JPS6073336A - サンプリングガス導入装置 - Google Patents
サンプリングガス導入装置Info
- Publication number
- JPS6073336A JPS6073336A JP18029783A JP18029783A JPS6073336A JP S6073336 A JPS6073336 A JP S6073336A JP 18029783 A JP18029783 A JP 18029783A JP 18029783 A JP18029783 A JP 18029783A JP S6073336 A JPS6073336 A JP S6073336A
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- JP
- Japan
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- gas
- flow rate
- sampling gas
- sampling
- measured
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
- G01N1/24—Suction devices
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、サンプリングガス導入装置に係り、特に圧力
変動を生じる被測定物内のガスを分析するのに好適なサ
ンプリングガス導入装置に関するものである。
変動を生じる被測定物内のガスを分析するのに好適なサ
ンプリングガス導入装置に関するものである。
従来の被測定物からガス分析装置へのサンプリングガス
導入技術としては、サンプリングガスを被測定物から一
旦ガス溜めに採り出してからガス分析装置に導入する技
術や、被測定物でのサンプリングガス採取条件が整った
状襲でサンプリングガスをガス分析装置に導入する技術
がある。
導入技術としては、サンプリングガスを被測定物から一
旦ガス溜めに採り出してからガス分析装置に導入する技
術や、被測定物でのサンプリングガス採取条件が整った
状襲でサンプリングガスをガス分析装置に導入する技術
がある。
ガス分析されるサンプリングガスは、ガス分析装置での
サンプリングガス流量許容範囲内の流量（以下、分析許
容流量と略）でガス分析装置に導入する必要がある。サ
ンプリングガスの流量は被測定物の圧力に大きく影響さ
れ被測定物の圧力変動により変動する。従って、サンプ
リングガスの流量が被測定物の圧力変動により分析許容
流量をはずれた場合は、ガス分析装置での分析は不都合
なものとなるため、サンプリングガスの流量が分析許容
流量となるまで分析を停止しなければならない。その結
果、ガス分析操作に要する時間が長くなり、被測定物が
ガス分析結果に基づき緊急な処置を要するものでは、即
応できないといった欠点があった。
サンプリングガス流量許容範囲内の流量（以下、分析許
容流量と略）でガス分析装置に導入する必要がある。サ
ンプリングガスの流量は被測定物の圧力に大きく影響さ
れ被測定物の圧力変動により変動する。従って、サンプ
リングガスの流量が被測定物の圧力変動により分析許容
流量をはずれた場合は、ガス分析装置での分析は不都合
なものとなるため、サンプリングガスの流量が分析許容
流量となるまで分析を停止しなければならない。その結
果、ガス分析操作に要する時間が長くなり、被測定物が
ガス分析結果に基づき緊急な処置を要するものでは、即
応できないといった欠点があった。
本発明の目的は、ガス分析操作に要する時間をきるサン
プリング導入装置を提供する二とにある。
プリング導入装置を提供する二とにある。
本発明は、被測定物とガス分析装置とを連結するサンプ
リングガス導入管にシンプリングガス流量制御手段を設
けたことを特徴とするもので、圧力変動する被測定物か
らガス分析装置ヘサンプリングガスな分析許容流量に制
御して導入する二とで、ガス分析操作に要する時間を短
縮しようとしたものである。
リングガス導入管にシンプリングガス流量制御手段を設
けたことを特徴とするもので、圧力変動する被測定物か
らガス分析装置ヘサンプリングガスな分析許容流量に制
御して導入する二とで、ガス分析操作に要する時間を短
縮しようとしたものである。
本発明の一実施例を図面により説明する。
図面で、被測定物、例えば真空容器ＩＯには、真空排気
製屑入が排気管間で連結され、真空計４０が管５０の端
部からは、この場合、２木のサンプリン入 ス分析装置６０に連結されている。
製屑入が排気管間で連結され、真空計４０が管５０の端
部からは、この場合、２木のサンプリン入 ス分析装置６０に連結されている。
入
サンプリングガス導管５１ 、５２には、真空容器ｌＯ
の圧力変動に応じてガス分析袋層θに導入されるサンプ
リングガス流量を分析許容流量に制御するサンプリング
ガス流量制御手段７０ 、７１が設けられている。
の圧力変動に応じてガス分析袋層θに導入されるサンプ
リングガス流量を分析許容流量に制御するサンプリング
ガス流量制御手段７０ 、７１が設けられている。
サンプリングガス流量制御手段７０ 、７１は、真空容
器１０のそれぞれ異なった、この場合は、２段階に異な
った圧力変動範囲内でガス分析装置ωに導入されるサン
プリングガス流量を分析許容流量に制御する。例えば、
導入弁７２ａ、７２ｂと、導入遮断弁７３ａ、７３ｂと
で構成されている。この場合、導入弁７２ ａは、２段
階に異なった圧力変動範囲内のうち茜い方の圧力変動範
囲内でサンプリングガス流量を分析許容流量に制御する
機能を有し、導入弁７２ｂは、低い方の圧力変動範囲内
でサンプリングガス流量を分析許容流量に制御する機能
を有している。才だ、導入遮断弁７３ ａは、真空容器
１０の圧力が導入弁７２ ａの対応する圧力変動範囲を
はスした時点で、導入弁７２ ａへのサップリングガス
の流通を遮断する機能を有し、導入遮断弁７３ ｂは。
器１０のそれぞれ異なった、この場合は、２段階に異な
った圧力変動範囲内でガス分析装置ωに導入されるサン
プリングガス流量を分析許容流量に制御する。例えば、
導入弁７２ａ、７２ｂと、導入遮断弁７３ａ、７３ｂと
で構成されている。この場合、導入弁７２ ａは、２段
階に異なった圧力変動範囲内のうち茜い方の圧力変動範
囲内でサンプリングガス流量を分析許容流量に制御する
機能を有し、導入弁７２ｂは、低い方の圧力変動範囲内
でサンプリングガス流量を分析許容流量に制御する機能
を有している。才だ、導入遮断弁７３ ａは、真空容器
１０の圧力が導入弁７２ ａの対応する圧力変動範囲を
はスした時点で、導入弁７２ ａへのサップリングガス
の流通を遮断する機能を有し、導入遮断弁７３ ｂは。
真空容器１０の圧力が導入弁７２ｂの対応する圧力変動
範囲をはずれた時点で導入弁？２ ｂへのサンプリング
ガスの流通を遮断する機能を有し、導入遮断弁７３ａ、
７３ｂの弁開閉操作は真空計■にインターロックされて
いる。
範囲をはずれた時点で導入弁？２ ｂへのサンプリング
ガスの流通を遮断する機能を有し、導入遮断弁７３ａ、
７３ｂの弁開閉操作は真空計■にインターロックされて
いる。
このような構成において、真空容器ｌＯは、真空排気装
置加により真空排気される。この排気により真空容器ｌ
Ｏ内は所定圧力まで減圧されることになるが、この減圧
過程の任意の圧力になった時点より真空容器１０に残留
しているガスの分析をガス分析装置ωで行うものとする
。そこで、まず、分析が開始される任意の圧力（以下、
任意圧力と略）から所定圧力までの圧力範囲を、この場
合、２段階の圧力範囲に分割する。この分割される境界
の圧力を中間圧力という。その後、導入弁７２ａの弁開
度を任意圧力から中間圧力までの圧力範囲においてサン
プルガスの流量が分析許容流量となる開度に予め設定し
、又、導入弁７２ ｂの弁開度を中間圧力から所定圧力
までの圧力範囲においてサンプルガスの流量が分析許容
流量となる開度に予め設定する。
置加により真空排気される。この排気により真空容器ｌ
Ｏ内は所定圧力まで減圧されることになるが、この減圧
過程の任意の圧力になった時点より真空容器１０に残留
しているガスの分析をガス分析装置ωで行うものとする
。そこで、まず、分析が開始される任意の圧力（以下、
任意圧力と略）から所定圧力までの圧力範囲を、この場
合、２段階の圧力範囲に分割する。この分割される境界
の圧力を中間圧力という。その後、導入弁７２ａの弁開
度を任意圧力から中間圧力までの圧力範囲においてサン
プルガスの流量が分析許容流量となる開度に予め設定し
、又、導入弁７２ ｂの弁開度を中間圧力から所定圧力
までの圧力範囲においてサンプルガスの流量が分析許容
流量となる開度に予め設定する。
真空容器ｌＯの圧力が任意圧力になった時点で導入遮断
弁７３ ａは開弁し真空容器１（）からは分析許容流量
に導入弁？２ ａで流量制御されてサンプリングガスが
ガス分析装置ωに導入されガス分析が開始される。真空
容器１００田力が任意圧力から中間圧力までの圧力範囲
にある場合は、この状態が持続される。尚、このような
圧力範囲では、導入遮断弁７３ ｂは閉止され導入弁？
２ ｂへのサンプリングガスの流通は遮断されている。
弁７３ ａは開弁し真空容器１（）からは分析許容流量
に導入弁？２ ａで流量制御されてサンプリングガスが
ガス分析装置ωに導入されガス分析が開始される。真空
容器１００田力が任意圧力から中間圧力までの圧力範囲
にある場合は、この状態が持続される。尚、このような
圧力範囲では、導入遮断弁７３ ｂは閉止され導入弁？
２ ｂへのサンプリングガスの流通は遮断されている。
その後、真空容器１０の圧力が中間圧力以下になった時
点で導入遮断弁７３ａは閉止され導入弁７２ ａへのサ
ンプリングガスの流スｍが１咋断される。これと同時に
、導入遮断弁７３ｂが開弁され、サンプリングガスは導
入弁７２ ｂ分析許容流量に流量制御されてカス分析装
置ｎ６０に導入されカス分析が続行される。真空容器１
０の圧力が中間圧力から所定圧力までの圧力範囲にある
場合は、この状態が持続される。
点で導入遮断弁７３ａは閉止され導入弁７２ ａへのサ
ンプリングガスの流スｍが１咋断される。これと同時に
、導入遮断弁７３ｂが開弁され、サンプリングガスは導
入弁７２ ｂ分析許容流量に流量制御されてカス分析装
置ｎ６０に導入されカス分析が続行される。真空容器１
０の圧力が中間圧力から所定圧力までの圧力範囲にある
場合は、この状態が持続される。
木実Ｍ〜例のようなサンプリングガス導入装置を用いた
場合は、次のような効果が得られる。
場合は、次のような効果が得られる。
（］）真空容器内の圧力が変動、つまり、大気圧から所
定圧力まで変１ヒしても真空容器からガス分析装置ヘヅ
ンプリングガスを分析許容流量に制御して導入すること
ができるので、カス分析製品でのカス分析を行止するこ
となしに連続して行うことができカス分析操作に要する
時間を短縮することができる。
定圧力まで変１ヒしても真空容器からガス分析装置ヘヅ
ンプリングガスを分析許容流量に制御して導入すること
ができるので、カス分析製品でのカス分析を行止するこ
となしに連続して行うことができカス分析操作に要する
時間を短縮することができる。
（２）真空容器はガス分析結果に基づき緊急な処置を要
するものであるが、ガス分析操作に要する時間を短縮で
きるので、緊急な処置に即応する二とができる。
するものであるが、ガス分析操作に要する時間を短縮で
きるので、緊急な処置に即応する二とができる。
（３）真空容器の任意の圧力におけるガス分析を行うこ
とができる。尚５本実施例では、被測定物である真空容
器の圧力変動を２段階の圧力変動範囲に分割しているが
、更に多くの段階で分割しても良い。又、導入弁に替え
てオリフィスを使用しても良い。
とができる。尚５本実施例では、被測定物である真空容
器の圧力変動を２段階の圧力変動範囲に分割しているが
、更に多くの段階で分割しても良い。又、導入弁に替え
てオリフィスを使用しても良い。
本発明は５以上説明したように、被測定物とガス分析装
置とを連結するサンプリングガス導入管にサップリング
ガス流量制御手段を設けたことで被測定物の圧力変動に
よらずガス分析装置でのガス分析を連続して行うことが
できるので、ガス分析操作に要する時間を短縮でき、被
測定物の緊急な処置に即応できる効果がある。
置とを連結するサンプリングガス導入管にサップリング
ガス流量制御手段を設けたことで被測定物の圧力変動に
よらずガス分析装置でのガス分析を連続して行うことが
できるので、ガス分析操作に要する時間を短縮でき、被
測定物の緊急な処置に即応できる効果がある。
図面は、本発明によるサンプリングガス導入装置の一実
施例を示す構成図である。 ｌＯ・・・・・真空容器、栃・・・・・ 真空計、園な
いし關・・・入 サンプリングガス導管、ω・・・・ガス分析装置、７０
゜△
施例を示す構成図である。 ｌＯ・・・・・真空容器、栃・・・・・ 真空計、園な
いし關・・・入 サンプリングガス導管、ω・・・・ガス分析装置、７０
゜△
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被測定物からガス分析装置にサンプリングガスな導
入する装置において、前記被測定物と前記ガス分析装置
とを連結するサンプリングガス導入管にサンプリングガ
ス流量制御手段を設けたことを特徴とするサンプリング
ガス導入装置。 ２ 前記サンプリングガス流量制御手段を、前記被測定
物の圧力変動に応じて前記ガス分析装置に導入されるサ
ンプリングガス流量をガス分析装置でのサンプリングガ
ス流量許容範囲内に制御する手段とした特許請求の範囲
第１項記戦の勺ンプリングガス導入装置。 ３、ｌ］ｆＩ記サンプリングガス流量制御手段を、前記
被測定物のそれぞれ異なった圧力変動範囲内で前記ガス
分析装置に導入されるサンプリングガス流量をガス分析
装置でのサンプリングガス流量許容筒内に制御する導入
弁若しくはオリフィスと、被測定物の圧力がある圧力変
動範囲内をはずれた時点で対応する導入弁若しくはオリ
フィスへのサンプリングガスの流通を遮断する導入遮断
弁とで構成した特許請求の範囲第１項又は第２項記戦の
サンプリングガス導入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18029783A JPS6073336A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | サンプリングガス導入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18029783A JPS6073336A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | サンプリングガス導入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6073336A true JPS6073336A (ja) | 1985-04-25 |
| JPH0361899B2 JPH0361899B2 (ja) | 1991-09-24 |
Family
ID=16080740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18029783A Granted JPS6073336A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | サンプリングガス導入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6073336A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04131737A (ja) * | 1990-09-22 | 1992-05-06 | Shimadzu Corp | 定流量サンプリング装置 |
| WO2003036696A1 (fr) * | 2001-10-24 | 2003-05-01 | Nikon Corporation | Procede et instrument de mesure d'une concentration, procede et unite d'exposition a la lumiere, et procede de fabrication d'un dispositif |
| GB2537914A (en) * | 2015-04-30 | 2016-11-02 | Thermo Fisher Scient (Bremen) Gmbh | Flow reduction system for isotope ratio measurements |
| GB2618073A (en) * | 2022-04-22 | 2023-11-01 | Smiths Detection Watford Ltd | Detector inlet and method |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57146131A (en) * | 1981-03-05 | 1982-09-09 | Toshiba Corp | Sampling device |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP18029783A patent/JPS6073336A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57146131A (en) * | 1981-03-05 | 1982-09-09 | Toshiba Corp | Sampling device |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04131737A (ja) * | 1990-09-22 | 1992-05-06 | Shimadzu Corp | 定流量サンプリング装置 |
| WO2003036696A1 (fr) * | 2001-10-24 | 2003-05-01 | Nikon Corporation | Procede et instrument de mesure d'une concentration, procede et unite d'exposition a la lumiere, et procede de fabrication d'un dispositif |
| GB2537914A (en) * | 2015-04-30 | 2016-11-02 | Thermo Fisher Scient (Bremen) Gmbh | Flow reduction system for isotope ratio measurements |
| JP2016212101A (ja) * | 2015-04-30 | 2016-12-15 | サーモ フィッシャー サイエンティフィック （ブレーメン） ゲーエムベーハー | 同位体比測定のための流れ低減システム |
| US9829431B2 (en) | 2015-04-30 | 2017-11-28 | Thermo Fisher Scientific (Bremen) Gmbh | Flow reduction system for isotope ratio measurements |
| GB2537914B (en) * | 2015-04-30 | 2019-03-20 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | Flow reduction system for isotope ratio measurements |
| GB2618073A (en) * | 2022-04-22 | 2023-11-01 | Smiths Detection Watford Ltd | Detector inlet and method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0361899B2 (ja) | 1991-09-24 |
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