JPS6262526A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS6262526A JPS6262526A JP20151685A JP20151685A JPS6262526A JP S6262526 A JPS6262526 A JP S6262526A JP 20151685 A JP20151685 A JP 20151685A JP 20151685 A JP20151685 A JP 20151685A JP S6262526 A JPS6262526 A JP S6262526A
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- Japan
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- gas
- processing
- processing chamber
- valves
- gas flow
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、プラズマ処理装置に係り、特にプラズマ処理
途中で処理室内への処理ガスの供給量を変化させるプラ
ズマ処理袋Jに関するものである。
途中で処理室内への処理ガスの供給量を変化させるプラ
ズマ処理袋Jに関するものである。
ドライエツチング等のプラズマ処理途中で処理室内への
処理ガスの供給1を変化させるプラズマ処理技術として
は、例えば、特開昭60−50923号公報に記載のよ
うなものが知られている。
処理ガスの供給1を変化させるプラズマ処理技術として
は、例えば、特開昭60−50923号公報に記載のよ
うなものが知られている。
しかし、この技術では、迅速、かつ、安定的に処理ガス
の供給量を変化させようとする認識を有していす、プロ
セスの制御性や量産性の点で問題がある。
の供給量を変化させようとする認識を有していす、プロ
セスの制御性や量産性の点で問題がある。
本発明の目的は、迅速、かつ、安定的暑こ処理ガスの供
給量を変化可能とすることで、プロセスの制御性や量産
性を向上できるプラズマ処理装置を提供することにある
。
給量を変化可能とすることで、プロセスの制御性や量産
性を向上できるプラズマ処理装置を提供することにある
。
本発明は、プラズマ処理装置を、処理室と、該処理室内
を減圧排気する排気手段と、前記処理室内に処理ガスを
供給するガス供給手段と、前記処理室内の処理ガスをプ
ラズマ化する手段と、前記ガス供給手段を減圧排気する
他の排気手段とを具備した装置としたもので、迅速、か
つ、安定的に処理ガスの供給量を変化可能にしたもので
ある。
を減圧排気する排気手段と、前記処理室内に処理ガスを
供給するガス供給手段と、前記処理室内の処理ガスをプ
ラズマ化する手段と、前記ガス供給手段を減圧排気する
他の排気手段とを具備した装置としたもので、迅速、か
つ、安定的に処理ガスの供給量を変化可能にしたもので
ある。
処理室内に処理ガスを供給するガス供給手段は、処理ガ
ス涼と、該処理ガス源と処理室とを連結するガス供給管
と、該管薔こ設けられたガス流量調節器と、該調節器の
後流側でガス供給管に設けられたストップバルブとで構
成されている。この構成で、処理ガスの供給量を変化さ
せるには、二つの方法が考えられる。
ス涼と、該処理ガス源と処理室とを連結するガス供給管
と、該管薔こ設けられたガス流量調節器と、該調節器の
後流側でガス供給管に設けられたストップバルブとで構
成されている。この構成で、処理ガスの供給量を変化さ
せるには、二つの方法が考えられる。
まず、第1の方法は、処理ガスの供給量の変化の前後を
こおいてストップバルブは常に開のままと]ノ、ガス流
量調節器のガス流量設定値を変える方法である。
こおいてストップバルブは常に開のままと]ノ、ガス流
量調節器のガス流量設定値を変える方法である。
しかし、この方法では、ガス流量を変化させるのに要す
る時間をガス流量調節器の応答速度で決る値以下にする
ことができない。また、ガス流量を零にしたい場合には
、ガス流量調節器の設定値を零とした時のシール性のみ
で決定されるという不安要素が生じる。
る時間をガス流量調節器の応答速度で決る値以下にする
ことができない。また、ガス流量を零にしたい場合には
、ガス流量調節器の設定値を零とした時のシール性のみ
で決定されるという不安要素が生じる。
次に第2の方法は、ガス流量調節器の設定値を処理ガス
が処理室内に供給されるか否かにかかわらず常に所望の
設定値にしておき、処理室内への処理ガスの供給はスト
ップバルブの開閉によって行う方法である。
が処理室内に供給されるか否かにかかわらず常に所望の
設定値にしておき、処理室内への処理ガスの供給はスト
ップバルブの開閉によって行う方法である。
しかし、この方法では、ストップバルブが閉のときにス
トップバルブとガス流量調節器との間のガス供給管内昏
こ処理ガスがたまるため、ストップバルブを開いたとき
に処理室内に一時的に多量の処理ガスが流入するという
問題が生じる。
トップバルブとガス流量調節器との間のガス供給管内昏
こ処理ガスがたまるため、ストップバルブを開いたとき
に処理室内に一時的に多量の処理ガスが流入するという
問題が生じる。
このようζこ、第1の方法では、ガス流量変化に要する
時間がガス流量調節器の応答速度で制限されてしまうの
で、ガス流量変化を迅速に行うためには、第2の方法が
有利である。しかし、第2の方法では、上記したように
ガス流量変化を安定的に行うのには問題がある。そこで
、本発明では、この問題を解決するために、ストップバ
ルブが閉のときストップバルブとガス流量調節器との間
のガス供給管内にたまる処理ガスを排気するようにした
。
時間がガス流量調節器の応答速度で制限されてしまうの
で、ガス流量変化を迅速に行うためには、第2の方法が
有利である。しかし、第2の方法では、上記したように
ガス流量変化を安定的に行うのには問題がある。そこで
、本発明では、この問題を解決するために、ストップバ
ルブが閉のときストップバルブとガス流量調節器との間
のガス供給管内にたまる処理ガスを排気するようにした
。
以下、本発明の一実施例を図面により説明する。
図面で、処理室10の排気口(図示省略)には、排気精
美の一端が連結され、その他端は、排気手段を構成する
真空ポンプ4の吸気口(図示省略)に連結されている。
美の一端が連結され、その他端は、排気手段を構成する
真空ポンプ4の吸気口(図示省略)に連結されている。
排気精美の途中には、ストップバルブnが設けられてい
る。処理室10のガス入口(図示省略)には、ガス供給
管領の一端が連結され、その他端は、この場合、三つに
分岐して三つの処理ガス源、例えば、ガスボンへ3】a
〜31 C(充填されている処理ガスは同一種であって
も異種であっても良い)にそれぞれ連結されている。
る。処理室10のガス入口(図示省略)には、ガス供給
管領の一端が連結され、その他端は、この場合、三つに
分岐して三つの処理ガス源、例えば、ガスボンへ3】a
〜31 C(充填されている処理ガスは同一種であって
も異種であっても良い)にそれぞれ連結されている。
分岐したガス供給管30 a −30cには、ガス流量
調節器32 a −32cがそれぞれ設けられている。
調節器32 a −32cがそれぞれ設けられている。
ガス流量、!1節器32 a −32cのそれぞれ後流
側でガス供給管30 a −30cには、ストップバル
ブ33a−33cがそれぞれ設けられている。ガス供給
管領には、ストップバルブおが設けられている。ガス流
量調節器32a−32cとストップバルブ33a−33
cの間のガス供給管30a−30cからは、排気管40
a −400がそれぞれ分岐され、排気管40a=40
cは、他のHE気手段を構成する真空ポンプ41の吸気
口(図示省略)にそれぞれ連結されている。排気管40
a〜40 cの途中には、ストップバルブ43a〜43
cがそれぞれ設けられている。なお、この場合、処理
室10内の処理ガスをプラズマ化(高周波プラズマ。
側でガス供給管30 a −30cには、ストップバル
ブ33a−33cがそれぞれ設けられている。ガス供給
管領には、ストップバルブおが設けられている。ガス流
量調節器32a−32cとストップバルブ33a−33
cの間のガス供給管30a−30cからは、排気管40
a −400がそれぞれ分岐され、排気管40a=40
cは、他のHE気手段を構成する真空ポンプ41の吸気
口(図示省略)にそれぞれ連結されている。排気管40
a〜40 cの途中には、ストップバルブ43a〜43
cがそれぞれ設けられている。なお、この場合、処理
室10内の処理ガスをプラズマ化(高周波プラズマ。
マイクロ波プラズマ)する手段(図示省略)が具備され
ている。
ている。
図面で、処理室10内へ処理ガスを供給するときは、ス
トップバルブ33.33a (33b、 33c )を
開にし、ストップバルブ43a (43b、 43c
)を閉にする。逆に、処理室10内へ処理ガスを供給し
ないときは、ストップバルブ33a (33b、 33
c )を閉にし、ストップバルブ43a (43b、
43c )を開にする。これによりガス流量調節器32
a(32b、32C)とストップバルブ33a (33
b、 33c )との間のガス供給管30a (30b
、 30c )内は、真空ポンプ41により排気され、
ユニに処理ガスがたまるのを防止できる。また、この場
合、処理室10内への処理ガスの供給量を変化させるに
は、ガス流量調節器32 a −32cでのガス流量設
定値をこの変化に対応するよう蚤こ設定すれば良い。こ
の場合、ストップバルブ33a−33c、 43a−4
3cの開閉は、処理室lO内への処理ガスの供給量の変
化に対応して、例えば、時間制御するようにすれば良い
。なお、ストップバルブ33a (33b、 33c
)とストップバルブ43a (43b、 43c )と
の開閉の誤動作を防止するために、ストップバルブ33
a (33b、 33c )とストップバルブ43a
(43b、 411G )の開閉状態が必ず逆になるよ
うに連動させるのも一つの方法である。
トップバルブ33.33a (33b、 33c )を
開にし、ストップバルブ43a (43b、 43c
)を閉にする。逆に、処理室10内へ処理ガスを供給し
ないときは、ストップバルブ33a (33b、 33
c )を閉にし、ストップバルブ43a (43b、
43c )を開にする。これによりガス流量調節器32
a(32b、32C)とストップバルブ33a (33
b、 33c )との間のガス供給管30a (30b
、 30c )内は、真空ポンプ41により排気され、
ユニに処理ガスがたまるのを防止できる。また、この場
合、処理室10内への処理ガスの供給量を変化させるに
は、ガス流量調節器32 a −32cでのガス流量設
定値をこの変化に対応するよう蚤こ設定すれば良い。こ
の場合、ストップバルブ33a−33c、 43a−4
3cの開閉は、処理室lO内への処理ガスの供給量の変
化に対応して、例えば、時間制御するようにすれば良い
。なお、ストップバルブ33a (33b、 33c
)とストップバルブ43a (43b、 43c )と
の開閉の誤動作を防止するために、ストップバルブ33
a (33b、 33c )とストップバルブ43a
(43b、 411G )の開閉状態が必ず逆になるよ
うに連動させるのも一つの方法である。
本実施例では、ガス流fi調節器の設定値を処理ガスが
処理室内に供給されるか否かにかかわらず常に所望の所
定値にしておき、処理室内への処理ガスの供給はストッ
プバルブの開閉によって行うことができると共に、スト
ップバルブを開いたときに処理室内に一時的に多旦の処
理ガスが流入することもないので、処理室内への処理ガ
スの供給量を迅速、かつ、安定的に変化させることがで
き、プロセスの制御性や量産性を向上できる。
処理室内に供給されるか否かにかかわらず常に所望の所
定値にしておき、処理室内への処理ガスの供給はストッ
プバルブの開閉によって行うことができると共に、スト
ップバルブを開いたときに処理室内に一時的に多旦の処
理ガスが流入することもないので、処理室内への処理ガ
スの供給量を迅速、かつ、安定的に変化させることがで
き、プロセスの制御性や量産性を向上できる。
なお、本実施例では、分岐されたガス供給管と抜管から
分岐された排気管とにそれぞれストップバルブを設けて
いるが、この他に、分岐されたガス供給管に三方ロバル
ブを設は該バルブを介して排気管を分岐させても良い。
分岐された排気管とにそれぞれストップバルブを設けて
いるが、この他に、分岐されたガス供給管に三方ロバル
ブを設は該バルブを介して排気管を分岐させても良い。
また、本実施例では、処理室内を排気する真空ポンプと
ガス供給管内を排気する真空ポンプとを別設置している
が、例えば、処理室内を排気する真空ポンプを共用する
ようfこしても良い。また、本実施例では、1本のガス
供給管を1本のガスボンベに連結していルカ、この池に
、複数本のガス供給管を1本のガスボンベ(二合流連結
し、ガス供給管のそれぞれにストップバルブとガス流量
調節器とを設け、該調節器とストップバルブとの間のガ
ス供給管より排気管を分岐させて真空ポンプに連結し、
排気管にストップバルブを設けるようにしても良い。
ガス供給管内を排気する真空ポンプとを別設置している
が、例えば、処理室内を排気する真空ポンプを共用する
ようfこしても良い。また、本実施例では、1本のガス
供給管を1本のガスボンベに連結していルカ、この池に
、複数本のガス供給管を1本のガスボンベ(二合流連結
し、ガス供給管のそれぞれにストップバルブとガス流量
調節器とを設け、該調節器とストップバルブとの間のガ
ス供給管より排気管を分岐させて真空ポンプに連結し、
排気管にストップバルブを設けるようにしても良い。
本発明は、以上説明したように、処理室内への処理ガス
の供給量を迅速、かつ、安定的に変化させることができ
るので、プロセスの制御性や量産性を向上できる効果が
ある。
の供給量を迅速、かつ、安定的に変化させることができ
るので、プロセスの制御性や量産性を向上できる効果が
ある。
図面は、本発明によるプラズマ処理装置の一実施例を示
す処理室の排気系統と処理ガス供給系統の系統図である
。
す処理室の排気系統と処理ガス供給系統の系統図である
。
Claims (1)
- 1、処理室と、該処理室内を減圧排気する排気手段と、
前記処理室内に処理ガスを供給するガス供給手段と、前
記処理室内の処理ガスをプラズマ化する手段と、前記ガ
ス供給手段を減圧排気する他の排気手段とを具備したこ
とを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20151685A JPS6262526A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20151685A JPS6262526A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | プラズマ処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6262526A true JPS6262526A (ja) | 1987-03-19 |
Family
ID=16442339
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20151685A Pending JPS6262526A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6262526A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4988121A (en) * | 1988-07-30 | 1991-01-29 | Mazda Motor Corporation | Seat belt device for open-top vehicle |
JPH0955369A (ja) * | 1995-08-16 | 1997-02-25 | Nec Corp | 真空処理装置及び真空処理装置への大気混入の検知方法 |
-
1985
- 1985-09-13 JP JP20151685A patent/JPS6262526A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4988121A (en) * | 1988-07-30 | 1991-01-29 | Mazda Motor Corporation | Seat belt device for open-top vehicle |
JPH0955369A (ja) * | 1995-08-16 | 1997-02-25 | Nec Corp | 真空処理装置及び真空処理装置への大気混入の検知方法 |
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