11-16 | 2012-06-26 | Anobit Technologies Ltd. | Storage at M bits/cell density in N bits/cell analog memory cell devices, M>N |
JP5268617B2 (ja) * | 2008-12-17 | 2013-08-21 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置、画像形成装置の制御方法及びコンピュータプログラム |
US8174857B1 (en) | 2008-12-31 | 2012-05-08 | Anobit Technologies Ltd. | Efficient readout schemes for analog memory cell devices using multiple read threshold sets |
US8248831B2 (en) | 2008-12-31 | 2012-08-21 | Apple Inc. | Rejuvenation of analog memory cells |
US8924661B1 (en) | 2009-01-18 | 2014-12-30 | Apple Inc. | Memory system including a controller and processors associated with memory devices |
US8228701B2 (en) | 2009-03-01 | 2012-07-24 | Apple Inc. | Selective activation of programming schemes in analog memory cell arrays |
US8259506B1 (en) | 2009-03-25 | 2012-09-04 | Apple Inc. | Database of memory read thresholds |
US8832354B2 (en) | 2009-03-25 | 2014-09-09 | Apple Inc. | Use of host system resources by memory controller |
US8238157B1 (en) | 2009-04-12 | 2012-08-07 | Apple Inc. | Selective re-programming of analog memory cells |
US8479080B1 (en) | 2009-07-12 | 2013-07-02 | Apple Inc. | Adaptive over-provisioning in memory systems |
JP5052575B2 (ja) | 2009-09-01 | 2012-10-17 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
US9223514B2 (en) | 2009-09-09 | 2015-12-29 | SanDisk Technologies, Inc. | Erase suspend/resume for memory |
EP2476039B1 (en) * | 2009-09-09 | 2016-10-26 | SanDisk Technologies LLC | Apparatus, system, and method for power reduction management in a storage device |
US9021158B2 (en) | 2009-09-09 | 2015-04-28 | SanDisk Technologies, Inc. | Program suspend/resume for memory |
US8495465B1 (en) | 2009-10-15 | 2013-07-23 | Apple Inc. | Error correction coding over multiple memory pages |
KR101081311B1 (ko) * | 2009-12-07 | 2011-11-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | 불휘발성 메모리 장치 및 그 동작 방법 |
US8677054B1 (en) | 2009-12-16 | 2014-03-18 | Apple Inc. | Memory management schemes for non-volatile memory devices |
US8694814B1 (en) | 2010-01-10 | 2014-04-08 | Apple Inc. | Reuse of host hibernation storage space by memory controller |
US8677203B1 (en) | 2010-01-11 | 2014-03-18 | Apple Inc. | Redundant data storage schemes for multi-die memory systems |
KR101691092B1 (ko) | 2010-08-26 | 2016-12-30 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
US9378831B2 (en) | 2010-02-09 | 2016-06-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nonvolatile memory devices, operating methods thereof and memory systems including the same |
KR101658479B1 (ko) | 2010-02-09 | 2016-09-21 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
KR101691088B1 (ko) | 2010-02-17 | 2016-12-29 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
US9324440B2 (en) | 2010-02-09 | 2016-04-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nonvolatile memory devices, operating methods thereof and memory systems including the same |
US8923060B2 (en) | 2010-02-17 | 2014-12-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nonvolatile memory devices and operating methods thereof |
US8908431B2 (en) | 2010-02-17 | 2014-12-09 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Control method of nonvolatile memory device |
JP5788183B2 (ja) | 2010-02-17 | 2015-09-30 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | 不揮発性メモリ装置、それの動作方法、そしてそれを含むメモリシステム |
JP2011170956A (ja) | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Samsung Electronics Co Ltd | 不揮発性メモリ装置およびそのプログラム方法と、それを含むメモリシステム |
US8553466B2 (en) | 2010-03-04 | 2013-10-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Non-volatile memory device, erasing method thereof, and memory system including the same |
US8792282B2 (en) | 2010-03-04 | 2014-07-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nonvolatile memory devices, memory systems and computing systems |
US8694853B1 (en) | 2010-05-04 | 2014-04-08 | Apple Inc. | Read commands for reading interfering memory cells |
KR101083680B1 (ko) | 2010-05-31 | 2011-11-16 | 주식회사 하이닉스반도체 | 면적을 줄일 수 있는 반도체 집적 회로 장치 |
US8572423B1 (en) | 2010-06-22 | 2013-10-29 | Apple Inc. | Reducing peak current in memory systems |
US8595591B1 (en) | 2010-07-11 | 2013-11-26 | Apple Inc. | Interference-aware assignment of programming levels in analog memory cells |
US9104580B1 (en) | 2010-07-27 | 2015-08-11 | Apple Inc. | Cache memory for hybrid disk drives |
US8645794B1 (en) | 2010-07-31 | 2014-02-04 | Apple Inc. | Data storage in analog memory cells using a non-integer number of bits per cell |
US8856475B1 (en) | 2010-08-01 | 2014-10-07 | Apple Inc. | Efficient selection of memory blocks for compaction |
US8694854B1 (en) | 2010-08-17 | 2014-04-08 | Apple Inc. | Read threshold setting based on soft readout statistics |
US10671529B2 (en) | 2010-08-20 | 2020-06-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Address scheduling methods for non-volatile memory devices with three-dimensional memory cell arrays |
US8984216B2 (en) | 2010-09-09 | 2015-03-17 | Fusion-Io, Llc | Apparatus, system, and method for managing lifetime of a storage device |
US9021181B1 (en) | 2010-09-27 | 2015-04-28 | Apple Inc. | Memory management for unifying memory cell conditions by using maximum time intervals |
JP5606883B2 (ja) * | 2010-11-22 | 2014-10-15 | ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル | 半導体装置 |
US9218278B2 (en) | 2010-12-13 | 2015-12-22 | SanDisk Technologies, Inc. | Auto-commit memory |
US10817421B2 (en) | 2010-12-13 | 2020-10-27 | Sandisk Technologies Llc | Persistent data structures |
EP2652623B1 (en) | 2010-12-13 | 2018-08-01 | SanDisk Technologies LLC | Apparatus, system, and method for auto-commit memory |
US10817502B2 (en) | 2010-12-13 | 2020-10-27 | Sandisk Technologies Llc | Persistent memory management |
US9208071B2 (en) | 2010-12-13 | 2015-12-08 | SanDisk Technologies, Inc. | Apparatus, system, and method for accessing memory |
US9047178B2 (en) | 2010-12-13 | 2015-06-02 | SanDisk Technologies, Inc. | Auto-commit memory synchronization |
US8638618B2 (en) | 2010-12-23 | 2014-01-28 | Macronix International Co., Ltd. | Decoder for NAND memory |
WO2012106362A2 (en) | 2011-01-31 | 2012-08-09 | Fusion-Io, Inc. | Apparatus, system, and method for managing eviction of data |
WO2012109677A2 (en) | 2011-02-11 | 2012-08-16 | Fusion-Io, Inc. | Apparatus, system, and method for managing operations for data storage media |
US9141527B2 (en) | 2011-02-25 | 2015-09-22 | Intelligent Intellectual Property Holdings 2 Llc | Managing cache pools |
JP2012198966A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置及びそのデータ消去方法 |
KR101762828B1 (ko) | 2011-04-05 | 2017-07-31 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치 및 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법 |
KR101799962B1 (ko) | 2011-05-12 | 2017-11-22 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 비휘발성 메모리 장치 및 그 동작 방법 |
US8665652B2 (en) * | 2011-06-24 | 2014-03-04 | Macronix International Co., Ltd. | Method for erasing memory array |
KR101772582B1 (ko) * | 2011-07-06 | 2017-08-30 | 삼성전자주식회사 | 음전압을 제공하는 비휘발성 메모리 장치 |
JP5649560B2 (ja) * | 2011-12-27 | 2015-01-07 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
CN102609334B (zh) * | 2012-01-09 | 2016-05-04 | 晨星软件研发(深圳)有限公司 | 非易失闪存擦除异常存储块修复方法和装置 |
US9767032B2 (en) | 2012-01-12 | 2017-09-19 | Sandisk Technologies Llc | Systems and methods for cache endurance |
US9251086B2 (en) | 2012-01-24 | 2016-02-02 | SanDisk Technologies, Inc. | Apparatus, system, and method for managing a cache |
KR20130100507A (ko) * | 2012-03-02 | 2013-09-11 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 비휘발성 메모리 장치의 소거 방법 |
US8811093B2 (en) | 2012-03-13 | 2014-08-19 | Silicon Storage Technology, Inc. | Non-volatile memory device and a method of operating same |
US10170187B2 (en) * | 2012-04-02 | 2019-01-01 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods using negative voltages in part of memory write read, and erase operations |
US9064551B2 (en) | 2012-05-15 | 2015-06-23 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods for coupling load current to a common source |
US8976594B2 (en) | 2012-05-15 | 2015-03-10 | Micron Technology, Inc. | Memory read apparatus and methods |
KR101997572B1 (ko) | 2012-06-01 | 2019-07-09 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치를 포함하는 저장 장치 및 그것의 쓰기 방법 |
KR101988434B1 (ko) | 2012-08-31 | 2019-06-12 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치 및 그것의 서브-블록 관리 방법 |
US9471484B2 (en) | 2012-09-19 | 2016-10-18 | Novachips Canada Inc. | Flash memory controller having dual mode pin-out |
US8958244B2 (en) | 2012-10-16 | 2015-02-17 | Conversant Intellectual Property Management Inc. | Split block decoder for a nonvolatile memory device |
US9704580B2 (en) * | 2012-10-22 | 2017-07-11 | Conversant Intellectual Property Management Inc. | Integrated erase voltage path for multiple cell substrates in nonvolatile memory devices |
US9030879B2 (en) | 2012-11-15 | 2015-05-12 | Conversant Intellectual Property Management Incorporated | Method and system for programming non-volatile memory with junctionless cells |
US10403766B2 (en) | 2012-12-04 | 2019-09-03 | Conversant Intellectual Property Management Inc. | NAND flash memory with vertical cell stack structure and method for manufacturing same |
US9064577B2 (en) * | 2012-12-06 | 2015-06-23 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods to control body potential in memory operations |
KR101949987B1 (ko) * | 2012-12-18 | 2019-02-20 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 데이터 저장 장치 및 그것의 동작 방법 |
US9007834B2 (en) | 2013-01-10 | 2015-04-14 | Conversant Intellectual Property Management Inc. | Nonvolatile memory with split substrate select gates and hierarchical bitline configuration |
US9025382B2 (en) | 2013-03-14 | 2015-05-05 | Conversant Intellectual Property Management Inc. | Lithography-friendly local read circuit for NAND flash memory devices and manufacturing method thereof |
US9202931B2 (en) | 2013-03-14 | 2015-12-01 | Conversant Intellectual Property Management Inc. | Structure and method for manufacture of memory device with thin silicon body |
KR102083547B1 (ko) | 2013-04-12 | 2020-03-02 | 삼성전자주식회사 | 플래시 메모리와 메모리 컨트롤러를 포함하는 데이터 저장 장치 및 그것의 배드 페이지 관리 방법 |
US9214235B2 (en) | 2013-04-16 | 2015-12-15 | Conversant Intellectual Property Management Inc. | U-shaped common-body type cell string |
KR102111579B1 (ko) * | 2013-06-21 | 2020-05-18 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 메모리 장치 및 그것의 동작 방법 |
KR102242022B1 (ko) | 2013-09-16 | 2021-04-21 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 및 그것의 프로그램 방법 |
US9202578B2 (en) * | 2013-10-02 | 2015-12-01 | Conversant Intellectual Property Management Inc. | Vertical gate stacked NAND and row decoder for erase operation |
CN104575603B (zh) * | 2013-10-10 | 2018-11-27 | 北京兆易创新科技股份有限公司 | 一种加速闪存存储器擦除操作的方法及系统 |
KR20150051057A (ko) * | 2013-11-01 | 2015-05-11 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치, 그 동작 방법 및 이를 포함하는 반도체 시스템 |
KR102210520B1 (ko) * | 2013-12-19 | 2021-02-02 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치 및 그것의 소거 방법 |
US9613704B2 (en) * | 2013-12-25 | 2017-04-04 | Aplus Flash Technology, Inc | 2D/3D NAND memory array with bit-line hierarchical structure for multi-page concurrent SLC/MLC program and program-verify |
US9666244B2 (en) | 2014-03-01 | 2017-05-30 | Fusion-Io, Inc. | Dividing a storage procedure |
KR20150137858A (ko) * | 2014-05-30 | 2015-12-09 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 메모리 장치, 그것을 포함하는 메모리 시스템 및 그것의 동작 방법 |
US9036428B1 (en) | 2014-06-13 | 2015-05-19 | Sandisk Technologies Inc. | Partial block erase for a three dimensional (3D) memory |
CN105575430B (zh) * | 2014-10-11 | 2020-02-07 | 北京兆易创新科技股份有限公司 | 一种非易失性存储器的擦除方法 |
US9349458B2 (en) * | 2014-10-16 | 2016-05-24 | Sandisk Technologies Inc. | Biasing of unselected blocks of non-volatile memory to reduce loading |
US9933950B2 (en) | 2015-01-16 | 2018-04-03 | Sandisk Technologies Llc | Storage operation interrupt |
TWI557744B (zh) | 2015-01-27 | 2016-11-11 | 緯創資通股份有限公司 | 資料儲存方法及嵌入式系統 |
KR102342849B1 (ko) * | 2015-03-04 | 2021-12-23 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치, 메모리 시스템, 상기 비휘발성 메모리 장치의 동작 방법 및 상기 메모리 시스템의 동작 방법 |
KR20160110592A (ko) * | 2015-03-09 | 2016-09-22 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 및 이의 동작 방법 |
TWI574269B (zh) * | 2015-04-23 | 2017-03-11 | 旺宏電子股份有限公司 | 快閃記憶體之頁面抹除 |
CN106205705B (zh) * | 2015-04-29 | 2019-11-05 | 旺宏电子股份有限公司 | 一种与非门阵列的操作方法 |
KR102293078B1 (ko) * | 2015-07-06 | 2021-08-26 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치 |
US9953719B2 (en) * | 2016-05-18 | 2018-04-24 | Silicon Storage Technology, Inc. | Flash memory cell and associated decoders |
US9972397B2 (en) * | 2016-06-24 | 2018-05-15 | SK Hynix Inc. | Semiconductor memory device and operating method thereof |
CN106205710B (zh) * | 2016-07-19 | 2019-11-15 | 中国科学院微电子研究所 | 一种闪存存储器的擦除方法 |
US10403369B2 (en) | 2016-10-17 | 2019-09-03 | SK Hynix Inc. | Memory system with file level secure erase and operating method thereof |
KR102579879B1 (ko) * | 2016-11-14 | 2023-09-18 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치 및 그 독출 방법 |
TWI611409B (zh) * | 2016-12-08 | 2018-01-11 | 旺宏電子股份有限公司 | 記憶體裝置與其相關的控制方法 |
CN108206039B (zh) * | 2016-12-19 | 2020-09-11 | 旺宏电子股份有限公司 | 存储器装置与其相关的控制方法 |
KR102667532B1 (ko) * | 2017-02-28 | 2024-05-22 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 메모리 장치 및 이의 동작 방법 |
KR20190001387A (ko) * | 2017-06-27 | 2019-01-04 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 데이터 저장 장치 및 그것의 동작 방법 |
US10176880B1 (en) | 2017-07-01 | 2019-01-08 | Intel Corporation | Selective body reset operation for three dimensional (3D) NAND memory |
US10340017B2 (en) * | 2017-11-06 | 2019-07-02 | Macronix International Co., Ltd. | Erase-verify method for three-dimensional memories and memory system |
CN109754837A (zh) * | 2017-11-07 | 2019-05-14 | 三星电子株式会社 | 具有三维存储单元阵列的非易失存储器件的地址调度方法 |
KR102434922B1 (ko) * | 2018-03-05 | 2022-08-23 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 메모리 장치 및 그 동작 방법 |
KR102567373B1 (ko) * | 2018-03-16 | 2023-08-17 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 메모리 장치 및 이를 포함하는 메모리 시스템 |
US11545221B2 (en) * | 2018-06-29 | 2023-01-03 | Sandisk Technologies Llc | Concurrent programming of multiple cells for non-volatile memory devices |
KR102671402B1 (ko) | 2019-04-16 | 2024-05-31 | 삼성전자주식회사 | 문턱전압 산포 특성을 향상한 메모리 컨트롤러, 메모리 시스템 및 그 동작방법 |
US11315649B2 (en) | 2019-04-16 | 2022-04-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Memory controller, memory device and memory system having improved threshold voltage distribution characteristics and related operating methods |
TWI724427B (zh) * | 2019-05-22 | 2021-04-11 | 群聯電子股份有限公司 | 資料寫入方法、記憶體儲存裝置及記憶體控制電路單元 |
US10861571B1 (en) * | 2019-06-05 | 2020-12-08 | Sandisk Technologies Llc | Wordline voltage overdrive methods and systems |
KR20220010360A (ko) * | 2020-07-17 | 2022-01-25 | 삼성전자주식회사 | 페이지 버퍼 회로 및 이를 포함하는 메모리 장치 |
WO2022116128A1 (en) * | 2020-12-04 | 2022-06-09 | Yangtze Memory Technologies Co., Ltd. | Methods for erase and reset in three-dimensional nand flash memory |
JP7404562B2 (ja) * | 2021-03-24 | 2023-12-25 | 長江存儲科技有限責任公司 | メモリデバイスおよびその消去動作 |
TWI761183B (zh) * | 2021-04-19 | 2022-04-11 | 旺宏電子股份有限公司 | 對記憶體裝置執行操作之方法 |
US11556416B2 (en) | 2021-05-05 | 2023-01-17 | Apple Inc. | Controlling memory readout reliability and throughput by adjusting distance between read thresholds |
US11847342B2 (en) | 2021-07-28 | 2023-12-19 | Apple Inc. | Efficient transfer of hard data and confidence levels in reading a nonvolatile memory |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5995417A (en) | 1998-10-20 | 1999-11-30 | Advanced Micro Devices, Inc. | Scheme for page erase and erase verify in a non-volatile memory array |
US20050018489A1 (en) | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Non-volatile semiconductor memory device and electric device with the same |
US20060034128A1 (en) | 2004-08-10 | 2006-02-16 | Han Eui-Gyu | Non-volatile memory device and erase method of the same |
US7170795B2 (en) | 2002-05-08 | 2007-01-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Electrically erasable charge trap nonvolatile memory cells having erase threshold voltage that is higher than an initial threshold voltage |
Family Cites Families (123)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4174536A (en) * | 1977-01-21 | 1979-11-13 | Massachusetts Institute Of Technology | Digital communications controller with firmware control |
US4617566A (en) * | 1983-12-15 | 1986-10-14 | Teleplex Corporation | Addressable-port, daisy chain telemetry system with self-test capability |
DE3586523T2 (de) * | 1984-10-17 | 1993-01-07 | Fujitsu Ltd | Halbleiterspeicheranordnung mit einer seriellen dateneingangs- und ausgangsschaltung. |
US4683555A (en) * | 1985-01-22 | 1987-07-28 | Texas Instruments Incorporated | Serial accessed semiconductor memory with reconfigureable shift registers |
JPS62152050A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-07 | Nec Corp | 半導体メモリ |
JPS63113624A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-18 | Tokyo Electric Co Ltd | 電子秤のプリンタインタ−フエ−ス |
US5440518A (en) | 1991-06-12 | 1995-08-08 | Hazani; Emanuel | Non-volatile memory circuits, architecture and methods |
US5844842A (en) * | 1989-02-06 | 1998-12-01 | Hitachi, Ltd. | Nonvolatile semiconductor memory device |
JP2804066B2 (ja) * | 1989-02-22 | 1998-09-24 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体メモリ装置 |
EP0417314B1 (en) * | 1989-03-15 | 1997-06-04 | Oki Electric Industry Company, Limited | Serial in to parallel out converting circuit |
JP2862584B2 (ja) * | 1989-08-31 | 1999-03-03 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体メモリ装置 |
JPH069309B2 (ja) | 1989-09-22 | 1994-02-02 | 株式会社日立製作所 | プリント回路板、その製造方法および製造装置 |
US5126808A (en) * | 1989-10-23 | 1992-06-30 | Advanced Micro Devices, Inc. | Flash EEPROM array with paged erase architecture |
US5175819A (en) * | 1990-03-28 | 1992-12-29 | Integrated Device Technology, Inc. | Cascadable parallel to serial converter using tap shift registers and data shift registers while receiving input data from FIFO buffer |
JP3099887B2 (ja) * | 1990-04-12 | 2000-10-16 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
US5243703A (en) * | 1990-04-18 | 1993-09-07 | Rambus, Inc. | Apparatus for synchronously generating clock signals in a data processing system |
US5204669A (en) * | 1990-08-30 | 1993-04-20 | Datacard Corporation | Automatic station identification where function modules automatically initialize |
US5319598A (en) * | 1990-12-10 | 1994-06-07 | Hughes Aircraft Company | Nonvolatile serially programmable devices |
US5132635A (en) * | 1991-03-05 | 1992-07-21 | Ast Research, Inc. | Serial testing of removable circuit boards on a backplane bus |
US5430859A (en) * | 1991-07-26 | 1995-07-04 | Sundisk Corporation | Solid state memory system including plural memory chips and a serialized bus |
US6230233B1 (en) * | 1991-09-13 | 2001-05-08 | Sandisk Corporation | Wear leveling techniques for flash EEPROM systems |
US5361227A (en) * | 1991-12-19 | 1994-11-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Non-volatile semiconductor memory device and memory system using the same |
JP3441087B2 (ja) * | 1991-12-25 | 2003-08-25 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
KR950000761B1 (ko) * | 1992-01-15 | 1995-01-28 | 삼성전자 주식회사 | 직렬 입력신호의 동기회로 |
JP3088180B2 (ja) * | 1992-03-26 | 2000-09-18 | 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 | シリアル入力インタフェース回路 |
KR960000616B1 (ko) * | 1993-01-13 | 1996-01-10 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 반도체 메모리 장치 |
JPH06275069A (ja) * | 1993-03-20 | 1994-09-30 | Hitachi Ltd | シリアルメモリ |
JP3520532B2 (ja) * | 1993-08-06 | 2004-04-19 | ソニー株式会社 | Nand型不揮発性メモリの駆動方法 |
US5365484A (en) * | 1993-08-23 | 1994-11-15 | Advanced Micro Devices, Inc. | Independent array grounds for flash EEPROM array with paged erase architechture |
JPH0793219A (ja) * | 1993-09-20 | 1995-04-07 | Olympus Optical Co Ltd | 情報処理装置 |
US5602780A (en) * | 1993-10-20 | 1997-02-11 | Texas Instruments Incorporated | Serial to parallel and parallel to serial architecture for a RAM based FIFO memory |
US5452259A (en) * | 1993-11-15 | 1995-09-19 | Micron Technology Inc. | Multiport memory with pipelined serial input |
US5404460A (en) * | 1994-01-28 | 1995-04-04 | Vlsi Technology, Inc. | Method for configuring multiple identical serial I/O devices to unique addresses through a serial bus |
US5475854A (en) * | 1994-01-28 | 1995-12-12 | Vlsi Technology, Inc. | Serial bus I/O system and method for serializing interrupt requests and DMA requests in a computer system |
US5596724A (en) * | 1994-02-04 | 1997-01-21 | Advanced Micro Devices | Input/output data port with a parallel and serial interface |
DE4429433C1 (de) * | 1994-08-19 | 1995-10-26 | Siemens Ag | Adreßzuordnungsverfahren |
US5473566A (en) * | 1994-09-12 | 1995-12-05 | Cirrus Logic, Inc. | Memory architecture and devices, systems and methods utilizing the same |
KR0142364B1 (ko) * | 1995-01-07 | 1998-07-15 | 김광호 | 소거된 메모리 쎌의 임계전압 마아진 확보를 위한 공통 소오스라인 구동회로 |
KR0142367B1 (ko) * | 1995-02-04 | 1998-07-15 | 김광호 | 열 리던던씨를 가지는 불휘발성 반도체 메모리의 소거 검증회로 |
US5636342A (en) * | 1995-02-17 | 1997-06-03 | Dell Usa, L.P. | Systems and method for assigning unique addresses to agents on a system management bus |
KR0145224B1 (ko) * | 1995-05-27 | 1998-08-17 | 김광호 | 불휘발성 반도체 메모리의 분리된 기입 및 독출 경로를 가지는 워드라인 구동회로 |
US5835935A (en) * | 1995-09-13 | 1998-11-10 | Lexar Media, Inc. | Method of and architecture for controlling system data with automatic wear leveling in a semiconductor non-volatile mass storage memory |
KR0169412B1 (ko) * | 1995-10-16 | 1999-02-01 | 김광호 | 불휘발성 반도체 메모리 장치 |
JP3693721B2 (ja) * | 1995-11-10 | 2005-09-07 | Necエレクトロニクス株式会社 | フラッシュメモリ内蔵マイクロコンピュータ及びそのテスト方法 |
JP2838993B2 (ja) * | 1995-11-29 | 1998-12-16 | 日本電気株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置 |
TW307869B (en) * | 1995-12-20 | 1997-06-11 | Toshiba Co Ltd | Semiconductor memory |
KR100211760B1 (ko) * | 1995-12-28 | 1999-08-02 | 윤종용 | 멀티뱅크 구조를 갖는 반도체 메모리 장치의 데이타 입출력 경로 제어회로 |
KR0170723B1 (ko) * | 1995-12-29 | 1999-03-30 | 김광호 | 단일 ras 신호에 의해 동시 동작이 가능한 이중 뱅크를 갖는 반도체 메모리 장치 |
US5828899A (en) * | 1996-01-04 | 1998-10-27 | Compaq Computer Corporation | System for peripheral devices recursively generating unique addresses based on the number of devices connected dependent upon the relative position to the port |
JPH09231740A (ja) * | 1996-02-21 | 1997-09-05 | Nec Corp | 半導体記憶装置 |
US5822252A (en) * | 1996-03-29 | 1998-10-13 | Aplus Integrated Circuits, Inc. | Flash memory wordline decoder with overerase repair |
US5938750A (en) * | 1996-06-28 | 1999-08-17 | Intel Corporation | Method and apparatus for a memory card bus design |
US5941974A (en) * | 1996-11-29 | 1999-08-24 | Motorola, Inc. | Serial interface with register selection which uses clock counting, chip select pulsing, and no address bits |
JP3895816B2 (ja) * | 1996-12-25 | 2007-03-22 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法、メモリカード、及び記憶システム |
KR100243335B1 (ko) * | 1996-12-31 | 2000-02-01 | 김영환 | 독립적인 리프레쉬 수단을 가지는 데이지 체인 구조의 반도체 장치 |
KR100272037B1 (ko) * | 1997-02-27 | 2000-12-01 | 니시무로 타이죠 | 불휘발성 반도체 기억 장치 |
JP3898349B2 (ja) * | 1997-07-29 | 2007-03-28 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
GB2329792A (en) * | 1997-08-20 | 1999-03-31 | Nokia Telecommunications Oy | Identification signals enable a transceiver module to correctly configure itself to an attached functional module |
JPH1166841A (ja) * | 1997-08-22 | 1999-03-09 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
KR100240873B1 (ko) | 1997-08-26 | 2000-01-15 | 윤종용 | 송수신 겸용의 레지스터를 갖는 직렬인터페이스장치 |
JP4039532B2 (ja) * | 1997-10-02 | 2008-01-30 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体集積回路装置 |
US6378018B1 (en) * | 1997-10-10 | 2002-04-23 | Intel Corporation | Memory device and system including a low power interface |
US5937425A (en) * | 1997-10-16 | 1999-08-10 | M-Systems Flash Disk Pioneers Ltd. | Flash file system optimized for page-mode flash technologies |
US6148364A (en) * | 1997-12-30 | 2000-11-14 | Netlogic Microsystems, Inc. | Method and apparatus for cascading content addressable memory devices |
US6102963A (en) * | 1997-12-29 | 2000-08-15 | Vantis Corporation | Electrically erasable and reprogrammable, nonvolatile integrated storage device with in-system programming and verification (ISPAV) capabilities for supporting in-system reconfiguring of PLD's |
US6002638A (en) | 1998-01-20 | 1999-12-14 | Microchip Technology Incorporated | Memory device having a switchable clock output and method therefor |
JPH11250681A (ja) * | 1998-02-26 | 1999-09-17 | Toshiba Corp | 半導体集積回路装置および不揮発性半導体メモリの消去ベリファイ方法 |
JP3714969B2 (ja) * | 1998-03-02 | 2005-11-09 | レクサー・メディア・インコーポレイテッド | 改良されたオペレーティングモード検出機能を備えたフラッシュメモリーカード及びユーザフレンドリなインターフェーシングシステム |
US6085290A (en) * | 1998-03-10 | 2000-07-04 | Nexabit Networks, Llc | Method of and apparatus for validating data read out of a multi port internally cached dynamic random access memory (AMPIC DRAM) |
US6144576A (en) * | 1998-08-19 | 2000-11-07 | Intel Corporation | Method and apparatus for implementing a serial memory architecture |
US5995405A (en) * | 1998-10-27 | 1999-11-30 | Micron Technology, Inc. | Memory module with flexible serial presence detect configuration |
JP4601737B2 (ja) * | 1998-10-28 | 2010-12-22 | 株式会社東芝 | メモリ混載ロジックlsi |
JP2000149564A (ja) * | 1998-10-30 | 2000-05-30 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
US6304921B1 (en) * | 1998-12-07 | 2001-10-16 | Motorola Inc. | System for serial peripheral interface with embedded addressing circuit for providing portion of an address for peripheral devices |
KR100284742B1 (ko) * | 1998-12-28 | 2001-04-02 | 윤종용 | 입출력 센스앰프의 개수가 최소화된 메모리장치 |
JP4273558B2 (ja) * | 1999-03-17 | 2009-06-03 | ソニー株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置およびその消去ベリファイ方法 |
JP3888808B2 (ja) * | 1999-08-16 | 2007-03-07 | 富士通株式会社 | Nand型不揮発性メモリ |
US6680904B1 (en) * | 1999-12-27 | 2004-01-20 | Orckit Communications Ltd. | Bi-directional chaining of network access ports |
US20050160218A1 (en) * | 2004-01-20 | 2005-07-21 | Sun-Teck See | Highly integrated mass storage device with an intelligent flash controller |
US6442098B1 (en) * | 2000-02-08 | 2002-08-27 | Alliance Semiconductor | High performance multi-bank compact synchronous DRAM architecture |
US6988154B2 (en) | 2000-03-10 | 2006-01-17 | Arc International | Memory interface and method of interfacing between functional entities |
US7181635B2 (en) * | 2000-03-13 | 2007-02-20 | Analog Devices, Inc. | Method for placing a device in a selected mode of operation |
US6816933B1 (en) * | 2000-05-17 | 2004-11-09 | Silicon Laboratories, Inc. | Serial device daisy chaining method and apparatus |
US6535948B1 (en) * | 2000-05-31 | 2003-03-18 | Agere Systems Inc. | Serial interface unit |
US6317350B1 (en) * | 2000-06-16 | 2001-11-13 | Netlogic Microsystems, Inc. | Hierarchical depth cascading of content addressable memory devices |
US6754807B1 (en) * | 2000-08-31 | 2004-06-22 | Stmicroelectronics, Inc. | System and method for managing vertical dependencies in a digital signal processor |
US6317352B1 (en) * | 2000-09-18 | 2001-11-13 | Intel Corporation | Apparatus for implementing a buffered daisy chain connection between a memory controller and memory modules |
US6853557B1 (en) * | 2000-09-20 | 2005-02-08 | Rambus, Inc. | Multi-channel memory architecture |
US6658509B1 (en) | 2000-10-03 | 2003-12-02 | Intel Corporation | Multi-tier point-to-point ring memory interface |
FR2816751A1 (fr) * | 2000-11-15 | 2002-05-17 | St Microelectronics Sa | Memoire flash effacable par page |
US6718432B1 (en) * | 2001-03-22 | 2004-04-06 | Netlogic Microsystems, Inc. | Method and apparatus for transparent cascading of multiple content addressable memory devices |
US6732221B2 (en) * | 2001-06-01 | 2004-05-04 | M-Systems Flash Disk Pioneers Ltd | Wear leveling of static areas in flash memory |
US6996644B2 (en) * | 2001-06-06 | 2006-02-07 | Conexant Systems, Inc. | Apparatus and methods for initializing integrated circuit addresses |
KR100390955B1 (ko) * | 2001-06-28 | 2003-07-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | 낸드-타입 메모리 어레이 및 이를 이용한 독출, 프로그램및 소거 방법 |
KR100413762B1 (ko) * | 2001-07-02 | 2003-12-31 | 삼성전자주식회사 | 뱅크 수를 가변할 수 있는 반도체 장치 및 그 방법 |
US6928501B2 (en) * | 2001-10-15 | 2005-08-09 | Silicon Laboratories, Inc. | Serial device daisy chaining method and apparatus |
US6763426B1 (en) * | 2001-12-27 | 2004-07-13 | Cypress Semiconductor Corporation | Cascadable content addressable memory (CAM) device and architecture |
JP4204226B2 (ja) * | 2001-12-28 | 2009-01-07 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | デバイス識別方法、データ伝送方法、デバイス識別子付与装置、並びにデバイス |
US6771536B2 (en) * | 2002-02-27 | 2004-08-03 | Sandisk Corporation | Operating techniques for reducing program and read disturbs of a non-volatile memory |
US6958940B2 (en) * | 2002-02-28 | 2005-10-25 | Renesas Technology Corp. | Nonvolatile semiconductor memory device capable of realizing optimized erasing operation in a memory array |
US7073022B2 (en) * | 2002-05-23 | 2006-07-04 | International Business Machines Corporation | Serial interface for a data storage array |
US7062601B2 (en) * | 2002-06-28 | 2006-06-13 | Mosaid Technologies Incorporated | Method and apparatus for interconnecting content addressable memory devices |
KR100499686B1 (ko) * | 2002-07-23 | 2005-07-07 | 주식회사 디지털웨이 | 메모리 확장 가능한 휴대용 플래쉬 메모리 장치 |
CA2396632A1 (en) * | 2002-07-31 | 2004-01-31 | Mosaid Technologies Incorporated | Cam diamond cascade architecture |
KR100487539B1 (ko) * | 2002-09-02 | 2005-05-03 | 삼성전자주식회사 | 직렬 에이티에이 케이블과 연결되는 불휘발성 반도체메모리 장치 |
US7032039B2 (en) * | 2002-10-30 | 2006-04-18 | Atmel Corporation | Method for identification of SPI compatible serial memory devices |
EP1424635B1 (en) * | 2002-11-28 | 2008-10-29 | STMicroelectronics S.r.l. | Non volatile memory device architecture, for instance a flash kind, having a serial communication interface |
JP3866650B2 (ja) * | 2002-11-29 | 2007-01-10 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置及びその消去ベリファイ方法 |
KR100493884B1 (ko) * | 2003-01-09 | 2005-06-10 | 삼성전자주식회사 | 시리얼 플래시 메모리에서의 현지 실행을 위한 제어 장치및 그 방법, 이를 이용한 플래시 메모리 칩 |
JP4256175B2 (ja) | 2003-02-04 | 2009-04-22 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体メモリ |
US20040199721A1 (en) * | 2003-03-12 | 2004-10-07 | Power Data Communication Co., Ltd. | Multi-transmission interface memory card |
JP4220319B2 (ja) * | 2003-07-04 | 2009-02-04 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置およびそのサブブロック消去方法 |
JP2005078721A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 誤り訂正方法およびメモリ回路 |
JP4287222B2 (ja) * | 2003-09-03 | 2009-07-01 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP4212444B2 (ja) * | 2003-09-22 | 2009-01-21 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
US20050086413A1 (en) * | 2003-10-15 | 2005-04-21 | Super Talent Electronics Inc. | Capacity Expansion of Flash Memory Device with a Daisy-Chainable Structure and an Integrated Hub |
JP4331053B2 (ja) * | 2004-05-27 | 2009-09-16 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
KR100705221B1 (ko) * | 2004-09-03 | 2007-04-06 | 에스티마이크로일렉트로닉스 엔.브이. | 플래쉬 메모리 소자 및 이를 이용한 플래쉬 메모리 셀의소거 방법 |
US6950325B1 (en) * | 2004-10-07 | 2005-09-27 | Winbond Electronics Corporation | Cascade-connected ROM |
US7430138B2 (en) * | 2005-03-31 | 2008-09-30 | Sandisk Corporation | Erasing non-volatile memory utilizing changing word line conditions to compensate for slower erasing memory cells |
US7403427B2 (en) * | 2005-11-21 | 2008-07-22 | Elite Semiconductor Memory Technology, Inc. | Method and apparatus for reducing stress in word line driver transistors during erasure |
US7551492B2 (en) * | 2006-03-29 | 2009-06-23 | Mosaid Technologies, Inc. | Non-volatile semiconductor memory with page erase |
TWM304711U (en) * | 2006-04-26 | 2007-01-11 | Genesys Logic Inc | Flash memory data access reliability enhancing device |
-
2007
- 2007-03-08 US US11/715,838 patent/US7551492B2/en active Active
- 2007-03-20 TW TW103119146A patent/TW201434047A/zh unknown
- 2007-03-20 TW TW096109567A patent/TWI445006B/zh not_active IP Right Cessation
- 2007-03-26 CA CA002644493A patent/CA2644493A1/en not_active Abandoned
- 2007-03-26 EP EP20100004609 patent/EP2211351A1/en not_active Withdrawn
- 2007-03-26 KR KR1020087026506A patent/KR101453573B1/ko active IP Right Grant
- 2007-03-26 EP EP07719413A patent/EP1999755A4/en not_active Withdrawn
- 2007-03-26 CN CN2007800203536A patent/CN101461008B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-03-26 KR KR1020127005864A patent/KR101466454B1/ko active IP Right Grant
- 2007-03-26 CN CN201110277283.0A patent/CN102394099B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-03-26 JP JP2009501796A patent/JP5528798B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-03-26 WO PCT/CA2007/000478 patent/WO2007109883A1/en active Application Filing
-
2009
- 2009-05-28 US US12/474,056 patent/US7872921B2/en active Active
-
2010
- 2010-03-23 JP JP2010066109A patent/JP2010198726A/ja not_active Withdrawn
- 2010-09-22 US US12/888,034 patent/US7995401B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-06-27 US US13/169,231 patent/US8213240B2/en active Active
-
2012
- 2012-06-14 US US13/523,628 patent/US8559237B2/en active Active
-
2013
- 2013-01-10 JP JP2013002766A patent/JP2013080561A/ja active Pending
- 2013-08-16 US US13/969,184 patent/US20130336063A1/en not_active Abandoned
-
2014
- 2014-07-25 JP JP2014152260A patent/JP2014222558A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5995417A (en) | 1998-10-20 | 1999-11-30 | Advanced Micro Devices, Inc. | Scheme for page erase and erase verify in a non-volatile memory array |
US7170795B2 (en) | 2002-05-08 | 2007-01-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Electrically erasable charge trap nonvolatile memory cells having erase threshold voltage that is higher than an initial threshold voltage |
US20050018489A1 (en) | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Non-volatile semiconductor memory device and electric device with the same |
US20060034128A1 (en) | 2004-08-10 | 2006-02-16 | Han Eui-Gyu | Non-volatile memory device and erase method of the same |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160057539A (ko) * | 2014-11-13 | 2016-05-24 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치, 그것의 소거 방법, 및 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
KR102222594B1 (ko) * | 2014-11-13 | 2021-03-08 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치, 그것의 소거 방법, 및 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8213240B2 (en) | 2012-07-03 |
JP2013080561A (ja) | 2013-05-02 |
TWI445006B (zh) | 2014-07-11 |
WO2007109883A1 (en) | 2007-10-04 |
JP2014222558A (ja) | 2014-11-27 |
US20110267896A1 (en) | 2011-11-03 |
CN101461008A (zh) | 2009-06-17 |
JP2009531798A (ja) | 2009-09-03 |
US8559237B2 (en) | 2013-10-15 |
EP2211351A1 (en) | 2010-07-28 |
US20130336063A1 (en) | 2013-12-19 |
TW201434047A (zh) | 2014-09-01 |
CN102394099A (zh) | 2012-03-28 |
EP1999755A1 (en) | 2008-12-10 |
CN101461008B (zh) | 2013-04-24 |
CN102394099B (zh) | 2015-03-11 |
CA2644493A1 (en) | 2007-10-04 |
JP5528798B2 (ja) | 2014-06-25 |
EP1999755A4 (en) | 2009-05-06 |
US20110069551A1 (en) | 2011-03-24 |
US20070230253A1 (en) | 2007-10-04 |
US20120250413A1 (en) | 2012-10-04 |
JP2010198726A (ja) | 2010-09-09 |
KR20090008297A (ko) | 2009-01-21 |
US7995401B2 (en) | 2011-08-09 |
US20090231928A1 (en) | 2009-09-17 |
US7551492B2 (en) | 2009-06-23 |
US7872921B2 (en) | 2011-01-18 |
KR20120043065A (ko) | 2012-05-03 |
TW200805379A (en) | 2008-01-16 |
KR101466454B1 (ko) | 2014-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101453573B1 (ko) | 페이지 소거를 갖는 비휘발성 반도체 메모리 | |
JP5363454B2 (ja) | フラッシュメモリプログラム禁止方式 | |
US7539059B2 (en) | Selective bit line precharging in non volatile memory | |
US6285587B1 (en) | Memory cell string structure of a flash memory device | |
US8189390B2 (en) | NAND flash architecture with multi-level row decoding | |
US8605512B2 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device and method of operating a nonvolatile memory device | |
US7782676B2 (en) | Method of operating a nonvolatile memory device | |
CN114783488B (zh) | 页缓冲器、编程方法、存储器装置及系统 | |
JP2003151289A (ja) | 不揮発性半導体メモリ及びその書き込み方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170919 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180918 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190917 Year of fee payment: 6 |