JPS6328875A - ガス導入方法 - Google Patents
ガス導入方法Info
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- JPS6328875A JPS6328875A JP17299786A JP17299786A JPS6328875A JP S6328875 A JPS6328875 A JP S6328875A JP 17299786 A JP17299786 A JP 17299786A JP 17299786 A JP17299786 A JP 17299786A JP S6328875 A JPS6328875 A JP S6328875A
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Landscapes
- Flow Control (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は、微少流量のガスを半導体製造装置などにおけ
る減圧容器中に高速応答性良好に導入するガス導入方法
に関するものである。
る減圧容器中に高速応答性良好に導入するガス導入方法
に関するものである。
従来のガス導入方法は、微少流量のガスを第4図に示す
ような構成を用いて減圧状態にある反応容器1に導入制
御していた。以下詳述する。
ような構成を用いて減圧状態にある反応容器1に導入制
御していた。以下詳述する。
第4図において、反応容器1は排気弁2を介して排気ポ
ンプ3によって排気され、減圧状態にある。ガスは大口
弁10を介して流量制御器11に導入され、当該流量制
御器11内に設けた流量制御弁12によって設定した所
定流量に制御され、出口弁13を介して反応容器1に導
入される。
ンプ3によって排気され、減圧状態にある。ガスは大口
弁10を介して流量制御器11に導入され、当該流量制
御器11内に設けた流量制御弁12によって設定した所
定流量に制御され、出口弁13を介して反応容器1に導
入される。
ガスを反応容器1に導入したり、あるいは導入を停止し
たりする制御は、出口弁13、入口弁10を開閉、ある
いは流量制御弁12を通過する流量を所定値と零とに調
整することによって行っていた。
たりする制御は、出口弁13、入口弁10を開閉、ある
いは流量制御弁12を通過する流量を所定値と零とに調
整することによって行っていた。
また、第4図図中点線を用いて示すように、キャリアガ
スをキャリアガス導入弁31を介してガス流路に導入す
ることによって、流量を増大させてガスが反応容器1に
導入されるいわゆるレスポンスを良好にすることが行わ
れていた。
スをキャリアガス導入弁31を介してガス流路に導入す
ることによって、流量を増大させてガスが反応容器1に
導入されるいわゆるレスポンスを良好にすることが行わ
れていた。
(発明が解決しようとする問題点〕
しかし、従来の第4図に示すような構成を採用してガス
を反応容器1に導入したり、あるいは導入を停止したり
する導入制御は、出口弁13、入口弁10を開閉、ある
いは流量制御弁12を通過する流量を所定値と零とに設
定して行っていたため、反応容器1に導入するガス流量
の時間的変化が第5図に示すような特性になっていた。
を反応容器1に導入したり、あるいは導入を停止したり
する導入制御は、出口弁13、入口弁10を開閉、ある
いは流量制御弁12を通過する流量を所定値と零とに設
定して行っていたため、反応容器1に導入するガス流量
の時間的変化が第5図に示すような特性になっていた。
即ち、実線を用いて示すように、出口弁13、入口弁1
0を開状態、あるいは流量制御弁12を通過するガスの
流量を所定流量値に設定してガスを反応容器1に導入開
始(図中■)してから、図中@を用いて示す安定した所
定ガス流量を反応容器1に導入し得るようになる迄に時
間Δ1.を要していた。
0を開状態、あるいは流量制御弁12を通過するガスの
流量を所定流量値に設定してガスを反応容器1に導入開
始(図中■)してから、図中@を用いて示す安定した所
定ガス流量を反応容器1に導入し得るようになる迄に時
間Δ1.を要していた。
図中時間Δt3は、ガスを所定時間の間、反応容器1に
導入する時間を示す、そして、出口弁13もしくは入口
弁10を閉状態、あるいは流量制御弁12を通過するガ
ス流量を零に設定してガスの導入を停止(図中0)して
から、図中[相]を用いて示すガス流量が零になる迄に
時間Δ1tを要していた。これら導入当初にガス流量が
安定するまでの時間Δt1、およびガスの導入が停止す
るまでの時間Δt2は、流量制御器11の特性、流量制
御器11および配管の内容積、および設定流量などによ
って決まるが、特に制御すべき流量が微少である場合に
は、見掛は上の流量制御時間Δt3に比較して前記時間
Δt、およびΔt2が大きくなり、無視できなくなり、
微少流量ガスの導入制御を高速に行えないという問題点
があった。
導入する時間を示す、そして、出口弁13もしくは入口
弁10を閉状態、あるいは流量制御弁12を通過するガ
ス流量を零に設定してガスの導入を停止(図中0)して
から、図中[相]を用いて示すガス流量が零になる迄に
時間Δ1tを要していた。これら導入当初にガス流量が
安定するまでの時間Δt1、およびガスの導入が停止す
るまでの時間Δt2は、流量制御器11の特性、流量制
御器11および配管の内容積、および設定流量などによ
って決まるが、特に制御すべき流量が微少である場合に
は、見掛は上の流量制御時間Δt3に比較して前記時間
Δt、およびΔt2が大きくなり、無視できなくなり、
微少流量ガスの導入制御を高速に行えないという問題点
があった。
また、第4図図中点線を用いて示すキャリアガス導入弁
31を設け、キャリアガスをガスの波路部分例えば出口
弁13と反応容器1との接続部分に導入する構成を採用
して、微少流量ガスの導入制御を高速に行う試みがなさ
れている。これにより、第5図図中点線を用いて示すよ
うにガスを導入開始(図中■)してから流量が安定状態
になるまでの時間Δtl゛を若干小さくすることが可能
であるが1、未だ十分小さくし得ないと共に、ガス導入
開始当初にガス流量のいわゆるオーバーシューテイング
およびハンチングなどが生じてしまい所定流量を高速に
導入・停止し得ないという問題点があった。
31を設け、キャリアガスをガスの波路部分例えば出口
弁13と反応容器1との接続部分に導入する構成を採用
して、微少流量ガスの導入制御を高速に行う試みがなさ
れている。これにより、第5図図中点線を用いて示すよ
うにガスを導入開始(図中■)してから流量が安定状態
になるまでの時間Δtl゛を若干小さくすることが可能
であるが1、未だ十分小さくし得ないと共に、ガス導入
開始当初にガス流量のいわゆるオーバーシューテイング
およびハンチングなどが生じてしまい所定流量を高速に
導入・停止し得ないという問題点があった。
本発明は、流量制御器の特性、配管などの内容積、およ
び設定流量などに依存することなく、微少流量ガスの導
入・停止を高速に行うガス導入方法を提供することを目
的としている。
び設定流量などに依存することなく、微少流量ガスの導
入・停止を高速に行うガス導入方法を提供することを目
的としている。
本発明は、前記問題点を解決するために、第1図に示す
ように流量制御器11によって流量制御されたガスを減
圧された反応容器1に導入する出口弁A13と、キャリ
アガスを流量制御器11と出口弁A13との接続部分に
導入するキャリアガス導入弁20と、流量制御器11と
出口弁A13との接続部分に導入されたガスおよびキャ
リアガスを排気する出口弁B14と、この出口弁B14
によって排気される排気流量を制御するしぼり弁B15
とを設け、ガスを反応容器lに導入する際に、第1に、
出口弁A13を閉および出口弁B14を少なくとも開に
して、出口弁B14およびしぼり弁B15を用いて流量
制御器11から導入されるガスを少なくとも排気すると
共に出口弁A13の入口における圧力を所定値Pにし、
第2に、出口弁A13を開および出口弁B14を閉にし
て、ガスを反応容器1に導入するようにしている。
ように流量制御器11によって流量制御されたガスを減
圧された反応容器1に導入する出口弁A13と、キャリ
アガスを流量制御器11と出口弁A13との接続部分に
導入するキャリアガス導入弁20と、流量制御器11と
出口弁A13との接続部分に導入されたガスおよびキャ
リアガスを排気する出口弁B14と、この出口弁B14
によって排気される排気流量を制御するしぼり弁B15
とを設け、ガスを反応容器lに導入する際に、第1に、
出口弁A13を閉および出口弁B14を少なくとも開に
して、出口弁B14およびしぼり弁B15を用いて流量
制御器11から導入されるガスを少なくとも排気すると
共に出口弁A13の入口における圧力を所定値Pにし、
第2に、出口弁A13を開および出口弁B14を閉にし
て、ガスを反応容器1に導入するようにしている。
(作用〕
第1図に示すような構成を採用し、まず、流量制御弁1
2を用いてガス流量を所定値に設定すると共に、出口弁
A13を閉、出口弁B14を開、およびキャリアガス導
入弁20を開にし、しぼ怜弁B15を調整して出口弁A
I3の入口部分の圧力を所定値P(出口弁A13および
出口弁B14を交互に開閉した時に、変動しない値)に
設定するように排気ポンプB16を用いて排気する。
2を用いてガス流量を所定値に設定すると共に、出口弁
A13を閉、出口弁B14を開、およびキャリアガス導
入弁20を開にし、しぼ怜弁B15を調整して出口弁A
I3の入口部分の圧力を所定値P(出口弁A13および
出口弁B14を交互に開閉した時に、変動しない値)に
設定するように排気ポンプB16を用いて排気する。
次に、出口弁A13を開および出口弁B14を閉にし、
流量制御弁12によって所定流量に制御されたガスを当
該出口弁A13を介して反応容器1に導入する。以降の
反応容器1へのガスの導入・停止制御は、出口弁A13
および出口弁B14を交互に開閉する。
流量制御弁12によって所定流量に制御されたガスを当
該出口弁A13を介して反応容器1に導入する。以降の
反応容器1へのガスの導入・停止制御は、出口弁A13
および出口弁B14を交互に開閉する。
以上のように、出口弁B14、しぼり弁B15および排
気ポンプB16を用いてバイパス流路を設け、出口弁A
I3および出口弁B14を交互に開閉してガスの流路を
切り換える構成を採用することにより、流量制御器11
の構造などの影響を受けることなり、微少流量のガスの
導入・停止制御を高速応答性良好に行うことが可能とな
る。
気ポンプB16を用いてバイパス流路を設け、出口弁A
I3および出口弁B14を交互に開閉してガスの流路を
切り換える構成を採用することにより、流量制御器11
の構造などの影響を受けることなり、微少流量のガスの
導入・停止制御を高速応答性良好に行うことが可能とな
る。
次に、第1図および第2図を用いて本発明の1実施例構
成および動作を詳細に説明する。
成および動作を詳細に説明する。
第1図において、反応容器1は、排気弁2を介して排気
ポンプA3によって排気され、減圧状態にある。ガスは
、大口弁10、流量制御器11を構成する流量制御弁1
2、および出口弁A13を介して反応容器1に導入され
る。出口弁A13の入口部分は、キャリアガス導入弁2
0を介してキャリアガスが導入されると共に、出口弁B
14およびしぼり弁B15を介して排気ポンプB16に
よって所定圧力Pに排気される。これら出口弁B14、
しぼり弁B15および排気ポンプB16は、バイパス流
路を構成しており、出口弁A13と出口弁B14とを交
互に開閉することによって、ガス流路を切り換えること
ができる。
ポンプA3によって排気され、減圧状態にある。ガスは
、大口弁10、流量制御器11を構成する流量制御弁1
2、および出口弁A13を介して反応容器1に導入され
る。出口弁A13の入口部分は、キャリアガス導入弁2
0を介してキャリアガスが導入されると共に、出口弁B
14およびしぼり弁B15を介して排気ポンプB16に
よって所定圧力Pに排気される。これら出口弁B14、
しぼり弁B15および排気ポンプB16は、バイパス流
路を構成しており、出口弁A13と出口弁B14とを交
互に開閉することによって、ガス流路を切り換えること
ができる。
次に、第2図を用いて第1図図示構成の動作を詳細に説
明する。第2図図中横軸は時間を示し、縦軸は流量制御
弁12によって導入されるガス流量fを示す。図中■お
よび■の点線の曲線はガスを反応容器1に導入するに先
立った前準備における導入特性を表し、図中■ないし■
の実線の曲線はガスを反応容器1に導入する導入停止特
性を表す。
明する。第2図図中横軸は時間を示し、縦軸は流量制御
弁12によって導入されるガス流量fを示す。図中■お
よび■の点線の曲線はガスを反応容器1に導入するに先
立った前準備における導入特性を表し、図中■ないし■
の実線の曲線はガスを反応容器1に導入する導入停止特
性を表す。
図中■は、出口弁B14を開、出口弁A13を閉、キャ
リアガス導入弁20を開、大口弁10を開、および流量
制御弁12を所定流量に設定し、排気ポンプB16を用
いて排気を開始する状態を示す。尚、答弁などを開閉し
てから図示のように排気されるまでには若干の遅延が存
在するがここでは説明の都合上、省略する。
リアガス導入弁20を開、大口弁10を開、および流量
制御弁12を所定流量に設定し、排気ポンプB16を用
いて排気を開始する状態を示す。尚、答弁などを開閉し
てから図示のように排気されるまでには若干の遅延が存
在するがここでは説明の都合上、省略する。
図中■は、排気ポンプB16、しぼり弁B15、および
出口弁B14から構成されるバイパス流路りを介して答
弁および配管内のガスが排気され、出口弁A13の入口
部分における圧力が所定値Pに安定に設定された状態を
示す。これは、出口弁A13および出口弁B14を交互
に切り換える態様で開゛閉して流量制御弁12によって
流量制御されたガスを反応容器1に導入したり、あるい
はバイパス流路を介して排気したりする場合に、当該出
口弁A13の入口部分の圧力が変動しないようにするた
めに、しぼり弁B15を調整して所定圧力Pに設定する
ことを意味している。詳述すれば、出口弁A13、反応
容器1、排気弁2、および排気ポンプA3からなる流路
によって排気される当該出口弁A13の入口部分の圧力
Pと、出口弁B14、しぼり弁B15、および排気ポン
プB16からなるバイパス流路によって排気される当該
出口弁A130入ロ部分の圧力Pとが等しくなるように
例えばしぼり弁B15を調整することであり、この圧力
Pは答弁、配管などのコンダクタンス、排気ポンプA、
Bの排気特性などに依存して決定される。図中Δt、は
、ガスを導入開始してから所定流量のガスが出口弁A1
3の入口部分に安定に導入されるまでの時間を表す。
出口弁B14から構成されるバイパス流路りを介して答
弁および配管内のガスが排気され、出口弁A13の入口
部分における圧力が所定値Pに安定に設定された状態を
示す。これは、出口弁A13および出口弁B14を交互
に切り換える態様で開゛閉して流量制御弁12によって
流量制御されたガスを反応容器1に導入したり、あるい
はバイパス流路を介して排気したりする場合に、当該出
口弁A13の入口部分の圧力が変動しないようにするた
めに、しぼり弁B15を調整して所定圧力Pに設定する
ことを意味している。詳述すれば、出口弁A13、反応
容器1、排気弁2、および排気ポンプA3からなる流路
によって排気される当該出口弁A13の入口部分の圧力
Pと、出口弁B14、しぼり弁B15、および排気ポン
プB16からなるバイパス流路によって排気される当該
出口弁A130入ロ部分の圧力Pとが等しくなるように
例えばしぼり弁B15を調整することであり、この圧力
Pは答弁、配管などのコンダクタンス、排気ポンプA、
Bの排気特性などに依存して決定される。図中Δt、は
、ガスを導入開始してから所定流量のガスが出口弁A1
3の入口部分に安定に導入されるまでの時間を表す。
以上のようにして、出口弁A13の入口部分における圧
力Pが所定値に安定に保持され、流量制御弁12によっ
て設定された所定流量のガスがバイパス流路(出口弁B
14、しぼり弁B15および排気ポンプB16)を介し
て排気され、出口弁A13を開にしてガスを反応容器1
に導入するための前準備が完了したこととなる。
力Pが所定値に安定に保持され、流量制御弁12によっ
て設定された所定流量のガスがバイパス流路(出口弁B
14、しぼり弁B15および排気ポンプB16)を介し
て排気され、出口弁A13を開にしてガスを反応容器1
に導入するための前準備が完了したこととなる。
次に、ガスを反応容器lに導入する導入停止特性を説明
する。
する。
第2図図中■は、出口弁A13を開、出口弁B14を閉
にして、バイパス流路に流れていたガスおよびキャリア
ガスを、出口弁A13、反応容器1、排気弁2、および
排気ポンプA3からなる流路に切り換える状態を示す。
にして、バイパス流路に流れていたガスおよびキャリア
ガスを、出口弁A13、反応容器1、排気弁2、および
排気ポンプA3からなる流路に切り換える状態を示す。
図中■は、安定状態の所定流量のガスを反応容器1に導
入する状態を示す、この安定状態の基でガスが反応容器
1に導入されるまでに要する時間Δt、は、従来の第5
図図中の時間Δ1.に比し、極めて短くなっている。こ
れは、本実施例は、出口弁B14を通じて流れていたガ
スを、出口弁A13を通じて流れるように、ガス流路を
単に切り換えてガスを反応容器1に導入するよう制御し
ているために、ガスの導入の際の遅延、オーバーシュー
テイング、およびハンチングなど(図中(イ)の部分に
示す点線の特性曲線など)を生じないようにしているか
らである。尚、図中Δt、は、ガスを反応容器lに安定
に導入している時間を表す。
入する状態を示す、この安定状態の基でガスが反応容器
1に導入されるまでに要する時間Δt、は、従来の第5
図図中の時間Δ1.に比し、極めて短くなっている。こ
れは、本実施例は、出口弁B14を通じて流れていたガ
スを、出口弁A13を通じて流れるように、ガス流路を
単に切り換えてガスを反応容器1に導入するよう制御し
ているために、ガスの導入の際の遅延、オーバーシュー
テイング、およびハンチングなど(図中(イ)の部分に
示す点線の特性曲線など)を生じないようにしているか
らである。尚、図中Δt、は、ガスを反応容器lに安定
に導入している時間を表す。
図中■は、出口弁A13を閉、および出口弁B14を開
にして、ガス流路をバイパス流路に切り換えて、ガスを
反応容器1に導入することを停止する状態を示す。
にして、ガス流路をバイパス流路に切り換えて、ガスを
反応容器1に導入することを停止する状態を示す。
図中Oは、反応容器1に導入されるガス流量が零になっ
た状態を示す9図中時間Δt2は、ガスの導入停止を開
始してからガスの導入が停止されるまでの時間を示す。
た状態を示す9図中時間Δt2は、ガスの導入停止を開
始してからガスの導入が停止されるまでの時間を示す。
以上のように、出口弁A13および出口弁B14を交互
に開閉して、出口弁A13の入口部分に導入されたガス
およびキャリアガスを、バイパス流路と反応容器lを含
む流路とに交互に切り換えるよう制御することにより、
微少流量のガスを減圧された反応容器1中に安定状態の
基で高速応答性良好に導入・停止することが可能となる
。
に開閉して、出口弁A13の入口部分に導入されたガス
およびキャリアガスを、バイパス流路と反応容器lを含
む流路とに交互に切り換えるよう制御することにより、
微少流量のガスを減圧された反応容器1中に安定状態の
基で高速応答性良好に導入・停止することが可能となる
。
次に、第3図を用いて他の実施例構成および動作を説明
する。この第3図に示す構成は、第1図に示す構成に付
加して、出口弁A13の出口部分に対して、しぼり弁A
21を通じて所定流量のキャリアガスを導入したことで
ある。他のガス導入停止制御は第1図図示のものとほぼ
同じであるので、説明を省略する。尚、出口弁A13の
入口部分における圧力P1を所定値に設定するのに、当
該しぼり弁A21を用いてキャリアガスの導入量を制御
することによって行ってもよいし、しぼり弁B15と当
該しぼり弁A21とを用いて行ってもよい。
する。この第3図に示す構成は、第1図に示す構成に付
加して、出口弁A13の出口部分に対して、しぼり弁A
21を通じて所定流量のキャリアガスを導入したことで
ある。他のガス導入停止制御は第1図図示のものとほぼ
同じであるので、説明を省略する。尚、出口弁A13の
入口部分における圧力P1を所定値に設定するのに、当
該しぼり弁A21を用いてキャリアガスの導入量を制御
することによって行ってもよいし、しぼり弁B15と当
該しぼり弁A21とを用いて行ってもよい。
このようにキャリアガスを出口弁A13の出口側に導入
することにより、出口弁A13と反応容器1との間の流
路中のガス粒子の速度が増し、ガスを反応容器1に導入
する応答性いわゆるレスポンスが改善されると共に、た
とえ出口弁A13が閉状態にされても、しぼり弁A21
を介してキャリアガスが導入されるために、出口弁A1
3および配管などに吸着したガスを当該キャリアガスに
よって迅速にパージすることが可能となる。
することにより、出口弁A13と反応容器1との間の流
路中のガス粒子の速度が増し、ガスを反応容器1に導入
する応答性いわゆるレスポンスが改善されると共に、た
とえ出口弁A13が閉状態にされても、しぼり弁A21
を介してキャリアガスが導入されるために、出口弁A1
3および配管などに吸着したガスを当該キャリアガスに
よって迅速にパージすることが可能となる。
以上のことから、ガスを安定流量のもとで導入するため
に要する時間Δ1.およびガスの導入を停止するために
要する時間Δt2を更に短くすることが可能となる。特
に、出口弁A13と反応容器1との間の配管長が長くな
った場合に有効なものとなる。
に要する時間Δ1.およびガスの導入を停止するために
要する時間Δt2を更に短くすることが可能となる。特
に、出口弁A13と反応容器1との間の配管長が長くな
った場合に有効なものとなる。
尚、第1図および第3図図中、排気ポンプA3および排
気ポンプB16の2台を用いて排気するよう構成したけ
れども、排気ポンプ816を省略し、排気ポンプA3を
用いて排気弁2と出口弁B14とを切り換えて制御して
もよい。また、本実施例においてガスとして例えば六フ
ッカタングステンガスを用い、キャリアガスとして例え
ばヘリウムガスのような不活性ガスを用いている。
気ポンプB16の2台を用いて排気するよう構成したけ
れども、排気ポンプ816を省略し、排気ポンプA3を
用いて排気弁2と出口弁B14とを切り換えて制御して
もよい。また、本実施例においてガスとして例えば六フ
ッカタングステンガスを用い、キャリアガスとして例え
ばヘリウムガスのような不活性ガスを用いている。
以上説明したように、本発明によれば、出口弁A13の
入口部分の圧力Pを所定値にし、出口弁A13と出口弁
B14とを交互に開閉してガス流路を切り換えることに
よって、ガスを反応容器1に導入するよう制御している
ため、流量制御器11の構造・特性に影響されることな
く、微少流量のガスを反応容器1中に高速応答性良好に
導入・停止することができる。
入口部分の圧力Pを所定値にし、出口弁A13と出口弁
B14とを交互に開閉してガス流路を切り換えることに
よって、ガスを反応容器1に導入するよう制御している
ため、流量制御器11の構造・特性に影響されることな
く、微少流量のガスを反応容器1中に高速応答性良好に
導入・停止することができる。
第1図は本発明の1実施例構成図、第2図は第1図図示
構成の動作説明図、第3図は本実施例の他の実施例構成
図、第4図は従来の導入方法の構成図、第5図は第4図
図示構成の動作説明図を示す。 図中、1は反応容器、2は排気弁、3.16は排気ポン
プ、10は入口弁、11は流量制御器、12は流量制御
弁、13.14出口弁、15.21はしぼり弁、20キ
ヤリアガス臘入弁を表す。 1反へ害器 20キヤリアガス導入弁本完明
の1実施例構成図 第1図 Δt1 第1図図示構成の動作説明図 第2図 本発明の他の実施例構成図 第3図 31キヤリアガス導入弁 第4図図示構成の動作説明図 第5図
構成の動作説明図、第3図は本実施例の他の実施例構成
図、第4図は従来の導入方法の構成図、第5図は第4図
図示構成の動作説明図を示す。 図中、1は反応容器、2は排気弁、3.16は排気ポン
プ、10は入口弁、11は流量制御器、12は流量制御
弁、13.14出口弁、15.21はしぼり弁、20キ
ヤリアガス臘入弁を表す。 1反へ害器 20キヤリアガス導入弁本完明
の1実施例構成図 第1図 Δt1 第1図図示構成の動作説明図 第2図 本発明の他の実施例構成図 第3図 31キヤリアガス導入弁 第4図図示構成の動作説明図 第5図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 所定流量のガスを減圧された反応容器に導入するガス導
入方法において、 導入しようとするガスの流量を制御する流量制御器と、 この流量制御器によって流量制御されたガスを減圧され
た反応容器に導入する出口弁Aと、キャリアガスを流量
制御器と出口弁Aとの接続部分に導入するキャリアガス
導入弁と、 流量制御器と出口弁Aとの接続部分に導入されたガスお
よびキャリアガスを排気する出口弁Bと、この出口弁B
を通して排気される排気流量を制御するしぼり弁Bとを
設け、 ガスを反応容器に導入する際に、第1に、出口弁Aを閉
および出口弁Bを少なくとも開にして、流量制御器から
導入されるガスを出口弁Bおよびしぼり弁Bを用いて排
気すると共に出口弁Aの入口における圧力を所定値にし
、第2に、出口弁Aを開および出口弁Bを閉にして、ガ
スを反応容器に導入するよう制御することを特徴とする
ガス導入方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17299786A JPS6328875A (ja) | 1986-07-23 | 1986-07-23 | ガス導入方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17299786A JPS6328875A (ja) | 1986-07-23 | 1986-07-23 | ガス導入方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6328875A true JPS6328875A (ja) | 1988-02-06 |
JPH0118152B2 JPH0118152B2 (ja) | 1989-04-04 |
Family
ID=15952269
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17299786A Granted JPS6328875A (ja) | 1986-07-23 | 1986-07-23 | ガス導入方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6328875A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02104667A (ja) * | 1988-10-13 | 1990-04-17 | Anelva Corp | Cvd装置 |
JPH05144733A (ja) * | 1991-11-20 | 1993-06-11 | Toshiba Corp | 薄膜製造装置 |
KR20030004740A (ko) * | 2001-07-06 | 2003-01-15 | 주성엔지니어링(주) | 액체원료 운반시스템 및 이를 이용한 공정진행방법 |
US7691167B2 (en) | 2003-09-29 | 2010-04-06 | Hitachi Metals, Ltd. | Ceramic honeycomb filter, its production method, and plugging material for ceramic honeycomb filter |
US8398797B2 (en) | 2006-09-29 | 2013-03-19 | Hitachi Metals, Ltd. | Production method of cordierite-based ceramic honeycomb filter |
WO2015064035A1 (ja) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置 |
JP2015138338A (ja) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法。 |
KR20170061670A (ko) | 2014-09-30 | 2017-06-05 | 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 | 세라믹 허니컴 필터 및 그 제조 방법 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5513922A (en) * | 1978-07-14 | 1980-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Vapor phase growthing method and its device |
-
1986
- 1986-07-23 JP JP17299786A patent/JPS6328875A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5513922A (en) * | 1978-07-14 | 1980-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Vapor phase growthing method and its device |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2015138338A (ja) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法。 |
WO2015111391A1 (ja) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法 |
KR20160040285A (ko) * | 2014-01-21 | 2016-04-12 | 가부시키가이샤 후지킨 | 압력식 유량 제어 장치 및 그 유량 제어 개시 시의 오버슈트 방지 방법 |
CN105940357A (zh) * | 2014-01-21 | 2016-09-14 | 株式会社富士金 | 压力式流量控制装置及其流量控制开始时的超量防止方法 |
CN105940357B (zh) * | 2014-01-21 | 2019-05-14 | 株式会社富士金 | 压力式流量控制装置及其流量控制开始时的超量防止方法 |
KR20170061670A (ko) | 2014-09-30 | 2017-06-05 | 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 | 세라믹 허니컴 필터 및 그 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0118152B2 (ja) | 1989-04-04 |
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