JPH1145122A - 動的ガス流コントローラ - Google Patents
動的ガス流コントローラInfo
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- JPH1145122A JPH1145122A JP14497998A JP14497998A JPH1145122A JP H1145122 A JPH1145122 A JP H1145122A JP 14497998 A JP14497998 A JP 14497998A JP 14497998 A JP14497998 A JP 14497998A JP H1145122 A JPH1145122 A JP H1145122A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
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- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
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Abstract
(57)【要約】
【課題】リザーバから半導体プロセスチャンバへのガス
の送出を制御するための方法と装置を提供する。 【解決手段】 リザーバがレシピステップの開始時にガ
スで充填され、ガスの温度と圧力が測定されてガスの初
期質量が決定される。リザーバからチャンバへのガス流
が自己較正式動的流量制御回路に制御された可変流量バ
ルブによって計量される。運転時にはリザーバからガス
が放出され、可変流量バルブと音波オリフィスを介して
チャンバに当該ガスが向けられる。可変流量バルブは測
定ガス流量に応答して動的に制御される。チャンバへの
ガス流が終了するとガスの最終質量が決定される。ガス
の初期値と質量値とが比較されて、ステップ中に放出さ
れたガスの実際の質量が決定される。この値は装置較正
定数を更新するために、較正サーボループに入力され
る。較正サーボループを実行っすると、動的サーボルー
プが連続的自己較正される。
の送出を制御するための方法と装置を提供する。 【解決手段】 リザーバがレシピステップの開始時にガ
スで充填され、ガスの温度と圧力が測定されてガスの初
期質量が決定される。リザーバからチャンバへのガス流
が自己較正式動的流量制御回路に制御された可変流量バ
ルブによって計量される。運転時にはリザーバからガス
が放出され、可変流量バルブと音波オリフィスを介して
チャンバに当該ガスが向けられる。可変流量バルブは測
定ガス流量に応答して動的に制御される。チャンバへの
ガス流が終了するとガスの最終質量が決定される。ガス
の初期値と質量値とが比較されて、ステップ中に放出さ
れたガスの実際の質量が決定される。この値は装置較正
定数を更新するために、較正サーボループに入力され
る。較正サーボループを実行っすると、動的サーボルー
プが連続的自己較正される。
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は、一般的には、ガス流を制御す
るためのガス流装置及び方法に関する。より詳細には、
本発明は、プロセスチャンバその他の使用点の場所への
ガスの送出を制御するための自己較正式動的ガス流制御
方法と装置に関する。
るためのガス流装置及び方法に関する。より詳細には、
本発明は、プロセスチャンバその他の使用点の場所への
ガスの送出を制御するための自己較正式動的ガス流制御
方法と装置に関する。
【０００２】
【発明の背景】多くの工業的プロセスでは、使用点の場
所に送出される特定質量のガスとガス混合体を高度な精
度で制御する必要があることが知られている。特に、半
導体処理では、半導体デバイスの製作時に送出されるガ
スの特定質量を制御することが益々重要になってきてい
る。次世代の半導体デバイスの速度が増すにつれて、ま
た次世代の半導体デバイスの大きさ／寸法が減少するに
つれて、次世代の半導体デバイスの製作を支配する精度
と制御の程度が高まらなけらばならない。半導体デバイ
スのアーキテクチャが３サブミクロンスケール（three
submicron scale）未満に下がると、半導体業界は、特
定質量のガスをプロセスチャンバに送出するための、よ
り精確な方法を見出さなくてはならない。本発明の使用
と利益を、ここに半導体処理に関して、また、より詳細
にはプロセスチャンバへのガスの送出に関して説明す
る。しかしながら、かかる説明は単に説示的なものであ
ること、そして本発明は、使用点の場所に送出されるガ
ス質量を精確に制御することが望まれる他の分野に適用
できることを認識されたい。
所に送出される特定質量のガスとガス混合体を高度な精
度で制御する必要があることが知られている。特に、半
導体処理では、半導体デバイスの製作時に送出されるガ
スの特定質量を制御することが益々重要になってきてい
る。次世代の半導体デバイスの速度が増すにつれて、ま
た次世代の半導体デバイスの大きさ／寸法が減少するに
つれて、次世代の半導体デバイスの製作を支配する精度
と制御の程度が高まらなけらばならない。半導体デバイ
スのアーキテクチャが３サブミクロンスケール（three
submicron scale）未満に下がると、半導体業界は、特
定質量のガスをプロセスチャンバに送出するための、よ
り精確な方法を見出さなくてはならない。本発明の使用
と利益を、ここに半導体処理に関して、また、より詳細
にはプロセスチャンバへのガスの送出に関して説明す
る。しかしながら、かかる説明は単に説示的なものであ
ること、そして本発明は、使用点の場所に送出されるガ
ス質量を精確に制御することが望まれる他の分野に適用
できることを認識されたい。
【０００３】半導体プロセスチャンバにガスを送出する
ための従来技術の方法の一つは、質量流量コントローラ
（ＭＦＣ）の使用を含む。図１は、ガス流を制御するが
めに使用される従来技術の質量流量コントローラ（ＭＦ
Ｃ）を示す。このＭＦＣは、指定された時間内にプロセ
スチャンバに特定質量のガスを送出するように較正され
る。例えば、ＭＦＣは、１００標準立法センチメートル
／分（ｓｃｃｍ）の窒素ガス（Ｎ2 ）をプロセスチャン
バに送出するように較正できる。
ための従来技術の方法の一つは、質量流量コントローラ
（ＭＦＣ）の使用を含む。図１は、ガス流を制御するが
めに使用される従来技術の質量流量コントローラ（ＭＦ
Ｃ）を示す。このＭＦＣは、指定された時間内にプロセ
スチャンバに特定質量のガスを送出するように較正され
る。例えば、ＭＦＣは、１００標準立法センチメートル
／分（ｓｃｃｍ）の窒素ガス（Ｎ2 ）をプロセスチャン
バに送出するように較正できる。
【０００４】ガス流を制御するために、ＭＦＣによっ
て、被加熱検出チューブ（センサ）１１０と流れ絞りバ
イパス（バイパス）１２０との間でガス流が分割され
る。ＭＦＣによって、ガス流は、大部分がバイパス１２
０を通って流れて、一部分がセンサ１１０を通って流れ
るように分割される。
て、被加熱検出チューブ（センサ）１１０と流れ絞りバ
イパス（バイパス）１２０との間でガス流が分割され
る。ＭＦＣによって、ガス流は、大部分がバイパス１２
０を通って流れて、一部分がセンサ１１０を通って流れ
るように分割される。
【０００５】質量流量はセンサ１１０で測定される。ガ
ス流がヒータコイル（コイル）１１１を通過すると、ガ
スは熱を拾って、それをヒータコイル（コイル）１１２
に向けて運ぶ。ガスによる熱の動きは２個のコイル間に
温度差を発生させる。コイル１１１とコイル１１２は共
にヒータだが、ガスの温度を測定する抵抗温度検出器
（ＲＴＤ）としても働く。かくして、ガスがコイル１１
１とコイル１１２の間に流れると、コイル１１１とコイ
ル１１２間の温度変化が測定されて、ＭＦＣ制御装置１
３０によってガスの質量流量に相関されることができ
る。
ス流がヒータコイル（コイル）１１１を通過すると、ガ
スは熱を拾って、それをヒータコイル（コイル）１１２
に向けて運ぶ。ガスによる熱の動きは２個のコイル間に
温度差を発生させる。コイル１１１とコイル１１２は共
にヒータだが、ガスの温度を測定する抵抗温度検出器
（ＲＴＤ）としても働く。かくして、ガスがコイル１１
１とコイル１１２の間に流れると、コイル１１１とコイ
ル１１２間の温度変化が測定されて、ＭＦＣ制御装置１
３０によってガスの質量流量に相関されることができ
る。
【０００６】温度差が測定されて特定ガスの相関質量流
量が決められると、制御装置１３０によって制御バルブ
１４０の位置が調節される。使用される特定ガスに対す
る所望（又は較正された）流量が得られるように制御バ
ルブ１４０の位置が設定される。
量が決められると、制御装置１３０によって制御バルブ
１４０の位置が調節される。使用される特定ガスに対す
る所望（又は較正された）流量が得られるように制御バ
ルブ１４０の位置が設定される。
【０００７】プロセスチャンバに特定質量のガスを送出
するＭＦＣが係わる方法に伴う一つ問題は、ＭＦＣ法の
精度である。ＭＦＣは現在、約５％精度レベルで、実際
の較正流量の４０〜８０％で運転するように設計されて
いる。例えば、１００ｓｃｃｍの流量で較正されたＮ2
用のＭＦＣについては、上記のように、その特定ＭＦＣ
は４０〜８０ｓｃｃｍの範囲の流量でＮ2 を送出するよ
うに設計されている。前記４０〜８０％の範囲外では、
ＭＦＣの精度レベルは低下する。次世代の半導体デバイ
スでは、従来技術のＭＦＣよりも、高精度の製作プロセ
スが必要とされる。
するＭＦＣが係わる方法に伴う一つ問題は、ＭＦＣ法の
精度である。ＭＦＣは現在、約５％精度レベルで、実際
の較正流量の４０〜８０％で運転するように設計されて
いる。例えば、１００ｓｃｃｍの流量で較正されたＮ2
用のＭＦＣについては、上記のように、その特定ＭＦＣ
は４０〜８０ｓｃｃｍの範囲の流量でＮ2 を送出するよ
うに設計されている。前記４０〜８０％の範囲外では、
ＭＦＣの精度レベルは低下する。次世代の半導体デバイ
スでは、従来技術のＭＦＣよりも、高精度の製作プロセ
スが必要とされる。
【０００８】ＭＦＣに伴うもう一つの問題は、それらの
動的範囲（ダイナミックレンジ）が制限されていること
である。動的範囲とは、最大制御流量と最小制御流量の
比である。上記のように、大抵のＭＦＣは約５％の精度
を達成するために、実際の較正流量の４０〜８０％で運
転するように設計されている。従って、上記装置の動的
範囲は約２対１の比に制限される。
動的範囲（ダイナミックレンジ）が制限されていること
である。動的範囲とは、最大制御流量と最小制御流量の
比である。上記のように、大抵のＭＦＣは約５％の精度
を達成するために、実際の較正流量の４０〜８０％で運
転するように設計されている。従って、上記装置の動的
範囲は約２対１の比に制限される。
【０００９】ＭＦＣに伴う、もう一つの問題は、大抵の
プロセスにおいて、プロセスチャンバへのガスの流れが
被制御性を有することが必要とされる点である。多くの
用途で、特定レシピ用のガスのすべてをプロセスチャン
バに一度に送出することは望ましくない。同様に、プロ
セスの開始時にガスの少量部分をプロセスチャンバに送
出し、プロセスの終わりにガスの大部分をプロセスチャ
ンバに送出すること（又はその反対）も望ましくないだ
ろう。その代わりに、ガスをプロセスチャンバに、制御
された率で、そのプロセスの生産性を最適化する方式で
送出することが望ましい。ＭＦＣの精度は、特定のＭＦ
Ｃ較正流量の４０〜８０％の範囲外では低下するので、
ガスの送出を制御する程度も低下する。
プロセスにおいて、プロセスチャンバへのガスの流れが
被制御性を有することが必要とされる点である。多くの
用途で、特定レシピ用のガスのすべてをプロセスチャン
バに一度に送出することは望ましくない。同様に、プロ
セスの開始時にガスの少量部分をプロセスチャンバに送
出し、プロセスの終わりにガスの大部分をプロセスチャ
ンバに送出すること（又はその反対）も望ましくないだ
ろう。その代わりに、ガスをプロセスチャンバに、制御
された率で、そのプロセスの生産性を最適化する方式で
送出することが望ましい。ＭＦＣの精度は、特定のＭＦ
Ｃ較正流量の４０〜８０％の範囲外では低下するので、
ガスの送出を制御する程度も低下する。
【００１０】他の方法と装置が使用点の場所にガスを送
出するために使用される。例えば、フィードバック制御
ループの制御下での可変流量バルブの使用は、使用点の
場所へのガス送出を制御するための一般的な方法であ
る。図２に、フィードバックコントローラ２３０の制御
下で可変流量バルブ２１０を使用する典型的な従来技術
のガス送出装置を示す。ガスは、ガス源から使用点の場
所まで、制御信号２３４に応答してバルブ２１０のスロ
ート面積を調節することにより送出される。制御信号２
３４は、所望流れ入力信号２３６と被測定流れ信号２２
０の間の比較結果に応答して発生される。所望流れ入力
信号は通常、ユーザインタフェースを介して、又は予め
プログラムされたプロセスレシピから提供される。被測
定流れ信号２２０は、可変流量バルブ２１０の下流地点
に配置された流量計その他の流量測定装置２２０によっ
て生成される。
出するために使用される。例えば、フィードバック制御
ループの制御下での可変流量バルブの使用は、使用点の
場所へのガス送出を制御するための一般的な方法であ
る。図２に、フィードバックコントローラ２３０の制御
下で可変流量バルブ２１０を使用する典型的な従来技術
のガス送出装置を示す。ガスは、ガス源から使用点の場
所まで、制御信号２３４に応答してバルブ２１０のスロ
ート面積を調節することにより送出される。制御信号２
３４は、所望流れ入力信号２３６と被測定流れ信号２２
０の間の比較結果に応答して発生される。所望流れ入力
信号は通常、ユーザインタフェースを介して、又は予め
プログラムされたプロセスレシピから提供される。被測
定流れ信号２２０は、可変流量バルブ２１０の下流地点
に配置された流量計その他の流量測定装置２２０によっ
て生成される。
【００１１】時間が経過すると、可変流量バルブ２１０
の流れ定数（ＣV ）は、磨耗や堆積物の増加が原因で変
化する。更に、流量測定装置２２０の出力信号２３６
は、「ドリフト」として知られる現象が原因で、測定さ
れる所定の流れに対して時間の経過と共に変化する。流
れ定数ＣV の変化と「ドリフト」の発生は共に流量制御
装置の精度を低下させるように作用する。その結果、現
状で入手可能なフィードバック流量制御装置は、装置を
許容精度範囲内に保つために、時間のかかる再較正手順
を頻繁に実施することを必要とする。そのような較正手
順は、プロセス休止時間をもたらすと共にその手順の実
行に熟練技術者を必要とするのでコストがかかることに
なる。
の流れ定数（ＣV ）は、磨耗や堆積物の増加が原因で変
化する。更に、流量測定装置２２０の出力信号２３６
は、「ドリフト」として知られる現象が原因で、測定さ
れる所定の流れに対して時間の経過と共に変化する。流
れ定数ＣV の変化と「ドリフト」の発生は共に流量制御
装置の精度を低下させるように作用する。その結果、現
状で入手可能なフィードバック流量制御装置は、装置を
許容精度範囲内に保つために、時間のかかる再較正手順
を頻繁に実施することを必要とする。そのような較正手
順は、プロセス休止時間をもたらすと共にその手順の実
行に熟練技術者を必要とするのでコストがかかることに
なる。
【００１２】かくして、広い動的範囲にわたって高精度
で、ガス流を処理装置に送出できる方法と装置が必要と
される。
で、ガス流を処理装置に送出できる方法と装置が必要と
される。
【００１３】
【発明の概要】リザーバから半導体プロセスチャンバへ
のガスの送出を制御するための方法と装置を開示する。
本発明によれば、出入口隔離バルブと既知の容積を有す
るリザーバは、プロセスレシピステップが開始されると
ガスで充填される。リザーバ内のガスの温度と圧力が測
定されて、リザーバ内にあるガスの初期質量が決められ
る。リザーバからプロセスチャンバへのガス流は、流量
制御サーボループ（流量制御回路）と較正サーボループ
（較正回路）とを含む自己較正式動的流量制御回路の制
御の下で可変流量バルブによって計量される。可変流量
バルブは、リザーバと、オリフィスの上流点にあるプロ
セスチャンバとの間のガス流路内に配置されている。運
転時、リザーバからガスを放出してそのガスを可変流量
バルブと音波オリフィスを通ってプロセスチャンバ内に
向けることによって、ガスがプロセスチャンバに送出さ
れる。流量制御サーボループを使って、測定ガス流量に
応答して可変流量バルブを動的に制御する。プロセスチ
ャンバへのガスの流れが終了すると、リザーバ内にある
ガスの温度と圧力が再び測定されて、リザーバ内にある
ガスの最終質量が決定される。ガスの初期質量と、ガス
の最終質量の値が比較されて、レシピステップ中にリザ
ーバから放出されたガスの実際質量が決定される。この
値は、装置の較正定数を更新するために較正サーボルー
プへの入力として役立つ。較正サーボループの実行は、
ダイナミックサーボループの連続的な自己較正として役
立つ。
のガスの送出を制御するための方法と装置を開示する。
本発明によれば、出入口隔離バルブと既知の容積を有す
るリザーバは、プロセスレシピステップが開始されると
ガスで充填される。リザーバ内のガスの温度と圧力が測
定されて、リザーバ内にあるガスの初期質量が決められ
る。リザーバからプロセスチャンバへのガス流は、流量
制御サーボループ（流量制御回路）と較正サーボループ
（較正回路）とを含む自己較正式動的流量制御回路の制
御の下で可変流量バルブによって計量される。可変流量
バルブは、リザーバと、オリフィスの上流点にあるプロ
セスチャンバとの間のガス流路内に配置されている。運
転時、リザーバからガスを放出してそのガスを可変流量
バルブと音波オリフィスを通ってプロセスチャンバ内に
向けることによって、ガスがプロセスチャンバに送出さ
れる。流量制御サーボループを使って、測定ガス流量に
応答して可変流量バルブを動的に制御する。プロセスチ
ャンバへのガスの流れが終了すると、リザーバ内にある
ガスの温度と圧力が再び測定されて、リザーバ内にある
ガスの最終質量が決定される。ガスの初期質量と、ガス
の最終質量の値が比較されて、レシピステップ中にリザ
ーバから放出されたガスの実際質量が決定される。この
値は、装置の較正定数を更新するために較正サーボルー
プへの入力として役立つ。較正サーボループの実行は、
ダイナミックサーボループの連続的な自己較正として役
立つ。
【００１４】所望流量で流れを開始する指令によって、
所望流れ入力信号がゲイン回路に提供される。ゲイン回
路は較正サーボループから較正信号を受け取り、所望流
れ入力信号を、記憶された公称ガス流量と、対応する電
圧設定点に相関させ、電圧設定点値を、被較正所望流れ
信号として出力する。この被較正所望流れ信号は流量制
御サーボループへの入力として役立つ。被較正所望流れ
信号の生成と同時又はいくらか前に、リザーバ内にある
ガスの温度と圧力を測定してリザーバ内にあるガスの初
期質量を決める。被較正所望流れ信号を受け取ると、流
量制御サーボループが可変制御バルブの位置を調節し、
リザーバ出口隔離バルブを開くことによってリザーバか
らガスが放出される。オリフィスを通るガスの流量が音
速以上の場合は、装置中を流れるガスの流量は、オリフ
ィスの上流で発生する圧力をモニタすることにより測定
される。被測定圧力に対応した被測定流れ信号は、流量
制御サーボループへの入力として提供される。一方、流
量制御サーボ流れループは、被較正所望流れ信号と被測
定流れ信号とに応答して可変流量バルブのスロート面積
を制御するために流れ制御信号を発生する。
所望流れ入力信号がゲイン回路に提供される。ゲイン回
路は較正サーボループから較正信号を受け取り、所望流
れ入力信号を、記憶された公称ガス流量と、対応する電
圧設定点に相関させ、電圧設定点値を、被較正所望流れ
信号として出力する。この被較正所望流れ信号は流量制
御サーボループへの入力として役立つ。被較正所望流れ
信号の生成と同時又はいくらか前に、リザーバ内にある
ガスの温度と圧力を測定してリザーバ内にあるガスの初
期質量を決める。被較正所望流れ信号を受け取ると、流
量制御サーボループが可変制御バルブの位置を調節し、
リザーバ出口隔離バルブを開くことによってリザーバか
らガスが放出される。オリフィスを通るガスの流量が音
速以上の場合は、装置中を流れるガスの流量は、オリフ
ィスの上流で発生する圧力をモニタすることにより測定
される。被測定圧力に対応した被測定流れ信号は、流量
制御サーボループへの入力として提供される。一方、流
量制御サーボ流れループは、被較正所望流れ信号と被測
定流れ信号とに応答して可変流量バルブのスロート面積
を制御するために流れ制御信号を発生する。
【００１５】流れを終了する指令によって、リザーバ出
口隔離バルブが閉じられ、リザーバ内のガスの圧力と温
度とが測定されてリザーバ内に残留するガスの最終質量
が決定される。リザーバから放出されるガスの所望質量
は、リザーバ出口隔離バルブが開かれた全期間にわたっ
て所望流れ信号を積分することによって決定される。リ
ザーバ内のガスの最初と最後の質量が分かると、リザー
バからプロセスチャンバ内へ放出されるガスの実際質量
の精確な計算が可能となる。リザーバから放出されるべ
きガスの所望質量と、リザーバから放出されたガスの実
際質量との比較の結果、補正／較正係数が決定される。
較正係数をゲイン回路への入力として使用して、いま完
了したプロセスステップに対する所望流量に対応する電
圧設定点を更新又は調整する。言い換えれば、特定の公
称流量に関係する電圧出力設定点は、先に得られた一つ
以上の実際流量と、それに対応する所望流量の差を補償
するために各プロセスレシピステップの完了時に更新さ
れる。従って、自己較正は、精確に導かれたガス質量値
に応答してゲイン回路設定点値を反復更新することによ
って達成される。
口隔離バルブが閉じられ、リザーバ内のガスの圧力と温
度とが測定されてリザーバ内に残留するガスの最終質量
が決定される。リザーバから放出されるガスの所望質量
は、リザーバ出口隔離バルブが開かれた全期間にわたっ
て所望流れ信号を積分することによって決定される。リ
ザーバ内のガスの最初と最後の質量が分かると、リザー
バからプロセスチャンバ内へ放出されるガスの実際質量
の精確な計算が可能となる。リザーバから放出されるべ
きガスの所望質量と、リザーバから放出されたガスの実
際質量との比較の結果、補正／較正係数が決定される。
較正係数をゲイン回路への入力として使用して、いま完
了したプロセスステップに対する所望流量に対応する電
圧設定点を更新又は調整する。言い換えれば、特定の公
称流量に関係する電圧出力設定点は、先に得られた一つ
以上の実際流量と、それに対応する所望流量の差を補償
するために各プロセスレシピステップの完了時に更新さ
れる。従って、自己較正は、精確に導かれたガス質量値
に応答してゲイン回路設定点値を反復更新することによ
って達成される。
【００１６】本発明の、もう一つの実施態様では、リザ
ーバ出口隔離バルブの下流に配置されたガス流路が、リ
ザーバからのガスの放出に先立って減圧排気される。流
路の減圧排気は、ガスが最初にリザーバから放出される
ときの流れスパイク発生を最少にするのに役立つ。
ーバ出口隔離バルブの下流に配置されたガス流路が、リ
ザーバからのガスの放出に先立って減圧排気される。流
路の減圧排気は、ガスが最初にリザーバから放出される
ときの流れスパイク発生を最少にするのに役立つ。
【００１７】本発明の更なる特徴と利益は下記の詳細な
説明、図面、及び請求項から明らかになるであろう。
説明、図面、及び請求項から明らかになるであろう。
【００１８】本発明は、例として添付の図面で示される
が、それに限定されることはない。
が、それに限定されることはない。
【００１９】
【実施形態の詳細な説明】リザーバから半導体プロセス
チャンバへのガスの送出を制御するための方法と装置を
開示する。以下の説明では、本発明の完全な理解を提供
するために特定の材料、手段、寸法等の数々の特定の詳
細を記載する。しかしながら、当業者には、本発明を実
施するために必ずしもこれらの特定の詳細を使用する必
要がないことは明らかであろう。他の例では、不必要に
本発明を分かり難くするのを避けるために、周知の材
料、装置、方法等を詳細には説明しなかった。更に、強
調したいのは、本発明は半導体処理に関連して説明して
いるが、当業者ならば、このような説明は単なる説示的
なものであって、本発明の制限を意図するものでないこ
とがよく理解されるであろう。本明細書で説明する特定
のプロセスと装置の意図は、もっぱら、本発明の理解の
明確化を助けることであり、また本発明が実施可能な特
定実施形態を説示することである。付帯する請求項に記
述される通り、本発明のより広い趣旨と範囲は、本発明
よって達成される成果が要求される任意のタイプのプロ
セスに適用できることを認識されたい。
チャンバへのガスの送出を制御するための方法と装置を
開示する。以下の説明では、本発明の完全な理解を提供
するために特定の材料、手段、寸法等の数々の特定の詳
細を記載する。しかしながら、当業者には、本発明を実
施するために必ずしもこれらの特定の詳細を使用する必
要がないことは明らかであろう。他の例では、不必要に
本発明を分かり難くするのを避けるために、周知の材
料、装置、方法等を詳細には説明しなかった。更に、強
調したいのは、本発明は半導体処理に関連して説明して
いるが、当業者ならば、このような説明は単なる説示的
なものであって、本発明の制限を意図するものでないこ
とがよく理解されるであろう。本明細書で説明する特定
のプロセスと装置の意図は、もっぱら、本発明の理解の
明確化を助けることであり、また本発明が実施可能な特
定実施形態を説示することである。付帯する請求項に記
述される通り、本発明のより広い趣旨と範囲は、本発明
よって達成される成果が要求される任意のタイプのプロ
セスに適用できることを認識されたい。
【００２０】図３は、本発明が利用できるガス送出装置
３００の概略線図である。一実施形態で、既知の容積を
有するリザーバ３５０から流量制御バルブ３５６とオリ
フィス３６０とを含むガス流路内にガスを放出すること
によって、半導体プロセスチャンバにプロセスガスが送
出される。自己較正式動的ガス流制御回路３０１は、装
置を通るガス流を制御するために、流量制御バルブアク
チュエータ３５７に制御信号を提供する。アクチュエー
タ３５７は、サーボモータ、空気圧コントローラ、ソレ
ノイド等を含んでもよい。静電容量式圧力計等の圧力検
出装置３５８を、ガス流路内に設けて、装置を通って流
れるガスの圧力をオリフィス３６０の上流地点で測定す
る。オリフィス３６０を通るガス流が臨界状態（すなわ
ち音速以上）のとき、オリフィスの上流にあるガスの圧
力は、オリフィスを通るガスの流量に関係する。その場
合は、測定ガス流量は、圧力検出装置３５８で測定され
るオリフィス３６０の上流の圧力が決まると計算され
る。オリフィス３６０を通るガス流が臨界状態でない
（すなわち音速未満）とき、オリフィスを通るガス流
は、オリフィスの下流の配管内の圧力に影響される。そ
の場合は、オリフィス３６０を通るガスの流量は、オリ
フィスの上流と下流の圧力の関数である。
３００の概略線図である。一実施形態で、既知の容積を
有するリザーバ３５０から流量制御バルブ３５６とオリ
フィス３６０とを含むガス流路内にガスを放出すること
によって、半導体プロセスチャンバにプロセスガスが送
出される。自己較正式動的ガス流制御回路３０１は、装
置を通るガス流を制御するために、流量制御バルブアク
チュエータ３５７に制御信号を提供する。アクチュエー
タ３５７は、サーボモータ、空気圧コントローラ、ソレ
ノイド等を含んでもよい。静電容量式圧力計等の圧力検
出装置３５８を、ガス流路内に設けて、装置を通って流
れるガスの圧力をオリフィス３６０の上流地点で測定す
る。オリフィス３６０を通るガス流が臨界状態（すなわ
ち音速以上）のとき、オリフィスの上流にあるガスの圧
力は、オリフィスを通るガスの流量に関係する。その場
合は、測定ガス流量は、圧力検出装置３５８で測定され
るオリフィス３６０の上流の圧力が決まると計算され
る。オリフィス３６０を通るガス流が臨界状態でない
（すなわち音速未満）とき、オリフィスを通るガス流
は、オリフィスの下流の配管内の圧力に影響される。そ
の場合は、オリフィス３６０を通るガスの流量は、オリ
フィスの上流と下流の圧力の関数である。
【００２１】リザーバ３５０は、入口隔離バルブ３５２
と出口隔離バルブ３５４とを含む。ガスは主ガス源３９
０からリザーバ３５０に送出される。ガスを、ガス源３
９０からリザーバ３５０を介してプロセスチャンバ３６
６に向けることもできる。代替として、ガスを、リザー
ババイパスバルブ３８０を介してプロセスチャンバ３６
６に送出してもよい。リザーバ３５０は、リザーバ内に
あるガスの温度と圧力を測定するために使用される温度
測定装置３１４と圧力測定装置３１６とを含む。一実施
形態において、温度検出装置３１４は、静電容量式圧力
計を備える熱電対兼圧力検出装置３１６を備える。リザ
ーバ３５０内の温度と圧力を測定するための何れの装置
も本発明のコンセプトに従って使用できることに注意さ
れたい。また、図３では一つの温度測定装置と一つの圧
力測定装置しか図示しないが、リザーバ３５０内のガス
の平均の温度又は圧力を決定するためにそれぞれの装置
を２個以上使用できることも当然である。加えて、リザ
ーバ３５０の大きさ（又は寸法）によっては、温度と圧
力の測定装置の配置や位置決めを、リザーバ３５０の中
央部、壁等でのガスの温度と圧力を決定するために様々
に変えてもよい。
と出口隔離バルブ３５４とを含む。ガスは主ガス源３９
０からリザーバ３５０に送出される。ガスを、ガス源３
９０からリザーバ３５０を介してプロセスチャンバ３６
６に向けることもできる。代替として、ガスを、リザー
ババイパスバルブ３８０を介してプロセスチャンバ３６
６に送出してもよい。リザーバ３５０は、リザーバ内に
あるガスの温度と圧力を測定するために使用される温度
測定装置３１４と圧力測定装置３１６とを含む。一実施
形態において、温度検出装置３１４は、静電容量式圧力
計を備える熱電対兼圧力検出装置３１６を備える。リザ
ーバ３５０内の温度と圧力を測定するための何れの装置
も本発明のコンセプトに従って使用できることに注意さ
れたい。また、図３では一つの温度測定装置と一つの圧
力測定装置しか図示しないが、リザーバ３５０内のガス
の平均の温度又は圧力を決定するためにそれぞれの装置
を２個以上使用できることも当然である。加えて、リザ
ーバ３５０の大きさ（又は寸法）によっては、温度と圧
力の測定装置の配置や位置決めを、リザーバ３５０の中
央部、壁等でのガスの温度と圧力を決定するために様々
に変えてもよい。
【００２２】装置隔離バルブ３６２がガス送出装置配管
内に含まれており、ガス送出装置とプロセスチャンバ３
６６との間を隔離している。一実施形態において、真空
源３６５がバルブ３５４と３５６との間でガス送出装置
配管に連結されている。真空源を用いて、チャンバ３６
６へのガス流の開始に先立って、ガス送出装置配管から
ガス及び／又は空気が減圧排気される。プロセスチャン
バへのガス流の開始に先立って、ガス送出装置配管を減
圧排気するプロセスは、従来のガス送出装置に固有の、
流れスパイク（flow spikes）を最小にする。バルブ３
６４を用いて、真空源３６５がガス送出装置から隔離さ
れている。一実施形態において、真空源３６５は真空ポ
ンプを備えている。エダクタ、又は当該技術分野で公知
の多数の他のガス排気装置の何れかが、捕捉されたガス
及び／又は空気をガス送出装置配管から除去するために
使用できる。真空源３６５は、バルブ３５４と３５６間
でガス送出装置配管に連結されるように図示されている
が、真空源をバルブ３５４とバルブ３６２間の任意の地
点でガス送出装置配管に連結できることを認識された
い。
内に含まれており、ガス送出装置とプロセスチャンバ３
６６との間を隔離している。一実施形態において、真空
源３６５がバルブ３５４と３５６との間でガス送出装置
配管に連結されている。真空源を用いて、チャンバ３６
６へのガス流の開始に先立って、ガス送出装置配管から
ガス及び／又は空気が減圧排気される。プロセスチャン
バへのガス流の開始に先立って、ガス送出装置配管を減
圧排気するプロセスは、従来のガス送出装置に固有の、
流れスパイク（flow spikes）を最小にする。バルブ３
６４を用いて、真空源３６５がガス送出装置から隔離さ
れている。一実施形態において、真空源３６５は真空ポ
ンプを備えている。エダクタ、又は当該技術分野で公知
の多数の他のガス排気装置の何れかが、捕捉されたガス
及び／又は空気をガス送出装置配管から除去するために
使用できる。真空源３６５は、バルブ３５４と３５６間
でガス送出装置配管に連結されるように図示されている
が、真空源をバルブ３５４とバルブ３６２間の任意の地
点でガス送出装置配管に連結できることを認識された
い。
【００２３】リザーバ３５０からプロセスチャンバ３６
６へのガス流は、自己較正式動的流量制御回路３０１に
制御される可変流量制御バルブ３５６によって計量され
る。一実施形態において、流量制御回路３０１は、流量
制御サーボループ（流量制御回路）３０８と較正サーボ
ループ（較正回路）３２６とを備えている。流量制御バ
ルブ３５６の位置は、制御信号３１０を流量制御回路３
０８から受け取るアクチュエータ３５７によって変化さ
れる。
６へのガス流は、自己較正式動的流量制御回路３０１に
制御される可変流量制御バルブ３５６によって計量され
る。一実施形態において、流量制御回路３０１は、流量
制御サーボループ（流量制御回路）３０８と較正サーボ
ループ（較正回路）３２６とを備えている。流量制御バ
ルブ３５６の位置は、制御信号３１０を流量制御回路３
０８から受け取るアクチュエータ３５７によって変化さ
れる。
【００２４】本発明によれば、リザーバ３５０は、プロ
セスレシピステップの開始と同時にガスで充填される。
既知の容積を有するリザーバ３５０は、出口隔離バルブ
３５４を閉じて入口隔離バルブ３５２を開くことによっ
てガスで充填される。リザーバ３５０がガスで充たされ
た後、入口隔離バルブ３５２が閉じられる。次に、リザ
ーバ３５０内のガスの温度と圧力とが測定されて、レシ
ピステップの最初にリザーバ内にあるガスの初期質量が
決定される。温度検出装置３１４は、演算回路３２２へ
の入力として使用される温度信号３１８を発生させる。
圧力検出装置３１６は、これも回路３２２への入力とし
て使用される圧力信号３２０を発生させる。センサ３１
４と３１６から初期温度信号３１８と初期圧力信号３２
０を受け取ると、回路３２２によって、ガスの状態方程
式を使ってリザーバ３５０内にあるガスの初期質量が決
定される。
セスレシピステップの開始と同時にガスで充填される。
既知の容積を有するリザーバ３５０は、出口隔離バルブ
３５４を閉じて入口隔離バルブ３５２を開くことによっ
てガスで充填される。リザーバ３５０がガスで充たされ
た後、入口隔離バルブ３５２が閉じられる。次に、リザ
ーバ３５０内のガスの温度と圧力とが測定されて、レシ
ピステップの最初にリザーバ内にあるガスの初期質量が
決定される。温度検出装置３１４は、演算回路３２２へ
の入力として使用される温度信号３１８を発生させる。
圧力検出装置３１６は、これも回路３２２への入力とし
て使用される圧力信号３２０を発生させる。センサ３１
４と３１６から初期温度信号３１８と初期圧力信号３２
０を受け取ると、回路３２２によって、ガスの状態方程
式を使ってリザーバ３５０内にあるガスの初期質量が決
定される。
【００２５】プロセスガスは、隔離バルブ３５４と３６
２を開いてリザーバ３５０からのガスを放出することに
よって、チャンバ３６６に送出される。プロセスチャン
バ圧力は、リザーバ３５０のガス圧力よりも低圧状態に
ある。従って、バルブ３５４と３６２を開くことによっ
て、ガス流は、制御バルブ３５６とオリフィス３６０を
通ってプロセスチャンバ３６６に向けられる。流量制御
サーボループ３０８を用いて、被測定ガス流量信号３３
０と、被較正所望流れ入力信号３０６とに応答して流量
制御バルブ３５６の位置が動的に制御される。先に検討
したように、オリフィス３６０の上流地点で測定された
ガス圧力は、流量が音速以上のときの、オリフィスを通
過するガスの流量に関係する。一実施形態において、圧
力検出装置３５８で測定した圧力とガス流量との間の相
関は線形化されて、オリフィス線形化回路３３２内に記
憶される。このような実施形態では、装置３５０によっ
て生じた圧力信号３２８が、回路３３２への入力として
使用される。回路３３２によって、圧力信号３２８が、
流量制御サーボ３０８への入力として働く被測定流れ信
号３３０に変換される。被較正所望流れ入力信号３０６
は、ゲイン回路３０４によって流量制御サーボ３０８に
提供される。第２圧力検出装置３７０は、図４に示すよ
うに、オリフィス３６０の下流地点に配置されてもよ
い。このようにして、オリフィス３６０を跨ぐ差圧が決
定されて、回路３３２への入力として使用され得る。こ
のような実施形態で、回路３３２によって、差圧信号３
７２は、流量制御サーボ３０８への入力として役立つ被
測定流れ信号３３０に変換される。
２を開いてリザーバ３５０からのガスを放出することに
よって、チャンバ３６６に送出される。プロセスチャン
バ圧力は、リザーバ３５０のガス圧力よりも低圧状態に
ある。従って、バルブ３５４と３６２を開くことによっ
て、ガス流は、制御バルブ３５６とオリフィス３６０を
通ってプロセスチャンバ３６６に向けられる。流量制御
サーボループ３０８を用いて、被測定ガス流量信号３３
０と、被較正所望流れ入力信号３０６とに応答して流量
制御バルブ３５６の位置が動的に制御される。先に検討
したように、オリフィス３６０の上流地点で測定された
ガス圧力は、流量が音速以上のときの、オリフィスを通
過するガスの流量に関係する。一実施形態において、圧
力検出装置３５８で測定した圧力とガス流量との間の相
関は線形化されて、オリフィス線形化回路３３２内に記
憶される。このような実施形態では、装置３５０によっ
て生じた圧力信号３２８が、回路３３２への入力として
使用される。回路３３２によって、圧力信号３２８が、
流量制御サーボ３０８への入力として働く被測定流れ信
号３３０に変換される。被較正所望流れ入力信号３０６
は、ゲイン回路３０４によって流量制御サーボ３０８に
提供される。第２圧力検出装置３７０は、図４に示すよ
うに、オリフィス３６０の下流地点に配置されてもよ
い。このようにして、オリフィス３６０を跨ぐ差圧が決
定されて、回路３３２への入力として使用され得る。こ
のような実施形態で、回路３３２によって、差圧信号３
７２は、流量制御サーボ３０８への入力として役立つ被
測定流れ信号３３０に変換される。
【００２６】所望流量で流れを開始する命令によって、
所望流れ入力信号３０２がゲイン回路３０４に提供され
る。ゲイン回路３０４は、較正サーボループ３２６から
較正信号３０３を受け取って、所望流れ入力信号を、記
憶された公称ガス流量と、対応する電圧設定点に相関さ
せ、電圧設定点値を、被較正所望流れ入力信号３０６と
して出力する。上記のように、被較正所望流れ入力信号
３０６は、流量制御サーボループ３０８への入力として
役立つ。被較正所望流れ入力信号３０６を受け取ると、
流量制御サーボループ３０８は、信号３０６と３３０と
を比較して、流量制御バルブ３５６の位置を調節するた
めの制御信号３１０を発生させる。
所望流れ入力信号３０２がゲイン回路３０４に提供され
る。ゲイン回路３０４は、較正サーボループ３２６から
較正信号３０３を受け取って、所望流れ入力信号を、記
憶された公称ガス流量と、対応する電圧設定点に相関さ
せ、電圧設定点値を、被較正所望流れ入力信号３０６と
して出力する。上記のように、被較正所望流れ入力信号
３０６は、流量制御サーボループ３０８への入力として
役立つ。被較正所望流れ入力信号３０６を受け取ると、
流量制御サーボループ３０８は、信号３０６と３３０と
を比較して、流量制御バルブ３５６の位置を調節するた
めの制御信号３１０を発生させる。
【００２７】プロセスレシピステップが完了すると、リ
ザーバ３５０からプロセスチャンバ３６６へのガス流
は、リザーバ出口隔離バルブ３５４と装置隔離バルブ３
６２を閉じることによって終了される。リザーバ３５０
内にあるガスの温度と圧力が再び測定されて、リザーバ
内にあるガスの最終質量が決定される。温度と圧力の測
定値は、温度検出装置３１４と圧力検出装置３１６とに
よって得られる。リザーバ３５０内にあるガスの最終質
量は回路３２２によって算出される。回路３２２によっ
て、リザーバ内にあるガスの初期質量とガスの最終質量
とが比較されて、レシピステップ中にリザーバから放出
されるガスの実際質量を表す出力信号３２４が発生され
る。バルブ３５４と３６２と間に位置する配管内に少量
のガスが捕捉されているので、チャンバ３６６に送出さ
れるガスの実際量の決定時に、配管内にあるガスの量を
補償するように回路３２２を構成してもよい。大きな体
積流量の場合は、バルブ３５４とバルブ３６２と間の配
管内に捕捉されるガスの量は重要ではないだろう。その
ような状況において、チャンバ３６６に実際に送出され
るガス量の決定時に、捕捉されたガスを補償する必要は
ないだろう。信号３２４は較正サーボループ３２６への
入力として役立つ。
ザーバ３５０からプロセスチャンバ３６６へのガス流
は、リザーバ出口隔離バルブ３５４と装置隔離バルブ３
６２を閉じることによって終了される。リザーバ３５０
内にあるガスの温度と圧力が再び測定されて、リザーバ
内にあるガスの最終質量が決定される。温度と圧力の測
定値は、温度検出装置３１４と圧力検出装置３１６とに
よって得られる。リザーバ３５０内にあるガスの最終質
量は回路３２２によって算出される。回路３２２によっ
て、リザーバ内にあるガスの初期質量とガスの最終質量
とが比較されて、レシピステップ中にリザーバから放出
されるガスの実際質量を表す出力信号３２４が発生され
る。バルブ３５４と３６２と間に位置する配管内に少量
のガスが捕捉されているので、チャンバ３６６に送出さ
れるガスの実際量の決定時に、配管内にあるガスの量を
補償するように回路３２２を構成してもよい。大きな体
積流量の場合は、バルブ３５４とバルブ３６２と間の配
管内に捕捉されるガスの量は重要ではないだろう。その
ような状況において、チャンバ３６６に実際に送出され
るガス量の決定時に、捕捉されたガスを補償する必要は
ないだろう。信号３２４は較正サーボループ３２６への
入力として役立つ。
【００２８】レシピステップ中にリザーバ３５０から放
出すべきガスの所望量に対応する信号は、レシピステッ
プ中にリザーバ出口隔離バルブ３５４が開いている全期
間にわたって所望流れ入力信号３０２を積分することに
より決定される。積分回路３３４は積分機能を実行し
て、いま完了したプロセスレシピステップ中に放出すべ
きガスの所望量を表す信号３３６を発生させる。リザー
バから放出すべきガスの所望量（信号３３６）と、リザ
ーバから放出されたガスの実際質量（信号３２４）との
比較によって、較正サーボループ３２６によって決定さ
れる補正／較正信号３０３が決められる。一実施形態に
おいて、較正サーボループ３２６は比例積分微分（ＰＩ
Ｄ）コントローラを備えている。較正信号３０３はゲイ
ン回路３０４への入力として使用されて、いま完了した
プロセスステップのための所望流量に対応する電圧設定
点が更新又は調整される。言い換えれば、特定公称流量
に関係した電圧出力設定点が、各プロセスレシピステッ
プの完了と同時に更新されて、先に導かれた一つ以上の
実際流量と、その対応する所望流量との差が補償され
る。従って、自己較正は、精確に導かれたガス質量値に
応答してゲイン回路設定点値を反復更新することによっ
て達成される本発明は、レシピステップ中に、プロセス
チャンバへ送出されるガスの実際質量を決定する際に、
精確に導かれた値を使用するので、装置較正定数の算出
は、ガス送出装置性能の絶対的で独立した基準として役
立つ。例えば、オリフィス３６０と流量制御バルブ３５
６の流れ定数ＣV は、熱的影響、磨耗、及び粒子集積が
原因で、時間の経過と共に変化することが知られてい
る。更に、容量式圧力計３５８等の計測装置の出力信号
は、時間の経過と共に、流れサーボループ３０８の精度
に悪影響を及ぼすドリフトを経験することも知られてい
る。本発明は、ガス送出装置レシピ要素に固有の変数か
らは独立した装置較正定数を確定できるので、本発明
は、ＭＦＣその他従来型流量制御装置を使用して得られ
る精度よりもはるかに高精度でガス流量を制御する能力
を有している。その上、ガス流量送出装置の動的範囲
（最小制御ガス流量に対する対最大制御ガス流量の比）
は、従来技術の方法よりも大きく向上している。例え
ば、従来の流量制御装置の動的範囲は１０／１以下であ
る。２００／１以上の範囲の動的範囲が、本発明のガス
流量送出装置と方法で達成されるであろう。
出すべきガスの所望量に対応する信号は、レシピステッ
プ中にリザーバ出口隔離バルブ３５４が開いている全期
間にわたって所望流れ入力信号３０２を積分することに
より決定される。積分回路３３４は積分機能を実行し
て、いま完了したプロセスレシピステップ中に放出すべ
きガスの所望量を表す信号３３６を発生させる。リザー
バから放出すべきガスの所望量（信号３３６）と、リザ
ーバから放出されたガスの実際質量（信号３２４）との
比較によって、較正サーボループ３２６によって決定さ
れる補正／較正信号３０３が決められる。一実施形態に
おいて、較正サーボループ３２６は比例積分微分（ＰＩ
Ｄ）コントローラを備えている。較正信号３０３はゲイ
ン回路３０４への入力として使用されて、いま完了した
プロセスステップのための所望流量に対応する電圧設定
点が更新又は調整される。言い換えれば、特定公称流量
に関係した電圧出力設定点が、各プロセスレシピステッ
プの完了と同時に更新されて、先に導かれた一つ以上の
実際流量と、その対応する所望流量との差が補償され
る。従って、自己較正は、精確に導かれたガス質量値に
応答してゲイン回路設定点値を反復更新することによっ
て達成される本発明は、レシピステップ中に、プロセス
チャンバへ送出されるガスの実際質量を決定する際に、
精確に導かれた値を使用するので、装置較正定数の算出
は、ガス送出装置性能の絶対的で独立した基準として役
立つ。例えば、オリフィス３６０と流量制御バルブ３５
６の流れ定数ＣV は、熱的影響、磨耗、及び粒子集積が
原因で、時間の経過と共に変化することが知られてい
る。更に、容量式圧力計３５８等の計測装置の出力信号
は、時間の経過と共に、流れサーボループ３０８の精度
に悪影響を及ぼすドリフトを経験することも知られてい
る。本発明は、ガス送出装置レシピ要素に固有の変数か
らは独立した装置較正定数を確定できるので、本発明
は、ＭＦＣその他従来型流量制御装置を使用して得られ
る精度よりもはるかに高精度でガス流量を制御する能力
を有している。その上、ガス流量送出装置の動的範囲
（最小制御ガス流量に対する対最大制御ガス流量の比）
は、従来技術の方法よりも大きく向上している。例え
ば、従来の流量制御装置の動的範囲は１０／１以下であ
る。２００／１以上の範囲の動的範囲が、本発明のガス
流量送出装置と方法で達成されるであろう。
【００２９】一部の例では、リザーバ３５０をバイパス
することが望ましいこともある。そのような場合、ガス
はリザーババイパスバルブ３８０を通り、制御バルブ３
５６を介してプロセスチャンバ３６６に送出してもよ
い。リザーバ３５０をバイパスするときは、先に導かれ
た計算値を他の制御パラメータと共に使用して、流量制
御バルブ３５６を通るガス流を制御する。
することが望ましいこともある。そのような場合、ガス
はリザーババイパスバルブ３８０を通り、制御バルブ３
５６を介してプロセスチャンバ３６６に送出してもよ
い。リザーバ３５０をバイパスするときは、先に導かれ
た計算値を他の制御パラメータと共に使用して、流量制
御バルブ３５６を通るガス流を制御する。
【００３０】上記の説明では、自己較正式動的流量制御
装置３０１を、互いに関連して動作して被較正流量制御
信号を発生させる各種回路を含むように説明した。本発
明が制御装置レシピ要素の特定セットの使用に限定され
ないことを認識されたい。例えば、従来の電気／電子ス
イッチング技術と従来のソリッドステートマイクロプロ
セッサ技術とを使用して、本発明の方法によってガス流
を制御してもよい。そのような要素はコンピュータ又は
マイクロプロセッサ、ディジタル信号プロセッサ、ファ
ームウェア、ディジタルハードウェア、離散型ハードウ
ェア、ソフトウェアルーチン、プログラマブルハードウ
ェア又は集積回路、出力信号アンプ、記憶メモリ等を含
んでもよい。一実施形態において、制御装置３０１は、
プロセスレシピステップ開始時における制御バルブ３５
６の初期位置決め時の援けとなるルックアップテーブル
も含む。このルックアップテーブルは、送出される特定
プロセスガスに関する較正情報と、リザーバ３５０内に
あるプロセスガスの初期温度と圧力が与えられたときに
制御装置３０１による制御バルブ３５６の初期位置の確
定を可能にする制御バルブ位置に関する較正情報と、を
含む。当業者には、リザーバ入口隔離バルブ３５２、リ
ザーバ出口隔離バルブ３５４、装置隔離バルブ３６２、
及び真空パージバルブ３６４が、同一の制御装置、又は
別の制御装置によって自動的に作動できることも自明で
あろう。一実施形態において、制御装置３０１は、制御
バルブ３５６と共に、入口隔離バルブ３５２と出口隔離
バルブ３５４とをそれぞれ作動させる。
装置３０１を、互いに関連して動作して被較正流量制御
信号を発生させる各種回路を含むように説明した。本発
明が制御装置レシピ要素の特定セットの使用に限定され
ないことを認識されたい。例えば、従来の電気／電子ス
イッチング技術と従来のソリッドステートマイクロプロ
セッサ技術とを使用して、本発明の方法によってガス流
を制御してもよい。そのような要素はコンピュータ又は
マイクロプロセッサ、ディジタル信号プロセッサ、ファ
ームウェア、ディジタルハードウェア、離散型ハードウ
ェア、ソフトウェアルーチン、プログラマブルハードウ
ェア又は集積回路、出力信号アンプ、記憶メモリ等を含
んでもよい。一実施形態において、制御装置３０１は、
プロセスレシピステップ開始時における制御バルブ３５
６の初期位置決め時の援けとなるルックアップテーブル
も含む。このルックアップテーブルは、送出される特定
プロセスガスに関する較正情報と、リザーバ３５０内に
あるプロセスガスの初期温度と圧力が与えられたときに
制御装置３０１による制御バルブ３５６の初期位置の確
定を可能にする制御バルブ位置に関する較正情報と、を
含む。当業者には、リザーバ入口隔離バルブ３５２、リ
ザーバ出口隔離バルブ３５４、装置隔離バルブ３６２、
及び真空パージバルブ３６４が、同一の制御装置、又は
別の制御装置によって自動的に作動できることも自明で
あろう。一実施形態において、制御装置３０１は、制御
バルブ３５６と共に、入口隔離バルブ３５２と出口隔離
バルブ３５４とをそれぞれ作動させる。
【００３１】先の説明は、リザーバ内にあるガスの初期
質量とガスの最終質量を決定するために、温度測定を利
用することを含んでいた。そのような温度測定は、ガス
送出装置が等温状態で運転される場合には必要がないこ
とを認識されたい。従って、リザーバ３５０内のガスの
温度が温度制御装置その他の装置によって一定に保たれ
る場合、上記のようにガスの温度を測定する必要はな
い。
質量とガスの最終質量を決定するために、温度測定を利
用することを含んでいた。そのような温度測定は、ガス
送出装置が等温状態で運転される場合には必要がないこ
とを認識されたい。従って、リザーバ３５０内のガスの
温度が温度制御装置その他の装置によって一定に保たれ
る場合、上記のようにガスの温度を測定する必要はな
い。
【００３２】オリフィス３６０のサイズ、流量制御バル
ブ３５６のスロート（流れ面積）のサイズ、及びリザー
バ３５０のサイズは、ガス送出装置の特定の流れ要件に
よって変えてよい。一実施形態において、ガス送出装置
レシピ要素は、上流オリフィス３６０の位置で２〜１０
ｐｓｉaの圧力を保つように寸法決めされて制御され
る。オリフィス上流で圧力を制御することによって、ユ
ーザは装置の動的制御範囲を制御することが可能にな
る。
ブ３５６のスロート（流れ面積）のサイズ、及びリザー
バ３５０のサイズは、ガス送出装置の特定の流れ要件に
よって変えてよい。一実施形態において、ガス送出装置
レシピ要素は、上流オリフィス３６０の位置で２〜１０
ｐｓｉaの圧力を保つように寸法決めされて制御され
る。オリフィス上流で圧力を制御することによって、ユ
ーザは装置の動的制御範囲を制御することが可能にな
る。
【００３３】図６は、本発明によるプロセスレシピステ
ップ中に、リザーバ３５０からプロセスチャンバ３６６
へのガス流を制御するために使用される方法を表すフロ
ーチャートを示す。プロセスレシピステップが開始され
ると、所望流れ入力信号３０２と較正信号３０６とが流
量制御回路３０８に提供されて、被較正所望流れ入力信
号３１０が発生される。被較正所望流れ入力信号３１０
の発生と同時又はそれに少し先立ってリザーバ３５０が
充填され、リザーバ内のガスの温度と圧力が、リザーバ
内にあるガスの初期質量を決定するために測定される。
被較正所望流れ入力信号が受け取られると、流量制御回
路３０８によって制御信号が流量制御バルブ３５６に提
供されて、流量制御バルブの位置が調節される。リザー
バ３５０からプロセスチャンバ３６６へのガス流は、リ
ザーバ出口隔離バルブ３５４と装置隔離バルブ３６２と
を開くことによって開始される。ガスの流量は、音波オ
リフィス３６０の上流地点でガスの圧力を検出すること
によって測定される。圧力検出装置３５８によって測定
された圧力に対応する被測定流れ信号３３０が、回路３
０８に提供される。プロセスレシピステップが完了する
と、リザーバ３５０からプロセスチャンバ３６６へのガ
ス流は、リザーバ出口隔離バルブ３５４を閉じることに
よって終了される。リザーバ３５０内に残るガスの最終
質量は、リザーバ内のガスの温度と圧力を再び測定する
ことによって決定される。次いで、リザーバから放出さ
れたガスの実際質量が、初期質量計算から最終質量計算
を差し引くことによって算出される。この計算を表す実
際質量信号３２４が較正回路３２６に提供される。リザ
ーバ３５０から分配されたガスの実際質量の決定に関連
して、いま完了したレシピステップに要求されるガスの
所望質量が、リザーバ３５０からプロセスチャンバ３６
６内に放出された全期間にわたって所望流れ入力信号を
積分することによって計算出される。この機能は通常、
ガス要求信号３３６を発生する積分回路３３４によって
実行される。所望ガス質量信号３３６は較正回路３２６
への入力としても役立てられる。信号３２４と３３６を
受け取ると、較正回路３２６は、更新された装置較正係
数を決定して、信号３２４と３３６の間の比較に関係す
る較正信号３０３を発生させる。更新された較正信号３
０３は次に、後続のプロセスレシピステップで使用され
て、所望流れ入力信号３０２が、被較正所望流れ入力信
号３０６に調節される。
ップ中に、リザーバ３５０からプロセスチャンバ３６６
へのガス流を制御するために使用される方法を表すフロ
ーチャートを示す。プロセスレシピステップが開始され
ると、所望流れ入力信号３０２と較正信号３０６とが流
量制御回路３０８に提供されて、被較正所望流れ入力信
号３１０が発生される。被較正所望流れ入力信号３１０
の発生と同時又はそれに少し先立ってリザーバ３５０が
充填され、リザーバ内のガスの温度と圧力が、リザーバ
内にあるガスの初期質量を決定するために測定される。
被較正所望流れ入力信号が受け取られると、流量制御回
路３０８によって制御信号が流量制御バルブ３５６に提
供されて、流量制御バルブの位置が調節される。リザー
バ３５０からプロセスチャンバ３６６へのガス流は、リ
ザーバ出口隔離バルブ３５４と装置隔離バルブ３６２と
を開くことによって開始される。ガスの流量は、音波オ
リフィス３６０の上流地点でガスの圧力を検出すること
によって測定される。圧力検出装置３５８によって測定
された圧力に対応する被測定流れ信号３３０が、回路３
０８に提供される。プロセスレシピステップが完了する
と、リザーバ３５０からプロセスチャンバ３６６へのガ
ス流は、リザーバ出口隔離バルブ３５４を閉じることに
よって終了される。リザーバ３５０内に残るガスの最終
質量は、リザーバ内のガスの温度と圧力を再び測定する
ことによって決定される。次いで、リザーバから放出さ
れたガスの実際質量が、初期質量計算から最終質量計算
を差し引くことによって算出される。この計算を表す実
際質量信号３２４が較正回路３２６に提供される。リザ
ーバ３５０から分配されたガスの実際質量の決定に関連
して、いま完了したレシピステップに要求されるガスの
所望質量が、リザーバ３５０からプロセスチャンバ３６
６内に放出された全期間にわたって所望流れ入力信号を
積分することによって計算出される。この機能は通常、
ガス要求信号３３６を発生する積分回路３３４によって
実行される。所望ガス質量信号３３６は較正回路３２６
への入力としても役立てられる。信号３２４と３３６を
受け取ると、較正回路３２６は、更新された装置較正係
数を決定して、信号３２４と３３６の間の比較に関係す
る較正信号３０３を発生させる。更新された較正信号３
０３は次に、後続のプロセスレシピステップで使用され
て、所望流れ入力信号３０２が、被較正所望流れ入力信
号３０６に調節される。
【００３４】一実施形態において、隔離バルブ３５４と
３６２の間に配置されたガス送出装置３００の一部が、
リザーバ３５０からチャンバ３６６へのガス流の開始に
先立って減圧排気される。装置からのガス及び／又は捕
捉空気の減圧排気は、パージ隔離バルブ３６４を開くこ
とによって達成されて、真空ポンプその他の真空源によ
る装置上への真空の引込みが可能となる。前述のよう
に、流路の減圧排気は、ガスがリザーバからプロセスチ
ャンバ内に最初に放出されるときの流れスパイクの発生
の最少化に役立つ。
３６２の間に配置されたガス送出装置３００の一部が、
リザーバ３５０からチャンバ３６６へのガス流の開始に
先立って減圧排気される。装置からのガス及び／又は捕
捉空気の減圧排気は、パージ隔離バルブ３６４を開くこ
とによって達成されて、真空ポンプその他の真空源によ
る装置上への真空の引込みが可能となる。前述のよう
に、流路の減圧排気は、ガスがリザーバからプロセスチ
ャンバ内に最初に放出されるときの流れスパイクの発生
の最少化に役立つ。
【００３５】上記の説明はガス送出装置と方法に限定さ
れ、その中でガスは既知の容積のリザーバから単一のガ
ス流チャネルに送出される。しかしながら、本発明のガ
ス送出装置は、単一ガス流量コントローラを通るガスの
送出に限定されないことを認識されたい。図５は、本発
明の教示を使用して、リザーバ５５０から複数のガス流
チャネル５７０と５７２にガスを送出するガス流制御装
置を示す。図５は、二つの独立した流れチャネル５７０
と５７２を含むガス流制御装置を示すが、本発明はその
ような実施形態に限定されず、一つ以上のプロセスチャ
ンバに接続された任意数のガス流チャネルを含んでよい
ことを認識されたい。
れ、その中でガスは既知の容積のリザーバから単一のガ
ス流チャネルに送出される。しかしながら、本発明のガ
ス送出装置は、単一ガス流量コントローラを通るガスの
送出に限定されないことを認識されたい。図５は、本発
明の教示を使用して、リザーバ５５０から複数のガス流
チャネル５７０と５７２にガスを送出するガス流制御装
置を示す。図５は、二つの独立した流れチャネル５７０
と５７２を含むガス流制御装置を示すが、本発明はその
ような実施形態に限定されず、一つ以上のプロセスチャ
ンバに接続された任意数のガス流チャネルを含んでよい
ことを認識されたい。
【００３６】図５の装置では、プロセスガスをリザーバ
からガス流チャネル５７０又は５７２の何れかにガスを
放出することによって、ガスをリザーバ５５０からプロ
セスチャンバ５６６aか５６６ｂの何れかにそれぞれ送
出することができる。ガス源５９０か多重ガス源（５９
０と５９４）によってリザーバ５５０にガスが送出され
る。一部の例では、ガスを最初にリザーバ５５０を通す
ことなく、ガス流チャネル５７０又は５７２の何れかを
通してガスを向けることが望ましい場合もある。そのよ
うな流れ系(scheme)を許容するためには、リザーババイ
パスバルブ５８０aと５８０ｂがガス送出配管内に設け
られる。ガス流チャネル５７０は、隔離バルブ５５５
a、流量制御バルブ５５６a、圧力検出装置５５８a、オ
リフィス５６０a、及び装置隔離バルブ５６２aを含む。
同様に、ガス流チャネル５７２は、隔離バルブ５５５
a、流量制御バルブ５５６ｂ、圧力検出装置５５８ｂ、
オリフィス５６０ｂ、及び装置隔離バルブ５６２ｂを含
む。第２圧力検出装置（図示せず）を、オリフィス５６
０aと５６０ｂの下流地点で両ガス流チャネル５７０と
５７２内に含めてもよい。本発明によれば、自己較正式
動的ガス流制御回路５０１によって、制御信号５１０a
又は５１０ｂが流量制御バルブアクチュエータ５５７a
か５５７ｂの何れかに提供されて、プロセスチャンバ５
６６a又は５６６ｂへのガス流がそれぞれ制御される。
からガス流チャネル５７０又は５７２の何れかにガスを
放出することによって、ガスをリザーバ５５０からプロ
セスチャンバ５６６aか５６６ｂの何れかにそれぞれ送
出することができる。ガス源５９０か多重ガス源（５９
０と５９４）によってリザーバ５５０にガスが送出され
る。一部の例では、ガスを最初にリザーバ５５０を通す
ことなく、ガス流チャネル５７０又は５７２の何れかを
通してガスを向けることが望ましい場合もある。そのよ
うな流れ系(scheme)を許容するためには、リザーババイ
パスバルブ５８０aと５８０ｂがガス送出配管内に設け
られる。ガス流チャネル５７０は、隔離バルブ５５５
a、流量制御バルブ５５６a、圧力検出装置５５８a、オ
リフィス５６０a、及び装置隔離バルブ５６２aを含む。
同様に、ガス流チャネル５７２は、隔離バルブ５５５
a、流量制御バルブ５５６ｂ、圧力検出装置５５８ｂ、
オリフィス５６０ｂ、及び装置隔離バルブ５６２ｂを含
む。第２圧力検出装置（図示せず）を、オリフィス５６
０aと５６０ｂの下流地点で両ガス流チャネル５７０と
５７２内に含めてもよい。本発明によれば、自己較正式
動的ガス流制御回路５０１によって、制御信号５１０a
又は５１０ｂが流量制御バルブアクチュエータ５５７a
か５５７ｂの何れかに提供されて、プロセスチャンバ５
６６a又は５６６ｂへのガス流がそれぞれ制御される。
【００３７】リザーバ５５０は、入口隔離バルブ５５２
と出口隔離バルブ５４とを含む。リザーバ５５０は、リ
ザーバ内にあるガスの温度と圧力の測定に使用される温
度測定装置５１４と圧力測定装置５１６も含む。
と出口隔離バルブ５４とを含む。リザーバ５５０は、リ
ザーバ内にあるガスの温度と圧力の測定に使用される温
度測定装置５１４と圧力測定装置５１６も含む。
【００３８】リザーバ５５０からプロセスチャンバ５６
６aへのガス流が望ましいときは、ガス流は、アクチュ
エータ５５７aに制御された可変流量制御バルブ５５６a
によって計量される。逆に、リザーバ５５０からプロセ
スチャンバ５６６ｂへのガス流が望ましいとき、ガス流
は、アクチュエータ５５７ｂに制御された可変流量制御
バルブ５５６ｂによって計量される。二つの流量制御サ
ーボループ５０８a、５０８ｂが回路５０１内に含まれ
ており、制御信号５１０a又は５１０ｂを、アクチュエ
ータ５５７a又は５５７ｂにそれぞれ提供している。各
流量制御サーボループ５０８aと５０８ｂは、図３で説
明される流量制御サーボループ３０８と同様に機能す
る。流量制御サーボループ５０８aは、較正信号５０６a
と被測定ガス流量信号５３０aとを入力として受け取
る。オリフィス線形化回路５３２aは、被測定圧力信号
５２８aに応じて信号５３０aを発生する。流量制御サー
ボループ５０８ｂは、較正信号５０６ｂと被測定ガス流
量信号５３０ｂとを入力として受け取る。オリフィス線
形化回路５３２ｂは、被測定圧力信号５２８ｂに応答し
て信号５３０ｂを発生する。
６aへのガス流が望ましいときは、ガス流は、アクチュ
エータ５５７aに制御された可変流量制御バルブ５５６a
によって計量される。逆に、リザーバ５５０からプロセ
スチャンバ５６６ｂへのガス流が望ましいとき、ガス流
は、アクチュエータ５５７ｂに制御された可変流量制御
バルブ５５６ｂによって計量される。二つの流量制御サ
ーボループ５０８a、５０８ｂが回路５０１内に含まれ
ており、制御信号５１０a又は５１０ｂを、アクチュエ
ータ５５７a又は５５７ｂにそれぞれ提供している。各
流量制御サーボループ５０８aと５０８ｂは、図３で説
明される流量制御サーボループ３０８と同様に機能す
る。流量制御サーボループ５０８aは、較正信号５０６a
と被測定ガス流量信号５３０aとを入力として受け取
る。オリフィス線形化回路５３２aは、被測定圧力信号
５２８aに応じて信号５３０aを発生する。流量制御サー
ボループ５０８ｂは、較正信号５０６ｂと被測定ガス流
量信号５３０ｂとを入力として受け取る。オリフィス線
形化回路５３２ｂは、被測定圧力信号５２８ｂに応答し
て信号５３０ｂを発生する。
【００３９】本発明の一実施形態によれば、リザーバ５
５０は、プロセスレシピステップの開始と同時にガスで
充填される。既知の容積のリザーバ５５０は、出口隔離
バルブ５５４を閉じて入口隔離バルブ５５２を開くこと
によって、ガスで充填される。リザーバ５５０がガスで
充填された後、入口隔離バルブ５５２が閉じられる。次
に、リザーバ５５０内のガスの温度と圧力が測定され
て、レシピステップ開始時にリザーバ内にあるガスの初
期質量が決定される。温度検出装置５１４によって、演
算回路５２２への入力として使用される温度信号５１８
が発生される。圧力検出装置５１６によって、これも回
路５２２への入力として使用される圧力信号５２０が発
生される。センサ５１４と５１６とから初期温度信号と
圧力信号５１８と５２０とがそれぞれ受け取られると、
回路５２２によって、ガスの状態方程式を用いて、リザ
ーバ５５０にあるガスの初期質量が、決定される。
５０は、プロセスレシピステップの開始と同時にガスで
充填される。既知の容積のリザーバ５５０は、出口隔離
バルブ５５４を閉じて入口隔離バルブ５５２を開くこと
によって、ガスで充填される。リザーバ５５０がガスで
充填された後、入口隔離バルブ５５２が閉じられる。次
に、リザーバ５５０内のガスの温度と圧力が測定され
て、レシピステップ開始時にリザーバ内にあるガスの初
期質量が決定される。温度検出装置５１４によって、演
算回路５２２への入力として使用される温度信号５１８
が発生される。圧力検出装置５１６によって、これも回
路５２２への入力として使用される圧力信号５２０が発
生される。センサ５１４と５１６とから初期温度信号と
圧力信号５１８と５２０とがそれぞれ受け取られると、
回路５２２によって、ガスの状態方程式を用いて、リザ
ーバ５５０にあるガスの初期質量が、決定される。
【００４０】プロセスガスは、リザーバ５５０を介し
て、プロセスチャンバ５６６aか５６６ｂの何れかに送
出してよい。例えば、ガスは、リザーバ出口隔離バルブ
５５４とガス流チャネル５７０の隔離バルブ５５５aと
５６２aとを開いてリザーバ５５０からガスを放出する
ことによって、プロセスチャンバ５６６aに送出され
る。プロセスチャンバ圧力はリザーバ５５０内のガス圧
力より低圧状態にあるので、ガス流は、制御バルブ５５
６aとオリフィス５６０aを通ってプロセスチャンバ５６
６aに向けられる。流量制御サーボループ５０８aを使用
して、被測定ガス流量信号５３０aと、被較正所望流れ
入力信号５０６aに応じて流量制御バルブ５５６aの位置
を動的に制御する。オリフィス５６０aを通過するガス
の流量が音速より大きいときは、圧力検出装置５５８a
で測定されるガス圧力はオリフィス５６０aを通過する
ガスの流量に関係する。一実施形態において、圧力検出
装置５５８aで測定された圧力と、ガス流量との間の相
関は線形化されて、オリフィス線形化回路５３２a内に
記憶される。このような実施形態において、装置５５８
aによって生成された圧力信号５２８aは、回路５３２a
への入力として使用される。回路５３２aによって圧力
信号５２８aが、流量制御サーボ５０８aへの入力として
役立つ被測定流れ信号５３０aに変換される。被較正所
望流れ入力信号５０６aは、ゲイン回路５０４aによって
流量制御サーボ５０８aに提供される。上記のように、
第２圧力検出装置（図示せず）を、オリフィス５６０a
を跨ぐ差圧が決定されて回路５３２への入力として使用
できるように、オリフィス５６０aの下流地点に配置し
てもよい。そのような実施形態では、差圧信号は回路５
３２によって受け取られて、その信号は、流量制御サー
ボ５０８aへの入力として役立つ被測定流れ信号５３０a
に変換される。
て、プロセスチャンバ５６６aか５６６ｂの何れかに送
出してよい。例えば、ガスは、リザーバ出口隔離バルブ
５５４とガス流チャネル５７０の隔離バルブ５５５aと
５６２aとを開いてリザーバ５５０からガスを放出する
ことによって、プロセスチャンバ５６６aに送出され
る。プロセスチャンバ圧力はリザーバ５５０内のガス圧
力より低圧状態にあるので、ガス流は、制御バルブ５５
６aとオリフィス５６０aを通ってプロセスチャンバ５６
６aに向けられる。流量制御サーボループ５０８aを使用
して、被測定ガス流量信号５３０aと、被較正所望流れ
入力信号５０６aに応じて流量制御バルブ５５６aの位置
を動的に制御する。オリフィス５６０aを通過するガス
の流量が音速より大きいときは、圧力検出装置５５８a
で測定されるガス圧力はオリフィス５６０aを通過する
ガスの流量に関係する。一実施形態において、圧力検出
装置５５８aで測定された圧力と、ガス流量との間の相
関は線形化されて、オリフィス線形化回路５３２a内に
記憶される。このような実施形態において、装置５５８
aによって生成された圧力信号５２８aは、回路５３２a
への入力として使用される。回路５３２aによって圧力
信号５２８aが、流量制御サーボ５０８aへの入力として
役立つ被測定流れ信号５３０aに変換される。被較正所
望流れ入力信号５０６aは、ゲイン回路５０４aによって
流量制御サーボ５０８aに提供される。上記のように、
第２圧力検出装置（図示せず）を、オリフィス５６０a
を跨ぐ差圧が決定されて回路５３２への入力として使用
できるように、オリフィス５６０aの下流地点に配置し
てもよい。そのような実施形態では、差圧信号は回路５
３２によって受け取られて、その信号は、流量制御サー
ボ５０８aへの入力として役立つ被測定流れ信号５３０a
に変換される。
【００４１】所望流量でプロセスチャンバ５６６aへの
流れを開始する指令によって、所望流れ入力信号５０２
aがゲイン回路５０４aに提供される。逆に、ガス流が流
れチャネル５７２を介してプロセスチャンバ５６６ｂに
向けられるように選ばれると、信号５０２ｂがゲイン回
路５０４ｂに提供される。ガス流チャネル５７０がリザ
ーバ５５０からのガス流を受け取るように選択される
と、ゲイン回路５０４aは較正サーボループ５２６から
マルチプレクサ５０７を介して較正信号５０３を受け取
り、所望流れ入力信号が、記憶された公称ガス流量と、
対応する電圧設定点に相関されて、電圧設定点値が、被
較正所望流れ信号５０６aとして出力される。マルチプ
レクサ５０７は、リザーバ５５０からガスを受け取るよ
うに選択された流れチャネルに依存しており、ゲイン回
路５０４aか５０４ｂの何れかに信号５０３が向けられ
る。上記のように、被較正所望流れ入力信号５０６aは
流量制御サーボループ５０８aへの入力として役立つ。
被較正所望流れ入力信号５０６aを受け取ると、流量制
御サーボループ５０８aは信号５０６aと５３０aとを比
較して、流量制御バルブ５５６aの位置を調節するため
の制御信号５１０aが発生される。
流れを開始する指令によって、所望流れ入力信号５０２
aがゲイン回路５０４aに提供される。逆に、ガス流が流
れチャネル５７２を介してプロセスチャンバ５６６ｂに
向けられるように選ばれると、信号５０２ｂがゲイン回
路５０４ｂに提供される。ガス流チャネル５７０がリザ
ーバ５５０からのガス流を受け取るように選択される
と、ゲイン回路５０４aは較正サーボループ５２６から
マルチプレクサ５０７を介して較正信号５０３を受け取
り、所望流れ入力信号が、記憶された公称ガス流量と、
対応する電圧設定点に相関されて、電圧設定点値が、被
較正所望流れ信号５０６aとして出力される。マルチプ
レクサ５０７は、リザーバ５５０からガスを受け取るよ
うに選択された流れチャネルに依存しており、ゲイン回
路５０４aか５０４ｂの何れかに信号５０３が向けられ
る。上記のように、被較正所望流れ入力信号５０６aは
流量制御サーボループ５０８aへの入力として役立つ。
被較正所望流れ入力信号５０６aを受け取ると、流量制
御サーボループ５０８aは信号５０６aと５３０aとを比
較して、流量制御バルブ５５６aの位置を調節するため
の制御信号５１０aが発生される。
【００４２】プロセスレシピステップが完了すると、リ
ザーバ５５０からプロセスチャンバ５６６aへのガス流
は、リザーバ出口隔離バルブ５５４aとチャネル隔離バ
ルブ５５５a及び５６２aを閉じることによって終了され
る。リザーバ５５０内にあるガスの温度と圧力が再度測
定されて、リザーバ内にあるガスの最終質量が決定され
る。温度と圧力の測定は、温度と圧力検出装置５１４と
５１６によって得られる。リザーバ５５０内にあるガス
の最終質量は、回路５２２によって算出される。回路５
２２によって、リザーバ内にあるガスの初期質量とガス
の最終質量とを比較して、レシピステップ中にリザーバ
から放出されるガスの実際質量を表す出力信号５２４が
発生される。バルブ５５４aと５６２a間に配置された配
管内には少量のガスが捕捉されているので、回路５２２
は、チャンバ５６６aに送出されたガスの実際量を決定
するときに配管内にあるガスの量が補償されるように構
成されてもよい。信号５２４は較正サーボループ５２６
への入力として役立つ。
ザーバ５５０からプロセスチャンバ５６６aへのガス流
は、リザーバ出口隔離バルブ５５４aとチャネル隔離バ
ルブ５５５a及び５６２aを閉じることによって終了され
る。リザーバ５５０内にあるガスの温度と圧力が再度測
定されて、リザーバ内にあるガスの最終質量が決定され
る。温度と圧力の測定は、温度と圧力検出装置５１４と
５１６によって得られる。リザーバ５５０内にあるガス
の最終質量は、回路５２２によって算出される。回路５
２２によって、リザーバ内にあるガスの初期質量とガス
の最終質量とを比較して、レシピステップ中にリザーバ
から放出されるガスの実際質量を表す出力信号５２４が
発生される。バルブ５５４aと５６２a間に配置された配
管内には少量のガスが捕捉されているので、回路５２２
は、チャンバ５６６aに送出されたガスの実際量を決定
するときに配管内にあるガスの量が補償されるように構
成されてもよい。信号５２４は較正サーボループ５２６
への入力として役立つ。
【００４３】レシピステップ中にリザーバ５５０から放
出すべきガスの所望量に対応する信号は、レシピステッ
プ中にリザーバ出口隔離バルブ５５４aが開かれていた
全期間にわたって、所望流れ入力信号５０２aか５０２
ｂの何れかを積分することによって決定される。マルチ
プレクサ５０５は、リザーバ５５０からガスを受け取る
ように選択されたガス流チャネルに依存して、信号５０
２aか５０２ｂの何れかを積分回路５３４に向けるよう
に選択され得ることもできる。積分回路５３４は積分機
能を実行し、いま完了したプロセスレシピステップ中に
放出すべきガスの所望量を表す信号５３６を発生する。
リザーバから放出すべきガスの所望質量（信号５３６）
と、リザーバから放出されたガスの実際質量（信号５２
４）との比較によって、較正サーボループ５２６によっ
て決定される補正／較正信号５０３が決定される。先に
検討したように、較正信号５０３は、マルチプレクサ５
０７を介してゲイン回路５０４aか５０４ｂの何れかに
提供される。一実施形態において、較正サーボループ５
２６は比例積分微分（ＰＩＤ）コントローラを備えてい
る。較正信号５０３をゲイン回路５０４aへの入力とし
て用いて、いま完了したプロセスステップのための所望
流量に対応した電圧設定点が更新又は調節される。言い
換えれば、特定公称流量に関係する電圧出力設定点が各
プロセスレシピステップの完了と同時に更新されて、先
に導かれた一つ以上の実際流量と、その対応する所望流
量との差が補償される。従って、自己較正は、精確に導
かれたガス質量値に応答してゲイン回路設定点値を連続
的に更新することによって達成される。ゲイン回路５０
４aは、更新された設定点値を記憶するための記憶装置
を含む。リザーバ５５０からプロセスチャンバ５６６ｂ
へのガス流も同様に制御される。プロセスチャンバ５６
６ｂが、リザーバ５５０からのガス流を受け取るように
選択されたときは、マルチプレクサ５０５によって信号
５０２ｂが積分回路５３４に向けられて、マルチプレク
サ５０７によって較正信号５０３がゲイン回路５０４ｂ
に向けられる。
出すべきガスの所望量に対応する信号は、レシピステッ
プ中にリザーバ出口隔離バルブ５５４aが開かれていた
全期間にわたって、所望流れ入力信号５０２aか５０２
ｂの何れかを積分することによって決定される。マルチ
プレクサ５０５は、リザーバ５５０からガスを受け取る
ように選択されたガス流チャネルに依存して、信号５０
２aか５０２ｂの何れかを積分回路５３４に向けるよう
に選択され得ることもできる。積分回路５３４は積分機
能を実行し、いま完了したプロセスレシピステップ中に
放出すべきガスの所望量を表す信号５３６を発生する。
リザーバから放出すべきガスの所望質量（信号５３６）
と、リザーバから放出されたガスの実際質量（信号５２
４）との比較によって、較正サーボループ５２６によっ
て決定される補正／較正信号５０３が決定される。先に
検討したように、較正信号５０３は、マルチプレクサ５
０７を介してゲイン回路５０４aか５０４ｂの何れかに
提供される。一実施形態において、較正サーボループ５
２６は比例積分微分（ＰＩＤ）コントローラを備えてい
る。較正信号５０３をゲイン回路５０４aへの入力とし
て用いて、いま完了したプロセスステップのための所望
流量に対応した電圧設定点が更新又は調節される。言い
換えれば、特定公称流量に関係する電圧出力設定点が各
プロセスレシピステップの完了と同時に更新されて、先
に導かれた一つ以上の実際流量と、その対応する所望流
量との差が補償される。従って、自己較正は、精確に導
かれたガス質量値に応答してゲイン回路設定点値を連続
的に更新することによって達成される。ゲイン回路５０
４aは、更新された設定点値を記憶するための記憶装置
を含む。リザーバ５５０からプロセスチャンバ５６６ｂ
へのガス流も同様に制御される。プロセスチャンバ５６
６ｂが、リザーバ５５０からのガス流を受け取るように
選択されたときは、マルチプレクサ５０５によって信号
５０２ｂが積分回路５３４に向けられて、マルチプレク
サ５０７によって較正信号５０３がゲイン回路５０４ｂ
に向けられる。
【００４４】本発明の一実施形態によれば、ガス流をリ
ザーバ５５０から一方のガス流チャネル（５７０又は５
７２）が送出されると、その間、その同じガスか別のガ
スが他方のガス流チャネルに送出される。例えば、ガス
源５９０からのガスが、リザーバ５５０を介してリザー
バ５６６aに向けられている間、ガス源５９４からの別
のガスがプロセスチャンバ５６６ｂに送出されてもよ
い。隔離バルブ５９８がガス源隔離バルブ５９２と５９
６との間に設けられる。そのような実施形態では、充填
リザーバ５５０とバルブ５９８が閉じている間、ガス源
隔離バルブ５９２は開いている。ガスは、リザーバ出口
隔離バルブ５５４とチャネル入口隔離バルブ５５５aと
を開くことによって、リザーバ５５０から流れチャネル
５７０を介して向けられる。ガスがプロセスチャンバ５
６６aに送出されている間に、別のガスが流れチャネル
５７２を介してプロセスチャンバ５６６ｂに送出され
る。ガスは、ガス源隔離バルブ５９６とリザーババイパ
スバルブ５８０ｂとを開くことによって、流れチャネル
５７２に送出される。このようにして、流れを、流れチ
ャネル５７０と５７２を介してプロセスチャンバ５６６
aと５６６ｂに、それぞれ同時に向けてもよい。流れチ
ャネル５７０を通るガス流は、上記の自己較正流量制御
方法に従って流量制御バルブ５５６aによって制御され
て、流れチャネル５７２を通るガス流は、先に導かれた
較正値を使って流量制御バルブ５５６ｂによって制御さ
れる。図５は、二つのガス源と二つのガス流チャネルを
有するガス流装置を示すが、本発明の精神と範囲から逸
脱することなく、任意数のガス源とガス流チャネルがガ
ス送出装置に組み込まれ得ることを認識されたい。
ザーバ５５０から一方のガス流チャネル（５７０又は５
７２）が送出されると、その間、その同じガスか別のガ
スが他方のガス流チャネルに送出される。例えば、ガス
源５９０からのガスが、リザーバ５５０を介してリザー
バ５６６aに向けられている間、ガス源５９４からの別
のガスがプロセスチャンバ５６６ｂに送出されてもよ
い。隔離バルブ５９８がガス源隔離バルブ５９２と５９
６との間に設けられる。そのような実施形態では、充填
リザーバ５５０とバルブ５９８が閉じている間、ガス源
隔離バルブ５９２は開いている。ガスは、リザーバ出口
隔離バルブ５５４とチャネル入口隔離バルブ５５５aと
を開くことによって、リザーバ５５０から流れチャネル
５７０を介して向けられる。ガスがプロセスチャンバ５
６６aに送出されている間に、別のガスが流れチャネル
５７２を介してプロセスチャンバ５６６ｂに送出され
る。ガスは、ガス源隔離バルブ５９６とリザーババイパ
スバルブ５８０ｂとを開くことによって、流れチャネル
５７２に送出される。このようにして、流れを、流れチ
ャネル５７０と５７２を介してプロセスチャンバ５６６
aと５６６ｂに、それぞれ同時に向けてもよい。流れチ
ャネル５７０を通るガス流は、上記の自己較正流量制御
方法に従って流量制御バルブ５５６aによって制御され
て、流れチャネル５７２を通るガス流は、先に導かれた
較正値を使って流量制御バルブ５５６ｂによって制御さ
れる。図５は、二つのガス源と二つのガス流チャネルを
有するガス流装置を示すが、本発明の精神と範囲から逸
脱することなく、任意数のガス源とガス流チャネルがガ
ス送出装置に組み込まれ得ることを認識されたい。
【００４５】一実施形態において、真空源５６５がリザ
ーバ出口隔離バルブ５５４とガス流チャネル隔離バルブ
５５５a、５５５ｂとの間でガス送出装置配管に連結さ
れている。真空源を用いて、チャンバ５６６aか５６６
ｂの何れかへのガス流の開始に先立って、ガス送出装置
配管からガス及び／又は空気が減圧排気される。バルブ
５６４を用いて、ガス送出装置から真空源５６５が隔離
される。真空源５６５を、流れチャネル隔離バルブ５５
５a、５５５ｂの下流直下地点でガス送出装置配管に連
結されるように図示したが、真空源は、リザーバ隔離バ
ルブ５５５a及び５５５ｂと、チャンバ５６６a及び５６
６ｂとの間の任意地点でガス送出装置配管に連結され得
ることを認識されたい。
ーバ出口隔離バルブ５５４とガス流チャネル隔離バルブ
５５５a、５５５ｂとの間でガス送出装置配管に連結さ
れている。真空源を用いて、チャンバ５６６aか５６６
ｂの何れかへのガス流の開始に先立って、ガス送出装置
配管からガス及び／又は空気が減圧排気される。バルブ
５６４を用いて、ガス送出装置から真空源５６５が隔離
される。真空源５６５を、流れチャネル隔離バルブ５５
５a、５５５ｂの下流直下地点でガス送出装置配管に連
結されるように図示したが、真空源は、リザーバ隔離バ
ルブ５５５a及び５５５ｂと、チャンバ５６６a及び５６
６ｂとの間の任意地点でガス送出装置配管に連結され得
ることを認識されたい。
【００４６】本発明の多数の代替例及び変更例は、上記
を一読した当業者には恐らく自明となるであろう。説明
として図示、記載した様々な実施形態を決して制限的な
ものと見做してはならないことが理解されるべきであ
る。従って、様々な実施形態の詳細な参照的記述は、本
質的に本発明に不可欠と見做される特徴のみを列挙した
請求項の範囲を限定するものではない。
を一読した当業者には恐らく自明となるであろう。説明
として図示、記載した様々な実施形態を決して制限的な
ものと見做してはならないことが理解されるべきであ
る。従って、様々な実施形態の詳細な参照的記述は、本
質的に本発明に不可欠と見做される特徴のみを列挙した
請求項の範囲を限定するものではない。
【図１】ガス流の制御のために使用される従来技術の質
量流量コンローラ（ＭＦＣ）を示す図である。
量流量コンローラ（ＭＦＣ）を示す図である。
【図２】代表的な従来技術のガス送出装置を示す図であ
る。
る。
【図３】本発明の一実施形態の概略線図を示す図であ
る。
る。
【図４】本発明の別の実施形態の概略線図を示す図であ
る。
る。
【図５】本発明の更に別の実施形態の概略線図を示す図
である。
である。
【図６】本発明の一実施形態のフローチャートを示す図
である。
である。
Claims (23)
- 【請求項１】 既知の容積を有するリザーバから流出す
るガス流を制御するための方法であって、 所望流れ入力信号と較正信号とを第１回路に提供し、被
較正流れ入力信号を発生するステップと、 前記被較正流れ入力信号を流量制御回路に提供するステ
ップであって、前記流量制御回路が、前記リザーバの下
流のガス流路に配置された流量制御バルブへの制御信号
を発生して前記ガス流を制御するステップと、 リザーバ出口隔離バルブを開くことによって前記リザー
バからガスを放出するステップと、 前記ガス流路内の前記ガス流を前記流量制御バルブ下流
の場所で検出して、該ガス流を示す被測定流量信号を、
前記第１制御回路に提供するステップと、 前記リザーバ出口隔離バルブが開いている全期間にわた
って前記所望流れ入力信号を積分することによって、前
記リザーバから放出すべきガスの所望質量を算出し、該
所望質量を示す第１信号を発生するステップと、 前記出口隔離バルブを開く前の第１時点での前記リザー
バ内にあるガスの第１質量を、前記出口隔離バルブを閉
じた後の第２時点での前記リザーバ内にある前記ガスの
第２質量と比較することによって、前記リザーバから放
出されたガスの実際質量を算出して、該実際質量を示す
第２信号を発生させるステップと、 前記第１信号と第２信号とを比較して、更新された較正
信号を発生させるステップと、を備える方法。 - 【請求項２】 前記リザーバが入口隔離バルブを有して
おり、前記ガス流が、 前記入口隔離バルブが開き且つ前記出口隔離バルブが閉
じている間に、前記リザーバを前記ガスで充填するこ
と、 前記入口隔離バルブを閉すること、及び、 前記出口隔離バルブを開くこと、によって生成される請
求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 前記ガスの前記第１質量が前記第１時点
で、前記第２質量が前記第２時点で、前記リザーバ内の
前記ガスの温度と圧力を測定することによってそれぞれ
決定される請求項１に記載の方法。 - 【請求項４】 前記ガス流を検出する前記ステップが、
前記制御バルブの下流地点に配置されたオリフィスの上
流地点で前記ガスの圧力を測定することを含む請求項１
に記載の方法。 - 【請求項５】 前記ガス流を検出する前記ステップが、
前記制御バルブの下流地点に配置されたオリフィスの上
流地点と下流地点とで前記ガスの圧力を測定することを
含む請求項１に記載の方法。 - 【請求項６】 前記更新された較正信号を発生するステ
ップが、ＰＩＤコントローラによって実行される請求項
１に記載の方法。 - 【請求項７】 複数の先の第１信号を複数の対応する第
２信号と比較し、比較値の合計を平均することによって
前記較正信号が生成される請求項１に記載の方法。 - 【請求項８】 ガス流制御方法であって、 所望ガス流量を表す所望流量入力信号と較正信号とを第
１回路に提供して、被較正流れ入力信号を発生させるス
テップと、 前記被較正流れ入力信号を流量制御回路に提供するステ
ップであって、前記流量制御回路が、ガスリザーバ下流
のガス流路内に配置された流量制御バルブへの制御信号
を発生するステップと、 前記リザーバをガスで充填するステップであって、前記
リザーバが、既知の容積、入口隔離バルブ及び出口隔離
バルブを有し、前記入口隔離バルブが開き且つ前記出口
隔離バルブが閉じている間に前記充填が実行されるステ
ップと、 前記充填ステップ後に前記入口隔離バルブを閉じるステ
ップと、 前記リザーバ内の前記ガスの圧力と温度を測定して、前
記リザーバ内の前記ガスの第１質量を決定するステップ
と、 前記出口隔離バルブを第１時点で開いて、前記ガスを前
記流路内に放出するステップであって、前記流路が前記
流量制御バルブの下流に配置されたオリフィスを有して
いるステップと、 前記流路を通る前記ガスの流量を制御するステップと、 前記出口隔離バルブを第２時点で閉じるステップと、 前記リザーバ内の前記ガスの第２質量を決定するために
前記リザーバ内の前記ガスの圧力と温度を測定するステ
ップと、 前記第１時点と前記第２時点の間の全期間にわたって前
記所望流れ入力信号を積分することによって、前記リザ
ーバから放出すべきガスの所望質量を算出して、該所望
質量を示す第１信号を発生するステップと、 前記リザーバ内の前記ガスの前記第１質量と前記第２質
量とを比較することによって、前記リザーバから放出さ
れたガスの実際質量を決定し、該実際質量を示す第２信
号を発生するステップと、 前記第１信号と第２信号とを比較して、更新された較正
信号を発生させるステップと、を備え、 前記流量を制御するステップが、 制御バルブと前記音波オリフィスの間で前記ガスの流量
を測定して、該流量を示す被測定流量信号を発生させ、
前記被測定流量信号を前記流量制御回路に提供するこ
と、 前記被測定流量信号を前記被較正流れ入力信号と比較し
て、比較値に関係した前記制御信号を発生すること、及
び、 前記制御信号に応答して前記流量制御バルブのバルブ開
度を調節して、前記ガスの流量を制御すること、を含む
方法。 - 【請求項９】 前記ガスの流量を測定するステップが、
前記ガスの圧力を前記オリフィスの上流地点で測定する
ことを含む請求項８に記載の方法。 - 【請求項１０】 前記流量制御バルブの前記バルブ開度
を調節するステップが、前記制御信号に応答してバルブ
スロート位置を変化させるアクチュエータに前記制御信
号を提供することを含む請求項８に記載の方法。 - 【請求項１１】 前記更新された較正信号を発生させる
ステップが、ＰＩＤコントローラによって実行される請
求項８に記載の方法。 - 【請求項１２】 前記較正信号が、前記所望流量入力信
号に対応する少なくとも一つの先に導かれた較正信号を
有する前記更新された較正信号を平均することによって
生成される請求項８に記載の方法。 - 【請求項１３】 前記ガスを前記流路内に放出する前に
前記流路を減圧排気するステップを更に備える請求項８
に記載の方法。 - 【請求項１４】 ガス流制御装置であって、 入口隔離バルブと出口隔離バルブとを有する既知の容積
のリザーバと、 圧力信号を発生する、前記リザーバ内のガスの圧力を測
定するための圧力測定装置と、 温度信号を発生する、前記リザーバ内の前記ガスの温度
を測定するための温度測定装置と、 制御信号によって制御される、前記出口隔離バルブの下
流のガス流路内に配置されたガス流制御バルブと、 前記ガス流制御バルブの下流の前記ガス流路内に配置さ
れたオリフィスと、 圧力を示す出力流れ信号を発生する圧力測定装置と、 前記圧力信号を受け取り、前記オリフィスを通るガス流
量を示す流れ信号を出力する変換回路と、 前記制御信号を発生するためのガス流制御回路と、を備
え、 前記ガス流制御装置が、 所望流れ入力信号と較正信号とを受け取るように構成さ
れた第１回路であって、前記所望流れ入力信号と前記較
正信号とに応答して、被較正流れ入力信号を発生する第
１回路と、 前記被較正流れ入力信号を前記流れ信号と比較して、前
記制御信号を発生するように構成される第２回路と、 前記圧力信号と前記所望流れ入力信号とに応答して前記
較正信号を発生するための第３回路と、を備えるガス流
制御装置。 - 【請求項１５】 前記第３回路が、前記の温度、圧力及
び所望流れ入力の信号に応答して前記較正信号を発生す
る請求項１４に記載のガス流制御装置。 - 【請求項１６】 前記第３回路がＰＩＤコントローラを
備える請求項１４に記載のガス流制御装置。 - 【請求項１７】 前記温度測定装置が熱電対を備える請
求項１４に記載のガス流制御装置。 - 【請求項１８】 前記圧力測定装置が圧力計を備える請
求項１４に記載のガス流制御装置。 - 【請求項１９】 前記ガス流制御バルブが、前記制御信
号に応答してバルブディスク位置を変化させるアクチュ
エータを含む請求項１４に記載のガス流制御装置。 - 【請求項２０】 前記ガス流れセンサが圧力計を備える
請求項１４に記載のガス流制御装置。 - 【請求項２１】 前記第３回路が、前記所望流れ入力信
号に対応する少なくとも一つの先の較正信号を有する前
記較正信号を統計的に平均することによって発生する請
求項１４に記載のガス流制御装置。 - 【請求項２２】 前記ガスを前記ガス流路から減圧排気
するための手段を更に含む請求項１４に記載のガス流制
御装置。 - 【請求項２３】前記ガス流路から前記ガスを減圧排気す
るための前記手段が真空ポンプを含む請求項２２に記載
のガス流制御装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/840242 | 1997-04-17 | ||
| US08/840,242 US5865205A (en) | 1997-04-17 | 1997-04-17 | Dynamic gas flow controller |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1145122A true JPH1145122A (ja) | 1999-02-16 |
Family
ID=25281823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14497998A Withdrawn JPH1145122A (ja) | 1997-04-17 | 1998-04-17 | 動的ガス流コントローラ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5865205A (ja) |
| JP (1) | JPH1145122A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000259255A (ja) * | 1999-03-11 | 2000-09-22 | Ckd Corp | ガス供給制御装置 |
| JP2003529218A (ja) * | 2000-03-27 | 2003-09-30 | パーカー・ハニフィン・コーポレーション | 半導体製造におけるプロセス・ガスの流量制御 |
| KR100446708B1 (ko) * | 2002-10-16 | 2004-09-01 | 장영철 | 기계적 동기식 개폐수단을 구비하는 시간식 유량 제어장치 |
| US7918238B2 (en) | 2004-06-21 | 2011-04-05 | Hitachi Metals, Ltd. | Flow controller and its regulation method |
| US7979165B2 (en) | 2006-03-20 | 2011-07-12 | Hitachi Metals, Ltd. | Mass flow rate control apparatus, its calibration method and semiconductor-producing apparatus |
| JP2015138338A (ja) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法。 |
| JPWO2015064035A1 (ja) * | 2013-10-31 | 2017-03-09 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置 |
| JP2019525489A (ja) * | 2016-08-13 | 2019-09-05 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 処理チャンバへのガス流れを制御するための方法及び装置 |
| JP2021508129A (ja) * | 2018-02-02 | 2021-02-25 | エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッドＭｋｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 遮断弁を用いたパルスガス供給方法および装置 |
Families Citing this family (434)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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