CN218756025U - 一种板式真空设备用工艺腔体气路系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供的一种板式真空设备用工艺腔体气路系统，通过主气路管道实现抽真空操作，确保能够快速实现反应腔体内腔快速实现真空状态；通过设置精准调整气路管道，基于高精度调节气阀，实现对工艺气体的抽离操作，通过对高精度调节气阀抽出工艺气体的抽出速度的调整，实现准确控制工艺气体抽气量，降低工艺气体浪费的概率。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空设备技术领域，具体为一种板式真空设备用工艺腔体气路系统。
背景技术
大型板式PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）设备中，反应腔体1为真空腔体，具体如图1所示，反应腔体1上设置唯一的一个气体管道a1，气体管道a1上依次串联设置开闭气阀a2、大调解气阀a3，气体管道a1的另一端设置真空泵a4。对反应腔体1的内腔进行抽真空操作与工艺中对工艺气体的抽气操作，都是通过这个唯一的气路管道a1进行。但是，因为大调节气阀a3，的精度不够，存在无法对工艺气体的抽气量进行高精度调控，导致工艺气体浪费的问题。
实用新型内容
为了解决现有的的PECVD真空腔体的气路结构无法实现高精度调控的问题，本实用新型提供一种板式真空设备用工艺腔体气路系统，其可以基于交底的成本实现高精度的抽气量控制。
本实用新型的技术方案是这样的：一种板式真空设备用工艺腔体气路系统，其包括设置在反应腔体上的主气路管道，其特征在于，其还包括：精准调整气路管道；
所述反应腔体上设置抽气管道，所述抽气管道分别连通所述主气路管道和所述精准调整气路管道的一端；
所述主气路管道和所述精准调整气路的另一端合并成一个气路后接入真空泵；
在所述主气路管道上，设置主开闭气阀；
在所述精准调整气路上，在所述反应腔体和所述真空泵之间设置支路开闭气阀，在所述支路开闭气阀和所述真空泵之间设置高精度调节气阀。
其进一步特征在于：
所述主气路管道和所述精准调整气路管道上分别设置流量计；
所述主气路管道和所述精准调整气路管道通过三通接头接入所述抽气管道。
本实用新型提供的一种板式真空设备用工艺腔体气路系统，通过主气路管道实现抽真空操作，确保能够快速实现反应腔体内腔快速实现真空状态；通过设置精准调整气路管道，基于高精度调节气阀，实现对工艺气体的抽离操作，通过对高精度调节气阀抽出工艺气体的抽出速度的调整，实现准确控制工艺气体抽气量，降低工艺气体浪费的概率。
附图说明
图1为现有结构中单一管路的压力控制结构的结构示意图；
图2为本申请中板式真空设备用工艺腔压力控制结构的结构示意图。
具体实施方式
本实用新型包括一种板式真空设备用工艺腔体气路系统，其包括设置在反应腔体1上的主气路管道2和精准调整气路管道3。
反应腔体1上设置抽气管道5，抽气管道5分别连通主气路管道2和精准调整气路管道3的一端；具体实现时，主气路管道2和精准调整气路管道3通过三通接头接入抽气管道5；
主气路管道2和精准调整气路的另一端一端合并成一个气路后接入真空泵4；在主气路管道2上，设置主开闭气阀6；
在精准调整气路上，在反应腔体1和真空泵4之间设置支路开闭气阀7，在支路开闭气阀7和真空泵4之间设置高精度调节气阀8；
其中，高精度调节气阀8基于现有的能实现精准控制的气体阀门实现，如：蝶阀。
两个气路管道都接入到同一个真空泵4上，通过主开闭气阀6和支路开闭气阀7分别控制气路开合，降低了整体气路结构复杂度，也降低了整体的成本。
对反应腔体1进行抽真空操作时，主开闭气阀6打开、支路开闭气阀7关闭，启动真空泵4快速抽气，使反应腔体1内部真空度到达工艺条件值。
在实际工艺中，抽真空速度要求很高，因此，主开闭气阀6和主气路管道2必须确保高气流通量。具体的参数根据实际工艺要求进行确定。
当反应腔体1需要保持真空度时，主开闭气阀6和支路开闭气阀7同时关闭。
当反应腔体1内执行工艺中需要抽离工艺气体时，主开闭气阀6保持关闭，支路开闭气阀7打开，通过真空泵4抽离工艺气体，同时通过高精度调节气阀8控制工艺气体的抽出速度。
在实际工艺中，对于工艺气体的抽离，根据工艺要求需要灵活调节，具体实现时，通过对高精度调节气阀8抽气速度的控制，不但可以精准控制工艺气体的抽出速度和抽出量，同时使整体的工艺工艺优化空间变大。
主气路管道2和精准调整气路管道3上分别设置流量计（图中未标记），用以监测气体流量实现更进准的控制。
使用本实用新型的技术方案后，既可以快速实现反应腔体的抽真空速度，也能够实现对工艺气体抽气量的精准控制，确保降低工艺气体浪费的概率。
Claims (3)
1.一种板式真空设备用工艺腔体气路系统，其包括设置在反应腔体上的主气路管道，其特征在于，其还包括：精准调整气路管道；
所述反应腔体上设置抽气管道，所述抽气管道分别连通所述主气路管道和所述精准调整气路管道的一端；
所述主气路管道和所述精准调整气路的另一端一端合并成一个气路后接入真空泵；
在所述主气路管道上，设置主开闭气阀；
在所述精准调整气路上，在所述反应腔体和所述真空泵之间设置支路开闭气阀，在所述支路开闭气阀和所述真空泵之间设置高精度调节气阀。
2.根据权利要求1所述一种板式真空设备用工艺腔体气路系统，其特征在于：所述主气路管道和所述精准调整气路管道上分别设置流量计。
3.根据权利要求1所述一种板式真空设备用工艺腔体气路系统，其特征在于：所述主气路管道和所述精准调整气路管道通过三通接头接入所述抽气管道。
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| CN202222705612.3U CN218756025U (zh) | 2022-10-14 | 2022-10-14 | 一种板式真空设备用工艺腔体气路系统 |
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| CN (1) | CN218756025U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117026220A (zh) * | 2023-10-09 | 2023-11-10 | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 | 压力调节装置及包含其的沉积设备、系统及压力控制方法 |
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2022
- 2022-10-14 CN CN202222705612.3U patent/CN218756025U/zh active Active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117026220A (zh) * | 2023-10-09 | 2023-11-10 | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 | 压力调节装置及包含其的沉积设备、系统及压力控制方法 |
| CN117026220B (zh) * | 2023-10-09 | 2023-12-15 | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 | 压力调节装置及包含其的沉积设备、系统及压力控制方法 |
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