JP2558385B2 - 真空装置 - Google Patents
真空装置Info
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- JP2558385B2 JP2558385B2 JP2282485A JP28248590A JP2558385B2 JP 2558385 B2 JP2558385 B2 JP 2558385B2 JP 2282485 A JP2282485 A JP 2282485A JP 28248590 A JP28248590 A JP 28248590A JP 2558385 B2 JP2558385 B2 JP 2558385B2
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、被処理物であるウェーハを収納するチャン
バと、このチャンバを真空排気する真空ポンプと、前記
チャンバをガスを導入して大気圧に戻すパージガス装置
とを備える真空装置に関する。
バと、このチャンバを真空排気する真空ポンプと、前記
チャンバをガスを導入して大気圧に戻すパージガス装置
とを備える真空装置に関する。
第２図は従来の一例を示す真空装置の系統図である。
従来、この種の真空装置は、同図に示すように、被処理
物であるウェーハを収納するチャンバ１と、このチャン
バ１を大気から所定の真空度に真空排気する真空ポンプ
４と第１の開閉バルブ11と、チャンバ１にガスを導入す
るガスパージ装置とを有していた。また、ガスパージ装
置は、ガス供給装置16より供給されるガス圧を調整する
減圧弁12と、この減圧弁と配管を介して接続される第２
の開閉バルブ７とこの第２の開閉バルブ７の他の接続口
とパージ用配管14を介して接続される流量調整弁13と、
この流量調整弁13とチャンバ１とを接続する配管12と、
流量調整弁13と第２の開閉バルブ７とをバイパスするバ
イパスパージ用配管15と、このバイパスパージ用配管15
を断通するバイパスバルブ６とを備えている。
従来、この種の真空装置は、同図に示すように、被処理
物であるウェーハを収納するチャンバ１と、このチャン
バ１を大気から所定の真空度に真空排気する真空ポンプ
４と第１の開閉バルブ11と、チャンバ１にガスを導入す
るガスパージ装置とを有していた。また、ガスパージ装
置は、ガス供給装置16より供給されるガス圧を調整する
減圧弁12と、この減圧弁と配管を介して接続される第２
の開閉バルブ７とこの第２の開閉バルブ７の他の接続口
とパージ用配管14を介して接続される流量調整弁13と、
この流量調整弁13とチャンバ１とを接続する配管12と、
流量調整弁13と第２の開閉バルブ７とをバイパスするバ
イパスパージ用配管15と、このバイパスパージ用配管15
を断通するバイパスバルブ６とを備えている。
この真空装置の動作は、まず、第１の開閉バルブ11を
開き、真空ポンプ４でチャンバ１を真空配し、所定の真
空度にする。次に、第１の開閉バルブ11を閉じ、ガス供
給装置16より送られるガスを減圧弁12で調整し、第２の
開閉バルブ７を開き、流量調整弁13で流量を小さくした
ガスをチャンバ１に導入する。次に、チャンバ１の圧力
が所定の圧力に上昇したら、第２の開閉バルブ７を閉
じ、バイパスバルブ6aを開き、バイパスパージ用配管15
を通じさせ、チャンバ１にガスを導入して大気圧に戻
す。このようなサイクルを繰返して行い、ウェーハを処
理していた。
開き、真空ポンプ４でチャンバ１を真空配し、所定の真
空度にする。次に、第１の開閉バルブ11を閉じ、ガス供
給装置16より送られるガスを減圧弁12で調整し、第２の
開閉バルブ７を開き、流量調整弁13で流量を小さくした
ガスをチャンバ１に導入する。次に、チャンバ１の圧力
が所定の圧力に上昇したら、第２の開閉バルブ７を閉
じ、バイパスバルブ6aを開き、バイパスパージ用配管15
を通じさせ、チャンバ１にガスを導入して大気圧に戻
す。このようなサイクルを繰返して行い、ウェーハを処
理していた。
しかしながら、従来の真空装置では、バイパスパージ
用配管より導入ガスは、チャンバの圧力との差が大きい
ため、チャンバ内に付着しているごみを舞い上げ、処理
されたウェーハに付着するという欠点がある。また、流
量調整弁を通じてガスを導入するとそれだけ大気に戻す
時間が多くかかるという欠点がある。
用配管より導入ガスは、チャンバの圧力との差が大きい
ため、チャンバ内に付着しているごみを舞い上げ、処理
されたウェーハに付着するという欠点がある。また、流
量調整弁を通じてガスを導入するとそれだけ大気に戻す
時間が多くかかるという欠点がある。
本発明の目的は、かかる欠点を解消する真空装置を提
供することにある。
供することにある。
本発明の真空排気装置は、被処理物を収納するチャン
バと、このチャンバを大気から所定の真空度にする真空
ポンプ、真空排気用配管及び第１の開閉バルブと、ガス
を前記チャンバに導入して大気圧に戻すガスパージ装置
とを有する真空装置において、前記チャンバと前記ガス
パージ装置と接続する配管途中にガス圧の異なる複数の
パージガス容器が第２の開閉バルブを介して接続されて
いることを特徴としている。
バと、このチャンバを大気から所定の真空度にする真空
ポンプ、真空排気用配管及び第１の開閉バルブと、ガス
を前記チャンバに導入して大気圧に戻すガスパージ装置
とを有する真空装置において、前記チャンバと前記ガス
パージ装置と接続する配管途中にガス圧の異なる複数の
パージガス容器が第２の開閉バルブを介して接続されて
いることを特徴としている。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す真空装置の系統図で
ある。この真空装置は、同図に示すように、チャンバ１
とガス供給装置16と接続する配管途中に圧力の異なるパ
ージガス容器２及び３と、これらパージガス容器2,3と
配管とを断通させる第２の開閉バルブ6,7及び８を設
け、従来の流量調整弁は取除いたことである。
ある。この真空装置は、同図に示すように、チャンバ１
とガス供給装置16と接続する配管途中に圧力の異なるパ
ージガス容器２及び３と、これらパージガス容器2,3と
配管とを断通させる第２の開閉バルブ6,7及び８を設
け、従来の流量調整弁は取除いたことである。
次に、この真空装置の動作を説明する。まず、真空ポ
ンプ４によりチャンバ１を10-3Torr程度まで真空排気す
る。次に、パージガス容器３は真空ポンプ５による排気
及びパージガス導入の互いの調整によりガス圧は減圧弁
２次圧で2000Torrに調整する。次に、第２の開閉バルブ
７及び８を開き、パージガス容器２及び３にガスを導入
する。次に、バルブ９及び10を開き、パージガス容器２
及び３を1Torr及び100Torr程度の真空度に維持するよう
に真空ポンプ５で真空排気する。次に、第２の開閉バル
ブ６を開け、チャンバ１へパージガス容器２のガスを導
入する。このことにより真空容器１の内圧（仮にＰとす
る）は10-3Torr＜Ｐ＜1Torrに上昇する。次に、第２の
開閉バルブ７を開け、さらに、第２の開閉バルブ８を開
けることにより、最終的にチャンバ１は大気圧になる。
このように、チャンバ室の圧力を最初に10-3Torrより高
く、1Torrより低い程度にし、次に、導入するガス圧を1
00Torrとし、100Torr以後を大気圧とし、それぞれの圧
力差との差を少なくしてやると、全くごみの舞い上りを
生ずることはなくなった。なお、上記実施例ではパージ
ガス容器２、パージガス容器３を直列に真空容器１に接
続しているが、他の実施例としてこれらを並列に接続し
ても同様の効果が得られる。
ンプ４によりチャンバ１を10-3Torr程度まで真空排気す
る。次に、パージガス容器３は真空ポンプ５による排気
及びパージガス導入の互いの調整によりガス圧は減圧弁
２次圧で2000Torrに調整する。次に、第２の開閉バルブ
７及び８を開き、パージガス容器２及び３にガスを導入
する。次に、バルブ９及び10を開き、パージガス容器２
及び３を1Torr及び100Torr程度の真空度に維持するよう
に真空ポンプ５で真空排気する。次に、第２の開閉バル
ブ６を開け、チャンバ１へパージガス容器２のガスを導
入する。このことにより真空容器１の内圧（仮にＰとす
る）は10-3Torr＜Ｐ＜1Torrに上昇する。次に、第２の
開閉バルブ７を開け、さらに、第２の開閉バルブ８を開
けることにより、最終的にチャンバ１は大気圧になる。
このように、チャンバ室の圧力を最初に10-3Torrより高
く、1Torrより低い程度にし、次に、導入するガス圧を1
00Torrとし、100Torr以後を大気圧とし、それぞれの圧
力差との差を少なくしてやると、全くごみの舞い上りを
生ずることはなくなった。なお、上記実施例ではパージ
ガス容器２、パージガス容器３を直列に真空容器１に接
続しているが、他の実施例としてこれらを並列に接続し
ても同様の効果が得られる。
以上説明したように本発明は、チャンバを大気圧まで
戻すのに、チャンバとガス供給装置とを接続する配管経
路途中に複数のパージガス容器を設け、これらパージガ
ス容器にそれぞれガス圧力差をもたせ、低圧から高圧に
順次切換えて、チャンバにガスを導入するので、ガス導
入によるチャンバ内のごみの舞い上がりが少なく、かつ
より短時間で大気に戻すことの出来る真空装置が得られ
るという効果がある。
戻すのに、チャンバとガス供給装置とを接続する配管経
路途中に複数のパージガス容器を設け、これらパージガ
ス容器にそれぞれガス圧力差をもたせ、低圧から高圧に
順次切換えて、チャンバにガスを導入するので、ガス導
入によるチャンバ内のごみの舞い上がりが少なく、かつ
より短時間で大気に戻すことの出来る真空装置が得られ
るという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す真空装置の系統図、第
２図は従来の真空装置の一例を示す系統図である。 １……チャンバ、2,3……パージガス容器、4,5……真空
ポンプ、6a……バイパスバルブ、6,7,8……第２の開閉
バルブ、9,10,11……バルブ、12……配管、13……流量
調整弁、14……パージ用配管、15……バイパスパージ用
配管、16……ガス供給装置。
２図は従来の真空装置の一例を示す系統図である。 １……チャンバ、2,3……パージガス容器、4,5……真空
ポンプ、6a……バイパスバルブ、6,7,8……第２の開閉
バルブ、9,10,11……バルブ、12……配管、13……流量
調整弁、14……パージ用配管、15……バイパスパージ用
配管、16……ガス供給装置。
Claims (1)
- 【請求項１】被処理物を収納するチャンバと、このチャ
ンバを大気から所定の真空度にする真空ポンプ、真空排
気用配管及び第１の開閉バルブと、ガスを前記チャンバ
に導入して大気圧に戻すガスパージ装置とを有する真空
装置において、前記チャンバと前記ガスパージ装置と接
続する配管途中にガス圧の異なる複数のパージガス容器
が第２の開閉バルブを介して接続されていることを特徴
とする真空装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2282485A JP2558385B2 (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2282485A JP2558385B2 (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 真空装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04155912A JPH04155912A (ja) | 1992-05-28 |
| JP2558385B2 true JP2558385B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=17653054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2282485A Expired - Fee Related JP2558385B2 (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 真空装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2558385B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103147060B (zh) * | 2013-03-29 | 2015-04-22 | 上海理工大学 | 真空镀膜系统及其镀膜方法 |
-
1990
- 1990-10-19 JP JP2282485A patent/JP2558385B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04155912A (ja) | 1992-05-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |