JPH05315290A - ガス流量制御装置 - Google Patents
ガス流量制御装置Info
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- JPH05315290A JPH05315290A JP11786592A JP11786592A JPH05315290A JP H05315290 A JPH05315290 A JP H05315290A JP 11786592 A JP11786592 A JP 11786592A JP 11786592 A JP11786592 A JP 11786592A JP H05315290 A JPH05315290 A JP H05315290A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 複数のガスを混合しその混合ガスを真空処理
装置の処理室へ多分岐導入するためのガス流量制御装置
に関し、処理室に混合ガスを導入した時に、ガスの混合
比が一定し且つ各分岐に対する流量分配が逸早く安定す
るようにさせることを目的とする。 【構成】 各ガスソース２ａ，２ｂから個別にガスを送
る複数の配管３ａ，３ｂ、配管３ａ，３ｂの各々に配設
されたＭＦＣ４ａ，４ｂ、を有する第１配管系３と、配
管３ａ，３ｂの末端を連結してガスを混合する混合部５
と、混合部５から多分岐導入する処理室１の各導入口に
分岐して接続する配管７ａ，７ｂ、その配管の一つ７ａ
に配設されて上手の圧力を所定にするＡＰＣ９、該一つ
を除く残りの配管７ｂに配設されたＭＦＣ８ｂ、を有す
る第２配管系７と、によりガス流路を構成し、ＡＰＣ９
を動作させた後に第２配管系７のＭＦＣ８ｂを動作させ
る制御を行う動作遅延回路１０を備えるようにする。
装置の処理室へ多分岐導入するためのガス流量制御装置
に関し、処理室に混合ガスを導入した時に、ガスの混合
比が一定し且つ各分岐に対する流量分配が逸早く安定す
るようにさせることを目的とする。 【構成】 各ガスソース２ａ，２ｂから個別にガスを送
る複数の配管３ａ，３ｂ、配管３ａ，３ｂの各々に配設
されたＭＦＣ４ａ，４ｂ、を有する第１配管系３と、配
管３ａ，３ｂの末端を連結してガスを混合する混合部５
と、混合部５から多分岐導入する処理室１の各導入口に
分岐して接続する配管７ａ，７ｂ、その配管の一つ７ａ
に配設されて上手の圧力を所定にするＡＰＣ９、該一つ
を除く残りの配管７ｂに配設されたＭＦＣ８ｂ、を有す
る第２配管系７と、によりガス流路を構成し、ＡＰＣ９
を動作させた後に第２配管系７のＭＦＣ８ｂを動作させ
る制御を行う動作遅延回路１０を備えるようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複数のガスを混合しそ
の混合ガスを真空処理装置の処理室へ多分岐導入するた
めのガス流量制御装置に関する。
の混合ガスを真空処理装置の処理室へ多分岐導入するた
めのガス流量制御装置に関する。
【０００２】上記真空処理装置は、例えば半導体装置の
製造に用いるドライエッチング装置などであり、上記多
分岐導入は、処理分布の改善策として処理室内のガス分
布を制御するために行うものである。
製造に用いるドライエッチング装置などであり、上記多
分岐導入は、処理分布の改善策として処理室内のガス分
布を制御するために行うものである。
【０００３】本発明は、処理室に混合ガスを導入した時
に各分岐に対する流量分配が逸早く安定するようにさせ
ようとするものである。
に各分岐に対する流量分配が逸早く安定するようにさせ
ようとするものである。
【０００４】
【従来の技術】以下の説明は真空処理装置がドライエッ
チング装置である場合を例にとって述べる。
チング装置である場合を例にとって述べる。
【０００５】ドライエッチングでは、複数のガスを混合
しその混合ガスを処理室へ導入して処理を行う場合が多
い。複数のガスは、混合比を一定に保つために、各ガス
毎にマスフローコントローラ（ＭＦＣ）で流量を一定に
して混合する。この混合ガスの処理室への導入は、導入
口を一つにする場合と複数にする場合がある。導入口を
複数にすれば、処理室内のガス分布の制御が容易になり
エッチング分布の均一化に有利である。その場合は、混
合ガスを複数の導入口に分配する多分岐導入の形態にな
る。
しその混合ガスを処理室へ導入して処理を行う場合が多
い。複数のガスは、混合比を一定に保つために、各ガス
毎にマスフローコントローラ（ＭＦＣ）で流量を一定に
して混合する。この混合ガスの処理室への導入は、導入
口を一つにする場合と複数にする場合がある。導入口を
複数にすれば、処理室内のガス分布の制御が容易になり
エッチング分布の均一化に有利である。その場合は、混
合ガスを複数の導入口に分配する多分岐導入の形態にな
る。
【０００６】図３は処理室の導入口を一つにする即ち多
分岐導入しない場合の例の構成図であり、混合するガス
が２種類の場合である。図３において、１は混合ガスを
導入してドライエッチングを行う処理室、２ａ，２ｂは
混合するガスのガスソース、３ａ，３ｂはガスソース２
ａ，２ｂから個別にガスを送る配管、４ａ，４ｂは配管
３ａ，３ｂの各々に配設されたＭＦＣ、５は配管３ａ，
３ｂの末端を連結してガスを混合する混合部、６は混合
部５から処理室１の導入口に接続する配管、である。配
管２ａ，２ｂと混合部５と配管６がガス流路を構成す
る。
分岐導入しない場合の例の構成図であり、混合するガス
が２種類の場合である。図３において、１は混合ガスを
導入してドライエッチングを行う処理室、２ａ，２ｂは
混合するガスのガスソース、３ａ，３ｂはガスソース２
ａ，２ｂから個別にガスを送る配管、４ａ，４ｂは配管
３ａ，３ｂの各々に配設されたＭＦＣ、５は配管３ａ，
３ｂの末端を連結してガスを混合する混合部、６は混合
部５から処理室１の導入口に接続する配管、である。配
管２ａ，２ｂと混合部５と配管６がガス流路を構成す
る。
【０００７】ドライエッチングは、通常１Ｔｏｒｒ以下
の圧力で行うため、処理室１及び混合部５での圧力は１
Ｔｏｒｒ以下となる。一般的なＭＦＣの動作必要差圧が
約２００〜２２００Ｔｏｒｒであるため、ガスソース２
ａ，２ｂはこれを考慮した圧力でガスを供給する。
の圧力で行うため、処理室１及び混合部５での圧力は１
Ｔｏｒｒ以下となる。一般的なＭＦＣの動作必要差圧が
約２００〜２２００Ｔｏｒｒであるため、ガスソース２
ａ，２ｂはこれを考慮した圧力でガスを供給する。
【０００８】ガスソース２ａ，２ｂからのガスは、それ
ぞれＭＦＣ４ａ，４ｂにより流量を一定にされるので混
合部５において一定の混合比で混合した混合ガスとな
る。その混合ガスは、ＭＦＣ４ａ，４ｂそれぞれの流量
の和となる流量で配管６から処理室１に導入される。
ぞれＭＦＣ４ａ，４ｂにより流量を一定にされるので混
合部５において一定の混合比で混合した混合ガスとな
る。その混合ガスは、ＭＦＣ４ａ，４ｂそれぞれの流量
の和となる流量で配管６から処理室１に導入される。
【０００９】混合するガスが３種類以上の場合も上述に
準ずる。図４は処理室の導入口を複数にする即ち多分岐
導入する従来例の構成図であり、混合するガスが図３と
同様に２種類で多分岐導入の分岐数が２の場合である。
準ずる。図４は処理室の導入口を複数にする即ち多分岐
導入する従来例の構成図であり、混合するガスが図３と
同様に２種類で多分岐導入の分岐数が２の場合である。
【００１０】図４において、ガスソース２ａ，２ｂから
混合部５までの間は図３と同じであり、７ａ，７ｂは混
合部５から多分岐導入する処理室１の各導入口に分岐し
て接続する配管、８ａ，８ｂは配管７ａ，７ｂの各々に
配設されたＭＦＣ、である。配管３ａ，３ｂを合わせて
第１配管系３、配管７ａ，７ｂを合わせて第２配管系７
とする。第１配管系３と混合部５と第２配管系７がガス
流路を構成する。
混合部５までの間は図３と同じであり、７ａ，７ｂは混
合部５から多分岐導入する処理室１の各導入口に分岐し
て接続する配管、８ａ，８ｂは配管７ａ，７ｂの各々に
配設されたＭＦＣ、である。配管３ａ，３ｂを合わせて
第１配管系３、配管７ａ，７ｂを合わせて第２配管系７
とする。第１配管系３と混合部５と第２配管系７がガス
流路を構成する。
【００１１】この従来例では、第１配管系３から混合部
５で混合されてＭＦＣ４ａ，４ｂそれぞれの流量の和と
なる流量の混合ガスが、第２配管系７でＭＦＣ８ａ，８
ｂそれぞれの流量に分配されて配管７ａ，７ｂから処理
室１に多分岐導入される。ＭＦＣ８ａ，８ｂそれぞれの
流量の和、即ち第２配管系７の総流量は、ＭＦＣ４ａ，
４ｂそれぞれの流量の和、即ち第１配管系２の総流量に
一致させる。
５で混合されてＭＦＣ４ａ，４ｂそれぞれの流量の和と
なる流量の混合ガスが、第２配管系７でＭＦＣ８ａ，８
ｂそれぞれの流量に分配されて配管７ａ，７ｂから処理
室１に多分岐導入される。ＭＦＣ８ａ，８ｂそれぞれの
流量の和、即ち第２配管系７の総流量は、ＭＦＣ４ａ，
４ｂそれぞれの流量の和、即ち第１配管系２の総流量に
一致させる。
【００１２】混合するガスが３種類以上及び／または多
分岐導入の分岐数が３以上の場合も上述に準ずる。
分岐導入の分岐数が３以上の場合も上述に準ずる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来例では、ガスの導入を開始した時に混合部５におけ
る混合ガスの圧力が下がっており、ＭＦＣ８ａ，８ｂを
動作させるのに必要な差圧約２００〜２２００Ｔｏｒｒ
が保証されない。混合部５の下がっている圧力は、時間
の経過と共に上昇してくるが、ＭＦＣ８ａ，８ｂの動作
が正常になるまで上昇するのに５〜１０分程度以上の時
間を要する。つまり、その間は、第２配管系７で各分岐
に対する流量分配が安定しない状態となり、所望の流量
制御ができない問題がある。
従来例では、ガスの導入を開始した時に混合部５におけ
る混合ガスの圧力が下がっており、ＭＦＣ８ａ，８ｂを
動作させるのに必要な差圧約２００〜２２００Ｔｏｒｒ
が保証されない。混合部５の下がっている圧力は、時間
の経過と共に上昇してくるが、ＭＦＣ８ａ，８ｂの動作
が正常になるまで上昇するのに５〜１０分程度以上の時
間を要する。つまり、その間は、第２配管系７で各分岐
に対する流量分配が安定しない状態となり、所望の流量
制御ができない問題がある。
【００１４】また、ＭＦＣ４ａ，４ｂ，８ａ，８ｂの流
量設定は人為的に行うものであることから、第１配管系
３の総流量と第２配管系７の総流量との間にずれが生じ
易い。前者が大きいと第１配管系３のＭＦＣ４ａ，４ｂ
に掛かる差圧が小さくなってガスの混合比が乱れる場合
があり、後者が大きいと第２配管系７のＭＦＣ８ａ，８
ｂに掛かる差圧が所要に達し得ないで各分岐に対する流
量分配が何時までも安定しない場合がある、という問題
もある。
量設定は人為的に行うものであることから、第１配管系
３の総流量と第２配管系７の総流量との間にずれが生じ
易い。前者が大きいと第１配管系３のＭＦＣ４ａ，４ｂ
に掛かる差圧が小さくなってガスの混合比が乱れる場合
があり、後者が大きいと第２配管系７のＭＦＣ８ａ，８
ｂに掛かる差圧が所要に達し得ないで各分岐に対する流
量分配が何時までも安定しない場合がある、という問題
もある。
【００１５】そこで本発明は、複数のガスを混合しその
混合ガスを真空処理装置の処理室へ多分岐導入するため
のガス流量制御装置に関し、処理室に混合ガスを導入し
た時に、ガスの混合比が一定し且つ各分岐に対する流量
分配が逸早く安定するようにさせることを目的とする。
混合ガスを真空処理装置の処理室へ多分岐導入するため
のガス流量制御装置に関し、処理室に混合ガスを導入し
た時に、ガスの混合比が一定し且つ各分岐に対する流量
分配が逸早く安定するようにさせることを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によるガス流量制御装置は、複数のガスを混
合しその混合ガスを真空処理装置の処理室へ多分岐導入
するためのガス流量制御装置であって、前記複数のガス
の各ガスソースから個別にガスを送る複数の配管、該複
数の配管の各々に配設されたＭＦＣ、を有する第１配管
系と、該第１配管系の該複数配管の末端を連結してガス
を混合する混合部と、該混合部から前記多分岐導入する
処理室の各導入口に分岐して接続する配管、該分岐した
配管の一つに配設されて上手の圧力を所定値にする自動
圧力コントローラ（ＡＰＣ）、該一つの配管を除く残り
の配管の各々に配設されたＭＦＣ、を有する第２配管系
と、によりガス流路を構成し、該ＡＰＣを動作させた後
に該第２配管系のＭＦＣを動作させる制御を行う動作遅
延回路を備えることを特徴としている。
に、本発明によるガス流量制御装置は、複数のガスを混
合しその混合ガスを真空処理装置の処理室へ多分岐導入
するためのガス流量制御装置であって、前記複数のガス
の各ガスソースから個別にガスを送る複数の配管、該複
数の配管の各々に配設されたＭＦＣ、を有する第１配管
系と、該第１配管系の該複数配管の末端を連結してガス
を混合する混合部と、該混合部から前記多分岐導入する
処理室の各導入口に分岐して接続する配管、該分岐した
配管の一つに配設されて上手の圧力を所定値にする自動
圧力コントローラ（ＡＰＣ）、該一つの配管を除く残り
の配管の各々に配設されたＭＦＣ、を有する第２配管系
と、によりガス流路を構成し、該ＡＰＣを動作させた後
に該第２配管系のＭＦＣを動作させる制御を行う動作遅
延回路を備えることを特徴としている。
【００１７】
【作用】ガスソースから第１配管系を経た混合部まで
は、従来例のガスソース２ａ，２ｂから混合部５までと
同様である。第２配管系は、従来例の配管７ａ，７ｂの
部分に該当すが、従来例のＭＦＣの一つがＡＰＣに変わ
って総流量を規制しなくなっている。これにより、第１
配管系のＭＦＣは所要の差圧が保証されるので、本ガス
流量制御装置はガスの混合比が一定する。
は、従来例のガスソース２ａ，２ｂから混合部５までと
同様である。第２配管系は、従来例の配管７ａ，７ｂの
部分に該当すが、従来例のＭＦＣの一つがＡＰＣに変わ
って総流量を規制しなくなっている。これにより、第１
配管系のＭＦＣは所要の差圧が保証されるので、本ガス
流量制御装置はガスの混合比が一定する。
【００１８】また、第２配管系では、動作遅延回路の制
御によりＭＦＣの動作に先立ちＡＰＣを動作させるの
で、混合部の圧力は速やかに上昇してＭＦＣに所要差圧
を与える高さに逸早く達する。これにより、各分岐に対
する流量分配が逸早く安定する。
御によりＭＦＣの動作に先立ちＡＰＣを動作させるの
で、混合部の圧力は速やかに上昇してＭＦＣに所要差圧
を与える高さに逸早く達する。これにより、各分岐に対
する流量分配が逸早く安定する。
【００１９】
【実施例】以下本発明の実施例について図１及び図２を
用いて説明する。図１は実施例の構成図、図２は動作遅
延回路による制御のタイムチャート、であり、全図を通
し同一符号は同一対象物を示す。
用いて説明する。図１は実施例の構成図、図２は動作遅
延回路による制御のタイムチャート、であり、全図を通
し同一符号は同一対象物を示す。
【００２０】図１において、この実施例は、図４の従来
例に本発明を適用したものであり、従来例の第２配管系
７のＭＦＣ８ａをＡＰＣ９に変えて、動作遅延回路１０
を設けてある。
例に本発明を適用したものであり、従来例の第２配管系
７のＭＦＣ８ａをＡＰＣ９に変えて、動作遅延回路１０
を設けてある。
【００２１】ガスソース２ａ，２ｂはガス供給圧を約２
０００Ｔｏｒｒに設定してある。この圧力は第１配管系
３のＭＦＣ４ａ，４ｂを適正に動作させる範囲にあるの
で、混合部５における混合ガスは、ガスの導入開始時点
から逸早く所望の混合比となりその混合比を一定に保
つ。
０００Ｔｏｒｒに設定してある。この圧力は第１配管系
３のＭＦＣ４ａ，４ｂを適正に動作させる範囲にあるの
で、混合部５における混合ガスは、ガスの導入開始時点
から逸早く所望の混合比となりその混合比を一定に保
つ。
【００２２】ＡＰＣ９は、排気系などに用いられるＡＰ
Ｃと同様に下手より高い上手の圧力を設定した一定値に
保つ機能を有するものであり、約１０００Ｔｏｒｒに設
定してある。動作遅延回路１０は、ＡＰＣ９を動作させ
た後にＭＦＣ８ｂを動作させる制御を行う機能を有して
おり、ガスの導入開始時点にＡＰＣ９を動作させる。混
合部５の圧力は、ＡＰＣ９の動作により速やかに上昇し
て逸早く約１０００Ｔｏｒｒに達して一定となる。これ
により、第１配管系３のＭＦＣ４ａ，４ｂに掛かる差圧
が約１０００Ｔｏｒｒに下がるが、その差圧はＭＦＣ４
ａ，４ｂを適正に動作させる範囲を保持している。
Ｃと同様に下手より高い上手の圧力を設定した一定値に
保つ機能を有するものであり、約１０００Ｔｏｒｒに設
定してある。動作遅延回路１０は、ＡＰＣ９を動作させ
た後にＭＦＣ８ｂを動作させる制御を行う機能を有して
おり、ガスの導入開始時点にＡＰＣ９を動作させる。混
合部５の圧力は、ＡＰＣ９の動作により速やかに上昇し
て逸早く約１０００Ｔｏｒｒに達して一定となる。これ
により、第１配管系３のＭＦＣ４ａ，４ｂに掛かる差圧
が約１０００Ｔｏｒｒに下がるが、その差圧はＭＦＣ４
ａ，４ｂを適正に動作させる範囲を保持している。
【００２３】動作遅延回路１０の制御によるＭＦＣ８ｂ
の動作開始は、図２のタイムチャートに示すように、Ａ
ＰＣ９の上手の圧力が約１０００Ｔｏｒｒに達したとこ
ろで行う。ＡＰＣ９の動作からＭＦＣ８ａの動作までの
時間は５〜１０秒程度である。ＭＦＣ８ｂは、動作開始
までに所要の差圧が掛けられているので、混合部５から
配管７ｂに流れる混合ガスを逸早く所定の流量に制御す
る。第１配管系３の総流量を処理室１に導入する混合ガ
スの総流量に合わせてあるので、混合部５から配管７ａ
に流れる混合ガスも逸早く所定の流量となる。これによ
り、第２配管系７の各分岐である配管７ａ，７ｂに対す
る流量分配が長くとも０．５分以下の時間で安定する。
この時間は、従来例の場合の５〜１０分程度以上と比較
すると１／１０以下に短縮されている。
の動作開始は、図２のタイムチャートに示すように、Ａ
ＰＣ９の上手の圧力が約１０００Ｔｏｒｒに達したとこ
ろで行う。ＡＰＣ９の動作からＭＦＣ８ａの動作までの
時間は５〜１０秒程度である。ＭＦＣ８ｂは、動作開始
までに所要の差圧が掛けられているので、混合部５から
配管７ｂに流れる混合ガスを逸早く所定の流量に制御す
る。第１配管系３の総流量を処理室１に導入する混合ガ
スの総流量に合わせてあるので、混合部５から配管７ａ
に流れる混合ガスも逸早く所定の流量となる。これによ
り、第２配管系７の各分岐である配管７ａ，７ｂに対す
る流量分配が長くとも０．５分以下の時間で安定する。
この時間は、従来例の場合の５〜１０分程度以上と比較
すると１／１０以下に短縮されている。
【００２４】ＭＦＣ８ｂの動作開始時点は、ＡＰＣ９の
上手の圧力が２００Ｔｏｒｒ以上に達したところまで前
進させても良い。上記時間短縮を更に向上させることが
できる。また、ＡＰＣ９の動作開始の後、適宜な時間差
を見計らってＭＦＣ８ｂを動作させても良い。
上手の圧力が２００Ｔｏｒｒ以上に達したところまで前
進させても良い。上記時間短縮を更に向上させることが
できる。また、ＡＰＣ９の動作開始の後、適宜な時間差
を見計らってＭＦＣ８ｂを動作させても良い。
【００２５】上述は混合ガスが２種類で多分岐導入の分
岐数が２の場合であるが、混合するガスを３種類以上に
する際は、第１配管系３に配管３ａ，３ｂと並列する配
管を付加し、その配管のそれぞれにＭＦＣ４ａ，４ｂと
同様なＭＦＣを配設すれば良く、多分岐導入の分岐数を
３以上にする際は、第２配管系７に配管７ａ，７ｂと並
列する付加し、その配管のそれぞれにＭＦＣ８ｂと同様
なＭＦＣを配設すれば良い。これにより、混合ガスの種
類数と多分岐の分岐数を任意にしても、ガスの混合比が
一定し且つ各分岐に対する流量分配が逸早く安定するよ
うにさせることができる。
岐数が２の場合であるが、混合するガスを３種類以上に
する際は、第１配管系３に配管３ａ，３ｂと並列する配
管を付加し、その配管のそれぞれにＭＦＣ４ａ，４ｂと
同様なＭＦＣを配設すれば良く、多分岐導入の分岐数を
３以上にする際は、第２配管系７に配管７ａ，７ｂと並
列する付加し、その配管のそれぞれにＭＦＣ８ｂと同様
なＭＦＣを配設すれば良い。これにより、混合ガスの種
類数と多分岐の分岐数を任意にしても、ガスの混合比が
一定し且つ各分岐に対する流量分配が逸早く安定するよ
うにさせることができる。
【００２６】以上の説明は真空処理装置がドライエッチ
ング装置である場合を例にとって述べてあるが、その真
空処理装置がドライエッチング装置に限定されないこと
は上述の説明から明らかである。また、ガスソース２
ａ，２ｂのガス供給圧とＡＰＣ９の設定圧力は、ＭＦＣ
４ａ，４ｂ，８ｂの動作必要差圧を勘案して定めれば良
く、先に述べた値に限定されるものではない。
ング装置である場合を例にとって述べてあるが、その真
空処理装置がドライエッチング装置に限定されないこと
は上述の説明から明らかである。また、ガスソース２
ａ，２ｂのガス供給圧とＡＰＣ９の設定圧力は、ＭＦＣ
４ａ，４ｂ，８ｂの動作必要差圧を勘案して定めれば良
く、先に述べた値に限定されるものではない。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、複
数のガスを混合しその混合ガスを真空処理装置の処理室
へ多分岐導入するためのガス流量制御装置に関し、処理
室に混合ガスを導入した時に、ガスの混合比が一定し且
つ各分岐に対する流量分配が逸早く安定するようにさせ
ることができて、当該真空処理装置の性能向上を可能に
させる効果がある。
数のガスを混合しその混合ガスを真空処理装置の処理室
へ多分岐導入するためのガス流量制御装置に関し、処理
室に混合ガスを導入した時に、ガスの混合比が一定し且
つ各分岐に対する流量分配が逸早く安定するようにさせ
ることができて、当該真空処理装置の性能向上を可能に
させる効果がある。
【図１】 実施例の構成図
【図２】 動作遅延回路による制御のタイムチャート
【図３】 多分岐導入しない場合の例の構成図
【図４】 多分岐導入する従来例の構成図
１ 処理室 ２ａ，２ｂ ガスソース ３ 第１配管系 ３ａ，３ｂ 配管 ４ａ，４ｂ ＭＦＣ（マスフローコントローラ） ５ 混合部 ６ 配管 ７ 第２配管系 ７ａ，７ｂ 配管 ８ａ，８ｂ ＭＦＣ（マスフローコントローラ） ９ ＡＰＣ（自動圧力コントローラ） １０ 動作遅延回路
Claims (1)
- 【請求項１】 複数のガスを混合しその混合ガスを真空
処理装置の処理室へ多分岐導入するためのガス流量制御
装置であって、 前記複数のガスの各ガスソースから個別にガスを送る複
数の配管、該複数の配管の各々に配設され該ガスの流量
の制御を行うマスフローコントローラ、を有する第１配
管系と、 該第１配管系の該複数配管の末端を連結してガスを混合
する混合部と、 該混合部から前記多分岐導入する処理室の各導入口に分
岐して接続する配管、該分岐した配管の一つに配設され
て上手の圧力を所定値にする自動圧力コントローラ、該
一つの配管を除く残りの配管の各々に配設され流量の制
御を行うマスフローコントローラ、を有する第２配管系
と、によりガス流路を構成し、 該自動圧力コントローラを動作させた後に該第２配管系
のマスフローコントローラを動作させる制御を行う動作
遅延回路を備えることを特徴とするガス流量制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11786592A JPH05315290A (ja) | 1992-05-12 | 1992-05-12 | ガス流量制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11786592A JPH05315290A (ja) | 1992-05-12 | 1992-05-12 | ガス流量制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05315290A true JPH05315290A (ja) | 1993-11-26 |
Family
ID=14722209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11786592A Withdrawn JPH05315290A (ja) | 1992-05-12 | 1992-05-12 | ガス流量制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05315290A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1992
- 1992-05-12 JP JP11786592A patent/JPH05315290A/ja not_active Withdrawn
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