JPH10312968A

JPH10312968A - 排気切換方法及び排気切換装置

Info

Publication number: JPH10312968A
Application number: JP12183997A
Authority: JP
Inventors: Keita Suzuki; 啓太鈴木
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-05-13
Filing date: 1997-05-13
Publication date: 1998-11-24

Abstract

(57)【要約】【課題】排気されるガスをガス種に応じて特定の排気
経路へ切り換える場合の排気切換のタイミングを適切に
行う。【解決手段】第１の排気経路７の入口側に成膜ガスに
対応した第１のガス検出センサ１６を設けると共に、第
２の排気経路９の入口側にクリーニングガスに対応した
第２のガス検出センサ１７を設け、各センサ１６、１７
から検出信号をコントローラ１５に出力して、コントロ
ーラ１５によって第１のパージガス供給用バルブ１３あ
るいは第２のパージガス供給用バルブ１４の作動を制御
して、第１の排気切換弁８あるいは第２の排気経路１０
の作動を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、排気切換方法、特
にポンプから排気されるガスをこれに含まれるガス種に
対応した特定の排気経路へ切り換えて排気する排気切換
方法と、その実施に用いる排気切換装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＬＳＩで代表される半導体装置を製造す
るには、単結晶半導体材料を加工して得られた半導体ウ
エハを出発材料として用いて、各種のプロセス工程に順
次に流して所望のプロセス処理を施すことが行われる。
このようなプロセス処理を施すためのプロセス装置の代
表的なものとして、半導体ウエハの表面に絶縁膜や導電
膜からなる各種薄膜を形成するＣＶＤ装置、あるいはそ
れら薄膜や半導体ウエハを選択的に除去するドライエッ
チング装置等が知られている。

【０００３】このようなＣＶＤ装置やドライエッチング
装置等においては、半導体ウエハをプロセス処理する原
料としていずれもガスを使用する関係上、チャンバと称
される真空装置を用いて、このチャンバ内に半導体ウエ
ハをセットした状態で処理用ガスを導入することが行わ
れる。このような目的で使用される処理用ガスの例とし
ては、例えばＳｉＨ₄ 、ＷＦ₆ 、ＮＦ₃ 、ＳＦ₆ ＋Ｏ₂
等が挙げられる。これらはいずれも取扱上危険なガスで
ある。

【０００４】近年、環境ＩＳＯ（ＩＳＯ１４００１等）
や高圧ガス取締法の改定により、使用済のガスの処理方
法、つまり除害方法の重要性が問われている。このた
め、半導体装置の製造において、例えば、ＳｉＨ₄ を成
膜ガス（デポガス）、ＳＦ₆ ＋Ｏ₂ をクリーニングガス
として使用する場合に例を採ると、チャンバで使用済み
のそれらのガスは真空ポンプに排気された後、真空ポン
プによって各々専用に設けられた成膜ガス用除害装置、
あるいはクリーニングガス用除害装置へ排気されること
が行われている。これによって、使用済みのガスに含ま
れるガス種であるＳｉＨ₄ あるいはＳＦ₆ ＋Ｏ₂ は、各
々成膜ガス用除去装置あるいはクリーニングガス用除去
装置によって除害されるので、環境に対処することがで
きる。この場合、真空ポンプから排気されるガスは、排
気切換制御が行われてガス種に応じていずれかの除去装
置へ振り分けられる。

【０００５】図３はこのような目的で用いられる排気切
換装置の従来の構成を示すものである。１は成膜時に成
膜ガス（例えばＳｉＨ₄ ）を流す第１のマスフローコン
トローラ（ＭＦＣ１）、２はクリーニング時にクリーニ
ングガス（例えばＳＦ₆ ＋Ｏ₂ ）を流す第２のマスフロ
ーコントローラ（ＭＦＣ２）、３はＭＦＣ１（１）ある
いはＭＦＣ２（２）からガスを流入して成膜処理あるい
はクリーニング処理を行うチャンバ（真空装置）、４は
チャンバ３から流出されるガスの開閉を行うバルブ、５
はチャンバ３の作動時にこのチャンバ３内の真空度を一
定に制御するオートプレッシャーコントローラ（ＡＰ
Ｃ）、６はチャンバ３から使用済みのガスをバルブ４及
びＡＰＣ５を通じて排気するドライポンプ（真空ポン
プ）で、このドライポンプ６はそれらのガスをこれに含
まれるガス種に対応した設けられた複数の排気経路のう
ち、特定の排気経路に排気するように働く。

【０００６】７は例えば成膜ガスに対応して設けられた
第１の排気経路で、この第１の排気経路７の入口側には
第１の排気切換弁８が設けられている。この第１の排気
切換弁８は通常で開放している（ノーマリオン）タイプ
が用いられている。９は例えばクリーニングガスに対応
して設けられた第２の排気経路で、この第２の排気経路
９の入口側には第２の排気切換弁１０が設けられてい
る。この第２の排気切換弁１０は通常で閉じている（ノ
ーマリオフ）タイプが用いられている。また、第１の排
気経路７の出口側には第１の除害装置１１が設けられ、
第２の排気経路９の出口側には第２の除害装置１２が設
けられている。

【０００７】１３は第１の排気経路７の入口側に設けら
れた第１のパージガス供給用バルブで、この第１のパー
ジガス供給用バルブ１３は、図示しないパージガス供給
源とともに第１のパージガス供給手段を構成している。
１４は第２の排気経路９の入口側に設けられた第２のパ
ージガス供給用バルブで、この第２のパージガス供給用
バルブ１４は、図示しないパージガス供給源と共に第２
のパージガス供給手段を構成している。１５はコントロ
ーラで、このコントローラ１５は、ＭＦＣ１（１）ある
いはＭＦＣ２（２）から作動信号を入力して、第１及び
第２の排気切換弁８、１０の作動を連動して制御すると
共に、第１及び第２のパージガス供給用バルブ１３、１
４の作動を制御する。

【０００８】以上のような構成において、まず、成膜時
には、ドライポンプ６が稼働している状態で、成膜ガス
（例えばＳｉＨ₄ ）がＭＦＣ１（１）を通じてチャンバ
３内に流入して所望の成膜処理が行われる。このとき、
コントローラ１５にはＭＦＣ１（１）から作動信号が入
力されることにより、コントローラ１５は第１のパージ
ガス供給用バルブ１３を開放するように制御する。ま
た、第１の排気切換弁８は開放（ノーマリオン）してい
るとともに、第２の排気切換弁１０は閉（ノーマリオ
フ）じている。

【０００９】次に、使用済みの成膜ガスはバルブ４及び
ＡＰＣ５を通じてドライポンプ６に排気され、ドライポ
ンプ６は開放している第１の排気切換弁８を通じて成膜
ガスを第１の排気通路７に排気する。この成膜ガスは同
時に、開放している第１のパージガス供給用バルブ１３
を通じて供給されたパージガスによって希釈されて、第
１の除害装置１１に排気される。これによって、第１の
排気切換弁８から第１の除害装置１１に至る第１の排気
経路７内の成膜ガスに含まれるガス種は、第１の除害装
置１１によって除去されて外部にブロワー排気される。
成膜ガスの流れが終了すると、コントローラ１５はＭＦ
Ｃ１（１）からの作動信号に基づいて、第１のパージガ
ス供給用バルブ１３を閉じるように制御する。

【００１０】続いて、クリーニング時には、ドライポン
プ６が稼働している状態で、クリーニングガス（例えば
ＳＦ₆ ＋Ｏ₂ ）がＭＦＣを通じてチャンバ３内に流入し
て所望のクリーニング処理が行われる。このとき、コン
トローラ１５にはＭＦＣから作動信号が入力されること
により、コントローラ１５は第２のパージガス供給用バ
ルブ１４を開放するように制御し、また、第２の排気切
換弁１０を開放するとともに、これに連動して第１の排
気切換弁８を閉じるように制御する。

【００１１】次に、使用済みのクリーニングガスはバル
ブ４及びＡＰＣ５を通じてドライポンプ６に排気され、
ドライポンプ６は開放している第２の排気切換弁１０を
通じてクリーニングガスを第２の排気通路９に排気す
る。このクリーニングガスは同時に、開放している第２
のパージガス供給用バルブ１４を通じて供給されたパー
ジガスによって希釈されて、第２の除害装置１２に排気
される。これによって、第２の排気切換弁１０から第２
の除害装置１２に至る第２の排気経路９内のクリーニン
グガスに含まれるガス種は、第２の除害装置１２によっ
て除去されて外部にブロワー排気される。クリーニング
ガスの流れが終了すると、コントローラ１５はＭＦＣか
らの作動信号に基づいて、第２のパージガス供給用バル
ブ１４を閉じるように制御し、同時に第２の排気切換弁
１０を閉じるとともに、これに連動して第１の排気切換
弁８を開放するように制御する。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の排気
切換装置では、排気されるガスをガス種に応じて特定の
排気経路へ切り換える場合、排気切換のタイミングが適
切にできないという問題があった。

【００１３】このため、例えばクリーニングガスの流れ
が終了した後に、成膜ガスを流したとすると、排気経路
内に両ガスが混在する状態が避けられなくなり、特にチ
ャンバ３からドライポンプ６に至る排気経路内において
混在し易くなる。具体例としてＣＶＤ装置によって薄膜
を形成する場合に、成膜ガスとしてＳｉＨ₄ を用いると
共にクリーニングガスとしてＳＦ₆ ＋Ｏ₂ を用いるとす
ると（この組合せ例が最も多いパターンである）、この
ような組合せで前記排気経路において両ガスが混在する
と、ＳｉＨ₄ とＯ₂ による危険な可燃反応が発生するお
それがあるというケースを挙げることができる。

【００１４】そのようなガスの混在を防止するために、
コントローラ１５にタイマを設定して排気切換のタイミ
ングを適切に調整する方法が考えられている。しかし、
この方法は経験的な勘に依存するという不確定要素があ
るので、確実性に欠けるという欠点があり、加えてタイ
マ設定による時間が生産性を下げる原因となる。また、
排気切換のタイミングにマージンを設けることも考えら
れているが、その分パージガスを多く消費することにな
るので、無駄が生ずることになる。

【００１５】本発明はこのような問題点を解決すべくな
されたものであり、排気されるガスをガス種に応じて特
定の排気経路へ切り換える場合、排気切換のタイミング
を適切に行うことを目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明排気切換方法は、
排気されるガスに含まれるガス種に対応した複数の排気
経路を設け、排気ガスをガス種に応じた特定の排気経路
へ切り換えて排気する排気切換方法であって、複数の排
気経路の入口側において各々排気されるガスに含まれる
ガス種を検出し、この検出結果に応じた排気経路への切
り換えを行うことを特徴とする。

【００１７】従って、本発明排気切換方法によれば、複
数の排気経路の入口側において各々排気されるガスに含
まれるガス種を検出し、この検出結果に応じた排気経路
への切り換えを行うので、排気されるガスをガス種に応
じた排気経路へ切り換える場合、排気切換のタイミング
を適切に行うことができる。

【００１８】本発明排気切換装置は、使用済みのガスを
排気するポンプと、このポンプからの排気ガスに含まれ
るガス種に対応して設けられた複数の排気経路と、各排
気経路の入口側に設けられた排気切換弁とを備えた排気
切換装置であって、複数の排気経路の入口側に各々設け
られて対応したガス種を検出するガス検出センサと、こ
のガス検出センサからの検出信号を入力して対応した特
定の排気切換弁の作動を制御するコントローラとを備え
たことを特徴とする。

【００１９】従って、本発明排気切換装置によれば、複
数の排気経路の入口側に各々設けられて対応したガス種
を検出するガス検出センサと、このガス検出センサから
の検出信号を入力して対応した特定の排気切換弁の作動
を制御するコントローラとを備えたので、排気されるガ
スをガス種に対応した排気経路へ切り換える場合、排気
切換のタイミングを適切に行うことができる。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明におけるガス検出センサ
は、複数の排気経路の入口側に各々設けられて、各排気
経路内を流れるガスに含まれるガス種を検出して、これ
による検出信号をコントローラへ出力する。コントロー
ラは、検出信号に基づいて、検出されたガス種のガス含
有量を予め記憶されたガス含有量と比較する。この結
果、検出ガス含有量が記憶ガス含有量に達すると、その
ガス種に対応した排気切換弁の作動を制御する。これに
より、排気切換のタイミングが適切に行われ得る。

【００２１】

【実施例】以下、本発明を図示実施の実施例に従って詳
細に説明する。

【００２２】図１は本発明排気切換方法の実施に用いら
れる排気切換装置の実施例を示す構成図である。同図に
おいて、１は成膜時に成膜ガス（例えばＳｉＨ₄ ）を流
す第１のマスフローコントローラ（ＭＦＣ１）、２はク
リーニング時にクリーニングガス（例えばＳＦ₆ ＋Ｏ
₂ ）を流す第２のマスフローコントローラ（ＭＦＣ
２）、３はＭＦＣ１（１）あるいはＭＦＣ２（２）から
ガスを流入して成膜処理あるいはクリーニング処理を行
うチャンバ（真空装置）、４はチャンバ３から流出され
るガスの開閉を行うバルブ、５はチャンバ３の作動時に
このチャンバ３内の真空度を一定に制御するオートプレ
ッシャーコントローラ（ＡＰＣ）、６はチャンバ３から
使用済みのガスをバルブ４及びＡＰＣ５を通じて排気す
るドライポンプ（真空ポンプ）で、このドライポンプ６
はそれらのガスをこれに含まれるガス種に対応した設け
られた複数の排気経路のうち、特定の排気経路に排気す
るように働く。

【００２３】７は例えば成膜ガスに対応して設けられた
第１の排気経路で、この第１の排気経路７の入口側には
第１の排気切換弁８が設けられている。この第１の排気
切換弁８は通常で開放している（ノーマリオン）タイプ
が用いられている。９は例えばクリーニングガスに対応
して設けられた第２の排気経路で、この第２の排気経路
９の入口側には第２の排気切換弁１０が設けられてい
る。この第２の排気切換弁１０は通常で閉じている（ノ
ーマリオフ）タイプが用いられている。また、第１の排
気経路７の出口側には第１の除害装置１１が設けられ、
第２の排気経路９の出口側には第２の除害装置１２が設
けられている。

【００２４】１３は第１の排気経路７の入口側に設けら
れた第１のパージガス供給用バルブで、この第１のパー
ジガス供給用バルブ１３は、図示しないパージガス供給
源とともに第１のパージガス供給手段を構成している。
１４は第２の排気経路９の入口側に設けられた第２のパ
ージガス供給用バルブで、この第２のパージガス供給用
バルブ１４は、図示しないパージガス供給源と共に第２
のパージガス供給手段を構成している。

【００２５】１６は例えば成膜ガスに対応して設けられ
た第１のガス検出センサで、この第１のガス検出センサ
１６は第１の排気経路７の入口側の第１の排気切換弁８
の後方に設けられている。１７は例えばクリーニングガ
スに対応して設けられた第２のガス検出センサで、この
第２のガス検出センサ１７は第２の排気経路９の入口側
の第２の排気切換弁１０の後方に設けられている。第１
のガス検出センサ１６は、第１の排気経路７に排気され
た成膜ガスに含まれるガス種を検出して、検出信号をコ
ントローラ１５へ出力する。第２のガス検出センサ１７
は、第２の排気経路９へ排気されたクリーニングガスに
含まれるガス種を検出して、検出信号をコントローラ１
５へ出力する。

【００２６】コントローラ１５は、ＭＦＣ１（１）ある
いはＭＦＣ２（２）から作動信号を入力して、第１及び
第２の排気切換弁８、１０の作動を連動して制御すると
共に、第１及び第２のパージガス供給用バルブ１３、１
４の作動を制御する。また、コントローラ１５は、第１
のガス検出センサ１６あるいは第２のガス検出センサ１
７から検出信号を入力して、検出信号に基づいて、図２
に示すように検出されたガス種のガス含有量Ｑを予め記
憶されたガス含有量（任意値）Ｑ０と比較する。そし
て、コントローラ１５は、検出ガス含有量Ｑが記憶ガス
含有量Ｑ０に達すると、第１のパージガス供給用バルブ
１３あるいは第２のパージガス供給用バルブ１４の作動
を制御するように働く。さらに、クリーニングガスの流
れが終了したときは第１の排気切換弁８を開放するとと
もに、これに連動して第２の排気切換弁１０を閉じるよ
うに制御する。通常、予め記憶されるガス含有量は検出
量が０の状態に設定される。コントローラ１５は、検出
信号を増幅するアンプ、全体の制御動作を司る中央演算
処理装置（ＣＰＵ）、電源回路及び通信回路等によって
構成されている。

【００２７】次に本実施例の排気切換装置の動作を説明
する。まず、成膜時には、ドライポンプ６が稼働してい
る状態で、成膜ガス（例えばＳｉＨ₄ ）がＭＦＣ１
（１）を通じてチャンバ３内に流入して所望の成膜処理
が行われる。このとき、コントローラ１５にはＭＦＣ１
（１）から作動信号が入力されることにより、コントロ
ーラ１５は第１のパージガス供給用バルブ１３を開放す
るように制御する。また、第１の排気切換弁８は開放
（ノーマリオン）していると共に、第２の排気切換弁１
０は閉（ノーマリオフ）じている。

【００２８】次に、使用済みの成膜ガスはバルブ４及び
ＡＰＣ５を通じてドライポンプ６に排気され、ドライポ
ンプ６は開放している第１の排気切換弁８を通じて成膜
ガスを第１の排気通路７に排気する。この成膜ガスは同
時に、開放している第１のパージガス供給用バルブ１３
を通じて供給されたパージガスによって希釈されて、第
１の除害装置１１に排気される。これによって、第１の
排気切換弁８から第１の除害装置１１に至る第１の排気
経路７内の成膜ガスに含まれるガス種は、第１の除害装
置１１によって除去されて外部にブロワー排気される。

【００２９】第１のガス検出センサ１６は、第１の排気
経路７を流れる成膜ガスに含まれるガス種を検出してい
て、この検出信号をコントローラ１５へ出力する。成膜
ガスの流れが終了すると、コントローラ１５は、検出信
号に基づいて、図２に示すように検出されたガス種のガ
ス含有量Ｑを予め記憶されたガス含有量（任意値）Ｑ０
と比較する。そして、検出ガス含有量が記憶ガス含有量
Ｑ０（通常検出量０）に達すると、第１のパージガス供
給用バルブ１３を閉じるように制御する。

【００３０】すなわち、本実施例排気切換装置において
は、コントローラ１５は成膜ガスの流れが終了しても、
従来のように直ちに第１のパージガス供給用バルブ１３
を閉じることなく、第１のガス検出センサ１６からの検
出信号を監視していて、第１の排気経路７内に成膜ガス
のガス種が存在していないことを確実に確かめた上で、
第１のパージガス供給バルブ１３を閉じるように制御す
る。

【００３１】続いて、クリーニング時には、ドライポン
プ６が稼働している状態で、クリーニングガス（例えば
ＳＦ₆ ＋Ｏ₂ ）がＭＦＣ２（２）を通じてチャンバ３内
に流入して所望のクリーニング処理が行われる。このと
き、コントローラ１５にはＭＦＣ２（２）から作動信号
が入力されることにより、コントローラ１５は第２のパ
ージガス供給用バルブ１４を開放するように制御し、ま
た、第２の排気切換弁１０を開放すると共に、これと連
動して第１の排気切換弁８を閉じるように制御する。

【００３２】次に、使用済みのクリーニングガスはバル
ブ４及びＡＰＣ５を通じてドライポンプ６に排気され、
ドライポンプ６は開放している第２の排気切換弁１０を
通じてクリーニングガスを第２の排気通路９に排気す
る。このクリーニングガスは同時に、開放している第２
のパージガス供給用バルブ１４を通じて供給されたパー
ジガスによって希釈されて、第２の除害装置１２に排気
される。これによって、第２の排気切換弁１０から第２
の除害装置１２に至る第２の排気経路９内のクリーニン
グガスに含まれるガス種は、第２の除害装置１２によっ
て除去されて外部にブロワー排気される。

【００３３】第２のガス検出センサ１７は、第２の排気
経路９を流れるクリーニングガスに含まれるガス種を検
出していて、この検出信号をコントローラ１５へ出力す
る。クリーニングガスの流れが終了すると、コントロー
ラ１５は、検出信号に基づいて、図２に示すように検出
されたガス種のガス含有量Ｑを予め記憶されたガス含有
量（任意値）Ｑ０と比較する。そして、検出ガス含有量
が記憶ガス含有量Ｑ０（通常検出量０）に達すると、第
２のパージガス供給用バルブ１４を閉じるように制御す
る。同時に、第１の排気切換弁８を開放するように制御
すると共に、第２の排気切換弁１０を閉じるように制御
する。

【００３４】即ち、本実施例排気切換装置においては、
コントローラ１５はクリーニングガスの流れが終了して
も、従来のように直ちに第２のパージガス供給用バルブ
１４を閉じることなく、第２のガス検出センサ１７から
の検出信号を監視していて、第２の排気経路９内にクリ
ーニングガスのガス種が存在していないことを確実に確
かめた上で、第２のパージガス供給バルブ１４を閉じる
ように制御する。

【００３５】このような本実施例排気切換装置によれ
ば、第１の排気経路７の入口側に成膜ガスに対応した第
１のガス検出センサ１６を設けると共に、第２の排気経
路９の入口側にクリーニングガスに対応した第２のガス
検出センサ１７を設け、各センサ１６、１７から検出信
号をコントローラ１５に出力して、コントローラ１５に
よって第１のパージガス供給用バルブ１３あるいは第２
のパージガス供給用バルブ１４の作動を制御して、第１
の排気切換弁８あるいは第２の排気経路１０の作動を制
御するようにしたので、排気されるガスをガス種に応じ
て特定の排気経路へ切り換える場合、排気切換のタイミ
ングを適切に行うことができる。

【００３６】具体的には、次のような効果を得ることが
できる。

【００３７】（１）第１のガス検出センサ１６あるいは
第２のガス検出センサ１７の検出結果に基づいて、第１
の排気切換弁８あるいは第２の排気切換弁１０の排気切
換制御を行うので、排気経路内における成膜ガスとクリ
ーニングガスとの混在を防止できる。

【００３８】（２）それに伴って、危険な可燃反応を未
然に防止することができる。

【００３９】（３）ガスに含まれるガス種が存在してい
ないことを確認した後に、パージガスの供給を停止する
ので、パージガスを節約することができる。

【００４０】（４）ガスに含まれるガス種が存在してい
ないことを確認して排気切換を行うので、排気切換時間
を短縮することができる。

【００４１】（５）それに伴って、稼働率が向上するの
で、生産性が上がる。

【００４２】なお、本文中では、半導体装置を製造する
例で説明したが、半導体装置に限らずガスを原料として
用いる部品の製造分野であれば、同様に適用することが
できる。また、本文中では、ガスとして成膜ガス及びク
リーニングガスの２種類を用いる例で説明したが、３種
類のガスを用いる場合にも適用可能である。

【００４３】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、複
数の排気経路の入口側において各々排気されるガスに含
まれるガス種を検出し、この検出結果に応じて特定の排
気経路への切り換えを行うようにしたので、排気される
ガスをガス種に応じて特定の排気経路へ切り換える場
合、排気切換のタイミングを適切に行うことができる。

【００４４】特に、コントローラとして、検出信号に基
づいて、検出されたガス種のガス含有量を予め記憶され
たガス含有量と比較して、検出ガス含有量が記憶ガス含
有量に達すると、対応した特定の排気切換弁の作動を制
御するものを用いると、無視できる含有量の場合には無
視できる範囲の最高値を記憶ガス含有量とすることによ
り、無視できる範囲の含有量なのに排気切換弁が無駄に
作動することを回避することができる。勿論０を記憶す
る含有量とすることにより極めて含有量が少なくとも作
動するようにすることもできる。

【００４５】そして、各排気経路の出口側にガスを除外
する除害装置を設けることにより、対応するガス種を除
去して排気することができる。

【００４６】また、排気ガスの入口側に上記コントロー
ラにより制御されて動作するパージガス供給手段を設け
ることにより、排気経路内のガス種がないことを確認し
てパージガスの提供を停止することが可能となり、それ
によりによりパージガスの無駄な消費をなくすことがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明排気切換装置の第１の実施例を示す構成
図である。

【図２】上記実施例の動作を説明するグラフである。

【図３】従来の排気切換装置を示す構成図である。

【符号の説明】

３…チャンバ（真空装置）、６…ドライポンプ（真空ポ
ンプ）、７…第１の排気経路（成膜ガス用）、８…第１
の排気切換弁（成膜ガス用）、９…第２の排気経路（ク
リーニングガス用）、１０…第２の排気切換弁（クリー
ニングガス用）、１１…第１の除害装置（成膜ガス
用）、１２…第２の除害装置（クリーニングガス用）、
１３…第１のパージガス供給用バルブ（成膜ガス用）、
１４…第２のパージガス供給用バルブ（クリーニングガ
ス用）、１５…コントローラ、１６…第１のガス検出セ
ンサ（成膜ガス用）、１７…第２のガス検出センサ（ク
リーニングガス用）。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】排気されるガスに含まれるガス種に対応
した複数の排気経路を設け、前記ガスをガス種に応じた
特定の排気経路へ切り換えて排気する排気切換方法であ
って、前記複数の排気経路の入口側において各々排気されるガ
スに含まれるガス種を検出し、この検出結果に応じて前
記特定の排気経路への切り換えを行うことを特徴とする
排気切換方法
【請求項２】使用済みのガスを排気するポンプと、こ
のポンプからの排気ガスに含まれるガス種に対応して設
けられた複数の排気経路と、各排気経路の入口側に設け
られた排気切換弁とを備えた排気切換装置であって、前記複数の排気経路の入口側に各々設けられて対応した
ガス種を検出するガス検出センサと、このガス検出センサからの検出信号を入力して対応した
特定の前記排気切換弁の作動を制御するコントローラと
を備えたことを特徴とする排気切換装置
【請求項３】コントローラは検出信号に基づいて、検
出されたガス種のガス含有量を予め記憶されたガス含有
量と比較して、検出ガス含有量が記憶ガス含有量に達す
ると、対応した特定の排気切換弁の作動を制御するよう
にされたことを特徴とする請求項２記載の排気切換装置
【請求項４】複数の排気経路の出口側に各々設けられ
て対応したガス種を除害する除害装置を備えたことを特
徴とする請求項２又は３記載の排気切換装置。
【請求項５】複数の排気経路の入口側に各々設けられ
てコントローラの制御の下に特定の排気経路へパージガ
スを供給するパージガス供給手段を備えたことを特徴と
する請求項２、３又は４記載の排気切換装置。