JPS6368790A - 真空排気装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は真空排気装置に関し、特に真空引きに使用する
油回転ポンプからの油蒸気の逆流を防止してクリーン排
気を行い得る真空排気装置に関する。

〔従来の技術〕

半導体装置の製造工程では真空雰囲気での処理が多数あ
り、このため特開昭５１−９１６７３号公報にも示され
るように真空ポンプを用いた真空排気装置が使用されて
いる。従来、この種の装置における真空ポンプには油回
転ポンプが用いられており、このためこの油回転ポンプ
において発生する油蒸気が真空処理室に逆流することを
防止する排気回路構成が採られている。

例えば、第４図に示すように、処理室２ｏの排気管２１
に油回転ポンプ２２を介挿したものにおいて、処理室２
０と油回転ポンプ２２との間に開閉バルブ２３．２４及
び多孔物質からなるモレキュラシープトラップ２５を介
挿し、油回転ボンブ２２から逆流しようとする油蒸気を
このモレキュラシーブトラソブ２５で吸着する構成とな
っている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、この種の真空排気装置にあっては油回転
ポンプ２２と処理室２０との間に差圧く油回転ポンプ２
２側が低圧）が存在することを前提としている。このた
め、油回転ポンプ２２での真空引きを連続して行なって
到達真空状態が長時間連続されると、油回転ポンプ２２
と真空処理室２０との差圧が殆ど零に近くなると、モレ
キュラシーブトラップ２５に吸着した油蒸気がここから
拡散して処理室２０に侵入し、処理室２０内が汚染され
ることになる。

本発明の目的は、油回転ポンプからの油蒸気の逆流を確
実に防止して真空処理室の清浄化を実現する真空排気装
置を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の真空排気装置は、油回転ポンプ上流位置に開閉
バルブを設けるとともに、処理室及びポンプの各近傍に
夫々真空圧力計を設け、これら真空圧力計により油回転
ポンプと処理室との間の差圧を検出して開閉バルブを開
閉制御する構成としている。

〔作用〕

この構成によれば、処理室と油回転ポンプとの差圧が大
きいときには開閉バルブを開いて排気を行うとともに油
蒸気の逆流を防止し、差圧が零に近い状態とされたとき
に、開閉バルブを閉塞して油回転ポンプから処理室への
油蒸気の逆流を防止することができる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図は本発明の第１実施例を示し、半導体製造設備の
低圧ＣＶＤ装置における真空排気系統を示したものであ
る。

低圧ＣＶＤ装置のプロセスチューブ１の排気管２には油
回転ポンプ３及びメカニカルブースタ４を介挿して真空
排気を行い得るように構成している。そして、前記プロ
セスチューブ１とメカニカルブースタ４０間には、自動
圧力制御装置５と、これを挟むように一対の開閉バルブ
６．７を夫々介挿している。更に、上流側の開閉バルブ
６の上流位置には真空圧力計８を配設し、また下流側の
開閉バルブ７の下流位置には真空圧力計９を配設して夫
々排気管２における真空圧力を測定できるようにしてい
る。

この上で、これら真空圧力計８．９をコントローラ１０
に接続し、このコントローラ１０で下流側の前記開閉バ
ルブ７を開閉作動させるように構成している。即ち、真
空圧力計８．９の差圧が所定以上の場合に開閉バルブ７
を開放し、差圧が所定以下の場合にこれを閉塞させるよ
うに制御する。

なお、図において１１は成膜用のガス源であり、ガス導
入管１２に介挿した開閉バルブ１３によってガスの導入
が制御される。

この構成によれば、真空圧力計８，９の差圧が大きい場
合には、プロセスチューブ１の真空引きが十分ではない
ことであり、開閉バルブ７を開放して油回転ポンプ３及
びメカニカルブースタ４によりプロセスチューブ１の排
気を行わせる。このとき、この差圧により油回転ポンプ
３の油蒸気がプロセスチューブ１に逆流されることはな
い。

プロセスチューブ１が到達真空圧力に近い状態になると
、真空圧力計８，９の差圧が零に近い所定値以下となる
。すると、コントローラ１０は開閉バルブ７を閉塞する
。このため、油回転ポンプ３に繋がる排気管２は閉塞さ
れ、油回転ポンプ３の油蒸気がプロセスチューブ１に逆
流されることはない。

したがって、油蒸気がプロセスチューブｌ内に侵入する
ことを確実に防止でき、プロセスチューブ１内をクリー
ンな真空状態に設定でき、汚染のない良好な成膜を実現
することができる。

第２図は本発明の第２実施例を示し、ここでは半導体製
造設備のドライエツチング装置に本発明を適用した例を
示している。なお、図中、第１図と同一部分には同一符
号を付しである。

この実施例では、ドライエツチング装置はつ工ハを毎葉
処理するために、エツチング室ＩＡと、真空予備室ＩＢ
とで構成され、夫々排気管２に油回転ポンプ３を接続し
て真空排気を行うように構成している。但し、エツチン
グ室ＩＡには２系統の排気管を接続し、一方の排気管に
は油回転ポンプ３とともに開閉バルブ１７．ターボ分子
ポンプ１４及び自動圧力制御装置５を介挿し、他方の排
気管には油回転ポンプ３とともに開閉バルブ７及びモレ
キュラシープトラップ１５を介挿している。

そして、このモレキュラシーブトラップ１５の上流位置
及び開閉バルブ７の下流位置に夫々真空圧力計８．９を
配設し、この真空圧力計８．９には前記開閉バルブ７を
開閉制御するコントローラ１０を接続している。

なお、真空予備室ＩＢの排気管には複数個の開閉バルブ
１６を介挿している。

この構成によれば、エツチング室ＩＡの排気管２におけ
る真空圧力計８．９の差圧が所定以上の場合には、開閉
バルブ７を開放してエツチング室ＩＡの真空排気動作を
行わせる。このとき、油回転ポンプ３からの油蒸気は、
上記した差圧により逆流されることがないのはもとより
、モレキュラシーブトラップ１５による吸着作用によっ
てもエツチング室ＩＡに逆流されることは全くない。

エツチング室ＩＡが到達真空圧力に近い状態となって真
空圧力計８．９の差圧が所定以下になると、コントロー
ラ１０により開閉バルブ７が閉塞される。このため、油
回転ポンプ３の油蒸気がエツチング室ＩＡに逆流される
ことは確実に防止される。

第３図は本発明の第３実施例を示し、本発明を真空用部
品等の乾燥に使用される真空乾燥機に適用した例であり
、図中前記実施例と同一部分には同一符号を付して説明
を省略する。

この例においては、真空乾燥室ＩＣの排気管２にモレキ
ュラシープトラソプ１５とともに開閉ハルプロ、７を介
挿し、かつこれら開閉バルブ６゜７の上流位置及び下流
位置に夫々真空圧力計８゜９を配設し、これを開閉バル
ブ７のコントローラ１０に接続した構成としている。

この構成においても、真空圧力計８．９の差圧に応じて
開閉バルブ７を開放、閉塞させ、油回転ポンプ３から真
空乾燥室ＩＣへの油蒸気の逆流を防止できることは勿論
言うまでもない。

なお、本発明は前記各実施例に限らず、真空処理を行う
装置の全てに同様に適用できる。

〔発明の効果〕

以上のように本発明の真空排気装置は、油回転ポンプ上
流位置に開閉バルブを設けるとともに、処理室及び油回
転ポンプの各近傍に夫々真空圧計を設け、これら真空圧
針により油回転ポンプと処理室との間の差圧を検出して
開閉バルブを開閉制御する構成としているので、処理室
と油回転ポンプとの差圧が大きいときには開閉バルブを
開いて排気を行うとともに油蒸気の逆流を防止し、差圧
が零に近い状態とされたときには開閉バルブを閉塞して
油蒸気の逆流を防止することができ、処理室内を汚染の
ないクリーンな真空状態にして良好な真空処理を行わせ
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例の配管図、第２図は本発明
の第２実施例の配管図、第３図は本発明の第３実施例の
配管図、第４図は従来の配管図である。 １・・・プロセスチューブ、ＩＡ・・・エツチング室、
ＩＢ・・・真空予備室、ＩＣ・・・真空乾燥室、２・・
・排気管、３・・・油回転ポンプ、４・・・メカニカル
ブースタ、５・・・自動圧力制御装置、６．７・・・開
閉バルブ、８゜９・・・真空圧力計、１０・・・コント
ローラ、１１・・・ガス源、１２・・・ガス導入管、１
３・・・開閉バルブ、１４・・・ターボ分子ポンプ、１
５・・・モレキエラシーブトラップ、１６・・・開閉バ
ルブ、２０・・・処理室、２１・・・排気管、２２・・
・油回転ポンプ、２３．２４・・・開閉バルブ、２５・
・・モレキュラシーブトラップ。 代理人　弁理士　　　小　川　勝　男　″゛飄＼　　　
・ 第１図 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、真空状態で所定の処理を行う処理室を、これに接続
   した排気管に介挿した油回転ポンプにより真空排気する
   ようにした真空排気装置において、前記排気管の油回転
   ポンプ上流位置に開閉バルブを設けるとともに、前記処
   理室及び油回転ポンプの各近傍に夫々真空圧力計を設け
   、これら真空圧力計により油回転ポンプと処理室との間
   の差圧を検出して開閉バルブを開閉制御するように構成
   したことを特徴とする真空排気装置。 ２、差圧が所定値以下の場合に開閉バルブを閉塞してな
   る特許請求の範囲第１項記載の真空排気装置。 ３、排気管にモレキュラシーブトラップを介挿してなる
   特許請求の範囲第２項記載の真空排気装置。