JPH03156509A - マスフローコントローラ - Google Patents
マスフローコントローラInfo
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- JPH03156509A JPH03156509A JP1296880A JP29688089A JPH03156509A JP H03156509 A JPH03156509 A JP H03156509A JP 1296880 A JP1296880 A JP 1296880A JP 29688089 A JP29688089 A JP 29688089A JP H03156509 A JPH03156509 A JP H03156509A
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- rate sensor
- signal
- mfc
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
- Y10T137/7759—Responsive to change in rate of fluid flow
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
- Y10T137/7761—Electrically actuated valve
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、マスフローコントローラに関する。
〔従来の技術〕
例えば半導体の製造に用いられる各種のガスを半導体製
造装置に供給する場合、それらの供給流路にマスフロー
コントローラ(以下、MFCと云う)をそれぞれ設け、
これによってガス流量をそれぞれ調節している。
造装置に供給する場合、それらの供給流路にマスフロー
コントローラ(以下、MFCと云う)をそれぞれ設け、
これによってガス流量をそれぞれ調節している。
第3図は従来のMFCの構成を概略的に示すブロック図
で、この図において、lはガスなどの流体が流れる流路
で、矢印方向に流体が流れており、この流路1の上流側
には流体の流量を検出するための流量センサ部2が、ま
た、下流側には、後述するバルブ駆動部11からのバル
ブ駆動信号Wに基づいて弁開度を変えることにより流体
の−Illを加減する制御バルブ3が設けられている。
で、この図において、lはガスなどの流体が流れる流路
で、矢印方向に流体が流れており、この流路1の上流側
には流体の流量を検出するための流量センサ部2が、ま
た、下流側には、後述するバルブ駆動部11からのバル
ブ駆動信号Wに基づいて弁開度を変えることにより流体
の−Illを加減する制御バルブ3が設けられている。
前記流量センサ部2は流路1に設けられた例えば一対の
感熱センサからなる流量センサ4とこの流量センサ4を
構成部材の一部にしてなるセンサ回路5とからなり、流
量センサ4にて流路lを流れる流体の瞬時流量Qを検出
し、センサ回路5において電気的な流量センサ出力信号
Sに変換してこれを出力するように構成されている。
感熱センサからなる流量センサ4とこの流量センサ4を
構成部材の一部にしてなるセンサ回路5とからなり、流
量センサ4にて流路lを流れる流体の瞬時流量Qを検出
し、センサ回路5において電気的な流量センサ出力信号
Sに変換してこれを出力するように構成されている。
6は流量センサ部2の出力側に設けられるリニアライザ
である。このリニアライザ6は、通常、前記流量センサ
出力信号Sが、前記瞬時流量Qと厳密には比例(直線)
関係にはなく、非直線の関係にあるところから設けられ
るもので、流量センサ出力信号Sを折れ線近似等の手法
を用いて補正した後、流量測定信号としての流体の瞬時
検出流量Q3を出力するように構成されている。
である。このリニアライザ6は、通常、前記流量センサ
出力信号Sが、前記瞬時流量Qと厳密には比例(直線)
関係にはなく、非直線の関係にあるところから設けられ
るもので、流量センサ出力信号Sを折れ線近似等の手法
を用いて補正した後、流量測定信号としての流体の瞬時
検出流量Q3を出力するように構成されている。
前記瞬時検出流量Q3は流量表示計において表示できる
ようにアナログ出力端子7に出力されると共に、比較(
誤差検出)部8に入力される。この比較部8にはアナロ
グ入力端子9が接続されており、このアナログ入力端子
9を介して希望する流量を設定するための流量設定信号
S0が入力されるようにしである。そして、比較部8は
前記流量設定信号S0と瞬時検出流量Q!とを比較して
両者の差である差信号ε(−3s Qs )を出力す
るように構成されている。
ようにアナログ出力端子7に出力されると共に、比較(
誤差検出)部8に入力される。この比較部8にはアナロ
グ入力端子9が接続されており、このアナログ入力端子
9を介して希望する流量を設定するための流量設定信号
S0が入力されるようにしである。そして、比較部8は
前記流量設定信号S0と瞬時検出流量Q!とを比較して
両者の差である差信号ε(−3s Qs )を出力す
るように構成されている。
10はPIDilJ御などを行う演算制御部で、前記比
較部8からの差信号εと、予め設定されているP、
I、 Dなどの制御定数を用いて、例えば以下に示すよ
うな式によって、 t 所定の演算を行い、それによって得られる制御信号Vを
出力するように構成されている。すなわち、前記差信号
εが、ε〈0の場合は制御バルブ3を閉じる方向に駆動
する信号が、また、ε〉0の場合は制御バルブ3を開く
方向に駆動する信号が出力されるのである。
較部8からの差信号εと、予め設定されているP、
I、 Dなどの制御定数を用いて、例えば以下に示すよ
うな式によって、 t 所定の演算を行い、それによって得られる制御信号Vを
出力するように構成されている。すなわち、前記差信号
εが、ε〈0の場合は制御バルブ3を閉じる方向に駆動
する信号が、また、ε〉0の場合は制御バルブ3を開く
方向に駆動する信号が出力されるのである。
11はバルブ駆動部で、前記演算制御部lOからの制御
信号■に基づいてバルブ駆動信号Wを制御バルブ3に加
えて、これを駆動するように構成されている。
信号■に基づいてバルブ駆動信号Wを制御バルブ3に加
えて、これを駆動するように構成されている。
従って、上述のように構成されたMFCによれば、流量
センサ部2からの瞬時検出流量Q、と流量設定信号S、
とを比較部8において比較し、この比較部8から出力さ
れる差信号εを処理して得られる制御信号Vに基づいて
制御バルブ3の開度制御を行うことができ、これによっ
て、流体の流量を調整することができる。
センサ部2からの瞬時検出流量Q、と流量設定信号S、
とを比較部8において比較し、この比較部8から出力さ
れる差信号εを処理して得られる制御信号Vに基づいて
制御バルブ3の開度制御を行うことができ、これによっ
て、流体の流量を調整することができる。
ところで、上述の従来のMFCにおいては、その動作状
態は、外部から与えられる流量設定信号S、と、測定さ
れた瞬時検出流量Q、とによってのみ知ることができる
が、実際に問題が発生しまってから、すなわち、流量設
定信号S、と瞬時検出流IQsとの差が発生してからで
ないと問題を検出することができない。
態は、外部から与えられる流量設定信号S、と、測定さ
れた瞬時検出流量Q、とによってのみ知ることができる
が、実際に問題が発生しまってから、すなわち、流量設
定信号S、と瞬時検出流IQsとの差が発生してからで
ないと問題を検出することができない。
従って、問題が発生して初めてそれを知ることができる
ものであるため、半導体製造プロセスなどにおいては、
大量の不良品を発生したり、製造ラインを長時間にわた
って停止させてしまうなどより大きい問題を引き起こす
可能性がある。
ものであるため、半導体製造プロセスなどにおいては、
大量の不良品を発生したり、製造ラインを長時間にわた
って停止させてしまうなどより大きい問題を引き起こす
可能性がある。
また、上述のように構成されたMFCにおいては、その
制御対象である流体の種類や流量などによって流量セン
サ4の検出感度やP、 I、 Dillil定数が
微妙に変わるので、実際に半導体製造ラインに組み込ま
れた後の流体の種類や流量に変更などが生じた場合には
、MFCを半導体製造ラインから一旦取り外して調整し
なおすか、あるいは、別のMFCと交換するしか対策が
なかった。これは、大変な手間と時間とを必要とするも
ので、それだけ半導体の製造が遅れることになる。
制御対象である流体の種類や流量などによって流量セン
サ4の検出感度やP、 I、 Dillil定数が
微妙に変わるので、実際に半導体製造ラインに組み込ま
れた後の流体の種類や流量に変更などが生じた場合には
、MFCを半導体製造ラインから一旦取り外して調整し
なおすか、あるいは、別のMFCと交換するしか対策が
なかった。これは、大変な手間と時間とを必要とするも
ので、それだけ半導体の製造が遅れることになる。
更に、従来のMFCにおいては、流量センサ部2からの
流量測定信号Sや、流量センサ部2と比較部8との間に
設けられるリニアライザ6に対して出力される流量信号
や、演算制御部10からの制御信号Vなどを、MFCの
外部に読み出すことができなかったので、流量センサ部
2やリニアライザ6、あるいは、演算制御部10の異常
を個々に検出することができなかった。
流量測定信号Sや、流量センサ部2と比較部8との間に
設けられるリニアライザ6に対して出力される流量信号
や、演算制御部10からの制御信号Vなどを、MFCの
外部に読み出すことができなかったので、流量センサ部
2やリニアライザ6、あるいは、演算制御部10の異常
を個々に検出することができなかった。
本発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その
目的とするところは、第1に、MFC内部の動作状態を
外部から読み出せるようにすることによって問題が発生
しつつある時点(流量が変動する前の時点)で異常にな
りつつあることを簡単に知ることができるMFCを提供
することにあり、また、第2に、流体の種類や流量など
が変わっても、MFCを取り外して調整しなおしたり、
他のMFCに交換したりすることな(、高感度にあるい
は直線性よく流量を測定することができ、所定の流量制
御を確実に行うことができるMFCを提供することにあ
り、更に、第3に、流量センサ部などからの生の情報を
外部に読み出せるようにして、より素早く各部の異常な
どを発見できるMFCを提供することにある。
目的とするところは、第1に、MFC内部の動作状態を
外部から読み出せるようにすることによって問題が発生
しつつある時点(流量が変動する前の時点)で異常にな
りつつあることを簡単に知ることができるMFCを提供
することにあり、また、第2に、流体の種類や流量など
が変わっても、MFCを取り外して調整しなおしたり、
他のMFCに交換したりすることな(、高感度にあるい
は直線性よく流量を測定することができ、所定の流量制
御を確実に行うことができるMFCを提供することにあ
り、更に、第3に、流量センサ部などからの生の情報を
外部に読み出せるようにして、より素早く各部の異常な
どを発見できるMFCを提供することにある。
上述の目的を達成するため、本願においては次の3つの
手段を採用している。
手段を採用している。
すなわち、本願の第1発明に係るMFCは、制御バルブ
の変位量を検出するバルブ変位量検出部と、流量センサ
部の上流側または下流側の圧力、前記流量センサ部と前
記制御バルブとの間の圧力、前記制御バルブの下流側ま
たは上流側の圧力の少なくともその一つを検出する圧力
検出部と、前記流量センサ部の上流側または下流側の温
度、前記流量センサ部と前記制御バルブとの間の温度、
前記制御バルブの下流側または上流側の温度の少なくと
もその一つを検出する温度検出部とのうち、少なくとも
その一つを設けたことを特徴としていまた、本願の第2
発明に係るMFCは、流量センサ部からの流量測定信号
と乗算される感度定数を外部から読み出し書き換え自在
なように記憶する感度定数記憶部と、前記流量測定信号
と乗算されるフルスケール係数を外部から読み出し書き
換え自在なように記憶するフルスケール係数記憶部と、
前記流量センサ部と比較部との間に設けられるリニアラ
イザに対して出力される検量線データを外部から読み出
し書き換え自在なように記憶する検量線記憶部とのうち
、少なくともその一つを設けたことを特徴としている。
の変位量を検出するバルブ変位量検出部と、流量センサ
部の上流側または下流側の圧力、前記流量センサ部と前
記制御バルブとの間の圧力、前記制御バルブの下流側ま
たは上流側の圧力の少なくともその一つを検出する圧力
検出部と、前記流量センサ部の上流側または下流側の温
度、前記流量センサ部と前記制御バルブとの間の温度、
前記制御バルブの下流側または上流側の温度の少なくと
もその一つを検出する温度検出部とのうち、少なくとも
その一つを設けたことを特徴としていまた、本願の第2
発明に係るMFCは、流量センサ部からの流量測定信号
と乗算される感度定数を外部から読み出し書き換え自在
なように記憶する感度定数記憶部と、前記流量測定信号
と乗算されるフルスケール係数を外部から読み出し書き
換え自在なように記憶するフルスケール係数記憶部と、
前記流量センサ部と比較部との間に設けられるリニアラ
イザに対して出力される検量線データを外部から読み出
し書き換え自在なように記憶する検量線記憶部とのうち
、少なくともその一つを設けたことを特徴としている。
更に、本願の第3発明に係るMFCは、流量センサ部か
らの流量センサ出力信号と、前記流量センサ部と比較部
との間に設けられるリニアライザに対して出力される流
量信号と、演算制御部からの制御信号とのうち、少な(
ともその一つを外部に読み出せるようにしたことを特徴
としている。
らの流量センサ出力信号と、前記流量センサ部と比較部
との間に設けられるリニアライザに対して出力される流
量信号と、演算制御部からの制御信号とのうち、少な(
ともその一つを外部に読み出せるようにしたことを特徴
としている。
上記特徴的構成よりなる第1発明によれば、それぞれセ
ンサを有するバルブ変位量検出部、圧力検出部、温度検
出部を設けているので、MFC内の各部の状態を常に外
部から把握することができ、例えばこのようなMFCを
半導体製造ラインに設けた場合、半導体製造ラインの正
常時における流体系のデータ(MFCにおける設定流量
と制御バルブの開度、MFC内の各部の圧力並びに温度
、圧力と温度との関係など)と現在の状態とを比較する
ことができ、問題発生の兆候を知ることができる。そし
て、例えば設定流量に比較して制御バルブの開度が大き
いのに圧力および温度が正常であれば、制御バルブが詰
まりつつあることを知ることができる。従って、この場
合、代わりのMFCを予め用意しておき、次の生産が開
始されるまでの半導体製造ラインの停止時にMFCを交
換すればよい。
ンサを有するバルブ変位量検出部、圧力検出部、温度検
出部を設けているので、MFC内の各部の状態を常に外
部から把握することができ、例えばこのようなMFCを
半導体製造ラインに設けた場合、半導体製造ラインの正
常時における流体系のデータ(MFCにおける設定流量
と制御バルブの開度、MFC内の各部の圧力並びに温度
、圧力と温度との関係など)と現在の状態とを比較する
ことができ、問題発生の兆候を知ることができる。そし
て、例えば設定流量に比較して制御バルブの開度が大き
いのに圧力および温度が正常であれば、制御バルブが詰
まりつつあることを知ることができる。従って、この場
合、代わりのMFCを予め用意しておき、次の生産が開
始されるまでの半導体製造ラインの停止時にMFCを交
換すればよい。
また、上記特徴的構成よりなる第2発明によれば、流体
の種類や流量などが変更されても、感度定数やフルスケ
ール係数あるいは検量線データを外部から設定しなおす
ことにより、高感度にあるいは直線性よく流量を測定す
ることができ、所定の流量制御nを確実に行うことがで
きる。
の種類や流量などが変更されても、感度定数やフルスケ
ール係数あるいは検量線データを外部から設定しなおす
ことにより、高感度にあるいは直線性よく流量を測定す
ることができ、所定の流量制御nを確実に行うことがで
きる。
更に、上記特徴的構成よりなる第3発明によれば、流量
センサ部などMFC内部の個々の部分からの生の情報が
外部に読み出せるので、これらの部分における異常など
を個々に検出することができ、問題が大きくならないう
ちに対処することができる。
センサ部などMFC内部の個々の部分からの生の情報が
外部に読み出せるので、これらの部分における異常など
を個々に検出することができ、問題が大きくならないう
ちに対処することができる。
以下、本発明の一實施例を図面を参照しながら説明する
。以下の説明において、第3図における符号と同一符号
は同一物または相当物を示す。
。以下の説明において、第3図における符号と同一符号
は同一物または相当物を示す。
第1図は本発明に係るMFCの構成を概略的に示すブロ
ック図で、この図において、12はバルブ変位量検出部
で、制御バルブ3の弁開度を検出し、弁開度に応じたバ
ルブ開度信号■。を出力するように構成されている。な
お、前記制御バルブ3の弁開度の検出は、例えば弁の動
きに合わせてコンデンサ容量が変わるようにするなどし
て行うことができる。
ック図で、この図において、12はバルブ変位量検出部
で、制御バルブ3の弁開度を検出し、弁開度に応じたバ
ルブ開度信号■。を出力するように構成されている。な
お、前記制御バルブ3の弁開度の検出は、例えば弁の動
きに合わせてコンデンサ容量が変わるようにするなどし
て行うことができる。
13は圧力検出部で、例えばN個(図示例では3個)の
圧力センサ131.13g 、 13−によって、MF
C内の各部の圧力、すなわち、流量センサ部2の上流側
の圧力P1、流量センサ部2と制御バルブ3との間の圧
力Pt、制御バルブ3の下流側の圧力P、の少なくとも
その一つを検出して、圧力に応じた圧力信号P、 (n
= 1−N)を出力するように構成されている。
圧力センサ131.13g 、 13−によって、MF
C内の各部の圧力、すなわち、流量センサ部2の上流側
の圧力P1、流量センサ部2と制御バルブ3との間の圧
力Pt、制御バルブ3の下流側の圧力P、の少なくとも
その一つを検出して、圧力に応じた圧力信号P、 (n
= 1−N)を出力するように構成されている。
14は温度検出部で、例えばM個(図示例では3個)の
圧力センサ148.14g 、 14sによって、MF
C内の各部の温度、すなわち、流量センサ部2の上流側
の温度T1、流量センサ部2と制御Iバルブ3との間の
温度Tヨ、制御バルブ3の下流側の温度T、の少なくと
もその一つを検出して、温度に応じた温度信号Tea
(n −1〜M)を出力するように構成されている。
圧力センサ148.14g 、 14sによって、MF
C内の各部の温度、すなわち、流量センサ部2の上流側
の温度T1、流量センサ部2と制御Iバルブ3との間の
温度Tヨ、制御バルブ3の下流側の温度T、の少なくと
もその一つを検出して、温度に応じた温度信号Tea
(n −1〜M)を出力するように構成されている。
15は感度定数記憶部で、感度定数CFを記憶するもの
で、この感度定数CFは後述する乗算部17に出力され
る。そして、感度定数CFは後述するインターフェイス
部20を介して外部に読み出したり、書き換えることが
できる。
で、この感度定数CFは後述する乗算部17に出力され
る。そして、感度定数CFは後述するインターフェイス
部20を介して外部に読み出したり、書き換えることが
できる。
16はフルスケール係数記憶部で、フルスケール係数F
Sを記憶するもので、このフルスケール係数FSは後述
する乗算部17に出力される。そして、フルスケール係
数FSは後述するインターフェイス部20を介して外部
に読み出したり、書き換えることができる。
Sを記憶するもので、このフルスケール係数FSは後述
する乗算部17に出力される。そして、フルスケール係
数FSは後述するインターフェイス部20を介して外部
に読み出したり、書き換えることができる。
17は乗算部で、図示例では流量センサ部2のセンサ回
路5とリニアライザ6との間に設けられており、流量セ
ンサ部2からの流量センサ出力信号Sに、感度定数記憶
部からの感度定数CFと、フルスケール係数記憶部16
からのフルスケール係数FSとを乗じて、すなわち、5
−s−CF−FSにより、流体の瞬時流量Qを表すとこ
ろの瞬時検出流量としての流量信号Sを出力するもので
ある。
路5とリニアライザ6との間に設けられており、流量セ
ンサ部2からの流量センサ出力信号Sに、感度定数記憶
部からの感度定数CFと、フルスケール係数記憶部16
からのフルスケール係数FSとを乗じて、すなわち、5
−s−CF−FSにより、流体の瞬時流量Qを表すとこ
ろの瞬時検出流量としての流量信号Sを出力するもので
ある。
ところで、既に述べたように、通常、前記流量センサ出
力信号S(従って、前記流量信号S)は瞬時流量Qと厳
密には比例(直線)関係にはなく非直線の関係、すなわ
ち、Q≠α・S(αは比例定数)なる関係にある。そこ
で、流量センサ5における流体の瞬時流IQと流量信号
Sとの関係、すなわち、Q= f(S)なる関係を予め
求めておけば、流量信号Sから瞬時流量Qを出力するこ
とができる。
力信号S(従って、前記流量信号S)は瞬時流量Qと厳
密には比例(直線)関係にはなく非直線の関係、すなわ
ち、Q≠α・S(αは比例定数)なる関係にある。そこ
で、流量センサ5における流体の瞬時流IQと流量信号
Sとの関係、すなわち、Q= f(S)なる関係を予め
求めておけば、流量信号Sから瞬時流量Qを出力するこ
とができる。
18はこのような検量線データfを記憶する検量線記憶
部で、この検量線記憶部18からの検N線データfに基
づいてリニアライザ6において Q、amf (S)の
演算を行うことにより、流体の瞬時検出流IQ、を求め
ることができる。そして、前記検量線データfは後述す
るインターフェイス部20を介して外部に読み出したり
、書き換えることができる。
部で、この検量線記憶部18からの検N線データfに基
づいてリニアライザ6において Q、amf (S)の
演算を行うことにより、流体の瞬時検出流IQ、を求め
ることができる。そして、前記検量線データfは後述す
るインターフェイス部20を介して外部に読み出したり
、書き換えることができる。
19はPID定数など各種の制御定数を記憶している制
御定数記憶部で、演算制御部10における演算に必要な
定数、例えばP、 I、 Dの各定数を記憶し、これ
らを演算制御部lOに出力する。そして、出力すべき定
数は流量設定信号S、の大きさ、差信号εの大きさおよ
び変化の様子などによって予め記憶されている定数デー
タの中から選択される。
御定数記憶部で、演算制御部10における演算に必要な
定数、例えばP、 I、 Dの各定数を記憶し、これ
らを演算制御部lOに出力する。そして、出力すべき定
数は流量設定信号S、の大きさ、差信号εの大きさおよ
び変化の様子などによって予め記憶されている定数デー
タの中から選択される。
そして、前記定数データは後述するインターフェイス部
20を介して外部に読み出したり、書き換えることがで
きる。
20を介して外部に読み出したり、書き換えることがで
きる。
20はインターフェイス部で、装置全体を制御する外部
に設けられた制御装置(図外)からMFCに送られてく
る各種の制j2I信号を受信して、その制御n信号に基
づいてMFC内の各部を制御すると共に、各部から得ら
れる情報を前記制御装置に送信する機能を有しており、
第2図にその構成の一例を概略的に示す。
に設けられた制御装置(図外)からMFCに送られてく
る各種の制j2I信号を受信して、その制御n信号に基
づいてMFC内の各部を制御すると共に、各部から得ら
れる情報を前記制御装置に送信する機能を有しており、
第2図にその構成の一例を概略的に示す。
この回において、21はディジタル信号入力端子で、前
記制御装置から送られてくる流量設定信号S、、感度定
数CF、フルスケール定数FS、検量線データf、制御
定数など各種のMFC制御信号が人力される。22はデ
ィジタル信号出力端子で、MFCの各部から得られる感
度定数CFなどの定数、流量センサ出力信号S、瞬時検
出流量Q5、バルブ駆動信号W、バルブ開度信号v0、
圧力信号V。、温度信号T、などの各種の信号を、前記
制御装置やデータ収録装置または監視袋W(いずれも図
外)に出力する。
記制御装置から送られてくる流量設定信号S、、感度定
数CF、フルスケール定数FS、検量線データf、制御
定数など各種のMFC制御信号が人力される。22はデ
ィジタル信号出力端子で、MFCの各部から得られる感
度定数CFなどの定数、流量センサ出力信号S、瞬時検
出流量Q5、バルブ駆動信号W、バルブ開度信号v0、
圧力信号V。、温度信号T、などの各種の信号を、前記
制御装置やデータ収録装置または監視袋W(いずれも図
外)に出力する。
そして、前記各種信号はディジタルコード信号の形で、
ディジタル入力端子21およびディジタル出力端子22
を介して送受信されるが、流量設定信号S0と瞬時検出
流量Q、とに関しては、従来のMFCとの互換性を保つ
目的でアナログ信号によるアナログ入力端子23および
アナログ出力端子24も設けである。25はA−D変換
器、26はD−A変換器である。なお、前記ディジタル
コード信号はR3−232Cなどの電気的な接続の他に
、光ファイバなどを利用した光インターフェイスも利用
することができる。
ディジタル入力端子21およびディジタル出力端子22
を介して送受信されるが、流量設定信号S0と瞬時検出
流量Q、とに関しては、従来のMFCとの互換性を保つ
目的でアナログ信号によるアナログ入力端子23および
アナログ出力端子24も設けである。25はA−D変換
器、26はD−A変換器である。なお、前記ディジタル
コード信号はR3−232Cなどの電気的な接続の他に
、光ファイバなどを利用した光インターフェイスも利用
することができる。
27は受信バッファで、前記制御装置から送られてくる
MFC制御信号を受信し、後述するデコーダ28に出力
する。MFC@iB信号はMFCへの指令信号と設定デ
ータとから構成されている。そして、指令信号はそれ単
独で意味を持つ感度定数CF、フルスケール係数FSな
どを読み出すための読ろ出し指令信号と、指令信号と設
定データとが一対になった流量設定信号80などのよう
に設定指令信号とがある。
MFC制御信号を受信し、後述するデコーダ28に出力
する。MFC@iB信号はMFCへの指令信号と設定デ
ータとから構成されている。そして、指令信号はそれ単
独で意味を持つ感度定数CF、フルスケール係数FSな
どを読み出すための読ろ出し指令信号と、指令信号と設
定データとが一対になった流量設定信号80などのよう
に設定指令信号とがある。
28はデコーダで、前記受信バッファ27からのMFC
制御信号を解釈し、これが流量設定信号S。
制御信号を解釈し、これが流量設定信号S。
の場合には、後述する第1切換え回路29および第2切
換え回路30を切り換えることによって、MFC各部に
設定データ(流量設定信号S0、感度定数CF、フルス
ケール係数FS、検量線データf、制御定数)をセット
する。また、MFC制御信号が読み出し指令信号の場合
には、後述する第3切換え回路31および第4切換え回
路32を切り換えることによって、MFC各部からのデ
ータ(流量設定信号S0、感度定数CF、フルスケール
係数FS、検量線データf、制御定数、流量信号S、瞬
時検出流量Q3、流量センサ出力信号S、バルブ駆動信
号W、バルブ開度信号■。、圧力信号P1、温度信号T
、)を後述するエンコーダ34へ送り込むと共に、この
エンコーダ34に対して今エンコーダ34に入力されて
いるデータの種類を入力する。
換え回路30を切り換えることによって、MFC各部に
設定データ(流量設定信号S0、感度定数CF、フルス
ケール係数FS、検量線データf、制御定数)をセット
する。また、MFC制御信号が読み出し指令信号の場合
には、後述する第3切換え回路31および第4切換え回
路32を切り換えることによって、MFC各部からのデ
ータ(流量設定信号S0、感度定数CF、フルスケール
係数FS、検量線データf、制御定数、流量信号S、瞬
時検出流量Q3、流量センサ出力信号S、バルブ駆動信
号W、バルブ開度信号■。、圧力信号P1、温度信号T
、)を後述するエンコーダ34へ送り込むと共に、この
エンコーダ34に対して今エンコーダ34に入力されて
いるデータの種類を入力する。
29は第1切換え回路で、流量設定信号として、アナロ
グ入力端子23およびA−D変換器25を通った信号を
利用するのか、MFCI]il信号からのデータを利用
するのかを選択し、流量設定信号S0として比較部8に
出力する。
グ入力端子23およびA−D変換器25を通った信号を
利用するのか、MFCI]il信号からのデータを利用
するのかを選択し、流量設定信号S0として比較部8に
出力する。
30は第2切換え回路で、設定指令信号のデータ(感度
定数CF、フルスケール係数FS、検量線データr、制
御定数)をMFC各部に送り込む。
定数CF、フルスケール係数FS、検量線データr、制
御定数)をMFC各部に送り込む。
31は第3切換え回路で、MFC各部のデータ(流量設
定信号S0、感度定数CF、フルスケール係数FS、検
量線データr、制御定数、流量信号S、瞬時検出流量Q
8、後述する第4切換え回路32の出力信号)を後述す
るエンコーダ34に送り込む。
定信号S0、感度定数CF、フルスケール係数FS、検
量線データr、制御定数、流量信号S、瞬時検出流量Q
8、後述する第4切換え回路32の出力信号)を後述す
るエンコーダ34に送り込む。
32は第4切換え回路で、MFC各部からのアナログデ
ータ(流量センサ出力信号S、バルブ駆動信号W、バル
ブ関度信号■。、圧力信号P1、温度信号T、)をA−
D変換器33を介して前記第3切換え回路31に送り込
む。
ータ(流量センサ出力信号S、バルブ駆動信号W、バル
ブ関度信号■。、圧力信号P1、温度信号T、)をA−
D変換器33を介して前記第3切換え回路31に送り込
む。
34はエンコーダで、前記デコーダ28からのデータの
種類情報と前記第3切換え回路31からのデータとから
MFCの出力データ(ディジタルコード信号)を作り、
後述する送信バッファ35に出力する。
種類情報と前記第3切換え回路31からのデータとから
MFCの出力データ(ディジタルコード信号)を作り、
後述する送信バッファ35に出力する。
35は送信バッファで、前記エンコーダ34からのディ
ジタルコード信号をディジタル信号出力端子22を介し
てMFC外部に出力する。
ジタルコード信号をディジタル信号出力端子22を介し
てMFC外部に出力する。
而して、上記構成のMFCにおいては、それぞれセンサ
を有するバルブ変位量検出部12、圧力検出部13、温
度検出部14を設けているので、MFC内の各部の状態
を常に外部から把握することができ、例えばこのような
MFCを半導体製造ラインに設けた場合、半導体製造ラ
インの正常時における流体系のデータ(MFCにおける
設定流量と制御バルブ3の開度、MFC内の各部の圧力
並びに温度、圧力と温度との関係など)と現在の状態と
を比較する二をかでき、問題発生の兆候を知ることがで
きる。
を有するバルブ変位量検出部12、圧力検出部13、温
度検出部14を設けているので、MFC内の各部の状態
を常に外部から把握することができ、例えばこのような
MFCを半導体製造ラインに設けた場合、半導体製造ラ
インの正常時における流体系のデータ(MFCにおける
設定流量と制御バルブ3の開度、MFC内の各部の圧力
並びに温度、圧力と温度との関係など)と現在の状態と
を比較する二をかでき、問題発生の兆候を知ることがで
きる。
そして、例えば設定流量に比較して制御バルブ3の開度
が大きいのに圧力および温度が正常であれば、制御バル
ブ3が詰まりつつあることを知ることができる。従って
、この場合、代わりのMFCを予め用意しておき、次の
生産が開始されるまでの半導体製造ラインの停止時にM
FCを交換すればよい。
が大きいのに圧力および温度が正常であれば、制御バル
ブ3が詰まりつつあることを知ることができる。従って
、この場合、代わりのMFCを予め用意しておき、次の
生産が開始されるまでの半導体製造ラインの停止時にM
FCを交換すればよい。
また、上記MFCによれば、流体の種類が変更された場
合、インターフェイス部20を介して感度定数記憶部1
5内の感度定数CFを設定しなおすことにより、ガス種
の変更に対応することができ、流量を高感度で測定する
ことができる。また、ガス種はそのままで、流量が変更
された場合には、インターフェイス部20を介してフル
スケール係数記憶部16内のフルスケール係数FSを設
定しなおすことにより、高感度を維持することができる
。
合、インターフェイス部20を介して感度定数記憶部1
5内の感度定数CFを設定しなおすことにより、ガス種
の変更に対応することができ、流量を高感度で測定する
ことができる。また、ガス種はそのままで、流量が変更
された場合には、インターフェイス部20を介してフル
スケール係数記憶部16内のフルスケール係数FSを設
定しなおすことにより、高感度を維持することができる
。
そして、流量センサ4を取り替えるなどした場合には、
インターフェイス部20を介して検量線記憶部18内の
検量線データfを設定しなおすことにより、直線性のよ
いデータを得ることができる。
インターフェイス部20を介して検量線記憶部18内の
検量線データfを設定しなおすことにより、直線性のよ
いデータを得ることができる。
このように、前記感度定数CF、フルスケール係数FS
、検量線データfを外部から設定しなおすことにより、
MFCを制御対象である流体の種類や流量に対応した状
態にすることができ、従って、高感度にあるいは直線性
よ(流量を測定することができ、所定の流量制mを確実
に行うことができる。
、検量線データfを外部から設定しなおすことにより、
MFCを制御対象である流体の種類や流量に対応した状
態にすることができ、従って、高感度にあるいは直線性
よ(流量を測定することができ、所定の流量制mを確実
に行うことができる。
更に、上記MFCによれば、流量センサ部2の出力であ
る流量センサ出力信号Sや、リニアライザ6への入力で
ある流量信号Sや、演算制御部10の出力である制御信
号Vをインターフェイス20を介して外部に読み出せる
ので、これらの部分における異常などを個々に検出する
ことができ、問題が大きくならないうちに対処すること
ができる。
る流量センサ出力信号Sや、リニアライザ6への入力で
ある流量信号Sや、演算制御部10の出力である制御信
号Vをインターフェイス20を介して外部に読み出せる
ので、これらの部分における異常などを個々に検出する
ことができ、問題が大きくならないうちに対処すること
ができる。
本発明は上記実施例に限られるものでなく、種々の態様
で実施することができる0例えば、上述の実施例では、
バルブ変位量検出部12、圧力検出部13、温度検出部
14の全てをMFCに設けるようにしていたが、少なく
ともその一つを設けてあればよい、また、上述の実施例
では、感度定数記憶部15、フルスケール係数記憶部1
6、検量線記憶部18の全てをMFCに設けるようにし
ていたが、少なくともその一つを設けてあればよい、更
に、上述の実施例では、流量センサ部2からの流量セン
サ出力信号Sと、流量センサ部2と比較部との間に設け
られるリニアライザ6に対して出力される流量信号Sと
、演算制御部10からの制御信号■の全てをMFCの外
部に読み出せるようにしであるが、少なくともその一つ
を外部に読み出せるようにしてあればよい。
で実施することができる0例えば、上述の実施例では、
バルブ変位量検出部12、圧力検出部13、温度検出部
14の全てをMFCに設けるようにしていたが、少なく
ともその一つを設けてあればよい、また、上述の実施例
では、感度定数記憶部15、フルスケール係数記憶部1
6、検量線記憶部18の全てをMFCに設けるようにし
ていたが、少なくともその一つを設けてあればよい、更
に、上述の実施例では、流量センサ部2からの流量セン
サ出力信号Sと、流量センサ部2と比較部との間に設け
られるリニアライザ6に対して出力される流量信号Sと
、演算制御部10からの制御信号■の全てをMFCの外
部に読み出せるようにしであるが、少なくともその一つ
を外部に読み出せるようにしてあればよい。
そして、上述の各要件を互いに適宜組み合わせるように
してもよい。
してもよい。
そして、上述の実施例では、乗算部17をリニアライザ
6の入力側に設けであるが、これをはりニアライザ6の
出力側に設けるようにしてもよい。
6の入力側に設けであるが、これをはりニアライザ6の
出力側に設けるようにしてもよい。
更に、上述の実施例では、流量センサ部2を制御バルブ
3の上流側に設けているが、この関係を逆にしてもよい
。
3の上流側に設けているが、この関係を逆にしてもよい
。
〔発明の効果]
本発明は以上のように構成されるものであり、請求項(
1)に記載された発明によれば、MFC内部の動作状態
を外部から読み出せるようにすることによって問題が発
生しつつある時点(流量が変動する前の時点)で異常に
なりつつあることを簡単に知ることができ、従って、問
題発生の兆候を知ることができるので事前に対応するこ
とができ、本発明のMFCを例えば半導体製造ラインに
組み込んであった場合、大量の不良品を発生したり、製
造ラインを長時間にわたって停止させてしまうなどとい
ったことは全くない。
1)に記載された発明によれば、MFC内部の動作状態
を外部から読み出せるようにすることによって問題が発
生しつつある時点(流量が変動する前の時点)で異常に
なりつつあることを簡単に知ることができ、従って、問
題発生の兆候を知ることができるので事前に対応するこ
とができ、本発明のMFCを例えば半導体製造ラインに
組み込んであった場合、大量の不良品を発生したり、製
造ラインを長時間にわたって停止させてしまうなどとい
ったことは全くない。
そして、請求項(2)に記載された発明によれば、流体
の種類や流量などが変わっても、MFCを取り外して調
整しなおしたり、他のMFCに交換したりすることなく
、高感度にあるいは直線性よくi量を測定することがで
き、所定の流量制御を確実に行うことができる。従って
、本発明のMFCを例えば半導体製造ラインに組み込ん
であった場合、大量の不良品を発生したり、製造ライン
を長時間にわたって停止させてしまうなどといったこと
は全くない。
の種類や流量などが変わっても、MFCを取り外して調
整しなおしたり、他のMFCに交換したりすることなく
、高感度にあるいは直線性よくi量を測定することがで
き、所定の流量制御を確実に行うことができる。従って
、本発明のMFCを例えば半導体製造ラインに組み込ん
であった場合、大量の不良品を発生したり、製造ライン
を長時間にわたって停止させてしまうなどといったこと
は全くない。
更に、請求項(3)に記載された発明によれば、流量セ
ンサ部などMFC内部の個々の部分からの生の情報が外
部に読み出せるので、これらの部分における異常などを
個々に検出することができ、問題が大きくならないうち
に対処することができる。
ンサ部などMFC内部の個々の部分からの生の情報が外
部に読み出せるので、これらの部分における異常などを
個々に検出することができ、問題が大きくならないうち
に対処することができる。
第1図および第2図は本発明の一実施例を示し、第1図
は本発明に係るMFCの構成を概略的に示すブロック図
、第2図は前記MFCにおけるインターフェイスの構成
を概略的に示すブロック図である。 第3図は従来のMFCの構成を概略的に示すブロック図
である。 ■・・・流路、2・・・流量センサ部、3・・・制御バ
ルブ、6・・・リニアライザ、8・・・比較部、10・
・・演算制御部、12・・・バルブ変位量検出部、13
・・・圧力検出部、14・・・温度検出部、15・・・
感度定数記憶部、16・・・フルスケール係数記憶部、
18・・・検量線記憶部、S・・・流量センサ出力信号
、S・・・流量信号、Q、・・・流量測定信号、S、・
・・流量設定信号、CF・・・感度定数、FS・・・フ
ルスケール係数、r・・・検量線データ、ε・・・差信
号、■・・・制御信号。 第3図
は本発明に係るMFCの構成を概略的に示すブロック図
、第2図は前記MFCにおけるインターフェイスの構成
を概略的に示すブロック図である。 第3図は従来のMFCの構成を概略的に示すブロック図
である。 ■・・・流路、2・・・流量センサ部、3・・・制御バ
ルブ、6・・・リニアライザ、8・・・比較部、10・
・・演算制御部、12・・・バルブ変位量検出部、13
・・・圧力検出部、14・・・温度検出部、15・・・
感度定数記憶部、16・・・フルスケール係数記憶部、
18・・・検量線記憶部、S・・・流量センサ出力信号
、S・・・流量信号、Q、・・・流量測定信号、S、・
・・流量設定信号、CF・・・感度定数、FS・・・フ
ルスケール係数、r・・・検量線データ、ε・・・差信
号、■・・・制御信号。 第3図
Claims (3)
- (1)流体が流れる流路に対して流量センサ部と、この
流量センサ部の下流側または上流側に設けられる制御バ
ルブとを備え、前記流量センサ部からの流量測定信号と
流量設定信号とを比較部において比較し、この比較部か
ら出力される差信号を演算制御部において処理して得ら
れる制御信号に基づいて前記制御バルブの開度制御を行
うようにしたマスフローコントローラにおいて、前記制
御バルブの変位量を検出するバルブ変位量検出部と、前
記流量センサ部の上流側または下流側の圧力、前記流量
センサ部と前記制御バルブとの間の圧力、前記制御バル
ブの下流側または上流側の圧力の少なくともその一つを
検出する圧力検出部と、前記流量センサ部の上流側また
は下流側の温度、前記流量センサ部と前記制御バルブと
の間の温度、前記制御バルブの下流側または上流側の温
度の少なくともその一つを検出する温度検出部とのうち
、少なくともその一つを設けたことを特徴とするマスフ
ローコントローラ。 - (2)流体が流れる流路に対して流量センサ部と、この
流量センサ部の下流側または上流側に設けられる制御バ
ルブとを備え、前記流量センサ部からの流量測定信号と
流量設定信号とを比較部において比較し、この比較部か
ら出力される差信号を演算制御部において処理して得ら
れる制御信号に基づいて前記制御バルブの開度制御を行
うようにしたマスフローコントローラにおいて、前記流
量測定信号と乗算される感度定数を外部から読み出し書
き換え自在なように記憶する感度定数記憶部と、前記流
量測定信号と乗算されるフルスケール係数を外部から読
み出し書き換え自在なように記憶するフルスケール係数
記憶部と、前記流量センサ部と比較部との間に設けられ
るリニアライザに対して出力される検量線データを外部
から読み出し書き換え自在なように記憶する検量線記憶
部とのうち、少なくともその一つを設けたことを特徴と
するマスフローコントローラ。 - (3)流体が流れる流路に対して流量センサ部と、この
流量センサ部の下流側または上流側に設けられる制御バ
ルブとを備え、前記流量センサ部からの流量測定信号と
流量設定信号とを比較部において比較し、この比較部か
ら出力される差信号を演算制御部において処理して得ら
れる制御信号に基づいて前記制御バルブの開度制御を行
うようにしたマスフローコントローラにおいて、前記流
量センサ部からの流量センサ出力信号と、前記流量セン
サ部と比較部との間に設けられるリニアライザに対して
出力される流量信号と、前記演算制御部からの制御信号
とのうち、少なくともその一つを外部に読み出せるよう
にしたことを特徴とするマスフローコントローラ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1296880A JPH03156509A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | マスフローコントローラ |
US07/612,328 US5129418A (en) | 1989-11-14 | 1990-11-13 | Mass flow controller with supplemental condition sensors |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1296880A JPH03156509A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | マスフローコントローラ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03156509A true JPH03156509A (ja) | 1991-07-04 |
Family
ID=17839361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1296880A Pending JPH03156509A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | マスフローコントローラ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5129418A (ja) |
JP (1) | JPH03156509A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001147722A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-05-29 | Ace:Kk | ガス流量制御装置 |
JP2007087029A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Yamatake Corp | 流量制御装置および流体混合器 |
JP2007087294A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Yamatake Corp | 流量制御装置 |
KR20190070295A (ko) | 2017-12-12 | 2019-06-20 | 가부시키가이샤 호리바 에스텍 | 유체 장치 및 유체 장치용 프로그램 |
Families Citing this family (79)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69233568T2 (de) * | 1991-09-10 | 2006-08-10 | Smc K.K. | Durch Flüssigkeitsdruck betätigte Vorrichtung |
WO1993025950A1 (en) * | 1992-06-12 | 1993-12-23 | Unit Instruments, Inc. | Mass flow controller |
US5190068A (en) * | 1992-07-02 | 1993-03-02 | Brian Philbin | Control apparatus and method for controlling fluid flows and pressures |
NL9201391A (nl) * | 1992-07-31 | 1994-02-16 | Deltec Fuel Systems Bv | Regelstelsel voor het toevoeren van een gasstroom aan een gasgebruikstoestel. |
US5363874A (en) * | 1992-10-08 | 1994-11-15 | Sentry Equipment Corp. | Automated sample conditioning module |
US5375634A (en) * | 1993-10-07 | 1994-12-27 | Graco Inc. | Variable mass flow rate fluid dispensing control |
EP0708389B1 (en) | 1994-10-18 | 2000-02-16 | Neles-Jamesbury Oy | Method and apparatus for detecting a fault of a control valve assembly in a control loop |
US5642278A (en) * | 1995-01-03 | 1997-06-24 | Hewlett-Packard Co. | Method and apparatus for temperature and pressure compensation of pneumatic manifolds |
US5620524A (en) * | 1995-02-27 | 1997-04-15 | Fan; Chiko | Apparatus for fluid delivery in chemical vapor deposition systems |
FI100357B (fi) * | 1995-09-08 | 1997-11-14 | Flaekt Service Oy | Menetelmä ja sovitelma ilmanvaihtojärjestelmän säädön suorittamiseksi |
JP3580645B2 (ja) * | 1996-08-12 | 2004-10-27 | 忠弘 大見 | 圧力式流量制御装置 |
US5944048A (en) * | 1996-10-04 | 1999-08-31 | Emerson Electric Co. | Method and apparatus for detecting and controlling mass flow |
US5911238A (en) * | 1996-10-04 | 1999-06-15 | Emerson Electric Co. | Thermal mass flowmeter and mass flow controller, flowmetering system and method |
DE29721502U1 (de) * | 1996-12-21 | 1998-04-23 | Klein Schanzlin & Becker Ag | Strangregulierarmatur |
US6016832A (en) * | 1997-04-16 | 2000-01-25 | Woodward Governor Company | Valve for controlling gas mass flow |
US5865205A (en) * | 1997-04-17 | 1999-02-02 | Applied Materials, Inc. | Dynamic gas flow controller |
US6035878A (en) * | 1997-09-22 | 2000-03-14 | Fisher Controls International, Inc. | Diagnostic device and method for pressure regulator |
WO1999027572A1 (en) * | 1997-11-20 | 1999-06-03 | Fsi International, Inc. | Method for delivery of hydrogen fluoride gas |
US6216728B1 (en) * | 1998-03-13 | 2001-04-17 | Ce Nuclear Power Llc | Tunable anticipatory output response valve control |
CN1114847C (zh) * | 1998-08-24 | 2003-07-16 | 株式会社富士金 | 压力式流量控制装置的孔板堵塞检测方法及其检测装置 |
US6078030A (en) * | 1998-09-09 | 2000-06-20 | Millipore Corporation | Component heater for use in semiconductor manufacturing equipment |
US6119710A (en) * | 1999-05-26 | 2000-09-19 | Cyber Instrument Technologies Llc | Method for wide range gas flow system with real time flow measurement and correction |
US6186177B1 (en) | 1999-06-23 | 2001-02-13 | Mks Instruments, Inc. | Integrated gas delivery system |
JP3554509B2 (ja) * | 1999-08-10 | 2004-08-18 | 忠弘 大見 | 圧力式流量制御装置における流量異常検知方法 |
EP1257790A1 (en) | 2000-02-14 | 2002-11-20 | Unit Instruments, Inc. | Method and apparatus for balancing resistance |
US6405745B1 (en) * | 2000-03-22 | 2002-06-18 | Delphi Technologies, Inc. | Ultra accurate gas injection system |
AU2002224569A1 (en) | 2000-07-08 | 2002-02-05 | Fugasity Corporation | Fluid mass flow control valve and method of operation |
US6561218B2 (en) | 2000-07-25 | 2003-05-13 | Fugasity Corporation | Small internal volume fluid mass flow control apparatus |
US6539968B1 (en) | 2000-09-20 | 2003-04-01 | Fugasity Corporation | Fluid flow controller and method of operation |
US6832628B2 (en) * | 2000-10-11 | 2004-12-21 | Flowmatrix, Inc. | Variable pressure regulated flow controllers |
US6564824B2 (en) * | 2001-04-13 | 2003-05-20 | Flowmatrix, Inc. | Mass flow meter systems and methods |
DE60207609T2 (de) * | 2001-04-24 | 2006-08-03 | Celerity Group, Inc., Santa Clara | Verfahren zur Bestimmung einer Ventilöffnung für einen Massenflussregler |
US6655408B2 (en) * | 2001-06-13 | 2003-12-02 | Applied Materials, Inc. | Tunable ramp rate circuit for a mass flow controller |
KR100937726B1 (ko) * | 2001-10-12 | 2010-01-20 | 호리바 스텍, 인크. | 질량 유량 장치를 구성 및 사용하기 위한 시스템 및 방법 |
US7004191B2 (en) * | 2002-06-24 | 2006-02-28 | Mks Instruments, Inc. | Apparatus and method for mass flow controller with embedded web server |
US6712084B2 (en) | 2002-06-24 | 2004-03-30 | Mks Instruments, Inc. | Apparatus and method for pressure fluctuation insensitive mass flow control |
US6868862B2 (en) * | 2002-06-24 | 2005-03-22 | Mks Instruments, Inc. | Apparatus and method for mass flow controller with a plurality of closed loop control code sets |
US20030234047A1 (en) * | 2002-06-24 | 2003-12-25 | Ali Shajii | Apparatus and method for dual processor mass flow controller |
DE10392770B3 (de) * | 2002-06-24 | 2013-08-01 | Mks Instruments Inc. | Massenstrom-Sensor und Verfahren zur Druckschwankungs-unabhaengigen Massenstroemungs-Steuerung |
US7809473B2 (en) * | 2002-06-24 | 2010-10-05 | Mks Instruments, Inc. | Apparatus and method for pressure fluctuation insensitive mass flow control |
US6948508B2 (en) * | 2002-06-24 | 2005-09-27 | Mks Instruments, Inc. | Apparatus and method for self-calibration of mass flow controller |
US20030234045A1 (en) * | 2002-06-24 | 2003-12-25 | Ali Shajii | Apparatus and method for mass flow controller with on-line diagnostics |
KR20050047079A (ko) * | 2002-07-19 | 2005-05-19 | 셀레리티 그룹 아이엔씨 | 공용 기준 레그를 갖는 가변 저항기 센서 |
KR20050031109A (ko) * | 2002-07-19 | 2005-04-01 | 셀레리티 그룹 아이엔씨 | 질량 유량 제어기 내의 압력 보상을 위한 방법 및 장치 |
US7192486B2 (en) * | 2002-08-15 | 2007-03-20 | Applied Materials, Inc. | Clog-resistant gas delivery system |
TWI386578B (zh) * | 2003-01-17 | 2013-02-21 | Applied Materials Inc | 避免一質量流量控制器涉及一質量流量控制器陣列中之干擾的方法 |
US20040163590A1 (en) * | 2003-02-24 | 2004-08-26 | Applied Materials, Inc. | In-situ health check of liquid injection vaporizer |
US7437944B2 (en) * | 2003-12-04 | 2008-10-21 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for pressure and mix ratio control |
US20050120805A1 (en) * | 2003-12-04 | 2005-06-09 | John Lane | Method and apparatus for substrate temperature control |
US20050150552A1 (en) * | 2004-01-06 | 2005-07-14 | Randy Forshey | Device, method, and system for controlling fluid flow |
US7287541B2 (en) * | 2004-01-16 | 2007-10-30 | Battelle Energy Alliance, Llc | Method, apparatus and system for controlling fluid flow |
US7216019B2 (en) * | 2004-07-08 | 2007-05-08 | Celerity, Inc. | Method and system for a mass flow controller with reduced pressure sensitivity |
US7412986B2 (en) * | 2004-07-09 | 2008-08-19 | Celerity, Inc. | Method and system for flow measurement and validation of a mass flow controller |
US7603186B2 (en) * | 2006-04-28 | 2009-10-13 | Advanced Energy Industries, Inc. | Adaptive response time closed loop control algorithm |
US7640078B2 (en) * | 2006-07-05 | 2009-12-29 | Advanced Energy Industries, Inc. | Multi-mode control algorithm |
US7846497B2 (en) * | 2007-02-26 | 2010-12-07 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for controlling gas flow to a processing chamber |
US7775236B2 (en) | 2007-02-26 | 2010-08-17 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for controlling gas flow to a processing chamber |
US8074677B2 (en) | 2007-02-26 | 2011-12-13 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for controlling gas flow to a processing chamber |
US20100089456A1 (en) * | 2008-10-14 | 2010-04-15 | Circor Instrumentation Technologies, Inc. | Method and apparatus for low powered and/or high pressure flow control |
US20110226354A1 (en) * | 2010-03-17 | 2011-09-22 | Petur Thordarson | Flow Controller |
GB201101075D0 (en) | 2011-01-21 | 2011-03-09 | Labminds Ltd | Automated solution dispenser |
US9188989B1 (en) | 2011-08-20 | 2015-11-17 | Daniel T. Mudd | Flow node to deliver process gas using a remote pressure measurement device |
US9958302B2 (en) | 2011-08-20 | 2018-05-01 | Reno Technologies, Inc. | Flow control system, method, and apparatus |
EP2874736B1 (en) | 2012-07-18 | 2023-04-19 | accroma labtec Ltd. | Automated solution dispenser |
US9454158B2 (en) * | 2013-03-15 | 2016-09-27 | Bhushan Somani | Real time diagnostics for flow controller systems and methods |
JP6415889B2 (ja) * | 2014-08-01 | 2018-10-31 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置、流量制御装置用プログラム、及び、流量制御方法 |
CN107835712B (zh) | 2015-02-06 | 2021-09-10 | 莱伯曼兹有限公司 | 自动化溶液分配器 |
EP3118711B1 (en) | 2015-07-17 | 2021-01-13 | Sensirion AG | Inlet pressure perturbation insensitive mass flow controller |
US10838437B2 (en) | 2018-02-22 | 2020-11-17 | Ichor Systems, Inc. | Apparatus for splitting flow of process gas and method of operating same |
US10679880B2 (en) | 2016-09-27 | 2020-06-09 | Ichor Systems, Inc. | Method of achieving improved transient response in apparatus for controlling flow and system for accomplishing same |
US10303189B2 (en) | 2016-06-30 | 2019-05-28 | Reno Technologies, Inc. | Flow control system, method, and apparatus |
US11144075B2 (en) | 2016-06-30 | 2021-10-12 | Ichor Systems, Inc. | Flow control system, method, and apparatus |
US10663337B2 (en) | 2016-12-30 | 2020-05-26 | Ichor Systems, Inc. | Apparatus for controlling flow and method of calibrating same |
US10983537B2 (en) | 2017-02-27 | 2021-04-20 | Flow Devices And Systems Inc. | Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller |
KR20190050611A (ko) * | 2017-11-03 | 2019-05-13 | 삼성전자주식회사 | 모니터링 장치 및 이를 포함하는 반도체 제조 장치 |
ES2786636T3 (es) * | 2018-03-16 | 2020-10-13 | Siemens Ag | Medición de flujo en válvulas con corrección térmica |
US11209298B2 (en) * | 2018-04-27 | 2021-12-28 | Hitachi Metals, Ltd. | Thermal mass flow sensor with improved accuracy |
US11899477B2 (en) | 2021-03-03 | 2024-02-13 | Ichor Systems, Inc. | Fluid flow control system comprising a manifold assembly |
US11435764B1 (en) | 2021-03-30 | 2022-09-06 | Hitachi Metals, Ltd. | Mass flow controller utilizing nonlinearity component functions |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4146051A (en) * | 1976-01-10 | 1979-03-27 | Lucas Industries Limited | Fluid flow control system |
US4394871A (en) * | 1980-12-31 | 1983-07-26 | The Boeing Company | Programmable pressure regulator for titanium superplastic forming apparatus |
US4487213A (en) * | 1982-09-09 | 1984-12-11 | Omicron Technology Corporation | Mass flow controller apparatus |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP1296880A patent/JPH03156509A/ja active Pending
-
1990
- 1990-11-13 US US07/612,328 patent/US5129418A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001147722A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-05-29 | Ace:Kk | ガス流量制御装置 |
JP2007087029A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Yamatake Corp | 流量制御装置および流体混合器 |
JP4512923B2 (ja) * | 2005-09-21 | 2010-07-28 | 株式会社山武 | 流体混合器 |
JP2007087294A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Yamatake Corp | 流量制御装置 |
JP4596474B2 (ja) * | 2005-09-26 | 2010-12-08 | 株式会社山武 | 流量制御装置 |
KR20190070295A (ko) | 2017-12-12 | 2019-06-20 | 가부시키가이샤 호리바 에스텍 | 유체 장치 및 유체 장치용 프로그램 |
JP2019106015A (ja) * | 2017-12-12 | 2019-06-27 | 株式会社堀場エステック | 流体装置及び流体装置用プログラム |
US11262222B2 (en) | 2017-12-12 | 2022-03-01 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Fluid device and program for fluid device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5129418A (en) | 1992-07-14 |
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