JP2015138338A - 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法。 - Google Patents

圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法。 Download PDF

Info

Publication number
JP2015138338A
JP2015138338A JP2014008831A JP2014008831A JP2015138338A JP 2015138338 A JP2015138338 A JP 2015138338A JP 2014008831 A JP2014008831 A JP 2014008831A JP 2014008831 A JP2014008831 A JP 2014008831A JP 2015138338 A JP2015138338 A JP 2015138338A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
valve
flow rate
control device
type flow
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014008831A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015138338A5 (ja
JP6321972B2 (ja
Inventor
薫 平田
Kaoru Hirata
薫 平田
池田 信一
Nobukazu Ikeda
信一 池田
西野 功二
Koji Nishino
功二 西野
土肥 亮介
Ryosuke Doi
亮介 土肥
勝幸 杉田
Katsuyuki Sugita
勝幸 杉田
正明 永瀬
Masaaki Nagase
正明 永瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikin Inc
Original Assignee
Fujikin Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2014008831A priority Critical patent/JP6321972B2/ja
Application filed by Fujikin Inc filed Critical Fujikin Inc
Priority to KR1020167005843A priority patent/KR101887364B1/ko
Priority to CN201580002126.5A priority patent/CN105940357B/zh
Priority to PCT/JP2015/000154 priority patent/WO2015111391A1/ja
Priority to US15/110,208 priority patent/US9841770B2/en
Priority to TW104101810A priority patent/TWI537696B/zh
Publication of JP2015138338A publication Critical patent/JP2015138338A/ja
Publication of JP2015138338A5 publication Critical patent/JP2015138338A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6321972B2 publication Critical patent/JP6321972B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00Control of flow
    • G05D7/06Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0629Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
    • G05D7/0635Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00Control of flow
    • G05D7/06Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0629Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
    • G05D7/0635Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
    • G05D7/0641Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/004Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by piezoelectric means
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/02Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/02Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic
    • F16K31/06Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic using a magnet, e.g. diaphragm valves, cutting off by means of a liquid
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/12Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K7/00Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves
    • F16K7/12Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm
    • F16K7/14Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm arranged to be deformed against a flat seat
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K7/00Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves
    • F16K7/12Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm
    • F16K7/14Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm arranged to be deformed against a flat seat
    • F16K7/16Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm arranged to be deformed against a flat seat the diaphragm being mechanically actuated, e.g. by screw-spindle or cam
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Flow Control (AREA)
  • Control Of Fluid Pressure (AREA)

Abstract

【課題】パルス制御可能な圧力式流量制御装置において、流量制御開始時のオーバーシュートが生じない圧力式流量制御装置を提供する。【解決手段】流体入口と流体出口間を連通する流体通路及び流体通路と排気出口間を連通する排気通路を設けた本体と、本体の流体入口側に固定されて流体通路の上流側を開閉する圧力制御用コントロール弁6と、その下流側の流体通路内圧を検出する第1圧力センサP1と、前記排気通路の分岐箇所より下流の流体通路内に設けたオリフィスOLと、前記第1圧力センサの下流側の流体通路を開閉する開閉弁8と、前記排気通路を開閉する排気用弁7とから圧力式流量制御装置を構成し、当該圧力式流量制御装置による流量制御開始前に排気用弁を作動して圧力制御用コントロール弁と開閉弁の間の流体通路空間内を強制排気することにより、流量制御開始時のオーバーシュートを防止する。【選択図】図1

Description

本発明は圧力式流量制御装置の改良に関するものであり、流量制御の追従性の向上及び流量立上げ時の応答性を高めることにより半導体製造装置用等の原料ガス供給装置の作動性能を大幅に高めることを可能にした圧力式流量制御装置と、その流量制御開始時のオーバーシュートを防止する方法に関するものである。
従前から、半導体製造装置用等の原料ガス供給装置に於いては、供給ガス流量の制御に熱式流量制御装置や圧力式流量制御装置が広く利用されている。特に、後者の圧力式流量制御装置FCSは、図5に示すように、コントロール弁CV、温度検出器T、圧力検出器P、オリフィスOL及び演算制御部CD等から構成されており、一次側供給圧が大きく変動しても安定した流量制御が行えるという優れた流量特性を具備している。
即ち、図5の圧力式流量制御装置FCSにおいては、その演算制御部CDが、温度補正・流量演算回路CDaと比較回路CDbと入出力回路CDcと出力回路CDd等から構成されている。そして、圧力検出器P及び温度検出器Tからの検出値が温度補正・流量演算回路CDaへ入力され、ここで検出圧力の温度補正と流量演算が行われ、流量演算値Qtが比較回路CDbへ入力される。
また、設定流量に対応する入力信号QSが端子Inから入力され、入出力回路CDcを介して比較回路CDbへ入力され、ここで前記温度補正・流量演算回路CDaからの流量演算値Qtと比較される。比較の結果、設定流量入力信号Qsと流量演算値Qtとの間に差異があると、コントロール弁CVの駆動部へ制御信号Pdが出力され、これによりコントロール弁CVが駆動され、設定流量入力信号Qsと演算流量値Qtとの差(Qs−Qt)が零となるように自動調整される。
尚、上記圧力式流量制御装置FCSでは、オリフィスOLの下流側圧力Pと上流側圧力Pとの間にP/P≧約2の所謂臨界膨張条件が保持されていると、オリフィスOLを流通するガス流量QはQ=KP(但しKは定数)で表され、また、臨界膨張条件が満たされていないと、オリフィスOLを流通するガス流量QはQ=KP (P−P(但しK、m、nは定数)として算出される。
従って、圧力Pを制御することにより流量Qを高精度で制御することができ、しかも、コントロール弁CVの上流側ガスGoの圧力が大きく変化しても、制御流量値が殆ど変化しないという優れた特性を発揮することができる。
尚、上記ガス流量QをQ=KP(但しKは定数)として演算する方式の圧力式流量制御装置は、一般にFCS−N型と呼ばれており、また、ガス流量QをQ=KP (P−P(但しK、m、nは定数)として演算する方式の圧力式流量制御装置は、FCS−WR型と呼ばれている。
また、この種の圧力式流量制御装置には、この他に、上記FCS−N型のオリフィスを、並列状に連結した複数のオリフィスOLを切換弁により任意に選択する構造のオリフィスとし、流量制御範囲を変更できるようにしたもの(FCS−SN型)や、同じオリフィス機構を上記FCS−WR型のオリフィスとして用いたもの(FCS−SWR型)が存在する。
図6は、上記FCS−N型(特開平8−338546号等)、FCS−SN型(特開2006−330851号等)、FCS−WR型(特開2003−195948号等)及びFCS−SWR型(特願2010−512916号等)の構成系統図であり、その構成や作動原理等は既に公知であるため、ここではその詳細な説明を省略する。
尚、図6において、P,Pは圧力センサ、CVはコントロール弁、OLはオリフィス、OLは小口径オリフィス、OLは大口径オリフィス、ORVはオリフィス切換弁である。
原料ガス供給においては、この種の圧力式流量制御装置FCSを用いて、原料ガスを所定量供給することが可能であるが、より精密な原料ガスの供給を行うために、流量の立上りや立下り特性を改良した所謂パルス制御を行うことが求められている。
図7は、上記パルス制御が可能な圧力式流量制御装置の構成系統図であり、オリフィスOLと開閉弁Vpとの間の内容積を極小化することにより、良好な立上り及び立下り特性が得られ、高精度なパルス制御を行うことが可能となる。
しかし、従前の圧力式流量制御装置において、オリフィス下流側に開閉弁を設けてこれを開閉制御することでパルス流量制御を行う場合、コントロール弁CVを閉鎖して流量制御を中止した場合に、制御弁からの原料ガスの微小リークにより流体通路内圧が高くなることがある。その結果、再度流量制御を開始したときに、流体通路内圧が高くなっていることにより、立上げ時の制御流量値に所謂オーバーシュートを生じると云う問題がある。
特開平8−338546号 特開平10−55218号 特開2003−195948号 特開2006−330851号 特願2010−512916号 特開2000−213667号
本願発明は、パルス流量制御可能な圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法を提供することを発明の主目的とするものである。即ち、従前の圧力式流量制御装置のオリフィス下流側に開閉弁を設け、これを開閉制御することでパルス流量制御を行うことが可能となるが、流量制御を行っていない状態では、制御弁からの原料ガスの微小リークによって流体通路内圧が高くなり、そのため、流量制御開始時の流体通路内圧が設定値より大きくなってオーバーシュートが発生する。
本発明は、流量制御開始時の上記オーバーシュートの問題を解決せんとするものであり、パルス流量制御可能な圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法の提供を発明の主要な課題とするものである。
本願発明は、従前の圧力式流量制御装置のオリフィス下流側に開閉弁を設け、この開閉弁を開閉制御することでパルス流量制御が可能な圧力式流量制御装置において、流量制御の開始時にオーバーシュートが生じると云う前記課題を解決するためにオリフィス上流側にベントラインを設け、流量制御の開始前に予め排気通路より排気を行なってオリフィス下流側の圧力を下げることにより、流量制御開始時のオーバーシュートを防止する構成としたものである。
即ち、本願請求項1の発明は、流体入口と流体出口間を連通する流体通路及び流体通路と排気出口間を連通する排気通路を設けた本体と、本体の流体入口側に固定されて流体通路の上流側を開閉する圧力制御用コントロール弁と、その下流側の流体通路内圧を検出する第1圧力センサと、前記排気通路の分岐箇所より下流の流体通路内に設けたオリフィスと、前記第1圧力センサの下流側の流体通路を開閉する開閉弁と、前記排気通路を開閉する排気制御用コントロール弁とから圧力式流量制御装置を構成し、当該圧力式流量制御装置による流体流量の制御開始前に圧力制御用コントロール弁と排気制御用コントロール弁を作動して圧力制御用コントロール弁と開閉弁の間の流体通路空間内を強制排気することにより、流量制御開始時のオーバーシュートを防止することを発明の基本構成とするものである。
請求項2の発明は、請求項1の発明に於いて、圧力式流量制御装置を流量制御時に前記開閉弁を開閉することにより流量のパルス制御を行う圧力式流量制御装置としたものである。
請求項3の発明は、請求項1又は請求項2の発明に於いて、開閉弁がオリフィスの下流側に設けられた圧力式流量制御装置としたものである。
請求項4の発明は、請求項1乃至3に於いて、排気用弁を制御弁とした圧力式流量制御装置としたものである。
請求項5の発明は、請求項1の発明に於いて、本体に、オリフィス下流側の流体通路内圧を検出する第2圧力センサを設け、圧力式流量制御装置をFCS-WR型圧力式流量制御装置としたものである。
請求項6の発明は、請求項3の発明に於いて、第2圧力センサを、オリフィスと開閉弁の間の流体通路内圧を検出するセンサとしたものである。
請求項7の発明は、請求項1の発明に於いて、オリフィス及び開閉弁を、オリフィスと開閉弁を一体的に組み付け固定した構成のオリフィス内蔵型弁により形成するようにしたものである。
請求項8の発明は、請求項1の発明に於いて、圧力式流量制御装置を、複数のオリフィスを並列状に連結し、切換弁により少なくとも一つのオリフィスに流体を流通させる構成のFCS-SN型の圧力式流量制御装置としたものである。
請求項9の発明は、請求項1の発明に於いて、圧力式流量制御装置を、複数のオリフィスを並列状に連結し、切換弁により少なくとも一つのオリフィスに流体を流通させると共に、オリフィス下流側の流体通路内圧を検出する圧力センサを備えた構成のFCS-SWR型の圧力式流量制御装置としたものである。
請求項10の発明は、請求項1の発明に於いて、圧力制御用コントロール弁及び排気制御用コントロール弁を、ピエゾ素子駆動型の金属ダイヤフラム式制御弁とするようにしたものである。
請求項11の発明は、請求項1の発明に於いて、開閉弁を、空気圧駆動弁又は電磁駆動弁とするようにしたものである。
請求項12の発明は、請求項1の発明に於いて、排気出口に接続した真空ポンプにより排気通路内を強制排気する構成としたものである。
請求項13の発明は、流体入口と流体出口間を連通する流体通路及び流体通路と排気出口間を連通する排気通路を設けた本体と、本体の流体入口側に固定されて流体通路の上流側を開閉する圧力制御用コントロール弁と、その下流側の流体通路内圧を検出する第1圧力センサと、前記排気通路の分岐箇所より下流の流体通路内に設けたオリフィスと、前記オリフィスの下流側の流体通路を開閉する開閉弁と、前記排気通路を開閉する排気制御用コントロール弁とから圧力式流量制御装置において、当該圧力式流量制御装置による流量制御開始前に排気制御用コントロール弁を作動して圧力制御用コントロール弁とオリフィス間の流体通路空間内を強制排気することにより、流量制御開始時のオーバーシュートを防止する方法である。
本願発明に於いては、流体入口と流体出口間を連通する流体通路及び流体通路と排気出口間を連通する排気通路を設けた本体と、本体の流体入口側に固定されて流体通路の上流側を開閉する圧力制御用コントロール弁と、その下流側の流体通路内圧を検出する第1圧力センサと、前記排気通路の分岐箇所より下流の流体通路内に設けたオリフィスと、前記第1圧力センサの下流側の流体通路を開閉する開閉弁と、前記排気通路を開閉する排気用弁とから圧力式流量制御装置を構成すると共に、当該圧力式流量制御装置による流体流量の制御開始時に圧力制御用コントロール弁と排気制御用コントロール弁を作動して圧力制御用コントロール弁と開閉弁間の流体通路空間内を強制排気することにより、流量制御開始時のオーバーシュートを防止することを発明の基本構成としている。
その結果、本発明に係る圧力式流量制御装置では、制御流量の変動時に於ける制御応答性が高まり、流量制御の立上げ時間や立上げ時間を大幅に短縮できるだけでなく、その時間調整も容易に行うことができ、圧力式流量制御装置の所謂ガス置換性の向上とこれよる設備稼働率の向上、半導体製品の品質向上等が可能となる。
更に、流体供給通路に設ける開閉弁をオリフィス内蔵型開閉弁とすることにより、圧力式流量制御装置の一層の小型化が図れると共に、排気制御用コントロール弁を閉鎖することにより、通常の圧力式流量制御装置としても適用することが出来る。
加えて、流体供給通路に設けた開閉弁を用いて流体流量の所謂パルス流量制御を行う場合に於いても、オリフィス上流側の流体通路内圧が減圧されていることにより、制御の追従性が大幅に向上することになる。
本発明に係る圧力式流量制御装置の基本構成を示す系統図である。 本発明に係る圧力式流量制御装置の基本構成を示す縦断面図である。 本発明に係る圧力式流量制御装置の平面図(a)、正面図(b)及びオリフィス内蔵型開閉弁の部分拡大断面図(c)である。 本発明に係る圧力式流量制御装置を適用したガス供給ボックスの構成を示す系統図である。 従前の圧力式流量制御装置(FCS−N型)の基本構成図である。 従前の各種形式の圧力式流量制御装置の概略構成図であり、(a)はFCS−N型,b)は圧力式流量制御装置(FCS−WR型)、(c)はFCS−SN型、(d)はFCS−SWR型を示すものである。 従前の圧力式流量制御装置(FCS−N型)と開閉弁によるパルス流量制御を組み合わせたシステムの構成図である。
以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。
図1は本発明の圧力式流量制御装置の基本構成を示す系統図であり、図2は本発明に係る圧力式流量制御装置の基本構成を示す縦断面図、図3は本発明に係る圧力式流量制御装置の平面図(a)と正面図(b)及びオリフィス内蔵型開閉弁の部分拡大断面図(c)である。
また、図4は、本発明に係る圧力式流量制御装置を用いたガス供給ボックスの構成を示す系統図である。
図1〜図3を参照して、本発明に係る圧力式流量制御装置1は、本体2、圧力制御用コントロール弁6、排気制御用コントロール弁7、空気圧駆動型の開閉弁8、第1圧力センサP1、第2圧力センサP2、オリフィスOL等から構成されている。また、図2の実施形態では、1個のオリフィスOLと第1圧力センサP及び第2圧力センサP2と空気圧駆動型の開閉弁8を使用したFCS−WR型の圧力式流量制御装置とされており、オリフィスOLを流通する流体が臨界状態又は非臨界状態の何れであっても、圧力制御用コントロール弁6による圧力調整により流量制御が可能な構成とされている。
尚、図1〜図3において、2a弁座、3は入口側ブロック、4は本体ブロック、5は出口側ブロック、8は空気圧駆動型の開閉弁、8aは空気圧型弁駆動部、9は流体入口、10aは流体通路、10bは排気通路、11は流体出口、12は排気出口、13はガスケット、14は制御用のパネルコントロールボード、15はケーシング、16は接続用コネクタである。
前記本体2は、入口側ブロック3、本体ブロック4及び出口側ブロック5を固定ボルト(図示省略)により相互に組付け一体化したものであり、圧力制御用コントロール弁6、排気制御用コントロール弁7、第1圧力センサP1及び第2圧力センサP2などは、本体2へ夫々ねじ込み固定されている。また、第2圧力センサP2は、出口側ブロック5の内側面の下部に配置されており、排気通路10bとの交差を避けて流体通路10aへ連通されている。
前記圧力制御用コントロール弁6は、公知の金属製ダイヤフラムを弁体20とするピエゾ駆動素子6aを用いた開閉弁であり、ピエゾ駆動素子6aへの通電によりこれが伸長し、円筒体17を弾性体18の弾力に抗して上方へ押し上げることによりダイヤフラム弁体20の弾性力により弁体押え19が上方へ移動し、弁体20が弁座2aから離座して弁が開放される。また、弁開度は、ピエゾ駆動素子6aへの印加電圧を変動することにより調節される。
また、排気制御用コントロール弁7の構造及び作動は、圧力制御用コントロール弁6の場合と同一であり、ピエゾ駆動素子7aの伸長量調節により、弁開度制御が行なわれる。
尚、排気制御用コントロール弁7には、上記ピエゾ駆動式金属ダイヤフラム型開閉弁に代えて、公知の空気圧駆動式や電磁駆動式の開閉制御弁を用いることも可能であり、また、コントロール弁ではなく開閉弁を用いることも可能である。
更に、前記圧力制御用コントロール弁6、排気制御用コントロール弁7及び開閉弁8等の作動制御は、パネルコントロールボード14を介して全て自動的に行なわれることは、従前のこの種圧力式流量制御装置の場合と同様である。
上記図2に示したFCS−WR型の圧力式流量制御装置では、装置の小型化及び流体通路容積の削減を図るために、オリフィスOLと開閉弁8とを一体的に組み付けした構造のオリフィス内蔵型の開閉弁を使用している。当該オリフィス内蔵型開閉弁8そのものの構造は公知(特許文献6・特開2000−213667号等)であるため、ここではその詳細な説明を省略するが、図3の(c)に示すように、出口側ブロック5の上面に弁機構を収納する孔部34を設け、その内部へオリフィスOL、弁座リング30、弁体(ダイヤフラム)20、押え筒体33、弁体押え19、ステム31、スプリング32等の弁機構の構成部材を配置し、本体2を構成する出口側ブロック5上に開閉弁8を固設する構成としたものである。
オリフィス内蔵型開閉弁を用いることで、オリフィスと弁体間の内容積を極小にすることができ、弁開閉時の流量の立上り特性および立下り特性が改良される。
なお、オリフィス内蔵型開閉弁については、上流側にオリフィスが下流側に弁体が設けられているが、この場合、立下り特性は、開閉弁の動作のみの影響を受け、また内容積が極小であるため、立上り特性における内容積の影響が小さい。オリフィス内蔵型開閉弁の取付け方向を反対にすることで、上流側に弁体が、下流側にオリフィスが設けられるが、この場合は立上り特性は開閉弁の動作のみの影響を受け、立下り特性における内容積の影響が小さい。
図4は、本発明に係る圧力式流量制御装置を用いたガス供給ボックスの構成を示す系統図であり、3種の実ガスG1〜G3及びN2ガスを夫々単独に、または、適宜のガス種を所定の割合で混合して、プロセスチャンバ29へ供給するものである。尚、排気制御用コントロール弁7(図示省略)を介してFCS−Nの内部空間ガスが、排気ライン27の出口側開閉弁24を通して真空ポンプ28により強制排気(真空排気)されることは、前述の通りである。
尚、図4において、21はガス供給口、22は供給側切換弁、23は出口側切換弁、 26は混合ガス供給ラインである。
上記図1〜図3の実施形態においては、図3の(C)に示したオリフィス内蔵型の開閉弁8を用いたFCS−WR型の圧力式流量制御装置に基づいて説明をしたが、圧力式流量制御装置としては、FCS−N型、FCS−SN 型、FCS−SWR型であっても良いことは勿論であり、図5に示した従前の各型式の圧力式流量制御装置は、何れも本発明の実施に適用し得ることが可能なものである。
また、本発明に係る圧力式流量制御装置でパルス流量制御を行う場合には、数10〜数100msecのパルス間隔でもって、高精度なパルス流量制御が行える。
尚、圧力式流量制御装置の作動原理や構成は既に公知であるため、ここではその詳細な説明を省略するものとしておる。
本願発明は、半導体製造装置用のガス供給設備やガス供給装置のみならず、化学産業や食品産業等のあらゆるガス供給設備の流量制御装置に適用できるものである。
1 圧力式流量制御装置
2 本体
2a 弁座
3 入口側ブロック
4 本体ブロック
5 出口側ブロック
6 圧力制御用コントロール弁
6a ピエゾ駆動素子
7 排気制御用コントロール弁
7a ピエゾ駆動素子
8 空気圧駆動型の開閉弁
8a 空気圧型弁駆動部
9 流体入口
10a 流体通路
10b 排気通路
10c 漏洩検査用通路
11 流体出口
12 排気出口
13 ガスケット
14 パネルコントロールボード
15 ケーシング
16 接続用コネクタ
17 円筒体
18 弾性体
19 弁体押さえ
20 弁体
21 ガス供給口
22 供給側切換弁
23 出口側開閉弁
24 出口側開閉弁
26 混合ガス供給ライン
27 真空排気ライン
28 真空ポンプ
29 プロセスチャンバ
30 弁座用リング
31 ステム
32 スプリング
33 押え筒体
34 孔部
第1圧力センサ
第2圧力センサ
OL オリフィス
〜G 実ガス

Claims (13)

  1. 流体入口と流体出口間を連通する流体通路及び流体通路と排気出口間を連通する排気通路を設けた本体と、本体の流体入口側に固定されて流体通路の上流側を開閉する圧力制御用コントロール弁と、その下流側の流体通路内圧を検出する第1圧力センサと、前記排気通路の分岐箇所より下流の流体通路内に設けたオリフィスと、前記第1圧力センサの下流側の流体通路を開閉する開閉弁と、前記排気通路を開閉する排気用弁とから圧力式流量制御装置を構成し、当該圧力式流量制御装置による流量制御開始前に排気用弁を作動して圧力制御用コントロール弁と開閉弁の間の流体通路空間内を強制排気することにより、流量制御開始時のオーバーシュートを防止する構成としたことを特徴とする圧力式流量制御装置。
  2. 流量制御時に前記開閉弁を開閉することにより流量のパルス制御がなされる請求項1に記載の圧力式流量制御装置。
  3. 前記開閉弁がオリフィスの下流側に設けられる請求項1又は2に記載の圧力式流量制御装置。
  4. 前記排気用弁を制御弁とした請求項1乃至3に記載の圧力式流量制御装置
  5. 本体に、オリフィス下流側の流体通路内圧を検出する第2圧力センサを設け、圧力式流量制御装置をFCS-WR型圧力式流量制御装置とした請求項1に記載の圧力式流量制御装置。
  6. 第2圧力センサを、開閉弁下流側の流体通路内圧を検出するセンサとした請求項3に記載の圧力式流量制御装置。
  7. 前記オリフィス及び開閉弁を、オリフィスと開閉弁を一体的に組み付け固定した構成のオリフィス内蔵型弁により形成するようにした請求項1に記載の圧力式流量制御装置。
  8. 圧力式流量制御装置を、複数のオリフィスを並列状に連結し、切換弁により少なくとも一つのオリフィスに流体を流通させる構成のFCS-SN型の圧力式流量制御装置とした請求項1に記載の圧力式流量制御装置。
  9. 圧力式流量制御装置を、複数のオリフィスを並列状に連結し、切換弁により少なくとも一つのオリフィスに流体を流通させると共に、オリフィス下流側の流体通路内圧を検出する圧力センサを備えた構成のFCS-SWR型の圧力式流量制御装置とした請求項1に記載の圧力式流量制御装置。
  10. 圧力制御用コントロール弁を、ピエゾ素子駆動型の金属ダイヤフラム式制御弁とするようにした請求項1に記載の圧力式流量制御装置。
  11. 開閉弁を、空気圧駆動弁又は電磁駆動弁とするようにした請求項1に記載の圧力式流量制御装置。
  12. 排気出口に接続した真空ポンプにより排気通路内を強制排気する構成とした請求項1に記載の圧力式流量制御装置。
  13. 流体入口と流体出口間を連通する流体通路及び流体通路と排気出口間を連通する排気通路を設けた本体と、本体の流体入口側に固定されて流体通路の上流側を開閉する圧力制御用コントロール弁と、その下流側の流体通路内圧を検出する第1圧力センサと、前記排気通路の分岐箇所より下流の流体通路内に設けたオリフィスと、前記第1圧力センサの下流側の流体通路を開閉する開閉弁と、前記排気通路を開閉する排気用弁とから圧力式流量制御装置において、当該圧力式流量制御装置による流量制御開始前に排気用弁を作動して圧力制御用コントロール弁と開閉弁間の流体通路空間内を強制排気することにより、流量制御開始時のオーバーシュートを防止する方法。
JP2014008831A 2014-01-21 2014-01-21 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法 Active JP6321972B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014008831A JP6321972B2 (ja) 2014-01-21 2014-01-21 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法
CN201580002126.5A CN105940357B (zh) 2014-01-21 2015-01-15 压力式流量控制装置及其流量控制开始时的超量防止方法
PCT/JP2015/000154 WO2015111391A1 (ja) 2014-01-21 2015-01-15 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法
US15/110,208 US9841770B2 (en) 2014-01-21 2015-01-15 Pressure-type flow control device and method for preventing overshooting at start of flow control performed by said device
KR1020167005843A KR101887364B1 (ko) 2014-01-21 2015-01-15 압력식 유량 제어 장치 및 그 유량 제어 개시 시의 오버슈트 방지 방법
TW104101810A TWI537696B (zh) 2014-01-21 2015-01-20 Pressure flow control device and its flow control at the beginning of the over-prevention method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014008831A JP6321972B2 (ja) 2014-01-21 2014-01-21 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015138338A true JP2015138338A (ja) 2015-07-30
JP2015138338A5 JP2015138338A5 (ja) 2016-12-15
JP6321972B2 JP6321972B2 (ja) 2018-05-09

Family

ID=53681205

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014008831A Active JP6321972B2 (ja) 2014-01-21 2014-01-21 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9841770B2 (ja)
JP (1) JP6321972B2 (ja)
KR (1) KR101887364B1 (ja)
CN (1) CN105940357B (ja)
TW (1) TWI537696B (ja)
WO (1) WO2015111391A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017188129A1 (ja) * 2016-04-28 2017-11-02 株式会社フジキン 流体制御装置、流体制御装置の制御方法、および、流体制御システム
WO2020085033A1 (ja) * 2018-10-26 2020-04-30 株式会社フジキン 流体供給システム、流体制御装置、及び半導体製造装置
KR20200093031A (ko) 2018-06-26 2020-08-04 가부시키가이샤 후지킨 유량 제어 방법 및 유량 제어 장치
WO2023053724A1 (ja) * 2021-09-30 2023-04-06 株式会社フジキン オリフィス内蔵バルブおよび流量制御装置

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6372998B2 (ja) * 2013-12-05 2018-08-15 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
JP6539482B2 (ja) * 2015-04-15 2019-07-03 株式会社フジキン 遮断開放器
US11144075B2 (en) 2016-06-30 2021-10-12 Ichor Systems, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US10679880B2 (en) * 2016-09-27 2020-06-09 Ichor Systems, Inc. Method of achieving improved transient response in apparatus for controlling flow and system for accomplishing same
US10665430B2 (en) * 2016-07-11 2020-05-26 Tokyo Electron Limited Gas supply system, substrate processing system and gas supply method
JP6748586B2 (ja) * 2016-07-11 2020-09-02 東京エレクトロン株式会社 ガス供給システム、基板処理システム及びガス供給方法
JP6786096B2 (ja) * 2016-07-28 2020-11-18 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
JP7245600B2 (ja) * 2016-12-15 2023-03-24 株式会社堀場エステック 流量制御装置、及び、流量制御装置用プログラム
GB2557670B (en) 2016-12-15 2020-04-15 Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh Improved gas flow control
JP7107648B2 (ja) * 2017-07-11 2022-07-27 株式会社堀場エステック 流体制御装置、流体制御システム、流体制御方法、及び、流体制御装置用プログラム
WO2019208417A1 (ja) * 2018-04-27 2019-10-31 株式会社フジキン 流量制御方法および流量制御装置
DE102018004341A1 (de) * 2018-05-31 2019-12-05 Drägerwerk AG & Co. KGaA Beatmungsgerät und Verfahren zum Betrieb eines Beatmungsgeräts
US11859733B2 (en) * 2019-07-31 2024-01-02 Fujikin Incorporated Valve device, fluid control device, and manufacturing method of valve device
JP7045738B1 (ja) * 2021-03-23 2022-04-01 株式会社リンテック 常時閉型流量制御バルブ
US20220372997A1 (en) * 2021-05-24 2022-11-24 Festo Se & Co. Kg Fluid control system
KR20230000975A (ko) * 2021-06-25 2023-01-03 가부시키가이샤 호리바 에스텍 유체 제어 장치, 유체 제어 시스템, 유체 제어 장치용 프로그램 및 유체 제어 방법
WO2023182105A1 (ja) * 2022-03-22 2023-09-28 株式会社フジキン 流量制御装置の排気構造、排気方法及びそれを備えたガス供給システム及びガス供給方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6328875A (ja) * 1986-07-23 1988-02-06 Anelva Corp ガス導入方法
JPH08338546A (ja) * 1995-06-12 1996-12-24 Fujikin:Kk 圧力式流量制御装置
JPH109996A (ja) * 1996-06-21 1998-01-16 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 流量制御装置
JPH1055218A (ja) * 1996-08-12 1998-02-24 Tadahiro Omi 圧力式流量制御装置
JPH1145122A (ja) * 1997-04-17 1999-02-16 Applied Materials Inc 動的ガス流コントローラ
JP2003195948A (ja) * 2001-12-28 2003-07-11 Tadahiro Omi 改良型圧力式流量制御装置
JP2006330851A (ja) * 2005-05-23 2006-12-07 Fujikin Inc 改良型圧力式流量制御装置
WO2009141947A1 (ja) * 2008-05-21 2009-11-26 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置を用いた流体の非連続式流量切替制御方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4550747A (en) * 1983-10-05 1985-11-05 Digital Hydraulics, Inc. Digital fluid pressure flow rate and position control system
US5739429A (en) * 1995-07-13 1998-04-14 Nordson Corporation Powder coating system incorporating improved method and apparatus for monitoring flow rate of entrained particulate flow
JP4137267B2 (ja) 1999-01-28 2008-08-20 忠弘 大見 オリフィス内蔵弁
JP4648098B2 (ja) * 2005-06-06 2011-03-09 シーケーディ株式会社 流量制御機器絶対流量検定システム
WO2008078261A2 (en) 2006-12-20 2008-07-03 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Arrangement and method for influencing and/or detecting magnetic particles in a region of action

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6328875A (ja) * 1986-07-23 1988-02-06 Anelva Corp ガス導入方法
JPH08338546A (ja) * 1995-06-12 1996-12-24 Fujikin:Kk 圧力式流量制御装置
JPH109996A (ja) * 1996-06-21 1998-01-16 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 流量制御装置
JPH1055218A (ja) * 1996-08-12 1998-02-24 Tadahiro Omi 圧力式流量制御装置
JPH1145122A (ja) * 1997-04-17 1999-02-16 Applied Materials Inc 動的ガス流コントローラ
JP2003195948A (ja) * 2001-12-28 2003-07-11 Tadahiro Omi 改良型圧力式流量制御装置
JP2006330851A (ja) * 2005-05-23 2006-12-07 Fujikin Inc 改良型圧力式流量制御装置
WO2009141947A1 (ja) * 2008-05-21 2009-11-26 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置を用いた流体の非連続式流量切替制御方法

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109074104B (zh) * 2016-04-28 2021-07-16 株式会社富士金 流体控制系统以及流体控制装置的控制方法
CN109074104A (zh) * 2016-04-28 2018-12-21 株式会社富士金 流体控制装置、流体控制装置的控制方法、以及流体控制系统
JPWO2017188129A1 (ja) * 2016-04-28 2019-03-07 株式会社フジキン 流体制御装置、流体制御装置の制御方法、および、流体制御システム
WO2017188129A1 (ja) * 2016-04-28 2017-11-02 株式会社フジキン 流体制御装置、流体制御装置の制御方法、および、流体制御システム
US11137779B2 (en) 2016-04-28 2021-10-05 Fujikin Incorporated Fluid control device, method for controlling fluid control device, and fluid control system
US11216016B2 (en) 2018-06-26 2022-01-04 Fujikin Incorporated Flow rate control method and flow rate control device
KR20200093031A (ko) 2018-06-26 2020-08-04 가부시키가이샤 후지킨 유량 제어 방법 및 유량 제어 장치
TWI725571B (zh) * 2018-10-26 2021-04-21 日商富士金股份有限公司 流體供給系統、流體控制裝置以及半導體製造裝置
JPWO2020085033A1 (ja) * 2018-10-26 2021-09-16 株式会社フジキン 流体供給システム、流体制御装置、及び半導体製造装置
WO2020085033A1 (ja) * 2018-10-26 2020-04-30 株式会社フジキン 流体供給システム、流体制御装置、及び半導体製造装置
US11346505B2 (en) 2018-10-26 2022-05-31 Fujikin Incorporated Fluid supply system, fluid control device, and semiconductor manufacturing device
JP7446618B2 (ja) 2018-10-26 2024-03-11 株式会社フジキン 流体供給システム、流体制御装置、及び半導体製造装置
WO2023053724A1 (ja) * 2021-09-30 2023-04-06 株式会社フジキン オリフィス内蔵バルブおよび流量制御装置

Also Published As

Publication number Publication date
US9841770B2 (en) 2017-12-12
KR101887364B1 (ko) 2018-08-10
TWI537696B (zh) 2016-06-11
WO2015111391A1 (ja) 2015-07-30
JP6321972B2 (ja) 2018-05-09
CN105940357B (zh) 2019-05-14
US20160327963A1 (en) 2016-11-10
KR20160040285A (ko) 2016-04-12
TW201541214A (zh) 2015-11-01
CN105940357A (zh) 2016-09-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6321972B2 (ja) 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法
JP2015138338A5 (ja)
JP6216389B2 (ja) 圧力式流量制御装置
CN108027618B (zh) 压力式流量控制装置及其异常检测方法
US8033801B2 (en) Liquid chemical supply system and liquid chemical supply control device
KR101677971B1 (ko) 반도체 제조 장치의 가스 분류 공급 장치
KR20190119099A (ko) 압력식 유량 제어 장치 및 유량 제어 방법
JP2005196788A (ja) 流体の流量を制御する装置、方法及びシステム
TWI770130B (zh) 真空閥的優化壓力調節
WO2018021327A1 (ja) 圧力式流量制御装置
KR20200093031A (ko) 유량 제어 방법 및 유량 제어 장치
JP7197897B2 (ja) コントロール弁のシートリーク検知方法
TWI832863B (zh) 流量測定方法及流量測定裝置
JP2006319207A (ja) 流量制御装置、薄膜堆積装置および流量制御方法
US20160153475A1 (en) Discrete Pilot Stage Valve Arrangement With Fail Freeze Mode
JP7232506B2 (ja) 流量圧力制御装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161027

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161027

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170807

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171005

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180312

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180406

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6321972

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250