JPH06256948A - 真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】被処理物を収容する真空処理室２は、その一方
に真空排気部の一部を構成する真空排気用配管３を取付
け、この先端に真空排気用のポンプ５を設けると同時
に、この排気用ポンプ５と真空処理室２を繋ぐ真空排気
用配管３の間には遮断弁４を設ける。また、真空処理室
２に反対側には、大気導入部の一部を構成する大気導入
用配管９を繋いで、この配管９の途中に遮断弁１０を設
けている。そして、遮断弁１０の真空処理室から遠い側
の大気導入用配管９に大気導入用バイパス配管１３を繋
いで、これに流量制御手段としての遮断弁１２と流量制
御装置１１と真空予備室７と遮断弁１０を真空処理室２
の遠い位置から順に配置する。また、真空予備室７は遮
断弁６を介して真空排気用ポンプ５と接続している。 【効果】真空処理装置の真空処理室を真空排気する工程
や大気圧にする工程において使用する真空予備室を設け
ることにより、真空予備室が真空処理室内の気体に乱れ
を生じさせないようにしているので、真空処理室内の異
物の巻き上げがなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、真空処理室を有する装
置における真空処理室の真空排気方法および大気導入方
法に適用して特に有効な技術に関するもので、特に、半
導体製造装置に利用して有効な技術に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来の真空処理室の真空排気や大気導入
の方法については特公昭５９−１３５８７号公報に記載
がある。その概略を記せば図２に示すように真空処理室
２の一方に排気用ポンプ５を繋ぎ、これらの間に真空排
気用配管３と真空排気用バイパス配管１４を設け、真空
排気用配管３には遮断弁４を、真空排気用バイパス配管
１４には流量制御装置１５と遮断弁１６を用意するもの
である。

【０００３】そして、真空処理室２の他方には大気導入
用配管９と大気導入用バイパス配管１３を設け、大気導
入用配管９には遮断弁１０を、大気導入用バイパス配管
１３には流量制御装置１１と遮断弁１２を設けるもので
ある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来の真空処理室の真
空排気工程や大気導入工程は、その真空排気用配管又は
大気導入用配管の大気流量を段階的にコントロ−ルする
ことによつて、真空排気工程や大気導入工程の初期に発
生する気流の乱れを防止し、真空処理室内の異物巻き上
げを抑えようとするものであった。

【０００５】ところが、このような構造のものにおいて
は、大気流量をコントロ−ルするのみであり、真空処理
室排気工程における任意の真空領域まで排気された配管
の遮断弁が開放された時に生じる真空処理室と排気用配
管内の圧力差や、真空処理室への大気導入工程で生じる
大気ガス圧と真空処理室内圧との圧力差は、全く低減さ
れるものではない。従って、真空処理室内の異物巻き上
りを十分抑える機能がなかった。

【０００６】本発明はこのような従来の真空処理装置の
問題点を解消するものであって、その目的とするところ
は真空処理室内の異物の巻き上げを抑えることができる
真空処理装置を提供するものである。

【０００７】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。

【０００９】すなわち、真空処理室と大気導入部を結ぶ
配管の間にバイパス用の配管を設け、この配管の途中に
流量制御部と、真空排気部を有する真空予備室を設ける
ものである。

【００１０】

【作用】上記した手段は、真空処理室の真空排気工程お
よび大気導入工程において以下のような働きをする。

【００１１】まず、真空排気工程では、真空予備室を真
空処理室と同圧の大気圧状態になるよう流量制御部で大
気ガスをコントロ−ルする。そして、真空予備室に連な
る真空排気部を動作させ、真空予備室を介して、真空処
理室を排気するとともに、流量制御部で大気ガスの流量
を除々にしぼり、真空処理室を排気する。

【００１２】また、大気導入工程では流量制御部で真空
予備室内の圧力を上昇させながら真空予備室に連なる真
空排気部を動作させる。その時に流量制御部で流す大気
ガス量は、真空排気部の排気能力を上回る程度に行な
う。そして、真空予備室内の大気ガスのあふれた部分が
真空処理室へ流入するように流量制御部で大気ガス量を
コントロ−ルして大気導入を行なう。

【００１３】以上のように、真空予備室は真空排気工程
または大気導入工程において発生する圧力差を調整のた
めのスペ−スとなり、真空処理室内を排気したり大気圧
に戻したりする際に発生する異物の巻き上げ防止を達成
するものである。

【００１４】

【実施例】 図１は本発明による真空処理装置の一実施
例の構成を示すものである。

【００１５】半導体ウエハなどの被処理物を収容する真
空処理室２は、その一方に真空排気部の一部を構成する
真空排気用配管３を取付け、この先端に真空排気用のポ
ンプ５を設けると同時に、この排気用ポンプ５と真空処
理室２を繋ぐ真空排気用配管３の間には遮断弁４を設け
る。

【００１６】また、真空処理室２に反対側には、大気導
入部の一部を構成する大気導入用配管９を繋いで、この
配管９の途中に遮断弁１０を設けている。

【００１７】そして、遮断弁１０の真空処理室から遠い
側の大気導入用配管９に大気導入用バイパス配管１３を
繋いで、これに流量制御手段としての遮断弁１２と流量
制御装置１１と真空予備室７と遮断弁１０を真空処理室
２の遠い位置から順に配置する。

【００１８】また、真空予備室７は遮断弁６を介して真
空排気用ポンプ５と接続している。つぎに、このように
構成した真空処理装置１における真空排気工程および大
気導入工程について説明する。

【００１９】まず、真空処理室２を大気圧状態から所定
の真空状態にするためには、真空排気動作が必要とな
る。

【００２０】この真空排気動作を行なうには、大気導入
用配管９の途中にある遮断弁１０を閉じる。この時他の
遮断弁４、遮断弁６、遮断弁８、遮断弁１２は閉じてあ
り、また、真空排気用ポンプ５も停止状態にある。

【００２１】つぎに、バイパス用配管１３の途中にある
遮断弁１２を開けるとともに、流量制御装置１１をコン
トロ−ルして真空予備室７を大気圧状態にする。

【００２２】そして、真空予備室７から真空処理室２へ
延びる配管の途中にある遮断弁８を開き、真空予備室７
と真空処理室２の室内圧力を同等にする。

【００２３】ついで、真空排気用ポンプ５を動作させ、
真空予備室７と真空排気用ポンプ５を結ぶ配管の途中に
ある遮断弁６と真空予備室７から真空処理室２へ延びる
配管の途中にある遮断弁８を開き、流量制御装置１１の
流量を徐々に絞るとともに、遮断弁１２を閉じる。

【００２４】最後に、遮断弁６、遮断弁８を閉じた後、
真空処理室２と真空排気用ポンプ５を繋ぐ排気用配管３
の途中にある遮断弁４を開ける。

【００２５】以上の一連に操作により、真空処理室２の
真空排気工程が完了する。

【００２６】つぎに、真空処理室２を真空状態から大気
圧状態にする大気導入工程について説明する。

【００２７】大気導入動作を行なうには、真空処理室２
と真空排気用ポンプ５を繋ぐ排気用配管３の途中にある
遮断弁４を閉じ、真空排気用ポンプ５を停止させる。こ
の時他の遮断弁６、遮断弁８、遮断弁１０、遮断弁１２
はすべて閉じている。

【００２８】バイパス用配管１３の途中にある遮断弁１
２を開き、流量制御装置１１をコントロ−ルして真空予
備室７の室内圧を徐々に上昇させる。

【００２９】つぎに、真空予備室７と真空排気用ポンプ
５を繋ぐ配管の途中にある遮断弁６を開き、真空排気用
ポンプ５を動作させる。

【００３０】そして、真空予備室７と真空処理室２を結
ぶ配管の途中にある遮断弁８を開くとともに、流量制御
装置１１をコントロ−ルして大気ガスの流量を徐々に増
加させる。この大気ガスの真空予備室７への流入量を増
加させることで、真空排気用ポンプ５の排気能力を低下
させ、真空排気用ポンプ５の排気能力を越えた分の大気
ガスが遮断弁８を通過して、真空処理室２へ流入するよ
うに流量制御装置を調整する。

【００３１】ついで、遮断弁１２、遮断弁８、遮断弁６
を閉じ、真空排気用ポンプ５を停止させた後、大気導入
用配管９の途中にある遮断弁１０を開く。

【００３２】これら一連に操作により、真空処理室２に
大気導入工程が終了する。

【００３３】これまでの真空排気工程、大気導入工程の
説明から明らかなように本発明による真空処理装置によ
れば、従来問題となっていた真空処理室排気工程におけ
る任意の真空領域まで排気された配管の遮断弁が開放さ
れた時に生じる真空処理室と排気用配管内の圧力差や、
真空処理室への大気導入工程で生じる大気ガス圧と真空
処理室内圧との圧力差は、真空予備室を設けることによ
って、真空処理室内の圧力変化を連続的にしかも自由に
制御することが可能となる。従って、真空処理室を真空
排気または大気導入する際に発生していた異物の巻き上
げを防止することができる。

【００３４】以上本発明者によってなされた発明を実施
例にもとづき具体的に説明したが、本発明は上記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々の変更可能であることは言うまでもない。

【００３５】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。

【００３６】すなわち、真空処理装置の真空処理室を真
空排気する工程や大気圧にする工程において使用する真
空予備室を設けることにより、真空予備室が真空処理室
内の気体に乱れを生じさせないようにしているので、真
空処理室内の異物の巻き上げがなくなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の真空処理装置の排気系統図である。

【図２】従来の真空処理装置の排気系統図である。

【符号の説明】

１…真空処理装置、２…真空処理室、３…真空排気用配
管、４…遮断弁、５…排気用ポンプ、６…遮断弁、７…
真空予備室、８…遮断弁、９…大気導入用配管、１０…
遮断弁、１１…流量制御装置、１２…遮断弁、１３…大
気導入用バイパス配管、 １４…真空排気用バイパス配
管、１５…流量制御装置、１６…遮断弁

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被処理物を収容する真空処理室と、前記真
   空処理室の一方に該真空処理室を真空状態にするための
   真空排気部と、前記真空処理室と前記真空排気部を係合
   せしめる配管と、前記真空処理室の他方に該真空処理室
   を大気圧状態にするための大気導入部と、前記真空処理
   室と前記大気導入部を係合せしめる配管とを具備した真
   空処理装置において、前記真空処理室と前記大気導入部
   の間に大気流量制御部と真空排気部を有する真空予備室
   を設けたことを特徴とする真空処理装置。