JPH04177820A - 真空度調整機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は複数の真空容器より構成された半導体製造装置
の真空度調整機構に関し、特に異なる真空容器間の圧力
を調整する機構に間する。

〔従来の技術〕

従来、この種の半導体製造装置における真空度調整機構
は、独立した真空容器をそれぞれ独立したポンプにより
真空引きを行い、真空容器間のウェーハを通過させるた
めのゲートバルブを開く際には、再真空容器内の圧力を
それぞれの真空容器にとりつけられた真空計又は圧力セ
ンサーによって検知し、差圧のなくなった時点でゲート
バルブを開けるようになっている。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記した従来の半導体装置の真空度調整機構では、それ
ぞれの真空容器を別々の真空計又は圧力センサーで監視
しているので、誤差等によってゲートバルブを開けてし
まった際には、ある程度の差圧が真空容器間に発生し、
この差圧による反応性ガスの巻き込み、ごみの巻き上げ
等が発生するという欠点があった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明による半導体製造装置の真空度調整機構は、相互
に接続された真空容器間に、ウェーハを通過させるため
のゲートバルブとは別に設けたバイパス配管と、このバ
イパス配管の途中に設けられ両翼空容器間の差圧を検知
するための機構とを備えている。

〔実施例〕

次に本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の実施例１の構成図である。ポンプ４，
５が接続された真空容器１，２間に、バルブ７を介して
バイパス配管６を設け、真空容器１．２閏の圧力差を圧
力差検知器８で測定し、その値を電気信号で電磁弁９に
伝え、ある圧力差に到達したところでバルブ７を開とす
ることによって真空容器１．２の圧力を同一圧力とし、
次いでゲートバルブ３を開とすることにより、圧力差に
より生じるごみの巻き上げを防止する効果がある。

第２図はバイパス配管６に差圧センサー１０を設けた実
施例２の構成図である。これにより、従来各真空容器に
各々真空計又は差圧センサーが１個必要たったのに対し
、本実施例においては差圧センサー１０だけでゲートバ
ルブ３の開閉の基準となり、各真空計又は圧力センサー
の誤差によって生じる差圧に起因したごみの巻き上げを
防止する効果がある。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は、真空容器面に設けたバイ
パス配管の途中に両翼空容器間の差圧を検知する機構を
有するので、ゲートバルブを開ける際、差圧による反応
性ガスの巻き込み、ごみの巻き上げを防止する効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例１の構成図、第２図は実施例２
の構成図である。 １．２・・・真空容器、３・・・ゲートバルブ、４．５
・・・ポンプ、６・・・バイパス配管、７・・・バルブ
、８、・、圧力差検知器、９・・・電磁弁、１０・・・
差圧センサー　。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　それぞれ独立した排気系と吸気系及び圧力計を持ちウ
   ェーハを通過させるためのゲートバルブによつて相互に
   接続された真空容器を備え、この真空容器間の差圧がな
   くなった時点で前記ゲートバルブを開くように構成され
   た半導体製造装置における真空度調整機構において、相
   互に接続された真空容器間にゲートバルブとは別に設け
   られたバイパス配管と、このバイパス配管の途中に前記
   真空容器間の圧力差を検知する機構とを有することを特
   徴とする真空度調整機構。